CN100511626C - 基板处理装置及基板处理方法 - Google Patents

Abstract

本发明防止处理液的蒸气和雾气从处理室内向处理室外泄漏。在容器(2)的内部形成处理室。容器(2)由非磁性材料构成。喷雾器(3)在处理室内，将处理液向基板(1)的表面进行喷涂。在处理室内，以设定的间隔设置有多数个旋转轴(11)。在旋转轴(11)上安装有多数个滚子(10)，且在一端安装有磁石(13)。在处理室外设置有电动机，且在电动机上连结有旋转轴(21)。在旋转轴(21)上，在隔着容器(2)而与各磁石(13)对向的位置上，安装有多数个磁石(23)。当利用电动机的驱动而使磁石(23)进行旋转时，磁石(13)进行旋转，并使电动机的驱动力通过处理室的内外的空间，向旋转轴(11)上所安装的滚子(10)非接触地进行传达。

Description

基板处理装置及基板处理方法

技术领域

本发明是关于一种利用显影液、刻蚀液、剥离液、清洗液等处理液，进行显影、刻蚀、剥离、清洗等基板的处理的基板处理装置及基板处理方法，特别是关于一种在处理室内使基板进行移动并进行基板的处理的基板处理装置及基板处理方法。

背景技术

在液晶显示装置等平板显示装置(flat panel display)和半导体装置的制造工程中，有利用显影液、刻蚀液、剥离液、清洗液等处理液，在面板基板和半导体晶圆等的基板上，进行显影、刻蚀、剥离、清洗等处理的工程。通常，进行这些处理的工程被称作湿法加工(wet process)。

近年来，在湿法加工中，多是在处理室内，利用滚动传送带(rollerconveyer)等基板运送装置将基板进行移动，并进行基板的处理。作为湿法加工中所利用的基板运送装置，有例如专利文献1、专利文献2及专利文献3所记述的装置。

[专利文献1]日本专利早期公开的特开平8-244946号公报

[专利文献2]日本专利早期公开的特开平10-275845号公报

[专利文献3]日本专利早期公开的特开平11-130249号公报

通常，在利用湿法加工将基板进行移动并进行基板的处理的情况下，处理液向基板的供给，是藉由利用喷雾器(spray)将处理液向基板的表面进行喷涂而进行。此时，在处理室内产生处理液的蒸气和雾气。因此，基板运送装置的驱动源为了不因处理液的蒸气和雾气而受到损伤，被设置在处理室外。

在习知的基板处理装置中，是在处理室的壁上设置贯通孔，并将在处理室内所设置的滚动传送带等的轴通过贯通孔而延伸到处理室外，利用皮带(belt)和皮带轮(pulley)或链条(chain)和链轮(sprocket)这样的传动机构，将驱动源的驱动力向滚动传送带等的轴进行传达。因此，存在处理液的蒸气和雾气从处理室内通过处理室的壁上所设置的贯通孔向处理室外泄漏，而使处理室周围的环境受到污染的问题。在专利文献1及专利文献2中，是在贯通孔中设置密封机构而抑制处理液的蒸气和雾气的泄漏，但因轴的旋转而使密封机构容易产生摩耗，无法完全地防止处理液的蒸气和雾气的泄漏。

发明内容

本发明的课题是防止处理液的蒸气和雾气从处理室内向处理室外泄漏。

本发明的基板处理装置为一种包括基板的处理室、在处理室内使基板移动的基板移动装置、在处理室内将处理液向利用基板移动装置被移动的基板进行供给的处理液供给装置的基板处理装置，其特征在于：基板移动装置具有设置在处理室内用于搭载基板的基板搭载机构、在处理室外所设置的驱动源、及将驱动源的驱动力通过处理室的内外空间，向基板搭载机构在非接触状态下进行传达的驱动力传达机构。

而且，本发明的基板处理方法为一种在处理室内，将基板进行移动并将处理液向基板进行供给而进行基板的处理的基板处理方法，其特征在于：将处理室外所设置的驱动源的驱动力，通过处理室的内外的空间，向处理室内所设置的基板搭载机构非接触地进行传达，而使基板搭载机构上所搭载的基板进行移动。

因为将在处理室外所设置的驱动源的驱动力，通过处理室的内外的空间，向处理室内所设置的基板搭载机构非接触地进行传达，所以没有必要在处理室的壁上设置贯通孔，不用担心处理液的蒸气和雾气从处理室内向处理室外泄漏。

另外，本发明的基板处理装置其处理室的壁由非磁性材料构成，基板搭载机构含有滚子，驱动源含有电动机，驱动力传动机构含有被安装在电动机的轴上的第1磁石、被安装在滚子的轴上且依据第1磁石的旋转而进行旋转的第2磁石。

而且，本发明的基板处理方法是以非磁性材料构成处理室的壁，并在处理室内设置滚子，在处理室外设置电动机，且从电动机的轴上所安装的第1磁石，向滚子的轴上所安装的第2磁石传达旋转力，将滚子上所搭载的基板进行移动。

利用安装在电动机的轴上的第1磁石、安装在滚子的轴上的第2磁石这种简单的构成，使电动机的驱动力通过处理室的内外的空间，向滚子非接触地进行传达。为了使第1磁石及第2磁石的磁力通过处理室的内外的空间相互传达，而使处理室的壁部由非磁性材料例如聚氯乙烯树脂等塑料材料构成。

如利用本发明，藉由将处理室外所设置的驱动源的驱动力，通过处理室的内外的空间，向处理室内所设置的基板搭载机构非接触地进行传达，从而没有必要在处理室的壁上设置贯通孔，能够防止处理液的蒸气和雾气从处理室内向处理室外泄漏。

另外，如利用本发明，可藉由在电动机的轴上所安装的第1磁石，和在滚子的轴上所安装的第2磁石这种简单的构成，将电动机的驱动力向滚子非接触地进行传达。

附图说明

图1所示为本发明的一实施形态的基板处理装置的概略构成图。

图2为图1的A-A部的部分断面侧面图。

图3所示为基板移动机构的配置示意图。

图4(a)所示为磁石的磁化状态的示意图，图4(b)所示为磁石的旋转的说明图。

图5所示为本发明的另一实施形态的基板处理装置的概略构成图。

图6所示为磁石的磁化状态的示意图。

1：基板                   2：容器

3：喷雾器                 10、30：滚子

11、21、31、41：旋转轴    12、22、32、42：轴承

13、23、33、43：磁石      20、40：电动机

24、25、44、45：基底

具体实施方式

图1所示为本发明的一实施形态的基板处理装置的概略构成图。而且，图2为图1的A-A部的部分断面侧面图。基板处理装置的构成包括处理室、处理液供给机构及基板移动机构。

在图1中，于容器2(chamber)的内部，形成有向图面进深方向伸展的处理室。容器2由非磁性材料例如聚氯乙烯树脂(polyvinyl chlorideresin)等塑料(plastic)材料构成。在处理室内，由喷雾器3所构成的处理液供给机构，设置有1个或沿图面进深方向设置有多数个。在喷雾器3上设置有多数个喷嘴。喷雾器3从喷嘴，将显影液、刻蚀液、剥离液、清洗液等处理液，向利用后述的基板移动机构而被移动的基板1的表面进行喷涂。利用从喷雾器3所喷涂的处理液，对基板1进行显影、刻蚀、剥离、清洗等基板的处理。此时，在处理室内产生处理液的蒸气和雾气。从基板1的表面所流出的处理液，由处理室的下方所设置的回收通路而被回收。

基板移动机构的构成包括滚子10(roller)、旋转轴11(shaft)、轴承12(bearing)、磁石13、电动机20、旋转轴21、轴承22及磁石23。在图1中的处理室内，沿图面进深方向以设定的间隔设置有多数个旋转轴11。利用轴承12而可旋转地支持旋转轴11。轴承12被固定在容器2上。在旋转轴11上安装有多数个滚子10。而且，在旋转轴11的一端安装有磁石13。磁石13其外形为圆柱形，并使圆柱的侧面与容器2邻接而配置

在图2中，于处理室外设置有电动机20，并在电动机20上连结旋转轴21。利用轴承22而可旋转地支持旋转轴21。电动机20是固定在基底24上，轴承22是固定在基底25上。在旋转轴21上，多数个磁石23被安装在隔着容器2与各磁石13对向的位置上。磁石23其外形为圆柱形，并以圆柱的侧面与容器2接近的形态进行配置。

图3所示为基板移动机构的配置示意图。本图所示为省略图1的基板1、容器2及喷雾器3，而从上方观察基板移动机构的状态。当从上方观察基板移动机构时，各旋转轴11和旋转轴21彼此垂直配置。因此，在各旋转轴11上所安装的各磁石13的轴，与在旋转轴21上所安装的磁石23的轴，间隔未图示的容器2而偏离90°。

图4(a)所示为磁石的磁化状态的示意图，图4(b)所示为磁石的旋转的说明图。如图4(a)所示，磁石13以在圆柱的侧面使N极和S极倾斜45°交互排列的形态而被磁化。磁石23也是同样的。磁石13和磁石23隔着未图示的容器2接近配置，且彼此的磁力通过两者的空间相互传播。因此，使磁石13的N极和磁石23的S极彼此吸引而对向，磁石13的S极和磁石23的N极彼此吸引而对向。

磁石23利用电动机20的驱动，而如图4(b)那样，围绕旋转轴21沿箭形符号C所示的方向进行旋转。此时，磁石13的N极被磁石23的S极所吸引而对向，磁石13的S极被磁石23的N极所吸引而对向，所以磁石13围绕旋转轴11沿箭形符号B所示的方向进行旋转。藉此，使电动机20的驱动力通过处理室的内外的空间，向旋转轴11上所安装的滚子10非接触地进行传达。因此，没有必要象习知技术那样，在容器2上设置通过旋转轴11的贯通孔。

如图1所示，在滚子10上搭载有基板1。滚子10利用从电动机20所传达的驱动力，以设定的速度进行旋转，并将基板1向图1的图面进深方向(图2的箭形符号所示的方向)以设定的速度进行移动。

如利用本实施形态，可在处理室的下方的空间中设置基板移动机构的驱动源，所以在处理室的旁边不需要用来设置基板移动机构的驱动源的空间，可减小基板处理装置的设置面积。

而且，如利用本实施形态，由于将电动机20的驱动力向多数个旋转轴11上所安装的滚子10进行传达，所以可利用1个电动机20驱动多数个旋转轴11上所安装的滚子10。

图5所示为本发明的另一实施形态的基板处理装置的概略构成图。本实施形态的基板移动机构的构成包括滚子30、旋转轴31、轴承32、磁石33、电动机40、旋转轴41、轴承42及磁石43。

在处理室内，沿图面进深方向以设定的间隔设置有多数个旋转轴31利用轴承32而可旋转地支持旋转轴31。轴承32是固定在容器2上。在旋转轴31上安装有多数个滚子30。而且，在旋转轴31的一端安装有磁石33。磁石33为圆板状，并以圆板的表面与容器2的侧壁接近的形态进行配置。

在处理室外，沿图面进深方向设置有多数个旋转轴41。各旋转轴41与旋转轴31同轴配置，且利用轴承42而可旋转地被支持。在各旋转轴41上连结有电动机40。电动机40是固定在基底44上，轴承42是固定在基底45上。在各旋转轴41上，在隔着容器2的侧壁与磁石33对向的位置上，安装有磁石43。磁石43为圆板状，并以圆板的表面与容器2的侧壁接近的形态进行配置。

图6所示为磁石的磁化状态的示意图。图6(a)表示关于磁石33的，图6(b)表示关于磁石43的，分别彼此对向的表面的磁化状态。如图6(a)、(b)所示，磁石33及磁石43的表面，以N极和S极将轴作为中心交互排列的形态被磁化。另外，在图6中，N极和S极被二分割，但也可如四分割、六分割等那样，将轴作为中心更加细致地进行分割。

磁石33和磁石43隔着未图示的容器2的侧壁而接近配置，使彼此的磁力通过两者间的空间相互传达。因此，磁石33的N极和磁石43的S极相互吸引而对向，磁石33的S极和磁石43的N极相互吸引而对向。

磁石43利用电动机40的驱动，围绕旋转轴41进行旋转。此时，磁石33的N极被磁石43的S极所吸引而对向，磁石33的S极为磁石43的N极所吸引而对向，所以磁石33围绕旋转轴31进行旋转。藉此，使电动机40的驱动力通过处理室的内外的空间，向旋转轴31上所安装的滚子30而非接触地进行传达。因此，没有必要象习知技术那样，在容器2的侧壁上设置旋转轴31通过的贯通孔。

如图5所示，在滚子30上，搭载有基板1。滚子30利用从电动机40所传达的驱动力，以设定的速度进行旋转，并将基板1向图5的图面进深方向以设定的速度进行移动。

如利用本实施形态，即使在处理室的下方没有用于设置基板移动机构的驱动源等的空间，也可在处理室的旁边设置基板移动机构的驱动源等。

而且，藉由在各旋转轴41上将电动机40分别进行连结，可在每旋转轴31独立地控制滚子30的旋转速度。但是，也可取代在各旋转轴41上分别连结电动机40，而利用皮带、皮带轮或链条和链轮等，将1个电动机40的驱动力向多数个旋转轴41进行传达。

如利用以上所说明的实施形态，可将在处理室外所设置的电动机20或电动机40的驱动力，通过处理室的内外的空间，向处理室内所设置的滚子10或滚子30非接触地进行传达，从而没有必要在容器2内设置贯通孔，可防止处理液的蒸气和雾气从处理室内泄漏到处理室外。

另外，如利用以上所说明的实施形态，可由磁石23和磁石13或磁石43和磁石33这种简单的构成，将电动机20或电动机40的驱动力向滚子10或滚子30非接触地进行传达。

但是，本发明的驱动力传达机构并不限定于磁石，只要为通过处理室的内外的空间，将驱动力非接触地进行传达的即可。而且，本发明的基板搭载机构并不限于滚子，也可为如皮带和链条等那样进行移动的基板搭载机构。另外，本发明的驱动源并不限定于电动机，也可为发动机和汽缸等。

Claims (4)

1.一种基板处理装置，为一种包括：

基板的处理室、

在前述处理室内使基板移动的基板移动装置、

在前述处理室内将处理液向利用前述基板移动装置而被移动的基板进行供给的处理液供给装置的基板处理装置；

其特征在于：

前述处理室的壁由非磁性材料构成，

前述基板移动装置具有：

设置在前述处理室内用于搭载基板的滚子基板搭载机构、

在前述处理室外所设置的驱动源、及

将前述驱动源的驱动力通过前述处理室的内外的空间，向前述滚子基板搭载机构在非接触状态下进行传达的第1磁石与第2磁石驱动力传达机构，其中前述第1磁石被安装在前述驱动源的轴上，前述第2磁石被安装在前述滚子的轴上且依据前述第1磁石的旋转而进行旋转，

前述驱动源的轴与前述滚子的轴彼此垂直配置，且

前述第1磁石与前述第2磁石的N极和S极倾斜45°交互排列。

2.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于：

前述处理室的壁由非磁性材料构成，

前述基板搭载机构含有滚子，

前述驱动源含有电动机，

前述驱动力传动机构含有被安装在前述电动机的轴上的第1磁石、及被安装在前述滚子的轴上且依据前述第1磁石的旋转而进行旋转的第2磁石。

3.一种基板处理方法，为一种在处理室内，将基板进行移动并将处理液向基板进行供给而进行基板的处理的基板处理方法，

其特征在于：

由非磁性材料构成处理室的壁，

在处理室内设置滚子，

在处理室外设置驱动源，

将前述驱动源的轴与前述滚子的轴垂直配置，

将处理室外所设置的前述驱动源的驱动力，通过处理室的内外的空间，从前述驱动源的轴上所安装的第1磁石，向前述滚子的轴上所安装的第2磁石传达旋转力，向处理室内所设置的基板搭载机构非接触地进行传达，而使滚子基板搭载机构上所搭载的基板进行移动，其中前述第1磁石与前述第2磁石的N极和S极倾斜45°交互排列。

4.如权利要求3所述的基板处理方法，其特征在于：

由非磁性材料构成处理室的壁，

在处理室内设置滚子，

在处理室外设置电动机，及

从电动机的轴上所安装的第1磁石，向滚子的轴上所安装的第2磁石传达旋转力，将滚子上所搭载的基板进行移动。

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