CN101298200A - 一种镁合金复合材料及其制备方法 - Google Patents

Abstract

本发明提供了一种镁合金复合材料，该镁合金复合材料包括基材和依次附着在所述基材表面上的微弧氧化膜、导电层和电镀层。本发明还提供了一种镁合金复合材料的制备方法，该方法包括在镁合金表面上形成微弧氧化膜，并在该微弧氧化膜上形成导电层，然后在该导电层上电镀形成电镀层。本发明的镁合金复合材料具有优良的耐腐蚀性能和耐磨性能。

Description

一种镁合金复合材料及其制备方法

技术领域

本发明涉及一种镁合金复合材料，还涉及该镁合金复合材料的制备方法。

背景技术

镁合金比重小、比强度和比刚度高、导热导电性好，同时具有良好的阻尼减震和电磁屏蔽功能，加之储存量丰富、易于回收利用，因而作为一种轻质结构的材料镁合金的应用越来越广泛，例如作为电子产品如移动通讯、手提电脑等的壳体结构件，可以替代目前被广泛使用的塑料，满足电子产品的轻、薄、小型化及高度集成化的要求，特别是用于汽车的车体上，可以实现汽车轻质化。但是镁合金也具有耐热性差、耐腐蚀性差、耐磨性差及装饰性差等缺点，因此需要对镁合金进行各种表面处理以增强各种性能，例如采用转化膜、阳极氧化、化学镀、微弧氧化和电镀。

在镁合金上电镀金属镀层是镁合金腐蚀防护的主要方法之一，并且可以获得美观的装饰效果。但现有的镁合金电镀工艺都为氰化镀，该方法工艺操作复杂，镀液有毒、有害性很大，前处理过程很复杂，重现性差，并且镀层的光亮性及镀液的稳定性都有待提高。而且对镁合金进行电镀也很困难，因为镁合金化学性质活泼，氧化镁会在合金表面迅速形成，妨碍金属的沉积；镁合金在普通的镀液中与其它金属离子置换反应强烈，造成镀层结合力松散；铸件质量差，造成镀层空隙率增大，耐蚀性降低；由于镀层的标准电位远大于镁合金基体，所以镀层必须保证无孔，否则电化学腐蚀更快。

中国专利CN1699634A中公开了一种镁及镁合金的电镀方法，该方法包括去氢、化学除油、出光、中和、活化、预镀、功能镀层、装饰镀层和后处理工序，每两道工序之间均需对铸件进行水洗。预镀的电流密度为5-15A/dm²，槽电压4-12V，预镀液的pH值为1.0-1.2，室温的波美度为30-35，预镀液配方中包含：氟硼酸铜、氟硼酸、氨基丙酸、聚乙二醇和茜素染料、甲叉丁二酸与MBT的混合体、3-S异硫脲嗡盐丙烷磺酸盐、R-S-S(CH₂)SO₃Na、去离子水。本文中的术语“波美度”是表示溶液浓度的一种方法，把波美比重计浸入所测溶液中，得到的度数叫波美度。当测得波美度后，从相应化学手册的对照表中可以方便地查出溶液的质量百分比浓度。

该发明的预镀液无氰、无毒、无害，解决了现有技术中的镀液含氰的毒害问题。但采用该专利方法所得到的产品耐腐蚀性能和耐磨性能较差。

发明内容

本发明的目的在于克服上述现有技术中镁合金的电镀产品耐腐蚀性和耐磨性能较差的缺陷，提供一种耐腐蚀性能和耐磨性能较好的镁合金复合材料，还提供一种该镁合金复合材料的制备方法。

本发明提供了一种镁合金复合材料，其中，该镁合金复合材料包括镁合金基材和依次附着在所述镁合金基材表面上的微弧氧化膜、导电层和电镀层。

本发明还提供了一种镁合金复合材料的制备方法，其中，该方法包括在镁合金基材表面上形成微弧氧化膜，并在该微弧氧化膜上形成导电层，然后在该导电层上电镀形成电镀层。

本发明提供的镁合金复合材料，具有优良的耐腐蚀性能和耐磨性能，同时附着力很好。例如耐磨性能可达到13000以上，耐中性盐雾腐蚀的时间为168小时以上，并且附着力达到5B。并且，本发明的镁合金复合材料具有美观的装饰效果，拓展了镁合金的使用范围。

采用本发明提供的镁合金复合材料的制备方法，使用了无氰的电镀工艺，因此具有环保的优势，并且本发明的方法比传统的电镀工艺简单，简化了操作。

具体实施方式

本发明提供的镁合金复合材料，包括镁合金基材和依次附着在所述镁合金基材表面上的微弧氧化膜、导电层和电镀层。

根据本发明提供的镁合金复合材料，为了使镀层与镁合金的附着性更好，并使镁合金得到更有效的防腐及耐磨性能，所述微弧氧化膜的厚度优选为1-300微米、更优选为3-80微米，为了保证电镀层的结合力以及导电层的导电性能，所述导电层的厚度优选为0.04-20微米、更优选为0.07-15微米，所述电镀层的厚度优选为1-100微米、更优选为5-30微米。

根据本发明提供的镁合金复合材料，在优选情况下，所述导电层为石墨导电层或镍导电层；所述电镀层为铜、镍、钯、锡、钴、铬或它们中的至少二种的合金的层。

本发明提供的镁合金复合材料的制备方法包括，在镁合金基材表面上形成微弧氧化膜，并在该微弧氧化膜上形成导电层，然后在该导电层上电镀形成电镀层。

根据本发明提供的方法，所述微弧氧化膜的形成方法为本领域技术人员公知的，例如，以镁合金基材作为阳极，电解槽作为阴极，将镁合金基材与电解液接触对镁合金基材进行微弧氧化，微弧氧化的条件使镁合金基材表面形成厚度为1-300微米的微弧氧化膜，将镁合金基材与电解液接触可以为将镁合金基材浸入电解液中。所述微弧氧化的条件为本领域技术人员所公知的，例如电流密度为1-8A/dm²，终电压为350-550V，电解液的温度为15-30℃，微弧氧化的时间为2-40分钟。

根据本发明提供的方法，所述微弧氧化膜的形成方法也可以采用中国专利CN1796613A中公开的方法，该方法包括，将镁合金基材置于盛有电解液的电解槽中，以镁合金基材为阳极，电解槽作为阴极，将电解液的pH值调节在6-10，所用电源为脉冲电源，电流密度为1-8A/dm²，频率范围为100-1000Hz，正负脉冲占空比为5-40％，电解液的温度为15-30℃，进行微弧氧化2-40分钟，终电压为350-550V。所述电解液为含有植酸或其碱金属盐、氢氟酸或其铵盐、磷酸或其铵盐、硼酸或其铵盐、以及氟硼酸或其铵盐中的至少一种的水溶液，以所述电解质溶液的体积为基准，植酸或其碱金属盐的含量为5-25克/升、氢氟酸或其铵盐的含量为5-40克/升、磷酸或其铵盐的含量为15-70克/升、硼酸或其铵盐的含量为5-60克/升、氟硼酸或其铵盐的含量为5-50克/升。

本发明所用的“植酸”，也称为肌醇六磷酸酯，相对分子量为660.06，广泛存在于油类和谷类种子中。植酸分子结构的6个磷酸基中有4个磷酸基处于同一平面上，因此植酸在金属表面同金属络合时，易在金属表面形成一层致密的单分子保护膜，能有效地阻止氧气等进入金属表面，从而减缓了金属的腐蚀。

根据本发明提供的方法，所述导电层为石墨导电层或镍导电层。

根据本发明提供的方法，所述石墨导电层的形成方法为本领域技术人员公知的各种方法，例如将形成有微弧氧化膜的镁合金与石墨化液接触对该镁合金进行石墨导电化，石墨导电化的条件使形成有微弧氧化膜的镁合金上形成40-200纳米厚的石墨导电层。特别是采用例如中国专利CN1063395A中公开的黑孔化方法对形成有微弧氧化膜的镁合金进行石墨导电化，该方法包括，将形成有微弧氧化膜的镁合金基材浸入温度为15-40℃的石墨化液中浸渍1-10分钟，形成40-200纳米厚的石墨导电层。所述石墨化液有两种配方，一种石墨化液的配方为含有0.1-5重量％颗粒直径小于3微米的石墨及碳黑、0.1-1.5重量％的碱金属氢氧化物、0.01-2重量％的离子型表面活性剂、0.1-0.5重量％的硅胶、0.01-0.2重量％分子量为1000-3000的水溶性聚合物的均匀的悬浮液。另一种石墨化液的配方为含有20-50重量％的胶体石墨、0.01-0.1重量％的离子型表面活性剂、0.01-0.05重量％的氢氧化物和0.1-0.3重量％的硅胶的均匀的悬浮液。

根据本发明提供的方法，所述镍导电层是采用碱性化学镀的方法形成的。碱性化学镀的方法为本领域技术人员公知的方法，例如该方法包括，将形成有微弧氧化膜的镁合金与化学镀液接触对该镁合金进行化学镀，化学镀的条件使形成有微弧氧化膜的镁合金上形成1-20微米厚的镍导电层。将形成有微弧氧化膜的镁合金与化学镀液接触的方法可以为，将形成有微弧氧化膜的镁合金浸入化学镀液中。

根据本发明提供的方法，所述化学镀的条件为本领域技术人员公知的，例如化学镀液的温度为20-60℃、化学镀的时间为3-40分钟。

根据本发明提供的方法，所述化学镀镍的化学镀液的成分及含量为本领域技术人员所公知的，例如该化学镀液为含有硫酸镍、络合剂、还原剂和pH调节剂的水溶液，所述络合剂为乳酸、丙二酸、乙二胺四乙酸二钠、酒石酸钾钠、柠檬酸钠、二乙醇胺和三乙醇胺中的一种或几种，所述还原剂为次磷酸钠，硼化氢、甲醛或蔗糖中的一种或几种，所述pH调节剂为氨水、氢氧化钠、氢氧化钾、碳酸钠和碳酸氢钠中的一种或几种。例如化学镀镍的化学镀液为含有20-40克/升硫酸镍、15-35克/升次磷酸钠、45-65克/升焦磷酸钠、90-110克/升三乙醇胺，且pH值为10-10.5的水溶液。

根据本发明提供的方法，所述电镀层的形成方法为本领域技术人员所公知的各种方法，例如该方法包括，将形成导电层的镁合金与电源负极连接，将要电镀的金属与电源正极连接，将形成导电层的镁合金与电解质溶液接触对该镁合金进行电镀，电镀的条件使形成导电层的镁合金上形成1-100微米厚的电镀层。将形成导电层的镁合金与电解质溶液接触的方法可以将该形成导电层的镁合金浸入电解质溶液中。

根据本发明提供的方法，所述电镀的条件为本领域技术人员所公知的，例如电流密度为0.5-40A/dm²，电解质溶液的温度为20-60℃，电镀时间为1-30分钟。所述电解质溶液为含有铜、镍、钯、锡、钴和铬中的一种或几种的硫酸盐、氯化物、磷酸盐或硝酸盐的水溶液；与电源正极连接的将要电镀的金属为本领域技术人员公知的，例如选自铜、镍、钯、锡、钴、铬或它们中的至少2种的合金。

根据本发明提供的方法，在优选情况下，在镁合金基材表面形成微弧氧化膜之前，对镁合金基材进行脱脂、酸洗和活化整理的预处理，脱脂、酸洗和活化整理的方法为本领域技术人员公知。

下面采用实施例对本发明进行进一步详细说明。

实施例1

本实施例说明本发明镁合金复合材料的制备方法。

采用100×100×5毫米的镁合金基材进行电镀。

1、对上述镁合金基材进行脱脂、酸洗和活化整理的预处理。用含有氢氧化钠10克/升、磷酸钠15克/升、碳酸钠15克/升的溶液将上述镁合金基材在加有超声波(频率为28KHz)震荡的水洗槽中进行洗涤脱脂，温度控制在70℃，洗涤5分钟，然后水洗；接着，将上述脱脂过的基材在浓氢氟酸和浓磷酸的混合酸中酸洗，浓氢氟酸和浓磷酸的体积比为1∶1，其中氢氟酸中HF的质量百分比浓度不低于40％，磷酸中H₃PO₄的质量百分比浓度不低于85％，混合酸的温度为30℃，酸洗时间为1分钟，然后水洗；接着，在常温下，采用质量百分比浓度为5％的氢氟酸溶液，去除基材表面极薄的氧化膜，去除酸洗后残留的剩余物，时间为1分钟，然后水洗；

2、形成微弧氧化膜。将经上述预处理过的镁合金基材浸入微弧氧化电解液中，控制溶液温度为16℃，使用正脉冲电流，频率为600Hz，电流密度4A/dm²正负脉冲占空比为15％，微弧氧化的时间为2分钟，终电压为350V，进行微弧氧化，在镁合金基材表面上形成3微米左右厚度的微弧氧化膜。电解液为含有植酸10克/升、氢氟酸20克/升、磷酸48克/升、氟硼酸10克/升的水溶液，并用氨水调节电解液的pH值为8。

3、形成石墨导电层。将经过上述微弧氧化后的镁合金基材浸入温度为22℃的石墨化液中8分钟，然后放进装有循环鼓风装置的烘箱(深圳明升烤箱工业设备厂)中在温度为105℃下烘干25分钟，取出，冷却至室温，在上述形成有微弧氧化膜的镁合金上形成有100纳米厚的石墨导电层。石墨化液为含有胶体石墨(固体含量12％)40重量％、离子型表面活性剂十二烷基磺酸钠0.01重量％、氢氧化钠0.02重量％和硅胶(pH值8-10)0.1重量％的均匀的悬浮液。

4、形成电镀层。将上述形成了石墨导电层的镁合金顺次进行焦铜、酸铜、钯和三价铬电镀，形成总厚度为15微米的电镀层。工艺参数分别为：

(1)焦铜电镀：将基材在含有焦磷酸铜60克/升、焦磷酸钾300克/升、柠檬酸铵20克/升、pH值为8.8、温度为40℃的电解质溶液中，在电流密度为1.1A/dm²下电镀5分钟，然后水洗。

(2)酸铜电镀：将上述焦铜电镀后的基材在含有硫酸铜200克/升、硫酸80克/升、盐酸80毫克/升、pH值为0.1、温度为30℃的电解质溶液中，在电流密度为3.8A/dm²下电镀20分钟，然后水洗。

(3)钯电镀：将上述酸铜电镀后的基材在含有二氯二氨钯30克/升、氯化铵25克/升、氨水(25％)50克/升、游离氨水6克/升、pH值为9.0、温度为20℃左右的电解液中，在电流密度为0.5A/dm²下电镀90秒，然后水洗。

(4)三价铬电镀：将上述钯电镀过的基材在三价铬镀液(上马科技有限公司的TVC-三价白铬镀液)中，在镀液温度为32℃、电流密度为40A/dm²的条件下电镀2分钟，然后水洗、烘干。

经过上述过程获得了本发明的镁合金复合材料。

实施例2

按照实施例1中描述的方法制备镁合金复合材料，不同的是，微弧氧化的时间为30分钟，形成80微米厚的微弧氧化膜；用碱性化学镀镍替代形成石墨导电层的过程，形成5微米厚的镍导电层；总的电镀时间为20分钟，形成总厚度为20微米的电镀层。碱性化学镀镍的过程为，将形成微弧氧化膜的基材浸入含有硫酸镍30克/升、次磷酸钠30克/升、焦磷酸钠60克/升、三乙醇胺100克/升、且pH值为10、温度为40℃的化学镀液中，化学镀镍6分钟。

经过上述过程获得了本发明的镁合金复合材料。

实施例3

按照实施例1描述的方法制备镁合金复合材料，不同的是，微弧氧化的时间为20分钟，形成30微米厚的微弧氧化膜；石墨化液的配方为1重量％颗粒直径小于3微米的石墨及碳黑(重量比为2∶1)、1.2重量％的碱金属氢氧化钠、0.01重量％的离子型表面活性剂十二烷基磺酸钠、0.3重量％的硅胶、0.1重量％分子量为1000-3000的水溶性聚合物的均匀的悬浮液，且在此石墨化液中浸泡2分钟，所得到的石墨化层的厚度为70纳米；并且电镀过程为顺次进行的焦铜电镀和光亮镍电镀，焦铜电镀过程与实施例1中描述的焦铜过程相同，光亮镍电镀的过程为，将焦铜电镀后的镁合金基材浸入含有硫酸镍195克/升、硼酸40克/升、氯化钠12克/升、硫酸镁26克/升、氯化镉0.25克/升、苯酚0.12克/升、且温度为30℃、pH值为4.5的电镀液中，在电流密度为0.6A/dm²的条件下电镀为8分钟，最终形成总厚度为30微米的电镀层。

经过上述过程获得了本发明的镁合金复合材料。

实施例4

按照实施例1中描述的方法制备镁合金复合材料，不同的是，微弧氧化的时间为25分钟，形成60微米厚的微弧氧化膜；用碱性化学镀镍替代形成石墨导电层的过程，化学镀的时间为20分钟，形成15微米厚的镍导电层；并且电镀过程为顺次进行的焦铜电镀和光亮镍电镀，形成总厚度为5微米厚的电镀层。碱性化学铍镍的方法与实施例2中所描述的方法相同，焦铜电镀过程与实施例1中描述的焦铜过程相同，且光亮镍电镀过程与实施例3中描述的光亮镍电镀过程相同。

经过上述过程获得了本发明的镁合金复合材料。

对比例1

本对比例描述现有技术中镁合金的电镀方法。

1、对与实施例1中所用的相同的镁合金基材进行去氢、化学除油、出光、中和、活化和预镀。

去氢。将镁合金基材放入电阻炉中，控制温度为180℃，保温1.5小时，进行去氢处理，防止氢脆。

化学除油。将上述去氢后的基材浸泡入除油溶液中进行化学除油，保持温度为57℃浸泡9分钟；该化学除油溶液为含有19克/升的焦磷酸钠、14克/升的磷酸钠、7克/升的三聚磷酸钠和2克/升的乳化剂聚醚2070的水溶液；然后浸入60℃的热去离子水中，浸泡4分钟。接着在室温下，以流动的去离子水清洗3分钟。

出光。将上述化学除油后并清洗过的基材浸入出光液中，在室温下浸泡2分钟；该出光液为含有85毫升/升的磷酸、36毫升/升的醋酸、11毫升/升的铬酐和3毫升/升的缓蚀剂的水溶液。用水冲洗。

中和。将上述出光后的基材置于碱液(pH为10)中在室温下浸泡2分钟，中和表面残余的酸，用水冲洗。

活化。将上述活化后的基材浸入温度为40℃的活化液中浸泡12分钟；该活化液为含有30克/升的氟硼酸盐、20毫升/升的富马酸和3克/升的氟化物。用水冲洗。

预镀。将上述活化后的基材浸入预镀液中，调节预镀液的pH值为1.0、波美度(室温)为32，控制电镀槽的电压为8V、电流密度为10A/dm²，预镀8分钟。该预镀液为含有100克/升的氟硼酸铜、20克/升的氟硼酸、4.5克/升的氨基丙酸、3克/升的聚乙二醇、0.2克/升的茜素染料、16克/升的甲叉丁二酸与MBT的混合体、0.02克/升的3-S异硫脲嗡盐丙烷磺酸盐和0.014克/升的R-S-S(CH₂)SO₃Na的水溶液。然后用水冲洗。

2、电镀。按照实施例1中描述的电镀方法进行电镀，经水洗、烘干后得到镁合金的电镀产品。

对比例2

本对比例描述现有技术中镁合金的电镀方法。

按照对比例1中描述的方法制备镁合金复合材料，不同的是电镀采用实施例3中描述的电镀过程进行，经水洗、烘干后得到镁合金的电镀产品。

性能测试：

1、附着力

在产品表面沿垂直交叉的两方向各划出11道间隔为1毫米的划痕，如果产品面积不能达到要求，划线数量可以适度减少。使用3M#600胶带紧密粘接在划痕后的产品表面，等待90至120秒，然后以接近180度的角度快速拉起胶带。5B表示划痕线条的边缘非常光滑，方网格无任何脱落。

2、中性盐雾试验

在35℃的温度下喷洒氯化钠盐水(NaCl含量为5重量％，pH为6.5-7.2)2小时，然后在温度为40℃、相对湿度为80％的环境下放置，每24小时观察一次，观察产品的表面出现腐蚀、氧化和变形的时间。

3、耐磨性能

使用美国Norman仪器设备公司生产的7-IBB-647型纸带的耐磨测试仪，在175克/厘米²的压力作用下摩擦产品表面，试验后在64倍放大镜下观察，记录摩擦至产品表面露出基材时橡胶轮转动的圈数。

对实施例1-4和对比例1-2所得到的产品按照上述方法分别进行附着力、中性盐雾及耐磨性能测试，测试结果列于表1中。

表1

由表1可以看出，实施例1-4的附着力与对比例1-2所得到产品的附着力相同，但将实施例1和实施例2与对比例1所得到的产品相比，实施例1和实施例2的产品镀层的耐盐雾腐蚀性能(168小时)和耐磨性能(13000圈)均比对比例1的产品镀层的耐盐雾腐蚀性能(96小时)和耐磨性能(9000圈)高很多，且将实施例3、实施例4与对比例2所得到的产品相比，实施例3和实施例4的产品镀层的耐盐雾腐蚀性能(216小时)和耐磨性能(14000圈)均比对比例1的产品镀层的耐盐雾腐蚀性能(168小时)和耐磨性能(10000圈)高很多。

从以上的实施例与对比例的对比可以看出，采用本发明提供的镁合金复合材料的制备方法得到的镁合金电镀产品具有优良的耐腐蚀性能和耐磨性能，同时附着力很好，并且具有美观的装饰效果，拓展了镁合金的应用范围。

Claims (14)

1、一种镁合金复合材料，其特征在于，该镁合金复合材料包括镁合金和依次附着在所述镁合金表面上的微弧氧化膜、导电层和电镀层。

2、根据权利要求1所述的镁合金复合材料，其中，所述微弧氧化膜的厚度为1-300微米，所述导电层的厚度为0.04-20微米，所述电镀层的厚度为1-100微米。

3、根据权利要求2所述的镁合金复合材料，其中，所述微弧氧化膜的厚度为3-80微米，所述导电层的厚度为0.07-15微米，所述电镀层的厚度为5-30微米。

4、根据权利要求1所述的镁合金复合材料，其中，所述导电层为石墨导电层或镍导电层；所述电镀层为铜、镍、钯、锡、钴、铬或它们中的至少二种的合金的层。

5、一种权利要求1所述的镁合金复合材料的制备方法，其特征在于，该方法包括在镁合金基材表面上形成微弧氧化膜，并在该微弧氧化膜上形成导电层，然后在该导电层上电镀形成电镀层。

6、根据权利要求5所述的方法，其中，所述微弧氧化膜的形成方法包括，以镁合金基材作为阳极，电解槽作为阴极，将镁合金基材与电解液接触对镁合金基材进行微弧氧化，微弧氧化的条件使镁合金基材表面形成厚度为1-300微米的微弧氧化膜；

所述电解液为含有植酸或其碱金属盐、氢氟酸或其铵盐、磷酸或其铵盐、硼酸或其铵盐、以及氟硼酸或其铵盐中的至少一种的水溶液，以所述电解液的体积为基准，植酸或其碱金属盐的含量为5-25克/升、氢氟酸或其铵盐的含量为5-40克/升、磷酸或其铵盐的含量为15-70克/升、硼酸或其铵盐的含量为5-60克/升、氟硼酸或其铵盐的含量为5-50克/升。

7、根据权利要求6所述的方法，其中，所述微弧氧化的条件包括电流密度为1-8A/dm²，终电压为350-550V，电解液的温度为15-30℃，微弧氧化的时间为2-40分钟；

8、根据权利要求5所述的方法，其中，所述导电层为石墨导电层，该石墨导电层的形成方法包括，将形成有微弧氧化膜的镁合金与石墨化液接触对该镁合金进行石墨导电化，石墨导电化的条件使形成有微弧氧化膜的镁合金上形成40-200纳米厚的石墨导电层；

所述石墨化液为含有0.1-5重量％颗粒直径小于3微米的石墨及碳黑、0.1-1.5重量％的碱金属氢氧化物、0.01-2重量％的离子型表面活性剂、0.1-0.5重量％的硅胶、0.01-0.2重量％分子量为1000-3000的水溶性聚合物的均匀的悬浮液；或者所述石墨化液为含有20-50重量％的胶体石墨、0.01-0.1重量％的离子型表面活性剂、0.01-0.05重量％的氢氧化物和0.1-0.3重量％的硅胶的均匀的悬浮液。

9、根据权利要求8所述的方法，其中，所述石墨导电化的条件包括接触温度为15-40℃，接触的时间为1-10分钟。

10、根据权利要求5所述的方法，其中，所述导电层为镍导电层，该镍导电层采用碱性化学镀的方法形成。

11、根据权利要求10所述的方法，其中，所述碱性化学镀的方法包括，将形成有微弧氧化膜的镁合金与化学镀液接触对该镁合金进行化学镀，化学镀的条件使形成有微弧氧化膜的镁合金上形成1-20微米厚的镍导电层；

所述化学镀溶液为含有硫酸镍、络合剂、还原剂、pH调节剂的水溶液，所述络合剂为乳酸、丙二酸、乙二胺四乙酸二钠、酒石酸钾钠、柠檬酸钠、二乙醇胺和三乙醇胺中的一种或几种，所述还原剂为次磷酸钠，硼化氢、甲醛或蔗糖中的一种或几种，所述pH调节剂为氨水、氢氧化钠、氢氧化钾、碳酸钠和碳酸氢钠中的一种或几种。

12、根据权利要求11所述的方法，其中，所述化学镀的条件包括化学镀液的温度为20-60℃、化学镀的时间为3-40分钟。

13、根据权利要求5所述的方法，其中，所述电镀层的形成方法包括，将形成导电层的镁合金与电源负极连接，将要电镀的金属与电源正极连接，将形成导电层的镁合金与电解质溶液接触对该镁合金进行电镀，电镀的条件使形成导电层的镁合金上形成1-100微米厚的电镀层；

所述电解质溶液为含有铜、镍、钯、锡、钴和铬中的一种或几种的硫酸盐、氯化物、磷酸盐或硝酸盐的水溶液；与电源正极连接的将要电镀的金属选自铜、镍、钯、锡、钴、铬或它们中的至少2种的合金。

14、根据权利要求13所述的方法，其中，所述电镀的条件包括，电流密度为0.5-40A/dm²，温度为20-60℃，电镀的时间为1-30分钟。