CN100589027C - 光源装置以及光源装置的制造方法 - Google Patents

Abstract

为了满足如下两个条件：确保由于放电灯点亮时的压力而使灯破损时反射镜本身不会破损的强度；有效地将反射镜以及灯的热量排放出投影仪框体外，而提供了一种设有金属制凹面反射镜的光源装置，所述金属制凹面反射镜使用了金属反射镜，并具有优良的红外线吸收性能，并且带有紧贴在金属基体上的玻璃层。光源装置由高压放电灯以及包围该高压放电灯的凹面反射镜构成，其中，所述凹面反射镜由金属基体、玻璃层和设置在该玻璃层上的电介质多层膜层构成，其中，所述金属基体由铝或以铝为主要成分的合金、或者不锈钢中的任意一种材料制成，所述玻璃层形成于该金属基体内表面上并且含有镍、钴、钒、铜、锆、钙、锰、钼中的至少1种以上的金属的氧化物。

Description

光源装置以及光源装置的制造方法

技术领域

本发明涉及由高压放电灯及其凹面反射镜构成的光源装置。特别涉及使用液晶显示装置或者DMDTM(数字微镜器件)的DLPTM(数字光处理器)等投影装置，这些装置使用了以在发光管内封闭0.25mg/mm3以上的水银且点亮时水银蒸汽达到超高压的超高压水银灯作为光源。

背景技术

对于矩形屏幕而言，要求投射型投影仪具有均匀且充分的现色性并且能够照亮图像。因此，作为光源，可使用封入水银或金属卤化物的金属卤化物灯。针对这类金属卤化物灯，最近，研发进一步的小型化、点光源化，并且，实现了电极间距离的极小化。

在这种背景下，最近，代替金属卤化物灯，目前提出了具有高水银蒸汽压(例如150大气压)的灯。其通过进一步提高水银蒸汽压，能够抑制并缩小电弧的扩大，同时能够进一步提高光的输出。

例如在特开平2-148561号公报、特开平6-52830号公报中公开了这种超高压放电灯。

另一方面，在投影装置中使用的光源装置需要能够沿光轴方向高效反射由光源灯发出的放射光，并且使其照射在液晶显示面板等被照明区域。光源装置通常采用短弧型放电灯以及将从这种放电灯放射的光转换为平行光的凹面反射镜。

近些年来，强烈要求液晶投影装置或使用DMD的DLP装置能够实现小型化，与此相应，也要求光源装置实现小型化。另外，作为被照射物的液晶显示面板本身实现小型化也成为要求光源装置小型化的一个理由。

在这种投影仪用等的投射光源中使用的用于聚集灯的光的反射镜的材料由于在高温下会被漂白(さらす)，因此，应采用耐高温材料的玻璃或陶瓷。但是，玻璃或陶瓷与金属相比导热性不良，在实现反射镜小型化时，必须主动将冷却风导入反射镜内以使灯和反射镜冷却。另外，由于放电灯在点亮时的内部压力会达到超高压(例如，150个大气压以上)，因此，万一放电灯破损，则会担心反射镜也破损。

另一方面，弥补陶瓷机械强度的缺点并具有耐热性的金属制反射镜不适于投影仪用等的投射光源。如果金属反射镜利用反射面向反射镜前方放射热射线(红外线)，则会导致液晶装置等恶化。然而，最近，如特开2004-170877号公报公开了这样的技术，即，作为金属制反射镜，以铝(Al)作为反射体基底1，在其内表面设置硼硅玻璃的陶瓷涂层3，在该陶瓷涂层3内添加镍·铁尖晶石系黑色颜料。其实施例如图3所示。

虽然这种公开的技术揭示了投影仪等使用金属制反射镜的可能性，但是，在铝的基体上含有玻璃层，在该玻璃层内含有镍·铁尖晶石系黑色颜料，这些黑色颜料会衰减从放电灯放射的红外线。

其原理在于，红外线在接连不断地碰到颜料颗粒时会衰减。在使用颜料而使红外线衰减时，行程距离是必要的，陶瓷涂层3的厚度也是必要的。若陶瓷涂层3具有一定厚度，则会担心在与金属基体的界面处由热膨胀差造成剥离。或者，存在以下情况，即，在所述陶瓷涂层3的表面贴附多重干涉膜4，在贴附多重干涉膜4之前要研磨陶瓷涂层3。因此，担心在进行研磨时，颜料的颗粒会露出于表面以致使陶瓷涂层3的表面变得粗糙。

专利文献1：特开平2-148561号公报

专利文献2：特开平6-52830号公报

专利文献3：特开2004-170877号公报

发明内容

因此，本发明所解决的课题在于：由于放电灯点亮时的压力会达到超高压，因此，为了满足如下的条件：确保在灯破损时包覆灯的反射镜本身不会破损的强度；有效地将反射镜以及灯的热量排放出投影仪的框体外，而提供了一种设有金属制凹面反射镜的光源装置，所述金属制凹面反射镜使用了金属反射镜，并具有以往所没有的优良的红外线吸收性能，并且带有紧贴在金属基体上的玻璃层。

为了实现上述目的，技术方案1记载的发明提供了一种光源装置，其由高压放电灯以及包围该高压放电灯的凹面反射镜构成，其特征在于，所述凹面反射镜由金属基体、玻璃层和设置在该玻璃层上的电介质多层膜层构成，其中，所述金属基体由铝或以铝为主要成分的合金、或者不锈钢中的任意一种材料构成，所述玻璃层形成于该金属基体内表面上并且含有镍、钴、钒、铜、锆、钙、锰、钼中的至少1种以上的金属的氧化物。

对于技术方案1所记载的光源装置，技术方案2记载的发明的特征在于，所述玻璃层中含有的所述金属氧化物的总量相对于玻璃母材为1～30重量％。

对于技术方案1或2中任意一项所记载的光源装置，技术方案3记载的发明的特征在于，所述玻璃层，在凹面状金属基体的内表面上设置所述玻璃层材料，之后通过热压而形成。

对于技术方案1或2中任意一项所记载的光源装置，技术方案4记载的发明的特征在于，所述玻璃层，通过在凹面状金属基体的内表面上喷吹(吹き付ける)熔融的玻璃材料的喷吹(ブロ一ィング)而形成。

对于技术方案1～4中任意一项所记载的光源装置，技术方案5记载的发明的特征在于，所述电介质多层膜由氧化锆与氟化镁交替层叠而成。

技术方案6记载的发明是一种由高压放电灯以及包围该高压放电灯的凹面反射镜构成的光源装置的制造方法，其特征在于，所述凹面反射镜包括金属基体，所述金属基体由铝或以铝为主要成分的合金、或者不锈钢中的任意一种材料构成，所述凹面反射镜通过以下的工序制成：在所述金属基体的凹面状的内表面上涂布玻璃的工序，其中，所述玻璃含有镍、钴、钒、铜、锆、钙、锰、钼中的至少1种以上的金属的氧化物；在使所述金属基体的凹面状的内表面向上的状态下，将该金属基体加热至所述玻璃的软化点以上的工序；在所述金属基体的凹面状的内表面上，插入加热的插入模具(矢型)而对软化的玻璃加压的工序；在将所述插入模具插入所述金属基体的凹面状的内表面的状态下，进行放置直至低于玻璃的软化点的温度的工序；和将所述插入模具从所述金属基体的凹面状的内表面取出的工序。

技术方案7记载的发明是一种由高压放电灯以及包围该高压放电灯的凹面反射镜构成的光源装置的制造方法，其特征在于，所述凹面反射镜包括金属基体，所述金属基体由铝或以铝为主要成分的合金、或者不锈钢中的任意一种材料构成，所述凹面反射镜通过以下的工序制成：使所述金属基体的凹面状的内表面成为向上状态的工序；将含有镍、钴、钒、铜、锆、钙、锰、钼中至少1种以上的金属的氧化物的玻璃熔融块插入所述金属基体的凹面状的内表面的内侧的工序；通过喷吹使所述玻璃熔融块膨胀，使玻璃紧贴在所述金属基体的凹面状的内表面上的工序；和对紧贴在所述金属基体的凹面状的内表面上的玻璃进行放置直至低于玻璃的熔点的温度的工序。

根据本发明，即使灯破损，反射镜基体也不会破损，并且，构成灯的玻璃也不会漏落。

由于可以使灯的热量有效地发散，因此，无需主动吹入冷却风来对灯进行冷却。

含有镍、钴、钒、铜、锆、钙、锰、钼中的至少1种以上的金属的氧化物的玻璃层会吸收不必要的红外区域的光，从而不会向反射镜前方放出。

特别是，若玻璃层中所含的金属的氧化物的总量相对于玻璃母材为1～30重量％，则玻璃层能够良好地实现吸收不必要的红外区域的光的效果。但是，若不足1重量％，则不能充分实现吸收不必要的红外区域的光，不向反射镜前方放出的功能，若超过30重量％，则与基层的金属基体的热膨胀率之差变得明显，从而会发生玻璃层从金属基体上剥离。

另外，由于通过热压形成玻璃层的反射镜具有较高平滑度，并且形成于玻璃层上的电介质多层膜层也具有玻璃层的较高平滑度，因此，能够按反射镜的设计值向反射镜的前方反射灯光。

另外，对于通过喷吹(吹き付け)形成玻璃层的反射镜而言，通过一次进行喷吹就能够完成玻璃层的形成，因此，制造非常简便。并且，反射镜基体成为金属模具，无需金属模具费用就能制成。

在电介质多层膜层由氧化锆与氟化镁层叠制成的情况下，形成了作为低折射率材料的氟化镁(MgF₂)与作为高折射率材料的氧化锆(ZrO₂)交替层叠而成的电介质多层膜层，层叠整体厚度为1～3μm，从而具有透过波长大于830nm的光以及短于380nm的光并反射可见光的功能。虽然耐热温度为300℃左右，低于由SiO₂以及TiO₂构成的叠层膜的耐热温度500℃，但是，以金属为基体的反射镜的工作温度不足300℃，故足够耐用。金属基体与层叠的膜的膨胀差会导致膜剥落或产生裂纹。膨胀差越大，这些现象就越明显。希望在金属基体上形成膜的层叠膜具有与金属基体相近的膨胀率，但是由ZrO₂和MgF₂层叠的层叠膜难以产生剥落或者裂纹。对于制造方面而言，由于由ZrO₂和MgF₂形成的层叠膜是容易制造的，因此也是理想的。

附图说明

图1为说明用剖面图，其显示了本发明的光源装置的一个实施例的结构的概略。

图2显示了图1所示的光源装置的凹面反射镜的剖面。

图3为剖面图，其显示了现有技术的光源装置一个例子的结构的概略。

图4显示了形成于本发明的光源装置的凹面反射镜上的玻璃层的形成顺序。

图5显示了形成于本发明的光源装置的凹面反射镜上的玻璃层的另一形成顺序。

具体实施方式

下面，对本发明的实施例进行详细说明。

图1为显示本发明的光源装置结构的一个例子的说明用剖面图。

所述光源装置10设有作为光源的高压水银放电灯40、容纳所述高压水银放电灯40并反射从所述高压水银放电灯40发出的放射光以通过开口部投射该反射光的凹面反射镜20、和以堵塞所述凹面反射镜20的开口部的方式设置的具有透光性的前面玻璃19，在由凹面反射镜20和前面玻璃镜19形成的空间内容纳高压水银放电灯40，也就是具有所谓密闭结构。

如图1所示，在高压水银放电灯40的管轴呈水平状的状态下使用所述光源装置10。

具体来说，光源装置10具有凹面反射镜20，该凹面反射镜20，在由呈凹状并形成集光空间的集光部201和与所述集光部201的后端(图1的右端)相连并向光轴方向后方延伸的筒状颈部25构成的金属基体21的内表面上，经由玻璃层22形成电介质多层膜层23，在所述凹面反射镜20的开口部，设置通过粘结剂37等固定在金属基体21的前方外缘部24上且由具有透光性的板状耐热玻璃构成的前面玻璃19。

所述高压水银放电灯40的后端(图1的右端)以穿过金属基体21的筒状颈部25并通过粘结剂37等固定的状态固定。另外，省略了向高压水银放电灯的供电配线。

高压水银放电灯40由形成发光空间的大致椭圆形放电容器42、与其两端相连并向管轴方向外方，即向光轴方向前方以及后方延伸的棒状密封管部43A、43B构成。例如，所述放电容器42由石英玻璃制成，在发光空间内部设有彼此相对的阴极44和阳极45。

并且，在放电容器42内，封装有作为点亮起动气体的惰性气体、用于抑制所述放电容器42内壁的黑化的卤素、以及作为发光物质的水银。

在高压水银放电灯40中，放电容器42内的水银封入量最好为0.25mg/mm³以上。

由于通过使水银的封入量达到0.25mg/mm³以上，能够在高压水银灯40中获得高亮度，因此，能够在光源装置10中获得更高的光放射性能。

在上述光源装置10中，作为构成凹面反射镜20中的金属基体21的金属，优选采用导热率(300℃)为233W/k·m的铝，或以铝为主要成分的合金。另外，虽然导热率(300℃)为19W/k·m左右，但从加工容易性来考虑，不锈钢也为适用于本发明的材料。

金属基体21最好在最小壁厚部具有例如2mm以上的厚度。由于金属基体21具有上述范围的厚度，因此，在凹面反射镜20中能够获得高发热性，同时，能够获得足以承受点亮状态下的高压水银放电灯40破损时的冲击的强度。

图2显示了图1所示的光源装置的凹面反射镜的剖面。形成于金属基体21的集光部201上的玻璃层22，是在其表面上形成电介质多层膜层23的支承层，并且能够获得金属基体21和电介质多层膜层23的一体性。另外，在本发明中，虽然在通过热压或喷吹形成玻璃层22时，容易获得适于形成电介质多层膜层23的表面的表面平滑性，但是，在进一步要求非常高的集光效率的情况下，通过研磨玻璃层22能够进一步提高表面平滑性，以此方式，能够获得更高的集光效率。由于本发明的光源装置中的玻璃层22不含颜料，因此，即使研磨，仍能获得良好的平滑面。

玻璃层22的厚度最好为100～1000μm。其原因在于，若不到100μm，则难以获得均匀的膜厚，若超过1000μm，则构成玻璃层22的材料与构成金属基体21的金属的热膨胀率差会导致在所述玻璃层22上产生裂缝。另外，若考虑玻璃的热传导，则玻璃层的厚度为100～500nm更为理想。

形成于玻璃层22表面上的电介质多层膜层23例如由氧化锆(ZrO₂)层与氟化镁(MgF₂)层交替层叠的厚度为0.5～10μm的多层膜构成，并且具有主要使红外线区域以及紫外线区域的光透过且反射可见光的功能。另外，代替氧化锆(ZrO₂)层与氟化镁(MgF₂)层，也可以采用二氧化硅(SiO₂)以及二氧化钛(TiO₂)。

具有所述玻璃层22的凹面反射镜20，例如通过旋压加工、切削加工、压力加工、压铸等方法获得由金属制成的具有希望形状的金属基体。通过压铸获得由铝制成的具有希望形状的金属基体，在所述金属基体的集光部的内表面，通过喷吹法涂布玻璃，通过热压在金属基体的内表面形成厚度为300μm的玻璃层，进而，通过蒸镀法在所得到的玻璃层的玻璃质层的表面上形成氧化锆(ZrO₂)层与氟化镁(MgF₂)层交替层叠的电介质多层膜层，由此制成凹面反射镜。

对玻璃层的形成方法进行说明。首先，在通过热压形成时，如图4(a)～(d)所示，形成玻璃层。

(1)在铝或铝合金的凹面状的金属基体21的内表面上涂布玻璃22A，玻璃22A相对于玻璃母材含有总量为1～30重量％的细微粉碎的镍、钴、钒、铜、锆、钙、锰、钼中的至少1种以上的金属的氧化物。举出一个具体例子而言，其分别含有10重量％的氧化镍(NiO)以及氧化钴(CoO)，共计20重量％。

金属基体21由铝或以铝为主要成分的合金、或者不锈钢中的任意一种材料构成。

希望金属基体21的内表面为坯料状态或为通过喷砂等以主动方式变得粗糙的表面。为了易于玻璃的涂布，在玻璃中加入醋酸丁酯等有机溶剂，利用浸渍或喷射在凹面的金属基体21内表面上进行涂布以形成图4(a)的状态。涂布的厚度例如为400μm。另外，作为玻璃组成的一个例子，例如，可以在SiO₂·H₃BO₃·NHCO₃中加入KNO₃、LiCO₃、BaCO₃等微量成分。有机溶剂除了醋酸丁酯以外，例如，还可以使用硬脂酸。

(2)如图4(b)所示，在由插入模具(矢型)、环形模具(リング型)和基体保持机构构成的热压机中，安装成使涂布了玻璃的反射镜的金属基体21的凹面状的内表面成为向上的状态。环形模具31为用于防止玻璃溢出的装置。对每个金属基体21加热玻璃22A，并达到玻璃的软化点。若玻璃22A的软化点为450℃，则加热温度为500℃，保持时间为5秒。用于转印反射面形状并使玻璃紧贴的插入模具30也另外进行加热以达到与反射镜的金属基体21相同的温度，在达到热平衡时使插入模具下降并对玻璃22A加压。此时，醋酸丁酯等有机溶剂飞散，玻璃22A软化。

(3)如图4(c)所示，进行放置直至下降至玻璃22A的形状达到稳定的低于玻璃软化点的的温度，例如440℃。

(4)如图4(d)所示，从金属基体21的凹面状的内表面取出插入模具30，完成作业。

形成于本发明的光源装置的凹面反射镜上的玻璃层具有吸收红外线的功能，推测其机理如下

在硼硅玻璃中熔入氧化镍(NiO)、氧化钴(CoO)、氧化锰(MnO)等的情况下，这些金属氧化物形成不定比化合物，从而构成一种半导体。不定比化合物是指，其状态等同于例如镍(Ni)和氧(O)的比不为1∶1，而是以Ni略小于O的状态结合，并且形成孔(空穴)的状态。成为电子能够利用所述孔进行移动的状态。在光照射在作为导体的金属上的情况下，由于金属中自由电子的极化，光并不会射入金属中，而是被反射。其原因在于，虽然存在金属固有的颜色，但其依赖于金属各自的极化速度，即频率(光的波长)。在绝缘体中非常慢，而在金属中则非常快。对于半导体(相当于本说明书中的不定比化合物)而言，推测其显示绝缘体和金属两者之间的举动。

在玻璃的吸收特性中，2700nm以上的光几乎不会透过，而是由玻璃吸收。本发明中，在将NiO、CoO、MnO等熔入硼硅玻璃中的情况下，这些金属氧化物具有与含有不定比化合物的半导体相同的特性，其能吸收可见光以及近红外线(400～2700nm)，2700nm以上的光由硼硅玻璃本身吸收。即，将熔有玻璃中的NiO、CoO、MnO等不定比化合物的玻璃贴附金属上时，会出现作为半导体的孔(空穴)，从而将自由电子供给至导体，费米能级升高，形成简并半导体，因此，推测在波长增大的同时，会引起急剧吸收。被吸收的光作为热量流向金属侧，并通过金属基体放出。

下面，对玻璃层的另一种形成方法进行说明。其通过喷吹形成，如图5(a)～(d)所示，形成玻璃层。

(1)如图5(a)所示，由氧化铝压铸等形成反射镜的金属基体21。

金属基体21由铝或以铝为主要成分的合金、或者不锈钢中的任意一种材料构成。

(2)如图5(b)所示，熔化含有镍、钴、钒、铜、锆、钙、锰、钼中至少1种以上的金属的氧化物的玻璃，例如，将1200℃的玻璃熔融块22B安装在图中未示出的喷吹装置上，并使其处于所述喷吹装置中的附属吹入管50的前端，插入凹面状的内表面处于向上状态的金属基体21的内侧。

(3)接着，如图5(c)所示，将空气(air)等吹入吹入管50内，使玻璃熔融块因喷吹而膨胀，使玻璃22紧贴在金属基体21的凹面状的内表面上。31为环形模具，使玻璃22不会吹向金属基体21外。其后，将玻璃22冷却至低于玻璃熔点的温度，例如放置直至440℃。

(4)之后，如图5(d)所示，从喷吹装置取出金属基体，除去不必要的玻璃。

在以上的光源装置10中，由于凹面反射镜20具有由金属制成的金属基体21，因此，该凹面反射镜20能够获得优良的放热性，例如，无需通过通风孔等使冷却风流过，从而能够抑制作为所述光源装置10构成要素的凹面反射镜20以及高压水银放电灯40等过热，所以，不会产生高压水银放电灯40的放电容器31发生失透现象或产生高压水银放电灯40本身破损等弊害，可以将水银的封入量为0.25mg/mm³以上，并且具有高亮度的高压水银放电灯40适合地用作光源。

另外，由于在凹面反射镜20的内表面，电介质多层膜层被玻璃层支承，因此，电介质多层膜层能够获得高的耐久性，同时，由于所述电介质多层膜层形成在因玻璃层而变得平滑的表面上，因此，所述电介质多层膜层能够获得优良的反射性能，并且能够高效从凹面反射镜20的开口部投射由高压水银放电灯40发出的放射光。

所以，根据光源装置10，装置整体能够实现小型化，高压水银放电灯40容纳在由凹面反射镜20以及前面玻璃19形成的密闭状态的空间内，也不会在高压水银放电灯40中产生白浊、黑化等弊害，并且能够放射出具有优良现色性以及高强度的光，因此，能够获得稳定的较高光放射性能。

以上的光源装置10适于作为照亮液晶投影装置中的液晶面板的照明光源。

另外，在光源装置10中，根据其用途，高压水银放电灯40可以是直流型、交流型中的任意一种。

另外，光源装置10不应局限于以使其管轴与凹面反射镜20的光轴相一致的方式安装高压水银放电灯40的配置方法，可以采用适当的设计。

另外，在采用铝或以铝为主要成分的合金情况下，也可以在凹面的金属基体外表面侧一体形成散热片。

凹面反射镜内表面的最上层由反射可见光且紫外线、红外线可透过的电介质多层膜层构成。例如，由氧化锆(ZrO₂)层以及氟化镁(MgF₂)层交替层叠的整体厚度为0.5～2μm的电介质多层膜层构成，且具有主要使红外线区域以及紫外线区域的光透过，并反射可见光的功能。各层的厚度例如为100～200nm，并且例如形成30层。

从测量所述最上层的表面的平滑度来看，算术平均粗糙度(Ra)在200nm以下。其中，作为通过热压或喷吹形成的基层的玻璃层具有所述较高的平滑度，能够使灯的光按反射镜的设计值向反射镜的前方反射。

Claims (7)

1.一种光源装置，由高压放电灯以及包围该高压放电灯的凹面反射镜构成，其特征在于，

所述凹面反射镜由金属基体、硼硅玻璃构成的玻璃层和设置在该玻璃层上的电介质多层膜层构成，其中，所述金属基体由铝或以铝为主要成分的合金、或者不锈钢中的任意一种材料构成，所述硼硅玻璃构成的玻璃层形成于该金属基体内表面上并且含有镍、钴、钒、铜、锆、钙、锰、钼中的1种以上的金属的氧化物。

2.根据权利要求1所述的光源装置，其特征在于，所述玻璃层中含有的所述金属的氧化物的总量相对于玻璃母材为1～30重量％。

3.根据权利要求1或2中任意一项所述的光源装置，其特征在于，所述玻璃层，在凹面状金属基体的内表面上设置所述玻璃层的材料，之后通过热压而形成。

4.根据权利要求1或2中任意一项所述的光源装置，其特征在于，所述玻璃层，通过在凹面状金属基体的内表面上喷吹熔融的玻璃材料的喷吹而形成。

5.根据权利要求1或2所述的光源装置，其特征在于，所述电介质多层膜由氧化锆与氟化镁交替层叠而成。

6.一种光源装置的制造方法，是由高压放电灯以及包围该高压放电灯的凹面反射镜构成的光源装置的制造方法，其特征在于，所述凹面反射镜包括金属基体，所述金属基体由铝或以铝为主要成分的合金、或者不锈钢中的任意一种材料构成，所述凹面反射镜通过以下的工序制成：

在所述金属基体的凹面状的内表面上涂布硼硅玻璃的工序，其中，所述硼硅玻璃含有镍、钴、钒、铜、锆、钙、锰、钼中的1种以上的金属的氧化物；

在使所述金属基体的凹面状的内表面向上的状态下，将该金属基体加热至所述硼硅玻璃的软化点以上的工序；

在所述金属基体的凹面状的内表面上，插入加热的插入模具而对软化的所述硼硅玻璃加压的工序；

在将所述插入模具插入所述金属基体的凹面状的内表面的状态下，进行放置直至低于所述硼硅玻璃的软化点的温度的工序；和

将所述插入模具从所述金属基体的凹面状的内表面取出的工序。

7.一种光源装置的制造方法，是由高压放电灯以及包围该高压放电灯的凹面反射镜构成的光源装置的制造方法，其特征在于，所述凹面反射镜包括金属基体，所述金属基体由铝或以铝为主要成分的合金、或者不锈钢中的任意一种材料构成，所述凹面反射镜通过以下的工序制成：

使所述金属基体的凹面状的内表面成为向上状态的工序；

将含有镍、钴、钒、铜、锆、钙、锰、钼中1种以上的金属的氧化物的硼硅玻璃构成的玻璃熔融块插入所述金属基体的凹面状的内表面的内侧的工序；

通过喷吹使所述玻璃熔融块膨胀，使玻璃紧贴在所述金属基体的凹面状的内表面上的工序；和

对紧贴在所述金属基体的凹面状的内表面上的所述硼硅玻璃进行放置直至低于玻璃的熔点的温度的工序。

Images