JP2015506286A - 改良された光ユニットを備えたステレオリソグラフィ機械 - Google Patents

Abstract

ステレオリソグラフィ機械（１）であって：流体物体（１４）用のコンテナ（２）；流体物体（１４）を固体化するのに適している所定の放射光（３ａ）の光源（３）；流体物体（１４）内の基準面（５）の方へ放射光（３ａ）を向けるのに適している光ユニット（４）；基準面（５）の所定の部分を露光するために光ユニット（４）および／または光源（３）を制御するように構成される論理制御ユニット（６）を備えるステレオリソグラフィ機械（１）。光ユニット（４）は、２本の軸（Ｘ、Ｙ）のまわりの回転の対応する組合せを通して基準面（５）の各点に放射光（３ａ）を向けることができるように配置される、互いの上に入射するかつ互いに独立の少なくとも２本の回転軸（Ｘ、Ｙ）のまわりの回転のためのアクチュエータ手段（７ａ）と結合されるミラー（８）を備えているマイクロ光電子機械システム（ＭＯＥＭＳ）（７）を備える。【選択図】 図１

Description

本発明は、各層が製作されるべき物体の体積部分に対応する領域内の流体物体の選択的固体化を通して得られる、複数の重畳された層を用いて三次元物体を作ることに適しているタイプのステレオリソグラフィ機械に関する。

公知のタイプのステレオリソグラフィ機械は、流体物体、概ね液体またはペースト状態の感光性樹脂を含有するコンテナを備える。

この機械はさらに、流体物体を固体化するのに適している放射光を放出する概ね発光タイプの光源を備える。

光ユニットが、固体化されるべき物体の層の位置に対応する、コンテナ内に配置される基準面の方へ前記放射光を伝えることをもたらす。

形成される三次元物体は、前記基準面に隣接した位置に物体の最後の固体化された層を配置することが可能なようにコンテナに対して垂直に動かされることができるモデリングプレートで支えられる。

このように、一旦各層が固体化されたならば、モデリングプレートが基準面に隣接して固体化された層を再び配置するために動かされ、そしてその後、このプロセスが連続した層に対して繰り返されることができる。

前記タイプのステレオリソグラフィ機械は、例えば、本発明を出願している同じ出願人の名前での、（特許文献１）内に記述される２つの主実施態様に分割される。

前記実施態様の第１のものによれば、基準面が、放射光に対して透明なコンテナの底部に隣接して配置される。

この場合、流体物体は下から照射され、および三次元物体がモデリングプレートの下に形成される。

第２の実施態様によれば、基準面が流体物体の自由表面のレベルに配置される。

この第２の場合では、流体物体は上方から照射され、および三次元物体はモデリングプレートの上に形成される。

両実施態様において、放射光は公知のタイプの異なる光ユニットを使用して基準面の異なる点に伝えられることができる。

第１のタイプの光ユニットは、所定の表面上に物体の層の画像を投射するように個々に制御されることができるミラーのマトリクスを備える。

特に、各ミラーは２つの異なる位置、放射光が基準面の対応点の方へ反射される能動位置および放射光が分散領域の方へ反射される受動位置をとることができる。

前記ミラーのマトリクスは同時に基準面全体を照らすことが可能であり、したがって、単一露光を用いて、かつそれゆえにとりわけすばやい方法で各層を得ることを可能にする。

しかしながら、不規則エッジを備えた物体が得られる不便によって、ミラーのマトリクスが限定された鮮明度を有する。

前述のシステムの更なる欠点が、それらが生成する画像がその表面全体上に一様な光度を有するという点にある。

したがって、これは前記システムが、光パワーが基準面の異なる領域で変調されることを可能にしない不便に至る。

第２のタイプの光ユニットにおいて、放射光が基準面の単一点に伝えられ、および物体の体積部分に対応する基準面の部分全体を累進的に照らすように、前記点が動かされる。

上記した光ユニットのタイプと比較して、この光ユニットは、基準面上の任意の点の方へ光ビームを向け、それが連続的軌道を包含するようにし、かつしたがって、先に述べたタイプの光ユニットによって引き起こされる不規則性がない物体を得ることが可能であるという利点を提供する。

さらに、このタイプの光ユニットは有利には基準面の異なる領域で光の強度を変更することを可能にする。

上記した第２のタイプの光ユニットの公知の実施態様によれば、機械装置を用いて２本の直交軸上で動かされるレーザー光源が設けられる。

この実施態様は光ビームの動きがむしろ遅く、およびさらに、光ビームを動かすために使用される機械装置が破壊のリスクを冒し、したがって、一定量の保守を必要とする欠点をもたらす。

光ユニットの異なる一実施態様によれば、固定光源および一対のガルバノメトリックミラーが光ビームを向けるために使用され、順々に直列に配置される。

各ミラーは、もう一方のミラーの軸に直交する対応する回転軸のまわりを回転することができるように、それらの回転の組合せが基準面の任意の点の方へビームを向けることができるように動力化される。

先に述べた公知のシステムと比較して、ちょうど今上で例示されたシステムは、ガルバノメトリックミラーのより低い慣性に起因して、ビームが非常にすばやく動かされることができ、およびより少ない数の使用される機械的部品のおかげで、より多くの信頼性を確実にする利点を提供する。

上で説明された利点にも関わらず、ちょうど今記述された光ユニットは、光ビームの正しい反射を得るように２枚のミラーが機械の構成中に位置合わせされる必要がある。

実際、ビーム方向をミラーの位置に対応させるために、ビームがそれぞれの回転軸のレベルで両ミラーに入射する必要がある。

上述した位置合わせ動作は、それがとりわけ複雑でかつステレオリソグラフィ機械のコストを増加する欠点をもたらす。

前記欠点は、使用中に片方または両方のミラーが割れて、それらを交換して正確に位置合わせする必要がある帰結を伴う場合にもまた生じる。

更なる欠点が、ガルバノメトリックミラーが相対的に高価であることによって代表され、そのことがステレオリソグラフィ機械のコストにかなり影響を及ぼす。

ガルバノメトリックミラーに基づく光ユニットは、相対的に大きいという更なる欠点をもたらす。

高いコストおよび大きなサイズは、小さい職人の企業によって必要とされるかもしれない小規模シリーズ用途に対してステレオリソグラフィ機械を不適切にする。

さらに、ガルバノメトリックミラーは、摩耗を受けるかつしたがって前述の機械運動装置と比較してそれらの利点を限定するいくつかの機械的部品を有する。

ガルバノメトリックミラーは、さらに、光ビームの偏移速度およびしたがってさらに全体的な処理時間に影響を及ぼす無視できない慣性によって特徴づけられる。

産業発明のためのイタリア特許出願第ＶＩ２０１０Ａ０００００４号明細書

本発明は、公知の技術を代表する全ての上述した欠点を克服することを意図する。

特に、ガルバノメトリックミラーの使用に基づいた公知のタイプのステレオリソグラフィ機械によって提供される同じ利点を提供する、およびさらに、後者（公知のタイプ）と比較して製作して使用するのがより簡単なステレオリソグラフィ機械を提供することが、本発明の一目的である。

特に、製造中および使用中の両方で、上記したミラーの位置合わせの動作を回避することが、本発明の一目的である。

前記目的は、主請求項に従って構成されるステレオリソグラフィ機械によって達成される。

本発明の更なる詳細特性が、それぞれの従属請求項内に例示される。

有利には、ミラーの位置合わせをもたらす必要がないことが、公知のタイプのものと比較して本発明のステレオリソグラフィ機械の構成をかなり簡単にし、それゆえにより低いコストに導く。

前記利点が、使用中に光ユニットを交換する必要がある時さらに確実にされ、機械維持費の縮小に導くことが理解されることができる。

さらに、有効に、本発明のステレオリソグラフィ機械は等価潜在的能力を備えた公知のタイプの機械より小さい全体的寸法を有する。

上で例示された両方の利点は、本発明のステレオリソグラフィ機械を、公知のタイプのステレオリソグラフィ機械が適切でない非常に小規模シリーズでの用途に対してもまた都合がいいものする。

下記で例示される他と共に、前記目的および利点が添付の図面を参照して限定されない例として記述される本発明のいくつかの好ましい実施態様の以下の記述から明白になり、そこにおいて：

本発明に従うステレオリソグラフィ機械を示す； 図１内に示されるステレオリソグラフィ機械の詳細を示す。

図１内に１によって全体として示される本発明の主題であるステレオリソグラフィ機械は、プロセスに従って複数の層がお互いに重畳されるそのプロセスを用いて三次元物体１５を製作し、前記層が、流体物体を固体化するのに適している所定の放射光３ａへの流体物体１４の選択的露光を通して得られることを可能にする。

好ましくは、前記流体物体１４が液体感光性樹脂であり、および所定の放射光３ａが可視光または紫外線の領域の周波数を備えたレーザー光線である。

明らかに、本発明の構成変形において、所定の放射光３ａに露光される時固体化するのに適している場合には、流体物体１４は任意の種類、液体またはペーストであることができる。

同様に、前記放射光３ａの光源３はそれが流体物体１４を固体化することができる場合には、前述のものと異なるタイプの放射光３ａを放出することができる。

ステレオリソグラフィ機械１は、前記流体物体１４用のコンテナ２、および形成される物体１５を支持するのに適していて、かつ垂直運動軸Ｚに従って動力化されるモデリングプレート１６を備える。

機械１はさらに所定の放射光３ａを放出するのに適している光源３、および流体物体１４によって占められる体積部分のレベルでコンテナ２内に配置される基準面上の任意の点の方へ放射光３ａを向けるのに適している光ユニット４を備える。

好ましくは、前記基準面は平面であって、かつそれがコンテナ２の底部２ａと隣接するように配置される。

この場合、光ユニット４はそれが底部２ａに入射するように、底部から上部に所定の放射光３ａを向けるように構成される。

さらに、底部２ａは放射光３ａに対して透明であり、後者（放射光）が底部に近接して配置される流体物体１４に当たることができてかつそれを固体化することができるようにする。

本発明の本実施態様によれば、図１に示すように、三次元物体１５がモデリングプレート１６の下に作り出される。

ここで例示されない本発明の一変形実施態様によれば、その代わりに、光ユニットが、コンテナ２内に存在する流体物体１４の自由表面上の上部から底部に放射光３ａを向けるように構成される。

この場合、物体はモデリングプレート１６の上に作り出される。

両方の前記変形実施態様において、ステレオリソグラフィ機械１は、基準面の所定の部分のレベルで放射光３ａに対して流体物体１４を選択的に露光するように、光ユニット４および／または光源３を制御するように構成される論理制御ユニット６を備える。

より詳しくは、前記所定の部分は、三次元物体１５の各層に、時々対応する体積部分の一部分に対応する。

本発明によれば、光ユニット４が集積回路技術において頭字語「ＭＯＥＭＳ」によって公知であるマイクロ光電子機械システム７を備える。

周知のように、ＭＯＥＭＳ装置は、例えば固体堆積、フォトリトグラフィー、エッチングその他を通して、集積回路を作るためにマイクロエレクトロニクスで使用される同じ技術を使用して製作される。

可能な一実施態様が限定されない例として図２内に図式的に示される、前記マイクロ光電子機械システム７が、互いに相互に入射する、かつ好ましくは互いに直角の、支持構造体９に対してミラー８の回転の２本の異なる軸Ｘ、Ｙを画定するように構成される関節接合手段７ｂを通して構造体９と結合される小型化されたミラー８を備える。

前記マイクロ光電子機械システム７はさらに、前記２本の軸ＸおよびＹのそれぞれのまわりに、もう一方の軸のまわりの動きから独立にミラー８を動かすのに適している本質的に公知のタイプのアクチュエータ手段７ａを備える。

前記アクチュエータ手段７ａは、静電、磁気、熱機械タイプ、または前記ＭＯＥＭＳ技術を用いて得られることができるその他の公知のタイプであることができる。

ミラー８は、光源３およびコンテナ２に対して、２本の軸Ｘ、Ｙのまわりの回転の対応する組合せを通して基準面の任意の点の方へ放射光を向けるために、所定の放射光３ａをミラーが反射することができるように配置される。

したがって、本発明は基準面の任意の点の方へ放射光３ａを向けるために単一ミラー８を使用することを可能にする。

それゆえに、上記した公知技術の場合のようないくつかのミラーをお互いに位置合わせする必要性が回避され、したがって、ステレオリソグラフィ１の製作を簡単にし、かつしたがって、そのコストを低下させる目的を達成する。

明らかに、前記利点はマイクロ光電子機械システム７の交換または使用中のそれの一部の交換の場合にもまた確実にされ、したがって、機械１の維持費を低下させることを可能にする。

依然として有利には、上記したマイクロ光電子機械システム７は、アセンブリ中の角度方向配置に高精度を必要としない。

実際、マイクロ光電子機械システム７の配置のいかなるわずかな角度方向変化も、コンテナ２に対する基準面の動きだけを、しかし基準面の、および露光される所定の部分の、形状の少なからぬ歪みを生成せずに含む。

依然として有利には、マイクロ光電子機械システム７は、ガルバノメトリックミラーに基づくシステムと比較してより低いコストを有し、それがステレオリソグラフィ機械１のコストを低下させる更なる利点を追加する。

さらに、有利には、マイクロ光電子機械システム７はガルバノメトリックミラーより低い慣性を有し、したがって、物体の同じ形状をなお得る公知のタイプのステレオリソグラフィ機械と比較して、より大きい角速度を得て、したがって三次元物体１５を作るのに必要な時間を減少させることを可能にする。

依然として有利には、マイクロ光電子機械システム７は同じ潜在的能力を有するガルバノメトリックミラーを備える光ユニットの典型的全体的寸法と比較してより小さい全体的寸法を有し、したがって、ステレオリソグラフィ機械１の全体的寸法を減少させることが可能である。

それゆえに本発明は、その減少コストおよび限定された全体的寸法のおかげで、公知のタイプのステレオリソグラフィ機械が適切でない用途にもまた使われるのに適しているステレオリソグラフィ機械１を製作することを可能にする。

マイクロ光電子機械システム７によって提供される更なる利点が、等価潜在的能力を有する公知のタイプのガルバノメトリックミラーを備えたシステムより非常により少ないエネルギを吸収するという点にある。

少なからぬ小型性と組み合わせた減少したエネルギ消費量が、ステレオリソグラフィ機械１をバッテリ駆動できるようにし、それを可搬にする。

上記したステレオリソグラフィ機械１が、ガルバノメトリックミラーを備えた光ユニットを使用するシステムを代表する全ての利点、特に、物体１５の異なる領域で放射光３ａの同じ精度およびパワーを変調する可能性を有するということがさらに理解されることができる。

好ましくは、かつ図２に示すように、関節接合手段７ｂが、回転軸Ｘのまわりにミラー８を回転可能に支持して、かつ回転軸Ｙに従って支持構造体９と回転可能に結合される可動フレーム１０を備える。

このタイプの接続は、上述した回転軸ＸおよびＹのそれぞれに従うミラー８の独立した回転を得ることを可能にする。

さらに、好ましくは、ミラー８、フレーム１０および支持構造体９が単一部材で得られ、かつ、関節接合手段７ｂに属して、かつ、ミラー８がフレーム１０に対して回転し、かつ後者（フレーム）が支持構造体９に対して回転することを可能にするために、それぞれの回転軸ＸおよびＹに従って弾性的にたわむことが可能であるように十分に薄型の、対応する接続領域１１および１２を通して互いに接続される。

特に、前記接続領域１１、１２のそれぞれが、装置のパイロット電圧に依存する程度に変形されることができるねじりばねとして動作する。

明らかに、本発明の変形実施態様において、ミラー８が互いに独立し、かつ互いに入射する２本の軸のまわりを回転することができる場合には、マイクロ光電子機械システム７は任意の形状で実施されることができる。

ミラー８を動かすアクチュエータ手段７ａに関して、それらは好ましくは、論理制御ユニット６によって送信されかつミラー８がとらなければならない角度方向位置を代表する制御信号の値に基づいて各軸Ｘ、Ｙのまわりに後者（ミラー）を回転させるように構成される。

特に、論理制御ユニット６は、放射光３ａが１つ以上の連続的軌道に従って生成されるべき物体１５の層に対応する所定の部分内に落ちるように、ミラー８を動かすように構成される。

好ましくは、しかし必ずしもそうではないが、前記動きは、所定の部分の全体を包含する単一連続軌道に従って実行される。

本発明の変形一実施態様によれば、マイクロ光電子機械システム７および対応するアクチュエータ手段７ａがミラー８の周期的動きを生成するように構成され、そうすると、放射光３ａが各サイクルで基準面全体を累進的に活性化することができる。

例えば、前記周期的動きは、２つの回転方向に交互に２本の回転軸Ｘ、Ｙのうち１本に従うミラー８の振動であって、好ましくは、単一方向に従うもう一方の軸上の回転と組み合わせられるそれぞれの接続領域１１または１２の共鳴周波数を利用することによって得られる振動を備えることができる。

このように、放射光３ａは基準面５に入射し、かつそのセグメントのそれぞれとその寸法の１つで基準面５と交差し、かつ同時にもう一方の寸法に従って動くジグザクの軌道を描く。

この最後の変形実施態様において、論理制御ユニット６が、ミラー８の前記周期的動き中に光源３の強度を変更するように構成される。

特に、入射の点が基準面５の所定の部分内にある時、その点で流体物体１４を固体化するように光源３の強度が増加され、一方、入射の点が所定の部分の外側にある時、流体物体１４の対応する部分を固体化するのを回避するように強度が減少される。

上記したマイクロ光電子機械システム７は、好ましくは機械１への電気接続のためのピンを備える集積回路に属し、機械１が前記ピンを収容してかつ集積回路を機械１に機械的に固定することを可能にするように構成される、対応するコネクタまたはベースを備えている。

好ましくは、前記コネクタまたはベースは、その挿入が限定された量の力を必要とするタイプである。

本発明の変形実施態様において、マイクロ光電子機械システム７が、支持電子回路上に直接溶接され、コネクタまたはベースの使用を回避することができる。

光ユニット４に関して、それが好ましくは放射光３ａを基準面５に焦点を合わせるように構成される１枚以上のレンズ１３を備える。

好ましくは、例えば放射光３ａを平面基準面に焦点を合わせるために、前記レンズ１３はいわゆる「フラットフィールド」タイプである。

動作上の観点から、ミラー８が光源３によって生成される放射光３ａと位置合わせされるように、マイクロ光電子機械システム７がステレオリソグラフィ機械１内に配置される。

好ましくは、光源３の位置およびマイクロ光電子機械システム７の位置は、ミラー８が何の回転もない状態にある時、すなわち、接続領域１１、１２が捻りを受けない時、放射光３ａが基準面５の中心点の方へ反射されるようなものである。

しかしながら、上記によれば、マイクロ光電子機械システム７のいかなるわずかな角度方向位置合わせの狂いも機械１の機能に影響を及ぼさない。

現実の三次元物体１５の製作に関して、これはガルバノメトリックミラーを備えた光ユニットと共に使われてかつ本質的に公知のものに類似する手順で実施される。

上に与えられた記述によれば、本発明のステレオリソグラフィ機械は、全ての組物体が達成されることを可能にすることが理解されることができる。

特に、マイクロ光電子機械システム（ＭＯＥＭＳ）によるガルバノメトリックミラーの置換は、各々単一軸上で動く２枚のミラーの代わりに、２本の独立した軸上で動く単一ミラーを使用することを可能にする。

単一ミラーの存在は、機械製作段階中に、かつミラーに実施される任意の保守の後の両方で、ガルバノメトリックミラーを備える機械には必要であるが、しかしながら機械の潜在的能力を限定せずに、ミラーの位置合わせを回避することを可能にする。

マイクロ光電子機械システムは、さらに、ガルバノメトリックシステムと比べてより経済的で、より大きくなく、かつエネルギをより消耗せず、それが、小規模シリーズ製造に適していて、かつ可搬でさえあるステレオリソグラフィ機械を製作することを可能にする。

本発明の更なる変形実施態様は、ここで記述されずかつ図面内に例示されない場合であっても、それらが下記で表現される請求項の範囲内に含まれる場合には、全て本特許によって保護されるとみなされるべきである。

任意の請求項内に言及される技術的特徴の後に参照符号が続くところでは、それらの参照符号は請求項の了解度を向上する唯一の目的のために含まれ、かつしたがって、この種の参照符号はこの種の参照符号によって例として識別される各要素の保護に関していかなる限定する効果も持たない。

１ ステレオリソグラフィ機械
２ コンテナ
２ａ コンテナ底部
３ 光源
３ａ 放射光
４ 光ユニット
５ 基準面
６ 論理制御ユニット
７ マイクロ光電子機械システム
７ａ アクチュエータ手段
７ｂ 関節接合手段
８ ミラー
９ 支持構造体
１０ フレーム
１１、１２ 接続領域
１３ レンズ
１４ 流体物体
１５ 三次元物体
１６ モデリングプレート

Claims (11)

1. ステレオリソグラフィ機械（１）であって：
   −所定の放射光（３ａ）に対する露光を通して固体化されるのに適している流体物体（１４）用のコンテナ（２）；
   −前記所定の放射光（３ａ）の光源（３）；
   −前記コンテナ（２）内に配置される基準面（５）の任意の点の方へ前記放射光（３ａ）を選択的に向けるのに適している光ユニット（４）；
   −前記放射光（３ａ）に対して前記基準面（５）の所定の部分を露光するように、前記光ユニット（４）および／または前記放射光源（３）を制御するように構成される論理制御ユニット（６）を備え、
   前記光ユニット（４）が：
   −前記ミラー（８）に対して互いに入射する少なくとも２本の回転軸（Ｘ、Ｙ）を画定するように構成される関節接合手段（７ｂ）を通して支持構造体（９）と結合されるミラー（８）；
   −前記２本の軸（Ｘ、Ｙ）の各１本のまわりに、前記２本の軸（Ｘ、Ｙ）のもう一方の１本のまわりの動きから独立に前記ミラー（８）を動かすのに適しているアクチュエータ手段（７ａ）、を備えるマイクロ光電子機械システム（ＭＯＥＭＳ）（７）を備え、
   前記２本の軸（Ｘ、Ｙ）のまわりの前記回転の対応する組合せを通して前記基準面（５）の各点の方へ前記放射光（３ａ）を向けることが可能であるように、前記ミラー（８）が、前記放射光源（３）に対して、かつ前記コンテナ（２）に対して配置されることを特徴とするステレオリソグラフィ機械（１）。
2. 前記２本の回転軸（Ｘ、Ｙ）が、相互に直角であることを特徴とする請求項１に記載のステレオリソグラフィ機械（１）。
3. 前記関節接合手段（７ｂ）が、前記回転軸の第１の１本（Ｘ）のまわりに前記ミラー（８）を回転可能に支持するフレーム（１０）を備え、前記フレーム（１０）が、前記回転軸の第２の１本（Ｙ）のまわりに前記支持構造体（９）と回転可能に結合されることを特徴とする請求項１−２のいずれかに記載のステレオリソグラフィ機械（１）。
4. 前記関節接合手段（７ｂ）が、前記ミラー（８）と前記フレーム（１０）との間に配置され、前記第１の回転軸（Ｘ）のまわりに弾性的にたわむ第１の接続領域（１１）、および、前記フレーム（１０）と前記支持構造体（９）との間に配置され、前記第２の回転軸（Ｙ）のまわりに弾性的にたわむ第２の接続領域（１２）を備えることを特徴とする請求項３に記載のステレオリソグラフィ機械（１）。
5. 前記論理制御ユニット（６）によって放出されてかつ前記角度方向位置を代表する値を有する制御信号に応答する角度方向位置に前記ミラー（８）を配置するように、前記アクチュエータ手段（７ａ）が、前記２本の軸（Ｘ、Ｙ）の各１本のまわりに前記ミラー（８）を回転させるように構成されることを特徴とする請求項１−４のいずれかに記載のステレオリソグラフィ機械（１）。
6. 前記基準面（５）上の前記放射光（３ａ）の前記入射点が前記所定の部分の全体を包含する連続的軌道を画定するように、前記論理制御ユニット（６）が前記ミラー（８）を動かすように構成されることを特徴とする請求項５に記載のステレオリソグラフィ機械（１）。
7. 前記放射光（３ａ）が各サイクルで前記基準面（５）全体に入射することができるように、前記制御手段（７ａ）が前記ミラー（８）の周期的動きを生成するように構成され、前記放射光（３ａ）が前記所定の部分内に落ちる時、前記放射光（３ａ）が前記所定の部分の外に落ちる時より前記放射光源（３）の強度が大きいように、前記強度を選択的に変更するように前記論理制御ユニット（６）が構成されていることを特徴とする請求項１−４のいずれかに記載のステレオリソグラフィ機械（１）。
8. 前記マイクロ光電子機械システム（７）が、電気接続用のピンを備える集積回路に属し、前記機械（１）が、前記集積回路を機械的に固定するように前記ピンを収容するように構成される対応する接続手段を備えていることを特徴とする請求項１−７のいずれかに記載のステレオリソグラフィ機械（１）。
9. 前記放射光源（３）が、レーザー放射体であることを特徴とする請求項１−８のいずれかに記載のステレオリソグラフィ機械（１）。
10. 前記光ユニット（４）が、前記放射光（３ａ）が前記基準面（５）に焦点を合わせるように構成される少なくとも１枚のレンズ（１３）を備えることを特徴とする請求項１−９のいずれかに記載のステレオリソグラフィ機械（１）。
11. 流体物体（１４）用のコンテナ（２）および放射光源（３）を備えるステレオリソグラフィ機械（１）であって、前記コンテナ（２）内に配置される基準面（５）の任意の点の方へ前記放射光を選択的に向けるために、互いの上に入射するかつ互いに独立の少なくとも２本の回転軸（Ｘ、Ｙ）のまわりを回るミラー（８）を備えている、マイクロ光電子機械システム（ＭＯＥＭＳ）（７）のステレオリソグラフィ機械（１）における使用。
    
    

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