FR2416500A1 - Methode de production d'images materielles - Google Patents
Methode de production d'images materiellesInfo
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- H05K3/10—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern
- H05K3/14—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern using spraying techniques to apply the conductive material, e.g. vapour evaporation
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Abstract
Méthode de production d'images matérielles suivant laquelle un substrat est fixé avec un masque à un support, et une pellicule évaporée d'une substance souhaitée est formée sur la surface du substrat grâce à des sources d'évaporation prévues en face du substrat. Le masque est fabriqué pour avoir une pluralité de ponts de renforcement formés dans les parties souhaitées des ouvertures de masque. Le masque est espacé du substrat par une petite distance durant l'évaporation, de sorte qùe cette dernière est effectuée par deux ouvertures d'image situées sur les deux côtés de chaque pont. L'évaporation est réalisée grâce à des sources d'évaporation placées de telle sorte que la ligne reliant ensemble un des bords de chaque pont et la source d évaporation située sur le même côté par rapport à la direction substantielle du pont et une autre ligne reliant ensemble l'autre bord du pont et la source d'évaporation située sur le même côté que l'autre bord se croisent l'une avec l'autre en un point de la surface du substrat ou de l'espace entre la surface du substrat et le masque. Cette méthode permet la production d'images qui ne pourraient jamais être produites avec la méthode classique d'évaporation.
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