CN101988210B - 离子液体氯化铟/氯化正丁基吡啶体系电镀液 - Google Patents

离子液体氯化铟/氯化正丁基吡啶体系电镀液 Download PDF

Info

Publication number
CN101988210B
CN101988210B CN 201010572600 CN201010572600A CN101988210B CN 101988210 B CN101988210 B CN 101988210B CN 201010572600 CN201010572600 CN 201010572600 CN 201010572600 A CN201010572600 A CN 201010572600A CN 101988210 B CN101988210 B CN 101988210B
Authority
CN
China
Prior art keywords
chloride
ionic liquid
indium
electroplating solution
butyl pyridine
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
CN 201010572600
Other languages
English (en)
Other versions
CN101988210A (zh
Inventor
田鹏
张辉
张长生
史振彦
张苗壹
魏来
杨子千
张晓楠
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shenyang Normal University
Original Assignee
Shenyang Normal University
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shenyang Normal University filed Critical Shenyang Normal University
Priority to CN 201010572600 priority Critical patent/CN101988210B/zh
Publication of CN101988210A publication Critical patent/CN101988210A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN101988210B publication Critical patent/CN101988210B/zh
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Abstract

离子液体氯化铟/氯化正丁基吡啶体系电镀液(g·kg-1)，由以下组成：无水氯化铟InCl3：410～580，氯化正丁基吡啶(BPC)：310～480，金属铟(In)：20～40，乙二醇：40～80，明胶：1～3，氯化钠(NaCl)：10～30。大多数能在水溶液中电沉积得到的金属，同样也能在离子液体中电沉积获得。离子液体的特性使其具备如下优势：一是由于其电化学窗口较宽，电沉积过程中副反应较少，因此得到的金属质量更高；二是离子液体的操作温度范围相对较宽，有利于研究电沉积工艺的影响。制备稀散金属离子液体氯化铟/氯化正丁基吡啶体系电镀液，以及研究稀散金属及其合金在离子液体中的电沉积为化学和化学工业的可持续发展提供了新的发展方向。

Description

离子液体氯化铟/氯化正丁基吡啶体系电镀液
技术领域：本发明涉及一种电镀液，是一种离子液体氯化铟/氯化正丁基吡啶体系电镀液。
背景技术：大多数能在水溶液中电沉积得到的金属，同样也能在离子液体中电沉积获得。离子液体的特性使其具备如下优势：一是由于其电化学窗口较宽，电沉积过程中副反应较少，因此得到的金属质量更高；二是离子液体的操作温度范围相对较宽，有利于研究电沉积工艺的影响。制备含稀散金属离子液体的电镀液，以及研究稀散金属及其合金在离子液体中的电沉积为化学和化学工业的可持续发展提供了新的发展方向。铟是一种稀散金属，主要用途集中在半导体、透明导电涂层、电子器件、有机金属化合物、量子点还可应用于纳米工业等方面；这些材料的生产和加工均离不开高纯铟。高纯铟的生产，在国内主要是用电解精炼法进行生产。镀铟溶液有氰化物型、硫酸盐型、氟硼酸型、氨磺酸型等，在电解中可能出现析氢效应、水解效应和乳化现象等，因此，须严格控制电解液的成分及电解条件。大多数的电沉积都是在高真空条件下进行的，尽管能得到高质量的沉积物，但现有工艺造价高、费用大，因此需要探索简单、经济的电沉积工艺。
发明内容：针对上述现有技术的不足，本发明提供了一种离子液体氯化铟/氯化正丁基吡啶体系电镀液；合成氯化正丁基吡啶的原料氯代正丁烷和吡啶价格相对便宜，降低了氯化正丁基吡啶的制备成本，因此降低了离子液体氯化铟/氯化正丁基吡啶体系电镀液的制备成本；以下将氯化铟/氯化正丁基吡啶简写为InCl3/BPC。
为实现上述目的，本发明采用的技术方案是：离子液体氯化铟/氯化正丁基吡啶体系电镀液(g·kg-1)的配方：
无水氯化铟InCl3：410～580
氯化正丁基吡啶(BPC)：310～480
金属铟(In)：20～40
乙二醇：40～80
明胶：1～3
氯化钠(NaCl)：10～30
离子液体融合了高温熔盐和水溶液的优点，利用离子液体研制的镀铟溶液，具有一些独特的性能，如较低的熔点、可调节的Lewis酸度、良好的化学稳定性和导电性、可以忽略的蒸汽压、较宽的使用温度及特殊的溶解性等。离子液体氯化铟/氯化正丁基吡啶体系电镀液具有腐蚀小、污染小等绿色溶剂应具备的性质；易通过简单的物理方法再生并可循环重复使用、易回收、不易造成环境污染等。
具体实施方式：
使用原料：高纯无水氯化铟(InCl3)(柳州铟泰科技公司，纯度99.99％)，保存在有P2O5的干燥器中，使用前未进一步提纯。氯化正丁基吡啶(BPC)(合成)，使用前两次重结晶。铟(In)(纯度99.99％)。乙二醇，明胶，氯化钠(NaCl)。
实施例1：
无水氯化铟InCl3：420
氯化正丁基吡啶(BPC)：470
金属铟(In)：30
乙二醇：60
明胶：2
氯化钠(NaCl)：20
取上述组分，混合成1000克的离子液体氯化铟/氯化正丁基吡啶体系电镀液。
实施例2：
无水氯化铟InCl3：440
氯化正丁基吡啶(BPC)：450
金属铟(In)：20
乙二醇：80
明胶：1
氯化钠(NaCl)：10
取上述组分，混合成1000克的离子液体氯化铟/氯化正丁基吡啶体系电镀液。
实施例3：
无水氯化铟InCl3：460
氯化正丁基吡啶(BPC)：430
金属铟(In)：40
乙二醇：40
明胶：3
氯化钠(NaCl)：30
取上述组分，混合成1000克的离子液体氯化铟/氯化正丁基吡啶体系电镀液。
实施例4：
无水氯化铟InCl3：480
氯化正丁基吡啶(BPC)：410
金属铟(In)：30
乙二醇：50
明胶：3
氯化钠(NaCl)：30
取上述组分，混合成1000克的离子液体氯化铟/氯化正丁基吡啶体系电镀液。
实施例5：
无水氯化铟InCl3：500
氯化正丁基吡啶(BPC)：390
金属铟(In)：20
乙二醇：80
明胶：2
氯化钠(NaCl)：10
取上述组分，混合成1000克的离子液体氯化铟/氯化正丁基吡啶体系电镀液。
实施例6：
无水氯化铟InCl3：510
氯化正丁基吡啶(BPC)：380
金属铟(In)：40
乙二醇：50
明胶：1
氯化钠(NaCl)：20
取上述组分，混合成1000克的离子液体氯化铟/氯化正丁基吡啶体系电镀液。
实施例7：
无水氯化铟InCl3：530
氯化正丁基吡啶(BPC)：360
金属铟(In)：40
乙二醇：60
明胶：1
氯化钠(NaCl)：10
取上述组分，混合成1000克的离子液体氯化铟/氯化正丁基吡啶体系电镀液。
实施例8：
无水氯化铟InCl3：550
氯化正丁基吡啶(BPC)：340
金属铟(In)：20
乙二醇：70
明胶：2
氯化钠(NaCl)：20
取上述组分，混合成1000克的离子液体氯化铟/氯化正丁基吡啶体系电镀液。
实施例9：
无水氯化铟InCl3：570
氯化正丁基吡啶(BPC)：320
金属铟(In)：30
乙二醇：50
明胶：1
氯化钠(NaCl)：30
取上述组分，混合成1000克的离子液体氯化铟/氯化正丁基吡啶体系电镀液。
实施例10：
无水氯化铟InCl3：490
氯化正丁基吡啶(BPC)：400
金属铟(In)：30
乙二醇：60
明胶：2
氯化钠(NaCl)：20
取上述组分，混合成1000克的离子液体氯化铟/氯化正丁基吡啶体系电镀液。
用本发明电镀时，要求溶液pH：3.0～5.5，溶液温度(℃)：60～80，电流密度(A/dm2)：3.0～8.0。

Claims (10)

1.离子液体氯化铟/氯化正丁基吡啶体系电镀液，其特征在于：离子液体氯化铟/氯化正丁基吡啶体系电镀液的配方如下：
无水氯化铟InCl3:410～580g·kg-1
氯化正丁基吡啶:310～480g·kg-1
金属铟:20～40g·kg-1
乙二醇：40～80g·kg-1
明胶：1～3g·kg-1
氯化钠:10～30g·kg-1。
2.如权利要求1所述的离子液体氯化铟/氯化正丁基吡啶体系电镀液，其特征在于：离子液体氯化铟/氯化正丁基吡啶体系电镀液的配方如下：
无水氯化铟InCl3:420g·kg-1
氯化正丁基吡啶:470g·kg-1
金属铟:30g·kg-1
乙二醇：60g·kg-1
明胶：2g·kg-1
氯化钠:20g·kg-1。
3.如权利要求1所述的离子液体氯化铟/氯化正丁基吡啶体系电镀液，其特征在于：离子液体氯化铟/氯化正丁基吡啶体系电镀液的配方如下：
无水氯化铟InCl3:440g·kg-1
氯化正丁基吡啶:450g·kg-1
金属铟:20g·kg-1
乙二醇：80g·kg-1
明胶：1g·kg-1
氯化钠:10g·kg-1。
4.如权利要求1所述的离子液体氯化铟/氯化正丁基吡啶体系电镀液，其特征在于：离子液体氯化铟/氯化正丁基吡啶体系电镀液的配方如下：
无水氯化铟InCl3:460g·kg-1
氯化正丁基吡啶:430g·kg-1
金属铟:40g·kg-1
乙二醇：40g·kg-1
明胶：3g·kg-1
氯化钠:30g·kg-1。
5.如权利要求1所述的离子液体氯化铟/氯化正丁基吡啶体系电镀液，其特征在于：离子液体氯化铟/氯化正丁基吡啶体系电镀液的配方如下：
无水氯化铟InCl3:480g·kg-1
氯化正丁基吡啶:410g·kg-1
金属铟:30g·kg-1
乙二醇：50g·kg-1
明胶：3g·kg-1
氯化钠:30g·kg-1。
6.如权利要求1所述的离子液体氯化铟/氯化正丁基吡啶体系电镀液，其特征在于：离子液体氯化铟/氯化正丁基吡啶体系电镀液的配方如下：
无水氯化铟InCl3:500g·kg-1
氯化正丁基吡啶:390g·kg-1
金属铟:20g·kg-1
乙二醇：80g·kg-1
明胶：2g·kg-1
氯化钠:10g·kg-1。 
7.如权利要求1所述的离子液体氯化铟/氯化正丁基吡啶体系电镀液，其特征在于：离子液体氯化铟/氯化正丁基吡啶体系电镀液的配方如下：
无水氯化铟InCl3:510g·kg-1
氯化正丁基吡啶:380g·kg-1
金属铟:40g·kg-1
乙二醇：50g·kg-1
明胶：1g·kg-1
氯化钠:20g·kg-1。
8.如权利要求1所述的离子液体氯化铟/氯化正丁基吡啶体系电镀液，其特征在于：离子液体氯化铟/氯化正丁基吡啶体系电镀液的配方如下：
无水氯化铟InCl3:530g·kg-1
氯化正丁基吡啶:360g·kg-1
金属铟:40g·kg-1
乙二醇：60g·kg-1
明胶：1g·kg-1
氯化钠:10g·kg-1。
9.如权利要求1所述的离子液体氯化铟/氯化正丁基吡啶体系电镀液，其特征在于：离子液体氯化铟/氯化正丁基吡啶体系电镀液的配方如下：
无水氯化铟InCl3:550g·kg-1
氯化正丁基吡啶:340g·kg-1
金属铟:20g·kg-1
乙二醇：70g·kg-1
明胶：2g·kg-1
氯化钠:20g·kg-1。
10.如权利要求1所述的离子液体氯化铟/氯化正丁基吡啶体系电镀液，其特征在于：离子液体氯化铟/氯化正丁基吡啶体系电镀液的配方如下：
无水氯化铟InCl3:570g·kg-1
氯化正丁基吡啶:320g·kg-1
金属铟:30g·kg-1
乙二醇：50g·kg-1
明胶：1g·kg-1
氯化钠:30g·kg-1。 
CN 201010572600 2010-12-03 2010-12-03 离子液体氯化铟/氯化正丁基吡啶体系电镀液 Expired - Fee Related CN101988210B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN 201010572600 CN101988210B (zh) 2010-12-03 2010-12-03 离子液体氯化铟/氯化正丁基吡啶体系电镀液

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN 201010572600 CN101988210B (zh) 2010-12-03 2010-12-03 离子液体氯化铟/氯化正丁基吡啶体系电镀液

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN101988210A CN101988210A (zh) 2011-03-23
CN101988210B true CN101988210B (zh) 2013-03-20

Family

ID=43744992

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN 201010572600 Expired - Fee Related CN101988210B (zh) 2010-12-03 2010-12-03 离子液体氯化铟/氯化正丁基吡啶体系电镀液

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN101988210B (zh)

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103114316B (zh) * 2013-03-01 2015-10-28 沈阳师范大学 一种环境友好的镀镓用电镀液
CN103122471B (zh) * 2013-03-01 2015-10-28 沈阳师范大学 一种无氰镀铟的电镀液
CN103628100B (zh) * 2013-12-09 2016-05-04 沈阳师范大学 一种电镀铟的电镀液
CN104141151A (zh) * 2014-08-06 2014-11-12 哈尔滨工业大学 离子液体电沉积金属单质的方法
CN105525314A (zh) * 2015-12-29 2016-04-27 沈阳师范大学 一种新型的氯化镍/氯化铁体系电镀液
CN106757187A (zh) * 2016-12-30 2017-05-31 沈阳师范大学 一种含氨基磺酸盐的新型镀镍电镀液
CN106757211A (zh) * 2016-12-30 2017-05-31 沈阳师范大学 一种氨基磺酸盐型的镀镍铁用电镀液
CN106757210A (zh) * 2016-12-30 2017-05-31 沈阳师范大学 一种四氟硼酸镍型的镀镍铁用电镀液
CN106868553A (zh) * 2016-12-30 2017-06-20 沈阳师范大学 新型氯化物的镀镍电镀液

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101270490A (zh) * 2008-04-11 2008-09-24 沈阳师范大学 稀散金属氯化铟/氯化1-甲基-3-丁基咪唑体系电镀液

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101270490A (zh) * 2008-04-11 2008-09-24 沈阳师范大学 稀散金属氯化铟/氯化1-甲基-3-丁基咪唑体系电镀液

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
田鹏等.稀散金属室温离子液体研究.《化学学报》.2002,第60卷(第10期),1811-1816. *

Also Published As

Publication number Publication date
CN101988210A (zh) 2011-03-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN101988210B (zh) 离子液体氯化铟/氯化正丁基吡啶体系电镀液
CN104018186B (zh) 一种铜铟镓硒的回收方法
CN101270490B (zh) 稀散金属氯化铟/氯化1-甲基-3-丁基咪唑体系电镀液
CN101876082B (zh) 离子液体氯化镓/氯化1-甲基-3-乙基咪唑体系电镀液
CN104032136B (zh) 一种从废料中回收铜铟镓硒的方法
CN101994128A (zh) 采用离子液体低温电沉积制备Al-Ti合金或电镀Al-Ti合金的方法
CN102061492B (zh) 室温离子液体氯化铟/四氟硼酸1-甲基-3-丁基咪唑体系电镀液
CN101994139B (zh) 稀散金属氯化镓/氯化1-甲基-3-丁基咪唑体系电镀液
CN102583421A (zh) 以钠基钛硼氟盐混合物为中间原料生产硼化钛并同步产出钠冰晶石的循环制备方法
CN109072465B (zh) 铝的制造方法
CN102912375B (zh) 从酸性蚀刻液中回收铜的方法及其专用装置
CN102181886B (zh) 一种从强碱溶液中直接电解生产一维纳米片状锌粉的方法
CN108441886A (zh) 一种利用离子液体电解金属氧化物制备金属的方法
CN103046081A (zh) 一种利用离子液体低温电沉积银的方法
CN106350678B (zh) 一种从棕化废液中回收缓蚀剂和铜的方法
CN100427647C (zh) 稀散金属氯化铟/氯化1-甲基-3-乙基咪唑体系电镀液
CN108505043B (zh) 一种pcb酸性蚀刻废液再生回用的方法
CN101343750B (zh) 硫酸氢咪唑离子液体在电解精炼铜中的应用
CN103031571A (zh) 一种利用离子液体低温电沉积镓的方法
CN103122471B (zh) 一种无氰镀铟的电镀液
CN103422122B (zh) 一种二氧化钛直接制备金属钛的方法
CN104846407A (zh) 一种添加剂及使用该添加剂生产6μm高抗拉强度电解铜箔的工艺
CN103898552A (zh) 一种金刚石合成提纯快速电解液配方
CN101560677A (zh) 甲基磺酸锡溶液的制备方法
CN105063677A (zh) 一种电镀镍溶液及其电镀方法

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
C17 Cessation of patent right
CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee

Granted publication date: 20130320

Termination date: 20131203