BR112018070901B1

BR112018070901B1 - Método para a aderência de um objeto a um portador de objeto em um processo estereolitográfico e dispositivo para a realização do método

Info

Publication number: BR112018070901B1
Application number: BR112018070901-8A
Authority: BR
Inventors: Klaus Stadlmann
Original assignee: Klaus Stadlmann
Priority date: 2016-04-19
Filing date: 2017-04-19
Publication date: 2022-08-09
Also published as: CN109476080B; AU2017253939A1; US20190084230A1; AT518051A4; KR102075856B1; CA3021175C; CA3021175A1; US11090865B2; AU2017253939B2; AT518051B1; RU2018137402A; KR20190021204A; RU2018137402A3; JP2019513594A; EP3445567B1; EP3445567A1; RU2720796C2; BR112018070901A2; JP6705016B2; CN109476080A

Abstract

A presente invenção refere-se ao acoplamento adesivo de um objeto (3), a um transporte de objeto (15) em um processo estereo-litográfico, em que o objeto (3) é formado através da cura de uma substância fotossensível (5), por meio da radiação de cura, pelo menos em uma região do transporte de objeto (15), a radiação secundária é irradiada para o transporte de objeto (15), em uma direção que é diferente da direção de radiação de cura, a fim de adesivamente acoplar o objeto (3), em que a radiação secundária é suprida lateralmente para o transporte de objeto (15) em geral planar, de radiação permeável, e é desviada dentro do transporte de objeto (15).

Description

[001] A invenção refere-se a um método para aderência de um objeto para um portador de objeto em um processo estereolitográfico, o objeto sendo formado através da cura de uma substância fotossensível, por meio da radiação de cura, em que, pelo menos, em uma região parcial do portador de objeto, uma radiação secundária é irradiada para o portador de objeto, em uma direção que é diferente da direção da radiação de cura, a fim de aderir o objeto. A invenção ainda refere-se a um dispositivo para realizar este método.

[002] Métodos e dispositivos são conhecidos, que têm por objetivo aumentar a aderência das camadas de componentes no início de um processo de estereolitografia. Um exemplo disso é a técnica descrita em WO 2010/045951, em que a luz é adicionalmente acoplada a partir de cima, em uma substância fotorreativa, através de uma plataforma de elaboração, cuja parte de baixo é de luz permeável. A consequência disto é que a radiação adicional permite uma melhor aderência das primeiras camadas de componente. Entretanto, essa solução conhecida tem várias desvantagens: Por exemplo, a fonte de luz é localizada na própria plataforma de construção, e é movida junto com ela, embora a fonte de luz seja usada somente durante as primeiras camadas de componente. Isto requer o suprimento de eletricidade para a plataforma de construção. Além disso, pela integração da fonte de luz na plataforma de construção, seus custos são substancialmente aumentados, e nenhum sistema pode ser criado que permita um único uso. Da mesma maneira, a plataforma de construção não pode ser colocada, ou pode ser colocada somente com dificuldade, simultaneamente, com o componente localizado no mesmo, em uma instalação de limpeza ou similar, desde que o líquido de limpeza possa penetrar na plataforma de construção e contaminar a fonte de luz.

[003] A partir da US 2015/290874 A1 é conhecido um dispositivo, em que o traçado da luz é guiado em torno de uma autoclave, para um objeto localizado acima dela. Um espelho usado neste caso serve ao mesmo tempo para iluminar a parte de baixo da autoclave.

[004] O objetivo da invenção é solucionar as dificuldades e problemas conhecidos da técnica anterior, para permitir uma melhor e mais econômica integração em um conceito de equipamento, para a produção de objetos tridimensionais, e para realizar a melhor aderência das primeiras camadas do objeto, durante o processo de construção.

[005] A fim de solucionar este objetivo, o método de acordo com a invenção provê, em particular, que a radiação secundária seja suprida lateralmente para o portador de objeto geralmente planar, de radiação permeável, e seja desviada dentro do portador do objeto.

[006] O dispositivo de acordo com a invenção é distinguido através de uma fonte de radiação secundária, disposta lateralmente em uma distância do portador do objeto, e pelo fato de que o portador do objeto é, pelo menos parcialmente, permeável à radiação secundária.

[007] Na presente técnica de estereolitografia, uma aderência do objeto para o portador do objeto é, desse modo, realizada através da radiação secundária. As fontes de luz não são localizadas no portador de objeto; as fontes de luz podem ser localizadas em uma distância local dele, e podem ser dispostas, por exemplo, ao redor do portador de objeto, o portador do objeto tendo uma pluralidade de aberturas ou janelas, pelo menos parcialmente permeáveis à luz, através das quais a luz pode ser acoplada em e/ou fora. O portador do objeto pode, por exemplo, ser movido independentemente em relação à fonte de luz secundária e/ou à fonte de luz primária, e ambas as fontes de luz podem ser dispostas e realizadas de tal maneira que elas permitem uma irradiação para o portador de objeto, ou o acoplamento em, da luz sobre uma região que compreende pelo menos as primeiras e/ou as duas primeiras, cinco, dez ou vinte camadas de componente.

[008] Por "luz" ou "radiação" aqui no presente se entende qualquer tipo de radiação eletromagnética, tal como, por exemplo, também radiação ultravioleta ou radiação de infravermelho. As fontes de luz têm, pelo menos, um emissor de radiação, tal como, por exemplo, um LED, que pode emitir radiação em pelo menos uma faixa de comprimento de onda específica; as fontes de luz preferivelmente têm uma pluralidade de fontes de radiação, tais como, por exemplo, uma pluralidade de LEDs, com diferentes comprimentos de onda e comportamentos de radiação, de tal maneira que um faixa de comprimento de onda inteira de, por exemplo, 365 nm a 405 nm, pode ser coberta e/ou seletivamente abordada. Preferivelmente, um comprimento de onda é usado para acoplamento na plataforma de construção, que permite a cura mais profunda da substância fotorreativa. Isto pode ser realizado, por exemplo, por ter o comprimento de onda central localizado em uma faixa de comprimento de onda, em que um foto-iniciador usado é menos potente (por exemplo, 405 nm). Neste caso, o comprimento de onda central pode ser diferente, por exemplo, na faixa de UV, por 5 nm, 10 nm, 20 nm, 40 nm ou mais, dependendo do foto-iniciador usado, a partir da radiação primária usada para a cura de substância fotorreativa. Além disso, as fontes de luz podem ser controladas temporalmente e/ou em suas intensidades, e independentemente umas das outras.

[009] A plataforma de construção é preferivelmente configurada, em termos de construção, tal como um acoplamento dentro da radiação, tão eficiente e baixa em radiação de dispersão quanto possível, pode ser permitida. Em particular, a plataforma de construção pode ser configurada de tal maneira que ela atua como um tipo de "guia de luz" e tem, por exemplo, uma câmara em que, pelo menos, uma superfície parcialmente refletindo (tal como, por exemplo, uma folha de espelho, uma placa de espelho, etc.) ou, por exemplo, um espelho localmente ajustável, está localizado. A radiação pode estar acoplada dentro da plataforma de construção, ou do portador de objeto, de tal maneira que uma variação do local de intensidade máxima pode ser realizada; isto pode ocorrer, por exemplo, trocando a posição do portador de objeto, trocando o ângulo de incidência da radiação, e/ou através de uma troca local de um espelho de deflecção, dentro do portador de objeto, através de troca da corrente de LED, pelo DMD presente na fonte de luz primária.

[0010] Preferivelmente, ambas as fontes de luz também podem ser usadas para outros fins, tais como, por exemplo, para iluminar o interior, para sinalizar um estágio do processo (por exemplo conclusão do objeto, pausa do processo e terminação do processo), para cura da substância fotorreativa remanescente, e para a pós-exposição dos componentes gerados, como também, por exemplo, uma fonte de luz em combinação com uma câmera, para 3D escanear o componente gerado. Para esse propósito, por exemplo, pelo menos uma das fontes de luz usadas, dependendo da função desejada, pode ser elaborada correspondendo a partir de pelo menos uma fonte de radiação (LED), que tem um comprimento de onda central e/ou pode ser equipada com um sistema óptico, e pode ser disparada de uma maneira alvejada, individualmente ou por seções (por exemplo de acordo com forros e colunas de uma matriz de LED), através de um controlador em relação à intensidade, a duração da radiação, opcionalmente em relação ao padrão de radiação (por exemplo um padrão de linha) e a posição da entrada da radiação. Isto permite uma localização dependente, intensidade dependente e entrada de radiação dependente do tempo, dentro da plataforma de construção, como também a possibilidade de radiação ou acoplamento em radiação, em posições diferentes da matriz de LED, e/ou de usar emissores diferentes ou comprimentos de ondas. Desse modo, existe a possibilidade de, por exemplo, quando usando pelo menos um painel de UV-LED, disparar somente a região de radiação que pode ser acoplada ao portador de objeto na posição correspondente; em um ponto do tempo mais tarde, tal como, por exemplo, depois da conclusão do corpo tridimensional e das etapas de pós-tratamento correspondentes (limpeza do objeto, etc.), o objeto gerado pode ser pós-exposto, por exemplo, através do disparo de todos os UV-LEDs ou de todos os painéis usados, por exemplo, com a ajuda da fonte de luz secundária, e, opcionalmente, a fonte de luz primária.

[0011] Em relação a uma configuração simples, não dispendiosa, é preferido que a radiação secundária seja derivada de uma radiação de cura. Por outro lado, é também conveniente, em muitos casos, que uma radiação, que é independente da radiação de cura, seja usada como radiação secundária. Além disso, é vantajoso que a radiação secundária seja suprida para o portador de objeto através de um guia de luz. Pode também ser provido que a radiação secundária seja ajustada sobre uma região de aderência durante o processo de aderência.

[0012] Em relação ao presente dispositivo, é particularmente vantajoso que a fonte de radiação secundária seja formada por um guia de luz. Neste caso, é ainda conveniente que o guia de luz seja conectado a uma fonte de radiação principal de estereolitografia, de uma maneira conduzindo a luz.

[0013] Por outro lado, é também vantajoso que uma fonte de radiação secundária independente de uma fonte de radiação principal seja provida.

[0014] É ainda conveniente que o portador do objeto seja percebido por ser parcialmente permeável para a radiação, e pelo menos parcialmente refletivo, a fim de desviar a radiação secundária para uma região de aderência ao objeto. O portador do objeto pode também incluir uma superfície de espelho. Neste caso, é ainda vantajoso que a superfície do espelho seja percebida por estar difusamente refletindo. Por outro lado, pode também ser provido que o portador de objeto inclua um espelho de deflexão, disposto de maneira móvel. Finalmente, é preferível que o portador de objeto tenha uma placa de base de aderência, que é pelo menos parcialmente permeável à radiação.

[0015] A invenção será explicada abaixo, com referência às modalidades exemplares preferidas que, entretanto, não são limitantes, e com referência aos desenhos. Mais especificamente:

[0016] Figura 1 mostra uma vista esquemática de uma modalidade exemplar de um dispositivo de estereolitografia;

[0017] Figuras 2, 3 e 4 mostram vistas de modalidades de tal dispositivo modificado em relação à Figura 1;

[0018] Figura 5 e Figura 5a mostram variantes da invenção a respeito da forma de irradiação; e

[0019] Figuras 6 a 10 mostram variantes da radiação se acoplando em uma plataforma de construção;

[0020] A Figura 1 mostra, a título de exemplo, uma modalidade exemplar de um dispositivo de estereolitografia 1, parcialmente em uma reapresentação seccional, este dispositivo 1 sendo configurado para a geração de camada por camada, a partir das camadas individuais 3, 3i, de pelo menos um corpo tridimensional ou objeto 3, que é produzido através de solidificação seletiva ou de cura de uma substância fotorreativa 5, que está localizada em uma autoclave 7, em que a informação de camada é gerada com a ajuda de uma fonte de luz primária 9 e, opcionalmente, com a ajuda de um espelho de deflexão 11. A fonte de luz primária 9 pode ser um laser controlável, preferivelmente, uma unidade de projeção de máscara digital baseada em pixel. A fonte de luz primária 9 pode ser controlada através de um dispositivo de controle 13. A substância fotossensível 5 é líquida, pelo termo "líquida" sendo entendido todos os líquidos de qualquer viscosidade, incluindo substâncias pastosas, como também líquidos preenchidos ou pigmentados. A fonte de luz primária 9 é feita de, por exemplo, um emissor de radiação 9', (por exemplo, um UV LED), e um dispositivo de exposição de máscara 9'' tal como, por exemplo, um DMD (Dispositivo de Espelho Digital), ou uma estrutura de DLP (Processamento de Luz Digital) que é capaz de gerar uma imagem baseada em pixel.

[0021] As camadas geradas 3i, curadas pela fonte de luz primária 9, aderem a uma plataforma de construção 15, que serve como um portador de objeto e que, além disso, é pelo menos parcialmente, transparente para a radiação de, pelo menos, uma fonte de luz secundária disposta lateralmente 17, e pode ser compreendida como sendo pelo menos parcialmente reflexiva, a fim de tornar possível que a radiação secundária da fonte de luz 17 surja para baixo, como um resultado do reflexo através da placa de base 19, pelo menos parcialmente transparente, da plataforma de construção 15. Por radiação secundária é entendido a radiação que da mesma maneira apropriada para a cura da substância fotorreativa 5, que tem pelo menos um comprimento de onda central (por exemplo 405 nm), e pelo menos um tipo de fonte de radiação (por exemplo LED), e pode ser controlada através do dispositivo de controle 13, preferivelmente independentemente da fonte de luz primária 9. Na modalidade exemplar mostrada na Figura 1, a radiação secundária é desviada, por exemplo, através de um refletor 21 (por exemplo um espelho, um papel laminado refletindo, ou através do próprio espaço interior) que é localizado dentro da plataforma de construção 9, em um espaço de radiação secundária 23, ou que é formado pelo último.

[0022] De acordo com a Figura 1, a fonte de luz primária 9 está localizada abaixo da autoclave 7 em um espaço da máquina 25, e ele pode ser disposto, por exemplo, em uma estrutura 27, de uma maneira móvel.

[0023] De acordo com a Figura 1, a fonte de radiação secundária 17 é disposta de tal maneira que ela pode introduzir a radiação secundária na plataforma de construção 15, pelo menos sobre uma certa região, por exemplo, no início do processo de construção (por exemplo, sobre a primeira 2, 5, 10 ou 20 camadas), e fica pelo menos somente temporariamente, em contato direto com a plataforma de construção 15, preferivelmente disposta em uma distância A (por exemplo 0,1 mm, 1 mm a 10 mm - dependendo da variante da modalidade) a partir da plataforma de construção 15. A plataforma de construção 15 pode ser elevada ou abaixada por um atuador 27, e com a ajuda do dispositivo de controle 13, por exemplo, em relação à autoclave 7, de acordo com o avanço do processo.

[0024] Como representado na Figura 1, a fonte de radiação secundária 17 pode ser acoplada, por exemplo, à estrutura da máquina 27 em um local apropriado, e ela emite a radiação secundária, por exemplo, através de uma janela protetora 29, sendo também possível dispor elementos ópticos (lentes, placas de difusão, guias de luz, etc.) entre a fonte de radiação secundária 17 e a plataforma de construção 15.

[0025] Por meio de um arranjo correspondente, e o uso de uma pluralidade de fontes de radiação secundárias 17, ou dividindo a radiação secundária, uma iluminação quase anular da plataforma de construção 15 pode ser permitida através do acoplamento lateral em a partir de uma pluralidade de lados.

[0026] Em comparação à Figura 1, a Figura 2 mostra uma modalidade de um dispositivo de estereolitografia 101, em que, pelo menos, uma fonte de radiação secundária 17 é disposta, por exemplo, na estrutura 27, em baixo da plataforma de construção 15, e a radiação secundária é conduzida por pelo menos um guia de luz 31 (por exemplo, uma haste de luz), que é pelo menos parcialmente transparente para a radiação secundária, um desvio de 90° sendo opcionalmente possível, como representado na Figura 2, a fim de acoplar a radiação secundária na plataforma de construção 15 a partir pelo menos de um lado. A guia de onda óptica 31 pode ser destacadamente conectada à estrutura 27 ou à fonte de luz secundária 17. Esse arranjo protege a fonte de luz secundária 17 de contaminação e permite uma configuração geométrica e óptica (por exemplo circular, retangular, lenticular, etc.) da superfície de acoplamento fora do guia de luz 31, como também o acoplamento em um certo ângulo, através da sua configuração geométrica; a geometria do guia de luz 31 é preferivelmente realizada de tal maneira que poucos raios dispersos quanto possível podem emergir. O guia de luz 31, que é preferivelmente realizado em uma peça, pode ser fornecido com uma camada de bainha, lacre, etc., que não é transparente e/ou refletora para a radiação secundária, a fim de evitar a radiação dispersa de emergir, e a fim de maximizar a emissão de luz da radiação secundária da face dianteira 31'.

[0027] A Figura 3 mostra uma modalidade adicional de um dispositivo de estereolitografia 102, em que a radiação secundária é desviada em uma lado, por exemplo, a partir de baixo, com a ajuda de uma parte da borda 33 da autoclave 7, em particular preferivelmente com pelo menos uma parte da borda 33 da autoclave 7, pelo menos parcialmente transparente para a radiação secundária e realiza pelo menos uma parte, que atua como um guia de luz para a radiação secundária, que pode desse modo ser acoplada lateralmente na plataforma de construção 15, pelo menos em um ponto. Para minimizar ou prevenir a propagação da radiação dispersa dentro da autoclave 7 e/ou através da autoclave 7, que poderia levar à ativação indesejável da substância fotossensível 5, a parte da borda 33 da autoclave 7 pode preferivelmente ser blindada por, pelo menos, uma parede do lado não transparente, por exemplo, pelo menos parcialmente refletindo uma parede lateral e/ou camadas de lacre, por exemplo 35, 37, de tal maneira que somente uma irradiação lateral na plataforma de construção 15 acontece através da face dianteira 33'.

[0028] O dispositivo de estereolitografia 103 ilustrado na Figura 4, tem uma fonte de luz móvel e opcionalmente focalizável 9 (ilustrada aqui como um unidade de sistema) que pode ser movida através de uma unidade de controle 13, e com a ajuda de pelo menos um motor linear 39, que pode ser acoplado, por exemplo, para a estrutura 27, que pode ser movida para um respectivo ponto X no espaço da máquina 25, e/ou cujo foco pode ser estabelecido pelo dispositivo de controle 13, a fim de introduzir a radiação primária na plataforma de construção 15 como "radiação secundária", com a ajuda do guia de onda de luz 33. Em outra variante, por exemplo, uma imagem de exposição especial, por exemplo, uma imagem parcial ou uma imagem da zona de borda, ver as Figuras 5 e 5a, pode ser usada para conduzir a radiação primária, irradiada através da fonte de luz 9, opcionalmente através de pelo menos um sistema de espelho parcialmente móvel, no guia de luz 33, a imagem emitida não tendo que ser focada. Depois do acoplamento da radiação ser bem- sucedido, no guia de onda óptico 33, a fonte de luz 9 é movida através da unidade de controle 13, por exemplo, para trás, na sua posição original, com a ajuda da unidade linear 39. A fonte de radiação primária 9 é preferivelmente realizada para ser focalizável e móvel, particularmente preferivelmente, a radiação primária pode ser acoplada diretamente no guia de luz 33, por exemplo, através do movimento de um espelho de desvio, não representado, ou por dobrar o espelho desviando, com ou sem movimento da fonte de luz 9.

[0029] A Figura 5 e a Figura 5a mostram exemplos possíveis de uma máscara de exposição 41 ou 41', que serve para o acoplamento da radiação primária em pelo menos um guia de onda óptico 33 (ver a Figura 4), e desse modo para iluminar a plataforma de construção 15 com a radiação primária, sendo possível, por exemplo, usar a região 47 ou 47' para o acoplamento em, e sendo possível que a informação da camada 45 ou 45' esteja presente, pelo menos parcialmente, para formar uma camada do componente 3i e, opcionalmente, uma região não exposta 43, 43'. A radiação primária é introduzida no guia de onda óptico com a ajuda da região exposta 47, 47'; neste caso, o acoplado no comprimento de onda pode corresponder aos comprimentos de onda usados para curar a camada, por exemplo, ele pode ser de 388 nm; a fonte de luz primária 9 pode, preferivelmente adicionalmente, emitir uma segunda radiação que tem outro comprimento de onda (por exemplo 405 nm), que é usado pelo menos para iluminar a plataforma de construção 15.

[0030] A Figura 6 mostra uma variante vantajosa da modalidade de uma plataforma de construção 151, em que um espaço de radiação secundária 23 é formado que pode ser equipado pelo menos parcialmente com uma superfície difusamente refletindo, parcialmente curva, por exemplo uma chapa 21' refletindo ou revestindo, que irradia a radiação secundária entrando lateralmente, tão uniformemente quanto possível, sobre a pelo menos parcialmente transparente placa de base 19. Neste caso, uma janela 39 pode lateralmente fechar o espaço da radiação secundária 23, pelo menos parcialmente, e pode ser pelo menos parcialmente permeável para a radiação secundária, a fim de permitir um acoplamento da radiação. Como a fonte de radiação secundária 17 serve, por exemplo, pelo menos um LED (por exemplo UV LED), ou uma lâmpada (por exemplo uma lâmpada UVC) que é protegida por uma janela protetora 29.

[0031] A Figura 7 mostra uma variante adicional da plataforma de construção 152, com um refletor móvel 21'' (por exemplo um espelho), que pode ser inclinado em um ângulo α (por exemplo 45°) para a placa da base 19, a fim de, desse modo, permitir uma iluminação da placa da base 19. Neste caso, a fonte de luz 17 preferivelmente tem uma via de raio (feixe) de luz pelo menos parcialmente colimado.

[0032] Na Figura 8, similarmente à Figura 7, uma modalidade de partes múltiplas da plataforma de construção 153 é mostrada em uma vista esquemática, um painel de LED 17, em particular com LEDs 17', 17", 17''' individuais, etc., sendo usados para prover a radiação secundária, que pode ser elaborada a partir de pelo menos um tipo de LED, com um tipo de comprimento de onda central, mas preferivelmente de diferentes tipos de LED, com diferentes comprimentos de onda centrais, por exemplo 365, 405, 388 nm. A plataforma de construção 153 é projetada, por exemplo em uma peça, mas opcionalmente também em diversas peças, e uma peça inferior em forma de xícara 49 pode ser separada da plataforma de construção 153, junto com as janelas adicionais 39, 39’ e um prendedor 20'. A peça inferior em forma de xícara 49 pode também ser formada em uma peça, por exemplo, por uma peça de plástico transparente.

[0033] A Figura 9 mostra uma variante da modalidade da plataforma de construção 154, em que um espelho 21''' está localizado, que é inclinado em um ângulo β para a placa da base 19, e está localizado no espaço de radiação secundária 23. Essa variante tem, por exemplo, um sistema óptico 51 que é configurado para colimar a radiação secundária.

[0030] Finalmente, a Figura 10 ilustra uma modalidade exemplar da plataforma de construção 154, em que a radiação secundária vê a unidade de LED 17, que é por sua vez lateralmente acoplada ao orifício da plataforma de construção 154, a saber, através do guia de onda óptica 33', com o reflexo total da radiação acoplada pela unidade de LED 17.

Claims

1. Método para a aderência de um objeto (3) a um portador de objeto (15) em um processo estereolitográfico, sendo que o objeto (3) é formado por cura de uma substância fotossensível (5) por meio de radiação de cura, sendo que pelo menos em uma região parcial do portador de objeto (15), uma radiação secundária é irradiada para o portador de objeto (15), em uma direção que é diferente da direção da radiação de cura, a fim de aderir o objeto (3), caracterizado pelo fato de que a radiação secundária é suprida lateralmente para o portador de objeto (15) geralmente planar e permeável à radiação, e é desviada dentro do portador de objeto (15).

2. Método de acordo com a reivindicação 1, caracterizado pelo fato de que a radiação secundária é derivada da radiação de cura.

3. Método de acordo com a reivindicação 1 ou 2, caracterizado pelo fato de que uma radiação independente da radiação de cura é usada como radiação secundária.

4. Método de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 3, caracterizado pelo fato de que a radiação secundária é suprida para o portador de objeto (15) através de um guia de luz (31).

5. Método de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 4, caracterizado pelo fato de que a radiação secundária é ajustada sobre uma região de aderência durante o processo de aderência.

6. Dispositivo para a realização do método, como definido em qualquer uma das reivindicações 1 a 5, caracterizado pelo fato de que uma fonte de radiação secundária (17), disposta lateralmente a uma distância do portador de objeto (15), bem como sendo que o portador de objeto (15) é pelo menos parcialmente permeável à radiação secundária.

7. Dispositivo de acordo com a reivindicação 6, caracterizado pelo fato de que a fonte de radiação secundária (17) é formada por um guia de luz (31).

8. Dispositivo de acordo com a reivindicação 7, caracterizado pelo fato de que o guia de luz (31) é conectado a uma fonte de radiação principal de estereolitografia (9) em uma maneira de conduzir a luz.

9. Dispositivo de acordo com a reivindicação 6, caracterizado pelo fato de que uma fonte de radiação secundária (17) independente de uma fonte de radiação principal (9) é provida.

10. Dispositivo de acordo com qualquer uma das reivindicações 6 a 9, caracterizado pelo fato de que o portador de objeto (15) é realizado para ser parcialmente permeável à radiação, e pelo menos parcialmente reflexivo, a fim de desviar a radiação secundária para uma região de aderência para o objeto (3).

11. Dispositivo de acordo com qualquer uma das reivindicações 6 a 10, caracterizado pelo fato de que o portador de objeto (15) contém uma superfície de espelho (21).

12. Dispositivo de acordo com a reivindicação 11, caracterizado pelo fato de que a superfície de espelho (21) é realizada difusamente reflexiva.

13. Dispositivo de acordo com a reivindicação 11, caracterizado pelo fato de que o portador de objeto (15) contém um espelho de deflexão disposto de maneira móvel (21'').

14. Dispositivo de acordo com qualquer uma das reivindicações 6 a 13, caracterizado pelo fato de que o portador de objeto (15) apresenta uma placa da base de aderência (19), que é pelo menos parcialmente permeável à radiação.