JP4277706B2 - ガラス基板加熱装置 - Google Patents
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Description
ガラスの吸収は3.5μmあたりから増加し、4.5μm以上で顕著になる。また、グラファイトは、例えばガラスの加熱に利用できない波長域、すなわち凡そ4μm以下での放射率も0.75以上であるため、無駄な放射をするので、効率がよくない。したがって、ガラスの吸収とグラファイトの放射率とのマッチングも必ずしも優れていない。
該二次放射熱源としてガラス板の内部に該ガラス内を透過した光を多重反射する金属粒子を分散させた層を形成した遠赤外放射ガラス板としたことを特徴とするガラス基板加熱装置とするものである。
次に具体的実験例を示す。二次放射熱源用の石英ガラス板の片側面に平均粒径約1μmのMo粒子を分散させ分散層を石英ガラス板上に偏在して形成した。
分光透過率を粒子層から取り出して作製した例えば厚さ0.17mmの、粒子がほぼ一様に分散している板の透過率について図3に示す。
これから分かるように透過率は約1.6%以下であった。透明なクリヤタイプの発光管を有するハロゲンランプを使う場合、それからの放射のピークは、その波長がおよそ1.3μmに来るものがあるが、図4において、この波長における透過率は1%である。この波長において石英ガラス板の表面での反射率は3乃至4%であり、かつ石英ガラスによる吸収はほとんど無視できる。すなわち、金属粒子が存在しなければ92%乃至94%の透過率が期待される。したがって、透過率が1.6%となるのは、主として、分散する金属粒子群の寄与によるものであることが分かる。すなわち、光吸収が効果的に行われることが分かる。また、この金属粒子が分散してなる板は、目視ではほぼ黒色に近い色調をしており、このことからも、透過率の減少は、主として吸収によることが理解される。
2 二次放射熱源
10 ガラス基板加熱装置
20 石英ガラス
21 金属粒子分散層
30 被加熱ガラス基板
Claims (3)
- ガラス基板を加熱するガラス基板加熱装置において、
該ガラス基板加熱装置は、一次放射熱源と、該一次放射熱源からの可視光線ないし赤外線を吸収して赤外線を放射する二次放射熱源とを組合せてなり、
該一次放射熱源としてハロゲンランプ、ハロゲンヒーター、キセノンランプのいずれかを用い、
該二次放射熱源としてガラス板の内部に該ガラス内を透過した光を多重反射する金属粒子を分散させた層を形成した遠赤外放射ガラス板としたことを特徴とするガラス基板加熱装置。 - 前記遠赤外放射ガラス板は、前記金属粒子を前記ガラス基板に近い面近傍に偏在させたことを特徴とする請求項1に記載のガラス基板加熱装置。
- 前記金属粒子の材料として、Mo、W、Nb、Ta、Zr、Re、Rh、Re,Rhのいずれかを用いたことを特徴とする請求項1または請求項2の何れかに記載のガラス基板加熱装置。
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