DE69504951T2 - Diazo-Aufzeichnungselement mit verbesserter Beständigkeit gegen mechanischen Schaden - Google Patents

Diazo-Aufzeichnungselement mit verbesserter Beständigkeit gegen mechanischen Schaden

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    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
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