CN106757211A - 一种氨基磺酸盐型的镀镍铁用电镀液 - Google Patents

一种氨基磺酸盐型的镀镍铁用电镀液 Download PDF

Info

Publication number
CN106757211A
CN106757211A CN201611252860.XA CN201611252860A CN106757211A CN 106757211 A CN106757211 A CN 106757211A CN 201611252860 A CN201611252860 A CN 201611252860A CN 106757211 A CN106757211 A CN 106757211A
Authority
CN
China
Prior art keywords
nickel
sulfamic acid
electroplate liquid
iron
salt form
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN201611252860.XA
Other languages
English (en)
Inventor
张囝囡
田鹏
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shenyang Normal University
Original Assignee
Shenyang Normal University
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shenyang Normal University filed Critical Shenyang Normal University
Priority to CN201611252860.XA priority Critical patent/CN106757211A/zh
Publication of CN106757211A publication Critical patent/CN106757211A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
    • C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
    • C25D3/56—Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys
    • C25D3/562—Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys containing more than 50% by weight of iron or nickel or cobalt

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)

Abstract

一种氨基磺酸盐型的镀镍铁用电镀液(g·kg‑1)，其由以下成份组成：溴化N‑正戊基吡啶:165～175，氨基磺酸镍:50～60，四氟硼酸铵:70～80，丙酮：680～705，氯化铁：4～6，硼酸：3～5。氨基磺酸盐镀镍的沉积速度快，镀层的内应力低，镀液的分散能力好。镍铁本身已是很好的磁性材料，首先是要控制结构，因为磁性等物理特性、磁畴的行为等与材料结构关系密切。利用不同的添加剂、采用脉冲或换向电流以及交直流的叠加等不同的馈电方案，可以有效的调节镀层的结构和取向。

Description

一种氨基磺酸盐型的镀镍铁用电镀液
技术领域
本发明涉及一种电镀液，尤其是一种氨基磺酸盐型的镀镍铁用电镀液
背景技术
镍铁合金通常含铁量在40％以下，其硬度、平整性和韧性比亮镍好。含镍79％、铁21％的合金镀层具有很好的磁性，在电子工业中有特殊的用途。含铁12％～40％的全光亮镍铁合金镀层的抗蚀性能与镍镀层相当，但硬度比镍镀层高，韧性比亮镍镀层好，因此可用来代替光亮镍镀层作防护-装饰性镀层。因此用电镀方法来制备磁性元件并不困难，例如其异常共沉积的机理、各种添加剂和电极上吸附的特性和影响、电流波形和参数包括脉冲和换向及脉动的作用，及至极薄的镍铁薄膜的制备等等。
发明内容
为实现上述目的，本发明采用的技术方案是：一种氨基磺酸盐型的镀镍铁用电镀液(g·kg-1)的配方：
氯化1-辛基-3-甲基咪唑:630～640
氯化镍：310～319
氯化铁：25～29
乙二醇：4～6
糊精：1～3
氯化钠:15～20
一种氨基磺酸盐型的镀镍铁用电镀液，具有较宽的电化学窗口，在较低温读下即可得到在高温熔盐中才能电沉积得到的金属和合金，但没有高温熔盐那样的强腐蚀性；同时，电沉积可以得到大多数在水溶液中得到的金属，并没有副反应，因而得到的金属质量更好。上述特性及其良好的导电率、低的蒸气压使之成为电沉积研究中崭新的电镀液。
具体实施方式：
下面进一步详细说明本专利的具体实施方式：
使用原料：溴化N-正戊基吡啶，氨基磺酸镍，四氟硼酸铵，丙酮，氯化铁，硼酸。
实施例1：
溴化N-正戊基吡啶:165g
氨基磺酸镍:55g
四氟硼酸铵:70g
丙酮：702g
氯化铁：5g
硼酸：3g
取上述组分，混合成1000克的一种氨基磺酸盐型的镀镍铁用电镀液。
实施例2：
溴化N-正戊基吡啶:170g
氨基磺酸镍:60g
四氟硼酸铵:73g
丙酮：686g
氯化铁：6g
硼酸：5g
取上述组分，混合成1000克的一种氨基磺酸盐型的镀镍铁用电镀液。
实施例3：
溴化N-正戊基吡啶:175g
氨基磺酸镍:50g
四氟硼酸铵:80g
丙酮：687g
氯化铁：4g
硼酸：4g
取上述组分，混合成1000克的一种氨基磺酸盐型的镀镍铁用电镀液。
实施例4：
溴化N-正戊基吡啶:165g
氨基磺酸镍:60g
四氟硼酸铵:75g
丙酮：689g
氯化铁：6g
硼酸：5g
取上述组分，混合成1000克的一种氨基磺酸盐型的镀镍铁用电镀液。
实施例5：
溴化N-正戊基吡啶:170g
氨基磺酸镍:50g
四氟硼酸铵:75g
丙酮：698g
氯化铁：4g
硼酸：3g
取上述组分，混合成1000克的一种氨基磺酸盐型的镀镍铁用电镀液。
实施例6：
溴化N-正戊基吡啶:175
氨基磺酸镍:55
四氟硼酸铵:78
丙酮：682
氯化铁：5
硼酸：5
取上述组分，混合成1000克的一种氨基磺酸盐型的镀镍铁用电镀液。
实施例7：
溴化N-正戊基吡啶:165
氨基磺酸镍:50
四氟硼酸铵:72
丙酮：705
氯化铁：4
硼酸：4
取上述组分，混合成1000克的一种氨基磺酸盐型的镀镍铁用电镀液。
实施例8：
溴化N-正戊基吡啶:170
氨基磺酸镍:55
四氟硼酸铵:76
丙酮：690
氯化铁：5
硼酸：4
取上述组分，混合成1000克的一种氨基磺酸盐型的镀镍铁用电镀液。
实施例9：
溴化N-正戊基吡啶:175
氨基磺酸镍:60
四氟硼酸铵:76
丙酮：680
氯化铁：6
硼酸：3
取上述组分，混合成1000克的一种氨基磺酸盐型的镀镍铁用电镀液。
用本发明电镀时，要求溶液pH:3.0～5.0，溶液温度(℃)：45～60，电流密度(A/dm2):3.0～4.5。

Claims (10)

1.一种氨基磺酸盐型的镀镍铁用电镀液，其特征在于：每千克氨基磺酸盐型的镀镍铁用电镀液含下列组分：
溴化N-正戊基吡啶:165～175g
氨基磺酸镍:50～60g
四氟硼酸铵:70～80g
丙酮：680～705g
氯化铁：4～6g
硼酸：3～5g。
2.如权利要求1所述的一种氨基磺酸盐型的镀镍铁用电镀液，其特征在于：每千克氨基磺酸盐型的镀镍铁用电镀液含下列组分：
溴化N-正戊基吡啶:165g
氨基磺酸镍:55g
四氟硼酸铵:70g
丙酮：702g
氯化铁：5g
硼酸：3g。
3.如权利要求1所述的一种氨基磺酸盐型的镀镍铁用电镀液，其特征在于：每千克氨基磺酸盐型的镀镍铁用电镀液含下列组分：
溴化N-正戊基吡啶:170g
氨基磺酸镍:60g
四氟硼酸铵:73g
丙酮：686g
氯化铁：6g
硼酸：5g。
4.如权利要求1所述的一种氨基磺酸盐型的镀镍铁用电镀液，其特征在于：每千克氨基磺酸盐型的镀镍铁用电镀液含下列组分：
溴化N-正戊基吡啶:175g
氨基磺酸镍:50g
四氟硼酸铵:80g
丙酮：687g
氯化铁：4g
硼酸：4g。
5.如权利要求1所述的一种氨基磺酸盐型的镀镍铁用电镀液，其特征在于：每千克氨基磺酸盐型的镀镍铁用电镀液含下列组分：
溴化N-正戊基吡啶:165g
氨基磺酸镍:60g
四氟硼酸铵:75g
丙酮：689g
氯化铁：6g
硼酸：5g。
6.如权利要求1所述的一种氨基磺酸盐型的镀镍铁用电镀液，其特征在于：每千克氨基磺酸盐型的镀镍铁用电镀液含下列组分：
溴化N-正戊基吡啶:170g
氨基磺酸镍:50g
四氟硼酸铵:75g
丙酮：698g
氯化铁：4g
硼酸：3g。
7.如权利要求1所述的一种氨基磺酸盐型的镀镍铁用电镀液，其特征在于：每千克氨基磺酸盐型的镀镍铁用电镀液含下列组分：
溴化N-正戊基吡啶:175g
氨基磺酸镍:55g
四氟硼酸铵:78g
丙酮：682g
氯化铁：5g
硼酸：5g。
8.如权利要求1所述的一种氨基磺酸盐型的镀镍铁用电镀液，其特征在于：每千克氨基磺酸盐型的镀镍铁用电镀液含下列组分：
溴化N-正戊基吡啶:165g
氨基磺酸镍:50g
四氟硼酸铵:72g
丙酮：705g
氯化铁：4g
硼酸：4g。
9.如权利要求1所述的一种氨基磺酸盐型的镀镍铁用电镀液，其特征在于：每千克氨基磺酸盐型的镀镍铁用电镀液含下列组分：
溴化N-正戊基吡啶:170g
氨基磺酸镍:55g
四氟硼酸铵:76g
丙酮：690g
氯化铁：5g
硼酸：4g。
10.如权利要求1所述的一种氨基磺酸盐型的镀镍铁用电镀液，其特征在于：每千克氨基磺酸盐型的镀镍铁用电镀液含下列组分：
溴化N-正戊基吡啶:175g
氨基磺酸镍:60g
四氟硼酸铵:76g
丙酮：680g
氯化铁：6g
硼酸：3g。
CN201611252860.XA 2016-12-30 2016-12-30 一种氨基磺酸盐型的镀镍铁用电镀液 Pending CN106757211A (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201611252860.XA CN106757211A (zh) 2016-12-30 2016-12-30 一种氨基磺酸盐型的镀镍铁用电镀液

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201611252860.XA CN106757211A (zh) 2016-12-30 2016-12-30 一种氨基磺酸盐型的镀镍铁用电镀液

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN106757211A true CN106757211A (zh) 2017-05-31

Family

ID=58928551

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201611252860.XA Pending CN106757211A (zh) 2016-12-30 2016-12-30 一种氨基磺酸盐型的镀镍铁用电镀液

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN106757211A (zh)

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101988210A (zh) * 2010-12-03 2011-03-23 沈阳师范大学 离子液体氯化铟/氯化正丁基吡啶体系电镀液
CN102191517A (zh) * 2010-03-10 2011-09-21 中国科学院过程工程研究所 一种离子液体电镀锌、镍、钼及其合金的方法
CN103628100A (zh) * 2013-12-09 2014-03-12 沈阳师范大学 一种新型电镀铟的电镀液
CN103628101A (zh) * 2013-12-09 2014-03-12 沈阳师范大学 一种新型的镀镓用电镀液
US20150292098A1 (en) * 2014-04-15 2015-10-15 Patrick Benaben Ionic Liquid Electrolyte and Method to Electrodeposit Metals
CN105463532A (zh) * 2015-12-29 2016-04-06 沈阳师范大学 一种新型的镀镍铁用电镀液

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102191517A (zh) * 2010-03-10 2011-09-21 中国科学院过程工程研究所 一种离子液体电镀锌、镍、钼及其合金的方法
CN101988210A (zh) * 2010-12-03 2011-03-23 沈阳师范大学 离子液体氯化铟/氯化正丁基吡啶体系电镀液
CN103628100A (zh) * 2013-12-09 2014-03-12 沈阳师范大学 一种新型电镀铟的电镀液
CN103628101A (zh) * 2013-12-09 2014-03-12 沈阳师范大学 一种新型的镀镓用电镀液
US20150292098A1 (en) * 2014-04-15 2015-10-15 Patrick Benaben Ionic Liquid Electrolyte and Method to Electrodeposit Metals
CN105463532A (zh) * 2015-12-29 2016-04-06 沈阳师范大学 一种新型的镀镍铁用电镀液

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Brenner et al. Electrodeposition of alloys of phosphorus with nickel or cobalt
CN104911648B (zh) 无氰化物的酸性亚光银电镀组合物及方法
JP2002317294A (ja) 電気メッキパラジウム合金組成物及びその組成物を用いる電気メッキ法
EP3114258B1 (en) Passivation of micro-discontinuous chromium deposited from a trivalent electrolyte
CN103757672B (zh) 一种锌锡合金电镀方法
CN103339296A (zh) 具有抗腐蚀覆层的基材及其生产方法
EP3159436B1 (en) Article having multilayer plating film
JP6951465B2 (ja) ３価クロムメッキ液およびこれを用いたクロムメッキ方法
US4144141A (en) Ammonia free palladium deposition using aminoacetic acid
US4491507A (en) Galvanic depositing of palladium coatings
CN103484901A (zh) 一种五金件的镀镍工艺
EP3147389B1 (en) Multicorrosion protection system for decorative parts with chrome finish
US3500537A (en) Method of making palladium coated electrical contacts
JP2022107487A (ja) 白金電解めっき浴および白金めっき製品
CN106757211A (zh) 一种氨基磺酸盐型的镀镍铁用电镀液
US3793162A (en) Electrodeposition of ruthenium
CA1195645A (en) High-rate chromium alloy plating
US4111760A (en) Method and electrolyte for the electrodeposition of cobalt and cobalt-base alloys in the presence of an insoluble anode
US3772167A (en) Electrodeposition of metals
JPH0158273B2 (zh)
JPS63137193A (ja) 電子部品用ステンレス接点材料およびその製造方法
CN106757187A (zh) 一种含氨基磺酸盐的新型镀镍电镀液
CN109023461A (zh) 组成调制的锌-铁多层涂层
US3475290A (en) Bright gold plating solution and process
CN107419309A (zh) 一种用于在碳钢表面镀锌镍合金的镀液及其应用

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
RJ01 Rejection of invention patent application after publication
RJ01 Rejection of invention patent application after publication

Application publication date: 20170531