CH489620A

CH489620A - Vorrichtung zur Erzielung scharf begrenzter nicht metallisierter Streifen beim Aufdampfen im Hochvakuum auf eine um eine Kühlwalze laufende Trägerbahn in einer kontinuierlich arbeitenden Bedampfungsanlage

Info

Publication number: CH489620A
Application number: CH1369667A
Authority: CH
Inventors: Hasler Peter; Uhrhahn Hans
Original assignee: Stanniolfabrik Burgdorf Ag
Priority date: 1967-10-02
Filing date: 1967-10-02
Publication date: 1970-04-30

Description

Vorrichtung zur Erzielung scharf begrenzter nicht metallisierter Streifen beim Aufdampfen im Hochvakuum auf eine um eine Kühlwalze laufende Trägerbahn in einer kontinuierlich arbeitenden Bedampfungsanlage Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf eine Vorrichtung zur Erzielung scharf begrenzter nicht metal lisierter Streifen beim Aufdampfen im Hochvakuum auf eine um eine Kühlwalze laufende Trägerbahn in einer kontinuierlich arbeitenden Bedampfungsanlage mit min destens einer der Kühlwalzenoberfläche angepassten, nicht mit umlaufenden Blende.

Als Trägerbahn kommen z. B. in Betracht: Kunst stoffolien, Papier oder synthetische Gewebe.

Bekannte derartige Vorrichtungen, bei denen unbe- dampfte Streifen oder Stellen durch Abdeckung mittels fester Blenden erreicht werden, hatten den Nachteil, dass die Ränder der bedampften Streifen und der - da nebenliegenden unbedampften Streifen unscharf bzw. unsauber und wolkig waren.

Diesen Nachteil behebt die erfindungsgemässe Vor richtung dadurch, dass zur Verringerung des Abstandes die der Kühlwalze zugewendeten Randzonen der Blende durch einen Materialauftrag so erhöht sind, dass der Abstand der Randzonen von der Kühlwalzenmantel- oberfläche weniger als etwa 50 p beträgt.

Im folgenden ist ein Ausführungsbeispiel der erfin dungsgemässen Vorrichtung anhand einer dasselbe dar stellenden Zeichnung näher erläutert. Es zeigt: Fig. 1 einen Querschnitt durch die an der nur teilweise gezeichneten Kühlwalze anliegenden Blende mit dem darunter befindlichen Verdampfer und Ab schirmblech und Fig. 2 einen Querschnitt nach der Linie II-II der Fig. 1.

Die nach Fig. 1 und 2 teilweise dargestellte Kühl walze 1 ist als Mittelwalze in bekannter Weise inner halb einer sogenannten Zweikammervakuumaufdampf- anlage angeordnet, um welche die nicht dargestellte Trägerbahn mit gleichbleibender Geschwindigkeit läuft. An der dem Verdampfer 2 mit seiner Spannvorrichtung 3 mit den Kühlrohren 12 und 13 zugekehrten Seite ist die dem Manteldurchmesser der Kühlwalze ange passte Blende 4 mittels der Befestigungsrohre 5 und 5a und den Spannstücken 6 und 6a befestigt, um Flächen teile bzw. Streifen der Trägerbahn gegen den Verdampfer abzudecken, damit beim Aufdampfen vorausbestimmte, nicht aufgedampfte Streifen oder Stellen auf der durch laufenden Trägerbahn entstehen.

Damit der als am besten geeignete Sollabstand der Blende bzw. ihrer wirkenden Kanten von der Walzen oberfläche von 20-50 p praktisch erreicht werden kann, wurde ein Weichlotrand 7 von 15m Breite und 2 mm Höhe aufgetragen, der danach touchiert und eingeschabt wurde. Der Abstand, der auf diese Weise der Walzen oberfläche angepassten Weichlotränder 7 von der Träger bahn beträgt annähernd 30 ,u. Anstelle von Weichlot kann auch Blei, Zinn, Tetrafluoräthylen oder ein anderes selbstschmierendes bzw. gleitfähiges Material aufgetra gen werden.

Die Blende wird mittels der Rohre 8, 8a, 8b und 8c gekühlt.

Zur Vermeidung einer überschneidung des Ver- dampfungswinkels bei der Anordnung mehrerer Ver dampfer und Blenden, besonders in der Randzone Be- dampfung/Blende und um die Ränder in Laufrichtung der Trägerbahn der nicht bedampften Streifen, also der durch die Blende 4 abgedeckten, noch genauer und scharfkantiger zu erreichen, sind noch zusätzlich ver stellbare Abschirmbleche 9 mit einer Kühlung 10 so angeordnet, dass ein Winkel (a) von 35 bis zu einem Winkel (b) von 60 erreicht wird.

Die Kontaktschiene 11 mit ihren Kühlrohren 12 und 13 liegt ebenfalls innerhalb der unteren Vakuum aufdampfanlage.

Die Verdampfer mit Zubehör sind auf auf der Mon tageschiene 14 befestigt.

Zur Erzielung besonders breiter bzw. besonders schmaler, neben bedampften Streifen liegender, unbe- dampfter Streifen werden die Blenden und die Ab schirmungen als auch der Abstand der Verdampfer von der Trägerbahn bzw. der zu bedampfenden Flächen sowie auch der Verdampfungswinkel (a) und (b) ent sprechend angeordnet bzw. eingestellt.

Mit der erfindungsgemässen Vorrichtung ist es mög lich, besonders für elektrotechnische Verwendungs zwecke nicht bedampfte Streifen, welche nur 3 ö schmä ler als die Blenden sind, zu erzielen.

Claims

PATENTANSPRUCH Vorrichtung zur Erzielung scharf begrenzter, nicht metallisierter Streifen beim Aufdampfen von Metall im Hochvakuum auf eine um eine Kühlwalze laufende Trä gerbahn in einer kontinuierlich arbeitenden Bedamp- fungsanlage mit mindestens einer die Kühlwalzenman- teloberfläche entsprechend abdeckenden, in geringem Abstand angeordneten, nicht mit umlaufender Blende, dadurch gekennzeichnet, dass zur Verringerung des Ab standes die der Kühlwalze (1) zugewendeten Randzonen (7) der Blende (4) durch einen Materialauftrag so er höht sind, dass der Abstand der Randzonen (7) von der Kühlwalzenmanteloberfläche weniger als etwa 50 Et beträgt.

UNTERANSPRÜCHE 1. Vorrichtung nach Patentanspruch, dadurch ge kennzeichnet, dass zur Erreichung eines Winkels (a) von annähernd 35 bis zu einem Winkel (b) von an nähernd 60 beim Verdampfen mindestens ein verstell bares Abschirmblech (9) angeordnet ist. 2. Vorrichtung nach Patentanspruch, dadurch ge kennzeichnet, dass die Randzonen aus Weichlot bestehen. 3. Vorrichtung nach Patentanspruch, dadurch ge kennzeichnet, dass die Randzonen aus einem gleitfähigen Metall oder einer gleitfähigen Metallegierung bestehen. 4. Vorrichtung nach Patentanspruch, dadurch ge kennzeichnet, dass die Randzonen aus einem gleitfähigen Kunststoff bestehen. 5.

Vorrichtung nach Patentanspruch und den Un teransprüchen 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, dass die Abschirmung mit einer Kühleinrichtung versehen ist. 6. Vorrichtung nach Patentanspruch und den Un teransprüchen 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, dass die Abschirmung verstellbar ist. Anmerkung des Eidg. Amtes für geistiges Eigentum: Sollten Teile der Beschreibung mit der im Patentanspruch gegebenen Definition der Erfindung nicht in Einklang stehen, so sei daran erinnert, dass gemäss Art.51 des Patentgesetzes der Patentanspruch für den sachlichen Geltungs bereich des Patentes massgebend ist.