AT511526A1

AT511526A1 - Kristallinklusionen

Info

Publication number: AT511526A1
Application number: AT7022011A
Authority: AT
Original assignee: Pact Technologies Consulting & Trading Gmbh
Priority date: 2011-05-17
Filing date: 2011-05-17
Publication date: 2012-12-15
Also published as: WO2012156349A3; WO2012156349A2

Abstract

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung von Gegenständen, wobei Objekte in Gießharz eingegossen werden, dadurch gekennzeichnet, dass ein an einer Seite offener Gießbehälter vorgesehen wird, in dem Gießbehälter die Objekte angeordnet werden , der Gießbehälter mit dem Gießharz gefüllt wird, der Gießbehälter mit einer Abdeckplatte verschlossen wird, das Gießharz gehärtet oder die Härtung abgewartet wird, wobei gegebenenfalls die Randabschnitte, die Abdeckplatte und die den Gießbehälter nach unten verschließende Bodenplatte sowie die Seitenwände vom Gegenstand entfernt werden.

Description

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Kristallinklusionen

Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung von Gegenständen, wobei Objekte in Gießharz eingegossen werden, sowie einem danach hergestellten Gegenstand.

Das Einlagern von geschliffenen Glaskristallen in PMMA (Poly-Methylmethacrylat) durch Verwalzen von zwei PMMA Platten, wobei die Glaskristalle zwischen den beiden Platten angeordnet sind, ist aus EP 2 138 303 A1 bekannt.

Die US 2003 01 13 485 beschreibt ebenfalls die Einlagerung von dekorativen Objekten in PMMA durch Verwalzen zweier PMMA Platten.

Die EP 0 403 444 offenbart die Einbettung von dekorativen Objekten aus Glas in verschiedene Kunststoffe. Hierzu wird das dekorative Objekt in einen Container mit mindestens einer durchsichtigen Fläche angeordnet und anschließend der Container mit z.B. Acryl/Urethan-Monomeren, Methacryl/Urethan-Monomeren, Acryl-Monomeren, Methacryl-Monomeren, Silicon-Monomeren, Styrol-Monomeren etc ausgegossen und unter einem Druck von 1-3 bar vernetzt. Es werden nur Container mit einer oder zwei durchsichtigen Flächen verwendet. PCT/DE 0100132 beschreibt eine Mehrfachscheibe, wobei mindestens zwei Scheiben mit einem Abstand angeordnet sind und eine Verbindungseinrichtung die Scheiben verbindet. Zwischen den Scheiben sind Objekte aus Glas angeordnet. Die Scheiben sind aus Glas, Polycarbonat oder Acrylat ausgewählt. Der Zwischenraum wird mit einem durchsichtigen, fließfähigen Kleber, insbesondere einem Polyurethankleber ausgegossen.

Das Dokument EP 2 138 303 stellt den nächstliegenden Stand der Technik dar, da es dasselbe technische Gebiet betrifft, nämlich die Einlagerung von Objekten, z.B. von geschliffenen Glaskristallen in PMMA und somit das Erzielen von klaren Produkten. EP 2 138 303 wendet hierzu das Verwalzen zweier PMMA Platten an, wobei sich insbesondere im Berührungsbereich der beiden Platten in der ummittelbaren Nähe des Objekts Lufteinschlüsse bilden. EP 2 138 303 schlägt zur Verringerung dieser

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Lufteinschlüsse vor, vor dem Erhitzen in die Kunststoffplatte Ausnehmungen mit einer Fräse einzufräsen oder mit einem Prägestempel einzustempeln. In diese Ausnehmungen werden die Objekte eingebettet. Die Lufteinschlüsse können auch mit diesem sehr aufwendigen Verfahren nicht komplett verhindert werden. Außerdem können nur PMMA Produkte mit ebenen Flächen ohne Wölbungen mittels Verpressen hergestellt werden und die eingebetteten Objekte dürfen nur eine geringe Höhe orthogonal zur Fügefläche aufweisen.

Die Aufgabe der vorliegenden Erfindung besteht unter anderem darin, die Nachteile des Standes der Technik zu beseitigen, insbesondere soll ein Verfahren geschaffen werden, womit sich auch in gewerblichem oder industriellem Maßstab effizient dekorative Gegenstände aus durchsichtigem oder durchscheinendem Material mit darin eingebetteten Objekten, insbesondere geschliffenen Glaskristallen, herstellen lassen. Die Gegenstände sollen blasenfrei sein.

Das erfinderische Verfahren ist dadurch gekennzeichnet, dass ein an einer Seite offener Gießbehälter vorgesehen wird in dem Gießbehälter die Objekte angeordnet werden der Gießbehälter mit dem Gießharz gefüllt wird der Gießbehäiter mit einer Abdeckplatte verschlossen wird das Gießharz gehärtet oder die Härtung abgewartet wird, und danach gegebenenfalls die Randabschnitte, die Abdeckplatte und die den Gießbehälter nach unten verschließende Bodenplatte sowie die Seitenwände vom Gegenstand entfernt werden.

Weitere vorteilhafte Merkmale sind den Ansprüchen, der nachfolgenden Beschreibung und den Zeichnungen zu entnehmen.

Gemäß Erfindung wird die Einlagerung der Objekte nicht durch Verwalzen von PMMA Platten sondern durch Anordnen von Objekten in einem Behälter aus PMMA durchgeführt, weicher anschließend mit aushärtbarem Methylmethacrylat (MMA) ausgegossen wird.

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Mit dem Verfahren können die Objekte im Gegensatz zum Verwalzen überraschendenweise absolut blasenfrei in PMMA eingebettet werden.

Außerdem erlaubt das Herstellungsverfahren überraschendenweise die Produktion von blasenfreien PMMA Produkten mit Inklusionen in jeglicher Form sowie auch von großflächigen Platten, das heißt bis zu mehreren Quadratmetern Oberfläche. Die flüssige Gießmasse umschließt komplett die Objekte und es bleiben keine Hohlräume. Außerdem erlaubt das neue Herstellungsverfahren auch die Einlagerung voluminöser Objekte.

Mit dem erfindungsgemäßen Verfahren können blasenfreie Produkte aus PMMA mit allen möglichen Formen hergestellt werden, welche Inklusionen aller möglicher Größen und Formen enthalten können.

Bevorzugt wird das Gießharz vor dem Eingießen entgast, welches bekanntlich durch Anlegen eines Vakuums oder durch längeres Stehenlassen geschehen kann.

Die Aushärtung des Gießharzes erfolgt beispielsweise mittels UV-Strahlung.

Besonders geeignet sind Gießharze, die MMA und PMMA in Mischungen enthalten. Damit kann die Blasenbildung beim Aushärten (sogenannte Kocher) reduziert werden. Vorzugsweise wird ein Gießharz mit einem Verhältnis PMMA zu MMA <2:1 eingesetzt.

Als UV-lnitiatorfürdie UV-Vemetzung eignet sich 2,2 Diethoxyacetophenon. Besonders klare PMMA Produkte werden erhalten, wenn die Menge an 2,2 Diethoxyacetophenon 0.01 bis 4.0 Gew-%, bevorzugt 0.1-2.0 Gew-% und insbesondere bevorzugt von 0.2-1.0 Gew-% beträgt. Diethoxyacetophenon ist gelblich, so dass eine möglichst geringe Menge vorteilhaft ist, wenn man klare PMMA Produkte hersteilen möchte. Zusätzlich wurde überraschenderweise gefunden, dass je kleiner die eingesetzte Menge an UV-Initiator ist, desto geringer treten Kocher auf, da die Reaktionswärme geringer ist. Die Bestrahlungszeit muss aber bei geringerer Menge UV-lnitiator erhöht werden. Außerdem können durch Verringerung der Menge des UV-lnitiators die Kosten der Ausgangsmaterialien reduziert werden.

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Eine Ausführungsform ist die Verwendung eines plattenförmigen Behälters, wobei die Objekte in einer Ebene angeordnet werden. Mit dem Gießverfahren können auch Platten, deren beide Oberflächen größer als 0.5 m2 sind, problemlos hergestellt werden.

Nach dem Schritt des Eingießens des Gießharzes, aber vor dem Aushärten, wird in einer bevorzugten Ausführungsform auf dem Behälter eine Abdeckplatte aufgebracht, die auf dem Gießharz aufliegt, an der aber das ausgehärtete MMA/PMMA nicht haftet. Dadurch wird sichergestellt, dass die Oberfläche des ausgehärteten MMA/PMMA glatt ist.

Zwischen dem Behälterrand und der Abdeckplatte kann in bevorzugter Weise ein flexibler Abstandshalter angebracht werden, damit die Auflage sich an unterschiedliche Höhen des nicht ausgehärteten Gießharzes anpassen kann.

In einer bevorzugten Ausführungsform ist die Abdeckplatte aus Glas, da dann das Aushärten mittels UV-Strahlung einfacher ausgeführt werden kann.

Nach dem Aushärten wird dann in einem zusätzlichen Schritt die Abdeckplatte von dem ausgehärteten Produkt abgenommen.

Das oben beschriebene Verfahren eignet sich insbesondere zum Einlagern von mit einem Brillantschliff versehenen Glaskristallen. Es wird dabei bevorzugt ein Kristallglas verwendet, welches einen sehr hohen Bleianteil und somit einen sehr hohen Brechungsindex hat. Dieser bewirkt mit den angeschliffenen Flächen bei der Drehung der Strasssteine relativ zum Auge des Betrachters eine funkelnde Wirkung. Der Brechungsindex liegt bei sichtbarem Licht zwischen 1,9 und 2,2. Der Brechungsindex von PMMA liegt bei ca 1,49. Bettet man nun gemäß dem erfindungsgemäßem Verfahren Strasssteine in PMMA ein, so entsteht eine besondere Wirkung. Die Strasssteine sind deutlich wahrnehmbar, weil ihr Material einen höheren Brechungsindex aufweist als PMMA. Sie scheinen im Kunststoff zu schweben. Der besondere technische Effekt dieses Verfahrens ist die blasenfreie Einbettung der Strasssteine, da durch das Giessen die Strasssteine vollständig von der Gießmasse umschlossen werden.

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Da sowohl der Gießbehälter als auch die ausgehärtete Gussmasse aus PMMA hergestellt werden, ist im fertigen Produkt mit den eingebetteten Objekten der Behälter nicht mehr zu erkennen.

Das Verfahren eignet sich auch sehr gut zur Herstellung von PMMA Platten mit Inklusionen. Hierzu werden in einen Behälter aus PMMA mit niedrigen Seitenwänden die Objekte, z.B. Strasssteine, platziert und anschließend bis zum oberen Rand Gießharzmasse eingefüllt. Vorzugsweise wird vor dem Gießen der Gießharzmasse auf den Rand des Containers ein flexibler Abstandhalter, z.B. aus Tesa Moll Gummidichtung, geklebt und eine Glasplatte gelegt, die das Gießharz, welches einen Vernetzer enthält, kontaktiert. Anschließend wird mittels einer UV-Lampe das Gießharz ausgehärtet und dann die Glassplatte und der Abstandhalter entfernt. Mit diesem Verfahren lassen sich problemlos blasenfreie großflächige Platten mit bis zu mehreren m2 Oberfläche hersteilen, da die Gießmasse die Objekte vor dem Vernetzen vollständig umschließt.

Auch Objekte mit gewölbten Oberflächen können mit dem Gießverfahren blasenfrei hergestellt werden, da die Gießmasse in alle Kavitäten des Behälters eindringt.

Nachfolgend wird die Erfindung beispielhaft anhand der Zeichnungen und in einigen Versuchsbeispielen erläutert.

Die Figuren 1 bis 3 zeigen verschiedene Schritte des erfindungsgemäßen Verfahrens, wobei der dazu verwendete Gießbehälter in Schrägansicht dargestellt ist. - Fig. 4 zeigt den Gießbehälter in einer geänderten Ausführungsform. - Fig. 5 zeigt den fertigen Gegenstand nach dem Aushärten des Gießharzes. - Fig. 6 zeigt im Schnitt eine weitere Variante des Gießbehälters mit Abdeckplatte im Schnitt.

Gemäß Fig. 1 wird bei dem dargestellten Verfahren der an einer Seite offene Gießbehälter 1 vorgesehen, der aus einer Bodenplatte 2 und einem Randstreifen 3 gebildet ist. 6

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In den Gießbehälter werden die einzugießenden Objekte 4 angeordnet, was beispielsweise durch Einschütten oder Einlegen von geschliffenen Glaskristallen geschehen kann. Sobald alle Objekte eingelegt sind, wird das Gießharz 5 in den Gießbehälter 1 eingefüllt, bis dieses zum oberen Rand 6 des Gießbehälters heranreicht.

In einem nächsten Schritt wird gemäß Fig. 2 eine Abdeckplatte 7 aufgelegt, wobei die Abdeckplatte 7 in bevorzugter Weise aus Glas besteht. Das Glas haftet nicht an dem Gießharz nach dessen Aushärtung und behindert auch nicht die Aushärtung mittels UV-Strahlung. Wünschenswert bei dem Verfahren ist, dass zwischen der Abdeckplatte 7 und dem Gießbehälter mit dem eingefüllten Gießharz kein Hohlraum stehen bleibt, um eine glatte ebene Oberfläche zu gewährleisten.

Gemäß Fig, 3 wird über der Abdeckplatte 7 eine Strahlenquelle 8 angeordnet, die bevorzugt eine UV-Lampe passender Frequenz ist. Die Bestrahlung erfolgt so lange, wie es für die Aushärtung des Gießharzes notwendig ist.

Die Fig. 4 zeigt eine vorteilhafte geänderte Ausführung des Gießbehälters, der auch hier aus einem 1-stückigen Behälter aus PMMA besteht. Am oberen Rand 6 ist der Gießbehälter 1 mit einem Streifen aus elastischem Material 9 gebildet wie z.B. durch einen selbsthaftenden Schaumstoffstreifen oder Gummistreifen. Dieser Streifen aus elastischen Material erleichtert das Abdichten des Gießbehälters gegenüber der Abdeckplatte und bewirkt auch die Vermeidung von Lufträumen oder Lufteinschlüssen zwischen dem Gießharz und der Abdeckplatte. Bei leichtem Druck auf die Abdeckplatte wird das Volumen im Behälter geringfügig verkleinert, sodass etwaige Lufteinschlüsse verdrängt werden.

Die Fig. 5 zeigt schematisch den fertig gestellten ausgehärteten Gegenstand, der etwaige Grenzflächen zwischen dem Material des Gießbehälters und dem ausgehärtetem Gießharz nicht mehr erkennen lässt. Bevorzugt werden die Randabschnitte des Gegenstandes nachbearbeitet oder abgeschnitten und poliert, was insbesondere dann notwendig wird, wenn Gießharz über die oberen Ränder des Gießbehälters übergeflossen ist.

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Fig. 6 zeigt den Schnitt durch eine weitere Ausführungsform des Gießbehälters. Dieser ist dadurch gebildet, dass eine Bodenplatte 2 vorgesehen ist, auf der die Randstreifen 3 angeordnet, insbesondere aufgeklebt oder sonst wie haftend angeordnet sind. Die Bodenplatte 2 kann beispielsweise aus PMMA bestehen, sodass sie im fertigen Gegenstand verbleiben kann oder aber auch aus Glas oder ähnlichem Material gebildet sein, welches mit dem ausgehärtetem Gießharz keine Verbindung eingeht.

Die aufgesetzten Randstreifen 3 können elastisch oder teilelastisch sein, sodass der Randstreifen auch gleichzeitig am oberen Rand als Dichtleiste wirkt. Die Abdeckplatte kann wie zuvor beschrieben aus Glas bestehen.

Der Verfahrensgang ist der gleiche wie zuvor beschrieben, wobei auch hier nach dem Einfüllen der Objekte und dem Einfüllen des Gießharzes die Abdeckplatte dicht aufgelegt und das Gießharz mittels einer Strahlenquelle ausgehärtet wird. Danach kann die Abdeckplatte oder die Abdeckplatte und die Bodenplatte vom Gegenstand entfernt und die Randbereiche mit dem Randstreifen abgenommen oder spanabhebend entfernt werden.

Beispiel 1

Der Gießbehälter 1 aus PMMA wurde hergestellt, indem auf eine PMMA Platte an allen 4 Seiten ein circa 1cm hoher PMMA Rand geklebt wurde. Auf diesen PMMA Rand wurde ein flexibler Abstandhalter aus Tesa Moll 2 Gummidichtung geklebt. In die durch den Rand erzeugte Kavität wurden geschliffene Glaskristalle von der Firma Swarowski eingefüllt und anschließend wurde bis zum oberen Rand des Abstandhalters 11 kg einer mittels Vakuum entgasten MMA/PMMA Giesharzmasse von Roth (Plexit®), die 2 Gew-% 2,2-Diethoxyacetophenon als UV-lnitiator enthielt, gefüllt. Danach wurde der Container mit einer Glasplatte abgedeckt. Die Glasplatte kontaktierte hierbei die MMA/PMMA Gießharzmasse.

Die Aushärtung erfolgte mit einer Hochleistungs-UV Lampe 6000 Watt der Firma Flartmann.

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Die Glasplatte und der flexible Abstandhalter konnten problemlos vom Gegenstand abgenommen werden, da PMMA daran nicht haftet. Das erhaltene plattenförmige Produkt aus PMMA wies eine Oberfläche an beiden Seiten der Platte von 1 m2 auf und war absolut blasenfrei und durchsichtig. Die Oberfläche der Platte war völlig glatt.

Beispiel 2

Beispiel 2 wurde genauso durchgeführt wie Beispiel 1, wobei aber anstelle des Plexit® 6,4kg MMA und 4,6kg PMMA von Evonik und 2 Gew-% 2,2-Diethoxyacetophenon, bezogen auf die Gesamtmenge an MMA und PMMA, als UV-lnitiator verwendet wurden.

Die Glasplatte und der flexible Abstandhalter konnten problemlos abgenommen werden, da PMMA daran nicht haftete. Das erhaltene plattenförmige Produkt aus PMMA wies eine Oberfläche an beiden Seiten der Platte von 1 mz auf und war absolut blasenfrei und durchsichtig. Die Oberfläche der Platte war durch das Aufbringen der Glasplatte glatt.

Beispiel 3

Beispiel 3 wurde genauso durchgeführt wie Beispiel 2, wobei 0.5 Gew-% 2,2 Diethoxyacetophenon eingesetzt wurden. Durch den geringeren Anteil an UV-lnitiator entstand weniger Reaktionswärme und dadurch weniger Kocher und die PMMA Platte war noch klarer. Die Bestrahlungszeit war etwas länger im Vergleich zu 2.0 Gew-% 2,2 Diethoxyacetophenon, aber dafür können die Materialkosten durch die Kostenersparnis infolge der geringeren Menge des UV-lnitiators gesenkt werden.

Das erhaltene plattenförmige Produkt aus PMMA wies eine Oberfläche an beiden Seiten der Platte von 1 m2 auf und war absolut blasenfrei und noch klarer als in Beispiel 2. Die Oberfläche der Platte war durch das Aufbringen der Glasplatte glatt.

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Beispiel 4

Beispiel 4 wurde genauso durchgeführt wie Beispiel 3, wobei aber 0.25 Gew-% 2,2 Diethoxyacetophenon eingesetzt wurden. Durch den geringeren Anteil an UV-lnitiator entstand noch weniger Reaktionswärme und dadurch fast keine Kocher und die PMMA Platte war absolut klar. Die Bestrahlungszeit war etwas länger im Vergleich zu 0.5 Gew-% 2,2 Diethoxyacetophenon, aber dafür konnten die Materialkosten durch die Kostenersparnis infolge der geringeren Menge an UV-lnitiator noch weiter gesenkt werden.

Das erhaltene plattenförmige Produkt aus PMMA wies eine Oberfläche an beiden Seiten der Platte von 1 m2 auf und war absolut blasenfrei und klar. Die Oberfläche der Platte war durch das Aufbringen der Glasplatte glatt.

Vergleichsversuch 1 (Stand der Technik)

Vergleichsversuch mit einer Platte von 1 m2 mit Glaskristallen von Swarowski hergestellt mittels Verwalzen, wobei die Objekte in Ausnehmungen eingebettet wurden.

Das erhaltene plattenförmige Produkt aus PMMA wies eine glatte Oberfläche an beiden Seiten der Platte von 1 m2 aber viele Blasen durch Lufteinschlüsse auf, insbesondere im Berührungsbereich der beiden Platten in der ummittelbaren Nähe der Glaskristalle. Während des Verwalzungsprozesses setzte bereits die Abkühlung und damit das Erstarren der beiden zu verwalzenden Platten ein, sodass Lufteinschlüsse nicht mehr entweichen können.

Vergleichsversuch 2 (Stand der Technik)

Vergleichsversuch mit einer kleineren Platte von 0.1 m2 mit Glaskristallen von Swarowski hergestellt mittels Verwalzen, wobei die Objekte in Ausnehmungen eingebettet wurden.

Das erhaltene plattenförmige Produkt aus PMMA wies glatte Oberflächen an beiden Seiten der Platte auf, wobei die beiden Seiten jeweils eine Oberfläche von 0.1 m2 10

50222 Pe/FI/GA hatten. Die Anzahl der Blasen durch Lufteinschlüsse waren geringer als für Platten mit 1.0 m2, aber dennoch vorhanden,

Die Vergleichsversuche gemäß Stand der Technik zeigen, dass die Ergebnisse gemäß den erfindungsgemäßen Beispielen deutlich und überraschend besser waren.

Claims

• * 11 50222 Pe/FI/GA Patentansprüche 1. Verfahren zur Herstellung von Gegenständen, wobei Objekte in Gießharz eingegossen werden, dadurch gekennzeichnet, dass - ein an einer Seite offener Gießbehälter vorgesehen wird - in dem Gießbehälter die Objekte angeordnet werden - der Gießbehälter mit dem Gießharz gefüllt wird - der Gießbehälter mit einer Abdeckplatte verschlossen wird - das Gießharz gehärtet oder die Härtung abgewartet wird, wobei gegebenenfalls die Randabschnitte, die Abdeckplatte und die den Gießbehälter nach unten verschließende Bodenplatte sowie die Seitenwände vom Gegenstand entfernt werden.
2. Verfahren nach Anspruch 1 dadurch gekennzeichnet, dass der Gießbehälter durch eine Bodenplatte aus einem ersten Material und einem Randstreifen aus einem zweiten Material gebildet wird und die Abdeckplatte aus einem dritten Material besteht.
3. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass das erste und zweite Material gleich sind und Bodenplatte und Randstreifen 1-stückig ausgebildet sind.
4. Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, dass das erste und zweite Material gleich sind und der Randstreifen auf der Bodenplatte befestigt, insbesondere aufgeklebt wird.
5. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, dass das erste und zweite Material Materialplatten aus dem gehärteten Gießharz sind,
6. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, dass das erste und zweite Material aus der Verbindung PMMA (Polymethylmethacrylat) besteht oder diese Verbindung als Hauptbestandteil enthält. 12 50222 Pe/FI/GA
7. Verfahren zur Herstellung von Gegenständen nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, dass das Gießharz aus der Verbindung MMA (Methylmethacrylat) besteht oder diese Verbindung als Hauptbestandteil enthält.
8. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, dass die Aushärtung mittels UV-Strahlung erfolgt.
9. Verfahren gemäß einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, dass das Gießharz zusätzlich zu MMA auch PMMA enthält.
10. Verfahren gemäß Anspruch 9, dass das Verhältnis PMMA zu MMA £ 2:1 ist.
11. Verfahren gemäß einem der Ansprüche 1 bis 10, dadurch gekennzeichnet, dass als UV-lnitiator zum Aushärten 2-2-Diethoxyacetophenon verwendet wird.
12. Verfahren gemäß Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, dass als UV-lnitiator 0,01 bis 4,0 Gew.-%, bevorzugt 0,1 bis 2,0 Gew.-% und insbesondere bevorzugt 0,2 bis 1,0 Gew.-% des UV-lnitiators, bezogen auf die Gießharzmenge, dem Gießharz beigefügt wird.
13. Verfahren gemäß einem der Ansprüche 1 bis 12, dadurch gekennzeichnet, dass der Behälter plattenförmig ist und die Objekte in einer Ebene angeordnet werden.
14. Verfahren gemäß einem der Ansprüche 1 bis 13, dadurch gekennzeichnet, dass die Abdeckplatte aus einem Material besteht, das gegenüber dem ausgehärteten Gießharz nichthaftend ist.
15. Verfahren gemäß Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet, dass die Abdeckplatte aus Glas ist.
16. Verfahren gemäß einem der Ansprüche 1 bis 15, dadurch gekennzeichnet, dass die Abdeckplatte nach dem Aushärten des Gießharzes von dem ausgehärteten Produkt abgenommen wird. * * * » I » * « * * i . » 4 **·· I I · · · 13 50222 Pe/Fl/GA
17. Verfahren gemäß den Ansprüchen 1 bis 16, dadurch gekennzeichnet, dass die Objekte mit einem Brillantschliff versehene Glaskristalle sind.
18. Verfahren gemäß einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass zwischen dem Rand der Seitenwand und der Abdeckplatte ein elastisches Material angeordnet ist oder dass die Seitenwand aus einem elastischen Material gefertigt ist, sodass beim Druck auf die Abdeckplatte das Volumen des Behälters geringfügig verkleinerbar ist.
19. Gegenstand gemäß dem Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der Gegenstand aus ausgehärtetem PMMA und MMA gebildet ist und dass im Körper Objekte aus Glaskristallen insbesondere solche mit Brillantschliff eingebettet sind.
20. Gegenstand gemäß Anspruch 19, dadurch gekennzeichnet, dass der Gegenstand plattenförmig ist und die beiden Plattenoberflächen jeweils &0,5m2 sind.
21. Gegenstand nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der Gegenstand eine gewölbte Oberfläche aufweist. Wien, am 17. Mai 2011