BRPI0720673A2 - Composição sensível à radiação eletromagnetica ou térmica - Google Patents

Composição sensível à radiação eletromagnetica ou térmica Download PDF

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BRPI0720673A2
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Adolf Kaeser
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Description

Relatório Descritivo da Patente de Invenção para "COMPOSI- ÇÃO SENSÍVEL À RADIAÇÃO ELETROMAGNETICA OU TÉRMICA".
A presente invenção refere-se a uma composição de revesti- mento para a marcação de substratos, a um processo para a preparação dessas composições, a substratos revestidos com essas composições e a um processo para a preparação das mesmas, a um processo para a prepa- ração de substratos marcados com a utilização dessas composições, e a substratos marcados obteníveis por esse último processo.
As embalagens usualmente necessitam ser marcadas com in- formações tais como logotipos, códigos de barras, datas de fim de validade ou números de lote. Uma maneira de conseguir isso é através do revesti- mento da embalagem com uma composição, que quando do tratamento com uma energia, tal como calor, forma uma marcação visível.
A WO 02/068205 descreve um método para a marcação de um objeto, em que o objeto compreende ou está revestido com uma formulação composta por um material que tenha grupos funcionais tais como os com- postos poli-hidróxi, e um composto de metal tal como um metal alcalino, me- tal alcalino-terroso, óxidos de ferro ou sais e compostos organometálicos. Os dois componentes reagem na irradiação com um laser para a formação de um produto de cor contrastante.
As composições da WO 02/068205 tem a desvantagem de que são exigidas energias elevadas (usualmente de pelo menos energia de laser de 5 watts) para a formação da marcação e quase sempre são obtidas mar- cações de baixo contraste. Além disso, as composições descritas não são adequadas para o revestimento de papel ou de películas de polímero.
É um objetivo da presente invenção prover composições para revestimento que produzam marcações de alto contraste quando da exposi- ção a baixas energias. Além disso, as composições de revestimento também devem ser adequadas para o revestimento de papel ou de películas de polí- mero.
Esses objetivos são resolvidos através da composição para re- vestimento de acordo com a reivindicação 1, os processos de acordo com as reivindicações 9, 11 e 12, e os substratos de acordo com as reivindicações 10e 13.
A composição da presente invenção compreende (i) a) um com- posto que contenha um grupo carbonil livre e b) um nucleófilo ou (ii) um composto que contenha um grupo carbonil livre, cujo composto é substituído com um ou mais grupos nucleófilos.
O composto que contém um grupo carbonil livre pode ser qual- quer composto que contenha um grupo carbonil, que seja capaz de reagir com um nucleófilo tal como uma amina. Os exemplos de compostos que contém um grupo carbonil livre são os aldeídos, cetonas e carboidratos de redução.
Os aldeídos podem ser da fórmula R1-C(O)-H. R1 pode ser hi- drogênio, C1-12 alquila, C2-12 alquenila, arila ou C4-8 cicloalquila, em que Cm2 alquila, C2-12 alquenila, arila e C4-8 cicloalquila podem ser não-substituídas ou substituídas com uma ou mais de Cm2 alquila, C2-12 alquenila, arila, C4.8 ci- cloalquila, -O-C-i-12-alquila, hidroxila, halogênio, amino, -NH-C(=NH)-NH2, -SH, -S-Cv12 alquila, -COOH, -C(O)-NH2, -OC(O)R2 e/ou -C(O)-OR3, desde que que C1^2 alquila e C2.12-alquenila sejam não-substituídas com C-M2- alquila ou C2--I2 alquenila, arila for não-substituída com arila e C4.8 alquila não seja substituída com C4.8 alquila, e em que um substituinte de CM2-alquila ou arila possa ser adicionalmente substituído com um ou mais -Cm2 alquila, -O-C1-I2 alquila, hidroxila, halogênio, amino, -NH-C(=NH)-NH2, -SH, -S-Cm2- alquila, -COOH, -C(O)-NH2, -OC(O)R2 e/ou -C(O)-OR3, desde que que um substituinte de Cm2 alquila não seja adicionalmente substituído com um substituinte de Cm2 alquila. R2 e R3 podem ter o mesmo significado como o de R1, exceto em que R2 e R3 não podem ser hidrogênio ao mesmo tempo.
A C1--I2 alquila pode ser ramificada ou não-ramificada. O exem- plos de Cm2 alquila são metila, etila, propila, isopropila, butila, isobutila, terc- butila, pentila, hexila, heptila, octila, nonila, decila, undecila e dodecila. Um exemplo de uma C2.12 alquenila é a alila. Os exemplos de uma arila são feni- Ia1 naftila, indolila, imidazolila, 1,3,5-triazinila e piridila. Os exemplos de C4-8 cicloalquila são ciclopentila e ciclohexila. Os exemplos de halogênio são o cloro e o bromo.
De preferência, R1 é Cm2 alquila, C2-12 alquenila, arila ou C4.8 cicloalquila, em que Cm2 alquila, C2-12 alquenila, arila e C4.8 cicloalquila po- dem ser não-substituídas ou substituídas com um ou mais de C^12 alquila, arila, C4-8 cicloalquila, -O-Cm2 alquila, hidroxila, amino, -COOH, -C(O)-NH2, -OC(O)R2 e/ou -C(O)-OR3, desde que Cn2 alquila e C2-12 alquila não sejam substituídas por Cri2alquila, arila não seja substituída por arila e C4-8 alqui- la não seja substituída por C4-8 alquila, e em que uma substituinte Cn2 al- quila ou arila posas adicionalmente ser substituído por um ou mais Cn2 al- quila, -O-Cn2 alquila, hidroxila, amino, -COOH, -C(O)-NH2, -OC(O)R2 e - C(O)-OR3, desde que um substituinte de que Cw2 alquila não seja adicio- nalmente substituído com um substituinte de Cm2 alquila.
De mais preferência, R1 é C-i--|2 alquila, arila ou C4.8 cicloalquila, em que C-M2 alquila, arila e C4.8-cicloalquila possam ser não-substituídas ou substituídas com um ou mais de Cm2 alquila, arila, -0-Ci-i2-alquila, hidroxila, amino, e/ou -COOH, desde que que a C-M2 alquila não seja substituída com C-M2 alquila, arila não seja substituída com arila, e em que um substituinte de Cm2 alquila ou de arila possa ser adicionalmente substituído com um ou mais -Cm2 alquila, -O-Cm2 alquila, hidroxila, amino, e/ou -COOH, desde que que um substituinte de CM2-alquila não seja adicionalmente substituído com um substituinte de CM2-alquila.
Os exemplos de aldeídos são formaldeído, acetaldeído, propa- nal, butanal, pentanal, hexanal, benzaldeído, salicilaldeído e fenilacetaldeí- do.
As cetonas podem ser da formula R4-C(O)-R5, em que R4 e R5
podem ter o mesmo significado como em R1, com a exceção de que R4 e R5 não podem ambos ser hidrogênio, e alem disso, R4 e R5 possam, junto com o carbono do grupo C(O)-, formar um ciclo de carbono de 5 até 8 elementos, em que um grupo CH2- do ciclo de carbono também possa ser substituído com oxigênio ou um grupo OC(O)-, e cujo ciclo possa ser não-substituído ou substituído com um ou mais de Cm2 alquila, C2--I2 alquenila, arila, C4.8 ciclo- alquila,-O-Cm2 alquila, hidroxila, halogênio, amino, -NH-C(=NH)-NH2, -SH1 -S-Cm2 alquila, -COOH1 -C(O)-NH2, -OC(O)R2 e/ou -C(O)-OR31 em que um substituinte de Cw2 alquila ou de arila substituinte possa ser adicionalmente substituído com Ci.12-alquila, -O-Cm2 alquila, hidroxila, halogênio, amino, -NH-C(=NH)-NH2l -SH1 -S-Ci-12-alquila, -COOH1 -C(O)-NH2l -OC(O)R2 e/ou -C(O)-OR31 desde que que um substituinte de Cm2 alquila não seja adicio- nalmente substituído com um substituinte de CM2-alquila.
De preferência, o ciclo é não-substituído ou é substituída com um ou mais Cm2 alquila, arila, C4-8 cicloalquila, -O-Cm2 alquila, hidroxila, amino, -COOH1 -C(O)-NH2l -OC(O)R2 e/ou -C(O)-OR31 em que um substitu- inte de Cm2 alquila ou arila possa ser adicionalmente substituído com um ou mais de -Cm2 alquila, -O-Cm2 alquila, hidroxila, halogênio, amino, -COOH1 -C(O)-NH2l -OC(O)R2 e/ou -C(O)-OR3, desde que que um substituinte de C1. 12 alquila não seja adicionalmente substituída com um substituinte de Cm2 alquila.
De mais preferência, o ciclo é não-substituído ou substituído
com um ou mais de Cm2 alquila, arila, -O-Cm2 alquila, hidroxila, amino e/ou -COOH, em que um substituinte de Cm2 alquila ou de arila pode ser adicio- nalmente substituído com um ou mais de -Cm2 alquila, -O-Cm2 alquila, hi- droxila, amino e/ou -COOH, desde que que um substituinte de CM2-alquila não seja adicionalmente substituído com um substituinte de Ci_i2-alquila.
Os exemplos de cetonas são acetona, butanona, 2-pentanona, 3-pentanona, 3-metil-2-butanona, 1-fenil-2-propanona, acetofenona, benzo- fenona e ácido ascórbico (vitamina C).
Os aldeídos e as cetonas também podem estar presentes na forma de um hemiacetal, respectivamente, hemicetal. Os hemiacetais e he- micetais podem ser formados a partir do respectivo aldeído e cetal através da reação com um aquivalente de um álcool. Os alcoóis podem ser da for- mula R6-OH. R6 pode ter o mesmo significado como o de R4 ou R5.
Os exemplos de um álcool são metanol, etanol, isopropanol, propanol, butanol, pentanol, fenol, álcool de benzil e ciclohexanol. Se R11 R4 ou R5 contiverem um substituinte de hidroxila, também é possível que o he- miacetal ou hemicetal seja formado internamente. Os carboidratos de redução são capazes de reduzir o reagente de Tollens. Os exemplos de carboidratos de redução são as aldoses, ceto- ses, dissacarídios de redução e polissacarídios de redução.
Os exemplos de aldoses são os o aldeído de glicerina, eritrose, treose, arabinose, ribose, xilose, lixose, glicose, manose, alose, altrose, gu- lose, idose, galactose and talose.
Os exemplos de cetoses são a di-hidroxiacetona, eritrulose, ribu- Iose1 xilulose, frutose, sorbose e tagatose.
Os exemplos dissacarídios de redução são a maltose, celubiose
e a lactose.
Os compostos de preferência que contém um grupo carbonil li- vre são os aldeídos, cetonas, aldoses, cetoses dissacarídios de redução. Os compostos de mais preferência que contém um grupo de carbonil livre são as cetonas e aldoses.
Especificamente, os compostos de preferência que contém um grupo de carbonil livre, são fisiologicamente aceitáveis para seres humanos, por exemplo, o ácido ascórbico, glicose, lactose e maltose.
Os compostos de maior preferência que contém um grupo car- bonil livre são ácido ascórbico e a glicose, e forma específica a glicose.
O nucleófilo pode ser qualquer nucleófilo capaz de entrar em reação com o grupo de carbonil livre do composto que contém o grupo car- bonil livre Por exemplo, o nucleófilo pode ser uma amina.
Os exemplos de aminas são as proteínas e, de preferência, ami- nas da fórmula NR7R8R91 na qual R71 R8 e R9 podem ser o mesmo ou dife- rentes, e pode ser hidrogênio, C1-30 alquila, C2-12 alquenila, arila, C4.8 cicloal- quila ou -C(=NH)-NH2, em que um ou mais grupos de CH2 de Ci.30 alquila ou C4-8 cicloalquila também podem ser substituídos por oxigênio, e em que a C1-20 alquila, C2-12 alquenila, arila e C4-8 cicloalquila podem ser não- substituídas ou substituídas com um ou mais de C-M2 alquila, C2-12 alquenila, arila, C4.8 cicloalquila, -O-C-M2 alquila, hidroxila, halogênio, amino, -NH- C(=NH)-NH2l -SH, -S-Cm2 alquila, -COOH1 -C(O)-NH2l -C(O)-NHR10R111 - OC(O)R2 e/ou -C(O)-OR31 desde que que C-, -30 alquila e C2--I2 alquenila não sejam substituídas com Cm2 alquila ou C2-12 alquenila, arila não for substitu- ída com arila θ C4-8-alquila não for substituída com C4-8 alquila, e em que um substituinte de C-M2 alquila ou arila possa ser adicionalmente substituído com um ou mais de Cm2 alquila, -0-Cm2 alquila, hidroxila, halogênio, amino, -N-C(=NH)-NH2, -SH, -S-Cm2 alquila, -COOH, -C(O)-NH2, -OC(O)R2 e/ou -C(O)-OR3, desde que que um substituinte de Cm2 alquila, não seja adicio- nalmente substituído com um substituinte de Cm2 alquila,
ou R7 possa ser hidrogênio, e R8 e R9 possam Ser-(CH2)n-, cujo η sendo um número inteiro a partir de 4 até 7, e junto com o nitrogênio da amina formam um ciclo de 5 até 8 membros, em que um grupo CH2 do ciclo também pode ser substituído por oxigênio, e cujo ciclo pode ser não- substituído ou substituído com um ou mais de Ci_12 alquila, C2-I2 alquenila, arila, C4.8 cicloalquila, -O-Cm2 alquila, hidroxila, halogênio, amino, -NH-C(=NH)-NH2, -SH, -S-Ci.12-alquila, -COOH, -C(O)-NH2, -OC(O)R2 e/ou - C(O)-OR3.
R10 e R11 podem ser hidrogênio, C-M2 alquila, arila ou C4.8 ciclo- alquila, cuja C-M2 alquila, arila ou C4-8 cicloalquila pode ser não-substituída ou substituída com um ou mais de Cm2 alquila, arila, -O-Cm2 alquila, hidroxi- la, amino e/ou -COOH, desde que que a Cm2 alquila não seja substituída com Cm2 alquila, e a arila não seja substituída com arila. De preferência, R10 e R11 são hidrogênio ou Cm2 alquila, cuja Cm2 alquila pode ser não- substituída ou substituída com um ou mais de -COOH.
A C1-30 alquila pode ser ramificada ou não-ramificada. Os exem- plos de C1-30 alquila são metila, etila, propila, isopropila, butila, isobutila, terc- butila, pentila, hexila, heptila, octila, nonila, decila, undecila, dodecila, miristi- Ia e palmitila.
Os exemplos de aminas da formula NR7R8R9 são amônia, tris (hidroximetil)aminometano, guanidina, metilamina, etilamina, propilamina, butilamina, dietilamina, etileno diamina, 1,2-diaminopropano, etanolamina, trietanolamina, ciclohexilamina, anilina, melamina, pírrola, morfolina, pirroli- dina, piperidina e polieteraminas tais como aquelas comercializadas por Huntsmann sob o nome comercial de Jeffamina®, por exemplo, Jeffamina® D-230, que é a polipropileno glicol que contém dois grupos terminais amino e tendo um peso molecular de 230 g/mol.
Outros exemplos de aminas da fórmula NR7R8R9 são os amino ácidos e açúcares de amino.
Os exemplos de amino ácidos são o ácido 4-aminohipúrico e o ácido 4-aminobenzoic e os amino ácidos "padrão", que são a glicina, alanina, valina, leucina, isoleucina, prolina, fenilalanina, tirosina, triptofano, cisteina, metionina, serina, treonina, lisina, arginina, histidina, ácido aspártico, ácido glutâmico, asparagina e glutamina.
Os açúcares de amino são carboidratos que contém um grupo amino no lugar do grupo hidroxila que não seja um grupo glicosídico de hi- droxila. Os exemplos de açúcares de amino são a glicosamina e a galacto- samina.
De preferência, R7, R8 e R9 são o mesmo ou diferentes, e são hidrogênio, C1-30 alquila, C2-12 alquenila, arila ou C4-8 cicloalquila, em que um ou mais grupos CH2 da Ci-30 alquila ou da C4-& cicloalquila também podem ser substituído por oxigênio, e em que a C1-20 alquila, C2-12 alquenila, arila e a C4-8 cicloalquila podem ser não-substituídas ou substituídas com um ou mais de Cm2 alquila, arila, C4-8 cicloalquila, -O-C-M2 alquila, hidroxila, amino, -NH-C(=NH)-NH2, -SH1 -S-Cm2 alquila, ^COOH, -C(O)-NH2, -C(O)-NHR10R11, -OC(O)R2 e/ou -C(O)-OR3, desde que que a C^30 alquila e a C2-12 alquenila não sejam substituídas com Ci-12-alquila ou C2-12 alquenila,a arila não seja substituída com arila e a C4.8 alquila não seja substituída com C4-8 alquila, e em que um substituinte de C-M2-alquila ou de arila possa ser adicionalmente substituído com um ou mais de Cm2 alquila, -0-Ci.12 alquila, hidroxila, ami- no, -COOH, -C(O)-NH2, -OC(O)R2 e/ou -C(O)-OR3, desde que que um subs- tituinte de C-i-12-alquila não seja adicionalmente substituído com um substitu- inte de Ci-12-alquila,
ou R7 pode ser hidrogênio, e R8 e R9 podem ser -(CH2)n-, cujo η sendo um número inteiro a partir de 4 até 7, juntos com o nitrogênio da ami- na formam um ciclo de 5 até 8 membros, em que um grupo CH2- do ciclo também pode ser substituído por oxigênio, e cujo ciclo pode ser não- substituído ou substituído com um ou mais de C-M2 alquila, -O-C1-12 alquila, hidroxila, amino, -COOH, -C(O)-NH2, -OC(O)R2 e/ou -C(O)-OR3.
De mais preferência, R71 R8 e R9 são o mesmo ou diferentes, e são hidrogênio, Ci.30 alquila, arila ou C4-8 cicloalquila, em que um ou mais grupos de CH2 da Cv30 alquila ou da C4-s cicloalquila também podem ser substituídos por oxigênio, e em que a Ci.20 alquila, arila e C4.8 cicloalquila podem ser não-substituídas ou substituídas com um ou mais de Cm2 alquila, arila, C4.8 cicloalquila, -0-Ci_12 alquila, hidroxila, amino, -NH-C(=NH)-NH2, -SH, -S-Cm2 alquila, -COOH, -C(O)-NH2 e/ou -C(O)-NHR10R11, desde que que a Ci.30-alquila não seja substituída com Ci.12 alquila, arila não seja subs- tituída com arila e C4-8 alquila não seja substituída com C4.8 alquila, e em que um substituinte de Ci.12-alquila ou arila pode ser adicionalmente substituído com um ou mais de Cm2 alquila, -O-C-M2 alquila, hidroxila, amino e/ou -COOH, desde que que um substituinte de Ci-12-alquila não seja adicional- mente substituído com um substituinte de C-M2-alquila,
ou R7 pode ser hidrogênio, e R8 e R9 podem ser -(CH2)n-, cujo η sendo um número inteiro a partir de 4 até 7, e junto com o nitrogênio da ami- na forma um ciclo de 5 até 8 membros, em que um grupo CH2- do ciclo tam- bém pode ser substituído por oxigênio, e cujo ciclo pode ser não-substituído ou substituído com um ou mais de -COOH.
As aminas de preferência da fórmula NR7R8R9 são amino ácidos e açúcares de amino. As aminas de mais preferência da fórmula NR7R8R9 são os amino ácidos "padrão" e os açúcares de amino, e as aminas de mais preferência da fórmula NR7R8R9 são a prolina, histidina, alanina, glicina e glicosamina.
Os nucleófilos de preferência especifica são as aminas que se- jam fisiologicamente aceitáveis para seres humanos.
A proporção molar do composto que contém o grupo de carbonil livre/nucleófilo na composição da presente invenção pode estar na faixa de 10/1 até 1/10, de preferência de 5/1 até 1/5, de mais preferência de 2/1 até 1/2. De mais preferência, o composto que contém o grupo carbonil livre e o nucleófilo estão presentes na composição em cerca de quantidades equimo- lares.
Qualquer composto que contenha um grupo carbonil livre, cujo composto é substituído com um ou mais grupos nucleófilos pode ser usado, por exemplo, o composto contendo um grupo carbonil livre, cujo composto é substituído com um ou mais grupos nucleófilos, pode ser qualquer dos com- postos que contenham um grupo carbonil livre relacionados acima, exceto que ele seja substituído com um ou mais grupos nucleófilos. Os grupos nu- cleófilos de preferência são os grupos amino. Os exemplos dos compostos que contém um grupo carbonil livre, cujo composto é substituído com um ou mais grupos amino, são os açúcares de amino. Os exemplos de açúcares de amino estão relacionados acima.
A composição também pode compreender um solvente. O sol- vente pode ser a água, um solvente orgânico, um monômero líquido ou as misturas dos mesmos. De preferência o solvente é a água, um solvente or- gânico ou as misturas dos mesmos.
Os exemplos de solventes orgânicos são C-i-4-alcanóis, C2.4- polióis, C3.6-cetonas, C4.6-éteres, C2-3-nitrilas, nitrometano, sulfóxido de dime- tila, dimetilformamida, dimetilacetamida, A/-metil pirrolidona e sulfolano, em que os C-i-4-alcanóis e os C2-4-polióis podem ser substituídos com C^-alcóxi. Os exemplos de Ci.4-alcanóis são metanol, etanol, propanol, isopropanol ou butanol, isobutanol, sec-butanol and ferc-butanol. Os exemplos de um deri- vado de Ci-4-alcóxi do mesmo são 2-etoxietanol e 1-metóxi-2-propanol. Os exemplos de C2-4-polióis são o glicol e o glicerol. Os exemplos de C3.6 ceto- nas são acetona e metil etil cetona. Os exemplos de C4.6 éteres são dimetó- xietano, di-isopropiletil e tetra-hidrofurano. Um exemplo de uma C2-3 nitrila é a acetonitrila.
De mais preferência, o solvente é a água ou uma mistura de á- gua e de um solvente orgânico.
De preferência, o solvente orgânico é selecionado a partir do grupo que consiste em Ci.4-alcanóis, C2-4-polióis, C3.6-cetonas, dimetilfor- mamida e dimetilacetamida, pelo que os Ci.4-alcanóis e C2.4-polióis podem ser substituídos com C-M-alcóxi. De preferência a proporção de água para solvente orgânico da mistura de água e de solvente orgânico é de pelo menos 0,5/1, e de mais preferência, de pelo menos 1/1.
De maior preferência, o solvente é a água.
De preferência, a composição da presente invenção também compreende um Iigante polimérico.
Os exemplos de Iigantes poliméricos são os polímeros acrílicos, polímeros de estireno e produtos hidrogenados dos mesmos, polímeros de vinil e derivados dos mesmos, poliolefinas e produtos hidrogenados ou epo- xidados dos mesmos, polímeros de aldeído, polímeros de epóxido, poliami- das, poliésteres, poliuretanos, polímeros com base em sulfona e polímeros naturais e os derivados dos mesmos. O Iigante polimérico também pode ser uma mistura de Iigantes poliméricos. Ele também pode ser uma mistura de monômeros líquidos e um foto iniciador adequado que forme um dos Iigantes poliméricos acima relacionados sob radiação UV depois de revestimento. Nesse caso, os monômeros funcionam como o solvente.
Os polímeros de acrílico podem ser os polímeros formados a partir de pelo menos um monômero acrílico ou partir de pelo menos um mo- nômero acrílico e pelo menos outro polímero etilênicamente saturado tal co- mo um monômero de estireno, monômero de vinil, monômero de olefina ou um monômero maleico.
Os exemplos de monômeros acrílicos são ácido (met) acrílico ou sais do mesmo, (met)acrilamida, (met)acrilonitrila, (met)acrilatos de Ci.6 al- quila tais como (met)acrilato de etil,(met)acrilato de butil, ou (met)acrilato de hexil, (met)acrilato de 2-etilhexil, (met)acrilatos de Ci-6-alquila substituída, (met)acrilatos tais como metacrilato de glicidil, e metacrilato de acetoacetó- xietil, (met) acrilatos de di(C-i-4 alquilamino)C-|.6 alquila tais como o acrilato de dimetilaminoetil ou acrilato de dimetilaminoetil, amidas formadas a partir de C-i-6-alquilaminas, substituída Ci.6-alquilaminas substituídas tais como o sal de amônio do ácido 2-amino-2-metil-1-propano sulfônico, ou di(Ci.4 alquila- mÍno)C-i-6-alquilaminas e ácido (met)acrílico e C-M-alquila e adutos de halo- geneto dos mesmos. Os exemplos de monômeros de estireno são o estireno,4-metil estireno, e 4-vinilbifenil. Os exemplos de monômeros de vinil são o álcool de vinil, cloreto de vinil, cloreto de vinilideno, isobutil éter de vinil, e acetato de vinil. Os exemplos de monômeros de olefina são o etileno, propileno, butadi- eno e isopreno e os derivados clorados ou fluorados dos mesmos tais como o tetrafluretileno. Os exemplos de monômeros maleicos são o ácido maleico, anidrido maleico e a maleimida.
Os exemplos de polímeros acrílicos são o poli(metacrilato de metil) e poli( metacrilato de butil),ácido poliacrílico copolímero de estire- no/acrilato de 2-etilhexil, copolímeros de estireno/ácido acrílico, e polímeros acrílicos de núcleo de envoltório, por exemplo, como os comercializados sob o nome comercial de Ciba® Glascol® LS 26, que é um polímero de núcleo de envoltório que consiste em 70 partes em peso 55/45 (em peso) de copo- límero de estireno/acrilato de 2-etilhexil que funciona como o polímero de núcleo, e 30 partes em peso de copolímero de estireno/ácido acrílico, que funciona como o polímero de envoltório.
Os polímeros de estireno podem ser formados a partir de pelo menos um monômero de estireno e pelo menos um monômero de vinil, mo- nômero de olefina e/ou monômero maleico. Os exemplos de polímeros de estireno são os polímeros em bloco de estireno butadieno, polímeros em bloco de estireno etileno butadieno, polímeros em bloco de estireno etileno propileno estireno e os copolímeros de estireno e anidrido maleico.
Os polímeros de vinil podem ser polímeros formados a partir de pelo menos um monômero de vinil ou a partir de pelo menos um monômero de vinil e pelo menos um monômero de olefina ou monômero maleico. Os exemplos de polímeros de vinil são o cloreto de polivinil, álcool de polivinil, acetato de polivinil acetato de polivinil parcialmente hidrolisado e os copolí- meros de éter de metil vinil- anidrido maleico. Os exemplos de derivados dos mesmos são o álcool de polivinil modificado com carbóxi, álcool de polivinil modificado com acetoacetil, álcool de polivinil modificado com diacetona e álcool de polivinil modificado com sílica.
As poliolefinas podem ser formadas a partir de pelo menos um monômero de olefina ou a partir de pelo menos um monômero de olefina ou monômero maleico. Os exemplos de poliolefinas são o polietileno, polipropi- leno, polibutadieno e o copolímero de isopropileno e anidrido maleico.
Os polímeros de aldeído podem ser polímeros formados a partir de pelo menos um monômero ou polímero de aldeído e pelo menos um mo- nômero de álcool ou de polímero, monômero de amina ou polímero e/ou monômero ou polímero de uréia. Os exemplos de monômeros de aldeído são o formaldeído, furfural e butiral. Os exemplos de monômeros de álcool são o fenol, cresol, resorcinol e xilenol. Um exemplo de um poli álcool é o álcool de polivinil. Os exemplos de monômeros de amina são a anilina e a melamina. Os exemplos de monômeros de uréia são a uréia, tiureia e dici- andiamida. Um exemplo de um polímero de aldeído é o butiral de polivinil formado a partir de butiral e álcool de polivinil.
Os polímeros de epóxido podem ser polímeros formados a partir de pelo menos um monômero de epóxido e pelo menos um monômero de álcool e/ou um monômero de amina. Os exemplos de monômero de epóxido são a epicloridrina e glicidol, Os exemplos de monômeros de álcool são fe- nol, cresol, resorcinol, xilenol, bisfenol A e glicol. Um exemplo de polímero de epóxido é a resina fenóxi, que é formada a partir de epicloridrina e bisfe- nol A.
As poliamidas podem ser polímeros formados a partir de pelo menos um monômero que tenha um grupo de amida ou um amino bem co- mo um grupo carbóxi ou a partir de pelo menos um monômero que tenha dois grupos de amino e pelo menos um monômero que tenha dois grupos carbóxi. Um exemplo de um monômero que tem um grupo amida é o capro- lactamo. Um exemplo de uma diamina é a 1,6-diaminohexano. Os exemplos de ácidos dicarboxílicos são o ácido adipico, ácido tereftálico, ácido isoftálico e ácido 1,4-naftaleno dicarboxílico. Os exemplos de poliamidas são a adi- pamida de polihexametileno e poli caprolactamo.
Os poliésteres podem ser polímeros formados a partir de pelo menos um monômero que tenha um grupo hidróxi bem como um grupo car- bóxi ou a partir de pelo menos um monômero que tenha dois grupos hidróxi e pelo menos um monômero que tenha dois grupos carbóxi ou um grupo lactona. Um exemplo de um monômero que tenha um grupo hidróxi bem como um grupo carbóxi é o ácido adípico. Um exemplo de um diol é o etileno glicol. Um exemplo de um monômero que tenha um grupo lactona é o capro- lactona. Os exemplos de ácidos dicarboxílicos são o ácido tereftálico, ácido isoftálico e ácido 1,4-naftaleno dicarboxílico. Um exemplo de um poliéster é o tereftalato de polietileno. As chamadas resinas alquídicas também são consideradas como pertencendo aos polímeros de poliéster.
Os poliuretanos podem ser polímeros formados a partir de pelo menos um monômero de di-isocianato e pelo menos um monômero de poliól e/ou um monômero de poliamina. Os exemplos de monômeros de di- isocianato são o di-isocianato de hexametileno, di-isocianato de tolueno e di- isocianato de difenilmetano.
Os exemplos de polímeros com base em sulfona são o poli aril- sulfona, poli étersulfona, polifenil sulfona e polissulfona. A polissulfona é um polímero formado a partir de 4,4-diclorodifenil sulfona e bisfenol A.
Os exemplos de polímeros naturais são o amido, celulose, gela- tina, caseína e borracha natural. Os exemplos de derivados são o amido o- xidado, copolímeros de enxerto de amido e acetato de vinil, hidroxietil celu- lose, hidroxipropil celulose, metil celulose, etil celulose, carboximetil celulose e acetil celulose.
Os Iigantes poliméricos são conhecidos na técnica e podem ser produzidos através de métodos conhecidos, como por exemplo, através de polimerização se iniciando a partir der monômeros adequados.
De preferência, o Iigante polimérico é selecionado a partir do grupo que consiste em polímeros acrílicos, polímeros de estireno, polímeros de vinil e derivados dos mesmos, poliolefinas, poliuretanos e polímeros natu- rais e os derivados dos mesmos.
De mais preferência, o Iigante polimérico é selecionado a partir do grupo que consiste em polímeros acrílicos, copolímeros de estireno e bu- tadieno, copolímeros de estireno e anidrido maleico, álcool de polivinila, ace- tato de polivinila, acetato de polivinila parcialmente hidrolisado, copolímeros de éter de vinil e anidrido maleico, álcool de polivinil modificado com carbóxi, álcool de polivinil modificado com acetoacetil, álcool de polivinil modificado com acetona e álcool de polivinil modificado com sílica, copolímero de iso- preno e anidrido maleico, poliuretano, celulose, gelatina, caseína, amido oxi- dado, copolímeros de enxerto de amido e acetato de vinila, hidroxietil celulo- se, hidroxipropil celulose, metil celulose, etil celulose, carboximetil celulose e acetil celulose.
Ainda de mais preferência, o Iigante polimérico é um álcool de polivinila, por exemplo PVA 6-98 ou PVA 28-98, um derivado de celulose ou um polímero acrílico, e de maior preferência, ele é um polímero de acrílico e especificamente um polímero de acrílico como o comercializado, por exem- plo, pela Ciba sob o nome comercial de Ciba® Glascol® tais como Ciba® Glascol® LE510, LE520, LE530, LE15, LE29, LE28, LE17, LS16, LS2, LS20, LS24, LS26, LS27, LS28, C44, C47, HA2, HA4 ou Ciba® Surcol® tais como Ciba® Surcol® 836 ou 860.
Os Iigantes poliméricos são conhecidos na técnica e podem ser produzidos através de métodos conhecidos, como por exemplo, através de polimerização se iniciando a partir de monômeros adequados.
A composição da presente invenção também pode compreender um catalisador. O catalisador facilita a reação entre o composto que contém o grupo carbonil livre e o nucleófilo.
O catalisador pode ser um ácido inorgânico ou orgânico ou um sal do mesmo.
Os exemplos de ácidos inorgânicos são o ácido sulfúrico, ácido sulfâmico, ácido sulfuroso, ácido formamidina sulfínico, ácido nítrico, ácido clorídrico, ácido fosfórico, ácido polifosfórico, e ácido fosforoso. Os exemplos de ácidos orgânicos ácidos são os ácidos orgânicos com base em enxofre tais como o ácido 4-estirenossulfônico, ácido p-toluenossulfônico, ácido po- li(ácido 4-estireno sulfônico) e copolímeros que compreendem unidades do ácido 4- estireno sulfônico tais como poli(ácido 4-estireno sulfônico -co- áci- do maleico), ácidos orgânicos com base em fósforo tais como o ácido fenil fosfônico, ácido metano fosfônico, ácido, fenil fosfínico, ácido dietilenotriami- na penta(ácido metilenofosfônico)(DTPMP), ácido hexametilenodiamina te- tra(ácido metilenofosfônico) (HDTMP)1 nitrilotris(ácido metileno fosfônico) e ácido 1-hidróxietilideno difosfônico, e ácidos carboxílicos tais como o ácido carbônico, ácido 2,4-hexadienoico (ácido sórbico), ácido cítrico, ácido tartári- co, ácido oxálico e ácido maleico.
Os sais dos mesmos podem ser os sais de metal, por exemplo, um sal de metal de transição, sais de metal alcalino ou sais de metal alcali- no-terroso e sais de amônio substituídos. Os exemplos de sais de metal de transição são os sais de ferro e de cobalto. Os exemplos de metais alcalinos são os sais de sódio e de potássio, os Exemplos de sais de metal alcalino- terroso são os sais de cálcio e de magnésio.
Os catalisadores de preferência são os ácidos fosfóricos, os áci- dos clorídricos e os ácidos carboxílicos e os sais dos mesmos. Os catalisa- dores ácidos de mais preferência são o ácido fosfórico, ácido clorídrico, áci- do carbônico, ácido cítrico e ácido 2,4-hexanodioico (ácido sórbico) e os sais dos mesmos, especificamente o fosfato de amônio, o cloreto (III) de ferro, carbonato de amônio, carbonato de sódio, citrato de sódio e ácido 2,4- hexanodioico (ácido sórbico).
A composição da presente invenção também pode compreender componentes adicionais.
Os componentes adicionais que podem ser incluídos na compo- sição de revestimento podem ser quaisquer componentes adequados para melhorar o desempenho da composição. O componente adicional pode ser um componente que possa absorver a energia incidente e transferir essa energia para o sistema de forma térmica ou de outra forma tal como um ab- sorvente de UV ou um absorvente de IR. Os exemplos de outros tipos de componentes adicionais são baseados em ácidos para o ajuste do pH da composição, pigmentos, estabilizadores, antioxidantes, modificadores de reologia, agentes de umedecimento, biocidas, supressores de fumaça, com- postos de formação de cinzas de carvão e etiquetadores. Os etiquetadores são as diversas substâncias adicionadas ao um produto para indicar a sua origem de fabricação. De preferência, a composição de revestimento não contém um corante ou um formador de cor.
Um exemplo de um absorvente de UV é a 2-hidróxi-4- metoxibenzofenona.
Os absorventes de IR podem ser orgânicos ou inorgânicos. Os
exemplos de absorventes de IR orgânicos são os fósforo tionatos de trifenil alquilados, por exemplo como os comercializados sob o nome comercial de Ciba® Irgalube® 211, ou Negro de Fumo, por exemplo, como o comerciali- zado sob os nomes comerciais de Ciba® Microsol® Black 2B or Ciba® Mi- crosol® Black C-E2.
Os exemplos de absorventes de IR inorgânicos são os óxidos, sulfitos, sulfatos e os fosfatos de metais tais como o cobre, bismuto, ferro, níquel, zinco, manganês, zircônio e antimônio, incluindo a mica aditivada com oxido de antimônio (V) e a mica aditivada com óxido de estanho (IV). Os exemplos de bases adequadas para o ajuste do pH são a
amônia e o hidróxido de sódio. Os exemplos de ácidos adequados para o ajuste do pH são o ácido clorídrico, ácido fosfórico e o ácido acético.
Os pigmentos podem ser adicionados como absorventes de IR inorgânicos, para o aumento do contraste entre as áreas com formação de imagem e as áreas sem a formação de imagem como uma característica de segurança.
Os exemplos de pigmentos que funcionam como absorventes de IR inorgânicos, são o caulim, caulim calcinado, mica, óxido de alumínio, hi- dróxido de alumínio, silicatos de alumínio, talco, sílica amorfa e dióxido de sílica coloidal.
Os exemplos de pigmentos que podem ser adicionados para o aumento do contraste entre as áreas sem formação de imagem e as áreas com a formação de imagem são o dióxido de titânio, carbonato de cálcio, sulfato de bário, resina de poliestireno, resina de ureia-formaldeído, pigmen- tos de plástico ocos.
Os exemplos de pigmentos que podem ser adicionados como uma característica de segurança são os pigmentos fluorescentes ou os pig- mentos magnéticos.
Os exemplos de modificadores de reologia são a goma xântano, metilcelulose, hidroxipropil celulose ou polímeros de acrílico tais como os comercializados sob os nomes comerciais de Ciba® Rheovis® 112, Ciba® Rheovis® 132 e Ciba® Rheovis® 152.
Um exemplo de um agente de umidificação é o Ciba® Irgaclear® D, um agente de clarificação com base em sorbitol.
Os exemplos de biocidas são os Acticide® MBS, que incluem uma mistura de clorometil isotiazolinona e metil isotiazolinona, Biocheck® 410, que inclui uma combinação de 2-dibromo-2,4-dicianobutano e 1,2- benzisotiazolin-3-ona, Biochek®721M, que inclui uma mistura de 1,2- dibromo-2,4-dicianobutano e 2-bromo-2-nitro-1,3-propanodiol e MetasoKDTK 100, que inclui 2-(4-tiazolil)-benzimidazola.
Um exemplo de um supressor de fumaça é o octamolibdato de
amônio.
Os exemplos de formadores de cinza de carvão são os carboi- dratos como os mono sacarídios, dissacarídios e polissacarídios, e os deri- vados dos mesmos nos quais o grupo carbonil tenha sido reduzido para um grupo hidroxila, os chamados alcoóis de açúcar. Um composto formador de cinza de preferência é a sacarose.
Os revestimentos formados pelas composições de revestimento da presente invenção podem ser revestidos com uma camada laminada ou uma camada sobre impressa de verniz, o que reduz a emissão durante o processo de formação de imagem. Se o material da camada laminada ou da sobre impressão de verniz for selecionado de tal forma que ele não absorva o comprimento de onda do laser de formação de imagem então o revesti- mento sensível ao laser pode ter a imagem formada através da camada la- minada sem danificar ou marcar o laminado. Também o laminado ou a ca- mada sobre impressa de verniz é escolhida de forma ideal de TAM modo que ela não resulte na coloração do revestimento antes do tratamento com a energia.
A composição da presente invenção pode compreender de 1 até 50%, de preferência de 1 até 40%, de mais preferência, de 1 até 30%, de maior preferência de 1 até 25% em peso do composto que contém o grupo carbonil livre ou do composto que contém um grupo carbonil livre bem como um grupo nucleófilo com base no peso do total da composição.
A composição da presente invenção pode compreender de 1 até 50%, de preferência de 1 até 40%, de mais preferência de 1 até 30%, e de maior preferência de 1 até 25% do nucleófilo com base no peso da composi- ção total.
A composição da presente invenção pode compreender de 1 até 70%, de preferência de 1 até 60%, e de maior preferência de 1 até 30% do Iigante polimérico com base no peso da composição total.
A composição da presente invenção pode compreender de 10 até 95%, de preferência de 10 até 90%, de mais preferência de 1 até 80%, e de maior preferência de 1 até 70% do solvente com base no peso da com- posição total.
A composição da presente invenção pode compreender de 0 até 50%, de preferência de 0 até 40%, de mais preferência de 0 até 30%, e de maior preferência de 0 até 20% do composto de catalisação com base no peso da composição total.
A composição da presente invenção pode compreender de 0 até 40%, de preferência de 0 até 30%, e de mais preferência de 0 até 20% de componentes adicionais com base no peso da composição total.
Também faz parte da invenção um processo para a preparação da composição da presente invenção, cujo processo compreende (i) a) a misturação do composto que contém o grupo carbonil livre e b) (ii) o nucleófi- lo com o solvente, ou (ii) misturar o composto que contém um grupo carbonil livre, que é substituído com um ou mais de grupos nucleófilos, com o solven- te.
O composto que contém o grupo carbonil livre também pode ser preparado in situ, por exemplo, através da oxidação do álcool corresponden- te.
De preferência o processo compreende a misturação do com- posto que contém o grupo carbonil livre, o nucleófilo, o Iigante polimérico e o solvente.
Também faz parte da invenção um substrato revestido com a composição para revestimento da presente invenção.
O substrato pode ser uma folha, ou qualquer outro objeto tridi- mensional, ele pode ser transparente ou opaco e ele pode ter uma superfície lisa ou não-lisa. Um exemplo de um substrato que tenha uma superfície não- Iisa é um saco de papel cheio, tal como um saco de papel cimento cheio. O substrato pode ser feito a partir de papel, papelão, metal, madeira, têxteis, vidro, materiais de cerâmica e/PI polímeros. O substrato também pode ser um tablete farmacêutico ou um produto de alimentação. Os exemplos de polímeros são o tereftalato de polietileno, polietileno de baixa densidade, propileno, propileno de orientação biaxial, sulfona de poliéter, cloreto de poli- vinila, poliéster e poliestireno. De preferência, o substrato é feito a partir de papel, papelão ou polímero.
Se o substrato não absorver a irradiação IR, por exemplo, se o substrato for uma película de poliéster, pode ser aconselhável a inclusão de um absorvente de IR ou um pigmento que atue como um absorvente de IR dento da composição para revestimento.
A espessura do revestimento, escolhida de forma usual fica na faixa de 0,1 até 1000 μΐη. De preferência, ela fica na faixa de 1 até 500 μιτι. De mais preferência, ela fica na faixa de 1 até 200 μΓΠ. De maior preferência ela fica na faixa de 1 a 20 μιη.
Outro aspecto da presente invenção é um processo para a pre- paração de um substrato revestido, que compreende a etapa de revestir um substrato com a composição da presente invenção.
O substrato pode ser revestido com a composição da presente invenção através da utilização de uma aplicação padrão tal como uma apli- cação com um dispositivo de revestimento de barra, aplicação rotativa, apli- cação por pulverização ou aplicação com cilindro. A composição também pode ser aplicada ao substrato através de diversos métodos de impressão tais como impressão em silkscreen, impressão por gravura, impressão ofse- te e impressão flexo. Se o substrato for papel, a composição também pode ser aplicada na prensa de engomação ou na seção de acabamento úmido da máquina de fabricação de papel.
A composição de revestimento pose ser secada, por exemplo, em temperatura ambiente ou elevada. A temperatura elevada é escolhida idealmente para impedir a formação de imagem antes da exposição à ener- gia.
Também é parte da invenção um processo para a preparação de um substrato marcado, que compreende as etapas de i) revestir um substra- to com a composição da presente invenção, e ii) expor aquelas partes do substrato revestido, nas quais é pretendida uma marcação, à energia com a finalidade de gerar uma marcação.
A energia pode ser o calor ou qualquer outra energia, que pro- duza uma marcação quando aplicada ao substrato revestido com a compo- sição da presente invenção. Os exemplos dessa energia são UV, IR, irradia- ção visível ou micro-ondas.
A energia pode ser aplicada ao substrato revestido de qualquer maneira adequada, por exemplo, o calor pode ser aplicado através de um impressor térmico, e a irradiação UV, irradiação visível e de IR pode ser apli- cada através da utilização de um laser de UV, visível ou de IR. Os exemplos de Iasers IR são os Iasers de CO2, Iasers de Nd:YAG e Iasers semiconduto- res de IR.
De preferência a energia é a radiação IR. De mais preferência, a energia é a irradiação IR que tenha um comprimento de onda na faixa de 780 até 1Ό00Ό00 nm. Ainda de mais preferência, a energia é a irradiação IR gerada através de um laser de CO2, ou um laser de Nd:YAG. de maior prefe- rência, a energia é a irradiação IR gerada através de um laser de CO2, que tenha um comprimento de onda de 10'600 nm.
Tipicamente a força exata do laser IR e a velocidade da linha é determinada através da aplicação e escolhida como sendo suficiente para a geração da imagem, por exemplo, quando o comprimento de onda do laser de IR for de 10'600 nm e o diâmetro do feixe de laser for de 0,35 nm, a força é tipicamente de 0,5 a 4 W1 e a velocidade da linha é tipicamente de 300 até 1Ό00 mm/segundo.
Ainda outro aspecto da invenção é o substrato marcado, que é obtido através do processo acima.
Também faz parte da invenção o uso da composição da presen- te invenção para a marcação de uma embalagem.
Também faz parte da invenção o uso da composição da presen- te invenção para a marcação de dados sobre embalagens no campo da se- gurança/faixa e traço.
No campo da segurança/faixa e traço, a composição poder ser revestida sobre um substrato e formar uma imagem com a utilização de um laser de alta resolução para dar códigos muito pequenos que sejam invisí- veis ou quase invisíveis ao olho humano. As imagens, no entanto podem ser decodificadas com um dispositivo, por exemplo, uma câmera digital ou es- caneador, lente de aumento, ou uma câmera equipada (telefone móvel) que poderia dar um código único. A imagem especifica de alta resolução pode ser gerada através de um computador e pode estar na forma de um código de barras de duas dimensões ou outro padrão. Uma vez que escaneada, a informação pode ser enviada para um computador seguro (sem fio com tele- fone móvel) que pode em seguida dar a informação específica com relação à autenticidade, data de fabricação, localização da fabricação, etc. As imagens de alta resolução são bastante difíceis de serem reproduzidas com a utiliza- ção de métodos de impressão tradicionais.
As composições para revestimento da presente invenção tem a vantagem de que ela produz marcações de alto contraste quando da exposi- ção a baixas energias. Além disso, ela é adequada para o revestimento de papel e pode somente conter materiais que sejam de baixo custo bem como fisiologicamente aceitáveis para seres humanos. Exemplos Exemplo 1
Preparação de um Iiqante acrílico
A um frasco de 1 litro equipado com um agitador mecânico, con- densador, entrada de nitrogênio, sonda de temperatura e entradas para ali- mentação foram colocados 98,9 g água e 483,9 g de Joncryl® 8078, uma solução de um sal de amônio de um copolímero de estireno acrílico de baixo peso molecular. O conteúdo foi aquecido para 85 0C e desgasificado com nitrogênio durante 30 minutos. Uma fase de monômero foi preparada através da mistura de 192,5 g de estireno com 157,5 g de acrilato de 2-etilhexila. Uma alimentação de um iniciador foi preparada através da dissolução de 1,97 g de persulfato de amônio em 63,7 g água. Quando o reator estava na temperatura e desgasificado, 0,66 g de persulfato de amônio foram adicio- nadas ao reator. Depois de 2 minutos o monômero e a alimentação do inici- ador foram iniciadas de forma apropriada com relação a uma alimentação de 3 e 4 horas alimentação respectivamente. O conteúdo do reator foi mantido a 85 0C através de toda a alimentação. Depois da alimentação estar comple- tada, o conteúdo do reator foi mantido durante um adicional de 1 hora á 85 0C antes de ser resfriado para abaixo de 40 0C em cujo ponto 0,9 g de Acti- cide LG, um biocida que continha metil isotiazolonas cloradas e não clora- das, foi adicionado. Isso resultou em uma emulsão de polímero com 49,2% de sólidos, pH 8,3 e uma viscosidade Brookfield RVT de 1100 cPs. Exemplo 2
Preparação de uma composição de revestimento com a utilização de D-(+)- glicose e L-prolina
A composição de revestimento é preparada através da mistura de 31.31 g de água e com 40,25 g do Iigante de acrílico do exemplo 1. 8,96 g de L-prolina foram em seguida adicionadas seguidas por 24 g de D-(+)- glicose. A emulsão foi em seguida agitada em temperatura ambiente durante minutos. A composição de revestimento resultante foi em seguida aplica- da através de uma barra de revestimento (K1 até K5) sobre o substrato de- sejado (por exemplo, papel ou película de polímero) e submetido à formação de imagem com a utilização a CO2 Laser de IR para dar marcações de cor laranja de alto contraste (0,5 até 4 watt, 100 até 1000 mm/s). Exemplo 3
Preparação de uma composição de revestimento com a utilização de D-(+)- glicose e L-histidina
A composição de revestimento é preparada através da mistura de 31.31 g de água e com 40,25 g do Iigante de acrílico do exemplo 1. 16,29 g de mono-hidrato de mono cloridrato de l-histidina foram em seguida adi- cionadas seguidas por 14 g d-(+)-glicose. A emulsão foi em seguida agitada em temperatura ambiente durante 30 minutos. A composição de revestimen- to resultante foi em seguida aplicada através de uma barra de revestimento (K1 até K5) sobre o substrato desejado (por exemplo, papel ou película de polímero) e submetido à formação de imagem com a utilização a CO2 Laser de IR para dar marcações marrom escuro de alto contraste (0,5 até 4 watt, 100 até 1000 mm/s). Exemplo 4
Preparação de uma composição de revestimento com a utilização de D-(+V glicose e D.L-alanina. A composição de revestimento é preparada através da mistura
de 31,31 g de água e com 40,25 g do Iigante de acrílico do exemplo 1. 6,92 g de D,l-alanina foram em seguida adicionadas seguidas por 14 g d-(+)- glicose. A emulsão foi em seguida agitada em temperatura ambiente durante minutos. A composição de revestimento resultante foi em seguida aplica- da através de uma barra de revestimento (K1 até K5) sobre o substrato de- sejado (por exemplo, papel ou película de polímero) e submetido à formação de imagem com a utilização a CO2 Laser de IR para dar marcações cin- za/amarronzadas de alto contraste (0,5 até 4 watt, 100 até 1000 mm/s). Exemplo 5
Preparação de uma composição de revestimento com a utilização de D-(+)- glicose e qlicina
A composição de revestimento é preparada através da mistura de 31,31 g de água e com 40,25 g do Iigante de acrílico do exemplo 1. 5,83 g de glicina foram em seguida adicionadas seguidas por 14 g d-(+)-glicose. A emulsão foi em seguida agitada em temperatura ambiente durante 30 mi- nutos. A composição de revestimento resultante foi em seguida aplicada a- través de uma barra de revestimento (K1 até K5) sobre o substrato desejado (por exemplo, papel ou película de polímero) e submetido à formação de imagem com a utilização a CO2 Laser de IR para dar marcações de cor la- ranja de alto contraste (0,5 até 4 watt, 100 até 1000 mm/s). Exemplo 6
Preparação de uma composição de revestimento com a utilização de D-(+)- glicose ácido ascórbico (vitamina C)
A composição de revestimento é preparada através da mistura de 31,31 g de água e com 40,25 g do Iigante de acrílico do exemplo 1. 5,83 g de glicina foram em seguida adicionadas seguidas por 14 g de ácido as- córbico (vitamina C). A emulsão foi em seguida agitada em temperatura am- biente durante 30 minutos. A composição de revestimento resultante foi em seguida aplicada através de uma barra de revestimento (K1 até K5) sobre o substrato desejado (por exemplo, papel ou película de polímero) e submeti- do à formação de imagem com a utilização a CO2 Laser de IR para dar mar- cações de cor laranja de alto contraste (0,5 até 4 watt, 100 até 1000 mm/s). Exemplo 7
Preparação de uma composição de revestimento com a utilização de D-(+)- glicose e glicina, alem de sacarose e de fosfato dibásico.
A composição de revestimento é preparada através da mistura de 31,26 g de água com 40,25 g do Iigante acrílico do exemplo 1. 3,00 g de glicina foi em seguida adicionados seguida por 7 g d-(+)-glicose, 7,00 g de sacarose seguida por 6,00 g fosfato dibásico de amônio foram em seguida adicionados. A emulsão foi em seguida agitada em temperatura ambiente durante 30 minutos, A composição de revestimento resultante foi em seguida aplicada através de uma barra de revestimento (K1 até K5) sobre o substrato desejado, (por exemplo, papel ou película de polímero) e submetida à for- mação de imagem com a utilização de um laser de IR de CO2 para dar mar- cações de cor laranja de alto contraste (0,5 até 4 watt, 100 até 1000 mm/s). Exemplo 8
Preparação de uma composição de revestimento com a utilização D- glicosamina
A composição de revestimento é preparada através da mistura de 42,2 g de água com 40 g do Iigante acrílico do exemplo 1. 15,0 g de clori- drato de D-glicosamina foram em seguida adicionados seguidos por uma quantidade apropriada de amônia aquosa (25% em peso) com a finalidade de tornar o pH alcalino (acima de 7,0). A emulsão foi em seguida agitada em temperatura ambiente durante 30 minutos. A composição de revestimento resultante foi em seguida aplicada através de uma barra de revestimento (K1 até K5) sobre o substrato desejado, (por exemplo, papel ou película de polí- mero) e submetida à formação de imagem com a utilização de um laser de IR de CO2 para dar marcações marrons de alto contraste (0,5,até 4 watt, 100 até 1000 mm/s). Exemplo 9
Preparação de uma composição de revestimento com a utilização D- glicosamina e alem disso sacarose
A composição de revestimento é preparada através da mistura de 33,4 g de água com 40 g do Iigante acrílico do exemplo 1. 10,0 g de clori- drato de D-glicosamina e 15.00 g de sacarose são adicionados, seguidos por uma quantidade apropriada de amônia aquosa (25% em peso) com a finali- dade de tornar o pH alcalino (acima de 7,0). A emulsão foi em seguida agi- tada em temperatura ambiente durante 30 minutos. A composição de reves- timento resultante foi aplicada através de uma barra de revestimento (K1 até K5) sobre o substrato desejado,(por exemplo, papel ou película de polímero) e submetida à formação de imagem com a utilização de um laser de IR de CO2 para dar marcações marrons de alto contraste (0,5 até 4 watt, 100 até 1000 mm/s). Exemplo 10
Preparação de uma composição de revestimento com a utilização D- qlicosamina e alem disso fosfato dibásico de amônio
A composição de revestimento é preparada através da mistura de 30,7 g de água com 40 g do Iigante acrílico do exemplo 1. 10,0 g de clori- drato de D-glicosamina, 15,00 g de sacarose e 10,00 g de fosfato dibásico de amônio são adicionados. Em seguida é adicionada uma quantidade apro- priada de amônia aquosa (25% em peso) com a finalidade de tornar o pH alcalino (acima de 7,0). A emulsão foi em seguida agitada em temperatura ambiente durante 30 minutos. A composição de revestimento resultante foi em seguida aplicada através de uma barra de revestimento (K1 até K5) so- bre o substrato desejado, (por exemplo, papel ou película de polímero) e submetido à formação de imagem com a utilização de um laser de IR de CO2 para dar marcações marrons de alto contraste (0.5 até 4 watt, 100 até 1000 mm/s). Exemplo 11
Preparação de uma composição de revestimento com a utilização D-(1)- glicose e de D-qlicosamina
A composição de revestimento é preparada através da mistura de 38,6 g de água com 40 g do Iigante acrílico do exemplo 1. 10,0 g de D- glicose e 10,0 g de cloridrato de D-glicosamina são adicionados. Em seguida uma quantidade apropriada de amônia aquosa (25% em peso) é adicionada com a finalidade de tornar o pH alcalino (acima de 7,0). A emulsão foi em seguida agitada em temperatura ambiente durante 30 minutos. A composi- ção de revestimento resultante foi em seguida aplicada através de uma barra de revestimento (K1 até K5) sobre o substrato desejado, (por exemplo, papel ou película de polímero) e submetida à formação de imagem com a utiliza- ção de um laser de IR de CO2 para dar marcações marrons de alto contraste (0,5 até 4 watt, 100 até 1000 mm/s). Exemplo 12
Preparação de uma composição de revestimento com a utilização D-(+)- glicose e Jeffamina® D-230 A composição de revestimento é preparada através da mistura
de 31,31 g of água com 40,25 g do Iigante acrílico do exemplo 1. 8,93 g de Jeffamine® D-230, que é um polipropileno glicol que contém dois grupos terminais amino e que tem um peso molecular de 230 g/mol, foram em se- guida adicionados seguidos por 14 g de D-(+)-glicose. A emulsão foi em se- guida agitada em temperatura ambiente durante 30 minutos. A composição de revestimento resultante foi em seguida aplicada através de uma barra de revestimento (K1 até K5) sobre o substrato desejado (por exemplo, papel ou Tl película de polímero) e submetido à formação de imagem com a utilização de um CO2 Laser de IR para dar marcações de cor laranja de alto contraste (0,5 até 4 watt, 100 até 1000 mm/s). Exemplo 13
Preparação de uma composição de revestimento com a utilização de D-(1V glicose e de ácido 4-aminohipúrico.
A composição de revestimento é preparada através da mistura de 31,31 g de água com 40,25 g do Iigante acrílico do exemplo 1. 15,08 g do ácido 4-aminohipúrico foram em seguida adicionados seguidos por 14 g de D-(+)-glicose. A emulsão foi em seguida agitada em temperatura ambiente durante 30 minutos. O pH é mantido acima de 7,5 através da adição de uma quantidade apropriada de amônia, se necessário. A composição de revesti- mento resultante foi em seguida aplicada através de uma barra de revesti- mento (K1 até K5) sobre o substrato desejado, (por exemplo, papel ou pelí- cuia de polímero) e submetida à formação de imagem com a utilização de um CO2 Laser de IR para dar marcações de cor laranja de alto contraste (0,5 até 4 watt, 100 até 1000 mm/s). Exemplo 14
Preparação de uma composição de revestimento com a utilização de D-(+)- glicose e etanolamina
A composição de revestimento é preparada através da mistura de 31.31 g de água com 40.25 g do Iigante acrílico do exemplo 1. 4,74 g de etanolamina foram em seguida adicionados seguidos por 14 g de D-(+)- glicose. O pH é mantido acima de 7,5 através da adição da quantidade a- propriada de amônia, se necessário. A emulsão foi em seguida agitada em temperatura ambiente durante 30 minutos. A composição de revestimento resultante foi em seguida aplicada através de uma barra de revestimento (K1 até K5) sobre o substrato desejado, (por exemplo, papel ou película de polí- mero) e submetida à formação de imagem com a utilização de um laser de IR de CO2 para dar marcações de cor laranja de alto contraste (0,5 até 4 watt, 100 até 1000 mm/s). Exemplo 15 Preparação de uma composição de revestimento com a utilização de D-(+)- glicose e do ácido 4-aminobenzoico.
A composição de revestimento é preparada através da mistura de 31,31 g de água com 40,25 g do Iigante acrílico do exemplo 1. 10.65 g do ácido 4-aminobenzoico foram em seguida adicionados seguidos por 14 g de D-(+)-glicose. O pH é mantido acima de 7,5 através da adição da quantidade apropriada de amônia, se necessário. A emulsão foi em seguida agitada em temperatura ambiente durante 30 minutos. A composição de revestimento resultante foi em seguida aplicada através de uma barra de revestimento (K1 até K5) sobre o substrato desejado, (por exemplo, papel ou película de polí- mero) e submetida à formação de imagem com a utilização de laser de IR de CO2 para dar marcações de cor laranja de alto contraste (0,5 até 4 watt, 100 até 1000 mm/s).

Claims (15)

1. Composição para revestimento compreendendo (i) a) um composto contendo um grupo carbonil livre e b) um nucleófilo ou (ii) um composto contendo um grupo carbonil livre, cujo composto é substituído com um ou mais grupos nucleófilos.
2. Composição para revestimento de acordo com a reivindicação 1, na qual o composto que contém um grupo carbonil livre é selecionado a partir do grupo que consiste em aldeídos, cetonas e carboidratos redutores.
3. Composição para revestimento de acordo com a reivindica- ção 1 ou 2, na qual o nucleófilo é uma amina.
4. Composição para revestimento de acordo com a reivindicação 1, na qual o grupo nucleófilo é um grupo amino.
5. Composição de revestimento de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 4, que também compreende um solvente .
6. Composição de revestimento de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 5, que também compreende um Iigante polimérico.
7. Composição de revestimento de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 6, que também compreende um catalisador.
8. Composição de revestimento de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 7, que também compreende compostos adicionais.
9. Processo para a preparação da composição como definida em qualquer uma das reivindicações 1 a 5, cujo processo compreende (i) a) mis- turar o composto que contém um grupo de carbonil livre e b) o nucleófilo com o solvente ou (ii) misturar o composto que contém um grupo de carbonil livre e que é substituído com um ou mais grupos nucleófilos com o solvente.
10. Substrato revestido com a composição de revestimento co- mo definida em qualquer uma das reivindicações 1 a 8.
11. Processo para a preparação de um substrato revestido como definido na reivindicação 10, cujo processo compreende a etapa de revestir um substrato com a composição como defindio em qualquer uma das reivin- dicações 1 a 8.
12. Processo para a preparação de um substrato marcado, cujo processo compreende as etapas de i) revestir um substrato com a composi- ção como definido em qualquer uma das reivindicações 1 a 8, e ii) expor a- quelas partes do substrato revestido, nas quais é pretendida uma marcação, à energia com a finalidade de gerar uma marcação.
13. Substrato marcado, que é obtido através do processo como definido na reivindicação 12.
14. Uso da composição como definida em qualquer uma das rei- vindicações 1 a 8 para a marcação de dados em um a embalagem.
15. Uso de uma composição como definida em qualquer uma das reivindicações 1 a 8 para a marcação de dados em embalagens no campo da segurança/trilha e traço.
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Families Citing this family (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
ES2331156T3 (es) 2005-07-25 2009-12-22 Basf Se Revestimientos de base acuosa y transparentes para el marcado de sustratos.
CA2680371A1 (en) 2007-03-15 2008-09-18 Basf Se Heat-sensitive coating compositions based on resorcinyl triazine derivatives
CN101801676B (zh) 2007-07-18 2012-10-03 巴斯夫欧洲公司 激光敏感涂料制剂
ATE527327T1 (de) * 2007-07-18 2011-10-15 Datalase Ltd Beschichtungszusammensetzungen
ES2377852T3 (es) * 2007-08-22 2012-04-02 Datalase Ltd Composición de revestimiento sensible al láser
US8900414B2 (en) * 2007-11-07 2014-12-02 Datalase, Ltd. Fiber products
CN102197076A (zh) 2008-10-23 2011-09-21 巴斯夫欧洲公司 吸热添加剂
WO2010049282A1 (en) 2008-10-27 2010-05-06 Basf Se Coating composition for marking substrates
US20120045624A1 (en) 2008-10-27 2012-02-23 Basf Se Aqueous laser-sensitive composition for marking substrates
MX354358B (es) 2011-05-25 2018-02-28 Tetra Laval Holdings & Finance Absorbedores mejorados del infrarrojo proximo.
JP5996649B2 (ja) 2011-08-12 2016-09-21 テトラ・ラヴァル・ホールディングス・アンド・ファイナンス・ソシエテ・アノニムＴｅｔｒａ Ｌａｖａｌ Ｈｏｌｄｉｎｇｓ ＆ Ｆｉｎａｎｃｅ Ｓ．Ａ． 新規なマーキング化合物
MX2013014739A (es) 2011-08-12 2014-02-11 Tetra Laval Holdings & Finance Nueva formulacion de tinta.
DE102015005672A1 (de) 2015-05-04 2016-11-10 Giesecke & Devrient Gmbh Sicherheitsmerkmal und Verfahren zu dessen Herstellung
DE102016002120A1 (de) 2016-02-24 2017-08-24 Giesecke & Devrient Gmbh Sicherheitsmerkmal und Verfahren zu dessen Herstellung
DE102016004424A1 (de) 2016-04-12 2017-10-12 Giesecke+Devrient Currency Technology Gmbh Laserung einer Beschichtung mit Effektpigmenten
DE102016006931A1 (de) 2016-06-06 2017-12-07 Giesecke+Devrient Currency Technology Gmbh Sicherheitsmerkmal und Verfahren zu dessen Herstellung
DE102016006929A1 (de) 2016-06-06 2017-12-07 Giesecke+Devrient Currency Technology Gmbh Sicherheitsmerkmal und Verfahren zu dessen Herstellung
KR20220049005A (ko) * 2019-08-16 2022-04-20 9 미터스 바이오파마, 인코포레이티드 라라조타이드 제형

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3161770A (en) 1962-03-20 1964-12-15 Dietzgen Co Eugene Thermographic reproduction paper and method of using
JPS6122988A (ja) 1984-07-11 1986-01-31 Ricoh Co Ltd 光情報記録媒体
JPS63172689A (ja) 1987-01-12 1988-07-16 Mitsubishi Electric Corp 感熱記録方法
JP2751089B2 (ja) * 1992-11-30 1998-05-18 大日本インキ化学工業株式会社 レーザーマーキング方法及び印刷インキ
DE4407905A1 (de) 1994-03-09 1995-09-14 Agfa Gevaert Ag Transparentes wärmeempfindliches Aufzeichnungsmaterial
JPH09156228A (ja) 1995-12-06 1997-06-17 Ricoh Co Ltd 感熱記録材料
US6210472B1 (en) 1999-04-08 2001-04-03 Marconi Data Systems Inc. Transparent coating for laser marking
GB2374561B (en) 2001-02-28 2003-03-12 Sherwood Technology Ltd Laser coding
EP1924444A2 (en) 2005-09-15 2008-05-28 Ciba Holding Inc. Coating compositions for marking substrates
WO2007088104A1 (en) * 2006-01-31 2007-08-09 Ciba Holding Inc. Coating composition for marking substrates

Also Published As

Publication number Publication date
KR20090101196A (ko) 2009-09-24
JP2010515780A (ja) 2010-05-13
WO2008083912A1 (en) 2008-07-17
ZA200904097B (en) 2010-08-25
US8178277B2 (en) 2012-05-15
CA2674582A1 (en) 2008-07-17
MX2009006843A (es) 2009-07-07
US20100104825A1 (en) 2010-04-29
EP2099615B1 (en) 2017-08-02
EP2099615A1 (en) 2009-09-16
CN101636277A (zh) 2010-01-27
TW200902652A (en) 2009-01-16
AU2007343233A1 (en) 2008-07-17

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B08L Patent application lapsed because of non payment of annual fee [chapter 8.12 patent gazette]

Free format text: ARQUIVAMENTO DEFINITIVO

B15K Others concerning applications: alteration of classification

Ipc: B41M 5/323 (2006.01), B41M 3/14 (2006.01), C09D 7/

B08I Publication cancelled [chapter 8.9 patent gazette]

Free format text: ANULADA A PUBLICACAO CODIGO 8.12 NA RPI NO 2284 DE 14/10/2014 POR TER SIDO INDEVIDA.

B08F Application dismissed because of non-payment of annual fees [chapter 8.6 patent gazette]

Free format text: REFERENTE AS 5A, 6A, 7A, 8A, 9A, 10A, 11A E 12A ANUIDADES.

B08K Patent lapsed as no evidence of payment of the annual fee has been furnished to inpi [chapter 8.11 patent gazette]

Free format text: EM VIRTUDE DO ARQUIVAMENTO PUBLICADO NA RPI 2602 DE 17-11-2020 E CONSIDERANDO AUSENCIA DE MANIFESTACAO DENTRO DOS PRAZOS LEGAIS, INFORMO QUE CABE SER MANTIDO O ARQUIVAMENTO DO PEDIDO DE PATENTE, CONFORME O DISPOSTO NO ARTIGO 12, DA RESOLUCAO 113/2013.