JPH08272088A - 物理的損傷に対する改良された抵抗性を有するジアゾベースの像形成材料 - Google Patents

物理的損傷に対する改良された抵抗性を有するジアゾベースの像形成材料

Info

Publication number
JPH08272088A
JPH08272088A JP8050957A JP5095796A JPH08272088A JP H08272088 A JPH08272088 A JP H08272088A JP 8050957 A JP8050957 A JP 8050957A JP 5095796 A JP5095796 A JP 5095796A JP H08272088 A JPH08272088 A JP H08272088A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
hydrophilic
polymer
package
layer
forming material
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP8050957A
Other languages
English (en)
Inventor
Guido Hauquier
ギド・オキュエール
Joan Vermeersch
ジョアン・ヴェルメールシュ
Eric Verschueren
エリク・ヴェルシュラン
Dirk Kokkelenberg
ディル・コックランベール
Wim Cortens
ワン・コルタン
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Agfa Gevaert NV
Original Assignee
Agfa Gevaert NV
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Agfa Gevaert NV filed Critical Agfa Gevaert NV
Publication of JPH08272088A publication Critical patent/JPH08272088A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/09Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
    • G03F7/11Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having cover layers or intermediate layers, e.g. subbing layers

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Architecture (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 平版印刷版の印刷特性を改良するため、物理
的損傷に対する改良された抵抗を有する平版印刷版を作
るためのジアゾベース像形成材料を提供する。 【解決手段】 支持体上に次の順序で、それぞれが親水
性(共)重合体又は(共)重合体混合物を含有し、加水
分解されたテトラアルキルオルソシリケートで硬化され
た相互に水透過性接触している少なくとも二つの親水性
層のパッケージ及びジアゾ樹脂又はジアゾニウム塩を含
有する感光性層を含有する像形成材料であり、前記加水
分解されたテトラアルキルオルソシリケート(二酸化ケ
イ素として表示する)に対する前記親水性(共)重合体
又は(共)重合体混合物の前記パッケージの最上層中で
の重量比が少なくとも1.1であり、前記加水分解され
たテトラアルキルオルソシリケート(二酸化ケイ素とし
て表示する)に対する前記親水性(共)重合体又は
(共)重合体混合物の下にある層中での重量比が0.9
以下である。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】発明の分野 本発明は淡水で、平版印刷版に現像できるジアゾ増感像
形成材料に関する。
【0002】発明の背景 平版印刷は特別に作られた面から印刷する方法であり、
面のある領域は平版印刷インクを受容でき、一方他の領
域は水で湿潤したときインクを受容しない。インクを受
容する領域は印刷像領域を形成し、撥インク領域は背景
(地)領域を形成する。
【0003】写真平版技術においては、写真材料は、親
水性背景上の露光された領域で(ネガ作用)又は非露光
領域で(ポジ作用)油状又はグリース状インクに対して
像に従って受容性にされる。
【0004】サーフェイス石版又は平版印刷版とも称さ
れる普通の石版印刷版の製造においては、水に対して親
和性を有するか又は化学処理によってかかる親和性を得
る支持体を感光性組成物の薄層で被覆する。その目的の
ための被覆は、ジアゾ化合物、重クロム酸塩増感親水性
コロイド及び多くの種類の合成感光性重合体を含有する
感光性重合体層を含む。
【0005】特にジアゾ増感された材料が広く使用され
ている。これらの材料はニューヨークの Wiley1965
年発行、 J. Kosar 著、“ Light-Sensitive Systems
”の7章に広く調査されている。一般的に使用される
ネガ作用ジアゾ増感材料は、紫外及び青放射線に露光さ
れたとき、重合体を硬化するジアゾ化合物の能力に基づ
いている。硬化特性に基づいた平版印刷版の製造のため
使用されているジアゾ化合物には、例えば光分解生成物
が重合体(天然コロイド又は合成樹脂)を直接硬化でき
るジアゾニウム塩及びジアゾニウム化合物がある。ジア
ゾニウム基を含有する重合体は大きな構造を有するが、
それらはイオン性ジアゾニウム基の存在によって水溶性
のままである。これらの基が光に暴露することによって
破壊されたとき、不溶性樹脂が形成される。特に有用な
ジアゾニウム重合体には、例えばp−アミノジフェニル
アミンのジアゾニウム塩と、カルボニル化合物、例えば
ホルムアルデヒドの如きアルデヒドの縮合生成物があ
る。これらの縮合生成物は通常ジアゾ樹脂と称される。
これらの材料において、重合体結合剤が所望によってジ
アゾ樹脂被覆に加えられる。
【0006】ジアゾ増感平版印刷版の製造のため、数種
類の支持体が使用できる。普通の支持体はAl又はZn
の如き金属支持体、ポリエステルフィルム支持体及び紙
基体である。これらの支持体は、それら自体によって充
分な親水性でないとき、最初親水性層で被覆し、印刷版
の親水性背景を形成し、次にジアゾ化合物を含有する最
上層を適用する(例えばDE−P1900469,DE
−P2030634,及びUS−P3971660参
照)。
【0007】これらの材料における親水性層として、例
えばGB−P1419512,FR−P230035
4,US−P3971660及びUS−P428470
5に記載されている如きポリビニルアルコール及び加水
分解されたテトラエチルオルソシリケート及び好ましく
は二酸化ケイ素及び/又は二酸化チタンも含有する層を
使用することが知られている。この親水性層は、重合体
結合剤中にジアゾニウム塩又はジアゾ樹脂を含有する感
光性層で上塗被覆される。
【0008】感光性層を像に従って露光したとき、露光
された像領域は水不溶性になり、非露光領域は水溶性の
まま残る。次に版を水で現像して非露光領域中のジアゾ
ニウム塩又はジアゾ樹脂を除去する。かかる現像は、例
えばEP−A450199及びEP−A601240に
記載されている如く淡水によって生起させることができ
る。
【0009】しかしながら、例えばEP−A45019
9,EP−A601240及びUS−P3971660
に記載されている如きポリビニルアルコール及び加水分
解されたテトラエチルオルソシリケートを含有する層を
親水性層として含有するジアゾベースの像形成材料は、
輸送中及び取扱中に物理的損傷を受け、印刷斑点を生
じ、前記印刷版の非印刷領域でかぶりを完全に生ぜしめ
ることが証明されている。
【0010】発明の概要 本発明の目的は、平版印刷版を製造するためのジアゾベ
ース像形成材料を提供することにあり、前記ジアゾベー
ス像形成材料は、前記平版印刷版の印刷特性を改良する
ため物理的損傷に対する改良された抵抗を有する。
【0011】他の目的は以下の説明から明らかになるで
あろう。
【0012】本発明によれば像形成材料は、次の順序
で、それぞれが親水性(共)重合体又は(共)重合体混
合物を含有し、加水分解されたテトラアルキルオルソシ
リケートで硬化されており、相互に水透過性接触してい
る少なくとも二つの親水性層のパッケージ及びジアゾ樹
脂又はジアゾニウム塩を含有する感光性層を支持体上に
含有し、前記加水分解されたテトラアルキルオルソシリ
ケート(二酸化ケイ素として表示する)に対する前記親
水性(共)重合体又は(共)重合体混合物の前記パッケ
ージの最上層中での重量比が少なくとも1.1であり、
前記加水分解されたテトラアルキルオルソシリケート
(二酸化ケイ素として表示する)に対する前記親水性
(共)重合体又は(共)重合体混合物の前記パッケージ
の下にある層中での重量比が0.9以下であることを特
徴としている。
【0013】本発明によれば、前述した如き像形成材料
を像に従って露光する工程、及び続いて前記像形成材料
の非露光領域又は不充分に露光された領域中の感光性層
を、水性液で前記像形成材料をすすぐか又洗うことによ
って除去する工程を含む平版印刷版を得るための方法を
提供する。
【0014】発明の詳述 支持体上に、前記加水分解されたテトラアルキルオルソ
シリケート(二酸化ケイ素として表示する)に対する前
記親水性(共)重合体又は(共)重合体混合物の前記パ
ッケージ最上層中での重量比が少なくとも1.1であ
り、加水分解されたテトラアルキルオルソシリケート
(二酸化ケイ素として表示する)に対する親水性(共)
重合体又は(共)重合体混合物の前記パッケージの下に
ある層中での重量比が0.9以下である少なくとも二つ
の親水性層のパッケージ及びジアゾ樹脂又はジアゾニウ
ム塩を含有する感光性層を適用することによって、本発
明によって得られた像形成材料は、物理的損傷に対し改
良された抵抗性を有する。これは、前記印刷版の非印刷
領域での印刷斑点及び完全かぶりさえも防止する如き平
版印刷特性の改良をもたらす。
【0015】好ましくは、加水分解されたテトラアルキ
ルオルソシリケート(二酸化ケイ素として表示する)に
対する親水性(共)重合体又は(共)重合体混合物の前
記パッケージの最上層中での重量比は少なくとも1.5
であり、更に好ましくは少なくとも2である。前記比の
上限は実際的な理由のため5以下であるのが好ましい。
【0016】又加水分解されたテトラアルキルオルソシ
リケート(二酸化ケイ素として表示する)に対する親水
性(共)重合体又は(共)重合体混合物の前記パッケー
ジの下にある層中での重量比は0.75以下であるのが
好ましく、0.65以下が更に好ましい。前記比の下限
は実際的な理由のため、0.2以上であるのが好まし
く、0.35以上が更に好ましい。
【0017】本発明による材料中の少なくとも二つの親
水性層のパッケージの乾燥厚さは、0.2〜25μmの
範囲で変えることができ、1〜10μmであるのが好ま
しい。少なくとも二つの親水性層の前記パッケージは、
0.2g/m2 〜20g/m2 の量で、更に好ましくは
0.5g/m2 〜6g/m2 の量で親水性(共)重合体
又は(共)重合体混合物を含有できる。
【0018】前記パッケージの下にある層の厚さに対す
る前記パッケージの最上親水性層の厚さの比は0.1〜
10で変えることができ、更に好ましくは0.25〜4
で変化させることができる。前記パッケージの最上層中
の親水性(共)重合体又は(共)重合体混合物の量は
0.1g/m2 〜18g/m2 で変えることができ、更
に好ましくは0.4g/m2 〜5g/m2 で変えること
ができる。前記パッケージの下にある層中の親水性
(共)重合体又は(共)重合体混合物の量は、0.01
g/m2 〜7.5g/m2 で変えることができ、更に好
ましくは0.05g/m2 〜1g/m2 で変えることが
できる。
【0019】パッケージの最上親水性層は、パッケージ
の下にある親水性層と水透過性接触している。相互に水
透過性接触している層は、相互に隣接しているか又は水
透過性層でのみ相互から分離されているだけの層であ
る。水透過性層の性質は、それが水又は水性溶液中に含
有された化合物の拡散を実質的に阻止又は抑制しないよ
うなものである。
【0020】相互に水透過性接触している少なくとも二
つの層のパッケージは、これら二つの層のみからなるの
が好ましい。しかしながら、前記最上層と前記下にある
層の間に加水分解されたテトラアルキルオルソシリケー
トで硬化されており、親水性(共)重合体又は(共)重
合体混合物を含有する親水性層を含有してもよい、又は
前記下にある層の下で加水分解されたテトラアルキルオ
ルソシリケートで硬化されており、親水性(共)重合体
又は(共)重合体混合物を含有する親水性層を含有して
もよい。前記パッケージが二つより多くの親水性層を含
有するとき、加水分解されたテトラアルキルオルソシリ
ケート(二酸化ケイ素として表示する)に対する親水性
(共)重合体又は(共)重合体混合物の前記パッケージ
の前記層中での重量比は、最上層から下の層へと徐々に
減少するのが好ましい。
【0021】本発明との関連において像形成材料の親水
性層中の親水性(共)重合体としては、例えばビニルア
ルコール、アクリルアミド、メチロールアクリルアミ
ド、メチロールメタクリルアミド、ヒドロキシエチルア
クリレート又はヒドロキシエチルメタクリレートのホモ
ポリマー又はコポリマーを使用できる。使用する(共)
重合体又は(共)重合体混合物の親水性度は、少なくと
も60重量%の程度に、好ましくは80重量%の程度に
加水分解されたポリビニルアセテートの親水性度と同じ
か又はそれより大であるのが好ましい。最も好ましく
は、本発明との関連において親水性層中で、少なくとも
80重量%の程度に加水分解されたポリビニルアルコー
ルを使用する。
【0022】加水分解されたテトラアルキルオルソシリ
ケート架橋剤の例には、加水分解されたテトラエチルオ
ルソシリケート及び加水分解されたテトラメチルオルソ
シリケートがある。
【0023】親水性層(又は可能ならそれらの一つだ
け)も、層の機械的強度及び多孔性を増大させる物質も
含有するのが好ましい。このためにコロイドシリカが使
用できる。使用するコロイドシリカは、例えば40nm
以下、例えば20nmの平均粒度を有するコロイドシリ
カの市場で入手しうる水分散液の形であることができ
る。更にコロイドシリカより大きいサイズの不活性粒
子、例えば J. Colloid andInterface Sci. 26巻
(1968年)、62〜69頁にStoeber によって発表
された方法により作ったシリカ、又はアルミナ粒子又は
二酸化チタンもしくは他重金属酸化物の粒子である少な
くとも100nmの平均直径を有する粒子を加えること
ができる。これらの粒子を混入することによって、親水
性層のパッケージの表面は、背景領域で水のための貯蔵
場所として作用する顕微鏡的な谷及び丘からなる均一な
粗い組織を与える。
【0024】本発明との関連における像形成材料の感光
性層は、ジアゾニウム塩又はジアゾ樹脂及び親水性結合
剤を含有するのが好ましい。好適な親水性結合剤には例
えばプルランがある。
【0025】プルランは、オーレオバシジウム(Aureob
asidium )プルラン種(プルラリアプルラン)の微生物
で作られ、α−1,6−グリコシド結合によって接続さ
れたマルトトリオース反復単位を含有するポリサッカラ
イドである。プルランは、部分的に加水分解した澱粉の
発酵により又はシュクロースのバクテリア発酵により工
業的規模で一般に製造される。プルランは例えば Shode
x , Pharmacosmosから市場で入手できる。
【0026】代りに感光性層が、結合剤として少なくと
も95重量%の程度に加水分解されたポリビニルアセテ
ートを含有できる。
【0027】好ましくは感光性層は、更にカチオン弗素
含有界面活性剤、好ましくは過弗素化界面活性剤、更に
好ましくは過弗素化アンモニウム界面活性剤を含有す
る。
【0028】過弗素化アンモニウム界面活性剤の代表例
には次のものがある: n-C8F17SO2NH-(CH2)3N+(CH3)3I- (3Mからの Fluorad
FC 135 ) n-C9F19SO2NH-(CH2)4N+(CH3)3Br-; n-C7F15CONH-(CH2)3N+(CH3)3I-; (n-C8F17COO-(CH2)4)2N+(CH3)2I-
【0029】本発明において使用するための低分子量ジ
アゾニウム塩の例には、ベンチジンテトラゾニウムクロ
ライド、3,3′−ジメチルベンチジンテトラゾニウム
クロライド、3,3′−ジメトキシベンチジンテトラゾ
ニウムクロライド、4,4′−ジアミノジフェニルアミ
ンテトラゾニウムクロライド、3,3′−ジエチルベン
チジンテトラゾニウムサルフェート、4−アミノジフェ
ニルアミンジアゾニウムサルフェート、4−アミノジフ
ェニルアミンジアゾニウムクロライド、4−ピペリジノ
アニリンジアゾニウムサルフェート、4−ジエチルアミ
ノアニリンジアゾニウムサルフェート、及びジアゾジフ
ェニルアミンとホルムアルデヒドのオリゴマー縮合生成
物を含む。
【0030】本発明において有用なジアゾ樹脂の例に
は、感光性物質として芳香族ジアゾニウム塩の縮合生成
物を含む。かかる縮合生成物は知られており、例えばド
イツ特許No. 1214086に記載されている。それら
は、強力な酸媒体中で、多核芳香族ジアゾニウム化合
物、好ましくは置換もしくは非置換ジフェニルアミン−
4−ジアゾニウム塩と、活性カルボニル化合物、好まし
くはホルムアルデヒドとの縮合によって一般に製造され
る。
【0031】本発明による感光性層はまた分散した水不
溶性重合体も含有するのが好ましい。水不溶性重合体の
前記水性分散液は、例えば乳化剤の結果として、又は重
合体に結合したカチオン基又はノニオン基を有すること
によって、カチオン性又はノニオン性の何れかであるの
が好ましい。水不溶性重合体は、直径で約100オング
ストローム〜1μの範囲のサイズを有し、30℃以下で
フィルムを形成しない固体微小粒子であるのが好まし
い。一般に本発明においては、カチオン基又はノニオン
基を担持し、又はカチオンもしくはノニオン乳化剤を用
いて乳剤中に配合できる重合体を使用できる。好適な重
合体には、スチレン、メチルアクリレート、エチルアク
リレート、ブチルアクリレート、メチルメタクリレー
ト、エチルメタクリレート、ブチルメタクリレート、ビ
ニルアセテート、ビニルクロライド、ビニリデンクロラ
イド、ブタジエン、メチルスチレン、ビニルトルエン、
ジメチルアミノエチルアクリレート、アクリル酸、メタ
クリル酸、イソプレン、クロロプレン、無水マレイン
酸、エチレングリコールアクリレート例えばポリエチレ
ングリコールアクリレート、ハロゲン化ビニル芳香族例
えばクロロスチレン及びブロモスチレン、メチルビニル
エーテル、ビニルピロリドン、ポリウレタン等のホモポ
リマー及びコポリマーを含む。
【0032】本発明において使用できるカチオン及びノ
ニオン乳化剤の中には、窒素に結合したアルキル基及び
/又はアリール基を含有する置換アミンのアンモニウム
塩、アルキルもしくはアリールスルホニウム塩、アルキ
ル及びアルキル−アリールポリエーテル、カチオン又は
ノニオンフルオロ界面活性剤及びポリオールがある。
【0033】本発明における材料中の感光性層の厚さ
は、0.1〜10μmの範囲で変えることができ、好ま
しくは0.5〜2.5μmである。
【0034】本発明による像形成材料において使用でき
る好適な支持体には、例えば写真フィルム基体例えば基
体としてポリエチレンテレフタレートフィルム、セルロ
ースアセテートフィルム、上に金属層又は付着物を有す
るプラスチック、及びポリオレフィン(例えばポリエチ
レン)被覆紙(そのポリオレフィン面は親水性層の接着
性を改良するためコロナ放電を受けているとよい)があ
る。
【0035】一つ以上の下塗層を、支持体及び少なくと
も二つの親水性層の間及び本発明により使用するための
親水性層の下に隣接して被覆できる、これはこれら二つ
の層の間の改良された接着性を得るためである。
【0036】本発明との関連において使用するのに好ま
しい下塗層は、親水性結合剤及びシリカを含有する下塗
層である。
【0037】前記下塗層中の親水性結合剤として、通常
蛋白質、好ましくはゼラチンを使用できる。しかしなが
らゼラチンは、一部又は全部を合成、半合成、又は天然
重合体で置換できる。ゼラチンのための合成代替物に
は、例えばポリビニルアルコール、ポリ−N−ビニルピ
ロリドン、ポリビニルイミダゾール、ポリビニルピラゾ
ール、ポリアクリルアミド、ポリアクリル酸、及びそれ
らの誘導体、特にそれらの共重合体がある。ゼラチンの
ための天然代替物には、例えば他の蛋白質例えばゼイ
ン、アルブミン及びカゼイン、セルロース、サッカライ
ド、澱粉、及びアルギネート等がある。一般にゼラチン
のための半合成代替物には、変性天然生成物例えばゼラ
チンをアルキル化剤もしくはアシル化剤で変化すること
によって、又はゼラチン上に重合性単量体をグラフトす
ることによって得られたゼラチン誘導体、及びセルロー
ス誘導体例えばヒドロキシアルキルセルロース、カルボ
キシメチルセルロース、フタロイルセルロース、及びセ
ルロースサルフェートがある。
【0038】下塗層中での好ましいシリカはアニオン系
の二酸化ケイ素である。コロイドシリカは、少なくとも
100m2 /gの表面積を有するのが好ましく、少なく
とも300m2 /gの表面積を有するのが更に好まし
い。
【0039】コロイドシリカの表面積は、J. Amer. Che
m. Soc. 60巻(1938年)、309〜312頁に、
S. Brunauer , P. H. Emmett 及びE. Teller によって
発表されたBET値法により測定する。
【0040】シリカ分散液は、他の物質、例えばアルミ
ニウム塩、安定化剤、殺生物剤等も含有できる。
【0041】かかる種類のシリカは、名称が KIESELSOL
100 , KIESELSOL 300 及び KIESELSOL 500 で市販
されている(KIESELSOL はドイツ国、レファークゼンの
Farbenfabriken Bayer AG. の登録商標であり、数字
はm2 /gでの表面積を示す)。
【0042】下塗層中のシリカに対する親水性結合剤の
重量比は1未満であるのが好ましい。下限は重要でない
が、少なくとも0.2であるのが好ましい。シリカに対
する親水性結合剤の重量比は、0.25〜0.5である
のが更に好ましい。
【0043】前記下塗層の被覆量は200mg/m2
り大であるが、750mg/m2 未満であるのが好まし
く、250mg/m2 〜500mg/m2 であるのが更
に好ましい。
【0044】前述した下塗層の被覆は、所望によって界
面活性剤の存在下に、水性コロイド分散液から行うのが
好ましい。
【0045】本発明との関連における好ましい例によれ
ば、少なくとも二つの親水性層の前記パッケージの最上
親水性層と感光性層の間にカチオン基を有する有機化合
物の中間層を設ける。結果としてかかるジアゾベース像
形成材料の淡水による現像が改良される。
【0046】中間層中で使用するためのカチオン基を有
する有機化合物は、親水性であるのが好ましく、低分子
量化合物であることができるが、重合体であるのが好ま
しい。好ましい化合物は、一つ以上のアンモニウム基又
は酸性媒体中でアンモニウム基に変換できるアミノ基を
有するものである。特に好ましいカチオン化合物の種類
は、アンモニウム又はアミノ基を含有する一つ以上の基
で変性されたポリサッカライドである。
【0047】カチオン基を有する最も好ましい有機化合
物には、デキストラン又はプルランであり、この場合デ
キストラン又はプルランのヒドロキシル基の少なくとも
幾らかが下記の基の一つ以上に変性されている:
【0048】−O−R1 −O−CO−R2
【0049】式中R1 はアミノ基又はアンモニウム基を
含有する有機残基、例えばアミン置換アルキル基、アミ
ン置換アルキルアリール基等を表す。R2 はR1 につい
て前述した意義の一つを有する、又は−OR3 もしくは
−N(R4 )R5 を表す、R3 はR1 について前述した
意義の一つを有し、R4 及びR5 の各々は同じであって
も異なってもよく、R1 について前述した意義の一つを
有する。
【0050】本発明により使用できるデキストラン又は
プルランの例には、ヒドロキシル基の幾らかが下表1に
示す基の一つで変性されているデキストラン又はプルラ
ンである。
【0051】 表 1 No. 変 性 基 1 -O-CH2-CH2-NH2 2 -O-CO-NH-CH2-CH2-NH2 3 -O-CO-NH-CH2-CH2-N(CH2-CH2-NH2)2 4 -O-CH2-CH2-NH-CH2-CH2-NH2 5 -O-CH2-CH2-NH-CH2-CHOH-CH2-N+(CH3)3Cl- 6 -O-(CH2-CH2-O)n-CH2-CH2-NH2 (nは1〜50の整数を表す) 7 -O-CO-NH-CH2-CH2-NH-CH2-CHOH-CH2-N+(CH3)3Cl- 8 -O-CH2-CH2-N(CH2-CH3)2 .HCl 9 -O-CH2-CH2-N(CH2-CH2-NH2)2 10 -O-CONH-CH2-CH2-N(CH2-CH2-NH2)2 11 -O-CONH-(CH2-CH2-O)n-CH2-CH2-NH2
【0052】変性デキストラン又はプルランは、デキス
トランの例えばアルキル化剤、クロロホルメート、酸ハ
ライド、カルボン酸等との反応によって製造できる。
【0053】一つ以上のカチオン基を有する有機化合物
を含有する中間層は、5〜500mg/m2 の量で設け
るのが好ましく、10〜200mg/m2 の量が更に好
ましい。
【0054】本発明との関連において像形成剤は、有利
には水溶性染料、例えばローダミン、スーダンブルー、
メチレンブルー、エオシン又はトリフェニルメタン染料
例えばクリスタルバイオレット、ビクトリアピュアブル
ー、マラカイトグリーン、メチルバイオレット及びフク
シン又は染料顔料を含有する。これらの着色剤は感光性
層及び/又は硬化した親水性層中に混入できる。
【0055】本発明による像形成材料から平版印刷版を
得るため、前記像形成材料は、像に従って露光し、続い
て水性液、好ましくは淡水ですすぎ又は洗浄して、像形
成材料の非露光部分又は不充分に露光された部分中のジ
アゾ樹脂又はジアゾニウム塩を除去する。
【0056】本発明で使用する像形成材料の露光は、有
利には、所望によっては250〜500nmの波長範囲
での青色光と組合せて、紫外光を用いて行う。有用露光
源には、例えば1000Wの、高圧又は中圧ハロゲン水
銀蒸気ランプがある。殆どの平版印刷はオフセット法に
よって行われるから、像形成材料は、その上に得られる
像が正しい読み取りができるような方法で露光するのが
好ましい。露光は受光器を用いる露光又は接触露光であ
ることができる。
【0057】ジアゾ樹脂又はジアゾニウム塩は、露光し
たとき、水溶性から水不溶性に変換され(ジアゾニウム
基の破壊による)、そして更にジアゾの光分解生成物
が、重合体結合剤又はジアゾ樹脂の架橋レベルの発達を
誘起でき、これによって像パターンで表面を水溶性から
水不溶性に選択的に変換する。非露光領域は変化しない
まま、即水溶性のままで残る。
【0058】下記実施例は本発明を示すが、これらに限
定するものではない。百分率は他に特記せぬ限り重量に
よる。
【0059】実施例
【0060】平版印刷基体A〜Eの製造 平版印刷基体として、親水性層で被覆した支持体を考え
る。
【0061】親水性層1の製造 脱イオン水中に21.5%のTiO2 (平均粒度0.3
〜0.5μm)及び2.57%のポリビニルアルコール
を含有する分散液440gに、水中の加水分解した23
%テトラメチルオルソシリケート乳濁液200gを加え
た。
【0062】この混合物に442gの脱イオン水を加
え、pHを4に調整した。平版印刷基体Eの製造におい
ては、脱イオン水を湿潤剤の10%溶液12gで置換し
た。
【0063】親水性層2の製造 脱イオン水中に21.5%のTiO2 (平均粒度0.3
〜0.5μm)及び2.57%のポリビニルアルコール
を含有する分散液440gに、撹拌しつつ続けて水中5
%のポリビニルアルコール溶液250g及び水中の加水
分解した23%テトラメチルオルソシリケート乳濁液1
05g及び湿潤剤の10%溶液12gを加えた。この混
合物に脱イオン水192gを加え、pHを4に調整し
た。
【0064】得られた分散液を単一層として(親水性基
体A及びD)又はパッケージとして(平版印刷基体B,
C及びD)(親水性層2がかかるパッケージの上層であ
る)、厚さ275μm(382g/m2 )を有するポリ
エチレンテレフタレートフィルム支持体上にスライドホ
ッパーによって、50μm/m2 の湿潤被覆厚さに被覆
し、30℃で乾燥し、続いてそれを57℃で1週間曝し
て硬化した。平版印刷基体の各々の組成を表2に示す。
【0065】
【0066】註: a)PVOH:ポリビニルアルコール b)SiO2 :SiO2 として表示して加水分解された
テトラメチルオルソシリケートの量
【0067】これらの基体各々に、更に Dormacid ( P
feifer & Langen から入手できるジエチルアミノエチ
ル基で変性したデキストラン)及びカチオン湿潤剤のp
H5の水性溶液を適用し、1m2 について Dormacid 3
0mgの乾燥被覆厚さにした。
【0068】得られた材料を1週間57℃で加熱した。
【0069】像形成材料AA〜EEの製造 像形成材料は、下記感光性組成物を作り、それを前述し
た対応する平版印刷基体(平版印刷基体Aが像形成材料
AAを生ずる等のようにして)に35g/m2の量(湿
潤被覆量)で被覆し、それを30℃で乾燥した。
【0070】感光性被覆の製造 脱イオン水中のセチルトリメチルアンモニウムブロマイ
ドで安定化したポリメチルメタクリレート(40nmの
平均直径)の20%溶液の63gに、撹拌しながら、水
中の98%加水分解したポリビニルアセテート( Wacke
r から入手できる POLYVIOL W48/20 )の5%溶液12
0g及び水中のヘリゲンブルー( BASF)の10%溶液
15gを続けて加えた。次に水中のホルムアルデヒドと
ジフェニルアミンジアゾニウム塩の縮合生成物の15%
溶液66gを徐々に加えた。最後に水中のカチオン弗素
含有界面活性剤(3Mから入手できる Fluorad FC135
)の1.6%溶液30g及び水726gを加えた。
【0071】像形成材料の最初のセットを、それぞれ7
0cmの間隔で、1000Wの高圧ハロゲン水銀蒸気ラ
ンプに90秒間試験標的を通して露光した。
【0072】続いて像形成材料を淡水で洗って現像し、
普通に使用されるインク及びファンテン溶液を用いて行
うオフセット印刷機で印刷するために使用した。像形成
材料AA〜DDから、良好(AA)から優秀(BB,C
C及びDD)な印刷結果を有する15000枚のコピー
を印刷することができた。像形成材料EEからは全面的
かぶりのため印刷はできなかった。従って理由は、前記
像形成材料を用いると、感光性組成物が、前記像形成材
料の非露光領域でさえも、平版印刷基体からもはや除去
できないことにある、何故なら、加水分解されたテトラ
アルキルオルソシリケート(二酸化ケイ素として表示す
る)に対するポリビニルアルコールの親水性層1中の低
い重量比のためである。
【0073】更にそれぞれ像形成材料AA,BB,CC
及びDDの12cm×19cmの片を、水で飽和させ、
次に幅2.5cmを有するブラシと接触状態にし、続い
てブラシを、前記片を20cmの接触長にわたって接触
させる間に動かした。試験片に、この操作の100連続
サイクル行い、次いで乾燥した。
【0074】次に平版印刷基体中の孔の数を、像形成材
料AA,BB,CC及びDDの各片について計算した。
前記数は、同じ像形成材料を像に従って露光し、それを
現像し、それを普通使用されるインク及びファンテンイ
ンクを用いて行うオフセット印刷機で印刷するために使
用することによって得られた印刷版の非印刷領域での印
刷斑点の数と相関ることが実験的に証明された。結果を
表3に示す。
【0075】
【0076】評価:加水分解されたテトラアルキルオル
ソシリケート(二酸化ケイ素として表示する)に対する
ポリビニルアルコールの親水性層中での重量比0.62
を有する唯一つの親水性層を含む像形成材料EEは、前
記像形成材料が淡水によって処理できないため、印刷版
の製造のためには好適でないことが証明された。更に表
3の結果から、加水分解されたテトラアルキルオルソシ
リケート(二酸化ケイ素として表示する)に対するポリ
ビニルアルコールの親水性層中での重量比2.5を有す
る唯一つの親水性層を含有する像形成材料AA(比較材
料)は、最上親水性層が、加水分解されたテトラアルキ
ルオルソシリケート(二酸化ケイ素として表示する)に
対するポリビニルアルコールの重量比2.5を有し、下
にある層が0.62を有する二つの親水性層のパッケー
ジを含む像形成材料BB,CC,及びDD(本発明によ
る像形成材料)よりも多くの物理的損傷を受けることが
証明されたことは明らかである。像形成材料BB,CC
及びDDは親水性層のパッケージの同じ厚さを有する
が、それぞれ親水性層1と親水性層2の厚さにおいて異
なる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 G03F 7/11 G03F 7/11 501 501 (72)発明者 ジョアン・ヴェルメールシュ ベルギー国モートゼール、セプテストラー ト 27 アグファ・ゲヴェルト・ナームロ ゼ・ベンノートチャップ内 (72)発明者 エリク・ヴェルシュラン ベルギー国モートゼール、セプテストラー ト 27 アグファ・ゲヴェルト・ナームロ ゼ・ベンノートチャップ内 (72)発明者 ディル・コックランベール ベルギー国モートゼール、セプテストラー ト 27 アグファ・ゲヴェルト・ナームロ ゼ・ベンノートチャップ内 (72)発明者 ワン・コルタン ベルギー国モートゼール、セプテストラー ト 27 アグファ・ゲヴェルト・ナームロ ゼ・ベンノートチャップ内

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 次の順序で、それぞれが親水性(共)重
    合体又は(共)重合体混合物を含有し、加水分解された
    テトラアルキルオルソシリケートで硬化されており、相
    互に水透過性接触している少なくとも二つの親水性層の
    パッケージ及びジアゾ樹脂又はジアゾニウム塩を含有す
    る感光性層を支持体上に含む像形成材料において、前記
    加水分解されたテトラアルキルオルソシリケート(二酸
    化ケイ素として表示する)に対する前記親水性(共)重
    合体又は(共)重合体混合物の前記パッケージの最上層
    中での重量比が、少なくとも1.1であり、前記加水分
    解されたテトラアルキルオルソシリケート(二酸化ケイ
    素として表示する)に対する前記親水性(共)重合体又
    は(共)重合体混合物の前記パッケージの下にある層中
    での重量比が0.9以下であることを特徴とする像形成
    材料。
  2. 【請求項2】 加水分解されたテトラアルキルオルソシ
    リケート(二酸化ケイ素として表示する)に対する親水
    性(共)重合体又は(共)重合体混合物の前記パッケー
    ジの最上層中での前記重量比が、少なくとも1.5であ
    ることを特徴とする請求項1の像形成材料。
  3. 【請求項3】 加水分解されたテトラアルキルオルソシ
    リケート(二酸化ケイ素として表示する)に対する親水
    性(共)重合体又は(共)重合体混合物の前記パッケー
    ジの下にある層中での前記重量比が0.75以下である
    ことを特徴とする請求項1又は2の像形成材料。
  4. 【請求項4】 少なくとも二つの親水性層の前記パッケ
    ージが、0.2g/m2 〜20g/m2 の量で親水性
    (共)重合体又は(共)重合体混合物を含有することを
    特徴とする請求項1〜3のいずれか1項の像形成材料。
  5. 【請求項5】 前記パッケージの前記下にある層の厚さ
    に対する前記パッケージの前記最上親水性層の厚さの比
    が0.1〜10で変化することを特徴とする請求項1〜
    4のいずれか1項の像形成材料。
  6. 【請求項6】 前記パッケージの前記最上層中の親水性
    (共)重合体又は(共)重合体混合物の量が0.1g/
    2 〜18g/m2 で変化することを特徴とする請求項
    1〜5の何れか1項の像形成材料。
  7. 【請求項7】 前記パッケージの前記下にある層中の親
    水性(共)重合体又は(共)重合体混合物の量が0.0
    1g/m2 〜7.5g/m2 で変換することを特徴とす
    る請求項1〜6の何れか1項の像形成材料。
  8. 【請求項8】 少なくとも二つの親水性層の前記パッケ
    ージと前記感光性層の間に、カチオン基を有する有機化
    合物を含有する中間層を設けてあることを特徴とする請
    求項1〜7の何れか1項の像形成材料。
  9. 【請求項9】 前記感光性層が、親水性結合剤として少
    なくとも95重量%の程度まで加水分解されたポリビニ
    ルアセテートを含有し、更にカチオン弗素含有界面活性
    剤を含有することを特徴とする請求項1〜8の何れか1
    項の像形成材料。
  10. 【請求項10】 請求項1〜9の何れか1項に規定した
    像形成材料を像に従って露光する工程及びかくして得ら
    れた像に従って露光した像形成材料を水性液体で洗浄す
    ることによって現像する工程を含むことを特徴とする平
    版印刷版の製造方法。
JP8050957A 1995-02-15 1996-02-13 物理的損傷に対する改良された抵抗性を有するジアゾベースの像形成材料 Pending JPH08272088A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE95200360.6 1995-02-15
EP95200360A EP0727714B1 (en) 1995-02-15 1995-02-15 A diazo based imaging element having improved resistance against physical damage

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH08272088A true JPH08272088A (ja) 1996-10-18

Family

ID=8220015

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP8050957A Pending JPH08272088A (ja) 1995-02-15 1996-02-13 物理的損傷に対する改良された抵抗性を有するジアゾベースの像形成材料

Country Status (4)

Country Link
US (1) US5663031A (ja)
EP (1) EP0727714B1 (ja)
JP (1) JPH08272088A (ja)
DE (1) DE69504951T2 (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1629977A2 (en) 2004-08-31 2006-03-01 Fuji Photo Film Co., Ltd. Lithographic printing plate precursor and printing process
EP1630602A2 (en) 2004-08-31 2006-03-01 Fuji Photo Film Co., Ltd. Polymerizable composition, hydrophilic film formed by curing said composition and planographic printing plate precursor
EP1707352A1 (en) 2005-03-31 2006-10-04 Fuji Photo Film Co., Ltd. Method of producing a planographic printing plate

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0830941B1 (en) * 1996-09-18 2003-07-02 Agfa-Gevaert A heat mode recording material and method for producing driographic printing plates
EP0830940B1 (en) * 1996-09-18 2002-07-24 Agfa-Gevaert A heat mode recording material and method for producing driographic printing plates
GB9700882D0 (en) * 1997-01-17 1997-03-05 Horsell Graphic Ind Ltd Lithographic plate precursor
US6136425A (en) * 1997-03-17 2000-10-24 Konica Corporation Support for printing material, printing material employing the same and manufacturing method thereof
US6114089A (en) * 1997-04-08 2000-09-05 Fuji Photo Film Co., Ltd. Positive working photosensitive lithographic printing plate
DE19847616C2 (de) * 1998-10-15 2001-05-10 Kodak Polychrome Graphics Gmbh Polyvinylacetale mit Imidogruppen sowie die Verwendung derselben in lichtempfindlichen Zusammensetzungen
US6558873B1 (en) 1999-10-05 2003-05-06 Fuji Photo Film Co., Ltd. Lithographic printing plate precursor

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4970133A (en) * 1987-10-27 1990-11-13 Agfa-Gevaert, N.V. Presensitized imaging element suitable for use as a lithographic printing plate with single hydrophilic layer which includes a light-sensitive diazonium salt and tetraalkyl orthosilicate cross-linking agent
DE69325893T2 (de) * 1993-04-05 2000-04-20 Agfa Gevaert Nv Lithographischer Träger und Verfahren zur Herstellung einer lithographischen Druckform
EP0620502B1 (en) * 1993-04-05 1999-03-17 Agfa-Gevaert N.V. A lithographic base and a method for making a lithographic printing plate therewith
DE69323997T2 (de) * 1993-04-05 1999-10-14 Agfa Gevaert Nv Lithographischer Träger und Verfahren zur Herstellung einer lithographischen Druckform

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1629977A2 (en) 2004-08-31 2006-03-01 Fuji Photo Film Co., Ltd. Lithographic printing plate precursor and printing process
EP1630602A2 (en) 2004-08-31 2006-03-01 Fuji Photo Film Co., Ltd. Polymerizable composition, hydrophilic film formed by curing said composition and planographic printing plate precursor
EP1707352A1 (en) 2005-03-31 2006-10-04 Fuji Photo Film Co., Ltd. Method of producing a planographic printing plate

Also Published As

Publication number Publication date
US5663031A (en) 1997-09-02
EP0727714B1 (en) 1998-09-23
DE69504951D1 (de) 1998-10-29
EP0727714A1 (en) 1996-08-21
DE69504951T2 (de) 1999-04-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3346866B2 (ja) 水現像性ジアゾ基材平版印刷版
US5462833A (en) Lithographic base and a method for making a lithographic printing plate therewith
JP3381207B2 (ja) リトグラフベースおよびそれを用いてリトグラフ印刷板を製造する方法
JP3381209B2 (ja) リトグラフベースおよびそれを用いてリトグラフ印刷板を製造する方法
JPH0519460A (ja) 水現像しうるジアゾベース平版印刷版
US5714300A (en) Diazo based imaging element having improved storage stability
JPH08272088A (ja) 物理的損傷に対する改良された抵抗性を有するジアゾベースの像形成材料
EP0631189B1 (en) Improvement of the storage stability of a diazo-based imaging element for making a printing plate
US5402725A (en) Lithographic base with a modified dextran or pullulan hydrophilic layer
JP3417672B2 (ja) 印刷版製造のためのジアゾベース像形成材料の貯蔵安定性の改良
JPH0272A (ja) 石版印刷版として使用するのに好適なプレセンシタイズド像形成材料
EP0768172B1 (en) On press development of a diazo based printing plate
EP0634697B1 (en) A diazo based imaging element having improved storage stability
EP0738931B1 (en) A diazo based imaging element comprising metal-free phtalocyanine as pigment
JP2905159B2 (ja) ジアゾをベースとした印刷版の印刷機上での現像
US5753403A (en) Diazo based imaging element containing hydrolysed polyvinyl alcohol and metal-free phthalocyanine
EP0737894B1 (en) A diazo based imaging element having improved storage stability
US5776653A (en) On the press development of a diazo based printing plate
US5922511A (en) On the press development of a diazo based printing plate