CN101209930A - 发光陶瓷及其制备方法 - Google Patents
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Abstract
本发明提供了一种发光陶瓷及其制备方法，其由一种陶瓷釉均匀地熔融在陶瓷制品表面上烧制成的，该陶瓷釉主要由基础釉料、发光材料和激活剂三部分组成，该发明它既具有陶瓷的特点，即优良的机械强度，耐磨性、耐水性，又具有发光蓄光性能。
Description
技术领域
本发明涉及一种陶瓷及其制备方法，更具体地说，涉及一种发光陶瓷及其制备方法。
背景技术或釉料
陶瓷是一种非常大众化的产品，广泛应用于人们的日常生活中。发光陶瓷是将具有发光性质的材料引入到陶瓷坯料中，将发光材料与传统陶瓷骨料混合，直接烧制出整体发光的发光陶瓷制品。
但这种方法应用不太方便。
发明内容
本发明的目的是提供一种发光陶瓷，与其他传统材料相结合，将陶瓷熔融在陶瓷制品表面上，经烧制而成的一种功能性的发光陶瓷。
本发明的另一目的是提供这种发光陶瓷的制备方法，以与传统陶瓷生产工艺相吻合的制备方法。
这种发光陶瓷，其由一种陶瓷釉均匀地熔融在陶瓷制品表面上烧制成的，该陶瓷釉主要由三部分组成，基础釉料、发光材料和激活剂组成，该发光材料的含量为15％～40％，该基础釉料为60％～85％，其组成成分分别为该其础釉料含量的：二氧化硅35％～55％，三氧化铝5％～12％，氧化二铁＜0.1％，氧化钙2％～5％，氧化镁＜2％，氧化钾3％～5％，氧化钠1％～3％，氧化锶5％～8％，氧化钡9％～19％，氧化锌＜2％，氧化锂＜3％。
按配方组成称取各种原材料，经球磨充分混合均匀，将混合好的物料置于熔块炉中，在1250～1350摄氏度下熔制，水淬，烘干，球磨，过筛，250目，再将过筛后的基础釉熔块粉末与一定量的发光材料及少量激活剂在球磨机中球磨，保证釉浆细度达到万孔筛余≤0.05％即可。
该发明它既具有陶瓷的特点，即优良的机械强度，耐磨性、耐水性，又具有发光蓄光性能。
具体实施方式
陶瓷釉是一种远程无序，近程有序的非晶相，它本身一般并不发光；发光材料是一种晶相。烧结后的发光陶瓷釉是一种晶态的发光材料与非晶态相的结合体，它的发光源于发光材料的发光。一般的含量超过发光粉，是连续相，发光粉均匀地分散于透明的釉层中。陶瓷釉是一种载体，它起结合发光材料和陶瓷坯体的作用。
陶瓷釉是熔融在陶瓷制品表面上一层很薄的均匀的质层，它可以改善制品使用性能，提高陶瓷制品的装饰质量。
发光材料在基础釉中的含量在15％～40％之间，发光材料太少，发光效果不好，发光材料太多，会使熔融温度提高，釉面不光滑，且釉层与坯体易分离。
由于发光材料的密度远大于基础釉料，在制备釉浆时发光材料易沉淀，使用激活剂的主要目的在于增加陶瓷发光釉浆的悬浮性，使釉浆均匀而不分层，便于施工，操作，激活剂的种类可为高岭土、水玻璃等。
按配方组成称取各种原材料，经球磨充分混合均匀，将混合好的物料置于熔块炉中，在1250～1350摄氏度下熔制，水淬，烘干，球磨，过筛，250目，再将过筛后的基础釉熔块粉末与一定量的发光材料及少量激活剂在球磨机中球磨，保证釉浆细度达到万孔筛余≤0.05％即可。
发光陶瓷制品的上釉可采取传统的丝网印刷、喷涂、淋釉或采取与堆釉干粉配合方法，经干燥后在高温炉中空气气氛上烧成，根据制品的不同烧成温度在550～1230摄氏度之间。
使用发光陶瓷釉料应注意以下几点：由于发光陶瓷釉料中发光材料比例较大，同时发光材料的密度大，易沉淀，故使用前应充分搅拌，防止沉淀，不应在水中长期浸泡。在发光釉料的使用过程中，如需球磨，球磨时间不可过长，以防破坏发光材料的晶体结构。发光釉料的使用过程中，不可与金属表面强烈划擦，否则易导致釉面发黑。发光制品的烧成最好采用快速烧成工艺，温度不可过高，以防烧成温度高，时间长，破坏发光材料晶体结构。
实施例1，
本发明各组分百分比组成为：二氧化硅40％，三氧化铝10％，氧化二铁1％，氧化钙2％，氧化镁1％，氧化钾5％，氧化钠3％，氧化锶5％，氧化钡10％，氧化锌1％，氧化锂2％，其他20％。
将合成好的发光材料、激活剂和基础釉料混合均匀然后施釉烧成；或者将合成好的含激活剂的发光材料和基础釉料混合均匀，然后施釉烧成。
Claims (2)
1.一种发光陶瓷，其由一种陶瓷釉均匀地熔融在陶瓷制品表面上烧制成的，其特征在于，该陶瓷釉主要由基础釉料、发光材料和激活剂三部分组成，该发光材料的含量为15％～40％，该基础釉料为60％～85％，其组成成分分别为该其础釉料含量的：
二氧化硅 35％～55％
三氧化铝 5％～12％
氧化二铁 ≤0.1％
氧化钙 2％～5％
氧化镁 ≤2％
氧化钾 3％～5％
氧化钠 1％～3％
氧化锶 5％～8％
氧化钡 9％～19％
氧化锌 ≤2％
氧化锂 ≤3％
2.根据权利要求1所述的发光陶瓷的制备方法，包括由以下步骤组成：
按配方组成称取各种原材料，经球磨充分混合均匀，将混合好的物料置于熔块炉中，在1250～1350摄氏度下熔制，水淬，烘干，球磨，过筛，250目，再将过筛后的基础釉熔块粉末与一定量的发光材料及少量激活剂在球磨机中球磨，保证釉浆细度达到万孔筛余≤0.05％即可。
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