ITVI20110333A1 - Macchina stereolitografica con gruppo ottico perfezionato - Google Patents
Macchina stereolitografica con gruppo ottico perfezionato Download PDFInfo
- Publication number
- ITVI20110333A1 ITVI20110333A1 IT000333A ITVI20110333A ITVI20110333A1 IT VI20110333 A1 ITVI20110333 A1 IT VI20110333A1 IT 000333 A IT000333 A IT 000333A IT VI20110333 A ITVI20110333 A IT VI20110333A IT VI20110333 A1 ITVI20110333 A1 IT VI20110333A1
- Authority
- IT
- Italy
- Prior art keywords
- radiation
- mirror
- stereolithographic machine
- reference surface
- machine
- Prior art date
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims description 49
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 44
- 239000012530 fluid Substances 0.000 claims description 19
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 19
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 claims description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 7
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 4
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 238000003491 array Methods 0.000 description 2
- 235000011837 pasties Nutrition 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005265 energy consumption Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 238000003780 insertion Methods 0.000 description 1
- 230000037431 insertion Effects 0.000 description 1
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 238000004377 microelectronic Methods 0.000 description 1
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000007711 solidification Methods 0.000 description 1
- 230000008023 solidification Effects 0.000 description 1
- 230000000930 thermomechanical effect Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C64/00—Additive manufacturing, i.e. manufacturing of three-dimensional [3D] objects by additive deposition, additive agglomeration or additive layering, e.g. by 3D printing, stereolithography or selective laser sintering
- B29C64/10—Processes of additive manufacturing
- B29C64/106—Processes of additive manufacturing using only liquids or viscous materials, e.g. depositing a continuous bead of viscous material
- B29C64/124—Processes of additive manufacturing using only liquids or viscous materials, e.g. depositing a continuous bead of viscous material using layers of liquid which are selectively solidified
- B29C64/129—Processes of additive manufacturing using only liquids or viscous materials, e.g. depositing a continuous bead of viscous material using layers of liquid which are selectively solidified characterised by the energy source therefor, e.g. by global irradiation combined with a mask
- B29C64/135—Processes of additive manufacturing using only liquids or viscous materials, e.g. depositing a continuous bead of viscous material using layers of liquid which are selectively solidified characterised by the energy source therefor, e.g. by global irradiation combined with a mask the energy source being concentrated, e.g. scanning lasers or focused light sources
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C64/00—Additive manufacturing, i.e. manufacturing of three-dimensional [3D] objects by additive deposition, additive agglomeration or additive layering, e.g. by 3D printing, stereolithography or selective laser sintering
- B29C64/10—Processes of additive manufacturing
- B29C64/165—Processes of additive manufacturing using a combination of solid and fluid materials, e.g. a powder selectively bound by a liquid binder, catalyst, inhibitor or energy absorber
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C64/00—Additive manufacturing, i.e. manufacturing of three-dimensional [3D] objects by additive deposition, additive agglomeration or additive layering, e.g. by 3D printing, stereolithography or selective laser sintering
- B29C64/20—Apparatus for additive manufacturing; Details thereof or accessories therefor
- B29C64/264—Arrangements for irradiation
- B29C64/268—Arrangements for irradiation using laser beams; using electron beams [EB]
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B33—ADDITIVE MANUFACTURING TECHNOLOGY
- B33Y—ADDITIVE MANUFACTURING, i.e. MANUFACTURING OF THREE-DIMENSIONAL [3-D] OBJECTS BY ADDITIVE DEPOSITION, ADDITIVE AGGLOMERATION OR ADDITIVE LAYERING, e.g. BY 3-D PRINTING, STEREOLITHOGRAPHY OR SELECTIVE LASER SINTERING
- B33Y30/00—Apparatus for additive manufacturing; Details thereof or accessories therefor
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
MACCHINA STEREOLITOGRAFICA CON GRUPPO OTTICO PERFEZIONATO.
DESCRIZIONE
L’invenzione concerne una macchina stereolitografica del tipo atto a realizzare oggetti tridimensionali mediante una pluralità di strati sovrapposti, in cui ciascuno strato viene ottenuto per solidificazione selettiva di una sostanza fluida nelle aree corrispondenti al volume dell'oggetto da produrre.
Una macchina stereolitografica di tipo noto comprende un contenitore in cui à ̈ disposta la sostanza fluida, generalmente una resina fotosensibile allo stato liquido o pastoso.
La macchina comprende inoltre una sorgente che, generalmente, Ã ̈ di tipo luminoso, che emette una radiazione atta a solidificare la sostanza fluida.
Un gruppo ottico provvede a convogliare la suddetta radiazione verso una superficie di riferimento disposta all'interno del contenitore, che corrisponde alla posizione dello strato dell'oggetto da solidificare. L'oggetto tridimensionale in formazione viene supportato da una piastra di modellazione, la quale à ̈ mobile verticalmente rispetto al contenitore in modo da poter disporre l'ultimo strato solidificato dell'oggetto in posizione adiacente alla suddetta superficie di riferimento.
In questo modo, dopo che ciascuno strato à ̈ stato solidificato, la piastra di modellazione viene movimentata in modo da disporre lo strato solidificato nuovamente adiacente la superficie di riferimento, dopodiché il processo può venire ripetuto per lo strato successivo. Le macchine stereolitografiche del tipo suddetto si suddividono in due forme esecutive principali che vengono descritte, ad esempio, nella domanda di brevetto italiano per invenzione industriale n. VI2010A000004, a nome del medesimo depositante la presente invenzione.
Una prima delle suddette forme esecutive prevede che la superficie di riferimento sia disposta adiacente al fondo del contenitore, il quale à ̈ trasparente alla radiazione.
In questo caso, la sostanza fluida viene irradiata dal basso e l'oggetto tridimensionale viene formato inferiormente alla piastra di modellazione.
La seconda forma esecutiva prevede che la superficie di riferimento sia disposta in corrispondenza della superficie libera della sostanza fluida.
In questo secondo caso, la sostanza fluida viene irradiata dall'alto e l'oggetto tridimensionale viene formato superiormente alla piastra di modellazione.
Per entrambe le forme esecutive, il convogliamento della radiazione nei diversi punti della superficie di riferimento può venire ottenuto utilizzando diversi gruppi ottici di tipo noto.
Un primo tipo di gruppo ottico comprende una matrice di specchi che possono venire controllati singolarmente in modo da proiettare sulla superficie predefinita l'immagine dello strato dell'oggetto.
In particolare, ciascuno specchio può assumere due diverse posizioni, una posizione attiva in cui la radiazione viene riflessa verso un punto corrispondente della superficie di riferimento ed una posizione passiva in cui la radiazione viene riflessa verso una zona di dispersione.
Le suddette matrici di specchi sono in grado di illuminare contemporaneamente tutta la superficie di riferimento, consentendo di ottenere ciascuno strato mediante un'unica esposizione e, quindi, in modo particolarmente rapido.
Tuttavia, le matrici di specchi presentano una definizione limitata, con l'inconveniente di ottenere oggetti con bordi irregolari.
Un ulteriore limite dei sistemi suddetti sta nel fatto che l'immagine che essi generano presenta un'intensità luminosa uniforme su tutta la sua superficie.
Pertanto, sorge l'inconveniente che tali sistemi non consentono di modulare la potenza luminosa nelle diverse zone della superficie di riferimento.
Un secondo tipo di gruppo ottico prevede di convogliare la radiazione in un unico punto della superficie di riferimento e di movimentare tale punto in modo da poter illuminare progressivamente tutta la porzione della superficie di riferimento corrispondente al volume dell'oggetto. Rispetto al tipo di gruppo ottico precedentemente descritto, questo presenta il vantaggio di poter dirigere il fascio luminoso in un punto qualsiasi della superficie di riferimento, facendogli percorrere traiettorie continue e ottenendo, quindi, oggetti che sono esenti dalle irregolarità causate dai gruppi ottici del tipo precedentemente descritto.
Inoltre, questo tipo di gruppi ottici consente, vantaggiosamente, di modificare l'intensità luminosa nelle diverse zone della superficie di riferimento.
Una nota forma esecutiva del gruppo ottico del secondo tipo sopra descritto prevede una sorgente laser che viene movimentata su due assi ortogonali tramite un dispositivo meccanico.
Questa forma esecutiva presenta gli inconvenienti che la movimentazione del fascio luminoso à ̈ piuttosto lenta e che, inoltre, il dispositivo meccanico di movimentazione può andare incontro a rotture e, quindi, richiede una certa manutenzione.
Una diversa forma esecutiva di gruppo ottico prevede di utilizzare una sorgente fissa ed una coppia di specchi galvanometrici per dirigere il fascio luminoso, disposti in serie uno all'altro.
Ciascuno specchio à ̈ motorizzato per poter ruotare attorno ad un rispettivo asse di rotazione ortogonale all'asse dell'altro specchio, in modo tale che la combinazione delle loro rotazioni permetta di dirigere il fascio in un punto qualsiasi della superficie di riferimento. Rispetto al sistema noto precedente, quello appena descritto presenta i vantaggi di consentire un'elevata rapidità di movimentazione del fascio, dovuta alla minor inerzia degli specchi galvanometrici, ed una maggiore affidabilità , dovuta al minor numero di componenti meccanici.
Nonostante i suddetti vantaggi, il gruppo ottico appena descritto richiede un'operazione di allineamento dei due specchi in fase di fabbricazione della macchina, in modo da ottenere la corretta riflessione del fascio luminoso.
Infatti, affinché la direzione del fascio corrisponda alle posizioni degli specchi à ̈ necessario che il fascio incida entrambi gli specchi in corrispondenza dei rispettivi assi di rotazione.
Il suddetto allineamento comporta l'inconveniente di essere particolarmente complesso e di gravare sul costo della macchina stereolitografica.
Tale inconveniente si presenta anche nel caso in cui, durante l'uso, uno o entrambi gli specchi si guastino, con la conseguenza che à ̈ necessario sostituirli ed allinearli correttamente.
Come ulteriore inconveniente, gli specchi galvanometrici presentano un costo relativamente elevato, che incide pesantemente sul costo della macchina stereolitografica
Un gruppo ottico basato su specchi galvanometrici presenta l'ulteriore inconveniente di essere relativamente ingombrante.
Il costo e l'ingombro elevati rendono la macchina stereolitografica inadatta ad applicazioni di piccolissima serie, che potrebbero essere richieste da piccole aziende artigiane.
Inoltre, gli specchi galvanometrici presentano alcuni componenti meccanici che vanno soggetti ad usura e, pertanto, ne limitano i vantaggi rispetto ai dispositivi meccanici di movimentazione sopra citati.
Gli specchi galvanometrici presentano altresì un'inerzia non trascurabile, che influisce sulla velocità di deviazione del fascio luminoso e, quindi, sul tempo complessivo di lavorazione.
La presente invenzione si prefigge di superare tutti gli inconvenienti sopra menzionati appartenenti arte nota.
In particolare, à ̈ scopo dell'invenzione realizzare una macchina stereolitografica che presenti gli stessi vantaggi delle macchine stereolitografiche di tipo noto basate su specchi galvanometrici e che inoltre, rispetto a queste, sia più semplice da produrre e da utilizzare. In particolare, à ̈ scopo dell'invenzione evitare l'operazione di allineamento degli specchi descritta in precedenza, sia in produzione che durante l'uso.
I suddetti scopi vengono raggiunti da una macchina stereolitografica realizzata in accordo con la rivendicazione principale.
Ulteriori caratteristiche di dettaglio dell'invenzione vengono date nelle relative rivendicazioni dipendenti.
Vantaggiosamente, il fatto che non sia necessario procedere all'allineamento degli specchi comporta una notevole semplificazione costruttiva della macchina stereolitografica dell'invenzione rispetto a quelle di tipo noto, con un conseguente minor costo.
Si comprende che il suddetto vantaggio si presenta anche quando sia necessario sostituire il gruppo ottico durante l'uso, portando ad una riduzione dei costi di manutenzione della macchina.
Inoltre, vantaggiosamente, la macchina stereolitografica dell'invenzione presenta un ingombro ridotto rispetto alle macchine di tipo noto con potenzialità equivalenti.
Entrambi i suddetti vantaggi rendono la macchina stereolitografica dell'invenzione conveniente anche in applicazioni di bassissima serie, per le quali le macchine stereolitografiche di tipo noto non sono adatte.
I suddetti scopi e vantaggi, assieme ad altri che verranno menzionati in seguito, appariranno evidenti durante la seguente descrizione di alcune preferite forme esecutive dell'invenzione che vengono date, a titolo indicativo ma non limitativo, con riferimento alle tavole di disegno allegate dove:
- la fig. 1 rappresenta una macchina stereolitografica secondo l'invenzione;
- la fig. 2 rappresenta un particolare della macchina stereolitografica di fig. 1.
La macchina stereolitografica dell'invenzione, indicata in fig. 1 complessivamente con 1 , consente di produrre un oggetto tridimensionale 15 mediante un procedimento che prevede di sovrapporre uno sull'altro una pluralità di strati ottenuti tramite esposizione selettiva di una sostanza fluida 14 ad una radiazione predefinita 3a atta a solidificarla.
Preferibilmente, la suddetta sostanza fluida 14 à ̈ una resina liquida fotosensibile e la radiazione predefinita 3a à ̈ una luce laser accordata nel campo del visibile o dell'ultravioletto.
Evidentemente, in varianti esecutive dell'invenzione, la sostanza fluida 14 può essere di natura qualsivoglia, liquida o pastosa, purché atta a solidificare quando esposta ad una radiazione predefinita 3a. Analogamente, la suddetta sorgente 3 di radiazione 3a può emettere una radiazione 3a diversa da quella sopra menzionata, purché in grado di solidificare la sostanza fluida 14.
La macchina stereolitografica 1 comprende un contenitore 2 per la suddetta sostanza fluida 14 ed una piastra di modellazione 16 per supportare l'oggetto 15 in formazione, motorizzata secondo un asse di movimentazione verticale Z.
La macchina 1 comprende inoltre una sorgente 3 per emettere la radiazione predefinita 3a ed un gruppo ottico 4 atto a dirigere la radiazione 3a verso un punto qualsiasi di una superficie di riferimento disposta all'interno del contenitore 2, in corrispondenza del volume occupato dalla sostanza fluida 14.
Preferibilmente, la suddetta superficie di riferimento à ̈ piana ed à ̈ disposta adiacente al fondo 2a del contenitore 2.
In questo caso, il gruppo ottico 4 Ã ̈ configurato per dirigere la radiazione predefinita 3a dal basso verso l'alto in modo da farla incidere sul fondo 2a.
Inoltre, il fondo 2a à ̈ trasparente alla radiazione 3a in modo che quest'ultima possa colpire la sostanza fluida 14 disposta in prossimità del fondo stesso per solidificarla.
Secondo questa forma esecutiva, l'oggetto tridimensionale 15 viene realizzato inferiormente alla piastra di modellazione 16, come si vede in fig. 1.
Una variante esecutiva dell'invenzione, non rappresentata, prevede invece che il gruppo ottico sia configurato per dirigere la radiazione 3a dall'alto verso il basso sulla superficie libera della sostanza fluida 14 presente nel contenitore 2.
In questo caso, l'oggetto viene realizzato superiormente alla piastra di modellazione 16.
In entrambe le suddette varianti esecutive, la macchina stereolitografica 1 comprende un'unità logica di comando 6 configurata per controllare il gruppo ottico 4 e/o la sorgente 3 in modo da esporre la sostanza fluida 14 alla radiazione 3a selettivamente in corrispondenza di una porzione predefinita della superficie di riferimento.
Nello specifico, la suddetta porzione predefinita corrisponde alla porzione di volume che corrisponde, di volta in volta, a ciascuno strato dell'oggetto tridimensionale 15.
Secondo l'invenzione, il gruppo ottico 4 comprende un sistema ottico elettromeccanico miniaturizzato 7 che, nella tecnologia dei circuiti integrati, Ã ̈ noto con l'acronimo "MOEMS" (Micro Opto-Electro-Mechanical System).
Com'Ã ̈ noto, i dispositivi MOEMS vengono realizzati impiegando la stessa tecnologia utilizzata in microelettronica per la fabbricazione dei circuiti integrati, ad esempio tramite deposizione solida, fotolitografia, incisione ecc.
Il suddetto sistema ottico miniaturizzato 7, una cui possibile forma esecutiva viene schematicamente rappresentata in fig. 2 a titolo esemplificativo e non limitativo, comprende uno specchio 8 miniaturizzato, associato ad una struttura di supporto 9 tramite mezzi di articolazione 7b configurati per definire due diversi assi di rotazione X, Y dello specchio 8 rispetto alla struttura 9, reciprocamente incidenti e, preferibilmente, ortogonali tra loro.
II suddetto sistema ottico miniaturizzato 7 comprende inoltre mezzi attuatori 7a, di tipo di per sé noto, atti a movimentare lo specchio 8 attorno a ciascuno dei suddetti due assi X e Y in modo indipendente rispetto al movimento attorno all'altro asse.
I suddetti mezzi attuatori 7a possono essere di tipo elettrostatico, magnetico, termomeccanico o di qualsivoglia altro tipo noto realizzabile mediante la suddetta tecnologia dei MOEMS.
Lo specchio 8 Ã ̈ disposto, rispetto alla sorgente 3 ed al contenitore 2, in modo tale da poter riflettere la radiazione predefinita 3a per dirigerla in un qualsiasi punto della superficie di riferimento attraverso una corrispondente combinazione delle rotazioni attorno ai due assi X, Y .
Pertanto, l'invenzione consente di impiegare un unico specchio 8 per dirigere la radiazione 3a in un punto qualsiasi della superficie di riferimento.
Di conseguenza, si evita la necessità di allineare tra loro più specchi, come nel caso dell'arte nota sopra descritta, raggiungendo così lo scopo di semplificare la produzione della macchina stereolitografica 1 e, quindi, di ridurne il costo.
Evidentemente, il suddetto vantaggio à ̈ presente anche nel caso di sostituzione del sistema ottico miniaturizzato 7 o di parte di esso durante l'uso, consentendo pertanto di ridurre i costi di manutenzione della macchina 1.
Ancora vantaggiosamente, il sistema ottico miniaturizzato 7 sopra descritto non richiede un'elevata precisione di posizionamento angolare durante il montaggio.
Infatti, qualsiasi piccola variazione angolare nella disposizione del sistema ottico miniaturizzato 7 comporta solamente uno spostamento della superficie di riferimento rispetto al contenitore 2, senza tuttavia produrre distorsioni apprezzabili sulla forma della superficie di riferimento e della porzione predefinita che viene esposta.
Ancora vantaggiosamente, il sistema ottico miniaturizzato 7 presenta un costo inferiore rispetto ad un sistema basato su specchi galvanometrici, ad ulteriore vantaggio della riduzione di costo della macchina stereolitografica 1.
Inoltre, vantaggiosamente, il sistema ottico miniaturizzato 7 presenta una minore inerzia rispetto agli specchi galvanometrici, consentendo di ottenere velocità angolari più elevate e, quindi, ridurre i tempi di realizzazione dell'oggetto tridimensionale 15 rispetto alle macchine stereolitografiche di tipo noto, a parità di geometria dell'oggetto.
Ancora vantaggiosamente, il sistema ottico miniaturizzato 7 presenta un ingombro molto inferiore rispetto a quello tipico dei gruppi ottici a specchi galvanometrici di potenzialità equivalente, consentendo di ridurre l'ingombro complessivo della macchina stereolitografica 1.
Ne consegue che l'invenzione consente la realizzazione di una macchina stereolitografica 1 che, in virtù del suo costo ridotto e del limitato ingombro, à ̈ adatta a venire impiegata anche in applicazioni per le quali le macchine stereolitografiche di tipo noto non sono adatte.
Un ulteriore vantaggio del sistema ottico miniaturizzato 7 à ̈ quello assorbire un'energia molto inferiore rispetto ad un sistema a specchi galvanometrici di tipo noto e di potenzialità equivalente.
Il ridotto consumo energetico, unito all'elevata compattezza, consente di alimentare la macchina stereolitografica 1 a batteria, rendendola portatile.
Si comprende inoltre che la macchina stereolitografica 1 sopra descritta presenta tutti i vantaggi propri dei sistemi che impiegano gruppi ottici a specchi galvanometrici, in particolare la precisione e la possibilità di modulare la potenza della radiazione 3a nelle diverse zone dell'oggetto 15.
Preferibilmente e come si osserva in fig. 2, i mezzi di articolazione 7b comprendono un'intelaiatura mobile 10 che supporta girevolmente lo specchio 8 attorno di rotazione X ed à ̈ girevolmente associata alla struttura di supporto 9 secondo l'asse di rotazione Y.
Questo tipo di collegamento consente di ottenere rotazioni indipendenti dello specchio 8 secondo ciascuno dei suddetti assi di rotazione X e Y.
Inoltre, preferibilmente, lo specchio 8, l'intelaiatura 10 e la struttura di supporto 9 sono ottenuti in pezzo unico e sono collegati tra loro tramite rispettive zone di collegamento 11 e 12 appartenenti ai mezzi di articolazione 7b, sufficientemente sottili da poter cedere elasticamente secondo i rispettivi assi di rotazione X e Y, in modo da consentire la rotazione dello specchio 8 rispetto all'intelaiatura 10 e di quest'ultima rispetto alla struttura di supporto 9.
In particolare, ciascuna delle suddette zone di collegamento 11 , 12 funziona come una molla torsionale che può venire deformata in misura dipendente dal una tensione di pilotaggio del dispositivo.
Evidentemente, in varianti esecutive dell'invenzione il sistema ottico miniaturizzato 7 può essere realizzato in forma qualsivoglia, purché lo specchio 8 possa ruotare attorno a due assi tra loro indipendenti ed incidenti.
Per quanto concerne i mezzi attuatori 7a che movimentano lo specchio 8, essi sono preferibilmente configurati per ruotare quest'ultimo attorno a ciascun asse X, Y in base al valore di un segnale di controllo inviato dall'unità logica di comando 6 e rappresentativo della posizione angolare che lo specchio 8 deve assumere.
In particolare, l'unità logica di comando 6 à ̈ configurata per movimentare lo specchio 8 in modo tale che la radiazione 3a incida all'interno della porzione predefinita corrispondente allo strato dell'oggetto 15 da realizzare seguendo una o più traiettorie continue. Preferibilmente ma non necessariamente, la suddetta movimentazione avviene secondo un'unica traiettoria continua che ricopre interamente la porzione predefinita.
Secondo una variante esecutiva dell'invenzione, il sistema ottico miniaturizzato 7 ed i relativi mezzi attuatori 7a sono configurati per generare un movimento ciclico dello specchio 8, tale che la radiazione 3a possa stimolare progressivamente l'intera superficie di riferimento ad ogni ciclo.
Ad esempio, il suddetto movimento ciclico può comprendere un'oscillazione dello specchio 8 secondo uno dei due assi di rotazione X, Y alternativamente nei due versi di rotazione, ottenuta preferibilmente sfruttando la frequenza di risonanza delle rispettive zone di collegamento 11 o 12, che viene combinata ad una rotazione secondo un unico verso sull'altro asse.
In questo modo, la radiazione 3a incide sulla superficie di riferimento 5 descrivendo una traiettoria a zig-zag che, ad ogni segmento, attraversa la superficie di riferimento 5 in una delle sue dimensioni e, al contempo, si sposta secondo l'altra dimensione.
In quest'ultima variante esecutiva, l'unità logica di comando 6 à ̈ configurata per modificare l'intensità della sorgente 3 durante il suddetto movimento ciclico dello specchio 8.
In particolare, quando il punto di incidenza à ̈ interno alla porzione predefinita della superficie di riferimento 5, l'intensità della sorgente 3 viene aumentata in modo da solidificare la sostanza fluida 14 in quel punto, mentre quando il punto di incidenza à ̈ esterno alla porzione predefinita, l'intensità viene diminuita in modo da evitare di solidificare la corrispondente porzione di sostanza fluida 14.
Il sistema ottico miniaturizzato 7 sopra descritto appartiene preferibilmente ad un circuito integrato provvisto di piedini per il collegamento elettrico alla macchina 1, la quale à ̈ dotata di un corrispondente connettore, o di uno zoccolo, configurati per accogliere i suddetti piedini e che permettono anche il fissaggio meccanico del circuito integrato alla macchina 1.
Preferibilmente, il suddetto connettore o zoccolo à ̈ del tipo a bassa forza di inserzione.
In varianti esecutive dell'invenzione, il sistema ottico miniaturizzato 7 può venire direttamente saldato sul circuito elettronico di supporto, evitando l'uso del connettore o dello zoccolo.
Per quanto concerne il gruppo ottico 4, esso comprende preferibilmente una o più lenti 13 configurate per focalizzare la radiazione 3a sulla superficie di riferimento 5.
Preferibilmente, la suddetta lente 13 Ã ̈ del tipo cosiddetto "a campo piatto", tale da focalizzare la radiazione 3a su una superficie di riferimento piana.
Operativamente, il sistema ottico miniaturizzato 7 viene disposto nella macchina stereolitografica 1 in modo che lo specchio 8 sia allineato con la radiazione 3a prodotta dalla sorgente 3.
Preferibilmente, le posizioni della sorgente 3 e del sistema ottico miniaturizzato 7 sono tali che, quando lo specchio 8 à ̈ in condizioni di assenza di rotazione, cioà ̈ quando le zone di collegamento 11, 12 non sono soggette a torsione, la radiazione 3a venga riflessa verso il punto centrale della superficie di riferimento 5.
Tuttavia, per quanto detto in precedenza, eventuali piccoli disallineamenti angolari del sistema ottico miniaturizzato 7 non pregiudicano l'operatività della macchina 1.
Per quanto riguarda la realizzazione dell'oggetto tridimensionale 15 vero e proprio, questa avviene con una procedura del tutto analoga a quella impiegata con i gruppi ottici a specchi galvanometrici e di per sé nota.
Per quanto finora detto, si comprende che la macchina stereolitografica dell'invenzione permette di raggiungere tutti gli scopi prefissati.
In particolare, la sostituzione degli specchi galvanometrici con un sistema ottico elettromeccanico miniaturizzato (MOEMS) consente di impiegare un solo specchio mobile su due assi indipendenti, anziché due specchi mobili ciascuno su un unico asse.
La presenza di un solo specchio consente di evitare l'operazione di allineamento degli specchi, necessaria nelle macchine provviste di specchi galvanometrici sia in fase di produzione della macchina, sia dopo eventuali manutenzioni degli specchi, senza tuttavia limitare le potenzialità della macchina.
Il sistema ottico miniaturizzato si presenta inoltre più economico, meno ingombrante e meno dispendioso dal punto di vista energetico rispetto ai sistemi galvanometrici, consentendo di realizzare macchine stereolitografiche adatte ad una produzione in piccola serie, eventualmente anche portatili.
Ulteriori varianti esecutive dell'invenzione, sebbene non descritte e non rappresentate nei disegni, qualora dovessero rientrare nell'ambito delle rivendicazioni che seguono dovranno ritenersi tutte protette dal presente brevetto.
Claims (4)
- RIVENDICAZIONI 1 ) Macchina stereolitografica (1 ) comprendente: - un contenitore (2) per una sostanza fluida (14) atta a venire solidificata tramite esposizione ad una radiazione predefinita (3a); - una sorgente (3) di detta radiazione predefinita (3a); - un gruppo ottico (4) atto a dirigere detta radiazione (3a) selettivamente verso un punto qualsiasi di una superficie di riferimento (5) disposta all'interno di detto contenitore (2); - un'unità logica di comando (6) configurata per controllare detto gruppo ottico (4) e/o detta sorgente di radiazione (3) in modo da esporre una porzione predefinita di detta superficie di riferimento (5) a detta radiazione (3a); caratterizzata dal fatto che detto gruppo ottico (4) comprende un sistema ottico elettromeccanico miniaturizzato (MOEMS) (7) provvisto di: - uno specchio (8) associato ad una struttura di supporto (9) tramite mezzi di articolazione (7b) configurati per definire per detto specchio (8) almeno due assi di rotazione (X, Y) reciprocamente incidenti; - mezzi attuatori (7a) atti a movimentare detto specchio (8) attorno a ciascuno di detti due assi (X, Y) in modo indipendente rispetto al movimento attorno all'altro di detti due assi (X, Y); detto specchio (8) essendo disposto rispetto a detta sorgente di radiazione (3) e a detto contenitore (2) in modo tale da poter dirigere detta radiazione (3a) in ciascun punto di detta superficie di riferimento (5) tramite una corrispondente combinazione delle rotazioni attorno a detti due assi (X, Y).
- 2) Macchina stereolitografica (1 ) secondo la rivendicazione 1 ) caratterizzata dal fatto che detti due assi di rotazione (X, Y) sono reciprocamente ortogonali.
- 3) Macchina stereolitografica (1 ) secondo una qualsiasi delle rivendicazioni precedenti caratterizzata dal fatto che detti mezzi di articolazione (7b) comprendono un'intelaiatura (10) che supporta girevolmente detto specchio (8) attorno ad un primo di detti assi di rotazione (X) e girevolmente associata a detta struttura di supporto (9) attorno ad un secondo di detti assi di rotazione (Y).
- 4) Macchina stereolitografica (1 ) secondo la rivendicazione 3) caratterizzata dal fatto che detti mezzi di articolazione (7b) comprendono prime zone di collegamento (11 ) interposte tra detto specchio (8) e detta intelaiatura (10), elasticamente cedevoli attorno a detto primo asse di rotazione (X), e seconde zone di collegamento (12) interposte tra detta intelaiatura (10) e detta struttura di supporto (9), elasticamente cedevoli attorno a detto secondo asse di rotazione (Y)· 5) Macchina stereolitografica (1 ) secondo una qualsiasi delle rivendicazioni precedenti caratterizzata dal fatto che detti mezzi attuatori (7a) sono configurati per ruotare detto specchio (8) attorno a ciascuno di detti due assi (X, Y) in modo da disporlo in una posizione angolare in risposta alla ricezione di un segnale di controllo emesso da detta unità logica di comando (6) ed avente un valore rappresentativo di detta posizione angolare. 6) Macchina stereolitografica (1 ) secondo la rivendicazione 5) caratterizzata dal fatto che detta unità logica di comando (6) à ̈ configurata per movimentare detto specchio (8) in modo che il punto di incidenza di detta radiazione (3a) su detta superficie di riferimento (5) definisca una traiettoria continua che ricopre interamente detta porzione predefinita. 7) Macchina stereolitografica (1 ) secondo una qualsiasi delle rivendicazioni da 1 ) a 4) caratterizzata dal fatto che detti mezzi di controllo (7a) sono configurati per generare un movimento ciclico di detto specchio (8) tale che detta radiazione (3a) possa incidere ad ogni ciclo sull'intera superficie di riferimento (5), detta unità logica di comando (6) essendo configurata per modificare selettivamente l'intensità di detta sorgente di radiazione (3) in modo che, quando detta radiazione (3a) incide all'interno di detta porzione predefinita, detta intensità sia maggiore rispetto a quando detta radiazione (3a) incide all'esterno di detta porzione predefinita. 8) Macchina stereolitografica (1) secondo una qualsiasi delle rivendicazioni precedenti caratterizzata dal fatto che detto sistema ottico miniaturizzato (7) appartiene ad un circuito integrato provvisto di piedini per il collegamento elettrico, detta macchina (1) comprendendo corrispondenti mezzi di connessione configurati per accogliere detti piedini in modo tale da fissare meccanicamente detto circuito integrato. 9) Macchina stereolitografica (1) secondo una qualsiasi delle rivendicazioni precedenti caratterizzata dal fatto che detta sorgente di radiazione (3) à ̈ un emettitore laser. 10) Macchina stereolitografica (1) secondo una qualsiasi delle rivendicazioni precedenti caratterizzata dai fatto che detto gruppo ottico (4) comprende almeno una lente (13) configurata per focalizzare detta radiazione (3a) su detta superficie di riferimento (5). 11) Uso, in una macchina stereolitografica (1) provvista di un contenitore (2) per una sostanza fluida (14) e di una sorgente di radiazione (3), di un sistema ottico elettromeccanico miniaturizzato (MOEMS) (7) provvisto di uno specchio (8) girevole attorno ad almeno due assi di rotazione (X, Y) tra loro incidenti ed indipendenti, per dirigere detta radiazione selettivamente verso un qualsiasi punto di una superficie di riferimento (5) disposta all'interno di detto contenitore (2). Per incarico.
Priority Applications (14)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
IT000333A ITVI20110333A1 (it) | 2011-12-23 | 2011-12-23 | Macchina stereolitografica con gruppo ottico perfezionato |
PCT/IB2012/002789 WO2013093612A1 (en) | 2011-12-23 | 2012-12-24 | Stereolithography machine with improved optical unit |
KR1020147018305A KR20140097554A (ko) | 2011-12-23 | 2012-12-24 | 개선된 광 유니트를 가진 스테레오리소그래피 기계장치 |
SG11201403198VA SG11201403198VA (en) | 2011-12-23 | 2012-12-24 | Stereolithography machine with improved optical unit |
JP2014548241A JP6331096B2 (ja) | 2011-12-23 | 2012-12-24 | 改良された光ユニットを備えたステレオリソグラフィ機械 |
CA2860143A CA2860143C (en) | 2011-12-23 | 2012-12-24 | Stereolithography machine with improved optical unit |
CN201280063954.6A CN104039533B (zh) | 2011-12-23 | 2012-12-24 | 具有改进的光学单元的立体成型机 |
US14/367,431 US9550326B2 (en) | 2011-12-23 | 2012-12-24 | Stereolithography machine with improved optical unit |
RU2014128189/05A RU2593448C2 (ru) | 2011-12-23 | 2012-12-24 | Машина для стереолитографии с улучшенным оптическим блоком |
EP12818576.6A EP2794242B1 (en) | 2011-12-23 | 2012-12-24 | Stereolithography machine with improved optical unit |
MX2014007386A MX350109B (es) | 2011-12-23 | 2012-12-24 | Maquina de estereolitografia con unidad optica mejorada. |
BR112014015284A BR112014015284A8 (pt) | 2011-12-23 | 2012-12-24 | máquina de estereolitografia e uso de sistema micro-opto-eletromecânico (moems) na mesma |
IL233120A IL233120B (en) | 2011-12-23 | 2014-06-12 | Stereolithography machine with an improved optical unit |
HK15101552.1A HK1201054A1 (en) | 2011-12-23 | 2015-02-12 | Stereolithography machine with improved optical unit |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
IT000333A ITVI20110333A1 (it) | 2011-12-23 | 2011-12-23 | Macchina stereolitografica con gruppo ottico perfezionato |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
ITVI20110333A1 true ITVI20110333A1 (it) | 2013-06-24 |
Family
ID=45581966
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
IT000333A ITVI20110333A1 (it) | 2011-12-23 | 2011-12-23 | Macchina stereolitografica con gruppo ottico perfezionato |
Country Status (14)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9550326B2 (it) |
EP (1) | EP2794242B1 (it) |
JP (1) | JP6331096B2 (it) |
KR (1) | KR20140097554A (it) |
CN (1) | CN104039533B (it) |
BR (1) | BR112014015284A8 (it) |
CA (1) | CA2860143C (it) |
HK (1) | HK1201054A1 (it) |
IL (1) | IL233120B (it) |
IT (1) | ITVI20110333A1 (it) |
MX (1) | MX350109B (it) |
RU (1) | RU2593448C2 (it) |
SG (1) | SG11201403198VA (it) |
WO (1) | WO2013093612A1 (it) |
Families Citing this family (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
ITVI20120183A1 (it) * | 2012-07-27 | 2014-01-28 | Dws Srl | Cartuccia per macchina stereolitografica, macchina stereolitografica comprendente tale cartuccia e metodo di produzione di tale cartuccia |
ITVI20130229A1 (it) * | 2013-09-18 | 2015-03-19 | Ettore Maurizio Costabeber | Macchina stereolitografica con gruppo ottico perfezionato |
JP2017507814A (ja) * | 2014-02-28 | 2017-03-23 | コスタベバー,エットーレ,マウリツィオ | 改良されたステレオリソグラフィ機械 |
WO2015195924A1 (en) * | 2014-06-20 | 2015-12-23 | Carbon3D, Inc. | Three-dimensional printing with reciprocal feeding of polymerizable liquid |
BR112017019743A2 (pt) * | 2015-03-18 | 2018-05-29 | Maurizio Costabeber Ettore | máquina de estereolitografia. |
KR101874791B1 (ko) * | 2015-09-22 | 2018-07-05 | 주식회사 캐리마 | 광경화식 3d 성형방법 및 광경화식 3d 성형장치 |
US20180290380A1 (en) * | 2015-10-15 | 2018-10-11 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. | Method for forming a three dimensional body from a mixture with a high content of solid particles |
AU2016351635B2 (en) * | 2015-11-12 | 2020-01-30 | Klaus Stadlmann | Stereolithography apparatus comprising a cartridge device |
JP6555534B2 (ja) * | 2016-02-29 | 2019-08-07 | 国立大学法人 東京大学 | オーバーハング構造体の製造方法及び製造装置 |
AT518051B1 (de) * | 2016-04-19 | 2017-07-15 | Klaus Stadlmann Dr | Vorrichtung und Verfahren zur Steigerung der Anhaftung einer Bauteilschicht an einem Trägerobjekt |
IT201600124372A1 (it) * | 2016-12-07 | 2018-06-07 | Dws Srl | Macchina stereolitografica con gruppo ottico perfezionato |
US10953597B2 (en) | 2017-07-21 | 2021-03-23 | Saint-Gobain Performance Plastics Corporation | Method of forming a three-dimensional body |
CN109507768A (zh) * | 2018-11-29 | 2019-03-22 | 交通运输部公路科学研究所 | 微尺度光学结构加工装置 |
CN112693113B (zh) * | 2020-12-10 | 2022-04-19 | 浙江大学 | 一种基于投影三维重建的快速增材制造系统 |
US11865780B2 (en) | 2021-02-26 | 2024-01-09 | General Electric Company | Accumalator assembly for additive manufacturing |
US11951679B2 (en) | 2021-06-16 | 2024-04-09 | General Electric Company | Additive manufacturing system |
US11731367B2 (en) | 2021-06-23 | 2023-08-22 | General Electric Company | Drive system for additive manufacturing |
US11958249B2 (en) | 2021-06-24 | 2024-04-16 | General Electric Company | Reclamation system for additive manufacturing |
US11958250B2 (en) | 2021-06-24 | 2024-04-16 | General Electric Company | Reclamation system for additive manufacturing |
US11826950B2 (en) | 2021-07-09 | 2023-11-28 | General Electric Company | Resin management system for additive manufacturing |
US11813799B2 (en) | 2021-09-01 | 2023-11-14 | General Electric Company | Control systems and methods for additive manufacturing |
Family Cites Families (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4996010A (en) * | 1988-04-18 | 1991-02-26 | 3D Systems, Inc. | Methods and apparatus for production of three-dimensional objects by stereolithography |
US5258146A (en) * | 1988-09-26 | 1993-11-02 | 3D Systems, Inc. | Method of and apparatus for measuring and controlling fluid level in stereolithography |
CA2102107C (en) * | 1991-05-01 | 2002-07-16 | Stephen Craig Lapin | Stereolithography using vinyl ether-epoxide polymers |
US5259146A (en) * | 1992-08-11 | 1993-11-09 | Jinkins Perry L | Device and method for shaping the end of a rod |
JP2722314B2 (ja) * | 1993-12-20 | 1998-03-04 | 日本信号株式会社 | プレーナー型ガルバノミラー及びその製造方法 |
JP2003080604A (ja) * | 2001-09-10 | 2003-03-19 | Fuji Photo Film Co Ltd | 積層造形装置 |
US6924915B2 (en) | 2002-08-26 | 2005-08-02 | Canon Kabushiki Kaisha | Oscillation device, optical deflector using the oscillation device, and image display device and image forming apparatus using the optical deflector, and method of manufacturing the oscillation device |
US7659918B2 (en) | 2003-10-08 | 2010-02-09 | Texas Instruments Incorporated | Apparatus and methods for adjusting the rotational frequency of a scanning device |
US20050078345A1 (en) | 2003-10-09 | 2005-04-14 | Turner Arthur Monroe | Scanning device with improved magnetic drive |
US7133061B2 (en) * | 2004-06-14 | 2006-11-07 | Texas Instruments Incorporated | Multilaser bi-directional printer with an oscillating scanning mirror |
JP4161971B2 (ja) | 2005-02-16 | 2008-10-08 | セイコーエプソン株式会社 | 光走査装置及び画像表示装置 |
RU2417890C2 (ru) * | 2005-09-20 | 2011-05-10 | Птс Софтвэар Бв | Устройство формирования трехмерного изделия и способ формирования трехмерного изделия |
US7784933B2 (en) | 2006-06-29 | 2010-08-31 | Lexmark International, Inc. | Smart projector guides for handprinters |
KR100766600B1 (ko) | 2006-07-18 | 2007-10-12 | 삼성전자주식회사 | 스캐너 |
EP2185344B1 (en) | 2007-08-23 | 2018-06-13 | 3D Systems, Inc. | Automatic geometric calibration using laser scanning reflectometry |
JPWO2009044901A1 (ja) * | 2007-10-05 | 2011-02-17 | 国立大学法人京都大学 | 回転傾斜露光法を用いた流路形成方法 |
WO2010043275A1 (en) * | 2008-10-17 | 2010-04-22 | Huntsman Advanced Materials (Switzerland) Gmbh | Improvements for rapid prototyping apparatus |
JP2013530418A (ja) | 2010-04-28 | 2013-07-25 | レモプティックス ソシエテ アノニム | スペックル防止撮像モードを備えるマイクロプロジェクションデバイス |
CN101950079A (zh) | 2010-05-26 | 2011-01-19 | 香港应用科技研究院有限公司 | 具有可调谐振频率的双轴扫描镜面 |
ITVI20130229A1 (it) * | 2013-09-18 | 2015-03-19 | Ettore Maurizio Costabeber | Macchina stereolitografica con gruppo ottico perfezionato |
RU150514U1 (ru) * | 2013-12-24 | 2015-02-20 | Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт проблем лазерных и информационных технологий Российской академии наук | Установка для формирования биосовместимых структур |
-
2011
- 2011-12-23 IT IT000333A patent/ITVI20110333A1/it unknown
-
2012
- 2012-12-24 JP JP2014548241A patent/JP6331096B2/ja active Active
- 2012-12-24 BR BR112014015284A patent/BR112014015284A8/pt not_active Application Discontinuation
- 2012-12-24 CN CN201280063954.6A patent/CN104039533B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2012-12-24 US US14/367,431 patent/US9550326B2/en active Active
- 2012-12-24 MX MX2014007386A patent/MX350109B/es active IP Right Grant
- 2012-12-24 EP EP12818576.6A patent/EP2794242B1/en active Active
- 2012-12-24 CA CA2860143A patent/CA2860143C/en not_active Expired - Fee Related
- 2012-12-24 SG SG11201403198VA patent/SG11201403198VA/en unknown
- 2012-12-24 RU RU2014128189/05A patent/RU2593448C2/ru not_active IP Right Cessation
- 2012-12-24 WO PCT/IB2012/002789 patent/WO2013093612A1/en active Application Filing
- 2012-12-24 KR KR1020147018305A patent/KR20140097554A/ko not_active Application Discontinuation
-
2014
- 2014-06-12 IL IL233120A patent/IL233120B/en active IP Right Grant
-
2015
- 2015-02-12 HK HK15101552.1A patent/HK1201054A1/xx not_active IP Right Cessation
Non-Patent Citations (2)
Title |
---|
JOSÉ CARVALHO FERREIRA: "Microstereolithography using digital micromirror devices", INFORMATION TECHNOLOGY AND ELECTRICAL ENGINEERING - DEVICES AND SYSTEMS, MATERIALS AND TECHNOLOGIES FOR THE FUTURE, 7 July 2006 (2006-07-07), XP055032918, ISBN: 978-3-93-884315-4 * |
YALCINKAYA ET AL: "Two-axis electromagnetic microscanner for high resolution displays", JOURNAL OF MICROELECTROMECHANICAL SYSTEMS, IEEE SERVICE CENTER, US, vol. 15, no. 4, 1 August 2006 (2006-08-01), pages 786 - 794, XP008145248, ISSN: 1057-7157, DOI: 10.1109/JMEMS.2006.879380 * |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
IL233120A0 (en) | 2014-07-31 |
EP2794242A1 (en) | 2014-10-29 |
CN104039533B (zh) | 2016-12-07 |
MX350109B (es) | 2017-08-28 |
BR112014015284A8 (pt) | 2017-07-04 |
IL233120B (en) | 2019-01-31 |
US9550326B2 (en) | 2017-01-24 |
HK1201054A1 (en) | 2015-08-21 |
SG11201403198VA (en) | 2014-09-26 |
EP2794242B1 (en) | 2020-06-17 |
JP6331096B2 (ja) | 2018-05-30 |
US20150070674A1 (en) | 2015-03-12 |
CA2860143C (en) | 2016-11-22 |
RU2593448C2 (ru) | 2016-08-10 |
RU2014128189A (ru) | 2016-02-10 |
JP2015506286A (ja) | 2015-03-02 |
MX2014007386A (es) | 2014-09-11 |
WO2013093612A1 (en) | 2013-06-27 |
BR112014015284A2 (pt) | 2017-06-13 |
CN104039533A (zh) | 2014-09-10 |
KR20140097554A (ko) | 2014-08-06 |
CA2860143A1 (en) | 2013-06-27 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
ITVI20110333A1 (it) | Macchina stereolitografica con gruppo ottico perfezionato | |
US11314078B2 (en) | Optical path adjusting mechanism | |
KR102217967B1 (ko) | 개선된 공간 해상도를 갖는, 리소그래피에 의한 체적 물체의 생산 | |
TWI426358B (zh) | 微影裝置及元件製造方法 | |
CN101546132B (zh) | 投影曝光装置 | |
CN105324631A (zh) | 集成结构化光投影仪 | |
TWI408514B (zh) | 微影裝置及元件製造方法 | |
ITVI20130229A1 (it) | Macchina stereolitografica con gruppo ottico perfezionato | |
ITUB20156807A1 (it) | Dispositivo micromeccanico dotato di una struttura orientabile tramite attuazione quasi-statica di tipo piezoelettrico | |
ITUB20155997A1 (it) | Struttura micromeccanica ad attuazione biassiale e relativo dispositivo mems | |
JP2017531281A (ja) | 小型照明システム | |
CN104950587A (zh) | 曝光装置与曝光方法 | |
TWI427437B (zh) | 微影裝置及元件製造方法 | |
JP6362312B2 (ja) | 露光装置、それを用いたデバイスの製造方法 | |
IT201600124372A1 (it) | Macchina stereolitografica con gruppo ottico perfezionato | |
TWI438579B (zh) | 微影裝置及元件製造方法 | |
ITVI20140064U1 (it) | Macchina stereolitografica con gruppo ottico perfezionato | |
KR102042012B1 (ko) | 고속 노광과 저속 노광이 가능한 dmd 기반의 노광 장치 | |
KR20130063648A (ko) | 카메라 모듈의 광축 조정장치 | |
TWM510242U (zh) | 具有改良式光學單元的光固化成型機 | |
CN109725413A (zh) | 微镜结构及微镜阵列芯片 | |
JP2020086268A (ja) | 光偏向装置、距離測定装置、及び移動体 | |
JP6738026B2 (ja) | 光走査モジュール及びその製造方法 | |
IT202000022715A1 (it) | Modulo elettronico integrato includente due microspecchi, e sistema che include il modulo elettronico |