AT233635B - Verfahren zum Verbessern der Haftung eines auf einem Träger befindlichen körnigen Materials mit Hilfe von Siliziumdioxyd - Google Patents
Verfahren zum Verbessern der Haftung eines auf einem Träger befindlichen körnigen Materials mit Hilfe von SiliziumdioxydInfo
- Publication number
- AT233635B AT233635B AT852461A AT852461A AT233635B AT 233635 B AT233635 B AT 233635B AT 852461 A AT852461 A AT 852461A AT 852461 A AT852461 A AT 852461A AT 233635 B AT233635 B AT 233635B
- Authority
- AT
- Austria
- Prior art keywords
- carrier
- silicon dioxide
- adhesion
- hydrolyzable silicon
- granular material
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 13
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title description 24
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 title description 12
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 title description 12
- 239000008187 granular material Substances 0.000 title description 8
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 claims description 11
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000005046 Chlorosilane Substances 0.000 claims description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 2
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 claims description 2
- -1 Silicon compound tetramethyl silicate Chemical class 0.000 claims 3
- 238000009835 boiling Methods 0.000 claims 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims 1
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000443 aerosol Substances 0.000 description 2
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N tetramethyl orthosilicate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)OC LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000589614 Pseudomonas stutzeri Species 0.000 description 1
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N chlorosilane Chemical class Cl[SiH3] KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SLLGVCUQYRMELA-UHFFFAOYSA-N chlorosilicon Chemical compound Cl[Si] SLLGVCUQYRMELA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 1
- 230000036571 hydration Effects 0.000 description 1
- 238000006703 hydration reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 1
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/02—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition
- C23C18/12—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition characterised by the deposition of inorganic material other than metallic material
- C23C18/1204—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition characterised by the deposition of inorganic material other than metallic material inorganic material, e.g. non-oxide and non-metallic such as sulfides, nitrides based compounds
- C23C18/122—Inorganic polymers, e.g. silanes, polysilazanes, polysiloxanes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/02—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition
- C23C18/12—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition characterised by the deposition of inorganic material other than metallic material
- C23C18/1204—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition characterised by the deposition of inorganic material other than metallic material inorganic material, e.g. non-oxide and non-metallic such as sulfides, nitrides based compounds
- C23C18/1208—Oxides, e.g. ceramics
- C23C18/1212—Zeolites, glasses
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Luminescent Compositions (AREA)
Description
<Desc/Clms Page number 1>
Verfahren zum Verbessern der Haftung eines auf einem Träger befindlichen körnigen Materials mit Hilfe von Siliziumdioxyd
Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zum Verbessern der Haftung eines auf einem Träger be- findlichen körnigen Materials mit Hilfe von Siliziumdioxyd, besonders zum Herstellen von Leuchtschich- ten.
In der Technik, besonders der Elektronentechnik und der Lichttechnik, müssen häufig dünne Schich- ten aus körnigem Material fest auf eine Unterlage geheftet werden. Als Beispiele seien erwähnt die Her- stellung von Leuchtschirmen für Bildwiedergaberöhren. Elektronenmikroskope, ssildverstärkerröhrchen und
Gasentladungslampen, z. B. Hochdruck-Quecksilberdampf-Entladungslampen mit einem leuchtenden
Aussenkolben. Andere Beispiele sind dünne Titandioxyd- oder Magnesiumoxydschichten als Lichtstreuer bei Photometern oder Glühlampenkolben und Graphitschichten zum Schwärzen der Innenseite der Kolben von Kathodenstrahl-Bildwiedergaberöhren.
Wie bereits gesagt, ist es sehr wichtig, dass die körnigen Materialien besonders gut an der Unterlage oder dem Träger haften. DieHaftung wird somit auf sehr verschiedenartige Weise und meist mit sehr ver- schiedenenBindemitteln erreicht. Nitrozelluloseverbindungen oder Akrylate werden, besonders. bei Katho- denstrahlröhren für Bildwiedergabe, sehr häufig verwendet. Weil es oft schwierig ist, die Haftung in einem
Arbeitsgang ausreichend fest zu machen, wurde bereits vorgeschlagen, sie zu verbessern, nachdem das körnige Material mit irgendeinem Bindemittel auf dem Träger befestigt worden ist.
Es ist z. B. bekannt, die Haftung von Leuchtmaterial, das bereits auf einem Träger befestigt ist, dadurch zu verbessern, dass der Träger mit dem aufgebrachten Leuchtmaterial mit einem Aerosol von Siliziumdioxyd in Berührung gebracht wird, der dadurch erhalten ist, dass eine organische Siliziumverbindung, z. B. Tetraäthylsilikat, verbrannt wird, wonach das sehr fein verteilte Siliziumdioxyd auf und zwischen den Körnern des Leuchtmaterials niedergeschlagen und schliesslich mit Wasser oder Alkohol hydratisiert wird. Bei dieser Hydratation ergeben sich gewisse Siliziumverbindungen in Form eines Gels, die die Haftung verbessern.
Ein grosser Nachteil dieses Verfahrens ist, dass die Dosierung der Menge an Siliziumdioxyd sehr schwierig ist, unter anderem dadurch, dass dieses in Form eines instabilen Aerosoles entsteht.
Es wurde auch bereits vorgeschlagen, die Haftung einer Leuchtschicht dadurch zu verbessern, dass Borsäure aus der Gasphase aufgebracht wird. Weil Borsäure ein Material ist, das bei niedriger Temperatur in den Dampfzustand überführbar ist, lässt sich die Leuchtschicht, wenn sie trocken ist, leicht mit Borsäure bedampfen. Nach der Aufbringung der Borsäure muss der Träger mit dem auf ihm befindlichen, mit Borsäure überzogenen Leuchtstoff auf eine Temperatur von etwa 4000C erhitzt werden. Die Borsäure kann mit Wasserdampf gemischt mit der zu bedeckenden, den Leuchtstoff tragenden Unterlage in Berührung gebracht werden.
Ein Verfahren nach der Erfindung zum Verbessern der Haftung eines auf einem Träger befindlichen körnigen Materials mit Hilfe von Siliziumdioxyd ist dadurch gekennzeichnet, dass der Träger mit der auf ihm befindlichen Kornschicht in feuchtem Zustand mit trockenem Dampf zu Siliziumdioxyd hydrolysierbarer Siliziumverbindungen behandelt und dann getrocknet wird.
DieErfindung gründet sich auf die an sich bekannte Tatsache, dass gewisse Siliziumverbindungen unter Bildung hydratisierten Siliziumdioxydes mit Wasser reagieren können. Brauchbare Siliziumverbindungen sind unter anderem Tetramethylsilikat, Tetraäthylsilikat und Chlorsilane, z. B. SiCl oderSiHCl. Die
<Desc/Clms Page number 2>
Reaktion mit Methylsilikat verläuft vermutlich auf folgende Weise
EMI2.1
EMI2.2
<Desc/Clms Page number 3>
und die Helligkeit des Leuchtschirmes beeinträchtigt werden. Manchmal ergibt sich sogar eine Verbesse- rung dieser Eigenschaften.
Gemäss einer besonderen Ausführungsform wird ein trockenes indifferentes Gas, z. B. Stickstoff oder
Luft, mit dem Dampf einer hydrolysierbaren Siliziumverbindung beladen und das erhaltene Gasgemisch mit der Kornschicht auf dem Träger in Berührung gebracht. Auf diese Weise lassen sich die Zufuhrge- schwindigkeit und die Menge der Siliziumverbindungen leicht regeln, was selbstverständlich auch einen
Einfluss auf die Siliziumdioxydmenge ausübt, die schliesslich in der Schicht als Haftmittel entsteht.
PATENTANSPRÜCHE : 1 : Verfahren zum Verbessern der Haftung eines auf einem Träger befindlichen körnigen Materials mit
Hilfe von Siliziumdioxyd, besonders zum HerstellenvonLeuchtschichten, dadurch gekennzeichnet, dass der Träger mit der auf ihm befindlichen Kornschicht in feuchtem Zustand mit trockenem Dampf zu Sili- ziumdioxyd hydrolysierbarer Siliziumverbindungen behandelt und dann getrocknet wird.
Claims (1)
- 2. Verfahren nach Anspruch l, dadurch gekennzeichnet, dass als feuchteKornschicht eine solche ver- wendet wird, die wenigstens bei Beginn der Behandlung alkalisch reagiert.3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass als hydrolysierbare Siliziumverbindung eine Verbindung mit einem Siedepunkt von weniger als 1700C verwendet wird.4. Verfahren nach Anspruch 1, 2 oder 3, dadurch gekennzeichnet, dass die zu bedeckende Schicht zunächst getrocknet und dann mit einer bestimmten Wassermenge benetzt, anschliessend der Einwirkung des trockenen Dampfes hydrolysierbarer Siliziumverbindungen ausgesetzt und schliesslich erneut getrock- net wird.5. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, dass als hydrolysierbare Siliziumverbindung Tetramethylsilikat Verwendung findet.6. Verfahren nach einem der Anspruche l bis 4, dadurch gekennzeichnet, dass als hydrolysierbare Siliziumverbindung Tetraäthylsilikat Verwendung findet.7. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, dass als hydrolysierbare Siliziumverbindungen Chlorsilane Verwendung finden.8. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die hydroly- sierbarenSiliziumverbindungen in Form eines mit einem trockenen indifferenten Gas gemischten. Dampfes mit dem zu überziehenden Träger und der auf diesem befindlichen Kornschicht in Berührung gebracht werden.
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| NL233635X | 1960-11-15 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| AT233635B true AT233635B (de) | 1964-05-25 |
Family
ID=19780119
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| AT852461A AT233635B (de) | 1960-11-15 | 1961-11-13 | Verfahren zum Verbessern der Haftung eines auf einem Träger befindlichen körnigen Materials mit Hilfe von Siliziumdioxyd |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| AT (1) | AT233635B (de) |
-
1961
- 1961-11-13 AT AT852461A patent/AT233635B/de active
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| DE3326921A1 (de) | Gruenes licht aussendende phosphoreszenzfaehige stoffe und niederdruck-quecksilberdampflampe, in der diese stoffe verwendet werden | |
| US2817599A (en) | Method of coating phosphor particles | |
| DE3855858T2 (de) | Leuchtstofflampe mit vorausbestimmtem Farbwiedergabeindex und Verfahren zur Herstellung | |
| CH638558A5 (de) | Lumineszierendes aluminat. | |
| DE720713C (de) | Verfahren zur Herstellung von Leuchtschirmen fuer elektrische Entladungsgefaesse | |
| DE3014355A1 (de) | Leuchtstoff mit erdalkalimetallsilikataluminat-grundgitter | |
| AT233635B (de) | Verfahren zum Verbessern der Haftung eines auf einem Träger befindlichen körnigen Materials mit Hilfe von Siliziumdioxyd | |
| DE69707410T2 (de) | Phosphor mit modifierter Oberflächen-Zusammensetzung und Methode zur Herstellung | |
| DE1932843A1 (de) | Elektrische Umwandlungsvorrichtung mit sphaeroidischen Leuchtstoffen | |
| DE69511490T2 (de) | Beschichtungslösung für die herstellung einer magnesiumoxidschicht und verfahren zur herstellung einer solchen schicht | |
| DE2450834C3 (de) | Verfahren zum Aluminisieren der Innenseite der Schirmwanne einer Fernsehbildröhre | |
| DE3612089A1 (de) | Verfahren zur oberflaechenbehandlung von leuchtstoffen | |
| DE903011C (de) | Verfahren zur Erzeugung einer UEberzugsschicht aus feinkoernigen Pulverstoffen auf den Glasgefaessen elektrischer Lampen | |
| DE2420192A1 (de) | Methode zum auftragen einer haftenden phosphorschicht im glaskolben von leuchtstofflampen | |
| DE2621660C3 (de) | Lithiumaluminatleuchtstoffe, aktiviert mit dreiwertigem Eisen | |
| DE1421901C (de) | Verfahren zum Verbessern der Haftung einer Schicht kornigen Materials auf einem Trager, insbesondere Glas | |
| DE2058296A1 (de) | Verfahren zur Herstellung eines Leuchtschirmes | |
| JPS5548280A (en) | Blue illuminant and its manufacture | |
| DE857734C (de) | Lumineszenzschirm und Verfahren zu seiner Herstellung | |
| DE817344C (de) | Verfahren zur Herstellung elektrischer Gluehlampen mit lichtstreuendem Innenueberzug | |
| DE1421901B2 (de) | Verfahren zum Verbessern der Haftung einer Schicht kornigen Materials auf einem Trager, insbesondere Glas | |
| DE891122C (de) | Verfahren zur Herstellung von Silikat-Leuchtstoffen | |
| DE1285649B (de) | Europium-aktivierter Yttriumvanadat-Leuchtstoff | |
| AT211919B (de) | Elektrische Gasentladungslampe mit einer Leuchtschicht | |
| AT136934B (de) | Verfahren zur Herstellung einer photoelektrischen Zelle. |