CN101279315B - 间歇涂布方法和间歇涂布装置 - Google Patents

间歇涂布方法和间歇涂布装置 Download PDF

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Abstract

本发明的技术问题在于从涂布模头向移动的基材间歇地涂布涂布液时能在基材上以一定的均匀的厚度涂布涂布液。从设于涂布模头(10)的前端面(10a)的吐出口(11)向移动的片状基材(1)间歇地提供涂布液(12)而在基材上间歇地涂布涂布液时，进行如下工序：在开始从涂布模头向基材提供涂布液时，使涂布模头与基材同向移动的工序；使该涂布模头停止移动或与基材反向移动，从涂布模头向移动的基材涂布涂布液的工序；以及在停止从该涂布模头向基材提供涂布液时，使该涂布模头与上述基材同向移动的工序。

Description

间歇涂布方法和间歇涂布装置
本申请要求基于日本专利申请号2007-99952号的优先权。
技术领域
本发明涉及从设于涂布模头前端面的狭缝状吐出口向移动的片状基材间歇地提供涂布液而在该基材上间歇地涂布涂布液的间歇涂布方法和间歇涂布装置。
特别是上述间歇涂布方法和间歇涂布装置具有如下特征：在开始向基材涂布涂布液的涂布开始侧的端面和停止向基材涂布涂布液的涂布停止侧的端面相对于基材垂直形成而不倾斜，能在基材上以一定的均匀的厚度涂布涂布液。
背景技术
以往，从设于涂布模头前端面的狭缝状吐出口向移动的片状基材间歇地提供涂布液，从而在上述基材上间歇地涂布涂布液。
如上所述在片状基材上间歇地涂布涂布液时，以往一般如图1所示，在使基材1挂设于支承辊2上进行移动的同时，使按上述方式移动的基材1与涂布模头10的前端面10a间隔所需间距相对而将涂布模头10设在与支承辊2相对的位置上，并从设于该涂布模头10的前端面10a的狭缝状吐出口11间歇地吐出涂布液12，从而在上述基材1上间歇地涂布涂布液12。
另外，如上所述那样从设于涂布模头10的前端面10a的狭缝状吐出口11间歇地吐出涂布液12时，在将涂布液12压力输送至涂布模头10的压力泵3与涂布模头10之间设置间歇阀4，通过开闭该间歇阀4，通过树脂制涂布液供给管13间歇地向涂布模头10提供涂布液12，从设于该涂布模头10的前端面10a的吐出口11间歇地吐出涂布液12。
但是，如上所述那样从设于涂布模头10的前端面10a的吐出口11间歇地吐出涂布液12时，在打开间歇阀4而从吐出口11吐出涂布液12的涂布开始阶段、关闭间歇阀4而停止吐出涂布液12的涂布停止阶段，由于上述涂布液供给管13膨胀等引起的压力传递延迟、残压等而导致涂布液12的吐出及停止的响应性降低。其结果如图2所示，从涂布模头10的吐出口11吐出的涂布液12的吐出量在涂布开始阶段逐渐增加而在涂布停止阶段逐渐下降。
因此，按上述方法在移动的基材1上涂布涂布液12时，如图3所示，涂布在基材1上的涂布液12的涂布开始侧的端部和涂布停止侧的端部呈倾斜状态，存在无法以一定的均匀的厚度将涂布液12涂布于基材1这样的问题。
近年来，如日本专利特开2001-179156号公报所示，提出了如下技术方案：在设于上述涂布模头与间歇阀之间的支管上设置吸引阀和负压箱，当停止向基材涂布涂布液时，关闭上述间歇阀而停止吐出涂布液，同时打开上述吸引阀而使上述负压箱吸引涂布液，从而抑制涂布液涂布在基材上。
但是，该公报所示的方案不能抑制在基材上开始涂布涂布液的涂布液开始侧的端部的倾斜状态，且在上述情况下吸引阀的响应性等并不充分，涂布停止侧的端部依然呈现略微倾斜的状态，无法在基材上以一定的均匀的厚度涂布涂布液。
发明内容
本发明的技术问题在于解决从设于涂布模头前端面的狭缝状吐出口向移动的片状基材间歇地提供涂布液而在该基材上间歇地涂布涂布液时存在的上述问题。
即，本发明的技术问题在于使开始向基材涂布涂布液的涂布开始侧的端面和停止向基材涂布涂布液的涂布停止侧的端面相对于基材垂直形成而不倾斜，从而能在基材上以一定的均匀的厚度涂布涂布液。
为了解决上述技术问题，本发明的间歇涂布方法是从设于涂布模头前端面的狭缝状吐出口向移动的片状基材间歇地提供涂布液而在该基材上间歇地涂布涂布液的间歇涂布方法，它具有以下工序：在开始从上述涂布模头向基材提供涂布液时，使该涂布模头与上述基材同向移动的工序；使该涂布模头停止移动或使涂布模头与基材反向移动，从涂布模头向移动的基材涂布涂布液的工序；以及在停止从该涂布模头向基材提供涂布液时，使该涂布模头与上述基材同向移动的工序。
在该间歇涂布方法中，如上所述在开始从涂布模头向基材提供涂布液时，最好是使开始提供涂布液时的涂布模头的移动速度与上述基材相同，并逐渐使该涂布模头的移动速度减速，在停止从上述涂布模头向基材提供涂布液时，最好是对使涂布模头与上述基材同向移动的移动速度进行加速，在停止涂布液供给时使该涂布模头的移动速度与上述基材相等。
在该间歇涂布方法中，上述基材与涂布模头的前端面之间的间距最好是在形成液珠时基材移动方向的下游侧比上游侧窄。
在该间歇涂布方法中，可以使上述基材挂设于支承辊进行移动，并在与该支承辊相对的位置上从上述涂布模头向基材间歇地涂布涂布液，此时，可以将上述涂布模头以其前端面与支承辊相对的方式沿辐射方向配置，并在此状态下使该涂布模头沿支承辊的转动方向移动。
为了解决上述技术问题，本发明的间歇涂布装置是从设于涂布模头前端面的狭缝状吐出口向移动的片状基材间歇地提供涂布液而在该基材上间歇地涂布涂布液的间歇涂布装置，它设有传送上述涂布模头的传送装置，利用控制装置来控制该传送装置对涂布模头的传送，在开始从涂布模头向基材提供涂布液时，使上述涂布模头与基材同向移动，在从涂布模头向基材涂布涂布液时，使涂布模头停止移动或与基材反向移动，在停止从涂布模头向基材提供涂布液时，使涂布模头与基材同向移动。
本发明的间歇涂布方法和间歇涂布装置在从设于涂布模头前端面的狭缝状吐出口向移动的片状基材间歇地提供涂布液而在该基材上间歇地涂布涂布液时，如上所述在开始从涂布模头向基材提供涂布液时，使该涂布模头与上述基材同向移动。
因此，在从涂布模头吐出口吐出的涂布液的吐出量逐渐增加并达到稳定之前，涂布模头沿基材移动，在涂布模头与基材的相对速度小于基材的移动速度的状态下进行涂布，可抑制开始涂布涂布液的涂布开始侧的端部倾斜。
在从涂布模头吐出口吐出的涂布液的量稳定的阶段，如上所述使涂布模头停止移动或使涂布模头与基材反向移动，从该涂布模头向移动的基材涂布涂布液，从而能以一定的厚度在基材上涂布涂布液。
在停止从涂布模头向基材提供涂布液时，使该涂布模头与上述基材同向移动。
因此，在从该涂布模头吐出口吐出的涂布液的吐出量逐渐降低至不再吐出为止，涂布模头沿基材移动，在涂布模头与基材的相对速度小于基材的移动速度的状态下进行涂布，可抑制停止涂布涂布液的涂布停止侧的端部倾斜。
其结果是，在本发明的间歇涂布方法和间歇涂布装置中，开始向基材涂布涂布液的涂布开始侧的端面和停止向基材涂布涂布液的涂布停止侧的端面相对于基材垂直形成而不倾斜，能在基材上以一定的均匀的厚度涂布涂布液。
根据表示本发明具体实施方式的附图以及结合附图的以下说明，显而易见本发明的上述及其他目的、优点和特征。
附图说明
图1是表示在现有例的间歇涂布装置中从涂布模头向挂设于支承辊而移动的基材间歇地涂布涂布液的状态的概略说明图。
图2是表示在现有例中从涂布模头吐出的涂布液的吐出量变化的图。
图3是表示在现有例中涂布于基材的涂布液状态的概略侧视图。
图4是表示本发明一实施方式中涂布模头移动的工序的概略说明图。
图5是表示在上述实施方式中当涂布模头的移动速度与基材的移动速度大致相等时从设于涂布模头前端面的吐出口吐出涂布液形成液珠的状态、使涂布模头停止移动而从涂布模头向移动的基材涂布涂布液的状态、以及使停止的涂布模头沿基材移动并当涂布模头的移动速度与基材的移动速度大致相等时使涂布模头从基材离开的状态的概略说明图。
图6是表示在上述实施方式中从涂布模头向移动的基材涂布涂布液的状态的放大说明图。
图7是表示在上述实施方式中从涂布模头吐出的涂布液的吐出量和涂布模头移动速度的关系的图。
图8是表示在上述实施方式中涂布在基材上的涂布液的状态的概略侧视图。
图9是表示本发明另一实施方式的概略说明图。
图10是表示在上述另一实施方式中当涂布模头的移动速度与基材的移动速度大致相等时从设于涂布模头前端面的吐出口吐出涂布液而形成液珠的状态的概略说明图。
图11是表示在上述另一实施方式中使涂布模头停止移动而从涂布模头向移动的基材涂布涂布液的状态的概略说明图。
图12是表示在上述另一实施方式中使停止的涂布模头沿基材移动并当涂布模头的移动速度与基材的移动速度大致相等时使涂布模头从基材离开的状态的概略说明图。
(符号说明)
1    基材
2    支承辊
10   涂布模头
10a  前端面
11   吐出口
12   涂布液
12a  积液部
13   涂布液供给管
20   传送装置(转动臂)
20a  臂部
21   控制装置
22   注射泵
23   清洗装置
具体实施方式
下面，根据附图具体说明本发明的实施方式涉及的间歇涂布方法和间歇涂布装置。另外，本发明涉及的间歇涂布方法和间歇涂布装置不限于下述实施方式，在不改变发明主旨的范围内可以进行适当变更。
如图4所示，在本实施方式中，在使基材1挂设于支承辊2上进行移动的同时，利用控制装置21来控制传送涂布模头10的传送装置20。
将上述涂布模头10的前端面10a在向下的状态下引向该涂布模头10的前端面10a与以上述方式移动的基材1间隔所需间距的位置，同时使该涂布模头10沿着挂设于支承辊2的呈圆弧状的基材1而与基材1同向移动。
当上述涂布模头10的移动速度与基材1的移动速度大致相等时，利用注射泵22通过树脂制涂布液供给管13向涂布模头10提供涂布液12，如图5(A)所示，从设于涂布模头10的前端面10a的狭缝状吐出口11吐出涂布液12而形成液珠，使涂布模头10的前端面10a接近基材1，从而使涂布液12的液珠与以上述方式移动的基材1接触。
然后，在按上述方式使涂布液12的液珠与移动的基材1接触的状态下，使沿基材1移动的上述涂布模头10的移动速度减速，在注射泵22向涂布模头10稳定地提供涂布液12的阶段，如图5(B)所示，停止该涂布模头10的移动，从该涂布模头10的吐出口11向移动的基材1涂布涂布液12。
这里，在按上述方式从涂布模头10的吐出口11向移动的基材1涂布涂布液12时，如图6所示，上述基材1和涂布模头10的前端面10a的间距在基材1移动方向下游侧的间距G2比上游侧的间距G1略窄，利用该略窄的部分来控制在移动的基材1上涂布的涂布液12的厚度，从而在基材1上以一定的厚度涂布涂布液12。另外，在与基材1的间距变大的基材1的移动方向上游侧部分，由于重力而充分形成涂布液12的积液部12a，因此可实现无断液、无飞白(日文：かすれ)的涂布。
按上述方法在移动的基材1上涂布规定长度的涂布液12后，在停止注射泵22向涂布模头10提供涂布液12的同时，如图5(C)所示，使该涂布模头10沿基材1移动，使该涂布模头10的移动速度加速，当该涂布模头10的移动速度与基材1的移动速度大致相等时，使该涂布模头10上升而离开基材1。
另外，上述一连串动作中涂布液12的吐出量和涂布模头10的移动速度的关系如图7所示。
如果按上述方法在移动的基材1上涂布涂布液12，则如上所述，不仅可抑制开始涂布涂布液12的涂布开始侧的端部倾斜，也可抑制停止涂布涂布液12的涂布停止侧的端部倾斜。
其结果如图8所示，涂布在基材1上的涂布液12的涂布开始侧的端面12a和涂布停止侧的端面12b相对于基材1垂直形成，可在基材1上以一定的均匀的厚度涂布涂布液12。
如上所述地使涂布模头10上升而离开基材1后，在该涂布模头10返回涂布开始位置的途中，将该涂布模头10引向清洗装置23，利用该清洗装置23清洗涂布模头10的前端部，然后进行下一次涂布。
这里，在如上所述地使涂布模头10上升而离开基材1到利用清洗装置23清洗该涂布模头10期间内，为了防止因基材1移动而使基材1上未涂布涂布液12的部分变长，可以使在此期间的基材1的移动速度减速，或使多个涂布模头10按上述方法依次移动，从而在移动的基材1上依次间歇地涂布涂布液12。
如图5(B)所示，在上述实施方式中，使该涂布模头10停止移动而在基材1上涂布涂布液12，但为了确保其动作间隔，也可以在使涂布模头10反向移动的同时进行涂布。
在本实施方式中，如上所述在使涂布模头10的前端面10a始终向下的状态下使该涂布模头10沿着移动的基材1与基材1同向移动，但涂布模头10的配置状态不限于此。
例如，也可以是如图9所示的实施方式，在上述支承辊2上设置作为传送涂布模头10的传送装置20的转动臂20，利用控制装置21来控制该转动臂20的转动，同时使涂布模头10可滑动地保持于从支承辊2突出的转动臂20的臂部20a，将该涂布模头10以与支承辊2相对的方式沿辐射方向配置，使该涂布模头10的前端面10a与挂设于支承辊2上进行移动的基材1相对。
这里，在本实施方式中，使上述涂布模头10滑动，将该涂布模头10的前端面10a引向与按上述方式移动的基材1之间间隔所需间距相对的位置，同时使上述转动臂20转动，在使涂布模头10的前端面10a与基材1相对的状态下，使涂布模头10沿基材1移动。
当上述转动臂20产生的涂布模头10的移动速度与基材1的移动速度大致相等时，利用注射泵22向涂布模头10提供涂布液12，如图10所示，从设于涂布模头10的前端面10a的狭缝状吐出口11吐出涂布液12而形成液珠，使涂布液12的液珠与按上述方式移动的基材1接触。
在按上述方式使涂布液12的液珠与移动的基材1接触的状态下，降低上述转动臂20的转动速度，使沿基材1移动的涂布模头10的移动速度减速，在注射泵22向涂布模头10稳定地提供涂布液12的阶段，如图11所示，使转动臂20停止转动从而停止涂布模头10的移动，从该涂布模头10的吐出口11向移动的基材1涂布涂布液12。
按上述方法在移动的基材1上涂布规定长度的涂布液12后，停止上述注射泵22向涂布模头10提供涂布液12，同时如图12所示，使上述转动臂20转动，使涂布模头10沿基材1移动，当该涂布模头10的移动速度与基材1的移动速度大致相等时，使该涂布模头10向离开基材1的方向滑动。
按上述方法在移动的基材1上涂布涂布液12的方式也与上述实施方式同样，可抑制开始涂布涂布液12的涂布开始侧的端部倾斜，抑制停止涂布涂布液12的涂布停止侧的端部倾斜。其结果如上述图8所示，涂布在基材1上的涂布液12的涂布开始侧的端面12a和涂布停止侧的端面12b相对于基材1垂直形成，可在基材1上以一定的均匀的厚度涂布涂布液12。
虽然通过上述实施方式对本发明进行了详细描述，但需注意的是，本领域技术人员可进行各种变更和修改。
因此，除非这些变更和修改超出本发明的范围，否则均属于本发明。

Claims (8)

1.一种间歇涂布方法，从设于涂布模头前端面的狭缝状吐出口向移动的片状基材间歇地提供涂布液，从而在所述基材上间歇地涂布涂布液，其特征在于，具有如下工序：在开始从所述涂布模头向基材提供涂布液的时刻，使所述涂布模头与所述基材同向移动的工序；使所述涂布模头停止移动或使涂布模头与基材反向移动，从涂布模头向移动的基材涂布涂布液的工序；以及在停止从所述涂布模头向基材提供涂布液的时刻，使所述涂布模头与所述基材同向移动的工序。
2.如权利要求1所述的间歇涂布方法，其特征在于，在开始从所述涂布模头向基材提供涂布液的开始时刻使涂布模头的移动速度与所述基材相同，并使所述涂布模头的移动速度逐渐减速。
3.如权利要求1或2所述的间歇涂布方法，其特征在于，在停止从所述涂布模头向基材提供涂布液时，对使涂布模头与所述基材同向移动的移动速度进行加速，在停止提供涂布液时，使所述涂布模头的移动速度与所述基材相同。
4.如权利要求1或2所述的间歇涂布方法，其特征在于，所述基材与涂布模头前端面的间距在基材移动方向的下游侧比上游侧窄。
5.如权利要求1或2所述的间歇涂布方法，其特征在于，所述基材挂设于支承辊进行移动，在与所述支承辊相对的位置上从所述涂布模头向基材间歇地涂布涂布液。
6.如权利要求5所述的间歇涂布方法，其特征在于，在所述涂布模头的前端面以与支承辊相对的方式沿辐射方向配置的状态下，所述涂布模头沿支承辊的转动方向移动。
7.如权利要求1或2所述的间歇涂布方法，其特征在于，在停止从所述涂布模头向基材提供涂布液后，利用清洗装置来清洗所述涂布模头的前端部。
8.一种间歇涂布装置，从设于涂布模头前端面的狭缝状吐出口向移动的片状基材间歇地提供涂布液，从而在所述基材上间歇地涂布涂布液，其特征在于，设有传送所述涂布模头的传送装置，利用控制装置来控制所述传送装置对涂布模头的传送，在开始从涂布模头向基材提供涂布液的时刻，使所述涂布模头与基材同向移动，在从涂布模头向基材涂布涂布液的时刻，使涂布模头停止移动或与基材反向移动，在停止从涂布模头向基材提供涂布液的时刻，使涂布模头与基材同向移动。
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