CH447418A - Verfahren zum Stumpfschweissen zweier Teile aneinander mittels Elektronenstrahlen - Google Patents

Description

  Verfahren zum Stumpfschweissen zweier Teile aneinander mittels     Elektronenstrahlen       Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zum  Stumpfschweissen zweier Teile aneinander unter Ver  wendung von Elektronenstrahlen.  



  Das Verfahren zeichnet sich     erfindungsgemäss    da  durch aus, dass längs der Verbindungsfläche zwischen  den beiden Teilen zwei Lücken vorgesehen werden, dass  die Teile mittels Elektronenstrahlen von gegenüberlie  genden Seiten der Teile aus bis     zu    den entsprechenden  Lücken verschweisst werden und dass zwischen den  zwei Lücken Material angeordnet wird, um die Gefahr  eines Übergreifens einer Verschweissung auf die von  den Strahlen auf der anderen Seite bewirkte     Verschweis-          sung    mindestens zu verringern.  



  Das Material kann zu einem der beiden Teile ge  hören oder ein     getrenntes    Element sein.  



  In der beiliegenden Zeichnung erläutern  Fig. 1 und 2 zwei bekannte Schweissverfahren und  Fig. 3A, 3B ein weiteres bekanntes Verfahren.  



  Fig. 4A, 4B, 5A und 513, 6A und 6B und 7A und  7B erläutern vier entsprechende Beispiele der Erfin  dung.  



  Die Fig. 1 zeigt eine Stumpfschweissnaht, die durch  einen Elektronenstrahl gebildet wurde. Die     Schweiss-          naht    ist     zufriedenstellend,    da die Stärke der Teile noch  gut innerhalb der Eindringtiefe des Strahles sich befin  det, aber bei grösseren Materialstärken nimmt die Stär  ke der Verschweissung ab, wie in Fig. 2 gezeigt, so dass  die Ausführung kritisch wird. Ein anderer Vorschlag  besteht darin, die beiden Teile so auszubilden, dass sie,  wenn sie aneinander liegen, eine Lücke 11     umschlies-          sen,    wie sie in Fig. 3A gezeigt ist.

   Die Schweissung wird       dann    in zwei     Stufen    von gegenüberliegenden Seiten der  Teile ausgeführt, wobei der Strahl in jedem Fall bis zur  Lücke durchdringt und die in Fig. 3B gezeigte     Ver-          schweissung    liefert.  



  Die anhand der Fig. 3A und 3B erläuterte Technik       kann    nicht voll befriedigen, da trotz der Lücke die  Strahlen von gegenüberliegenden Seiten aus immer noch    in unzulässiger Weise über die Lücke hinaus wirken.  Die Fig. 4 und 7 zeigen Beispiele gemäss dem     erfin-          dungsgemässen    Schweissverfahren, bei dem die Ge  fahr einer derartigen Erscheinung verhindert oder redu  ziert wird.  



  In Fig. 4 sind die Teile so geformt, dass sie     aneinan-          dergesetzt,    zwei Lücken 12, 13 umschliessen, die durch  hervorstehende Stücke der Teile gebildet sind. Infolge  des     Übergreifens    der Elektronenstrahlen weist das Ma  terial zwischen den beiden Lücken gewisse Schäden auf.  



  Fig. 5 zeigt eine andere Anordnung, in der das Ma  terial zwischen den beiden Lücken aus einer Zunge 14  eines der beiden Teile besteht. Diese Anordnung ist be  sonders dort verwendbar, wo das Teil, an dem die  Zunge angeordnet ist, aus einem Material besteht, das  leichter zu schweissen ist als das andere Teil.  



  In Fig. 6 bilden die beiden Teile eine gemeinsame  Lücke, die erst durch ein eingelegtes Stück 15 in zwei  Lücken aufgeteilt wird, das zum Beispiel aus einem  Material wie Wolfram oder Kupfer besteht und die  überschüssige Eindringenergie des Strahles aufnimmt.  



       Fig.    7 zeigt ein Beispiel, in welchem die     Schweiss-          linien    auf gegenüberliegenden Seiten gegeneinander ver  setzt sind.  



  Beim Schweissen von Längsnähten kann das an  hand der     Fig.    4 bis 7 beschriebene Verfahren ohne  Schwierigkeit angewendet werden. In     Fig.    6 kann das  getrennte Stück     Material    von den zu verschweissenden  Teilen eingeschlossen oder durch einen äusseren Halter  gefasst sein und kann nach dem Schweissvorgang wieder  entfernt werden.  



  Für kreisförmige     Schweissungen    kann das Verfah  ren ebenfalls angewendet werden, aber in den Fällen von       Fig.    5 und 6 müsste eines der beiden Teile nochmals  unterteilt sein, um den Zusammenbau zu ermöglichen.  In     Fig.    6 könnte das     zusätzliche    Stück Material in seiner  Lage an einem Teil festgehalten werden, während das      andere Teil unterteilt sein müsste, aber das zusätzliche  Stück liesse sich nicht entfernen.

Claims (1)

1. PATENTANSPRUCH I Verfahren zum Stumpfschweissen von zwei Teilen aneinander mittels Elektronenstrahlen, dadurch ge kennzeichnet, dass längs der Verbindungsfläche zwi schen den beiden Teilen zwei Lücken (12, 13) vorge sehen werden, dass die Teile mittels Elektronenstrahlen von gegenüberliegenden Seiten der Teile aus bis zu den entsprechenden Lücken verschweisst werden und dass zwischen den zwei Lücken Material (14, 15) angeordnet wird, um die Gefahr eines Übergreifens einer Ver- schweissung auf die von den Strahlen auf der anderen Seite bewirkte Verschweissung mindestens zu verrin gern. UNTERANSPRÜCHE 1.

   Verfahren nach Patentanspruch I, dadurch ge kennzeichnet, dass das zwischen den zwei Lücken an geordnete Material (14) aus einem Stück eines Teiles oder je einem Stück beider Teile gebildet ist (Fig. 5A, 5 B). 2. Verfahren nach Patentanspruch I, dadurch ge kennzeichnet, dass das zwischen den zwei Lücken an geordnete Material (15) aus einem getrennten Stück besteht (Fig. 6A, 6 B). PATENTANSPRUCH II Stumpfgeschweisster Gegenstand, hergestellt nach dem Verfahren gemäss Patentanspruch I.