AT253566B - Verfahren zur Herstellung von Halbleiterkristallen mit über den ganzen Kristall homogener oder annähernd homogener Dotierung sowie Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens - Google Patents

Verfahren zur Herstellung von Halbleiterkristallen mit über den ganzen Kristall homogener oder annähernd homogener Dotierung sowie Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens

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    • C30B25/00Single-crystal growth by chemical reaction of reactive gases, e.g. chemical vapour-deposition growth
    • C30B25/02Epitaxial-layer growth
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