CN106868553A - 新型氯化物的镀镍电镀液 - Google Patents
新型氯化物的镀镍电镀液 Download PDFInfo
- Publication number
- CN106868553A CN106868553A CN201611252859.7A CN201611252859A CN106868553A CN 106868553 A CN106868553 A CN 106868553A CN 201611252859 A CN201611252859 A CN 201611252859A CN 106868553 A CN106868553 A CN 106868553A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- nickel
- chloride
- boric acid
- nickel plating
- plating bath
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/12—Electroplating: Baths therefor from solutions of nickel or cobalt
- C25D3/14—Electroplating: Baths therefor from solutions of nickel or cobalt from baths containing acetylenic or heterocyclic compounds
- C25D3/18—Heterocyclic compounds
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
Abstract
新型氯化物的镀镍电镀液(g·kg‑1),其由以下成份组成:溴化N‑正己基吡啶:170~180,氯化镍:55~65,四氟硼酸铵:70~80,丙酮:665~690,四氟硼酸:3~5,硼酸:5~7。镀镍层的性能与采用的镀镍工艺有很大的关系,不同的工艺其镀层的性能有很大的不同。根据镀液组成的不同,镀镍溶液可分为:瓦特型镀镍溶液、氯化物‑硫酸盐镀液、氯化物镀镍溶液、全硫酸盐镀镍溶液、氟硼酸镀镍溶液、氨基磺酸盐镀镍溶液、络合型镀镍溶液、其他镀镍溶液。该工艺的电解液成分简单,容易维护,沉积速度快,允许使用的电流密度高,适用于镀厚镍;但成本高,镀液腐蚀性强。
Description
技术领域
本发明涉及一种电镀液,尤其是新型氯化物的镀镍电镀液。
背景技术
根据镀液组成的不同,镀镍溶液可分为:瓦特型镀镍溶液、氯化物-硫酸盐镀液、氯化物镀镍溶液、全硫酸盐镀镍溶液、氟硼酸镀镍溶液、氨基磺酸盐镀镍溶液、络合型镀镍溶液、其他镀镍溶液。该工艺的电解液成分简单,容易维护,沉积速度快,允许使用的电流密度高,适用于镀厚镍。镀镍的应用很广,可分为防护装饰性和功能性两种。作为防护装饰性镀镍层可保护基体材料不受腐蚀。通过抛光暗镍镀层或直接镀光亮镍的方法得光亮镀镍层,已达到装饰的效果。
发明内容
为实现上述目的,本发明采用的技术方案是:新型氯化物的镀镍电镀液(g·kg-1)的配方:
溴化N-正丙基吡啶:155~165
四氟硼酸镍:40~50
四氟硼酸铵:75~85
丙酮:690~715
四氟硼酸:3~5
硼酸:2~4
氯化钠:2~4
新型氯化物的镀镍电镀液,其电化学窗口较宽,电沉积过程中副反应较少,因此得到的金属质量更高;电镀液的操作温度范围相对较宽,有利于研究电沉积工艺的影响。
具体实施方式:
使用原料:溴化N-正己基吡啶,氯化镍,四氟硼酸铵,丙酮,四氟硼酸,硼酸。
实施例1:
溴化N-正己基吡啶:170g
氯化镍:55g
四氟硼酸铵:70g
丙酮:695g
四氟硼酸:4g
硼酸:6g
取上述组分,混合成1000克的新型氯化物的镀镍电镀液。
实施例2:
溴化N-正己基吡啶:175g
氯化镍:60g
四氟硼酸铵:75g
丙酮:680g
四氟硼酸:3g
硼酸:7g
取上述组分,混合成1000克的新型氯化物的镀镍电镀液。
实施例3:
溴化N-正己基吡啶:180g
氯化镍:65g
四氟硼酸铵:80g
丙酮:665g
四氟硼酸:5g
硼酸:5g
取上述组分,混合成1000克的新型氯化物的镀镍电镀液。
实施例4:
溴化N-正己基吡啶:170g
氯化镍:60g
四氟硼酸铵:75g
丙酮:685g
四氟硼酸:3g
硼酸:7g
取上述组分,混合成1000克的新型氯化物的镀镍电镀液。
实施例5:
溴化N-正己基吡啶:175g
氯化镍:65g
四氟硼酸铵:80g
丙酮:670g
四氟硼酸:4g
硼酸:6g
取上述组分,混合成1000克的新型氯化物的镀镍电镀液。
实施例6:
溴化N-正己基吡啶:180g
氯化镍:55g
四氟硼酸铵:75g
丙酮:680g
四氟硼酸:4g
硼酸:6g
取上述组分,混合成1000克的新型氯化物的镀镍电镀液。
实施例7:
溴化N-正己基吡啶:170g
氯化镍:65g
四氟硼酸铵:80g
丙酮:675g
四氟硼酸:5g
硼酸:5g
取上述组分,混合成1000克的新型氯化物的镀镍电镀液。
实施例8:
溴化N-正己基吡啶:175g
氯化镍:55g
四氟硼酸铵:70g
丙酮:690g
四氟硼酸:5g
硼酸:5g
取上述组分,混合成1000克的新型氯化物的镀镍电镀液。
实施例9:
溴化N-正己基吡啶:180g
氯化镍:60g
四氟硼酸铵:70g
丙酮:680g
四氟硼酸:3g
硼酸:7g
取上述组分,混合成1000克的新型氯化物的镀镍电镀液。
用本发明电镀时,要求溶液pH:3.0~3.8,溶液温度(℃):50~55,电流密度(A/dm2):3.5~7.5。
Claims (10)
1.新型氯化物的镀镍电镀液,其特征在于:每千克电镀液含下列组分:
溴化N-正己基吡啶:170~180g
氯化镍:55~65g
四氟硼酸铵:70~80g
丙酮:665~690g
四氟硼酸:3~5g
硼酸:5~7g。
2.如权利要求1所述的新型氯化物的镀镍电镀液,其特征在于:每千克电镀液含下列组分:
溴化N-正己基吡啶:170g
氯化镍:55g
四氟硼酸铵:70g
丙酮:695g
四氟硼酸:4g
硼酸:6g。
3.如权利要求1所述的新型氯化物的镀镍电镀液,其特征在于:每千克电镀液含下列组分:
溴化N-正己基吡啶:175g
氯化镍:60g
四氟硼酸铵:75g
丙酮:680g
四氟硼酸:3g
硼酸:7g。
4.如权利要求1所述的新型氯化物的镀镍电镀液,其特征在于:每千克电镀液含下列组分:
溴化N-正己基吡啶:180g
氯化镍:65g
四氟硼酸铵:80g
丙酮:665g
四氟硼酸:5g
硼酸:5g。
5.如权利要求1所述的新型氯化物的镀镍电镀液,其特征在于:每千克电镀液含下列组分:
溴化N-正己基吡啶:170g
氯化镍:60g
四氟硼酸铵:75g
丙酮:685g
四氟硼酸:3g
硼酸:7g。
6.如权利要求1所述的新型氯化物的镀镍电镀液,其特征在于:每千克电镀液含下列组分:
溴化N-正己基吡啶:175g
氯化镍:65g
四氟硼酸铵:80g
丙酮:670g
四氟硼酸:4g
硼酸:6g。
7.如权利要求1所述的新型氯化物的镀镍电镀液,其特征在于:每千克电镀液含下列组分:
溴化N-正己基吡啶:180g
氯化镍:55g
四氟硼酸铵:75g
丙酮:680g
四氟硼酸:4g
硼酸:6g。
8.如权利要求1所述的新型氯化物的镀镍电镀液,其特征在于:每千克电镀液含下列组分:
溴化N-正己基吡啶:170g
氯化镍:65g
四氟硼酸铵:80g
丙酮:675g
四氟硼酸:5g
硼酸:5g。
9.如权利要求1所述的新型氯化物的镀镍电镀液,其特征在于:每千克电镀液含下列组分:
溴化N-正己基吡啶:175g
氯化镍:55g
四氟硼酸铵:70g
丙酮:690g
四氟硼酸:5g
硼酸:5g。
10.如权利要求1所述的新型氯化物的镀镍电镀液,其特征在于:每千克电镀液含下列组分:
溴化N-正己基吡啶:180g
氯化镍:60g
四氟硼酸铵:70g
丙酮:680g
四氟硼酸:3g
硼酸:7g。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201611252859.7A CN106868553A (zh) | 2016-12-30 | 2016-12-30 | 新型氯化物的镀镍电镀液 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201611252859.7A CN106868553A (zh) | 2016-12-30 | 2016-12-30 | 新型氯化物的镀镍电镀液 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN106868553A true CN106868553A (zh) | 2017-06-20 |
Family
ID=59165013
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201611252859.7A Pending CN106868553A (zh) | 2016-12-30 | 2016-12-30 | 新型氯化物的镀镍电镀液 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN106868553A (zh) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN110670096A (zh) * | 2019-11-17 | 2020-01-10 | 沈阳师范大学 | 新型实用镀镍铁用电镀液 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101988210A (zh) * | 2010-12-03 | 2011-03-23 | 沈阳师范大学 | 离子液体氯化铟/氯化正丁基吡啶体系电镀液 |
CN102191517A (zh) * | 2010-03-10 | 2011-09-21 | 中国科学院过程工程研究所 | 一种离子液体电镀锌、镍、钼及其合金的方法 |
CN103628101A (zh) * | 2013-12-09 | 2014-03-12 | 沈阳师范大学 | 一种新型的镀镓用电镀液 |
CN103628100A (zh) * | 2013-12-09 | 2014-03-12 | 沈阳师范大学 | 一种新型电镀铟的电镀液 |
US20150292098A1 (en) * | 2014-04-15 | 2015-10-15 | Patrick Benaben | Ionic Liquid Electrolyte and Method to Electrodeposit Metals |
-
2016
- 2016-12-30 CN CN201611252859.7A patent/CN106868553A/zh active Pending
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102191517A (zh) * | 2010-03-10 | 2011-09-21 | 中国科学院过程工程研究所 | 一种离子液体电镀锌、镍、钼及其合金的方法 |
CN101988210A (zh) * | 2010-12-03 | 2011-03-23 | 沈阳师范大学 | 离子液体氯化铟/氯化正丁基吡啶体系电镀液 |
CN103628101A (zh) * | 2013-12-09 | 2014-03-12 | 沈阳师范大学 | 一种新型的镀镓用电镀液 |
CN103628100A (zh) * | 2013-12-09 | 2014-03-12 | 沈阳师范大学 | 一种新型电镀铟的电镀液 |
US20150292098A1 (en) * | 2014-04-15 | 2015-10-15 | Patrick Benaben | Ionic Liquid Electrolyte and Method to Electrodeposit Metals |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
李进军 等: "《绿色化学导论》", 31 August 2015 * |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN110670096A (zh) * | 2019-11-17 | 2020-01-10 | 沈阳师范大学 | 新型实用镀镍铁用电镀液 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN105274545A (zh) | 一种铝合金的电镀或化学镀的前处理方法及其用途 | |
CN204918772U (zh) | 一种用于航空航天零部件的高耐腐蚀性镀镉层 | |
CN103757672B (zh) | 一种锌锡合金电镀方法 | |
CN102330122B (zh) | 一种高速电镀半光亮镀镍电镀液及其制备方法和应用 | |
CN105112923A (zh) | 一种高耐候性铝合金型材及其制造工艺 | |
US2693444A (en) | Electrodeposition of chromium and alloys thereof | |
CN104388989A (zh) | 一种三价铬电镀液及制备方法 | |
CN106868553A (zh) | 新型氯化物的镀镍电镀液 | |
CN103388164A (zh) | 一种无氰碱铜电镀工艺及配方 | |
CN104532310A (zh) | 一种无氰镀银电镀液及制备方法 | |
CN205205231U (zh) | 一种铸铁件电镀锌-镍合金的复合镀层结构 | |
CN106048682A (zh) | 一种汽车传动系统用耐腐蚀螺栓的生产工艺 | |
KR20180111111A (ko) | 알루미늄 합금용 플라스마 전해 솔루션 배합기술 | |
US20080110762A1 (en) | Electrolyte Composition and Method for the Deposition of a Zinc-Nickel Alloy Layer on a Cast Iron Or Steel Substrate | |
CN105063677A (zh) | 一种电镀镍溶液及其电镀方法 | |
CN106757187A (zh) | 一种含氨基磺酸盐的新型镀镍电镀液 | |
CN101949043B (zh) | 电镀黑色铑层的配方及其方法 | |
CN102206840B (zh) | 碱性氯化物镀铜处理剂及其制备方法 | |
KR100402730B1 (ko) | 마그네슘합금에 동-니켈 도금층을 전해 도금으로 형성하는방법 | |
US3920527A (en) | Self-regulating plating bath and method for electrodepositing chromium | |
JPS63297590A (ja) | 高速電流反転電解によるめつき方法 | |
CN106811774A (zh) | 一种金属带材连续电镀高性能集热器黑铬涂层生产工艺 | |
CN106811775A (zh) | 新型四氟硼酸镍的镀镍电镀液 | |
CN221094324U (zh) | 一种挂镀仿金的镀层结构 | |
CN104152952A (zh) | 一种高性能无氰镀银预镀液 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |
Application publication date: 20170620 |
|
RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |