ATE536566T1 - Flachdruckplattenvorläufer - Google Patents

Flachdruckplattenvorläufer

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ATE536566T1
ATE536566T1 AT00121271T AT00121271T ATE536566T1 AT E536566 T1 ATE536566 T1 AT E536566T1 AT 00121271 T AT00121271 T AT 00121271T AT 00121271 T AT00121271 T AT 00121271T AT E536566 T1 ATE536566 T1 AT E536566T1
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AT
Austria
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plate precursor
flat plate
interlayer
photosensitive layer
photopolymerizable photosensitive
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AT00121271T
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English (en)
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Yasuhito Oshima
Tadahiro Sorori
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Fujifilm Corp
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Families Citing this family (38)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6686126B2 (en) 2000-07-14 2004-02-03 Fuji Photo Film Co., Ltd. Developing solution for photosensitive lithographic printing plate, plate-making method of lithographic printing plate, and photosensitive lithographic printing plate
JP4418714B2 (ja) * 2003-07-10 2010-02-24 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版及び平版印刷方法
JP2005238816A (ja) * 2003-07-22 2005-09-08 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版原版および平版印刷方法
JP4815113B2 (ja) * 2003-09-24 2011-11-16 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版および平版印刷方法
US20070144384A1 (en) * 2004-05-19 2007-06-28 Fuji Photo Film Co., Ltd Image recording method
JP2008511858A (ja) * 2004-09-01 2008-04-17 イーストマン コダック カンパニー 平版印刷版用の中間層
JP4574506B2 (ja) * 2005-03-23 2010-11-04 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、及びその製版方法
DE602005013398D1 (de) 2005-11-18 2009-04-30 Agfa Graphics Nv Verfahren zur Herstellung einer Lithografiedruckform
PL1788444T3 (pl) 2005-11-18 2011-06-30 Agfa Nv Sposób wytwarzania kliszy do druku litograficznego
PL1788442T3 (pl) 2005-11-18 2011-01-31 Agfa Graphics Nv Sposób wytwarzania litograficznej formy drukowej
ES2322655T5 (es) * 2005-11-18 2019-06-27 Agfa Nv Método para fabricar una plancha de impresión litográfica
AU2006314503B2 (en) 2005-11-18 2012-12-06 Agfa Nv Method of making a photopolymer printing plate
ES2479066T3 (es) 2005-11-18 2014-07-23 Agfa Graphics N.V. Método de fabricación de una plancha de impresión litográfica
ATE426191T1 (de) 2005-11-18 2009-04-15 Agfa Graphics Nv Verfahren zur herstellung einer lithographischen druckplatte
ES2320561T3 (es) 2005-11-18 2009-05-25 Agfa Graphics N.V. Metodo para fabricar una plancha de impresion litografica.
ATE473469T1 (de) 2005-11-18 2010-07-15 Agfa Graphics Nv Verfahren zur herstellung einer lithografiedruckform
EP1788450B1 (de) 2005-11-18 2009-02-04 Agfa Graphics N.V. Verfahren zur Herstellung einer Lithografiedruckform
PL1788435T3 (pl) 2005-11-21 2013-09-30 Agfa Nv Sposób wytwarzania litograficznej płyty drukowej
EP1788449A1 (de) 2005-11-21 2007-05-23 Agfa Graphics N.V. Verfahren zur Herstellung einer Lithografiedruckform
ES2324542T3 (es) 2005-11-21 2009-08-10 Agfa Graphics N.V. Metodo para fabricar una plancha de impresion litografica.
JP2007233071A (ja) * 2006-03-01 2007-09-13 Fujifilm Corp 平版印刷版の作製方法および平版印刷版原版
DE602007009344D1 (de) * 2006-07-25 2010-11-04 Fujifilm Corp Lithographiedruckplattenvorläufer und Verfahren zur Herstellung einer Lithographiedruckplatte
BRPI0811197B1 (pt) 2007-05-25 2019-04-02 Agfa Nv Precursor de placa de impressão litográfica, processo para a preparação de misturas de sensibilizantes e método para manufaturar uma placa de impressão
CN101861547B (zh) 2007-11-16 2013-10-16 爱克发印艺公司 制造平版印刷版的方法
EP2186637B1 (de) 2008-10-23 2012-05-02 Agfa Graphics N.V. Lithographiedruckplatte
PL2755088T3 (pl) 2013-01-11 2016-12-30 Sposób wytwarzania litograficznej płyty drukowej
EP2916171B1 (de) 2014-03-03 2017-05-31 Agfa Graphics Nv Verfahren zum Herstellen eines Lithographiedruckformvorläufers
US10656522B2 (en) * 2015-11-19 2020-05-19 Az Electronic Materials (Luxembourg) S.A.R.L. Composition for forming fine resist pattern and pattern forming method using same
EP3327544B1 (de) * 2016-11-25 2021-06-23 Nokia Technologies Oy Vorrichtung, zugehöriges verfahren und zugehöriges computerlesbares medium
EP3441223B1 (de) 2017-08-07 2024-02-21 Eco3 Bv Lithographiedruckplattenvorläufer
EP3474073B1 (de) 2017-10-17 2022-12-07 Agfa Offset Bv Methode zur herstellung einer druckplatte
ES2881270T3 (es) 2017-12-08 2021-11-29 Agfa Nv Procedimiento de fabricación de una plancha de impresión litográfica
EP3650938A1 (de) 2018-11-09 2020-05-13 Agfa Nv Lithographiedruckplattenvorläufer
CN113168096B (zh) 2018-12-10 2024-05-24 易客发有限公司 Uv或紫色敏化的平版印刷版的在机加工
EP3922462B1 (de) 2020-06-08 2023-03-01 Agfa Offset Bv Lithografischer photopolymerer druckplattenvorläufer mit verbesserter tageslichtstabilität
EP3960455A1 (de) 2020-08-31 2022-03-02 Agfa Offset Bv Lithografiedruckplattenvorläufer
EP4225582A1 (de) 2020-10-09 2023-08-16 Agfa Offset Bv Lithographiedruckplattenvorläufer
EP4129682A1 (de) 2021-08-05 2023-02-08 Agfa Offset Bv Lithografiedruckplattenvorläufer

Family Cites Families (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3617411A (en) 1969-01-14 1971-11-02 Ibm Process for etching a pattern of closely spaced conducting lines in an integrated circuit
US4463112A (en) * 1980-02-13 1984-07-31 Leistner William E Phenylethylidene-substituted phenyl polyphosphites
US4388156A (en) * 1981-12-23 1983-06-14 American Hoechst Corporation Aluminum electrolysis in non-aqueous monomeric organic acid
JPS6250760A (ja) 1985-08-29 1987-03-05 Fuji Photo Film Co Ltd 湿し水不要感光性平版印刷版
US4640886A (en) * 1985-10-10 1987-02-03 Eastman Kodak Company Subbed lithographic printing plate
DE3644160A1 (de) 1986-12-23 1988-07-14 Hoechst Ag Lichtempfindliches aufzeichnungsmaterial mit einer lichtempfindlichen zwischenschicht
JPH0682214B2 (ja) 1986-12-26 1994-10-19 東レ株式会社 水なし平版印刷版
US4886731A (en) * 1987-01-05 1989-12-12 Cookson Graphics Inc. Multilayer photopolymeric printing plates with photoreactive diazo compounds and photopolymerizable compositions
JPH03122647A (ja) 1989-10-05 1991-05-24 Hitachi Chem Co Ltd 感光性樹脂組成物およびこれを用いた感光性フイルム
JP2627565B2 (ja) 1990-02-19 1997-07-09 富士写真フイルム株式会社 感光性平版印刷版
JP2648976B2 (ja) 1990-03-09 1997-09-03 富士写真フイルム株式会社 感光性平版印刷版
DE4023268A1 (de) 1990-07-21 1992-01-23 Hoechst Ag Hydrophile mischpolymere sowie deren verwendung in der reprographie
JP3223222B2 (ja) 1993-12-03 2001-10-29 富士写真フイルム株式会社 感光性印刷版
DE4415607A1 (de) * 1994-05-04 1995-11-09 Hoechst Ag Lichtempfindliches Material und Verfahren zur Herstellung von Flachdruckplatten
DE4423140A1 (de) * 1994-07-01 1996-01-04 Hoechst Ag Hydrophiliertes Trägermaterial und damit hergestelltes Aufzeichnungsmaterial
DE69504951T2 (de) 1995-02-15 1999-04-15 Agfa Gevaert Nv Diazo-Aufzeichnungselement mit verbesserter Beständigkeit gegen mechanischen Schaden
JP3589360B2 (ja) * 1995-03-22 2004-11-17 富士写真フイルム株式会社 感光性印刷版
JPH09269593A (ja) 1996-04-01 1997-10-14 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性平版印刷版
US6114089A (en) 1997-04-08 2000-09-05 Fuji Photo Film Co., Ltd. Positive working photosensitive lithographic printing plate
JP3830114B2 (ja) 1997-09-29 2006-10-04 富士写真フイルム株式会社 ポジ型感光性平版印刷版
JP3810215B2 (ja) 1998-06-17 2006-08-16 富士写真フイルム株式会社 感光性平版印刷版
JP3122647B2 (ja) 1999-01-08 2001-01-09 大日本印刷株式会社 情報記録媒体及び情報記録再生方法
US6258517B1 (en) * 2000-06-06 2001-07-10 Eastman Kodak Company Imaged element with improved wet abrasion resistance

Also Published As

Publication number Publication date
US6558873B1 (en) 2003-05-06
EP1091251B1 (de) 2011-12-07
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EP1091251A3 (de) 2002-07-03
EP1927889B1 (de) 2014-06-25
EP1927889A1 (de) 2008-06-04

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