CN101089732A - 曝光用照明装置 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种曝光用照明装置，其具有能把握各灯状态的多个灯。各灯(1)内设置有电源模块(2)，利用控制装置(3)控制该多个电源模块(2)，可进行各灯(1)的点亮。电源模块(2)具有点亮电路(20)，点亮检测器(21)附属于点亮电路(20)，把各灯(1)的点亮/不点亮的信号发送到控制装置(3)，显示在显示装置(4)上。点亮电路(20)连接有电压检测装置(22)，检测各灯(1)的灯点亮时的电压，电压判定装置(23)判别灯是否以额定标准电压点亮。电压判定装置(23)中的上限和下限基准电压可由上下限基准电压设定装置(5)任意设定，可根据灯(1)的特性和曝光条件等变更灯电压的适当与否的基准。电压判定装置(23)的判定结果被发送到控制装置(3)，显示在显示装置(4)上，并被告知。

Description

曝光用照明装置
技术领域
本发明涉及曝光用照明装置。
背景技术
在制作半导体电路和印刷布线基板时，做法是利用曝光装置来把电路图形等烧结在实施了光致抗蚀剂的基板上。
曝光装置的曝光用照明一般使用紫外线，作为该用途的照明灯，一般使用高压水银灯。
作为这种曝光用照明装置，使用了多个灯的日本特开2004-361746号公开的多灯系统是公知的。
【专利文献1】日本特开2004-361746号
在上述多灯系统的情况下，具有获得高输出的优点，然而不具有检测要构成的多个灯的各灯是否以额定标准电压点亮的功能，并且难以通过目视把握所有灯以规定照度点亮的情况。
并且，灯的寿命判定使用灯的累积点亮时间，与灯的亮度无关，当累积点亮时间超过被设定为寿命的时间时，寿命到来，存在灯的使用效率不良等的问题。
发明内容
本发明的目的是解决上述现有技术的问题。
为了达到上述目的，本发明是一种曝光用照明装置，其具有多个灯，其特征在于，该曝光用照明装置具有：灯的点亮电路；点亮检测单元，其分别检测各灯点亮的情况；电压检测单元，其分别检测各灯点亮时的点亮电压；电压判定单元，其判定该检测出的灯的点亮电压在规定的电压范围内的情况；以及告知上述点亮检测单元的检测结果和电压判定单元的判定结果的单元。
通过按以上检测各灯的点亮和电压，可识别不点亮的灯和电压不适当的灯，还能把握不适当灯的数目和位置等。
并且，该曝光用照明装置还具有：根据上述点亮检测单元的检测结果和电压判定单元的判定结果来计算不适当灯数目，并在该不适当灯数目大于等于规定数目时，判断为不能曝光的单元，从而还能自动判断能曝光和不能曝光。
并且，还能根据上述电压判定单元的判定结果来判别灯的寿命。
上述多个灯可以包含不是同一规格而是不同规格的灯。在该情况下，各灯具有适合于其规格的上述灯的点亮电路、点亮检测单元、电压检测单元以及电压判定单元，从而能进行应对。
上述多个灯可以根据使用条件使用所有灯，也可以使用一部分灯。在该情况下，该曝光用照明装置还具有针对多个灯的各灯任意选定使用或不使用的单元，从而能进行应对。
并且，还能做到的是，该曝光用照明装置还具有针对上述多个灯的各灯选定使用、不使用，以使上述多个灯的各灯的累积点亮时间平均化的单元，利用该单元来延长灯的更换周期。在该情况下，期望的是，预先设定多个点亮图形，并构成为在灯点亮时切换图形。
根据该结构，可使各灯的累积点亮时间平均化，可延长灯的可使用期限(更换周期)。
根据本发明的曝光用照明装置，可检测不点亮灯，并可检测各个灯的点亮电压。因此，可判别照明装置的照度是否大于等于基准，可知道曝光适当与否和曝光开始定时。
并且，可根据各个灯的电压判定点亮中的灯的退化，可在比初始照度显著变暗之前，知道灯更换时期。并且，具有能使规格不同的灯混合存在等的效果。
附图说明
图1是示出本发明的一个实施方式的功能框图。
图2是示出本发明的一个实施方式的动作的流程图。
图3是示出灯的电压变化和曝光动作适当范围的曲线图。
图4是示出使灯选择性地点亮/不点亮的图形的一例的说明图。
图5是示出预先决定的点亮图形的一例的说明图。
图6是示出预先决定的点亮图形的另一例的说明图。
具体实施方式
以下，参照附图对本发明的实施方式进行说明。
在图1中，本发明的曝光用照明装置具有多个灯1和多个电源模块2，各灯1内设置有电源模块2。该曝光用照明装置构成为使用控制装置3控制该电源模块2，可进行各灯1的点亮。
电源模块2内设置有由控制装置3控制的点亮电路20，点亮检测器21附属于该点亮电路20，把各灯1的点亮/不点亮的信号发送到控制装置3。该点亮/不点亮的检测结果显示在显示装置4上，并被告知给使用者。
点亮电路20上还连接有电压检测装置22，电压检测装置22构成为检测各灯1的点亮电压。
控制装置3向各灯的点亮电路2发出信号，可以使所有灯1点亮，或者可以使预先任意选出的灯1点亮。后面对此进行描述。
图3示出灯1的电压特性。如上所述在曝光照明装置中使用的灯1一般使用高压水银灯，该灯从电源接通到电压稳定需要规定的时间。把该电压稳定的区域设定为曝光动作适当动作区域，在各灯1的电压到达该区域时是曝光适当时期。
并且，该灯在累积点亮时间延长时，稳定时的电压逐渐增高，同时照度下降。因此，可根据灯1的电压事先知道该灯1的寿命到来，可提早进行灯更换。
电压检测装置22检测各灯1的灯点亮时的电压，并且电压判定装置23根据该点亮电压判别灯是否以额定标准电压点亮。
在电压判定装置23中设定有图3所示的额定标准电压的上限和下限基准电压，并构成为在灯点亮后超过额定标准电压下限时判断为能曝光。并且在经过一定时间后存在离开额定标准电压范围的灯的情况下，输出表示该灯不在额定标准电压内的信号。
该电压判定装置23中的上限和下限基准电压可由使用者利用上下限基准电压设定装置5来任意设定，从而可根据灯1的特性和曝光条件等变更灯电压的适当与否的基准。
该曝光用照明装置构成为：电压判定装置23的判定结果被发送到控制装置3，显示在显示装置4上，并被告知。
即，构成为显示各灯1进入上述上限和下限之间的适当电压范围内、以及在规定时间后不在该适当电压范围内的灯1。
通过上述显示装置4的显示，使用者可把握不点亮的灯1的数目、以及不在适当电压内的灯1的数目，可判断是继续曝光动作还是中止曝光。
在该实施方式中，控制装置3还具有以下结构，即：判别来自点亮检测器21的不点亮灯数目和来自电压判定装置23的非适当电压范围的灯数目是否大于等于规定数，判断是能曝光还是不能曝光。根据该结构，可自动判断曝光是否合适。
使用图2对动作进行说明。
当从使用者等那里进行了灯点亮操作时，控制装置3把灯点亮指令输出到点亮电路20(步骤S1)，同时将灯编号N设为1(步骤S2)。然后，在电压稳定时间经过后(步骤S3)，根据来自点亮检测器21的信号，在灯不点亮的情况下(步骤S4)，使显示装置4进行该意思的显示(步骤S5)。在灯点亮的情况下(步骤S4)，在电压根据来自电压判定装置23的信号而超过上限的情况下(步骤S6)，把灯1的寿命临近的意思显示在显示装置4上(步骤S7)。在小于等于上限值和小于等于下限值的情况下(步骤S8)，把是低电压的意思显示在显示装置4上(步骤S9)。
在步骤S5、S7、S9的情况下，均判断为灯不良，控制装置3对不良数目进行计数(步骤S10)。
然后，针对各灯执行从上述步骤S4到S10(步骤S11、S12)，判断不良数目D是否在基准值以内(步骤S13)。当在基准值以内时判断为能曝光，并显示在显示装置4上(步骤S14)。当大于等于基准值时判断为不能曝光，并进行该意思的显示(步骤S15)。
使用者可根据显示装置4的显示来进行各种判断。
另外，如上所述，控制装置3能使所有灯1点亮，或者也能使任意灯1点亮。
例如，在图4的例子中，在7×6个灯1中，不使外周部分的灯1’点亮，而仅使剩余的中央部分的灯1点亮。通过这样选择性地点亮，可进行整体照度调整和照明位置调整等。
在该实施方式中，如图1所示还具有点亮图形选定装置6。点亮图形选定装置6存储有预先决定的点亮图形，选择该图形，并根据所选择的图形来使灯1点亮。
图5和图6示出实施例。在图5和图6中以黑白方格图案使灯1点亮/不点亮，图5和图6中交错地进行点亮。通过这样切换点亮图形，可使各灯的累积点亮时间平均化，可延长灯的可使用期限(更换周期)。

Claims (6)

1.一种曝光用照明装置，其具有多个灯，其特征在于，该曝光用照明装置具有：
灯的点亮电路；
点亮检测单元，其分别检测各灯点亮的情况；
电压检测单元，其分别检测各灯点亮时的点亮电压；
电压判定单元，其判定该检测出的灯的点亮电压在规定的电压范围内的情况；以及
告知上述点亮检测单元的检测结果和电压判定单元的判定结果的单元。
2.根据权利要求1所述的曝光用照明装置，其特征在于，该曝光用照明装置还具有：根据上述点亮检测单元的检测结果和电压判定单元的判定结果来计算不适当灯数目，并在该不适当灯数目大于等于规定数目时，判断为不能曝光的单元。
3.根据权利要求1所述的曝光用照明装置，其特征在于，该曝光用照明装置还具有：根据上述电压判定单元的判定结果来判别灯寿命的单元。
4.根据权利要求1或2或3所述的曝光用照明装置，其特征在于，
上述多个灯包含规格不同的灯；
各灯具有适合于其规格的上述灯的点亮电路、点亮检测单元、电压检测单元以及电压判定单元。
5.根据权利要求1所述的曝光用照明装置，其特征在于，该曝光用照明装置还具有：针对上述多个灯的各灯任意选定使用、不使用的单元。
6.根据权利要求1所述的曝光用照明装置，其特征在于，该曝光用照明装置还具有：针对上述多个灯的各灯选定使用、不使用，以使上述多个灯的各灯的累积点亮时间平均化的单元，
利用该单元来延长灯的更换周期。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101609264B (zh) * 2009-07-24 2011-03-30 上海微电子装备有限公司 提高调焦调平测量精度的方法
CN102369484A (zh) * 2010-02-05 2012-03-07 日本精工株式会社 曝光装置用照光装置及其亮灯控制方法、以及曝光装置、曝光方法及基板

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5345443B2 (ja) * 2009-04-21 2013-11-20 株式会社日立ハイテクノロジーズ 露光装置、露光光照射方法、及び表示用パネル基板の製造方法
TW201314380A (zh) * 2011-09-02 2013-04-01 Orc Mfg Co Ltd 曝光用調光裝置
JP5869713B1 (ja) 2015-04-13 2016-02-24 フェニックス電機株式会社 光源装置及び露光装置とその検査方法

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62200345A (ja) * 1986-02-28 1987-09-04 Fuji Xerox Co Ltd 照明装置
JP4169135B2 (ja) * 1998-03-25 2008-10-22 ハリソン東芝ライティング株式会社 ランプ点灯装置
CN1137572C (zh) * 1999-09-27 2004-02-04 虹光精密工业股份有限公司 通过控制曝光时间来调整图像感应电压的光学扫描器及其方法
JP2001307988A (ja) * 2000-04-24 2001-11-02 Canon Inc 照明装置と照明方法、および該照明装置を備えた露光装置とこれらによるデバイス製造方法
JP3593654B2 (ja) * 2000-05-25 2004-11-24 東京エレクトロン株式会社 基板処理装置及び基板処理方法
JP2005227465A (ja) * 2004-02-12 2005-08-25 Mejiro Genossen:Kk 照明光学系の使用方法及びフラットパネルディスプレイの製造方法

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101609264B (zh) * 2009-07-24 2011-03-30 上海微电子装备有限公司 提高调焦调平测量精度的方法
CN102369484A (zh) * 2010-02-05 2012-03-07 日本精工株式会社 曝光装置用照光装置及其亮灯控制方法、以及曝光装置、曝光方法及基板
CN102369484B (zh) * 2010-02-05 2015-05-20 恩斯克科技有限公司 曝光装置用照光装置及其亮灯控制方法、以及曝光装置、曝光方法及基板

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