CH378546A - Einrichtung zum tiegelfreien Zonenschmelzen von Halbleiterstäben, insbesondere Siliziumstäben - Google Patents

Einrichtung zum tiegelfreien Zonenschmelzen von Halbleiterstäben, insbesondere Siliziumstäben

Info

Publication number
CH378546A
CH378546A CH502160A CH502160A CH378546A CH 378546 A CH378546 A CH 378546A CH 502160 A CH502160 A CH 502160A CH 502160 A CH502160 A CH 502160A CH 378546 A CH378546 A CH 378546A
Authority
CH
Switzerland
Prior art keywords
rods
crucible
free zone
zone melting
particular silicon
Prior art date
Application number
CH502160A
Other languages
English (en)
Inventor
Wolfgang Dr Keller
Reimer Dipl Phys Emeis
Original Assignee
Siemens Ag
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Siemens Ag filed Critical Siemens Ag
Publication of CH378546A publication Critical patent/CH378546A/de

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B13/00Single-crystal growth by zone-melting; Refining by zone-melting
    • C30B13/16Heating of the molten zone
    • C30B13/20Heating of the molten zone by induction, e.g. hot wire technique

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
  • Liquid Deposition Of Substances Of Which Semiconductor Devices Are Composed (AREA)
  • Crucibles And Fluidized-Bed Furnaces (AREA)
  • Manufacture And Refinement Of Metals (AREA)
CH502160A 1959-05-14 1960-05-02 Einrichtung zum tiegelfreien Zonenschmelzen von Halbleiterstäben, insbesondere Siliziumstäben CH378546A (de)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DES62993A DE1226984B (de) 1959-05-14 1959-05-14 Vorrichtung zum tiegelfreien Zonenschmelzen von Halbleiterstaeben
DES0063624 1959-06-25

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CH378546A true CH378546A (de) 1964-06-15

Family

ID=25995694

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CH502160A CH378546A (de) 1959-05-14 1960-05-02 Einrichtung zum tiegelfreien Zonenschmelzen von Halbleiterstäben, insbesondere Siliziumstäben
CH665960A CH388636A (de) 1959-05-14 1960-06-10 Einrichtung zum tiegelfreien Zonenschmelzen von Halbleiterstäben

Family Applications After (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CH665960A CH388636A (de) 1959-05-14 1960-06-10 Einrichtung zum tiegelfreien Zonenschmelzen von Halbleiterstäben

Country Status (4)

Country Link
US (1) US3053918A (de)
CH (2) CH378546A (de)
DE (1) DE1226984B (de)
GB (2) GB869461A (de)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3773499A (en) * 1968-04-03 1973-11-20 M Melnikov Method of zonal melting of materials
DE2158274A1 (de) * 1971-11-24 1973-05-30 Siemens Ag Induktionsheizspule zum tiegelfreien zonenschmelzen von staeben aus halbleitermaterial
DE2217407A1 (de) * 1972-04-11 1973-11-29 Siemens Ag Induktionsheizspule zum tiegelfreien zonenschmelzen
DE2919988A1 (de) * 1979-05-17 1980-11-27 Siemens Ag Stromzufuehrung in koaxialbauweise

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2686864A (en) * 1951-01-17 1954-08-17 Westinghouse Electric Corp Magnetic levitation and heating of conductive materials
US2664496A (en) * 1952-11-25 1953-12-29 Westinghouse Electric Corp Apparatus for the magnetic levitation and heating of conductive materials
US2792317A (en) * 1954-01-28 1957-05-14 Westinghouse Electric Corp Method of producing multiple p-n junctions
US2743199A (en) * 1955-03-30 1956-04-24 Westinghouse Electric Corp Process of zone refining an elongated body of metal
US2809905A (en) * 1955-12-20 1957-10-15 Nat Res Dev Melting and refining metals
US2870309A (en) * 1957-06-11 1959-01-20 Emil R Capita Zone purification device

Also Published As

Publication number Publication date
GB876467A (en) 1961-09-06
US3053918A (en) 1962-09-11
GB869461A (en) 1961-05-31
CH388636A (de) 1965-02-28
DE1408558A1 (de) 1969-12-11
DE1226984B (de) 1966-10-20
DE1408558B2 (de) 1972-07-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CH397869A (de) Halbleiteranordnung
CH380384A (de) Einrichtung zum tiegelfreien Zonenschmelzen von lotrecht stehenden Stäben aus Halbleitermaterial
CH401273A (de) Verfahren zum Herstellen von Halbleiterelementen
CH365362A (de) Vorrichtung zum tiegelfreien Zonenziehen von stabförmigem Halbleitermaterial
CH391106A (de) Verfahren zum Herstellen von Halbleiteranordnungen
BE578011A (fr) Procédé d'étirage pour semi-conducteur
FR1246041A (fr) Dispositif semi-conducteur et procédé pour sa fabrication
CH407962A (de) Vorrichtung zum Herstellen von Halbleiterstäben
CH375527A (de) Vorrichtung zum tiegelfreien Zonenschmelzen
CH380960A (de) Vorrichtung zur Halterung von stabförmigem Halbleitermaterial in Einrichtungen zum tiegelfreien Zonenschmelzen
CH386116A (de) Verfahren zum tiegelfreien Zonenschmelzen von Halbleiterstäben aus Silizium
CH389249A (de) Verfahren zum tiegelfreien Zonenschmelzen von Halbleitermaterial
CH416558A (de) Vorrichtung zum tiegelfreien Zonenschmelzen von Halbleitermaterial
AT246202B (de) Einrichtung zum gleichmäßigen und schnellen Abkühlen von Werkstücken
CH378546A (de) Einrichtung zum tiegelfreien Zonenschmelzen von Halbleiterstäben, insbesondere Siliziumstäben
CH367898A (de) Verfahren zum Herstellen von Halbleitervorrichtungen
CH430664A (de) Verfahren zum tiegellosen Zonenschmelzen von Stäben aus Silicium
CH427752A (de) Einrichtung zum tiegelfreien Zonenschmelzen von lotrecht stehenden Stäben aus Halbleitermaterial
CH401634A (de) Verfahren zum formgebenden Bearbeiten von Halbleiterkristallen
CH410196A (de) Verfahren zum Herstellen von Halbleiteranordnungen
FR1362344A (fr) Procédé de marquage des cristaux semi-conducteurs
CH413112A (de) Verfahren zum Herstellen von Halbleitervorrichtungen
CH387803A (de) Verfahren und Einrichtung zum Dotieren von Halbleiterkristallen aus der Gasphase
CH420069A (de) Vorrichtung zum tiegelfreien Zonenschmelzen von Halbleitermaterial
FR1260827A (fr) Dispositifs à semi-conducteur et procédé pour les fabriquer