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Strahler, vorzugsweise für ultrakurze elektrische Wellen
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verschiedene Anzahlen von senkrecht : übereinander angeordneten Elementarstrahlern herbeigeführt sein, wobei die dem Mast benachbarten Elementarstrahler in grösserer Zahl vorgesehen sind als die entfernteren.
Die angeführten Vorzüge sind dadurch ohne eine unterschiedliche Leistungseinspeisung der einzelnen Elementarstrahleranordnungen herbeiführbar. so dass sich eine gleichmässige Belegung der strahlenden Fläche ergibt.
Schliesslich kann erfindungsgemäss noch eine weitere Massnahme vorgesehen werden. Es handelt sich dabei um die Anbringung zusätzlicher, vorzugsweise wieder als Richtstrahlfelder ausgebildeter Dipolreflektoranordnungen, deren Hauptstrahlrichtungen in Richtung der Winkelhalbierenden zweier benachbarter Interferenzsysteme liegen. Hiedurch werden letzte restliche Ungleichmässigkeiten in Richtung der Win- ) kelhalbierenden zweier benachbarter Interferenzsysteme beseitigt.
Die Erfindung ist in der nachstehenden Beschreibung an Hand der Zeichnung im einzelnen näher erläutert. Darin sind einige Ausführungsbeispiele dafür wiedergegeben. Insbesondere zeigt die Fig. 1 den Ausschnitt einer Strahleranordnung, bei der jedes Interferenzsystem aus Gruppen von jeweils mindestens zwei fluchtend zueinander liegenden Dipolreflektoranordnungen besteht. Fig. la zeigt das zugehörige i Strahlungsdiagramm, u. zw. im Vergleich zu einem Strahlungsdiagramm einer Antenne ohne erfindungsgemäss gegeneinander versetzten und unterschiedlich gespeisten Elementarstrahlern.
Nach dem in Fig. 2 gezeigten Ausschnitt sind in einer Strahleranordnung unterschiedliche Leistungseinspeisungen durch entsprechend verschiedene Anzahlen der einzelnen Dipolreflektoranordnungen herbeigeführt.
Fig. 3 schliesslich zeigt den vollständigen Grundriss eines Rundstrahlungssystems, bei welchem durch zusätzliche Dipolreflektoranordnungen mit Hauptstrahlungsrichtungen in der Winkelhalbierenden zweier benachbarter lnterferenzsysteme das im Vergleich zu einem Strahlungsdiagramm einer bekannten Antenne eingetragene Strahlungsdiagramm zustande gebracht ist. Ein Ausschnitt aus dem Seitenriss nach Fig. 3 ist in Fig. 4 gezeigt.
Nach Fig. 1 besteht jedes Interferenzsystem aus den Gruppen 1 und 2 bzw. l'und 2'der beiden fluchtend zueinander liegenden und als Richtstrahlfelder ausgebildeten Dipolreflektoranordnungen z. B. 5 und 6 bzw. 7 und 8. Die Dipolreflektoranordnungen 5 und 6 sowie entsprechende Gruppen in der Mastnähe sind auf dem Mast 9 unmittelbar angebracht, während die aus den Anordnungen 7 und 8 bestehenden und entsprechenden Gruppen über die Streben 10 und 11 am Mast befestigt sind. In der Ausstrahlungsrichtung, d. h. senkrecht zum Mast 9 können die vorgelagerten Dipolreflektoranordnungen z.
B. 7 und 8, die von den Gruppen 1 bzw. l'ausgehenden Strahlungen nicht nennenswert behindern. weil die angeführten Gruppen in. der erwähnten Richtung einen freien Einstrahlungsraum vor sich haben, in welchem sie wirksam werden können und allenfalls nur die in unmittelbarer Nachbarschaft der vorgelagerten Dipolreflektoranordnungen liegenden Randstrahlen Beeinflussungen durch diese erfahren. Die näher 11m Mast angeordneten Dipolreflektoranordnungen z. B. S, 6 sind dabei erfindungsgemäss mit grösserer Leistung gespeist als die vom Mast wei- ter abliegenden Dipolreflektoranordnungen, z. B. 7,8.
Die durch die erfindungsgemässe Strahleranordnung und Leistungsabstrahlung erzielte Vergleichmä- ssigung des Ausstrahlungsdiagramms wird in Fig. la in grob schematischer Weise angedeutet, in welcher das durch die erfindungsgemässe Anordnung erzielte Strahlungsdiagramm (gestrichelt gezeichneter Linienzug3) im Vergleich zu dem Strahlungsdiagramm (strichpunktiert gezeichneter Linienzug 4) einer bekannten Strahleranordnung ohne gegenseitig versetzt zueinander angeordneten Elementarstrahlern und ohne unterschiedliche Leistungseinspeisung gezeigt ist.
Nach Fig. 2 sind unmittelbar auf dem Mast 12 die Gruppen 13 und 13'von je 3 als Richtstrahlfelder ausgebildeten Dipolreflektoranordnungen 14-16 bzw. 17 - 19 vorgesehen. Jede dieser Anordnungen erfährt eine gleiche Leistungseinspeisung. Über die Gruppen 13 und 13'ragen die wieder als Richstrahlfelder ausgebildeten Dipolreflektoranordnungen 20 und 21 hinaus, weil sie auf dem Mast 12 über die Streben 22 und 23 befestigt sind. Auch die Anordnungen 20 und 21 werden in gleicher Stärke eingespeist, wie jede der andern Dipolreflektoranordnungen, d. h. also z. B. 14. Ein aus der Gruppe 13 und der Anordnung 20 bestehendes Interferenzsystem liefert dadurch eine. Gesamtausstrahlung, die etwa dem Linienzug 3 nach Fig. la entspricht und diesen im vorstehenden bereits eingehend beschriebenen Vorteil aufweist.
Eine im wesentlichen gleiche Wirkung, wie sie ein Strahlersystem nach Fig. 2 zustande bringt, lässt sich auch dadurch erzielen, dass nicht in gleicher Stärke eingespeiste einzelne Dipolreflektoranordnungen Verwendung finden, sondern von unterschiedlichen Leistungseinspeisungen Gebrauch gemacht wird. Doch wird man beim Vorgehen in der zuletzt angeführten Weise jeweils die gleiche Anzahl von Dipolref1ektoranordnun-
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mastentfernterBeiden soeben beschriebenen, zueinander in Strahlrichtung versetzten Dipolreflektoranordnungen jedes Interferenzsystems können die dem Mast benachbarten Anordnungen, also z. B. 14 - 16 auch noch einen der Entfernung der andern Anordnungen, also z.
B. 20 entsprechenden oder einen bis zu einer viertel Wellenlänge geringeren elektrischen Gangunterschied von vorzugsweise einer viertel bis einer ganzen Wellenlänge aufweisen. Auch der hiedurch erzielte Vorteil wurde im vorstehenden bereits dargelegt.
Nach den Fig. 3 und 4 sind am Mast 24 nach den vier Strahlungsrichtungen die vorgelagerten Dipol-
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flektoranordnungen 41 - 44, deren Hauptstrahlungsrichtungen in Richtung der Winkelhalbierenden zweier benachbarter Interferenzsysteme z. B. alsu der Systeme 28,35, 36 und 27,33, 34 liegen, führen die Vergleichmässigung der Strahlungsdiagramme in der Umgebung der erwähnten Winkelhalbierenden herbei. Es ergibt sich dadurch ein Strahlungsdiagramm, wie es etwa durch den gestrichelt gezeichneten Linienzug 45 veranschaulicht ist.
Die durch die erfindungsgemässe Massnahme erzielte Verbesserung der Abstrahlung ergibt sich insbesondere aus einem Vergleich dieses gestrichelt gezeichneten Strahlungsdiagramms 45 mit dem strichpunktiert gezeichneten Linienzug 46 eines Strahlungsdiagramms, wie es durch eine übliche Strahleranordnung ohne der in Fig. 3 gezeigten erfindungsgemässen Massnahme erzielt wird.
PATENTANSPRÜCHE :
1. Strahler, vorzugsweise für ultrakurze elektrische Wellen, der aus wenigstens zwei in verschie-
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strahlungsrichtungen wenigstens annähernd von ihrem Maximalwert auf ein Minimum abnimmt, dadurch gekennzeichnet, dass die dem Mast benachbarten Elementarstrahler (5, 6 ; 14 - 19 ; 2 - 36) eine höhere Leistung abstrahlen als die vom Mast weiter entfernten Elementarstrahler (7, 8 ; 20, 21 ; 25-28).