CN100427647C - 稀散金属氯化铟/氯化1-甲基-3-乙基咪唑体系电镀液 - Google Patents

稀散金属氯化铟/氯化1-甲基-3-乙基咪唑体系电镀液 Download PDF

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Abstract

稀散金属氯化铟/氯化1-甲基-3-乙基咪唑体系电镀液(g·kg-1)，由以下组成：金属铟(In)：60～120，无水氯化铟InCl3：340～540，氯化1-甲基-3-乙基咪唑(EMIC)：150～350，糊精：60～80，氰化钾(KCN)：40～60，氯化钠(NaCl)：30～50。利用稀散金属室温离子液体研制的镀铟溶液，具有一些独特的性能，如较低的熔点、可调节的Lewis酸度、良好的导电性、可以忽略的蒸汽压、较宽的使用温度及特殊的溶解性等。此镀铟溶液不存在水化、水解、析氢等问题，具有不腐蚀、污染小等绿色溶剂应具备的性质。用此电镀液电镀铟，精铟质量大幅度提高，铟的纯度达到99.999%。

Description

稀散金属氯化铟/氯化1-甲基-3-乙基咪唑体系电镀液
技术领域：
本发明涉及一种电镀液，尤其是一种稀散金属氯化铟/氯化1-甲基-3-乙基咪唑体系电镀液。
背景技术：
铟是一种稀散金属，在地壳中的丰度很低，大约为0.1μg·g-1。从铟的用途看，主要集中在半导体、透明导电涂层(ITO)、电子器件、有机金属化合物等方面，而这些材料的生产和加工均离不开高纯金属铟；如电子器件、有机金属化合物中要求产品杂质含量不超过10μg·g-1，铟作为IIIA族化合物半导体材料，在成品元件中大约1019个IIIA族化合物原子中出现一个异质原子，这就要求纯铟材料中的杂质含量要小于0.01μg·g-1。这些材料需要高纯度的铟作为原料，一般要求铟的纯度达99.999％，甚至要求达99.9999％以上。而我国目前生产的精铟还只是99.99％。因此，高纯金属铟的研制和开发是一个急需解决的问题。高纯铟的生产，在国内主要是用电解精炼法进行生产。镀铟溶液有氰化物型、硫酸盐型、氟硼酸型、氨磺酸型等，在电解中可能出现析氢效应、水解效应和乳化现象等，因此，须严格控制电解液的成分及电解条件。
发明内容：
针对上述现有技术的不足，本发明提供了一种稀散金属InCl3/EMIC体系电镀液，铟纯度可达到99.999％。以下将氯化铟/氯化1-甲基-3-乙基咪唑简写为InCl3/EMIC。
为实现上述目的，本发明采用的技术方案是：每1Kg稀散金属InCl3/EMIC体系电镀液由以下以g计物质组成：
金属铟(In)：60～120
无水氯化铟InCl3：340～540
氯化1-甲基-3-乙基咪唑(EMIC)：150～350
糊精：60～80
氰化钾(KCN)：40～60
氯化钠(NaCl)：30～50
利用稀散金属室温离子液体研制的镀铟溶液，具有一些独特的性能，如较低的熔点、可调节的Lewis酸度、良好的导电性、可以忽略的蒸汽压、较宽的使用温度及特殊的溶解性等。此镀铟溶液不存在水化、水解、析氢等问题，具有不腐蚀、污染小等绿色溶剂应具备的性质。
用此电镀液电镀铟，精铟质量大幅度提高，铟的纯度达到99-999％。
具体实施方式：
使用原料：高纯无水氯化铟(InCl3)(柳州铟泰科技公司，纯度99.99％)，保存在有P2O5的干燥器中，使用前未进一步提纯。氯化1-甲基-3-乙基咪唑(EMIC)(Aldrich公司，纯度98％)，使用前未进一步提纯。铟(In)(纯度99.99％)。糊精，氰化钾(KCN)，氯化钠(NaCl)。
实施例1：
金属铟(In)：90克
无水氯化铟InCl3：500克
氯化1-甲基-3-乙基咪唑(EMIC)：280克
糊精：60克
氰化钾(KCN)：40克
氯化钠(NaCl)：30克
取上述组分，混合成1000克的稀散金属氯化铟/氯化1-甲基-3-乙基咪唑体系电镀液。
实施例2：
金属铟(In)：60克
无水氯化铟InCl3：530克
氯化1-甲基-3-乙基咪唑(EMIC)：260克
糊精：70克
氰化钾(KCN)：50克
氯化钠(NaCl)：30克
取上述组分，混合成1000克的稀散金属氯化铟/氯化1-甲基-3-乙基咪唑体系电镀液。
实施例3：
金属铟(In)：100克
无水氯化铟InCl3：400克
氯化1-甲基-3-乙基咪唑(EMIC)：330克
糊精：80克
氰化钾(KCN)：50克
氯化钠(NaCl)：40克
取上述组分，混合成1000克的稀散金属氯化铟/氯化1-甲基-3-乙基咪唑体系电镀液。
实施例4：
金属铟(In)：115克
无水氯化铟InCl3：385克
氯化1-甲基-3-乙基咪唑(EMIC)：340克
糊精：70克
氰化钾(KCN)：55克
氯化钠(NaCl)：35克
取上述组分，混合成1000克的稀散金属氯化铟/氯化1-甲基-3-乙基咪唑体系电镀液。
实施例5：
金属铟(In)：120克
无水氯化铟InCl3：380克
氯化1-甲基-3-乙基咪唑(EMIC)：345克
糊精：65克
氰化钾(KCN)：45克
氯化钠(NaCl)：45克
取上述组分，混合成1000克的稀散金属氯化铟/氯化1-甲基-3-乙基咪唑体系电镀液。
实施例6：
金属铟(In)：120克
无水氯化铟InCl3：340克
氯化1-甲基-3-乙基咪唑(EMIC)：350克
糊精：80克
氰化钾(KCN)：60克
氯化钠(NaCl)：50克
取上述组分，混合成1000克的稀散金属氯化铟/氯化1-甲基-3-乙基咪唑体系电镀液。
实施例7：
金属铟(In)：70克
无水氯化铟InCl3：540克
氯化1-甲基-3-乙基咪唑(EMIC)：240克
糊精：75克
氰化钾(KCN)：40克
氯化钠(NaCl)：35克
取上述组分，混合成1000克的稀散金属氯化铟/氯化1-甲基-3-乙基咪唑体系电镀液。
实施例8：
金属铟(In)：120克
无水氯化铟InCl3：540克
氯化1-甲基-3-乙基咪唑(EMIC)：150克
糊精：80克
氰化钾(KCN)：60克
氯化钠(NaCl)：50克
取上述组分，混合成1000克的稀散金属氯化铟/氯化1-甲基-3-乙基咪唑体系电镀液。
实施例9：
金属铟(In)：80克
无水氯化铟InCl3：520克
氯化1-甲基-3-乙基咪唑(EMIC)：250克
糊精：70克
氰化钾(KCN)：45克
氯化钠(NaCl)：35克
取上述组分，混合成1000克的稀散金属氯化铟/氯化1-甲基-3-乙基咪唑体系电镀液。
实施例10：
金属铟(In)：115克
无水氯化铟InCl3：525克
氯化1-甲基-3-乙基咪唑(EMIC)：180克
糊精：80克
氰化钾(KCN)：55克
氯化钠(NaCl)：45克
取上述组分，混合成1000克的稀散金属氯化铟/氯化1-甲基-3-乙基咪唑体系电镀液。
实施例11：
金属铟(In)：110克
无水氯化铟InCl3：510克
氯化1-甲基-3-乙基咪唑(EMIC)：200克
糊精：75克
氰化钾(KCN)：60克
氯化钠(NaCl)：45克
取上述组分，混合成1000克的稀散金属氯化铟/氯化1-甲基-3-乙基咪唑体系电镀液。
用本发明电镀时，要求溶液pH：2.0～2.5，溶液温度(℃)：40～60，电流密度(A/dm2)：2.0～8.0。

Claims (10)

1、稀散金属氯化铟/氯化1-甲基-3-乙基咪唑体系电镀液，其特征在于：每1Kg稀散金属InCl3/EMIC体系电镀液由以下以g计物质组成：
金属铟(In)：60～120
无水氯化铟InCl3：340～540
氯化1-甲基-3-乙基咪唑(EMIC)：150～350
糊精：60～80
氰化钾(KCN)：40～60
氯化钠(NaCl)：30～50。
2、如权利要求1所述的稀散金属氯化铟/氯化1-甲基-3-乙基咪唑体系电镀液，其特征在于：每1Kg稀散金属InCl3/EMIC体系电镀液由以下以g计物质组成：
金属铟(In)：90克
无水氯化铟InCl3：500克
氯化1-甲基-3-乙基咪唑(EMIC)：280克
糊精：60克
氰化钾(KCN)：40克
氯化钠(NaCl)：30克。
3、如权利要求1所述的稀散金属氯化铟/氯化1-甲基-3-乙基咪唑体系电镀液，其特征在于：每1Kg稀散金属InCl3/EMIC体系电镀液由以下以g计物质组成：
金属铟(In)：100克
无水氯化铟InCl3：400克
氯化1-甲基-3-乙基咪唑(EMIC)：330克
糊精：80克
氰化钾(KCN)：50克
氯化钠(NaCl)：40克。
4、如权利要求1所述的稀散金属氯化铟/氯化1-甲基-3-乙基咪唑体系电镀液，其特征在于：每1Kg稀散金属InCl3/EMIC体系电镀液由以下以g计物质组成：
金属铟(In)：115克
无水氯化铟InCl3：385克
氯化1-甲基-3-乙基咪唑(EMIC)：340克
糊精：70克
氰化钾(KCN)：55克
氯化钠(NaCl)：35克。
5、如权利要求1所述的稀散金属氯化铟/氯化1-甲基-3-乙基咪唑体系电镀液，其特征在于：每1Kg稀散金属InCl3/EMIC体系电镀液由以下以g计物质组成：
金属铟(In)：120克
无水氯化铟InCl3：380克
氯化1-甲基-3-乙基咪唑(EMIC)：345克
糊精：65克
氰化钾(KCN)：45克
氯化钠(NaCl)：45克。
6、如权利要求1所述的稀散金属氯化铟/氯化1-甲基-3-乙基咪唑体系电镀液，其特征在于：每1Kg稀散金属InCl3/EMIC体系电镀液由以下以g计物质组成：
金属铟(In)：120克
无水氯化铟InCl3：340克
氯化1-甲基-3-乙基咪唑(EMIC)：350克
糊精：80克
氰化钾(KCN)：60克
氯化钠(NaCl)：50克。
7、如权利要求1所述的稀散金属氯化铟/氯化1-甲基-3-乙基咪唑体系电镀液，其特征在于：每1Kg稀散金属InCl3/EMIC体系电镀液由以下以g计物质组成：
金属铟(In)：70克
无水氯化铟InCl3：540克
氯化1-甲基-3-乙基咪唑(EMIC)：240克
糊精：75克
氰化钾(KCN)：40克
氯化钠(NaCl)：35克。
8、如权利要求1所述的稀散金属氯化铟/氯化1-甲基-3-乙基咪唑体系电镀液，其特征在于：每1Kg稀散金属InCl3/EMIC体系电镀液由以下以g计物质组成：
金属铟(In)：120克
无水氯化铟InCl3：540克
氯化1-甲基-3-乙基咪唑(EMIC)：150克
糊精：80克
氰化钾(KCN)：60克
氯化钠(NaCl)：50克。
9、如权利要求1所述的稀散金属氯化铟/氯化1-甲基-3-乙基咪唑体系电镀液，其特征在于：每1Kg稀散金属InCl3/EMIC体系电镀液由以下以g计物质组成：
金属铟(In)：80克
无水氯化铟InCl3：520克
氯化1-甲基-3-乙基咪唑(EMIC)：250克
糊精：70克
氰化钾(KCN)：45克
氯化钠(NaCl)：35克。
10、如权利要求1所述的稀散金属氯化铟/氯化1-甲基-3-乙基咪唑体系电镀液，其特征在于：每1Kg稀散金属InCl3/EMIC体系电镀液由以下以g计物质组成：金属铟(In)：115克
无水氯化铟InCl3：525克
氯化1-甲基-3-乙基咪唑(EMIC)：180克
糊精：80克
氰化钾(KCN)：55克
氯化钠(NaCl)：45克。
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