CH671288A5 - - Google Patents

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CH671288A5
CH671288A5 CH5228/84A CH522884A CH671288A5 CH 671288 A5 CH671288 A5 CH 671288A5 CH 5228/84 A CH5228/84 A CH 5228/84A CH 522884 A CH522884 A CH 522884A CH 671288 A5 CH671288 A5 CH 671288A5
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CH
Switzerland
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layer
plate
plates
layer plate
sorbent
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CH5228/84A
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English (en)
Inventor
Tibor Prof Szekely
Ernoe Dipl-Chem-Ing Tyihak
Emil Dipl-Chem-Ing Mincsovics
Remenyi-Korodi Zsuzsa
Laszlo Peterfi
Gabor Dipl-Chem-Ing Kemeny
Gabor Takacs
Original Assignee
Mueszeripari Muevek Lab
Reanal Finomvegyszergyar
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    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N30/00Investigating or analysing materials by separation into components using adsorption, absorption or similar phenomena or using ion-exchange, e.g. chromatography or field flow fractionation
    • G01N30/90Plate chromatography, e.g. thin layer or paper chromatography
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D15/00Separating processes involving the treatment of liquids with solid sorbents; Apparatus therefor
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    • GPHYSICS
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Description

BESCHREIBUNG
Die vorliegende Erfindung betrifft eine chromatographische Schichtplatte und eine Anordnung mit mehreren Schichtplatten mit spezieller Gestaltung, welche die gleichzeitige Durchführung der Überdruckschichtchromatographie an mehreren Platten ermöglicht.
In den letzten Jahren haben die chromatographischen Methoden an Bedeutung zugenommen. Als Ergebnis dieser Entwicklung entstand die Hochleistungsflüssigkeitschroma-tographie, in der Fachliteratur als HPLC gekennzeichnet, (siehe z. B. Kirkland, J. J. ; Moderne Practice of Liquid Chro-matography, Wiley, New York, 1971), sowie die Hochlei-stungsdünnschichtchromatographie, in der Fachliteratur als HPTLC gekennzeichnet, (siehe z. B. Bertsch, W., Hara, S., Kaiser, R. E., Zlatkis, A. ; Instrumental HPTLC, Hüthig, Heidelberg, 1980). Ein wesentliches Merkmal der HPTLC ist die Verwendung von feinkörnigen Schichtplatten, und die Instrumentierung. Das erste Merkmal ist mit einem Nachteil verbunden, da bei feinkörnigen Schichtplatten eine entsprechende Auflösung nur bei kurzen Entfernungen gewährleistet werden kann.
Diese Schwierigkeit wurde durch die Entwicklung der Überdruckschichtchromatographie, in der Fachliteratur als OPLC bezeichnet, gelöst, welche die Vorteile der HPLC, der HPTLC und der klassischen TLC vereinigt. Dieses Verfahren wird in einer Überdruckultramikrokammer durchgeführt, worin die Sorbentschicht (z. B. Kieselgel oder Talkum), vorzugsweise durch eine flexible Membrane vermittelt, mit einem Druckwasserpolster festgehalten wird, was zur Elimi-s nierung des Dampfraumes über der Schicht führt. Das Laufmittel wird durch eine Mikropumpe mit regelbarem Überdruck in die Sorbentschicht dosiert (siehe z. B. HU-PS 173 749, GB-PS 1 570760). Durch Veränderung des Ortes und der Form der Einführungsöffnungen kann die Bewe-lo gung des Laufmittels linear in einer oder zwei Richtungen, sowie zirkulär geführt werden. Die OPLC zeigt die folgenden Vorteile im Vergleich zu der klassischen TLC und zur HPTLC:
- Bei der Entwicklung wird nur ein geringer Zeitaufwand is benötigt;
- die schnelle Bewegung des Lauf mittels vermindert die Diffusion, die Grösse der Substanzflecken und erhöht dadurch die theoretisch mögliche Zahl der Sorbentschichten;
- Die Entwicklung kann auch mit viskosen Stoffen, bzw. 20 Laufmittelmischungen, die das Sorbent schlecht benetzen,
durchgeführt werden (Phasenumkehrsysteme).
Zur optimalen Durchführung der linearen OPLC muss der Schichtplattenrand, vorzugsweise durch Imprägnierung oder Überschichtung mit einem Kunststoffilm, abgeschlossen 25 werden, um das Abfliessen des Laufmittels bei Überdruck zu verhindern. Um eine lineare Laufmittelfront zu gewährleisten, muss um die Einführungsöffnung herum ein Kanal gebildet werden. Zu diesem Zweck wird auf der Sorbentschicht eine Einsatzplatte aufgelegt (welche auch zum Schutz 30 des Wasserpolsters dient und ausgetauscht werden kann), an welchen in der Nähe der Einführungsöffnung und an der dem Sorbent zugewandten Seite ein oder mehrere Kanäle zur Abführung des Laufmittels ausgebildet sind (siehe die ungarische Patentanmeldung Nr. CI-1995).
35 In der zu der Durchführung der OPLC dienenden Mikro-kammer kann nur eine Schichtplatte entwickelt werden. Dies ist ein grosser Nachteil, da zum Vergleich der Farbreaktionen der Substanzflecken und zur Auswahl des entsprechenden Laufmittels bei den verschiedenen Sorbentschichten, neben 40 der klassischen TLC, auch bei der OPLC eine grosse Auswahl von Schichtplatten entwickelt werden müssen. Es besteht also das Bedürfnis, die Verwendbarkeit der OPLC durch gleichzeitige Entwicklung mehrerer Schichtplatten zu verbessern.
45 Wir haben gefunden, dass in der Kammer der OPLC gleichzeitig mehrere Schichtplatten entwickelt werden können, wenn solche Schichtplatten verwendet werden, welche am Einführungsort des Laufmittels in geeigneter Form und Grösse durchbrochen sind.
so Zur gleichzeitigen linearen Entwicklung von mehreren Schichtplatten, werden solche mit einem Durchbruch versehenen Schichtplatten an den Rändern abgeschlossen und in einer Schichtplattenanordnung vereinigt. Die untere Schichtplatte kann eine bekannte Schichtplatte sein, welche an 55 ihrem Rand ebenfalls abgeschlossen, jedoch nicht durchgebrochen ist.
Die Schichtplatten können erfindungsgemäss durch drei verschiedene Methoden in einer Anordnung vereinigt werden:
60 a) Die Schichtplatten mit Durchbruch werden direkt aufeinander gelegt. In dieser Variante ist auf der unteren Seite der zweiten und folgenden Platten ein Kanal vorgesehen. In diesem Falle kann die unterste Abschlussplatte eine Kunststoffolie sein, zum Beispiel aus Polyäthylen oder Teflon. 65 b) Die Schichtplatten können durch Einsatzplatten voneinander getrennt werden. Die Einsatzplatten sind mit Durchbruch und Kanal versehen und können grösser sein als die Schichtplatten. Die Einsatzplatten können somit an ihren
Rändern zusammengebunden werden und können eine Überdruckskammer bilden.
c) Die Schichtplatten können auch durch Einsatzplatten von gleichem Ausmass getrennt werden. Die Einsatzplatten sind ebenfalls mit Durchbrächen und Kanälen versehen und können aus flexiblen Membranen hergestellt werden. In diesem Fall müssen die Einheiten aus Schichtplatte und Einsatzplatte mit einem lösbaren Verschluss vereinigt werden. Das Ausbreiten des Laufmittels auf den Schichten, welches bei einer linearen Entwicklung unerlässlich ist, kann man durch verschiedene Methoden bewirken:
- In der Sorbentschicht kann man einen oder mehrere Kanäle zur Abführung des Laufmittels auskehlen, zum Beispiel durch Entfernung des Sorbents einer geraden Linie entlang und bis zur Tiefe der Trägerplatten ;
- Die Schichtplatte kann senkrecht auf die Richtung der Entwicklung durch eine Längsspalte durchbrochen werden;
- Jede Schichtplatte kann mit einer Einsatzplatte bedeckt werden, welche mit Durchbruch und/oder einem Kanal oder Rippe versehen ist. In der erfindungsgemässen Schichtplattenanordnung können Schichtplatten mit unterschiedlichen Sorbentschichten vereinigt werden, wodurch ein Laufmittel gleichzeitig auf mehreren Sorbentschichten untersucht werden kann.
In der erfindungsgemässen Schichtplattenanordnung können die untersuchten Substanzen gleichzeitig auf mehrere Schichtplatten entwickelt und dann je Schichtplatte mit verschiedenen Reagenzien sichtbargemacht und ausgewertet werden. Folgende Figuren erläutern die Erfindung :
Fig. 1 stellt verschiedene Schichtplatten zur linearen Entwicklung dar;
Fig. la Schichtplatte ohne Durchbruch mit Sorbentschicht
(1) und mit Ort des Probenauftragens (3), die an drei Rändern (2) der Trägerplatte abgeschlossen ist und die als unterste Grundplatte der Schichtplattenanordnung verwendet werden kann;
Fig. lb Schichtplatte mit einem Durchbruch (4) und mit Angabe der Orte des Probenauftrags (3), die an drei Rändern
(2) abgeschlossen ist. Der Durchbruch dient zur Zuführung des Laufmittels zu den unteren Schichtplatten;
Fig. lc Dieselbe Schichtplatte wie ld, jedoch mit einem Kanal (5) zur Führung des Laufmittels.
Fig. le Dieselbe Schichtplatte wie ld, jedoch mit einem Durchbruch (4);
Fig. lf Schichtplatte mit einem Durchbruch (4) und einer Konzentrierungszone (7).
Fig. 2 zeigt verschiedene Schichtplatten zur linearen Entwicklung in zwei Richtungen:
Fig. 2a Schichtplatte mit Durchbruch (4) und mit Ort des Probenauftrags (3), die an zwei Rändern (2) abgeschlossen ist;
Fig. 2b Dieselbe Schichtplatte wie 2a, j edoch mit Kanal (5) ;
Fig. 2c Dieselbe Schichtplatte wie 2b, jedoch mit vorstehender Rippe (6) und Konzentrierungszone (7).
Fig. 3 zeigt eine Schichtplatte mit Durchbruch (4) und mit dem Ort des Probenauftrags (3), die an drei Rändern (2) abgeschlossen ist und die untere Seite (Fig. 3b) einer Trägerplatte (9) mit Durchbruch (4) und mit Kanal (8), die als Deckplatte der nächsten Schichtplatte dient.
Fig. 4 Schichtplattenanordung in «gelockerter Darstellung» bestehend aus Grundplatte und Schichtplatten mit Durchbruch.
Fig. 5 Schichtplattenanordnung im Querschnitt, mit Kanal (12) in der Einsatzplatte (10) und Rohr (13) zum Einführen des Lauf mittels. Die Folie (11) vereinigt die Anordnung.
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Fig. 6 Schichtplattenanordnung zur Überentwicklung mit einem zweiten Durchbruch ( 14) und einer zweiten vorstehenden Rippe (15) zur Abführung des Laufmittels.
Fig. 7 zeigt ein System der Schichtplatten im Querschnitt. Dieser Anordnung ist ähnlich Fig. 5, jedoch mit getrennten Einsatzplatten (10,16).
Erfindungsgemäss geht man bei einer linearen Entwicklung so vor, dass man die, am Rand abgeschlossenen Über-druck-SchichtpIatten aus flexiblen Trägerplatten einzeln in die Überdruckultramikrokammer in der Weise einlegt, dass die abgeschlossenen Ränder übereinander kommen, und die mit Sorbent beschichteten Seiten der Platte jeweils in gleicher Richtung übereinander liegen. In dieser Anordnung drückt man nur auf die oberste Schichtplatte eine Einsatzplatte (10,16) auf, die flexibel sein kann, und die obenliegende Schichtplatte drückt über die als Einsatzplatte (10,16) auf die untenliegenden Schichtplatten. So wird jede Sorbentschicht unter Druck gesetzt, und die vorzugsweise durch Imprägnierung oder Überschichtung abgeschlossenen Ränder sind für das Laufmittel nicht durchlässig. Um den Zufluss des Laufmittels auf jeder Schichtplatte zu sichern, müssen die einzelnen Schichtplatten ausser der ersten Schichtplatte (Abbildung la), am Einführungsort des Laufmittels in geeigneter Form und Grösse durchbrochen sein. Bei einer linearen Entwicklung muss man einen Durchbruch am unteren Teil der Schichtplatte (Abbildung lb-1 f), und bei einer Entwicklung in zwei Richtungen ein Durchbruch am mittleren Teil der Schichtplatte (Abbildung 2a-2c) verwenden. Das entstehende Kanalsystem ermöglicht einen praktisch widerstandsfreien Zufluss des Laufmittels auf den übereinanderliegenden Schichtplatten, und dadurch gleichzeitige und gleichwertige Entwicklung.
Die Schichtplatten verwendet man in ähnlicher Weise wie bei der bekannten OPLC: die Ränder der Sorbentschicht (1) sind abgeschlossen (2), die Substanz (3) wird vor dem Durchbruch (4 und 6) aufgetragen. Man kann auch eine Schicht mit Konzentrierungszone (7) verwenden, wobei diese Konzentrierungszone aus inaktivem Sorbent besteht.
Nach einer anderen Durchführungsweise der Erfindung, kann eine Rippe (6) oder ein Kanal (8) auf der unteren Seite der Schichtplatte angebracht werden (Abbildung 3a und 3b).
Die erfindungsgemässe Schichtplatte, bzw. Schichtplattenanordnung kann aus allen bekannten flexiblen und/oder wenig flexiblen und glatten Trägerplatten (z. B. Kunststoff-, Aluminium- oder Glasplatte) hergestellt werden, welche zur klassischen oder Überdruck-TLC geeignet sind. Die Anzahl der gleichzeitig zu entwickelnden Schichtplatten hat im Prinzip keine obere Grenze. In den zur Zeit bekannten Vorrichtungen können 2 bis 8 Schichtplatten gleichzeitig entwik-kelt werden. Die Grösse der Schichtplatten in die Art der Entwicklung (in Ein- oder Zweirichtung, kreisförmig, u. ä.) spielt keine Rolle. Man kann gleichzeitig auch Schichtplatten mit unterschiedlichen Sorbentschichten entwickeln lassen, wenn die Sorbentschichten einen nahezu gleichen Widerstand für das Laufmittel und eine nahezu gleiche geometrische Form haben.
Nach einer bevorzugten Durchführungsweise der Erfindung geht man so vor, dass man die mit Durchbruch und auf der hinteren Seite mit Kanal versehenen Schichtplatten in der Kammer übereinander stellt die oberste Schicht mit einer Einsatzplatte (16) mit Kanal bedeckt und als untenstehende, erste Schichtplatte eine klassische Überdruckschichtplatte ohne Durchbruch verwendet.
Nach einer anderen bevorzugten Durchführungsmethode der Erfindung geht man so vor, dass man eine entsprechende Anzahl von mit Durchbruch und Kanal versehenen Schichtplatten, entweder an einer oder an drei Seiten zusammenfasst
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(Abb. 5). Wenn die Aufliegestellen der Schichtplatten im voraus ausgebildet sind, können die Schichtplatten genau übereinander aufgelegt werden.
Bei der Vereinigung der erfindungsgemässen Schichtplatten in einer Schichtplattenanordnung kann man in der Weise vorgehen, dass eine entsprechende Anzahl von Schichtplatten und Einsatzplatten, welche mit Durchbruch und Kanal versehen sind, an einem oder drei Rändern zusammengebunden werden, oder aus einer Schichtplatte und einer Einsatzplatte eine Einheit gebildet wird, welche mit einem lösbaren, zum Beispiel patentähnlichem Verschluss in gewünschter Anzahl vereinigt werden kann.
Zur Einstellung der richtigen Position der Schichtplatten und der Einsatzplatten zueinander und zu der Kammer,
kann die obenstehende Einsatzplatte mit einem Führungsansatz, wie Zapfen oder Stift versehen werden, auf denen die folgenden Platten aufgereiht werden können.
Zu einer Überentwicklung verwendet man in der OPLC-Technik Schichtplatten, welche an allen vier Rändern abgeschlossen sind. Mit der erfindungsgemässen Schichtplatte, bzw. Schichtplattenanordnung ist es ebenfalls möglich eine Überentwicklung durchzuführen. Zu diesem Zweck muss die Schichtplatte zu der Abführung des Laufmittels ähnlich der Zuführung, jedoch an den gegenüberliegenden Teilen der Schichtplatte, mit einem zweiten Durchbruch und Kanal (14) versehen werden (Abb. 6). Zwischen den Schichtplatten können Einsatzplatten (16) angebracht werden (Abb. 7).
Zur Herstellung der erfindungsgemässen Schichtplatten kann man anorganische (Silikagel, Aluminiumoxyd, Talkum u. ä.) und organische (Zellulose, Polyamid u. ä.) Sorbenten, sowie als inaktives Sorbent Kieselgur, Cellit u. ä. verwenden.
Durch die gleichzeitige Verwendung von mehreren erfindungsgemässen Schichtplatten in einer Anordnung kann die Kapazität der Vorrichtung, und dadurch die Anzahl von Bestimmungen deutlich erhöht werden.
Die Tatsache, dass durch die Verwendung der erfindungsgemässen Schichtplatten, bzw. Schichtplattenanordnung gleichzeitig zwei oder mehrere Schichtplatten entwickelt werden können, bedeutet eine wichtige Bereicherung der OPLC und ermöglicht eine breite Verwendung dieser analytischen Methode z. B. auf dem Gebiet der Pflanzenzüchtung, sowie in Klinik- und Gewerbelaboratorien.
Die Erfindung wird anhand der folgenden Beispiele näher erläutert.
Beispiel 1
Eine 20 x 20 cm grosse Kunststoffplatte aus Terephtalat beschichtet man in einer Dicke von 0,20 mm mit Silikagel mit einer Korngrösse von 5 jj.ni und mit einem Poliacrilamid Klebstoff mit einem mittleren Molekulargewicht. Der Poliacrilamid Klebstoff besitzt einen Trockenstoffgehalt von 1,8%. Der Rand der zwei, gegenüberliegenden Seiten wird in einer Breite von 5 mm freigelassen, wobei dieser nachträglich durch eine Kunststoff dispersion mit einem wasser- und lösungsmittelbeständigen Kunststoffilm überschichtet wird. Die Schichtplatte wird in der Mitte durch einem Spalt mit einer Breite von 160 mm und einem Durchmesser von 2 mm durchbrochen.
Auf vier solchen Schichtplatten trägt man 15 mm vom Durchbruch und 10 mm von den Seiten entfernt je 15 Substanzproben von gleicher Menge vom Farbtest CAMAG II auf. NachTrocknung der Substanzprobe legt man die Schichtplatten genau übereinander. Als untere Platte verwendet man eine Schichtplatte, die gleich imprägniert und mit der Substanzprobe versehen, jedoch nicht durchbrochen ist. Die erhaltene Schichtplattenanordnung legt man in eine Überdruckultramikrokammer und lässt mit Methylenchlorid entwickeln. Die Stromgeschwindigkeit des Laufmittels beträgt 185 cm3/h, die Laufzeit 4,5 Min. Auf den Schichtplatten erreicht man eine gleiche Frontentfernung, gleiche Rf-Werte und gleiche Diffusion.
Beispiel 2
Eine 20 x 40 cm grosse und 0,20 mm dicke Aluminiumplatte beschichtet man in einer Dicke von 0,25 mm mit Silikagel von einer durchschnittlichen Korngrösse von 5 (im, und mit einem Polivinylacetat Klebstoff, welcher einen Trok-kenstoffgehalt von 2% besitzt. Der Rand von zwei gegenüberliegenden Seiten wird in einer Breite von 3 mm freigelassen, wobei dieser nachträglich durch eine Kunststoffdispersion mit einem wasser- und lösungsmittelbeständigen Kuntstoff-film überschichtet wird. Die Schichtplatte wird in der Mitte durch einen Spalt von einer Länge von 182 mm und einer Breite von 0,8 mm durchbrochen.
Auf zwei solchen Schichtplatten trägt man 15 mm vom Durchbruch und 10 mm von den Seiten entfernt je 15 Substanzproben aus einer Mischung von 21 verschiedenen Eiweissaminosäuren, in einer Menge von je 1 jig Aminosäure pro Substanzflecken auf. Nach der Trocknung der Auftragungsflecken legt man die Schichtplatten genau übereinander. Als untere Schichtplatte verwendet man eine solche, die gleich imprägniert und mit Substanzprobe versehen, jedoch nicht durchbrochen ist. Die erhaltene Schichtplattenanordnung legt man in eine Überdruckultramikrokammer und lässt mit einer Mischung aus n-Butanol/Eisessig/Wasser in einem Verhältnis von 4:1:1 entwickeln. Die Laufzeit dauert 65 Min.
Nach der Entwicklung werden die Schichtplatten einzeln getrocknet. Eine Schichtplatte besprüht man mit 0,2%iger Ninhidrinreagent (0,2 g Ninhidrin, 80 cm3 Methanol, 20 cm3 Essigsäure, und 0,05 g CuS04 x 5 H2O), und behandelt 5 Minuten bei einer Temperatur von 100 °C. Das erhaltene farbige Chromatogram wird mit einem Chromatogramspektro-fotometer ausgewertet. Bei den 2x15 Proben haben wir eine Abweichung von ± 1,5% gefunden. Die andere Schichtplatte besprüht man mit Sakaguchireagenz, um das Arginin spezifisch auszuzeigen und quantitativ zu bestimmen.
Die dritte Schichtplatte besprüht man mit o-Phthaldialde-hydreagenz und das erhaltene Chromatogram wertet man mit Chromatogramspektrofotometer in UV-Licht aus.
Beispiel 3
Man geht analog dem Beispiel 1 vor, jedoch mit dem Unterschied, dass auf die vier Schichtplatten unterschiedliche Sorbenten aufgetragen werden: die untere Schichtplatte wird mit Silikagel mit einer durchschnittlichen Korngrösse von 5 um, die zweite Schichtplatte mit neutralem Aluminiumoxyd mit einer durchschnittlichen Korngrösse von 5 p.4m, die dritte mit Magnesiumsilikat mit einer durchschnittlichen Korngrösse von 5 ^im, und die vierte mit Kieselgur mit einer durchschnittlichen Korngrösse von 5 jxm beschichtet. Unter den angegebenen Bedingungen haben wir geringe Unterschiede in der Frontentfernung, sowie in den für das Sorbent charakteristischen Rt-Werten und Fleckendurchmesser erhalten.
Beispiel 4
Eine 20 x 20 cm grosse Kunststoffplatte aus Terephthalat beschichtet man in einer Dicke von 0,15 mm mit Silikagel von einer durchschnittlichen Korngrösse von 3 p.m, und mit einem Polyacrilamid Klebstoff mit hohem Molekulargewicht, welche einen Trockenstoffgehalt von 1,7% besitzt. Drei Ränder der Schichtplatte imprägniert man mit einer Kunststoffdispersion. Die vorbereitete Schichtplatte durchbricht man in einer Breite von 185 mm und einem Durch4
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messer von 1 mm, in der Nähe der paarlosen imprägnierten Seiten.
Auf fünf Stücke der oben beschriebenen Schichtplatten trägt man 15 mm vom Durchbruch und 10 mm von den Seiten entfernt je 15 Substanzproben aus gleicher Menge des Petrolätherextraktes einer Kamillenblumendroge auf. Nach der Trocknung der Auftragsflecken legt man die Schichtplatte genau übereinander. Als untere Schichtplatte verwendet man eine solche, die gleich imprägniert und mit der Substanzprobe versehen, jedoch nicht durchbrochen ist. Die erhaltene Schichtplattenanordnung legt man in eine Überdruckultramikrokammer und lässt mit Benzol entwickeln. Die Laufzeit beträgt 15,5 Min. Nach der Entwicklung werden die Schichtplatten einzeln getrocknet, dann mit konzentrierter Schwefelsäure, welche 0,2% Vanillin enthält, besprüht, bei 105 °C 5 Minuten behandelt und anschliessend visuell und mit einem Chromatogramspektrofotometer ausgewertet. Die erhaltenen Ergebnisse über die ätherischen Ölkomponenten der Kamille können bei chemotaxonomi-schen und Züchtungsuntersuchungen verwendet werden.
Beispiel 5
Man geht analog dem Beispiel 4 vor, jedoch mit dem Unterschied, dass Schichtplatten mit Konzentrierungszone verwendet werden, welche im inaktiven Bereich Kieselgur und im aktiven Bereich Silikagel mit einer durchschnittlichen Korngrösse von 3 m enthalten. Aufgrund des konzentrierenden Effektes können wir die ätherischen Ölkomponenten der Kamille als scharfe Streifen, im Vergleich mit dem Beispiel 4, mit einer deutlich erhöhten Auflösung erhalten.
Beispiel 6
Man geht analog dem Beispiel 4 vor, jedoch mit dem Unterschied, dass auf der unteren Seite der Schichtplatten je zwei laufmittelführende Kanäle ausgestaltet werden, wobei die Laufmittelführung der obenliegenden Schichtplatte mit einer Ansatzplatte gewährleistet wird, welche mit einem lauf-mittelführenden Kanal versehen ist. Als untere Schichtplatte verwendet man eine Überdruckplatte ohne Durchbruch.
Beispiel 7
Man geht analog dem Beispiel 4 vor, jedoch mit dem Unterschied, dass jede Schichtplatte mit einer Einsatzplatte bedeckt wird, welche mit Durchbruch und Kanal versehen 5 ist.
Beispiel 8
Eine 10 x 20 cm grosse und 0,15 mm dicke Aluminiumfolie beschichtet man in einer Dicke von 0,20 mm mit Silikagel mit einer durchschnittlichen Korngrösse von 5 jim, io und mit einem Polyacrilamid Klebstoff mit einem mittleren Molekulargewicht. Der Polyacrilamid Klebstoff besitzt einen Trockenstoffgehalt von 1,5%. Drei Ränder der Schichtplatte imprägniert man mit einer Kunststoffdispersion in einer Breite von 3 mm. Die Schichtplatte durchbricht man in einer 15 Breite von 80 mm und einem Durchmesser von 0,5 mm, in der Nähe der paarlosen imprägnierten Seiten.
Auf die Schichtplatten trägt man 15 mm vom Spalt entfernt je 15 Substanzproben einer Chloroformlösung von menschlichem Urin mit Dimedone abgeschiedenen Formal-20 dimedone (Abfallprodukt vom 25 ml Urin in 1 cm3 Chloroform, wovon 1 (i.1 verwendet werden auf. Vier so vorbereitete Schichtplatten werden zwischen fünf mit Durchbruch und Kanal versehenen Einsatzplatten (16) gelegt und in einer Überdruckultramikrokammer mit einer Mischung von 25 Benzol/Ethylacetat im Verhältnis von 95 :5 entwickelt. Die Laufzeit beträgt 12 Minuten, der äussere Polsterdruck ist 1,2 MPa. Als Reagent wird eine 0,2%ige Methanollösung von 2,6-Dichlorochinonchlorimid verwendet, und nach Trocknung wird mit einer 10%igen Wasserlösung von NaîCCb 30 behandelt. Nach qualitativer und quantitativer Auswertung kann man die Ergebnisse zu diagnostischen Untersuchungen verwenden.
Beispiel 9
35 Man geht analog dem Beispiel 8 vor, jedoch mit dem Unterschied, dass die fünf Einsatzplatten auch mit Durchbruch, bzw. Kanal zur Abführung des Laufmittels versehen sind. Mit diesem Schichtplattensystem wird eine Überlaufentwicklung durchgeführt, welche eine grössere Trennung 40 sichert.
B
4 Blatt Zeichnungen

Claims (13)

671288 PATENTANSPRÜCHE
1. Chromatographische Schichtplatte, bestehend aus einer Trägerplatte die an einer Seite mit Sorbent beschichtet ist, gekennzeichnet durch einen Durchbruch (4) durch die Trägerplatte (9) und Sorbentschicht (1) zum Durchlassen des Lauf mittels.
2. Schichtplatte nach Anspruch 1, gekennzeichnet durch einen Kanal (5,8) auf einer Seitenfläche zum Abführen des Lauf mittels.
3. Schichtplatte nach Anspruch 2, wobei der Kanal (5,8) sorbentfrei ist.
4. Schichtplatte nach Anspruch 2 oder 3, wobei der Kanal (5,8) an der sorbentfreien Seitenfläche der Schichtplatte angeordnet ist.
5. Schichtplatte nach einem der Ansprüche 1 bis 4, gekennzeichnet durch einen vorstehenden Rand (2) der Trägerplatte an einer oder mehreren Seitenkanten.
6. Schichtplatte nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, dass der vorstehende Rand (2) der Trägerplatte an zwei, gegenüberliegenden Seitenkanten und der Durchbruch (4) in der Mitte der Schichtplatte angeordnet ist.
7. Schichtplatte nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass der Durchbruch (4) in der Mitte angeordnet ist.
8. Schichtplatte nach einem der Ansprüche 1 bis 7, gekennzeichnet durch einen zweiten Durchbruch (14).
9. Schichtplatte nach einem der Ansprüche 1 bis 7, gekennzeichnet durch eine Konzentrierungszone (7) aus inaktivem Sorbent am Ort des Durchbruches (4).
10. Anordnung mit mehreren Schichtplatten nach einem der Ansprüche 1 bis 9, wobei die Durchbrüche (4) der einzelnen Platten miteinander fluchten.
11. Anordnung nach Anspruch 10, gekennzeichnet durch Einsatzplatten (10,16) zwischen den Schichtplatten.
12. Anordnung nach Anspruch 11, gekennzeichnet durch Einsatzplatten (10,16) mit Kanälen (12) für das Laufmittel.
13. Anordnung nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, dass die unterste Schichtplatte keinen Durchbruch aufweist.
CH5228/84A 1982-04-28 1984-10-30 CH671288A5 (de)

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CH (1) CH671288A5 (de)
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