ATE356374T1 - Verfahren zur herstellung von strukturen auf nanomassstab in lichtaushärtbaren zusammensetzungen mit einem elektrischen feld - Google Patents

Verfahren zur herstellung von strukturen auf nanomassstab in lichtaushärtbaren zusammensetzungen mit einem elektrischen feld

Info

Publication number
ATE356374T1
ATE356374T1 AT02808354T AT02808354T ATE356374T1 AT E356374 T1 ATE356374 T1 AT E356374T1 AT 02808354 T AT02808354 T AT 02808354T AT 02808354 T AT02808354 T AT 02808354T AT E356374 T1 ATE356374 T1 AT E356374T1
Authority
AT
Austria
Prior art keywords
template
polymerizable composition
substrate
nanom
producing
Prior art date
Application number
AT02808354T
Other languages
German (de)
English (en)
Inventor
C Grant Willson
S V Sreenivasan
Roger T Bonnecaze
Original Assignee
Univ Texas
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Univ Texas filed Critical Univ Texas
Application granted granted Critical
Publication of ATE356374T1 publication Critical patent/ATE356374T1/de

Links

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B82—NANOTECHNOLOGY
    • B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
    • B82Y10/00—Nanotechnology for information processing, storage or transmission, e.g. quantum computing or single electron logic
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B82—NANOTECHNOLOGY
    • B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
    • B82Y40/00—Manufacture or treatment of nanostructures
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0002—Lithographic processes using patterning methods other than those involving the exposure to radiation, e.g. by stamping

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Nanotechnology (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Theoretical Computer Science (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)
  • Casting Or Compression Moulding Of Plastics Or The Like (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
  • Moulding By Coating Moulds (AREA)
AT02808354T 2001-05-16 2002-05-16 Verfahren zur herstellung von strukturen auf nanomassstab in lichtaushärtbaren zusammensetzungen mit einem elektrischen feld ATE356374T1 (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US29166401P 2001-05-16 2001-05-16

Publications (1)

Publication Number Publication Date
ATE356374T1 true ATE356374T1 (de) 2007-03-15

Family

ID=32710708

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
AT02808354T ATE356374T1 (de) 2001-05-16 2002-05-16 Verfahren zur herstellung von strukturen auf nanomassstab in lichtaushärtbaren zusammensetzungen mit einem elektrischen feld

Country Status (7)

Country Link
EP (1) EP1512048B1 (cg-RX-API-DMAC10.html)
JP (1) JP2005520220A (cg-RX-API-DMAC10.html)
CN (1) CN1729428A (cg-RX-API-DMAC10.html)
AT (1) ATE356374T1 (cg-RX-API-DMAC10.html)
AU (1) AU2002368430A1 (cg-RX-API-DMAC10.html)
DE (1) DE60218755T2 (cg-RX-API-DMAC10.html)
WO (1) WO2004063815A2 (cg-RX-API-DMAC10.html)

Families Citing this family (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
MY144124A (en) * 2002-07-11 2011-08-15 Molecular Imprints Inc Step and repeat imprint lithography systems
US7077992B2 (en) 2002-07-11 2006-07-18 Molecular Imprints, Inc. Step and repeat imprint lithography processes
US6871558B2 (en) 2002-12-12 2005-03-29 Molecular Imprints, Inc. Method for determining characteristics of substrate employing fluid geometries
US7122079B2 (en) 2004-02-27 2006-10-17 Molecular Imprints, Inc. Composition for an etching mask comprising a silicon-containing material
US7654816B2 (en) * 2004-10-07 2010-02-02 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Lithographic mask alignment
CN100395121C (zh) * 2004-11-19 2008-06-18 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 热压印方法
JP4742665B2 (ja) * 2005-04-28 2011-08-10 旭硝子株式会社 エッチング処理された処理基板の製造方法
JP4736522B2 (ja) * 2005-04-28 2011-07-27 旭硝子株式会社 エッチング処理された処理基板の製造方法
JP5002211B2 (ja) * 2005-08-12 2012-08-15 キヤノン株式会社 インプリント装置およびインプリント方法
JP5268239B2 (ja) * 2005-10-18 2013-08-21 キヤノン株式会社 パターン形成装置、パターン形成方法
DE102006007800B3 (de) * 2006-02-20 2007-10-04 MAX-PLANCK-Gesellschaft zur Förderung der Wissenschaften e.V. Strukturierungsverfahren und Bauteil mit einer strukturierten Oberfläche
CN101496106A (zh) * 2006-07-28 2009-07-29 国际商业机器公司 用于使聚合物层的表面图案化的器件和方法
KR101322133B1 (ko) * 2006-11-24 2013-10-25 엘지디스플레이 주식회사 임프린트 리소그래피용 스탬프 및 이를 이용한 임프린트리소그래피 방법
CN101446762B (zh) * 2008-12-31 2011-07-27 西安交通大学 非接触式模板约束下的电场诱导微复型方法
CN102253435A (zh) * 2011-07-11 2011-11-23 西安交通大学 一种利用电场诱导制造聚合物柱面微透镜的微加工方法
JP5328869B2 (ja) * 2011-10-21 2013-10-30 東芝機械株式会社 転写用の型の製造方法
JP6273860B2 (ja) * 2014-01-27 2018-02-07 大日本印刷株式会社 インプリントモールド及び半導体デバイスの製造方法
JP6980478B2 (ja) * 2017-09-29 2021-12-15 キヤノン株式会社 インプリント装置、インプリント方法および物品の製造方法
NL2021092B1 (en) * 2018-06-08 2019-12-13 Qlayers Holding B V Application of a coating on a base structure
CN109188862A (zh) 2018-10-11 2019-01-11 京东方科技集团股份有限公司 压印结构及其制造方法、压印模板

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
IT1068535B (it) * 1975-11-03 1985-03-21 Ibm Apparecchio e processo elettrolito grafico
WO2000021689A1 (en) * 1998-10-09 2000-04-20 The Trustees Of Princeton University Microscale patterning and articles formed thereby
CA2395760A1 (en) * 1999-12-23 2001-06-28 University Of Massachusetts Methods and apparatus for forming submicron patterns on films

Also Published As

Publication number Publication date
AU2002368430A1 (en) 2004-08-10
WO2004063815A2 (en) 2004-07-29
CN1729428A (zh) 2006-02-01
JP2005520220A (ja) 2005-07-07
EP1512048A2 (en) 2005-03-09
WO2004063815A3 (en) 2004-12-29
EP1512048B1 (en) 2007-03-07
DE60218755T2 (de) 2007-11-15
DE60218755D1 (de) 2007-04-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE60218755D1 (de) Verfahren zur herstellung von strukturen auf nanomassstab in lichtaushärtbaren zusammensetzungen mit einem elektrischen feld
ATE236208T1 (de) Verfahren zur herstellung von perlpolymerisaten
ATE261337T1 (de) Verfahren zur herstellung von morphologisch einheitlichen mikro- und nanopartikeln mittels eines mikromischers
DE59914360D1 (de) Verfahren zur herstellung von leiterbahnstrukturen
ATE499691T1 (de) Polymercompound mit nichtlinearer strom-spannungs-kennlinie und verfahren zur herstellung eines polymercompounds
ATE294648T1 (de) Verfahren zur herstellung von submikron mustern auf filmen
ATE228939T1 (de) Die herstellung von mikrostrukturen zur verwendung in tests
DE50200184D1 (de) Verfahren zur Herstellung eines Kunststoffteils und Dentalrestaurationsteil
ATE309556T1 (de) Verfahren zur erzeugung einer monoschicht von teilchen und damit hergestellte produkte
ATE275441T1 (de) Verfahren zur herstellung eines mikrostrukturierten oberflächenreliefs durch prägen thixotroper schichten und mikrostrukturiertes oberflächenrelief
ATE388123T1 (de) Verfahren und vorrichtung zur herstellung von kohlenstoffnanostrukturen
ATE303209T1 (de) Verfahren zur automatischen flächenbehandlung
DE50308893D1 (de) Verfahren zur herstellung vollkeramischer zahnteile mit vorbestimmter raumform mittels elektrophorese
DE50206980D1 (de) Verfahren zur Herstellung von Bahnförmigen Materialien mit Oberflächenstruktur, und Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens
ATE293632T1 (de) Verfahren zur herstellung von alkylverbrückten ligandsystemen und übergangsmetallverbindungen
DE59712975D1 (de) Verfahren zum herstellen einer elektromagnetisch abschirmenden dichtung
DE60012993D1 (de) Körper aus vernetztem, vormals pastösem material, welcher eine elektrisch leitfähige bahn enthält, sowie verfahren zu dessen herstellung
DE69913132D1 (de) Verfahren und vorrichtung zur herstellung eines dünnwandigen artikels
ATE230751T1 (de) Verfahren zur herstellung von epothilon b und derivaten davon
ATE28413T1 (de) Verfahren und vorrichtung zur herstellung einer zwei- oder mehrfarbigen lackierung.
ATE417741T1 (de) Mittels teilchenstrahlverarbeitungsvorrichtung behandelbare materialien, verfahren zur herstellung, und verpackung
ATE271100T1 (de) Zusammensetzung und verfahren zur herstellung von substraten durch pulverformverfahren und damit hergestellte substrate
DE102012200878B4 (de) Verfahren und Vorrichtung zum Erzeugen von Plasmapulsen
TW200514626A (en) Method and system for fabricating nanoscale patterns in light curable compositions using an electric field
ATE227442T1 (de) Fotoempfindliche paste, damit hergestelltes plasmaanzeigetafelsubstrat und verfahren zur herstellung des substrats

Legal Events

Date Code Title Description
RER Ceased as to paragraph 5 lit. 3 law introducing patent treaties