BR112019016934A2 - sistema para aplicar um material de mascaramento a um substrato - Google Patents

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Abstract

resumo sistema para aplicar um material de mascaramento a um substrato a presente invenção fornece um sistema (100) para aplicar um material de mascaramento (110) a um substrato (104), o sistema compreendendo: uma alimentação de fonte (108) para distribuir uma quantidade de material de mascaramento a um substrato, um depósito de resíduos (112) para receber o material de mascaramento quando removido do substrato, um bico de pulverização (106) móvel com relação ao substrato e um controlador (116) para controlar o movimento do bico (106) com relação ao substrato (104) e a velocidade de distribuição do material de mascaramento (110) a partir da alimentação de fonte (108), em que a velocidade de movimento do bico de pulverização (106) com relação ao substrato (104) é substancialmente igual à velocidade de distribuição do material de mascaramento (110) a partir da alimentação de fonte (108). figura 2.

Description

“SISTEMA PARA APLICAR UM MATERIAL DE MASCARAMENTO A UM SUBSTRATO”
CAMPO [001] A presente invenção refere-se a um sistema para aplicar um material de mascaramento a um substrato particularmente, mas não exclusivamente para uma aplicação a base de tinta ou impressão.
FUNDAMENTOS [002] Muitos objetos do dia-a-dia, como painéis de carrocerias automotivas, eletrodomésticos e brinquedos infantis, são pintados ou impressos por meio de um sistema baseado em pulverização. Um sistema à base de pulverização típico compreende um bico que é cooperável com um reservatório contendo um meio de tinta. Uma bomba é usada para acionar o meio de tinta a partir do reservatório ao longo de uma conduto para o bico onde a tinta é aplicada a um substrato. Na maioria dos sistemas de impressão por pulverização modernos, a posição do bico é controlada com precisão por um sistema de controle baseado em computador. A posição do bico pode ser ajustada através das coordenadas x, y, z e é tipicamente precisa dentro de uma tolerância muito apertada.
[003] O meio de tinta no reservatório é configurado de acordo com a aplicação. Em uma aplicação onde uma borda lisa é necessária, a configuração espacial do meio de tinta é tal que o acabamento é homogêneo. Isso é vantajoso na maioria das aplicações, mas a qualidade do acabamento pode ser um pouco diminuída quando um acabamento de borda exata é requerido. Para produzir um tal acabamento de borda exata, é comum que uma fita de máscara seja aplicada ao substrato. O substrato é então pintado junto com a fita de máscara. Quando a fita de máscara é removida, um acabamento de borda exata é deixado sobre o substrato. Este processo simples tem sido usado há muitos anos, mas tem algumas desvantagens, incluindo: uso excessivo de tinta, contaminação da fita da máscara por tinta, preocupações ambientais, possíveis danos ao acabamento da pintura quando a fita adesiva é
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2/10 removida e custo de fornecer a fita adesiva com mão de obra necessária para aplicar a fita de máscara e remover após a pintura. Em particular, como a fita adesiva usada está contaminada com tinta, ela não pode ser reutilizada e deve ser descartada em aterros em geral devido à contaminação por tinta. Fita de máscara usada não pode ser reciclada.
[004] A presente invenção procura resolver os problemas acima mencionados.
SUMÁRIO [005] De acordo com um aspecto da invenção, é previsto um sistema para aplicar um material de mascaramento a um substrato, o sistema compreendendo: uma alimentação de fonte para distribuir uma quantidade de material de mascaramento a um substrato, um depósito de resíduos para receber o material de mascaramento quando removido do substrato, um bico de pulverização móvel com relação ao substrato e um controlador para controlar o movimento do bico com relação ao substrato e a velocidade de distribuição do material de mascaramento a partir da alimentação de fonte, em que a velocidade de movimento do bico de pulverização com relação ao substrato é configurada para ser substancialmente igual à velocidade de distribuição do material de mascaramento a partir da alimentação de fonte.
[006] O sistema descrito elimina a necessidade de preparação manual de um substrato antes da pintura, poupando assim tempo e custos significativos. Além disso, contaminação ambiental local é reduzida à medida que o material de mascaramento é enviado diretamente para um depósito de resíduos durante o processo de pintura e, subsequentemente, descartado no final da operação de impressão. O dano à pintura também é minimizado, pois o material de mascaramento é removido do substrato durante a operação de impressão antes da tinta secar. Depois que um rolo de material de mascaramento é instalado na alimentação de fonte, a operação de mascaramento é automatizada até um momento em que o rolo de material de mascaramento esteja esgotado. Nesse momento, o usuário simplesmente
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3/10 precisa descartar o material de mascaramento no depósito de resíduos e instalar um novo rolo de material de mascaramento. Essa configuração permite que o sistema de mascaramento seja usado para múltiplas operações de impressão entre a instalação de novos rolos de material de mascaramento.
[007] A alimentação de fonte, depósito de resíduos e bico podem definir uma unidade de pulverização móvel como uma unidade única.
[008] Com vantagem, movimento da alimentação de fonte, depósito de resíduos e rolete como uma unidade única permite o fácil alinhamento do material de mascaramento com o bico durante a operação de pintura.
[009] A alimentação de fonte pode estar na forma de um rolete. O depósito de resíduos pode estar na forma de um rolete.
[0010] Uso de um rolete para a alimentação de fonte e o depósito de resíduos assegura que a velocidade em que o material de mascaramento deixa a alimentação de fonte é igual à velocidade em que o material de mascaramento chega ao depósito de resíduos. O risco de falha mecânica de ou a alimentação de fonte ou o depósito de resíduos é minimizado devido à simples construção mecânica do mesmo.
[0011] O sistema pode compreender adicionalmente uma guia para guiar o material de mascaramento entre a alimentação de fonte e o depósito de resíduos.
[0012] Uso de uma guia assegura que o material de mascaramento é aplicado ao substrato da maneira desejada sem torcer ou vincar.
[0013] A guia pode estar na forma de um par de roletes entre os quais o material de mascaramento passa.
[0014] O material de mascaramento pode ser um papel ou material à base de plástico.
[0015] De acordo com outro aspecto da invenção, é previsto um sistema para aplicar um material de mascaramento a um substrato, o sistema compreendendo: uma alimentação de fonte para distribuir uma ciclo contínuo de material de mascaramento a um substrato, um bico de pulverização móvel
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4/10 com relação ao substrato para aplicar um meio de tinta ao substrato e um limpador disposto para limpar o excesso de meio de tinta do material de mascaramento.
[0016] Uso de um ciclo contínuo de material de mascaramento que passa através de um limpador tem um impacto ambiental positivo significante por remoção da necessidade de usar material de mascaramento à base de papel não reciclável, que é contaminado com tinta. Passando o ciclo contínuo de material de mascaramento através de um limpador permite que o meio de tinta seja removido do material de mascaramento de modo que o material de mascaramento é apropriado para um uso prolongado sem requerer substituição.
[0017] A velocidade de movimento do bico com relação ao substrato pode ser igual à velocidade de distribuição do material de mascaramento ao substrato.
[0018] O sistema pode compreender adicionalmente uma guia para facilitar a distribuição do material de mascaramento ao substrato.
[0019] A provisão de uma guia assegura com vantagem que o material de mascaramento é aplicado ao substrato no modo desejado sem torção ou formação de vincos.
[0020] A guia pode compreender um par de roletes espaçados para contatar um dos lados do material de mascaramento.
[0021] O par de roletes pode ser acionado por um motor.
[0022] Uso de um motor para acionar os roletes permite ao sistema impelir o material de mascaramento contra o substrato, deformando assim o material de mascaramento e, de um modo mais eficiente, mascarando a superfície e evitando que o meio de tinta fique sob o material de mascaramento. Em combinação com as propriedades semelhantes à mola do material de mascaramento, o motor possibilita que as imprecisões geométricas possam ser anuladas pela pressão do material de mascaramento contra o substrato pelo motor.
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5/10 [0023] O sistema pode compreender adicionalmente meio de ajuste angular para modificar o ângulo da alimentação de fonte com relação ao substrato.
[0024] O uso de meio de ajuste angular possibilita que o material de mascaramento pode ser aplicado ao substrato em qualquer orientação com relação ao trajeto do bico.
[0025] O meio de ajuste angular pode ser configurado para ajustar o ângulo do material de mascaramento de modo que o material de mascaramento é sempre aplicado ao substrato ao longo da direção de trajeto do bico.
[0026] Para mascarar o substrato durante a pintura em uma direção encurvada, o meio de ajuste angular pode ser configurado de modo que o material de mascaramento é sempre aplicado ao substrato na direção de trajeto do bico. Isto também proporciona o benefício adicional de um acabamento da pintura de maior qualidade substrato em que o bico segue um trajeto encurvado.
[0027] O meio de ajuste angular pode compreender um motor.
[0028] Uso de um motor permite ao meio de ajuste angular responder rapidamente e em cooperação com uma variação na direção de trajeto do bico.
[0029] O ciclo contínuo de material de mascaramento pode ser formado de um material plástico ou metálico.
[0030] Uso de um material plástico ou metálico permite ao material de mascaramento ser limpo sem risco significante de dano ao material de mascaramento. Um material resiliente é importante de modo que é apropriado para uso prolongado sem substituição.
[0031] O limpador pode compreender um reservatório e uma ou mais lâminas de limpeza.
[0032] Provisão de um reservatório permite que o meio de tinta coletado seja guardado para descarte ou posterior reuso ou o meio de tinta coleto pode ser reutilizado durante a operação de impressão corrente. O uso
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6/10 de lâminas de limpeza remove eficientemente o meio de tinta úmida do material de mascaramento e faz com que o meio de tinta removido se acumule no reservatório.
[0033] O dreno pode compreender um dreno para remover material de tinta do reservatório.
[0034] A provisão de um dreno permite que a tinta dentro do reservatório seja facilmente removida do reservatório e descartada ou devolvida à fonte do meio de impressão principal.
[0035] O dreno pode compreender uma válvula tendo uma posição fechada na qual o material de tinta não pode sair do reservatório e uma posição aberta na qual o material de tinta pode sair do reservatório através do dreno.
[0036] Provisão de uma válvula permite que um usuário selecione manualmente quando o meio de tinta dentro do reservatório deve ser removido do mesmo.
[0037] O reservatório pode compreender um sensor de nível para detectar o nível o meio de tinta dentro do reservatório e a válvula pode ser controlável por um controlador de modo que, quando o nível do meio de tinta dentro do reservatório é detectado como tendo alcançado um nível predeterminado pelo sensor de nível, a válvula é deslocada para a posição aberta para permitir ao meio de tinta dentro do reservatório drenar a partir do mesmo.
[0038] O sistema pode compreender adicionalmente meio de ajuste da altura para ajustar a posição do ciclo contínuo de material de mascaramento com relação ao substrato na dimensão y.
[0039] Em algumas aplicações, pode ser vantajoso para o material de mascaramento ser espaçado do substrato para ser pintado, isto é, o material de mascaramento define uma máscara de não contato. Este é particularmente o caso quando uma borda acabada não é requerida para ser exata como quando pintando a superfície interna de um padrão.
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7/10 [0040] O sistema pode compreender dois ciclos de material de mascaramento contínuos, em que os dois ciclos estão positivos em lados opostos respectivos do bico.
[0041] Uma disposição de dois ciclos do material de mascaramento permite que um sistema de pintura pinte com pulverização, de modo preciso e eficiente, uma linha ou outro traço estreito em um substrato [0042] Os dois ciclos de material de mascaramento contínuos podem distribuídos por uma alimentação de fonte comum.
[0043] Cada ciclo de material de mascaramento contínuos pode distribuído por alimentações de fonte respectivas.
FIGURAS [0044] A invenção será agora descrita por meio de referência às seguintes figuras.
[0045] Figura 1 ilustra um método da técnica anterior de pintar com pulverização um substrato;
[0046] Figura 2 ilustra um sistema para aplicar um material de mascaramento a um substrato de acordo com um primeiro aspecto da invenção;
[0047] Figura 3 ilustra um sistema para aplicar um material de mascaramento a um substrato de acordo com uma segunda modalidade da invenção;
[0048] Figura 4 ilustra uma variação do sistema de figura 3 que compreende um motor de ajuste de ângulo para permitir ao sistema ser usado com superfícies encurvadas;
[0049] Figura 5 ilustra outra variação do sistema de figura 3 que não leva o material de mascaramento em contato com o substrato;
[0050] Figura 6 ilustra outra variação do sistema de figura 3 que é disposto em um dos lados do bico.
DESCRIÇÃO [0051] Um sistema 10 de pulverização de tinta da técnica anterior está
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8/10 ilustrado na Figura 1. Um bico 12 está disposto de tal modo que está espaçado de um substrato 14 a ser pintado. O material de mascaramento 16 é aplicado ao substrato 14, de tal modo que, quando a tinta é aplicada, é possível um acabamento de borda exata. O material de mascaramento 16 é removido do substrato após a conclusão do processo de pintura. O material de mascaramento 16 é descartado em aterro geral devido a estar contaminado com tinta, impedindo assim a reciclagem.
[0052] Um primeiro aspecto da invenção 100 é ilustrado in figura 2. Uma unidade de pulverização 102 é disposta de modo que ela é espaçada de um substrato 104 a ser pintado. A unidade de pulverização compreende um bico 106, uma alimentação de fonte 108 para distribuir um material de mascaramento 110, um depósito de resíduos 112 para receber o material de mascaramento 110 usado e uma guia 114 para guiar o material de mascaramento 110 entre a alimentação de fonte e o depósito de resíduos 112.
[0053] A alimentação de fonte 108 e o depósito de resíduos 112 são mostrados como roletes na modalidade ilustrada na figura 2. O material de mascaramento 110 é alimentado a partir da alimentação de fonte 108 e aplicado ao substrato imediatamente antes da pintura. Após a pintura, o material de mascaramento 110 é removido do substrato 104 e armazenado em ou sobre o descarte de resíduos 112. Um, ou ambos, dentre os roletes de alimentação de fonte 108 e depósito de resíduos 112 são acionados por motores.
[0054] A unidade de pulverização 102 é controlada por um controlador 116 que é operável para controlar o movimento linear da unidade de pulverização 102 e transferir o material de mascaramento 110 a partir da alimentação de fonte 108 para o depósito de resíduos 112. Para facilitar a operação eficaz de uma unidade de pulverização 102, o controlador 116 é configurado de modo que a velocidade de transferência V-ι do material de mascaramento 110 a partir da alimentação de fonte 108 para o depósito de resíduos 112 é igual à velocidade de movimento V2 da unidade de pulverização
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102 com relação ao substrato 104. Como um ou ambos dentre os roletes de alimentação de fonte 108 e depósito de resíduos 112 são controláveis pelo motor, a velocidade dos motores pode ser controlada como apropriado.
[0055] Um segundo aspecto da invenção 200 é ilustrado em figura 3. Uma unidade de pulverização 202 compreende um bico 203, um rolete 204 em torno do qual um ciclo contínuo de material de mascaramento 206 é posicionado. O material de mascaramento 206 é tensionado por uma ou mais guias 208. Uma caixa de limpeza 210 é fornecida em contato com o material de mascaramento 206. A caixa de limpeza 210 compreende um limpador 212 para limpar o meio de tinta do material de mascaramento 206. O meio de tinta é coletado em um reservatório 214 que ou faz parte da caixa de limpeza 210 ou fica externo à caixa de limpeza 210. O reservatório 216 compreende um dreno 220 para permitir que o material de tinta dentro do reservatório 214 seja drenado. O dreno 220 compreende uma válvula 222 que tem uma posição aberta em que material de tinta não pode removido drenado do reservatório 214 e uma posição aberta em que material de tinta pode ser drenado do reservatório 214 através do dreno 220.
[0056] Para tensionar o ciclo contínuo de material de mascaramento, um segundo rolete (não mostrado) pode ser fornecido em linha com o primeiro rolete 204. Ambos o primeiro rolete 204 e segundo rolete, se presente, são desviados do bico 206.
[0057] A unidade de pulverização 202 é controlada por um controlador 216 que é operável para controlar o movimento da unidade de pulverização 202 com relação ao substrato 218 e movimento do ciclo contínuo de material de mascaramento 206 em torno de um trajeto do ciclo. Para facilitar a operação eficaz da unidade de pulverização 202, o controlador é configurado de modo que a velocidade de movimento V-ι do material de mascaramento 206 em torno do trajeto é igual ao movimento linear V2 da unidade de pulverização 202.
[0058] Em uso, o ciclo contínuo de material de mascaramento 206 é posicionado contra ou próximo de um substrato 218 para ser pintado. À medida
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10/10 que a unidade de pulverização 202 se desloca com relação ao substrato 218, o material de mascaramento 206 se desloca em torno de um trajeto predeterminado. O material de mascaramento impede que o meio de tinta seja aplicado a algumas áreas do substrato 218.
[0059] Figura 4 ilustra uma unidade de pulverização 202 que compreende adicionalmente um motor de ajuste de ângulo 224. O motor de ajuste de ângulo 224 permite a rotação axial em torno de um eixo y de modo que o ângulo do primeiro rolete 204 pode ser ajustado. Em uma modalidade, o ângulo do primeiro rolete 204 é controlado pelo controlador 216 de modo que um motor de ajuste de ângulo 224 é instruído a ajustar o ângulo do primeiro rolete 204 de acordo com uma mudança de direção de trajeto do bico 203.
[0060] Figura 5 ilustra uma unidade de pulverização 202 que é configurada de modo que o material de mascaramento 206 não está em contato com o substrato 218 durante o uso. Neste exemplo, o material de mascaramento 206 é desviado em uma distância x do substrato 218. O primeiro rolete 204 é ajustável de modo que a distância do primeiro rolete 204 com relação ao substrato 218 é ajustável em altura.
[0061] Figura 6 ilustra uma unidade de pulverização 202 que permite dois ciclos contínuos de material de mascaramento 206 para ser aplicada contra ou próxima do substrato 218. Isto pode ser obtido ou através de um projeto de rolete que pode acomodar dois ciclos de material de mascaramento 206, ou através da provisão de dois conjuntos de roletes com cada conjunto de roletes se acomodando em respectivos ciclos material de mascaramento 206. Cada ciclo contínuo de material de mascaramento 206 é distribuído ao substrato 218 de modo que o bico 203 é posicionado entre os dois ciclos contínuos de material de mascaramento 206 em lados opostos do bico 203.
[0062] A descrição acima mencionada é destinada a descrever uma modalidade da invenção e é dada como um exemplo apenas.

Claims (26)

  1. REIVINDICAÇÕES
    1. Sistema para aplicar um material de mascaramento a um substrato, o sistema caracterizado pelo fato de que compreende: uma alimentação de fonte para distribuir uma quantidade de material de mascaramento a um substrato, um depósito de resíduos para receber o material de mascaramento quando removido do substrato, um bico de pulverização móvel com relação ao substrato e um controlador para controlar o movimento do bico com relação ao substrato e a velocidade de distribuição do material de mascaramento a partir da alimentação de fonte, em que a velocidade de movimento do bico de pulverização com relação ao substrato é substancialmente igual à velocidade de distribuição do material de mascaramento a partir da alimentação de fonte.
  2. 2. Sistema para aplicar um material de mascaramento a um substrato, caracterizado pelo fato de que compreende adicionalmente uma unidade de pulverização definida, pelo menos em parte, pela alimentação de fonte, depósito de resíduos e bico, em que a unidade de pulverização é controlada pelo controlador para ser móvel com relação ao substrato como uma unidade única.
  3. 3. Sistema para aplicar um material de mascaramento a um substrato de acordo com a reivindicação 1 ou reivindicação 2, caracterizado pelo fato de que a alimentação de fonte compreende um rolete.
  4. 4. Sistema para aplicar um material de mascaramento a um substrato de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 3, caracterizado pelo fato de que o depósito de resíduos compreende um rolete.
  5. 5. Sistema para aplicar um material de mascaramento a um substrato de acordo com qualquer reivindicação precedente, caracterizado pelo fato de que compreende adicionalmente uma guia para facilitar a transferência do material de mascaramento a partir da alimentação de fonte para o depósito de resíduos.
  6. 6. Sistema para aplicar um material de mascaramento a um substrato de acordo com a reivindicação 5, caracterizado pelo fato de que em que a guia compreende um par de roletes espaçados para contatar um dos lados do material de mascaramento.
  7. 7. Sistema para aplicar um material de mascaramento a um substrato de
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    2/4 acordo com a reivindicação 6, caracterizado pelo fato de que o par de roletes é solicitado em uma posição engatada para contatar o material de mascaramento e é deslocável para fora da posição engatada para facilitar a carga do material de mascaramento.
  8. 8. Sistema para aplicar um material de mascaramento a um substrato de acordo com qualquer uma das reivindicações 5 a 7, caracterizado pelo fato de que a guia compreende pelo menos dois pares de roletes, em que um primeiro par de roletes é disposto entre a alimentação de fonte e o bico e um segundo par de roletes é disposto entre o bico e o depósito de resíduos.
  9. 9. Sistema para aplicar um material de mascaramento a um substrato de acordo com a reivindicação 8, caracterizado pelo fato de que pelo menos um rolete do par de roletes é acionado por um motor.
  10. 10. Sistema para aplicar um material de mascaramento a um substrato, caracterizado pelo fato de que o sistema compreende: uma alimentação de fonte para distribuir um ciclo contínuo de material de mascaramento a um substrato, um bico de pulverização móvel com relação ao substrato para aplicar um meio de tinta ao substrato e um limpador disposto para limpar o excesso de meio de tinta do material de mascaramento.
  11. 11. Sistema para aplicar um material de mascaramento a um substrato de acordo com a reivindicação 10, caracterizado pelo fato de que a velocidade de movimento do bico de pulverização com relação ao substrato e a velocidade de distribuição do material de mascaramento são controladas por um controlador, em que a velocidade de movimento do bico é configurada para ser substancialmente igual à velocidade de distribuição do material de mascaramento a partir da alimentação de fonte.
  12. 12. Sistema para aplicar um material de mascaramento a um substrato de acordo com a reivindicação 11, caracterizado pelo fato de que compreende adicionalmente uma unidade de pulverização definida, pelo menos em parte, pela alimentação de fonte, depósito de resíduos e bico, em que a unidade de pulverização é controlada pelo controlador para ser móvel com relação ao substrato como uma unidade única.
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    3/4
  13. 13. Sistema para aplicar um material de mascaramento a um substrato de acordo com qualquer uma das reivindicações 10 a 12, caracterizado pelo fato de que compreende adicionalmente uma guia para facilitar a distribuição do material de mascaramento ao substrato.
  14. 14. Sistema para aplicar um material de mascaramento a um substrato de acordo com a reivindicação 13, caracterizado pelo fato de que a guia compreende um par de roletes espaçados para contatar um dos lados do material de mascaramento.
  15. 15. Sistema para aplicar um material de mascaramento a um substrato de acordo com a reivindicação 14, caracterizado pelo fato de que o par de roletes é acionado por um motor.
  16. 16. Sistema para aplicar um material de mascaramento a um substrato de acordo com qualquer uma das reivindicações 10 a 15, caracterizado pelo fato de que compreende adicionalmente um meio de ajuste angular para modificar o ângulo da alimentação de fonte com relação ao substrato.
  17. 17. Sistema para aplicar um material de mascaramento a um substrato de acordo com a reivindicação 16, caracterizado pelo fato de que o meio de ajuste angular compreende um motor.
  18. 18. Sistema para aplicar um material de mascaramento a um substrato de acordo com qualquer uma das reivindicações 10 a 17, caracterizado pelo fato de que o ciclo contínuo de material de mascaramento é formado de um material plástico ou metálico.
  19. 19. Sistema para aplicar um material de mascaramento a um substrato de acordo com qualquer uma das reivindicações 10 a 18, caracterizado pelo fato de que o limpador compreende um reservatório e uma ou mais lâminas de limpeza.
  20. 20. Sistema para aplicar um material de mascaramento a um substrato de acordo com a reivindicação 19, caracterizado pelo fato de que o limpador compreende adicionalmente um dreno para remover material de tinta do reservatório.
  21. 21. Sistema para aplicar um material de mascaramento a um substrato de acordo com a reivindicação 20, caracterizado pelo fato de que o dreno compreende
    Petição 870190079039, de 15/08/2019, pág. 33/45
    4/4 uma válvula tendo uma posição fechada em que material de tinta não pode sair do reservatório e uma posição aberta em que material de tinta pode sair do reservatório através do dreno.
  22. 22. Sistema para aplicar um material de mascaramento a um substrato de acordo com qualquer uma das reivindicações 10 a 21, caracterizado pelo fato de que a alimentação de fonte compreende dois roletes, cada rolete acionando um respectivo ciclo contínuo de material de mascaramento, em que cada ciclo contínuo de material de mascaramento é configurado para ser aplicado ao substrato, um em cada um dos lados opostos do bico.
  23. 23. Sistema para aplicar um material de mascaramento a um substrato de acordo com qualquer uma das reivindicações 10 a 21, caracterizado pelo fato de que a alimentação de fonte compreende um rolete configurado para acomodar dois respectivos ciclos contínuos de material de mascaramento espaçados para definir uma abertura entre os mesmos dentro da qual o bico é posicionado em uso.
  24. 24. Sistema para aplicar um material de mascaramento a um substrato de acordo com qualquer uma das reivindicações 10 a 23, caracterizado pelo fato de que a alimentação de fonte é configurada para distribuir o ciclo contínuo de material de mascaramento de modo que ele é espaçado do substrato por uma distância y.
  25. 25. Sistema para aplicar um material de mascaramento a um substrato de acordo com a reivindicação 24, caracterizado pelo fato de que a distância da alimentação de fonte a partir do substrato é ajustável.
  26. 26. Sistema para aplicar um material de mascaramento a um substrato de acordo com a reivindicação 21, caracterizado pelo fato de que o limpador compreende um sensor de nível para detectar o nível do meio de tinta dentro do reservatório e a válvula é controlável pelo controlador de modo que quando o nível do meio de tinta dentro do reservatório é detectado como tendo alcançado um nível predeterminado pelo sensor de nível, a válvula é deslocada para a posição aberta para permitir ao meio de tinta dentro do reservatório drenar a partir da mesma.
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