CH370612A - Process for the production of electroplated copper coatings - Google Patents

Process for the production of electroplated copper coatings

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CH370612A
CH370612A CH5441958A CH5441958A CH370612A CH 370612 A CH370612 A CH 370612A CH 5441958 A CH5441958 A CH 5441958A CH 5441958 A CH5441958 A CH 5441958A CH 370612 A CH370612 A CH 370612A
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CH
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acid
production
copper
copper coatings
coatings
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CH5441958A
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German (de)
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Wennemar Dr Strauss
Wolf-Dieter Dr Willmund
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Dehydag Gmbh
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    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D3/00Electroplating: Baths therefor
    • C25D3/02Electroplating: Baths therefor from solutions
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Description

  

  Zusatzpatent zum Hauptpatent Nr. 340395    Verfahren zur Herstellung galvanischer Kupferüberzüge    Gegenstand des Hauptpatentes Nr. 340395 ist  ein Verfahren zur Herstellung galvanischer Metall  überzüge, das dadurch gekennzeichnet ist, dass man  den galvanischen Bädern vor oder während der       Galvanisierung        Glanzgalvanisierungsmittel    und orga  nische     carboxylgruppenfreie    Stickstoffverbindungen  zusetzt, die wenigstens zwei basische, direkt oder  über einen Kohlenwasserstoffrest miteinander ver  bundene Stickstoffatome enthalten.  



  Durch den Zusatz der Verbindungen des Haupt  patentes zu galvanischen Bädern wird erreicht, dass  anorganische Verunreinigungen, wie sie z. B. in den  Härtebildnern des Wassers sowie in     Metallsalzen     technischer Qualität vorliegen, keine nachteilige Wir  kung auf die Eigenschaften von Kupferüberzügen  ausüben, welche unter Verwendung von     Glanzmitteln     hergestellt wurden. Weiterhin besitzen die genannten  Verbindungen die Eigenschaft, die     Duktilität    galva  nischer Überzüge zu erhöhen.  



  Es wurde nun in Weiterbildung dieses Verfahrens  gefunden, dass man bei der Herstellung von Kupfer  überzügen mit besonderem Vorteil auch solche or  ganische     carboxylgruppenfreie    Stickstoffverbindun  gen, die wenigstens zwei basische, über mindestens  einen gegebenenfalls substituierten Kohlenwasser  stoffrest miteinander verbundene Stickstoffatome ent  halten, verwenden kann, die mindestens eine     -S03H-          Gruppe    bzw.     -0-SO        3H-Gruppe    enthalten, welche  gegebenenfalls in Form ihrer     Salze    mit anorganischen  oder organischen Basen vorliegen können.

      Verbindungen dieser Art sind beispielsweise:       N-Äthyl-N-ss-aminoäthyl-aminoäthansulfonsäure,          N,N-Diäthyl-äthylendiamino-N',N'-bis(-äthan-          sulfonsäure),          1,3-Diaminopropan-2-sulfonsäure,            N,N,N',N'-Tetra-n-butyl-1,3-diaminopropanol-          2-monoschwefelsäureester,          Piperazin-N,N'-bis(-2-oxypropansulfonsäure),          2,5-Diaminobenzol-l-sulfonsäure,          2,5-Diaminobenzol-1,4-disulfonsäure.     Durch diese Zusätze erreicht man,

   dass die Glanz  mittel in Verunreinigungen enthaltenden Bädern über  den gesamten wirksamen     Stromdichtebereich    zu  einwandfreien     Kupferglanzniederschlägen    führen.  Darüber hinaus werden die genannten Zusatzstoffe in  wesentlich geringerem Masse von den galvanischen  Metallüberzügen aufgenommen als die entsprechen  den Verbindungen des Hauptpatentes, wodurch sich  ein sparsamer Verbrauch ergibt.  



  Die Anwendungsbedingungen entsprechen hin  sichtlich der erforderlichen     Aufwandmengen,    Arbeits  temperaturen usw. weitgehend denjenigen des Haupt  patentes. So     liegt    beispielsweise die Anwendungs  konzentration der erfindungsgemäss zu verwendenden  Stickstoffverbindungen zwischen 0,01 und 15     g/1          Badflüssigkeit,    vorzugsweise zwischen 3 und 12     g/1.     Im allgemeinen wird bei Temperaturen von 20-60  C  galvanisiert unter Anwendung von Stromdichten zwi  schen 0,5-15     Amp./dm2.       <I>Beispiele</I>    1.

   Einem sauren Kupferbad, das 200     g/1    tech  nisches     Kupfersulfat,    60     gjl        konzentrierte    Schwefel  säure und als Glanzmittel 1,2     gil        1,3,5-Triazin-2,4,6-          tris-(thio-2-oxypropansulfonsäure)    bzw. deren Na  triumsalz enthält, setzt man zur     Unschädlichmachung     der im Bad enthaltenen Verunreinigungen 2     g/1        Pi-          perazin    -     N,N'    -bis - (2 -     oxypropansulfonsäure)    bzw.  deren     Natriumsalz    zu.

   Die in diesem Bad     herstell-          baren    Kupferüberzüge auf Eisen, Eisenlegierungen  usw. fallen hochglänzend aus. Arbeitet man ohne      Zusatz von     Piperazin-N,N'-bis-(2-oxypropansulfon-          säure),    erzielt man unter sonst gleichen Bedingungen  nur weniger glänzende Kupferniederschläge.  



  2. Versetzt man ein saures Kupferbad, welches  250 g/1 technisches     Kupfersulfat,    70     g/1        konzentrierte     Schwefelsäure und 0,3     g/1        N,N-diäthyl-dithiocarbamin-          säure-äthylester- )-sulfonsaures    Natrium als Glanz  mittel enthält, mit 1,5     g/1        N,N,N',N'-Tetra-n-butyl-          1,3-diaminopropanol-2-monoschwefelsäureester,

      so  werden bei der     Galvanisierung        cyanidisch        vorver-          kupferter    Eisenbleche hochglänzende Kupfernieder  schläge erhalten. Zu den besten Kupferüberzügen  gelangt man, wenn bei 25  C und mit Stromdichten  zwischen 1 und 6     Amp(dm?    gearbeitet wird. Wird  ohne den Zusatz von 1,5 g/1     N,N,N',N'-Tetra-n-butyl-          1,3-diaminopropanol-2-monoschwefelsäureester    ge  arbeitet, so tritt nur im     Stromdichtebereich    von 2 bis  3     Amp(dm2    ein brauchbarer Glanzeffekt auf.  



  3. Zu besonders guten Glanzeffekten gelangt  man, wenn     ein    mit<B>180</B>     gjl        Kupfersulfat    und 90     g/1          konzentrierter    Schwefelsäure angesetztes Kupferbad  mit 0,3     g/1    1,3,5-Triazin-2,4,6-tris-(thio-2-oxypropan-         sulfonsäure)    und 0,1     g/1        N,N-diäthyl-dithiocarbamin-          säure-äthylester-co-sulfonsaurem    Natrium als Glanz  mittel und 1 g/1     2,5-Diaminobenzol-1,4-disulfonsäure          versetzt    wird.

   Bei Temperaturen zwischen 20 und  45  C kann bei Stromdichten bis zu 13     Ampjdm2     galvanisiert werden. Ohne den Zusatz von 2,5     Di-          aminobenzol-1,4-disulfonsäure    fallen die Kupfer  niederschläge weniger glänzend aus.



  Additional patent to main patent no.340395 Process for the production of electroplated copper coatings The subject of the main patent no.340395 is a process for the production of electroplated metal coatings, which is characterized in that bright electroplating agents and organic nitrogen compounds free of carboxyl groups are added to the electroplating baths before or during electroplating contain at least two basic nitrogen atoms connected to one another directly or via a hydrocarbon radical.



  By adding the compounds of the main patent to electroplating baths, inorganic contaminants such as B. in the hardness constituents of water and in metal salts of technical quality, we have no adverse effect on the properties of copper coatings that have been produced using brighteners. Furthermore, the compounds mentioned have the property of increasing the ductility of galvanic coatings.



  In a further development of this process, it has now been found that in the production of copper coatings it is particularly advantageous to use those organic nitrogen compounds which are free of carboxyl groups and contain at least two basic nitrogen atoms connected to one another via at least one optionally substituted hydrocarbon radical contain at least one -S03H- group or -0-SO 3H- group, which can optionally be present in the form of their salts with inorganic or organic bases.

      Compounds of this type are for example: N-ethyl-N-ss-aminoethyl-aminoethanesulfonic acid, N, N-diethyl-ethylenediamino-N ', N'-bis (-ethane-sulfonic acid), 1,3-diaminopropane-2-sulfonic acid, N, N, N ', N'-Tetra-n-butyl-1,3-diaminopropanol-2-monosulfuric acid ester, piperazine-N, N'-bis (-2-oxypropanesulfonic acid), 2,5-diaminobenzene-1-sulfonic acid , 2,5-diaminobenzene-1,4-disulfonic acid. With these additions one achieves

   that the gloss medium in baths containing impurities lead to perfect copper luster deposits over the entire effective current density range. In addition, the additives mentioned are absorbed by the galvanic metal coatings to a much lesser extent than the corresponding compounds of the main patent, which results in economical consumption.



  The application conditions largely correspond to those of the main patent in terms of the required application rates, working temperatures, etc. For example, the application concentration of the nitrogen compounds to be used according to the invention is between 0.01 and 15 g / l bath liquid, preferably between 3 and 12 g / l. In general, electroplating is carried out at temperatures of 20-60 C using current densities between 0.5-15 Amp./dm2. <I> Examples </I> 1.

   An acidic copper bath, the 200 g / 1 technical copper sulfate, 60 gjl concentrated sulfuric acid and 1.2 g of 1,3,5-triazine-2,4,6-tris- (thio-2-oxypropanesulfonic acid) or whose sodium salt contains, to render the impurities in the bath harmless, 2 g / 1 of piperazine - N, N '-bis - (2 - oxypropanesulfonic acid) or its sodium salt are added.

   The copper coatings on iron, iron alloys, etc. that can be produced in this bath are high-gloss. If you work without the addition of piperazine-N, N'-bis- (2-oxypropanesulfonic acid), only fewer shiny copper deposits are obtained under otherwise identical conditions.



  2. If an acidic copper bath is added, which contains 250 g / 1 technical grade copper sulfate, 70 g / 1 concentrated sulfuric acid and 0.3 g / 1 N, N-diethyl-dithiocarbamic acid-ethyl ester-) -sulfonic acid sodium as a gloss agent, with 1.5 g / 1 N, N, N ', N'-tetra-n-butyl-1,3-diaminopropanol-2-monosulphuric acid ester,

      in this way, high-gloss copper deposits are obtained when electroplating cyanidically pre-coppered iron sheets. The best copper coatings are obtained when working at 25 C and with current densities between 1 and 6 Amp (dm?). Without the addition of 1.5 g / 1 N, N, N ', N'-Tetra-n- butyl-1,3-diaminopropanol-2-monosulphuric acid ester works, a useful gloss effect only occurs in the current density range of 2 to 3 amps (dm2.



  3. Particularly good gloss effects are achieved if a copper bath made with <B> 180 </B> g / l copper sulfate and 90 g / l concentrated sulfuric acid with 0.3 g / l 1,3,5-triazine-2,4, 6-tris- (thio-2-oxypropanesulfonic acid) and 0.1 g / 1 N, N-diethyl-dithiocarbamic acid ethyl ester-co-sulfonic acid sodium as a gloss medium and 1 g / 1 2,5-diaminobenzene 1,4-disulfonic acid is added.

   At temperatures between 20 and 45 C it is possible to electroplate with current densities of up to 13 Ampjdm2. Without the addition of 2,5 diaminobenzene-1,4-disulfonic acid, the copper precipitates are less shiny.

 

Claims (1)

PATENTANSPRUCH Verfahren zur Herstellung galvanischer Kupfer überzüge, dadurch gekennzeichnet, dass man den galvanischen Bädern vor oder während der Galva- nisierung Glanzgalvanisierungsmittel und solche or ganische carboxylgruppenfreie Stickstoffverbindungen zusetzt, die wenigstens zwei basische, über min destens einen gegebenenfalls substituierten Kohlen wasserstoffrest miteinander verbundene Stickstoff atome enthalten und mindestens eine gegebenen falls in Form eines Salzes einer anorganischen oder organischen Base vorliegende -S03H-Gruppe bzw. -O-SO,H-Gruppe aufweisen. PATENT CLAIM Process for the production of galvanic copper coatings, characterized in that the galvanic baths are added to the galvanic baths before or during the galvanizing, bright galvanizing agents and organic nitrogen compounds which are free of carboxyl groups and which contain at least two basic nitrogen atoms connected to one another via at least one optionally substituted hydrocarbon radical and at least one —O — SO, H group or —O — SO, H group, optionally present in the form of a salt of an inorganic or organic base.
CH5441958A 1954-03-13 1958-01-07 Process for the production of electroplated copper coatings CH370612A (en)

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