WO2024181298A1 - フルオロアルキル化合物の製造方法、フルオロアルキル化剤、フルオロアルキル化剤の製造方法 - Google Patents
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Definitions
- the present invention relates to a method for producing a fluoroalkyl compound using a fluoroalkylating agent, a fluoroalkylating agent, and a method for producing a fluoroalkylating agent.
- Fluoroalkyl groups are known to be important functional groups found in medicines, agricultural chemicals, functional materials, etc. Efficient methods for introducing fluoroalkyl groups into various compounds are needed.
- a representative fluoroalkylating agent is (trifluoromethyl)trimethylsilane, which is a nucleophilic fluoroalkylating agent.
- 1-trifluoromethyl-1,2-benzoiodoxol-3(1H)-one (Togni Reagent II), developed by Togni et al., is known as an electrophilic fluoroalkylating agent.
- (trifluoromethyl)trimethylsilane for example, is known to easily hydrolyze in air, and Togni reagent II is known to pose an explosion hazard.
- (trifluoromethyl)trimethylsilane and Togni reagent II have problems with stability and safety, and therefore cannot be said to be industrially advantageous.
- fluoroalkylating agents are trifluoromethylating agents, and the fluoroalkyl groups that can be introduced are very limited.
- trifluoromethyl compounds such as fluoromethane and trifluoroiodomethane, which are the raw materials for trifluoromethylating agents, are industrially produced and easily available, there are few fluoroalkyl compounds that are easily available for synthesizing a variety of fluoroalkylating agents.
- Fluoroalkyl sulfonic acids or carboxylic acids are compounds that are industrially produced using techniques including electrolytic fluorination, and are relatively easy to obtain and inexpensive. Furthermore, sulfonic acids or carboxylic acids with a variety of fluoroalkyl groups, not limited to trifluoromethyl groups, have been synthesized.
- fluoroalkylation can be achieved by converting a fluoroalkylsulfonyl fluoride, which is a derivative of a fluoroalkylsulfonic acid, into a fluoroalkylsulfinic acid with a reducing agent and reacting the fluoroalkylated acid with an alkene in the presence of a one-electron oxidizing agent (see, for example, Patent Document 1). In this reaction, the substrate is limited to an alkene.
- the present invention has been made in consideration of the above circumstances, and aims to provide a fluoroalkylating agent that can be derived from an analogue of a fluoroalkylsulfonic acid or a carboxylic acid, a method for producing the fluoroalkylating agent, and a method for producing a fluoroalkyl compound using the fluoroalkylating agent.
- the inventors have invented a simple and systematic method for producing fluoroalkylating agents that can synthesize a variety of fluoroalkyl structures and can be derived from relatively easily available analogues of fluoroalkylsulfonic acid or carboxylic acid. Furthermore, they have found that by using the obtained fluoroalkylating agents, it is possible to provide a variety of fluoroalkyl compounds for use in fields such as medicine, agricultural chemicals, and functional materials.
- a method for producing a fluoroalkyl compound comprising a step of carrying out a fluoroalkylation reaction using a fluoroalkylating agent represented by the following general formula [1] or the following general formula [2] and an electrophilic agent:
- R 1 represents an aryl group having 6 to 14 carbon atoms which may have a substituent
- Rf 1 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms which may have a linear, branched or cyclic structure and which may have a substituent consisting of a sulfonyl group or a carbonyl group, or 1 to 5 ether-bonding oxygen atoms between the carbon atoms, and represents a fluoroalkyl group having a structure in which the ⁇ -carbon of the sulfonyl or carbonyl is substituted with a carbon such as a fluorine or trifluoromethyl group and has no hydrogen.
- R 1 represents an aryl group having 6 to 14 carbon atoms which may have a substituent
- Rf 1 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms which may have a linear, branched or cyclic structure and which may have a substituent consisting of a sulfonyl group or a carbonyl group, or 1 to 5 ether-bonded oxygen atoms between the carbon atoms, and represents a fluoroalkyl group having a structure in which the ⁇ -carbon of the sulfonyl or carbonyl is substituted with a carbon such as a fluorine or trifluoromethyl group and has no hydrogen.
- the electrophile is a proton donor represented by the following general formula [3]:
- R2 represents a hydrogen atom, a metal atom, an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms which may have a substituent, or an aryl group having 6 to 14 carbon atoms which may have a substituent
- X5 represents a heteroatom such as oxygen, nitrogen, or sulfur.
- Rf 1 represents a substituent consisting of a sulfonyl group or a carbonyl group, or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms which may have a linear, branched or cyclic structure and which may have 1 to 5 ether-bonding oxygen atoms between the carbon atoms, and which represents a fluoroalkyl group having a structure in which the ⁇ -carbon of the sulfonyl or carbonyl is substituted with a carbon such as a fluorine or trifluoromethyl group and has no hydrogen.
- the electrophile is a silicon compound represented by the following general formula [5]:
- R 3 , R 4 and R 5 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms which may have a linear, branched or cyclic structure and which may have a substituent or an unsaturated bond, an aryl group, or an alkoxy group containing an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms or an aryl group having 6 to 14 carbon atoms which may have a substituent; and X 4 represents a halogen atom or an alkoxy group containing an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms or an aryl group having 6 to 14 carbon atoms which may have a substituent.
- Rf 1 represents a substituent consisting of a sulfonyl group or a carbonyl group, or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms and which may have a straight-chain, branched or cyclic structure and which may have 1 to 5 ether-bonding oxygen atoms between the carbon atoms, and represents a fluoroalkyl group having a structure in which the ⁇ -carbon of the sulfonyl or carbonyl is substituted with a carbon such as a fluorine or trifluoromethyl group and has no hydrogen;
- R 3 , R 4 and R 5 each independently represent a hydrogen atom, or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms and which may have a straight-chain, branched or cyclic structure, which may have an unsaturated bond, an aryl group, or an alkoxy group including an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms or an aryl group having 6 to 14 carbon atoms and which may have
- the electrophile is a carbonyl compound represented by the following general formula [7]:
- R6 and R7 each independently represent a hydrogen atom, or a substituent having a linear, branched or cyclic structure having 1 to 10 carbon atoms, or an alkyl group or aryl group which may have an unsaturated bond.
- Rf 1 represents a substituent consisting of a sulfonyl group or a carbonyl group, or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms and which may have a straight-chain, branched or cyclic structure and which may have 1 to 5 ether-bonding oxygen atoms between the carbon atoms, and represents a fluoroalkyl group having a structure in which the ⁇ -carbon of the sulfonyl or carbonyl is substituted with a carbon such as a fluorine or trifluoromethyl group and has no hydrogen;
- R 6 and R 7 each independently represent a hydrogen atom, or a substituent having 1 to 10 carbon atoms and which may have a straight-chain, branched or cyclic structure, or an alkyl group or aryl group which may have an unsaturated bond.
- the electrophile is a disulfide compound represented by the following general formula [9]:
- R8 represents an alkyl group or aryl group which may have a straight chain, branched or cyclic structure having 1 to 10 carbon atoms and which may have a substituent or an unsaturated bond.
- R 8 represents a substituent group having 1 to 10 carbon atoms which may have a linear, branched or cyclic structure, or an alkyl group or aryl group which may have an unsaturated bond
- Rf 1 represents a substituent group consisting of a sulfonyl group or a carbonyl group, or an alkyl group which may have a linear, branched or cyclic structure having 1 to 10 carbon atoms which may have 1 to 5 ether-bonding oxygen atoms between the carbon atoms, and represents a fluoroalkyl group having a structure in which the ⁇ -carbon of the sulfonyl or carbonyl is substituted with a carbon such as a fluorine or trifluoromethyl group and has no hydrogen.
- R 9 represents an aryl group having 6 to 14 carbon atoms which may have a substituent
- X 3 represents a hydroxyl group, a metal salt (e.g., -OK, -ONa), an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms (e.g., a methoxy group, an ethoxy group), an amino group, an alkylamino group having 1 to 4 carbon atoms (e.g., a methylamino group, a propylamino group), or a halogen atom (e.g., a fluorine atom, a chlorine atom).)
- a metal salt e.g., -OK, -ONa
- an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms e.g., a methoxy group, an ethoxy group
- an amino group e.g., an alkylamino group having 1 to 4 carbon atoms (e.g., a methylamino group
- R 10 and R 11 are the same or independent and represent an aryl group having 6 to 14 carbon atoms which may have a substituent.
- a method for producing a fluoroalkylating agent comprising the step of reacting a fluoroalkylsulfonic acid derivative represented by the following general formula [13] or the following general formula [14] with an aromatic compound represented by the following general formula [15] to obtain a fluoroalkylating agent represented by the following general formula [1].
- Rf 1 and Rf 2 are the same or independent and are substituents or alkyl groups having 1 to 10 carbon atoms which may have a straight chain, branched or cyclic structure and may have 1 to 5 ether-bonding oxygen atoms between the carbon atoms, and represent fluoroalkyl groups having a structure in which the ⁇ -carbon of the sulfonyl or carbonyl is substituted with a carbon such as a fluorine or trifluoromethyl group and has no hydrogen, and Rf 1 and Rf 2 may be bonded to form a 4- to 7-membered ring.
- Rf 1 represents a substituent consisting of a sulfonyl group or a carbonyl group, or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms which may have a straight chain, branched or cyclic structure and which may have 1 to 5 ether-bonding oxygen atoms between the carbon atoms, and represents a fluoroalkyl group having a structure in which the ⁇ -carbon of the sulfonyl or carbonyl is substituted with a carbon such as a fluorine or trifluoromethyl group and has no hydrogen, and X 1 represents a halogen atom.
- R 1 represents an aryl group having 6 to 14 carbon atoms which may have a substituent.
- R 1 represents an aryl group having 6 to 14 carbon atoms which may have a substituent
- Rf 1 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms which may have a linear, branched or cyclic structure and which may have a substituent consisting of a sulfonyl group or a carbonyl group, or 1 to 5 ether-bonded oxygen atoms between the carbon atoms, and represents a fluoroalkyl group having a structure in which the ⁇ -carbon of the sulfonyl or carbonyl is substituted with a carbon such as a fluorine or trifluoromethyl group and has no hydrogen.
- a method for producing a fluoroalkylating agent comprising the step of reacting a fluoroalkyl carboxylic acid derivative represented by the following general formula [16] or the following general formula [17] with an aromatic compound represented by the following general formula [18] to obtain a fluoroalkylating agent represented by the following general formula [2].
- R 1 represents an aryl group having 6 to 14 carbon atoms which may have a substituent
- Rf 1 represents a substituent consisting of a sulfonyl group or a carbonyl group, or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms which may have a straight chain, branched or cyclic structure which may have 1 to 5 ether-bonding oxygen atoms between the carbon atoms
- X 2 represents a halogen atom.
- Rf 1 and Rf 2 are the same or independent and are a substituent consisting of a sulfonyl group or a carbonyl group, or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms and which may have a straight chain, branched or cyclic structure and which may have 1 to 5 ether-bonding oxygen atoms between the carbon atoms, and which represent a fluoroalkyl group having a structure in which the ⁇ -carbon of the sulfonyl or carbonyl is substituted with a carbon such as a fluorine or trifluoromethyl group and has no hydrogen, and Rf 1 and Rf 2 may be bonded to form a 4- to 7-membered ring.
- R 1 represents an aryl group having 6 to 14 carbon atoms which may have a substituent.
- R 1 represents an aryl group having 6 to 14 carbon atoms which may have a substituent
- Rf 1 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms which may have a linear, branched or cyclic structure and which may have a substituent consisting of a sulfonyl group or a carbonyl group, or 1 to 5 ether-bonded oxygen atoms between the carbon atoms, and represents a fluoroalkyl group having a structure in which the ⁇ -carbon of the sulfonyl or carbonyl is substituted with a carbon such as a fluorine or trifluoromethyl group and has no hydrogen.
- the present invention provides a fluoroalkylating agent that can be derived from an analog of a fluoroalkylsulfonic acid or carboxylic acid, a method for producing the fluoroalkylating agent, and a method for producing a fluoroalkyl compound using the fluoroalkylating agent.
- the present invention includes a fluoroalkylating agent represented by the above general formula [1] or the above general formula [2], and a method for producing a fluoroalkyl compound, comprising a step of carrying out a fluoroalkylation reaction using the fluoroalkylating agent and an electrophile.
- the process for producing a fluoroalkylating agent which is a preliminary process of the process for producing a fluoroalkyl compound of the present invention, will be described below.
- the fluoroalkylating agent is produced by reacting a fluoroalkylsulfonic acid derivative represented by the above general formula [13] or the above general formula [14], or a fluoroalkylcarboxylic acid derivative represented by the above general formula [16] or the above general formula [17] with an aromatic compound represented by the above general formula [15] or the above general formula [18] in the presence of a Lewis acid.
- R 1 represents an aryl group having 6 to 14 carbon atoms which may have a substituent
- Rf 1 and Rf 2 are the same or independent alkyl groups having 1 to 10 carbon atoms which may have a straight chain, branched or cyclic structure and which may have a substituent consisting of a sulfonyl group or a carbonyl group or 1 to 5 ether-bonded oxygen atoms between the carbon atoms, and represent a fluoroalkyl group having a structure in which the ⁇ carbon of the sulfonyl or carbonyl is substituted with a carbon such as a fluorine or trifluoromethyl group and does not have a hydrogen atom
- Rf 1 and Rf 2 may be linked to form a 4- to 7-membered ring.
- “may have” means “have or not have”.
- “may have” means “have or not have”.
- Lewis acids used in the present invention include aluminum chloride, boron trifluoride, tin chloride, and zinc chloride.
- the amount of Lewis acid used relative to the fluoroalkylsulfonic acid derivative represented by the above general formula [13], the fluoroalkylsulfonic acid derivative represented by the above general formula [14], the fluoroalkylcarboxylic acid derivative represented by the above general formula [16], or the fluoroalkylcarboxylic acid derivative represented by the above general formula [17] is 0.5 to 10, preferably 1.5 to 6, in terms of molar ratio. If the amount of Lewis acid used is less than 0.5, the amount of fluoroalkylating agent produced is insufficient. Also, if the amount of Lewis acid used exceeds 10, it is not economical.
- the aromatic compound represented by the above general formula [15] or the aromatic compound represented by the above general formula [18] is used in a solvent amount relative to the fluoroalkylsulfonic acid derivative represented by the above general formula [13], the fluoroalkylsulfonic acid derivative represented by the above general formula [14], the fluoroalkylcarboxylic acid derivative represented by the above general formula [16], or the fluoroalkylcarboxylic acid derivative represented by the above general formula [17].
- the amount of the solvent used is not particularly limited, but is usually 2 to 15 times by mass.
- the fluoroalkylsulfonic acid derivative represented by the above general formula [13], the fluoroalkylsulfonic acid derivative represented by the above general formula [14], the fluoroalkylcarboxylic acid derivative represented by the above general formula [16], or the fluoroalkylcarboxylic acid derivative represented by the above general formula [17] may be reacted with a Lewis acid in the absence of a solvent, or an aprotic solvent may be added.
- aprotic solvents include ethers such as diisopropyl ether and tetrahydrofuran, and alkanes such as pentane and hexane.
- the reaction temperature is not particularly limited, but is usually 0°C to 80°C.
- the fluoroalkyl compound is produced by reacting a fluoroalkylating agent represented by the above general formula [1] or [2] with an electrophile.
- the subsequent chemical reactions can be carried out in a solvent inert to the reaction, such as N,N-dimethylformamide, N,N-dimethylacetamide, 1,4-dioxane, tetrahydrofuran, diisopropyl ether, acetonitrile, benzene, toluene, dimethylsulfoxide, etc.
- the reaction temperature is -78°C to 50°C, preferably -70°C to 25°C.
- the substituent R2 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms which may have a substituent, or an aryl group having 6 to 14 carbon atoms which may have a substituent.
- alkyl groups having 1 to 30 carbon atoms which may have a substituent, include methyl, ethyl, 1-propyl, 2-propyl, 1-butyl, 2-butyl, iso-butyl, tert-butyl, 1-pentyl, 1-hexyl, 1-heptyl, 1-octyl, 1-nonyl, and 1-decyl groups.
- the molar ratio of the proton donor represented by the general formula [3] to the fluoroalkylating agent represented by the general formula [1] or [2] is 0.5 to 10, preferably 1 to 5. If the amount of the proton donor used is less than 1, the amount of fluoroalkyl compound produced is insufficient. If the amount of the proton donor used is more than 2, it is not economical.
- bases used in the fluoroalkylation of proton donors include potassium hydroxide, sodium hydroxide, lithium hydroxide, sodium methoxide, sodium ethoxide, potassium tert-butoxide, etc.
- the amount of base used relative to the fluoroalkylating agent represented by the above general formula [1] or the above general formula [2] is 1 to 10, preferably 2.5 to 5.0, in terms of molar ratio. If the amount of base used is less than 1, the amount of fluoroalkyl compound produced is insufficient. If the amount of base used is more than 4, decomposition of the produced fluoroalkyl compound proceeds.
- the substituents R 3 , R 4 and R 5 each independently represent a hydrogen atom, a substituent having a linear, branched or cyclic structure having 1 to 10 carbon atoms, an alkyl group which may have an unsaturated bond, an aryl group, or an alkoxy group including an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms or an aryl group having 6 to 14 carbon atoms which may have a substituent.
- alkyl groups having 1 to 10 carbon atoms which may have a substituent, include methyl, ethyl, vinyl, 1-propyl, 2-propyl, allyl, acryloyl, 1-butyl, 2-butyl, iso-butyl, tert-butyl, butadienyl, 1-pentyl, 1-hexyl, 1-heptyl, 1-octyl, 1-nonyl, and 1-decyl groups.
- the amount of the silicon compound represented by the general formula [5] used relative to the fluoroalkylating agent represented by the general formula [1] or the general formula [2] is 1 to 10, preferably 5 to 8, in terms of molar ratio. If the amount of the silicon compound used is less than 1, the amount of the fluoroalkyl compound produced is insufficient. Also, if the amount of the silicon compound used exceeds 10, it is not economical.
- Reducing agents used in the fluoroalkylation of silicon compounds include, for example, magnesium, zinc, manganese, etc.
- the molar ratio of the reducing agent used to the fluoroalkylating agent represented by the above general formula [1] or the above general formula [2] is 1 to 4, preferably 1.5 to 2.5. If the amount of the reducing agent used is less than 1, the amount of fluoroalkyl compound produced is insufficient. Also, if the amount of the reducing agent used exceeds 4, it is not economical.
- R 6 and R 7 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group or an aryl group which may have a straight chain, branched or cyclic structure having 1 to 10 carbon atoms and which may have a substituent.
- alkyl groups having 1 to 10 carbon atoms which may have a substituent, include methyl, ethyl, vinyl, 1-propyl, 2-propyl, allyl, acryloyl, 1-butyl, 2-butyl, iso-butyl, tert-butyl, butadienyl, 1-pentyl, 1-hexyl, 1-heptyl, 1-octyl, 1-nonyl, and 1-decyl groups.
- the amount of the carbonyl compound represented by the general formula [7] used relative to the fluoroalkylating agent represented by the general formula [1] or [2] is 0.5 to 4, preferably 1 to 3, in terms of molar ratio. If the amount of the carbonyl compound used is less than 0.5, the amount of the fluoroalkyl compound produced is insufficient. If the amount of the carbonyl compound used exceeds 4, it is not economical.
- bases used in the fluoroalkylation of carbonyl compounds include potassium hydroxide, sodium hydroxide, lithium hydroxide, sodium methoxide, sodium ethoxide, potassium tert-butoxide, etc.
- the amount of base used relative to the fluoroalkylating agent represented by the above general formula [1] or the above general formula [2] is 1 to 4 in molar ratio, and preferably 1.5 to 2.5. If the amount of base used is less than 1, the amount of fluoroalkyl compound produced is insufficient. Also, if the amount of base used exceeds 4, it is not economical.
- the substituent R 8 represents an alkyl group or an aryl group which may have a straight chain, branched or cyclic structure having 1 to 10 carbon atoms and which may have a substituent.
- alkyl groups having 1 to 10 carbon atoms which may have a substituent, include methyl, ethyl, vinyl, 1-propyl, 2-propyl, allyl, acryloyl, 1-butyl, 2-butyl, iso-butyl, tert-butyl, butadienyl, 1-pentyl, 1-hexyl, 1-heptyl, 1-octyl, 1-nonyl, and 1-decyl groups.
- the molar ratio of the disulfide compound represented by the general formula [9] to the fluoroalkylating agent represented by the general formula [1] or [2] is 1 to 4, preferably 1.5 to 2.5. If the amount of the disulfide compound used is less than 1, the amount of the fluoroalkyl compound produced is insufficient. If the amount of the disulfide compound used is more than 4, it is not economical.
- bases used in the fluoroalkylation of disulfide compounds include potassium hydroxide, sodium hydroxide, lithium hydroxide, sodium methoxide, sodium ethoxide, potassium tert-butoxide, etc.
- the amount of base used relative to the fluoroalkylating agent represented by the above general formula [1] or the above general formula [2] is 1 to 4 in molar ratio, and preferably 1.5 to 2.5. If the amount of base used is less than 1, the amount of fluoroalkyl compound produced is insufficient. Also, if the amount of base used exceeds 4, it is not economical.
- the fluoroalkylating agent of the present invention can be prepared from fluoroalkylsulfonic acids and carboxylic acids, which are industrially produced and easily available.
- Use of the fluoroalkylating agent of the present invention enables a new method for producing fluoroalkyl compounds. This makes it possible to provide an even greater variety of fluoroalkyl compounds to the fields of medicine, agricultural chemicals, functional materials, and the like. For these reasons, the present invention is extremely useful as a fluoroalkylating agent for producing fluoroalkyl compounds.
- the present invention makes it possible to produce a variety of fluoroalkyl structures that are difficult to obtain or prepare using existing fluoroalkylating agents from easily available fluoroalkylsulfonic acids and carboxylic acids, and by using the fluoroalkylating agents, a variety of fluoroalkyl compounds can be produced. Furthermore, the inventors have discovered that fluoroalkylsulfonic acids and carboxylic acids, which have not been used as fluoroalkylating agents because it was previously thought that it was difficult to cleave carbon-sulfur bonds or carbon-carbon bonds, can be derivatized to function as fluoroalkylating agents.
- fluoroalkylating agent it is possible to provide an even greater variety of fluoroalkyl compounds in the fields of medicine, agricultural chemicals, functional materials, etc., and therefore the fluoroalkylating agent has high industrial utility value.
- the NMR apparatus used for the analysis of the Examples and Comparative Examples was an AVANCE 400 ( 1 H-NMR: 400 MHz, 19 F-NMR: 376 MHz) manufactured by Bruker.
- AVANCE 400 1 H-NMR: 400 MHz, 19 F-NMR: 376 MHz
- tetramethylsilane was set to a reference value of 0 ppm
- trichlorofluoromethane was set to a reference value of 0 ppm.
- Example 1 A compound represented by the following formula (1), in which R 1 in the above general formula [1] is a phenyl group and Rf 1 is a -CF 2 CF 2 CF 2 SO 3 K group, was synthesized.
- Example 2 The compound represented by the above formula (1) was used as a fluoroalkylating agent to replace the alkoxy group of tert-butyl alcohol with a -CF 2 CF 2 CF 2 SO 3 K group, thereby synthesizing a compound represented by the following formula (2).
- a mixture of the compound represented by the above formula (3) and the compound represented by the above formula (4) was obtained in a yield of 66% by the same procedure as in Example 1, except that toluene was used instead of benzene used in Example 1.
- the mixing ratio of the compound represented by the above formula (3) and the compound represented by the above formula (4) was 1:2 in terms of molar ratio. It was confirmed by 19 F-NMR analysis that the compound represented by the above formula (3) and the compound represented by the above formula (4) were obtained.
- 19F -NMR methanol deuterated: ⁇ -112.13 to -112.68 (m, 2F), -115.35 to -115.51 (m, 2F), -119.62 to -119.99 (m, 2F).
- Example 4 The compound represented by the above formula (2) was synthesized by using a mixture of the compound represented by the above formula (3) and the compound represented by the above formula (4) as a fluoroalkylating agent to replace the alkoxy group of tert-butyl alcohol with a -CF 2 CF 2 CF 2 SO 3 K group.
- the same procedure as in Example 2 was carried out except that a mixture of the compound represented by the above formula (3) and the compound represented by the above formula (4) was used instead of the compound represented by the above formula (1) in Example 2, thereby obtaining the compound represented by the above formula (2) in a yield of 90%.
- a mixture of the compound represented by the above formula (5) and the compound represented by the above formula (6) was obtained in a yield of 65% by the same procedure as in Example 1, except that o-xylene was used instead of benzene used in Example 1.
- the mixing ratio of the compound represented by the above formula (5) and the compound represented by the above formula (6) was 1:2 in terms of molar ratio. It was confirmed by 19 F-NMR analysis that the compound represented by the above formula (5) and the compound represented by the above formula (6) were obtained.
- 19F -NMR methanol deuterated: ⁇ -111.93 to -112.72 (m, 2F), -115.35 to -115.51 (m, 2F), -119.64 to -120.02 (m, 2F).
- Example 6 The compound represented by the above formula (2) was synthesized by using a mixture of the compound represented by the above formula (5) and the compound represented by the above formula (6) as a fluoroalkylating agent to replace the alkoxy group of tert-butyl alcohol with a -CF 2 CF 2 CF 2 SO 3 K group. The same procedure as in Example 2 was carried out except that a mixture of the compound represented by the above formula (5) and the compound represented by the above formula (6) was used instead of the compound represented by the above formula (1) in Example 2, thereby obtaining the compound represented by the above formula (2) in a yield of 88%.
- Example 7 A compound represented by the following formula (7), in which R 1 in the above general formula [1] is an m-xylyl group and Rf 1 is a -CF 2 CF 2 CF 2 SO 3 K group, was synthesized.
- Example 2 The same procedure as in Example 1 was carried out except that m-xylene was used instead of benzene, to obtain the compound represented by the above formula (7) in a yield of 60%. It was confirmed by 19 F-NMR analysis that the compound represented by the above formula (7) was obtained. 19F -NMR (methanol deuterated): ⁇ -112.38 to -112.47 (m, 2F), -115.39 to -115.48 (m, 2F), -120.00 to -120.03 (m, 2F).
- Example 8 The compound represented by the above formula (7) was used as a fluoroalkylating agent to replace the alkoxy group of tert-butyl alcohol with a -CF 2 CF 2 CF 2 SO 3 K group, thereby synthesizing the compound represented by the above formula (2).
- the same procedure as in Example 2 was carried out except that the compound represented by the above formula (7) was used instead of the compound represented by the above formula (1) in Example 2, thereby obtaining the compound represented by the above formula (2) in a yield of 89%.
- Example 9 A compound represented by the following formula (8), in which R 1 in the above general formula [1] is a p-xylyl group and Rf 1 is a -CF 2 CF 2 CF 2 SO 3 K group, was synthesized.
- Example 2 The same procedure as in Example 1 was carried out except that p-xylene was used instead of benzene, to obtain the compound represented by the above formula (8) in a yield of 76%. It was confirmed by 19 F-NMR analysis that the compound represented by the above formula (8) was obtained. 19F -NMR (methanol deuterated): ⁇ -111.94 to -112.01 (m, 2F), -115.06 to -115.14 (m, 2F), -119.76 (m, 2F).
- Example 10 The compound represented by the above formula (8) was used as a fluoroalkylating agent to substitute the alkoxy group of tert-butyl alcohol with a -CF 2 CF 2 CF 2 SO 3 K group, thereby synthesizing the compound represented by the above formula (2).
- the same procedure as in Example 2 was carried out except that the compound represented by the above formula (8) was used instead of the compound represented by the above formula (1) in Example 2, thereby obtaining the compound represented by the above formula (2) in a yield of 87%.
- Example 11 A compound represented by the following formula (9), in which R 1 in the above general formula [1] is a phenyl group and Rf 1 is a -CF 2 CF 2 SO 3 K group, was synthesized.
- Example 2 The same procedure as in Example 1 was carried out except that butafluoro-1,2-ethanedisulfonic anhydride was used instead of hexafluoro-1,3-propanedisulfonic anhydride used in Example 1, to obtain the compound represented by the above formula (9) in a yield of 68%. It was confirmed by 19 F-NMR analysis that the compound represented by the above formula (9) was obtained. 19F -NMR (methanol deuterated): ⁇ -111.04 to -111.07 (m, 2F), -113.47 to -113.54 (m, 2F).
- Example 12 The compound represented by the above formula (9) was used as a fluoroalkylating agent to replace the alkoxy group of tert-butyl alcohol with a -CF 2 CF 2 SO 3 K group, thereby synthesizing a compound represented by the following formula (10).
- the same procedure as in Example 2 was carried out except that the compound represented by the above formula (9) was used instead of the compound represented by the above formula (1) in Example 2, thereby obtaining a compound represented by the following formula (10) in a yield of 95%.
- 19 F-NMR analysis confirmed that a compound represented by the following formula (10) was obtained.
- Example 13 A compound represented by the following formula (11), in which R 1 in the above general formula [1] is a phenyl group and Rf 1 is a nonafluorobutyl group, was synthesized.
- Example 14 The compound represented by the above formula (11) was used as a fluoroalkylating agent to replace the alkoxy group of tert-butyl alcohol with a nonafluorobutyl group, thereby synthesizing a compound represented by the following formula (12).
- Example 15 A compound represented by the following formula (13), in which R 1 in the above general formula [1] is a phenyl group and Rf 1 is a heptafluoropropyl group, was synthesized.
- Example 13 The same procedure as in Example 13 was carried out except that heptafluoropropanesulfonic anhydride was used instead of nonafluorobutanesulfonic anhydride used in Example 13, to obtain the compound represented by the above formula (13) in a yield of 56%. It was confirmed by 19 F-NMR analysis that the compound represented by the above formula (13) was obtained.
- 19F -NMR deuterated chloroform: ⁇ -80.71 to -80.76 (m, 3F), -112.30 to -112.34 (m, 2F), -124.24 to -124.25 (m, 2F).
- Example 16 The compound represented by the above formula (13) was used as a fluoroalkylating agent to substitute the alkoxy group of tert-butyl alcohol with a heptafluoropropyl group, thereby synthesizing a compound represented by the following formula (14).
- the same procedure as in Example 14 was carried out except that the compound represented by the above formula (13) was used instead of the compound represented by the above formula (11) in Example 14, thereby obtaining a compound represented by the following formula (14) in a yield of 69%.
- 19 F-NMR analysis confirmed that a compound represented by the following formula (14) was obtained.
- Example 17 A compound represented by the following formula (15), in which R 1 in the above general formula [2] is a phenyl group and Rf 1 is a -CF(CF 3 )OCF 2 CF 2 CF 3 group, was synthesized.
- Example 18 The compound represented by the above formula (15) was used as a fluoroalkylating agent to replace the alkoxy group of tert- butyl alcohol with a -CF(CF3)OCF2CF2CF3 group , thereby synthesizing a compound represented by the following formula (16). Under a nitrogen atmosphere, a THF solution of potassium tert-butoxide (1M, 6.41 mL, 6.41 mmol) and tert-butyl alcohol (0.61 mL, 6.41 mmol) were added to tetrahydrofuran (20 mL).
- Example 19 A compound represented by the following formula (17), in which R 1 in the above general formula [2] is a phenyl group and Rf 1 is a -CF(CF 3 )OCF 2 CF(CF 3 )OCF 2 CF 2 CF 3 group, was synthesized.
- Example 17 The same procedure as in Example 17 was carried out except that perfluoro(2,5-dimethyl-3,6-dioxanonanoyl)fluoride was used instead of perfluoro(2-methyl-3-oxahexanoyl)fluoride used in Example 17, to obtain the compound represented by the above formula (17) in a yield of 76%. It was confirmed by 19 F-NMR analysis that the compound represented by the above formula (17) was obtained.
- Example 20 The compound represented by the above formula (17) was used as a fluoroalkylating agent to replace the alkoxy group of tert-butyl alcohol with a -CF( CF3 ) OCF2CF ( CF3 ) OCF2CF2CF3 group, thereby synthesizing a compound represented by the following formula ( 18 ).
- the same procedure as in Example 18 was carried out except that the compound represented by the above formula (17) was used instead of the compound represented by the above formula (15) in Example 18, to obtain a compound represented by the following formula (18) in a yield of 79%. It was confirmed by 19 F-NMR analysis that a compound represented by the following formula (18) was obtained.
- Example 21 A compound represented by the following formula (19), in which R 9 in the above general formula [11] is a phenyl group and X 3 is potassium, was synthesized.
- Example 22 The compound represented by the above formula (19) was used as a fluoroalkylating agent to replace the alkoxy group of tert-butyl alcohol with a -CF 2 CF 2 CF 2 SO 3 K group, thereby synthesizing the compound represented by the above formula (2). Under a nitrogen atmosphere, a THF solution of potassium tert-butoxide (1M, 0.68mL, 0.68mmol) and tert-butyl alcohol (0.07mL, 0.68mmol) were added to tetrahydrofuran (5mL).
- the obtained crude product was dissolved in water (10 mL), 0.1 M potassium hydroxide aqueous solution (5.6 mL) was added, and the solvent was distilled off under reduced pressure. Ethanol (10 mL) was added to the obtained crude product, and the mixture was stirred at room temperature for 1 hour to obtain a suspension. The suspension was filtered, washed with ethanol (5 mL), and the solid was dried under reduced pressure to obtain the compound represented by the above formula (2) in 83% yield.
- Example 23 A compound represented by the following formula (20), in which R 10 and R 11 in the above general formula [12] are phenyl groups, was synthesized.
- Example 24 The compound represented by the above formula (20) was used as a fluoroalkylating agent to replace the alkoxy group of tert- butyl alcohol with a -CF( CF3 ) OCF2CF2OCF ( CF3 )- group, thereby synthesizing a compound represented by the following formula (21). Under a nitrogen atmosphere, a THF solution of potassium tert-butoxide (1M, 9.20 mL, 9.20 mmol) and tert-butyl alcohol (1.95 mL, 18.4 mmol) were added to tetrahydrofuran (10 mL).
- Example 25 The compound represented by the above formula (11) was used as a fluoroalkylating agent, and a metal hydroxide or potassium tert-butoxide was used as a hydrogen source to substitute a -CF 2 CF 2 CF 2 SO 3 K group, thereby synthesizing the compound represented by the above formula (2). Under a nitrogen atmosphere, a THF solution of potassium tert-butoxide (1M, 1.52mL, 1.52mmol) and calcium hydroxide (0.045g, 0.61mmol) were added to N,N-dimethylformamide (5.0mL).
- the obtained crude product was dissolved in water (10mL), 0.1M aqueous potassium hydroxide solution (5.6mL) was added, and the solvent was distilled off under reduced pressure. Ethanol (10 mL) was added to the obtained crude product, and the mixture was stirred at room temperature for 1 hour to obtain a suspension. The suspension was filtered, washed with ethanol (5 mL), and the solid was dried under reduced pressure to obtain the compound represented by the above formula (2) in a yield of 91%.
- Example 26 The compound represented by the above formula (11) was used as a fluoroalkylating agent to replace the chlorine substituent of chlorotrimethylsilane with a nonafluorobutyl group, thereby synthesizing a compound represented by the following formula (22).
- Example 27 The compound represented by the above formula (11) was used as a fluoroalkylating agent to introduce a nonafluorobutyl group into the carbonyl carbon of benzaldehyde, thereby synthesizing a compound represented by the following formula (23).
- Example 28 The compound represented by the above formula (15) was used as a fluoroalkylating agent to introduce a -CF( CF3 ) OCF2CF2CF3 group into the carbonyl carbon of benzaldehyde to synthesize a compound represented by the following formula (24).
- Example 29 The compound represented by the above formula (11) was used as a fluoroalkylating agent to substitute the phenyl sulfide of diphenyl disulfide with a nonafluorobutyl group, thereby synthesizing a compound represented by the following formula (25).
- the compound represented by the above formula (30) (0.50 g, 0.87 mmol) and tert-butyl alcohol (0.25 mL, 2.62 mmol) were added to tetrahydrofuran (10 mL). To this was slowly added a THF solution of potassium tert-butoxide (1 M, 2.18 mL, 2.18 mmol), and the mixture was stirred at room temperature for 1 hour. Benzotrifluoride was then added as an internal standard to determine the NMR yield. The yield of the compound represented by the above formula (18) was 18%, and the yield of the compound represented by the above formula (31) was 82%.
- the compound represented by the above formula (31) (0.50 g, 1.15 mmol) and tert-butyl alcohol (0.27 mL, 2.88 mmol) were added to tetrahydrofuran (10 mL). To this was slowly added a THF solution of potassium tert-butoxide (1 M, 2.88 mL, 2.88 mmol), and the mixture was stirred at room temperature for 1 hour. Benzotrifluoride was then added as an internal standard to determine the NMR yield. The compound represented by the above formula (31) was quantitatively recovered.
- the present invention provides a fluoroalkylating agent derived from a fluoroalkyl sulfonic acid or carboxylic acid, which can introduce a wide range of fluoroalkyl structures, such as long-chain fluoroalkyl groups, ether structures, and structures having functional groups, which are rare among existing fluoroalkylating agents, and a fluoroalkylation reaction using the fluoroalkylating agent.
- the fluoroalkylating agent of the present invention makes it possible to provide a variety of fluoroalkyl compounds that are used in the fields of medicine, agricultural chemicals, functional materials, etc., using various electrophiles.
- the hydrogen-containing fluoroalkyl compound of the above general formula [4] is useful as a heat transfer medium such as a solvent, a refrigerant, and a working fluid.
- the silicon-containing fluoroalkyl compound of the above general formula [6] is useful as a surface treatment agent and a surface modifier.
- the hydroxyl-containing fluoroalkyl compound of the general formula [13] and the sulfide compound of the above general formula [10] are useful as organic synthesis intermediates and polymer raw materials.
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Abstract
下記一般式［１］または下記一般式［２］で表されるフルオロアルキル化剤と、求電子剤とを用いてフルオロアルキル化反応を行う工程を有する、フルオロアルキル化合物の製造方法。
Description
本発明は、フルオロアルキル化剤を用いたフルオロアルキル化合物の製造方法、フルオロアルキル化剤、およびフルオロアルキル化剤の製造方法に関する。
本願は、２０２３年３月２日に、日本に出願された特願２０２３－０３２０６７号に基づき優先権を主張し、その内容をここに援用する。
本願は、２０２３年３月２日に、日本に出願された特願２０２３－０３２０６７号に基づき優先権を主張し、その内容をここに援用する。
フルオロアルキル基は、医薬、農薬、機能性材料等に含まれる重要な官能基として知られている。フルオロアルキル基を様々な化合物へ導入する効率的な方法が求められている。
フルオロアルキル化剤として代表的なものとしては、求核的なフルオロアルキル化剤である、（トリフルオロメチル）トリメチルシランが知られている。一方、求電子的なフルオロアルキル化剤としては、Ｔｏｇｎｉ等によって開発された１－トリフルオロメチル－１，２－ベンゾヨードキソール－３（１Ｈ）－オン（Ｔｏｇｎｉ試薬ＩＩ）が知られている。
既存のフルオロアルキル化剤は、分解性や爆発性があるものが多い。なかでも、例えば、（トリフルオロメチル）トリメチルシランは空気中で容易に加水分解することが知られており、Ｔｏｇｎｉ試薬ＩＩは爆発の危険性が知られている。このように、（トリフルオロメチル）トリメチルシランとＴｏｇｎｉ試薬ＩＩは、安定性や安全面で課題があるため、工業的に有利とはいえない。
加えて、既存のフルオロアルキル化剤のほとんどはトリフルオロメチル化剤であり、導入できるフルオロアルキル基が非常に限られていた。その一因としては、トリフルオロメチル化剤の原料となるフルオロメタンやトリフルオロヨードメタン等のトリフルオロメチル化合物は工業的に製造され入手が容易である一方で、多様なフルオロアルキル化剤を合成するために入手が容易なフルオロアルキル化合物が少ないことが挙げられる。
フルオロアルキルスルホン酸またはカルボン酸は、電解フッ素化を始めとする手法で工業的に製造されている化合物であり、比較的入手が容易かつ安価である。さらに、トリフルオロメチル基に限らず、多様なフルオロアルキル基を有するスルホン酸またはカルボン酸が合成されている。
一般的に、フルオロアルキルスルホン酸の炭素－硫黄結合を切断することは難しいとされているため、フルオロアルキルスルホン酸の誘導体をフルオロアルキル化剤として用いることは困難だと考えられていた。
例えば、フルオロアルキルスルホン酸の誘導体であるフルオロアルキルスルホニルフルオリドを還元剤でフルオロアルキルスルフィン酸に変換し、一電子酸化剤存在下、アルケンと反応させることでフルオロアルキル化することが知られている（例えば、特許文献１参照）。この反応では、基質はアルケンに限られていた。
例えば、フルオロアルキルスルホン酸の誘導体であるフルオロアルキルスルホニルフルオリドを還元剤でフルオロアルキルスルフィン酸に変換し、一電子酸化剤存在下、アルケンと反応させることでフルオロアルキル化することが知られている（例えば、特許文献１参照）。この反応では、基質はアルケンに限られていた。
フルオロアルキルカルボン酸やその誘導体は、フルオロアルキルスルホン酸を用いる例に比べて、いくつかのフルオロアルキル化反応が知られている（例えば、特許文献２、非特許文献１参照）。ただし、多くの場合、反応性の高いフルオロアルキル化剤への変換や高価な金属触媒を要した。
Ｄｅｈａｎｇ Ｙｉｎ； Ｄｅｎｇｑｕａｎ Ｓｕ； Ｊｉａｎ Ｊｉｎ． Ｃｅｌｌ Ｒｅｐｏｒｔｓ Ｐｈｙｓｉｃａｌ Ｓｃｉｅｎｃｅ （２０２０）， １（８）， １００１４１．
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであって、フルオロアルキルスルホン酸またはカルボン酸の類似体から誘導できるフルオロアルキル化剤およびフルオロアルキル化剤の製造方法、並びに当該フルオロアルキル化剤を用いたフルオロアルキル化合物の製造方法を提供することを目的とする。
本発明者等は、多様なフルオロアルキル構造を合成可能で、かつ比較的入手容易なフルオロアルキルスルホン酸またはカルボン酸の類似体から誘導できるフルオロアルキル化剤の簡便かつ系統的な製造手法を発明した。さらに、得られたフルオロアルキル化剤を用いることで、医薬、農薬、機能性材料等の分野に多様なフルオロアルキル化合物を提供することが可能となることを見出した。
本発明は、以下の態様を有する。
［１］下記一般式［１］または下記一般式［２］で表されるフルオロアルキル化剤と、求電子剤とを用いてフルオロアルキル化反応を行う工程を有する、フルオロアルキル化合物の製造方法。
［１］下記一般式［１］または下記一般式［２］で表されるフルオロアルキル化剤と、求電子剤とを用いてフルオロアルキル化反応を行う工程を有する、フルオロアルキル化合物の製造方法。
［２］前記求電子剤が、下記一般式［３］で表されるプロトン供与体であり、
下記一般式［４］で表されるフルオロアルキル化合物を得る、［１］に記載のフルオロアルキル化合物の製造方法。
下記一般式［４］で表されるフルオロアルキル化合物を得る、［１］に記載のフルオロアルキル化合物の製造方法。
［３］前記求電子剤が下記一般式［５］で表されるケイ素化合物であり、
下記一般式［６］で表されるフルオロアルキル化合物を得る、［１］に記載のフルオロアルキル化合物の製造方法。
下記一般式［６］で表されるフルオロアルキル化合物を得る、［１］に記載のフルオロアルキル化合物の製造方法。
［４］前記求電子剤が下記一般式［７］で表されるカルボニル化合物であり、
下記一般式［８］で表されるフルオロアルキル化合物を得る、［１］に記載のフルオロアルキル化合物の製造方法。
下記一般式［８］で表されるフルオロアルキル化合物を得る、［１］に記載のフルオロアルキル化合物の製造方法。
［５］前記求電子剤が下記一般式［９］で表されるジスルフィド化合物であり、
下記一般式［１０］で表されるフルオロアルキル化合物を得る、［１］に記載のフルオロアルキル化合物の製造方法。
下記一般式［１０］で表されるフルオロアルキル化合物を得る、［１］に記載のフルオロアルキル化合物の製造方法。
［６］下記一般式［１１］で表される、フルオロアルキル化剤。
［７］下記一般式［１２］で表される、フルオロアルキル化剤。
［８］下記一般式［１３］または下記一般式［１４］で表されるフルオロアルキルスルホン酸誘導体と、下記一般式［１５］で表される芳香族化合物とを反応させて、下記一般式［１］で表されるフルオロアルキル化剤を得る工程を有する、フルオロアルキル化剤の製造方法。
［９］下記一般式［１６］または下記一般式［１７］で表されるフルオロアルキルカルボン酸誘導体と、下記一般式［１８］で表される芳香族化合物とを反応させて、下記一般式［２］で表されるフルオロアルキル化剤を得る工程を有する、フルオロアルキル化剤の製造方法。
本発明によれば、フルオロアルキルスルホン酸またはカルボン酸の類似体から誘導できるフルオロアルキル化剤およびフルオロアルキル化剤の製造方法、並びに当該フルオロアルキル化剤を用いたフルオロアルキル化合物の製造方法を提供することができる。
本発明のフルオロアルキル化剤およびフルオロアルキル化剤の製造方法、並びにフルオロアルキル化剤を用いたフルオロアルキル化合物の製造方法の実施の形態について説明する。
なお、本実施の形態は、発明の趣旨をより良く理解させるために具体的に説明するものであり、特に指定のない限り、本発明を限定するものではない。
なお、本実施の形態は、発明の趣旨をより良く理解させるために具体的に説明するものであり、特に指定のない限り、本発明を限定するものではない。
本発明は、上記一般式［１］または上記一般式［２］で表されるフルオロアルキル化剤、および、前記フルオロアルキル化剤と、求電子剤とを用いてフルオロアルキル化反応を行う工程を有する、フルオロアルキル化合物の製造方法を含む。
＜フルオロアルキル化剤の製造＞
本発明のフルオロアルキル化合物の製造方法の前過程である、フルオロアルキル化剤を製造する過程について説明する。
フルオロアルキル化剤は、上記一般式［１３］もしくは上記一般式［１４］で表されるフルオロアルキルスルホン酸誘導体、または上記一般式［１６］または上記一般式［１７］で表されるフルオロアルキルカルボン酸誘導体と、上記一般式［１５］もしくは上記一般式［１８］で表される芳香族化合物とを、ルイス酸存在下で反応させることによって生成される。
本発明のフルオロアルキル化合物の製造方法の前過程である、フルオロアルキル化剤を製造する過程について説明する。
フルオロアルキル化剤は、上記一般式［１３］もしくは上記一般式［１４］で表されるフルオロアルキルスルホン酸誘導体、または上記一般式［１６］または上記一般式［１７］で表されるフルオロアルキルカルボン酸誘導体と、上記一般式［１５］もしくは上記一般式［１８］で表される芳香族化合物とを、ルイス酸存在下で反応させることによって生成される。
上記一般式［１］、［２］、［１３］～［１８］において、Ｒ１は、置換基を有していてもよい炭素数６～１４のアリール基を表し、Ｒｆ１とＲｆ２は、同一もしくは独立の、スルホニル基もしくはカルボニル基からなる置換基または炭素原子間に１～５のエーテル結合性の酸素原子を有していてもよい炭素数１～１０の直鎖、分岐または環状構造を有することもあるアルキル基であって、スルホニルもしくはカルボニルのα炭素上がフッ素もしくはトリフルオロメチル基などの炭素で置換されて水素を持たない構造のフルオロアルキル基を表し、Ｒｆ１とＲｆ２は連結して、４～７員環を形成してもよい。なお、本明細書中において、「有していてもよい」とは、「有するまたは有さない」を意味している。同様に、「有することもある」とは、「有するまたは有さない」を意味している。また、「形成してもよい」とは、「形成するまたは形成しない」を意味している。
置換基を有していてもよいアリール基としては、例えば、フェニル基、２－メチルフェニル基、３－メチルフェニル基、４－メチルフェニル基、２，３－ジメチルフェニル基、３，４－ジメチルフェニル基、３，５－ジメチルフェニル基、２，５－ジメチルフェニル基、４－エチルフェニル基、４－クロロフェニル基、４－メトキシフェニル基、４－フルオロフェニル基、４－トリフルオロメチルフェニル基、４－シアノフェニル基、４－ニトロフェニル基、３，５－ジメトキシフェニル基、１－ナフチル基、２－ナフチル基等を挙げることができる。
置換基またはエーテル結合性の酸素原子を有していてもよいフルオロアルキル基としては、例えば、１，１，２，２，３，３，４，４－オクタフルオロ－４－ブタン－１－スルホネート基、１，１，２，２，３，３－ヘキサフルオロ－３－プロパン－１－スルホネート基、１，１，２，２－ブタフルオロ－２－エタン－１－スルホネート基、１，１，－ジフルオロ－１－メタン－１－スルホネート基、ペルフルオロヘキシル基、ペルフルオロペンチル基、ノナフルオロブチル基、ヘプタフルオロプロピル基、－ＣＦ（ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３、－ＣＦ（ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３、－ＣＦ（ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＯＣ６Ｈ５、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ－トリデカフルオロオクチル基、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ－ノナフルオロヘキシル基等を挙げることができる。
本発明で用いられるルイス酸として、例えば、塩化アルミニウム、三フッ化ホウ素、塩化スズ、塩化亜鉛等が挙げることができる。上記一般式［１３］で表されるフルオロアルキルスルホン酸誘導体、上記一般式［１４］で表されるフルオロアルキルスルホン酸誘導体、上記一般式［１６］で表されるフルオロアルキルカルボン酸誘導体、または上記一般式［１７］で表されるフルオロアルキルカルボン酸誘導体に対するルイス酸の使用量は、モル比で０．５～１０であり、好ましくは１．５～６である。ルイス酸の使用量が０．５未満の場合、フルオロアルキル化剤の生成量が十分でない。また、ルイス酸の使用量が１０を超える場合は経済的でない。
上記一般式［１３］で表されるフルオロアルキルスルホン酸誘導体、上記一般式［１４］で表されるフルオロアルキルスルホン酸誘導体、上記一般式［１６］で表されるフルオロアルキルカルボン酸誘導体、または上記一般式［１７］で表されるフルオロアルキルカルボン酸誘導体に対する、上記一般式［１５］で表される芳香族化合物または上記一般式［１８］で表される芳香族化合物は溶媒量を用いており、その使用量は、特に限定されないが、通常、質量比で２～１５倍である。
また、上記一般式［１３］で表されるフルオロアルキルスルホン酸誘導体、上記一般式［１４］で表されるフルオロアルキルスルホン酸誘導体、上記一般式［１６］で表されるフルオロアルキルカルボン酸誘導体、または上記一般式［１７］で表されるフルオロアルキルカルボン酸誘導体は、溶媒不在下でルイス酸を反応させてもよいが、非プロトン性溶媒を加えてもよい。非プロトン性溶媒としては、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル類、ペンタン、ヘキサン等のアルカン類等を挙げることができる。反応温度は、特に限定されないが、通常、０℃～８０℃である。
＜フルオロアルキル化反応＞
次に、上記一般式［１］または上記一般式［２］で表されるフルオロアルキル化剤と、求電子剤と反応させる過程について説明する。
フルオロアルキル化合物は、上記一般式［１］または上記一般式［２］で表されるフルオロアルキル化剤と、求電子剤とを反応させることによって生成される。
次に、上記一般式［１］または上記一般式［２］で表されるフルオロアルキル化剤と、求電子剤と反応させる過程について説明する。
フルオロアルキル化合物は、上記一般式［１］または上記一般式［２］で表されるフルオロアルキル化剤と、求電子剤とを反応させることによって生成される。
以降の化学反応は、反応に不活性な溶媒中で行うことができる。反応に不活性な溶媒としては、例えば、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、１，４－ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジイソプロピルエーテル、アセトニトリル、ベンゼン、トルエン、ジメチスルホキシド等が挙げることができる。
反応温度は、－７８℃～５０℃であり、好ましくは－７０℃～２５℃である。
反応温度は、－７８℃～５０℃であり、好ましくは－７０℃～２５℃である。
＜プロトン供与体のフルオロアルキル化＞
上記一般式［３］で表されるプロトン供与体を求電子剤として用いて塩基を作用させた場合、上記一般式［４］で表される水素原子を有するフルオロアルキル化合物が得られる。
上記一般式［３］と上記一般式［４］において、置換基Ｒ２は、水素原子または置換基を有していてもよい炭素数１～３０のアルキル基または置換基を有していてもよい炭素数６～１４のアリール基を表す。
上記一般式［３］で表されるプロトン供与体を求電子剤として用いて塩基を作用させた場合、上記一般式［４］で表される水素原子を有するフルオロアルキル化合物が得られる。
上記一般式［３］と上記一般式［４］において、置換基Ｒ２は、水素原子または置換基を有していてもよい炭素数１～３０のアルキル基または置換基を有していてもよい炭素数６～１４のアリール基を表す。
置換基を有していてもよい炭素数１～３０のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、１－プロピル基、２－プロピル基、１－ブチル基、２－ブチル基、ｉｓｏ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、１－ペンチル基、１－ヘキシル基、１－へプチル基、１－オクチル基、１－ノニル基、１－デシル基等を挙げることができる。
置換基を有していてもよい炭素数６～１４のアリール基としては、例えば、フェニル基、２－メチルフェニル基、３－メチルフェニル基、４－メチルフェニル基、２，３－ジメチルフェニル基、３，４－ジメチルフェニル基、３，５－ジメチルフェニル基、２，５－ジメチルフェニル基、４－エチルフェニル基、４－クロロフェニル基、４－メトキシフェニル基、４－フルオロフェニル基、４－トリフルオロメチルフェニル基、４－シアノフェニル基、４－ニトロフェニル基、３，５－ジメトキシフェニル基、１－ナフチル基、２－ナフチル基等を挙げることができる。
上記一般式［１］または上記一般式［２］で表されるフルオロアルキル化剤に対する上記一般式［３］で表されるプロトン供与体の使用量は、モル比で０．５～１０であり、好ましくは１～５である。プロトン供与体の使用量が１未満の場合、フルオロアルキル化合物の生成量が十分ではない。また、プロトン供与体の使用量が２を超える場合、経済的でない。
プロトン供与体のフルオロアルキル化で用いられる塩基としては、例えば、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化リチウム、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウム－ｔｅｒｔ－ブトキシド等が挙げることができる。
上記一般式［１］または上記一般式［２］で表されるフルオロアルキル化剤に対する塩基の使用量は、モル比で１～１０であり、好ましくは２．５～５．０である。塩基の使用量が１未満の場合、フルオロアルキル化合物の生成量が十分ではない。また、塩基の使用量が４を超える場合、生成したフルオロアルキル化合物の分解が進行する。
＜ケイ素化合物のフルオロアルキル化＞
上記一般式［５］で表されるケイ素化合物を求電子剤として用いて還元剤を作用させた場合、上記一般式［６］で表されるケイ素原子を有するフルオロアルキル化合物が得られる。
上記一般式［５］で表されるケイ素化合物を求電子剤として用いて還元剤を作用させた場合、上記一般式［６］で表されるケイ素原子を有するフルオロアルキル化合物が得られる。
上記一般式［５］および上記一般式［６］において、置換基Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、それぞれ独立に水素原子または炭素数１～１０の直鎖、分岐あるいは環状構造を有することもある置換基や不飽和結合を有してもよいアルキル基、アリール基、もしくは炭素数１～３０のアルキル基または置換基を有していてもよい炭素数６～１４のアリール基を含むアルコキシ基を表す。
置換基を有していてもよい炭素数１～１０のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ビニル基、１－プロピル基、２－プロピル基、アリル基、アクリロイル基、１－ブチル基、２－ブチル基、ｉｓｏ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ブタジエニル基、１－ペンチル基、１－ヘキシル基、１－へプチル基、１－オクチル基、１－ノニル基、１－デシル基等を挙げることができる。
置換基を有していてもよいアリール基としては、例えば、フェニル基、２－メチルフェニル基、３－メチルフェニル基、４－メチルフェニル基、２，３－ジメチルフェニル基、３，４－ジメチルフェニル基、３，５－ジメチルフェニル基、２，５－ジメチルフェニル基、４－エチルフェニル基、４－ビニルフェニル基、４－アリルフェニル基、４－クロロフェニル基、４－メトキシフェニル基、４－フルオロフェニル基、４－トリフルオロメチルフェニル基、４－シアノフェニル基、４－ニトロフェニル基、３，５－ジメトキシフェニル基、１－ナフチル基、２－ナフチル基等を挙げることができる。
上記一般式［１］または上記一般式［２］で表されるフルオロアルキル化剤に対する上記一般式［５］で表されるケイ素化合物の使用量は、モル比で１～１０であり、好ましくは５～８である。ケイ素化合物の使用量が１未満の場合、フルオロアルキル化合物の生成量が十分ではない。また、ケイ素化合物の使用量が１０を超える場合、経済的でない。
ケイ素化合物のフルオロアルキル化で用いられる還元剤として、例えば、マグネシウム、亜鉛、マンガン等が挙げることができる。
上記一般式［１］または上記一般式［２］で表されるフルオロアルキル化剤に対する還元剤の使用量は、モル比で１～４であり、好ましくは１．５～２．５である。還元剤の使用量が１未満の場合、フルオロアルキル化合物の生成量が十分ではない。また、還元剤の使用量が４を超える場合、経済的でない。
＜カルボニル化合物のフルオロアルキル化＞
上記一般式［７］で表されるカルボニル化合物を求電子剤として用いて塩基を作用させた場合、上記一般式［８］で表される水酸基を有するフルオロアルキル化合物が得られる。
上記一般式［７］で表されるカルボニル化合物を求電子剤として用いて塩基を作用させた場合、上記一般式［８］で表される水酸基を有するフルオロアルキル化合物が得られる。
上記一般式［７］および上記一般式［８］において、Ｒ６およびＲ７は、それぞれ独立に水素原子または炭素数１～１０の直鎖、分岐あるいは環状構造を有することもある置換基を有してもよいアルキル基、アリール基を表す。
置換基を有していてもよい炭素数１～１０のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ビニル基、１－プロピル基、２－プロピル基、アリル基、アクリロイル基、１－ブチル基、２－ブチル基、ｉｓｏ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ブタジエニル基、１－ペンチル基、１－ヘキシル基、１－へプチル基、１－オクチル基、１－ノニル基、１－デシル基等を挙げることができる。
置換基を有していてもよいアリール基としては、例えば、フェニル基、２－メチルフェニル基、３－メチルフェニル基、４－メチルフェニル基、２，３－ジメチルフェニル基、３，４－ジメチルフェニル基、３，５－ジメチルフェニル基、２，５－ジメチルフェニル基、４－エチルフェニル基、４－ビニルフェニル基、４－アリルフェニル基、４－クロロフェニル基、４－メトキシフェニル基、４－フルオロフェニル基、４－トリフルオロメチルフェニル基、４－シアノフェニル基、４－ニトロフェニル基、３，５－ジメトキシフェニル基、１－ナフチル基、２－ナフチル基等を挙げることができる。
上記一般式［１］または上記一般式［２］で表されるフルオロアルキル化剤に対する上記一般式［７］で表されるカルボニル化合物の使用量は、モル比で０．５～４であり、好ましくは１～３である。カルボニル化合物の使用量が０．５未満の場合、フルオロアルキル化合物の生成量が十分ではない。また、カルボニル化合物の使用量が４を超える場合、経済的でない。
カルボニル化合物のフルオロアルキル化で用いられる塩基として、例えば、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化リチウム、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウム－ｔｅｒｔ－ブトキシド等が挙げることができる。
上記一般式［１］または上記一般式［２］で表されるフルオロアルキル化剤に対する塩基の使用量は、モル比で１～４であり、好ましくは１．５～２．５である。塩基の使用量が１未満の場合、フルオロアルキル化合物の生成量が十分ではない。また、塩基の使用量が４を超える場合、経済的でない。
＜ジスルフィドのフルオロアルキル化＞
上記一般式［９］で表されるジスルフィド化合物を求電子剤として用いて塩基を作用させた場合、上記一般式［１０］で表されるスルフィド結合を有するフルオロアルキル化合物が得られる。
上記一般式［９］で表されるジスルフィド化合物を求電子剤として用いて塩基を作用させた場合、上記一般式［１０］で表されるスルフィド結合を有するフルオロアルキル化合物が得られる。
上記一般式［９］および上記一般式［１０］において、置換基Ｒ８は、炭素数１～１０の直鎖、分岐あるいは環状構造を有することもある置換基を有してもよいアルキル基、アリール基を表す。
置換基を有していてもよい炭素数１～１０のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ビニル基、１－プロピル基、２－プロピル基、アリル基、アクリロイル基、１－ブチル基、２－ブチル基、ｉｓｏ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ブタジエニル基、１－ペンチル基、１－ヘキシル基、１－へプチル基、１－オクチル基、１－ノニル基、１－デシル基等を挙げることができる。
置換基を有していてもよいアリール基としては、例えば、フェニル基、２－メチルフェニル基、３－メチルフェニル基、４－メチルフェニル基、２，３－ジメチルフェニル基、３，４－ジメチルフェニル基、３，５－ジメチルフェニル基、２，５－ジメチルフェニル基、４－エチルフェニル基、４－ビニルフェニル基、４－アリルフェニル基、４－クロロフェニル基、４－メトキシフェニル基、４－フルオロフェニル基、４－トリフルオロメチルフェニル基、４－シアノフェニル基、４－ニトロフェニル基、３，５－ジメトキシフェニル基、１－ナフチル基、２－ナフチル基等を挙げることができる。
上記一般式［１］または上記一般式［２］で表されるフルオロアルキル化剤に対する上記一般式［９］で表されるジスルフィド化合物の使用量は、モル比で１～４であり、好ましくは１．５～２．５である。ジスルフィド化合物の使用量が１未満の場合、フルオロアルキル化合物の生成量が十分ではない。また、ジスルフィド化合物の使用量が４を超える場合、経済的でない。
ジスルフィド化合物のフルオロアルキル化で用いられる塩基として、例えば、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化リチウム、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウム－ｔｅｒｔ－ブトキシド等が挙げることができる。
上記一般式［１］または上記一般式［２］で表されるフルオロアルキル化剤に対する塩基の使用量は、モル比で１～４であり、好ましくは１．５～２．５である。塩基の使用量が１未満の場合、フルオロアルキル化合物の生成量が十分ではない。また、塩基の使用量が４を超える場合、経済的でない。
本発明のフルオロアルキル化剤は、工業的に製造され容易に入手可能なフルオロアルキルスルホン酸およびカルボン酸から調製可能である。本発明のフルオロアルキル化剤を用いることでフルオロアルキル化合物の新たな製造法が可能となる。このため、医薬、農薬、機能性材料等の分野に、さらに多様なフルオロアルキル化合物を提供することが可能となる。これらのことから、本発明は、フルオロアルキル化合物を製造するためのフルオロアルキル化剤として非常に有用である。
本発明は、既存のフルオロアルキル化剤では入手・調製するのが難しかった多様なフルオロアルキル構造を、入手容易なフルオロアルキルスルホン酸やカルボン酸からフルオロアルキル化剤を製造することを可能とし、それを用いることで多様なフルオロアルキル化合物の製造ができる。さらにそれだけではなく、本発明者等は、従来、炭素－硫黄結合や炭素－炭素結合の切断が難しいと考えられていたためにフルオロアルキル化剤としては使われてこなかったフルオロアルキルスルホン酸やカルボン酸を誘導化することでフルオロアルキル化剤として働くことを見出した。さらに、得られたフルオロアルキル化剤を用いることで、医薬、農薬、機能性材料等の分野に、さらに多様なフルオロアルキル化合物を提供することが可能となるため、産業上の利用価値も高い。
以下、実施例および比較例により本発明をさらに具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
実施例、比較例の分析に使用したＮＭＲ装置は、Ｂｒｕｋｅｒ社製ＡＶＡＮＣＥ ４００（１Ｈ－ＮＭＲ：４００ＭＨｚ、１９Ｆ－ＮＭＲ：３７６ＭＨｚ）である。１Ｈ－ＮＭＲでは、テトラメチルシランを０ｐｐｍの基準値とし、１９Ｆ－ＮＭＲでは、トリクロロフルオロメタンを０ｐｐｍの基準値とした。
［実施例１］
上記一般式［１］のＲ１がフェニル基、Ｒｆ１が－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＳＯ３Ｋ基である、下記式（１）で表される化合物を合成した。
上記一般式［１］のＲ１がフェニル基、Ｒｆ１が－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＳＯ３Ｋ基である、下記式（１）で表される化合物を合成した。
窒素雰囲気下、塩化アルミニウム（１７．７３ｇ、１３３ｍｍｏｌ）をベンゼン（２００ｍＬ）に加え、０℃に冷却した。これにヘキサフルオロ－１，３－プロパンジスルホン酸無水物（２６．０７ｇ、８８．６ｍｍｏｌ）をゆっくり加え、室温で１７時間攪拌した後、２Ｍ塩酸水溶液（２００ｍＬ）でクエンチした。得られた反応液に酢酸エチル（２００ｍＬ）を加え分液した後、有機層を２Ｍ塩酸水溶液（１００ｍＬ）で１回洗浄し、得られた有機層を２Ｍ水酸化カリウム水溶液（１００ｍＬ）で２回洗浄した。洗浄後の有機層を硫酸マグネシウムで乾燥した後に、溶媒を減圧下で留去した。得られた粗生成物に、２－プロパノール（５０ｍＬ）を加え、８０℃で１時間攪拌した後、０℃の氷浴で５時間攪拌し、懸濁液を得た。当該懸濁液を濾過し、２－プロパノール（２０ｍＬ）で洗浄し、固体を減圧下で乾燥することで、上記式（１）で表される化合物を６４％収率で得た。
１９Ｆ－ＮＭＲ分析により、上記式（１）で表される化合物が得られたことを確認した。
１９Ｆ－ＮＭＲ（重アセトン）：δ－１１１．７５～－１１１．８５（ｍ，２Ｆ），－１１５．０２～－１１５．１１（ｍ，２Ｆ），－１１９．０２～－１１９．０５（ｍ，２Ｆ）．
１９Ｆ－ＮＭＲ分析により、上記式（１）で表される化合物が得られたことを確認した。
１９Ｆ－ＮＭＲ（重アセトン）：δ－１１１．７５～－１１１．８５（ｍ，２Ｆ），－１１５．０２～－１１５．１１（ｍ，２Ｆ），－１１９．０２～－１１９．０５（ｍ，２Ｆ）．
［実施例２］
上記式（１）で表される化合物をフルオロアルキル化剤として用い、ｔｅｒｔ－ブチルアルコールのアルコキシ基を－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＳＯ３Ｋ基に置換し、下記式（２）で表される化合物を合成した。
上記式（１）で表される化合物をフルオロアルキル化剤として用い、ｔｅｒｔ－ブチルアルコールのアルコキシ基を－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＳＯ３Ｋ基に置換し、下記式（２）で表される化合物を合成した。
窒素雰囲気下、上記式（１）で表される化合物（０．５０ｇ、１．２２ｍｍｏｌ）およびｔｅｒｔ－ブチルアルコール（１１６μＬ、１．２２ｍｍｏｌ）をＮ，Ｎ－ジメチルホルムアミド（５．０ｍＬ）に加えた。これにカリウムｔｅｒｔ－ブトキシドのＴＨＦ溶液（１Ｍ，３．０５ｍＬ、３．０５ｍｍｏｌ）をゆっくり加え、室温で１時間攪拌した後、２Ｍ塩酸水溶液（１０ｍＬ）でクエンチした。得られた反応液に酢酸エチル（２０ｍＬ）を加え分液した後、水槽を酢酸エチル（１０ｍＬ）で１回抽出し、すべての有機層を合わせて飽和食塩水（２０ｍＬ）で洗浄した。洗浄後の有機層を硫酸マグネシウムで乾燥した後に、溶媒を減圧下で留去した。得られた粗生成物を、水（２０ｍＬ）に溶かし、０．５Ｍ水酸化カリウム水溶液（２．４ｍＬ）を加え、溶媒を減圧下で留去した。得られた組成生物に、エタノール（３０ｍＬ）を加え、室温で１時間攪拌した後、懸濁液を得た。当該懸濁液を濾過し、エタノール（２０ｍＬ）で洗浄し、固体を減圧下で乾燥することで、上記式（２）で表される化合物を９７％収率で得た。
１９Ｆ－ＮＭＲ分析により、上記式（２）で表される化合物が得られたことを確認した。
１９Ｆ－ＮＭＲ（重水）：δ－１１６．５６～－１１６．６０（ｍ，２Ｆ），－１２９．７２～－１２９．７８（ｍ，２Ｆ），－１３７．５５～－１３７．７５（ｍ，２Ｆ）．
１９Ｆ－ＮＭＲ分析により、上記式（２）で表される化合物が得られたことを確認した。
１９Ｆ－ＮＭＲ（重水）：δ－１１６．５６～－１１６．６０（ｍ，２Ｆ），－１２９．７２～－１２９．７８（ｍ，２Ｆ），－１３７．５５～－１３７．７５（ｍ，２Ｆ）．
[実施例３]
上記一般式［１］のＲ１がトリル基、Ｒｆ１が－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＳＯ３Ｋ基である、下記式（３）で表される化合物と下記式（４）で表される化合物を合成した。
上記一般式［１］のＲ１がトリル基、Ｒｆ１が－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＳＯ３Ｋ基である、下記式（３）で表される化合物と下記式（４）で表される化合物を合成した。
実施例１で用いたベンゼンに替えてトルエンを用いたこと以外は実施例１と同じ操作を行い、上記式（３）で表される化合物と上記式（４）で表される化合物の混合物を６６％収率で得た。上記式（３）で表される化合物と上記式（４）で表される化合物の混合比は、モル比で１：２であった。
１９Ｆ－ＮＭＲ分析により、上記式（３）で表される化合物と上記式（４）で表される化合物が得られたことを確認した。
１９Ｆ－ＮＭＲ（重メタノール）：δ－１１２．１３～－１１２．６８（ｍ，２Ｆ），－１１５．３５～－１１５．５１（ｍ，２Ｆ），－１１９．６２～－１１９．９９（ｍ，２Ｆ）．
１９Ｆ－ＮＭＲ分析により、上記式（３）で表される化合物と上記式（４）で表される化合物が得られたことを確認した。
１９Ｆ－ＮＭＲ（重メタノール）：δ－１１２．１３～－１１２．６８（ｍ，２Ｆ），－１１５．３５～－１１５．５１（ｍ，２Ｆ），－１１９．６２～－１１９．９９（ｍ，２Ｆ）．
[実施例４]
上記式（３）で表される化合物と上記式（４）で表される化合物の混合物をフルオロアルキル化剤として用い、ｔｅｒｔ－ブチルアルコールのアルコキシ基を－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＳＯ３Ｋ基に置換し、上記式（２）で表される化合物を合成した。
実施例２における上記式（１）で表される化合物に替えて上記式（３）で表される化合物と上記式（４）で表される化合物の混合物を用いたこと以外は実施例２と同じ操作を行い、上記式（２）で表される化合物を９０％収率で得た。
上記式（３）で表される化合物と上記式（４）で表される化合物の混合物をフルオロアルキル化剤として用い、ｔｅｒｔ－ブチルアルコールのアルコキシ基を－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＳＯ３Ｋ基に置換し、上記式（２）で表される化合物を合成した。
実施例２における上記式（１）で表される化合物に替えて上記式（３）で表される化合物と上記式（４）で表される化合物の混合物を用いたこと以外は実施例２と同じ操作を行い、上記式（２）で表される化合物を９０％収率で得た。
[実施例５]
上記一般式［１］中のＲ１がｏ－キシリル基、Ｒｆ１が－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＳＯ３Ｋ基である、下記式（５）で表される化合物と下記式（６）で表される化合物を合成した。
上記一般式［１］中のＲ１がｏ－キシリル基、Ｒｆ１が－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＳＯ３Ｋ基である、下記式（５）で表される化合物と下記式（６）で表される化合物を合成した。
実施例１で用いたベンゼンに替えてｏ－キシレンを用いたこと以外は実施例１と同じ操作を行い、上記式（５）で表される化合物と上記式（６）で表される化合物の混合物を６５％収率で得た。上記式（５）で表される化合物と上記式（６）で表される化合物の混合比は、モル比で１：２であった。
１９Ｆ－ＮＭＲ分析により、上記式（５）で表される化合物と上記式（６）で表される化合物が得られたことを確認した。
１９Ｆ－ＮＭＲ（重メタノール）：δ－１１１．９３～－１１２．７２（ｍ，２Ｆ），－１１５．３５～－１１５．５１（ｍ，２Ｆ），－１１９．６４～－１２０．０２（ｍ，２Ｆ）．
１９Ｆ－ＮＭＲ分析により、上記式（５）で表される化合物と上記式（６）で表される化合物が得られたことを確認した。
１９Ｆ－ＮＭＲ（重メタノール）：δ－１１１．９３～－１１２．７２（ｍ，２Ｆ），－１１５．３５～－１１５．５１（ｍ，２Ｆ），－１１９．６４～－１２０．０２（ｍ，２Ｆ）．
［実施例６］
上記式（５）で表される化合物と上記式（６）で表される化合物の混合物をフルオロアルキル化剤として用い、ｔｅｒｔ－ブチルアルコールのアルコキシ基を－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＳＯ３Ｋ基に置換し、上記式（２）で表される化合物を合成した。
実施例２における上記式（１）で表される化合物に替えて上記式（５）で表される化合物と上記式（６）で表される化合物の混合物を用いたこと以外は実施例２と同じ操作を行い、上記式（２）で表される化合物を８８％収率で得た。
上記式（５）で表される化合物と上記式（６）で表される化合物の混合物をフルオロアルキル化剤として用い、ｔｅｒｔ－ブチルアルコールのアルコキシ基を－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＳＯ３Ｋ基に置換し、上記式（２）で表される化合物を合成した。
実施例２における上記式（１）で表される化合物に替えて上記式（５）で表される化合物と上記式（６）で表される化合物の混合物を用いたこと以外は実施例２と同じ操作を行い、上記式（２）で表される化合物を８８％収率で得た。
［実施例７］
上記一般式［１］中のＲ1がｍ－キシリル基、Ｒｆ１が－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＳＯ３Ｋ基である、下記式（７）で表される化合物を合成した。
上記一般式［１］中のＲ1がｍ－キシリル基、Ｒｆ１が－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＳＯ３Ｋ基である、下記式（７）で表される化合物を合成した。
実施例１で用いたベンゼンに替えてｍ－キシレンを用いたこと以外は実施例１と同じ操作を行い、上記式（７）で表される化合物を６０％収率で得た。
１９Ｆ－ＮＭＲ分析により、上記式（７）で表される化合物が得られたことを確認した。
１９Ｆ－ＮＭＲ（重メタノール）：δ－１１２．３８～－１１２．４７（ｍ，２Ｆ），－１１５．３９～－１１５．４８（ｍ，２Ｆ），－１２０．００～－１２０．０３（ｍ，２Ｆ）．
１９Ｆ－ＮＭＲ分析により、上記式（７）で表される化合物が得られたことを確認した。
１９Ｆ－ＮＭＲ（重メタノール）：δ－１１２．３８～－１１２．４７（ｍ，２Ｆ），－１１５．３９～－１１５．４８（ｍ，２Ｆ），－１２０．００～－１２０．０３（ｍ，２Ｆ）．
［実施例８］
上記式（７）で表される化合物をフルオロアルキル化剤として用い、ｔｅｒｔ－ブチルアルコールのアルコキシ基を－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＳＯ３Ｋ基に置換し、上記式（２）で表される化合物を合成した。
実施例２における上記式（１）で表される化合物に替えて上記式（７）で表される化合物を用いたこと以外は実施例２と同じ操作を行い、上記式（２）で表される化合物を８９％収率で得た。
上記式（７）で表される化合物をフルオロアルキル化剤として用い、ｔｅｒｔ－ブチルアルコールのアルコキシ基を－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＳＯ３Ｋ基に置換し、上記式（２）で表される化合物を合成した。
実施例２における上記式（１）で表される化合物に替えて上記式（７）で表される化合物を用いたこと以外は実施例２と同じ操作を行い、上記式（２）で表される化合物を８９％収率で得た。
［実施例９］
上記一般式［１］中のＲ１がｐ－キシリル基、Ｒｆ１が－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＳＯ３Ｋ基である、下記式（８）で表される化合物を合成した。
上記一般式［１］中のＲ１がｐ－キシリル基、Ｒｆ１が－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＳＯ３Ｋ基である、下記式（８）で表される化合物を合成した。
実施例１で用いたベンゼンに替えてｐ－キシレンを用いたこと以外は実施例１と同じ操作を行い、上記式（８）で表される化合物を７６％収率で得た。
１９Ｆ－ＮＭＲ分析により、上記式（８）で表される化合物が得られたことを確認した。
１９Ｆ－ＮＭＲ（重メタノール）：δ－１１１．９４～－１１２．０１（ｍ，２Ｆ），－１１５．０６～－１１５．１４（ｍ，２Ｆ），－１１９．７６（ｍ，２Ｆ）．
１９Ｆ－ＮＭＲ分析により、上記式（８）で表される化合物が得られたことを確認した。
１９Ｆ－ＮＭＲ（重メタノール）：δ－１１１．９４～－１１２．０１（ｍ，２Ｆ），－１１５．０６～－１１５．１４（ｍ，２Ｆ），－１１９．７６（ｍ，２Ｆ）．
［実施例１０］
上記式（８）で表される化合物をフルオロアルキル化剤として用い、ｔｅｒｔ－ブチルアルコールのアルコキシ基を－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＳＯ３Ｋ基に置換し、上記式（２）で表される化合物を合成した。
実施例２における上記式（１）で表される化合物に替えて上記式（８）で表される化合物を用いたこと以外は実施例２と同じ操作を行い、上記式（２）で表される化合物を８７％収率で得た。
上記式（８）で表される化合物をフルオロアルキル化剤として用い、ｔｅｒｔ－ブチルアルコールのアルコキシ基を－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＳＯ３Ｋ基に置換し、上記式（２）で表される化合物を合成した。
実施例２における上記式（１）で表される化合物に替えて上記式（８）で表される化合物を用いたこと以外は実施例２と同じ操作を行い、上記式（２）で表される化合物を８７％収率で得た。
［実施例１１］
上記一般式［１］中のＲ１がフェニル基、Ｒｆ１が－ＣＦ２ＣＦ２ＳＯ３Ｋ基である、下記式（９）で表される化合物を合成した。
上記一般式［１］中のＲ１がフェニル基、Ｒｆ１が－ＣＦ２ＣＦ２ＳＯ３Ｋ基である、下記式（９）で表される化合物を合成した。
実施例１で用いたヘキサフルオロ－１，３－プロパンジスルホン酸無水物に替えてブタフルオロ－１，２－エタンジスルホン酸無水物を用いたこと以外は実施例１と同じ操作を行い、上記式（９）で表される化合物を６８％収率で得た。
１９Ｆ－ＮＭＲ分析により、上記式（９）で表される化合物が得られたことを確認した。
１９Ｆ－ＮＭＲ（重メタノール）：δ－１１１．０４～－１１１．０７（ｍ，２Ｆ），－１１３．４７～－１１３．５４（ｍ，２Ｆ）．
１９Ｆ－ＮＭＲ分析により、上記式（９）で表される化合物が得られたことを確認した。
１９Ｆ－ＮＭＲ（重メタノール）：δ－１１１．０４～－１１１．０７（ｍ，２Ｆ），－１１３．４７～－１１３．５４（ｍ，２Ｆ）．
［実施例１２］
上記式（９）で表される化合物をフルオロアルキル化剤として用い、ｔｅｒｔ－ブチルアルコールのアルコキシ基を－ＣＦ２ＣＦ２ＳＯ３Ｋ基に置換し、下記式（１０）で表される化合物を合成した。
実施例２における上記式（１）で表される化合物に替えて上記式（９）で表される化合物を用いたこと以外は実施例２と同じ操作を行い、下記式（１０）で表される化合物を９５％収率で得た。
１９Ｆ－ＮＭＲ分析により、下記式（１０）で表される化合物が得られたことを確認した。
１９Ｆ－ＮＭＲ（重メタノール）：δ－１２５．２８（ｄｔ，２Ｆ），－１３７．３２（ｄｔ，２Ｆ）．
上記式（９）で表される化合物をフルオロアルキル化剤として用い、ｔｅｒｔ－ブチルアルコールのアルコキシ基を－ＣＦ２ＣＦ２ＳＯ３Ｋ基に置換し、下記式（１０）で表される化合物を合成した。
実施例２における上記式（１）で表される化合物に替えて上記式（９）で表される化合物を用いたこと以外は実施例２と同じ操作を行い、下記式（１０）で表される化合物を９５％収率で得た。
１９Ｆ－ＮＭＲ分析により、下記式（１０）で表される化合物が得られたことを確認した。
１９Ｆ－ＮＭＲ（重メタノール）：δ－１２５．２８（ｄｔ，２Ｆ），－１３７．３２（ｄｔ，２Ｆ）．
［実施例１３］
上記一般式［１］中のＲ１がフェニル基、Ｒｆ１がノナフルオロブチル基である、下記式（１１）で表される化合物を合成した。
上記一般式［１］中のＲ１がフェニル基、Ｒｆ１がノナフルオロブチル基である、下記式（１１）で表される化合物を合成した。
窒素雰囲気下、塩化アルミニウム（１．７２ｇ、１２．９ｍｍｏｌ）をベンゼン（２０ｍＬ）に加え、０℃に冷却した。これにノナフルオロブタンスルホン酸無水物（５．００ｇ、８．５９ｍｍｏｌ）をゆっくり加え、室温で１７時間攪拌した後、２Ｍ塩酸水溶液（２０ｍＬ）でクエンチした。得られた反応液に酢酸エチル（２０ｍＬ）を加え分液した後、有機層を２Ｍ塩酸水溶液（１０ｍＬ）で１回洗浄し、得られた有機層を２Ｍ水酸化カリウム水溶液（１０ｍＬ）で２回洗浄した。洗浄後の有機層を硫酸マグネシウムで乾燥した後に、溶媒を減圧下で留去した。得られた粗生成物を減圧蒸留することで、上記式（１１）で表される化合物を５２％収率で得た。
１９Ｆ－ＮＭＲ分析により、上記式（１１）で表される化合物が得られたことを確認した。
１９Ｆ－ＮＭＲ（重クロロホルム）：δ－８０．７７～－８０．８２（ｍ，３Ｆ），－１１１．５９～－１１１．６７（ｍ，２Ｆ），－１２０．８５～－１２０．９１（ｍ，２Ｆ），－１２５．９５～－１２６．０４（ｍ，２Ｆ）．
１９Ｆ－ＮＭＲ分析により、上記式（１１）で表される化合物が得られたことを確認した。
１９Ｆ－ＮＭＲ（重クロロホルム）：δ－８０．７７～－８０．８２（ｍ，３Ｆ），－１１１．５９～－１１１．６７（ｍ，２Ｆ），－１２０．８５～－１２０．９１（ｍ，２Ｆ），－１２５．９５～－１２６．０４（ｍ，２Ｆ）．
［実施例１４］
上記式（１１）で表される化合物をフルオロアルキル化剤として用い、ｔｅｒｔ－ブチルアルコールのアルコキシ基をノナフルオロブチル基に置換し、下記式（１２）で表される化合物を合成した。
上記式（１１）で表される化合物をフルオロアルキル化剤として用い、ｔｅｒｔ－ブチルアルコールのアルコキシ基をノナフルオロブチル基に置換し、下記式（１２）で表される化合物を合成した。
窒素雰囲気下、上記式（１１）で表される化合物（０．５０ｇ、１．３９ｍｍｏｌ）およびｔｅｒｔ－ブチルアルコール（１３２μＬ、１．３９ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（５．０ｍＬ）に加えた。これを－７０℃まで冷却し、カリウムｔｅｒｔ－ブトキシドのＴＨＦ溶液（１Ｍ，３．４７ｍＬ、３．４７ｍｍｏｌ）をゆっくり加え、１時間攪拌した。得られた反応液を室温まで昇温して、発生した気体をコールドトラップで捕集し、上記式（１２）で表される化合物を７３％収率で得た。
１９Ｆ－ＮＭＲ分析により、上記式（１２）で表される化合物が得られたことを確認した。
１９Ｆ－ＮＭＲ（重クロロホルム）：δ－８１．１７～－８１．３８（ｍ，３Ｆ），－１２７．７５～－１２７．９３（ｍ，２Ｆ），－１３０．１３～－１３０．３４（ｍ，２Ｆ），－１３７．４２～－１３７．７７（ｍ，２Ｆ）．
１９Ｆ－ＮＭＲ分析により、上記式（１２）で表される化合物が得られたことを確認した。
１９Ｆ－ＮＭＲ（重クロロホルム）：δ－８１．１７～－８１．３８（ｍ，３Ｆ），－１２７．７５～－１２７．９３（ｍ，２Ｆ），－１３０．１３～－１３０．３４（ｍ，２Ｆ），－１３７．４２～－１３７．７７（ｍ，２Ｆ）．
［実施例１５］
上記一般式［１］中のＲ１がフェニル基、Ｒｆ１がヘプタフルオロプロピル基である、下記式（１３）で表される化合物を合成した。
上記一般式［１］中のＲ１がフェニル基、Ｒｆ１がヘプタフルオロプロピル基である、下記式（１３）で表される化合物を合成した。
実施例１３で用いたノナフルオロブタンスルホン酸無水物に替えてヘプタフルオロプロパンスルホン酸無水物を用いたこと以外は実施例１３と同じ操作を行い、上記式（１３）で表される化合物を５６％収率で得た。
１９Ｆ－ＮＭＲ分析により、上記式（１３）で表される化合物が得られたことを確認した。
１９Ｆ－ＮＭＲ（重クロロホルム）：δ－８０．７１～－８０．７６（ｍ，３Ｆ），－１１２．３０～－１１２．３４（ｍ，２Ｆ），－１２４．２４～－１２４．２５（ｍ，２Ｆ）．
１９Ｆ－ＮＭＲ分析により、上記式（１３）で表される化合物が得られたことを確認した。
１９Ｆ－ＮＭＲ（重クロロホルム）：δ－８０．７１～－８０．７６（ｍ，３Ｆ），－１１２．３０～－１１２．３４（ｍ，２Ｆ），－１２４．２４～－１２４．２５（ｍ，２Ｆ）．
［実施例１６］
上記式（１３）で表される化合物をフルオロアルキル化剤として用い、ｔｅｒｔ－ブチルアルコールのアルコキシ基をヘプタフルオロプロピル基に置換し、下記式（１４）で表される化合物を合成した。
実施例１４における上記式（１１）で表される化合物に替えて上記式（１３）で表される化合物を用いたこと以外は実施例１４と同じ操作を行い、下記式（１４）で表される化合物を６９％収率で得た。
１９Ｆ－ＮＭＲ分析により、下記式（１４）で表される化合物が得られたことを確認した。
１９Ｆ－ＮＭＲ（重クロロホルム）：δ－８２．２７～－８２．３１（ｍ，３Ｆ），－１３２．６５～－１３２．６９（ｍ，２Ｆ），－１３７．５２～－１３７．７１（ｍ，２Ｆ）．
上記式（１３）で表される化合物をフルオロアルキル化剤として用い、ｔｅｒｔ－ブチルアルコールのアルコキシ基をヘプタフルオロプロピル基に置換し、下記式（１４）で表される化合物を合成した。
実施例１４における上記式（１１）で表される化合物に替えて上記式（１３）で表される化合物を用いたこと以外は実施例１４と同じ操作を行い、下記式（１４）で表される化合物を６９％収率で得た。
１９Ｆ－ＮＭＲ分析により、下記式（１４）で表される化合物が得られたことを確認した。
１９Ｆ－ＮＭＲ（重クロロホルム）：δ－８２．２７～－８２．３１（ｍ，３Ｆ），－１３２．６５～－１３２．６９（ｍ，２Ｆ），－１３７．５２～－１３７．７１（ｍ，２Ｆ）．
［実施例１７］
上記一般式［２］中のＲ1がフェニル基、Ｒｆ１が－ＣＦ（ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３基である、下記式（１５）で表される化合物を合成した。
上記一般式［２］中のＲ1がフェニル基、Ｒｆ１が－ＣＦ（ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３基である、下記式（１５）で表される化合物を合成した。
窒素雰囲気下、塩化アルミニウム（９．９６ｇ、７４．７ｍｍｏｌ）をベンゼン（２０ｍＬ）に加え、５０℃に加熱した。これにペルフルオロ（２－メチル－３－オキサヘキサノイル）フルオリド（９．２６ｇ、２７．９ｍｍｏｌ）をゆっくり加え、室温で７時間攪拌した後、２Ｍ塩酸水溶液（２０ｍＬ）でクエンチした。得られた反応液にクロロホルム（４０ｍＬ）を加え分液した後、有機層を２Ｍ塩酸水溶液（１０ｍＬ）で１回洗浄し、得られた有機層を２Ｍ水酸化カリウム水溶液（１０ｍＬ）で２回洗浄した。洗浄後の有機層を硫酸マグネシウムで乾燥した後に、溶媒を減圧下で留去した。得られた粗生成物を減圧蒸留することで、上記式（１５）で表される化合物を５５％収率で得た。
１９Ｆ－ＮＭＲ分析により、上記式（１５）で表される化合物が得られたことを確認した。
１９Ｆ－ＮＭＲ（重クロロホルム）：δ－７８．０９～－７８．５６（ｍ，１Ｆ），－８０．５４（ｍ，３Ｆ），－８１．２８～－８１．３２（ｍ，３Ｆ），－８２．７４～－８３．１９（ｍ，１Ｆ），－１２８．４７～－１２８．５４（ｍ，１Ｆ），－１２９．５２～－１２９．５４（ｍ，２Ｆ）．
１９Ｆ－ＮＭＲ分析により、上記式（１５）で表される化合物が得られたことを確認した。
１９Ｆ－ＮＭＲ（重クロロホルム）：δ－７８．０９～－７８．５６（ｍ，１Ｆ），－８０．５４（ｍ，３Ｆ），－８１．２８～－８１．３２（ｍ，３Ｆ），－８２．７４～－８３．１９（ｍ，１Ｆ），－１２８．４７～－１２８．５４（ｍ，１Ｆ），－１２９．５２～－１２９．５４（ｍ，２Ｆ）．
［実施例１８］
上記式（１５）で表される化合物をフルオロアルキル化剤として用い、ｔｅｒｔ－ブチルアルコールのアルコキシ基を－ＣＦ（ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３基に置換し、下記式（１６）で表される化合物を合成した。
窒素雰囲気下、カリウムｔｅｒｔ－ブトキシドのＴＨＦ溶液（１Ｍ、６．４１ｍＬ、６．４１ｍｍｏｌ）およびｔｅｒｔ－ブチルアルコール（０．６１ｍＬ、６．４１ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（２０ｍＬ）に加えた。これを－７０℃まで冷却し、上記式（１５）で表される化合物（１．００ｇ、２．５６ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（１０ｍＬ）をゆっくり加え、１時間攪拌した。得られた反応液を室温まで昇温して１時間攪拌した後、２Ｍ塩酸水溶液（３０ｍＬ）でクエンチした。得られた反応液にクロロホルム（２０ｍＬ）を加え分液した後、水層をクロロホルム（２０ｍＬ）で１回抽出し、すべての有機層を合わせて飽和食塩水（２０ｍＬ）で洗浄した。洗浄後の有機層を硫酸マグネシウムで乾燥した後に、溶媒を減圧下で留去した。得られた液体を減圧下で蒸留することで、下記式（１６）であらわされる化合物を８２％収率で得た。
１９Ｆ－ＮＭＲ分析により、下記式（１６）で表される化合物が得られたことを確認した。
１９Ｆ－ＮＭＲ（重クロロホルム）：δ－８１．５１～－８１．５３（ｍ，３Ｆ），－８４．００～－８４．０２（ｍ，３Ｆ），－８４．９８～－８７．２６（ｍ，２Ｆ），－１２９．８６～－１２９．９２（ｍ，２Ｆ），－１４５．７３～－１４５．９６（ｍ，１Ｆ）．
上記式（１５）で表される化合物をフルオロアルキル化剤として用い、ｔｅｒｔ－ブチルアルコールのアルコキシ基を－ＣＦ（ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３基に置換し、下記式（１６）で表される化合物を合成した。
窒素雰囲気下、カリウムｔｅｒｔ－ブトキシドのＴＨＦ溶液（１Ｍ、６．４１ｍＬ、６．４１ｍｍｏｌ）およびｔｅｒｔ－ブチルアルコール（０．６１ｍＬ、６．４１ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（２０ｍＬ）に加えた。これを－７０℃まで冷却し、上記式（１５）で表される化合物（１．００ｇ、２．５６ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（１０ｍＬ）をゆっくり加え、１時間攪拌した。得られた反応液を室温まで昇温して１時間攪拌した後、２Ｍ塩酸水溶液（３０ｍＬ）でクエンチした。得られた反応液にクロロホルム（２０ｍＬ）を加え分液した後、水層をクロロホルム（２０ｍＬ）で１回抽出し、すべての有機層を合わせて飽和食塩水（２０ｍＬ）で洗浄した。洗浄後の有機層を硫酸マグネシウムで乾燥した後に、溶媒を減圧下で留去した。得られた液体を減圧下で蒸留することで、下記式（１６）であらわされる化合物を８２％収率で得た。
１９Ｆ－ＮＭＲ分析により、下記式（１６）で表される化合物が得られたことを確認した。
１９Ｆ－ＮＭＲ（重クロロホルム）：δ－８１．５１～－８１．５３（ｍ，３Ｆ），－８４．００～－８４．０２（ｍ，３Ｆ），－８４．９８～－８７．２６（ｍ，２Ｆ），－１２９．８６～－１２９．９２（ｍ，２Ｆ），－１４５．７３～－１４５．９６（ｍ，１Ｆ）．
［実施例１９］
上記一般式［２］中のＲ1がフェニル基、Ｒｆ１が－ＣＦ（ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３基である、下記式（１７）で表される化合物を合成した。
上記一般式［２］中のＲ1がフェニル基、Ｒｆ１が－ＣＦ（ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３基である、下記式（１７）で表される化合物を合成した。
実施例１７で用いたペルフルオロ（２－メチル－３－オキサヘキサノイル）フルオリドに替えてペルフルオロ（２，５－ジメチル－３，６－ジオキサノナノイル）フルオリドを用いたこと以外は実施例１７と同じ操作を行い、上記式（１７）で表される化合物を７６％収率で得た。
１９Ｆ－ＮＭＲ分析により、上記式（１７）で表される化合物が得られたことを確認した。
１９Ｆ－ＮＭＲ（重クロロホルム）：δ－７７．２７～－７８．４８（ｍ，１Ｆ），－８０．０２～－８０．１１（ｍ，３Ｆ），－８０．７６～－８１．６９（ｍ，９Ｆ），－１２８．４１～－１２８．６２（ｍ，１Ｆ），－１２８．６４～－１２９．６６（ｍ，２Ｆ），－１４４．９５～－１４５．２３（ｍ，１Ｆ）．
１９Ｆ－ＮＭＲ分析により、上記式（１７）で表される化合物が得られたことを確認した。
１９Ｆ－ＮＭＲ（重クロロホルム）：δ－７７．２７～－７８．４８（ｍ，１Ｆ），－８０．０２～－８０．１１（ｍ，３Ｆ），－８０．７６～－８１．６９（ｍ，９Ｆ），－１２８．４１～－１２８．６２（ｍ，１Ｆ），－１２８．６４～－１２９．６６（ｍ，２Ｆ），－１４４．９５～－１４５．２３（ｍ，１Ｆ）．
［実施例２０］
上記式（１７）で表される化合物をフルオロアルキル化剤として用い、ｔｅｒｔ－ブチルアルコールのアルコキシ基を－ＣＦ（ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３基に置換し、下記式（１８）で表される化合物を合成した。
実施例１８における上記式（１５）で表される化合物に替えて上記式（１７）で表される化合物を用いたこと以外は実施例１８と同じ操作を行い、下記式（１８）で表される化合物を７９％収率で得た。
１９Ｆ－ＮＭＲ分析により、下記式（１８）で表される化合物が得られたことを確認した。
１９Ｆ－ＮＭＲ（重クロロホルム）：δ－８０．１０～－８０．２５（ｍ，３Ｆ），－８１．４０～－８１．５２（ｍ，３Ｆ），－８１．７７～－８１．９２（ｍ，２Ｆ），－８３．４６～－８６．３３（ｍ，５Ｆ），－１２９．７３～－１２９．７９（ｍ，２Ｆ），－１４５．１４～－１４５．３０（ｍ，１Ｆ），－１４５．６７～－１４５．９４（ｍ，１Ｆ）．
上記式（１７）で表される化合物をフルオロアルキル化剤として用い、ｔｅｒｔ－ブチルアルコールのアルコキシ基を－ＣＦ（ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３基に置換し、下記式（１８）で表される化合物を合成した。
実施例１８における上記式（１５）で表される化合物に替えて上記式（１７）で表される化合物を用いたこと以外は実施例１８と同じ操作を行い、下記式（１８）で表される化合物を７９％収率で得た。
１９Ｆ－ＮＭＲ分析により、下記式（１８）で表される化合物が得られたことを確認した。
１９Ｆ－ＮＭＲ（重クロロホルム）：δ－８０．１０～－８０．２５（ｍ，３Ｆ），－８１．４０～－８１．５２（ｍ，３Ｆ），－８１．７７～－８１．９２（ｍ，２Ｆ），－８３．４６～－８６．３３（ｍ，５Ｆ），－１２９．７３～－１２９．７９（ｍ，２Ｆ），－１４５．１４～－１４５．３０（ｍ，１Ｆ），－１４５．６７～－１４５．９４（ｍ，１Ｆ）．
［実施例２１］
上記一般式［１１］中のＲ９がフェニル基、Ｘ３がカリウムである、下記式（１９）で表される化合物を合成した。
上記一般式［１１］中のＲ９がフェニル基、Ｘ３がカリウムである、下記式（１９）で表される化合物を合成した。
窒素雰囲気下、塩化アルミニウム（２５．６ｇ、１９２ｍｍｏｌ）をベンゼン（４０ｍＬ）に加え、５０℃に加熱した。これに２，２，３，３，４，４－ヘキサフルオロ－４－（フルオロスルホニル）ブタノイルフルオリド（２０．０ｇ、７１．２ｍｍｏｌ）をゆっくり加え、室温で２時間攪拌した後、２Ｍ塩酸水溶液（２００ｍＬ）でクエンチした。得られた反応液にクロロホルム（２００ｍＬ）を加え分液した後、有機層を２Ｍ塩酸水溶液（１００ｍＬ）で２回洗浄し、得られた有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（１００ｍＬ）で２回洗浄した。洗浄後の有機層を硫酸マグネシウムで乾燥した後に、溶媒を減圧下で留去した。得られた粗生成物を減圧蒸留した後に水（１０ｍＬ）と炭酸カリウム（０．４９ｇ、０．００３５ｍｍｏｌ）を加え、室温で１時間攪拌した後、溶媒を減圧下で留去した。得られた粗生成物に２－プロパノール（１０ｍＬ）を加え７０℃に加熱した後に濾過し、得られた固体を減圧乾燥することで、上記式（１９）で表される化合物を５％収率で得た。
１９Ｆ－ＮＭＲ分析により、上記式（１９）で表される化合物が得られたことを確認した。
１９Ｆ－ＮＭＲ（重アセトニトリル）：δ－１１３．５１～－１１３．５７（ｍ，２Ｆ），－１１４．２５～－１１４．３２（ｍ，２Ｆ），－１２０．５２（ｍ，２Ｆ）．
１９Ｆ－ＮＭＲ分析により、上記式（１９）で表される化合物が得られたことを確認した。
１９Ｆ－ＮＭＲ（重アセトニトリル）：δ－１１３．５１～－１１３．５７（ｍ，２Ｆ），－１１４．２５～－１１４．３２（ｍ，２Ｆ），－１２０．５２（ｍ，２Ｆ）．
［実施例２２］
上記式（１９）で表される化合物をフルオロアルキル化剤として用い、ｔｅｒｔ－ブチルアルコールのアルコキシ基を－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＳＯ３Ｋ基に置換し、上記式（２）で表される化合物を合成した。
窒素雰囲気下、カリウムｔｅｒｔ－ブトキシドのＴＨＦ溶液（１Ｍ、０．６８ｍＬ、０．６８ｍｍｏｌ）およびｔｅｒｔ－ブチルアルコール（０．０７ｍＬ、０．６８ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（５ｍＬ）に加えた。これを－７０℃まで冷却し、上記式（１９）で表される化合物（０．１０ｇ、０．２７ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（５ｍＬ）をゆっくり加え、１時間攪拌した。得られた反応液を室温まで昇温して１時間攪拌した後、２Ｍ塩酸水溶液（１０ｍＬ）でクエンチした。得られた反応液に酢酸エチル（１０ｍＬ）を加え分液した後、水槽を酢酸エチル（１０ｍＬ）で１回抽出し、すべての有機層を合わせて飽和食塩水（２０ｍＬ）で洗浄した。洗浄後の有機層を硫酸マグネシウムで乾燥した後に、溶媒を減圧下で留去した。得られた粗生成物を、水（１０ｍＬ）に溶かし、０．１Ｍ水酸化カリウム水溶液（５．６ｍＬ）を加え、溶媒を減圧下で留去した。得られた組成生物に、エタノール（１０ｍＬ）を加え、室温で１時間攪拌した後、懸濁液を得た。当該懸濁液を濾過し、エタノール（５ｍＬ）で洗浄し、固体を減圧下で乾燥することで、上記式（２）で表される化合物を８３％収率で得た。
上記式（１９）で表される化合物をフルオロアルキル化剤として用い、ｔｅｒｔ－ブチルアルコールのアルコキシ基を－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＳＯ３Ｋ基に置換し、上記式（２）で表される化合物を合成した。
窒素雰囲気下、カリウムｔｅｒｔ－ブトキシドのＴＨＦ溶液（１Ｍ、０．６８ｍＬ、０．６８ｍｍｏｌ）およびｔｅｒｔ－ブチルアルコール（０．０７ｍＬ、０．６８ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（５ｍＬ）に加えた。これを－７０℃まで冷却し、上記式（１９）で表される化合物（０．１０ｇ、０．２７ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（５ｍＬ）をゆっくり加え、１時間攪拌した。得られた反応液を室温まで昇温して１時間攪拌した後、２Ｍ塩酸水溶液（１０ｍＬ）でクエンチした。得られた反応液に酢酸エチル（１０ｍＬ）を加え分液した後、水槽を酢酸エチル（１０ｍＬ）で１回抽出し、すべての有機層を合わせて飽和食塩水（２０ｍＬ）で洗浄した。洗浄後の有機層を硫酸マグネシウムで乾燥した後に、溶媒を減圧下で留去した。得られた粗生成物を、水（１０ｍＬ）に溶かし、０．１Ｍ水酸化カリウム水溶液（５．６ｍＬ）を加え、溶媒を減圧下で留去した。得られた組成生物に、エタノール（１０ｍＬ）を加え、室温で１時間攪拌した後、懸濁液を得た。当該懸濁液を濾過し、エタノール（５ｍＬ）で洗浄し、固体を減圧下で乾燥することで、上記式（２）で表される化合物を８３％収率で得た。
［実施例２３］
上記一般式［１２］中のＲ１０およびＲ１１がフェニル基である、下記式（２０）で表される化合物を合成した。
上記一般式［１２］中のＲ１０およびＲ１１がフェニル基である、下記式（２０）で表される化合物を合成した。
窒素雰囲気下、塩化アルミニウム（１９．８ｇ、１４９ｍｍｏｌ）をベンゼン（４０ｍＬ）に加え、５０℃に加熱した。これに２，２’－［（テトラフルオロエチレン）ジオキシ］ビス（２，３，３，３－テトラフルオロプロパノイル）＝ジフルオリド（１１．７ｇ、２７．６ｍｍｏｌ）をゆっくり加え、室温で５時間攪拌した後、２Ｍ塩酸水溶液（１００ｍＬ）でクエンチした。得られた反応液にクロロホルム（１００ｍＬ）を加え分液した後、有機層を２Ｍ塩酸水溶液（１００ｍＬ）で１回洗浄し、得られた有機層を２Ｍ水酸化カリウム水溶液（１００ｍＬ）で１回洗浄した。洗浄後の有機層を硫酸マグネシウムで乾燥した後に、溶媒を減圧下で留去した。得られた粗生成物を減圧蒸留することで、上記式（２０）で表される化合物を５４％収率で得た。
１９Ｆ－ＮＭＲ分析により、上記式（２０）で表される化合物が得られたことを確認した。
１９Ｆ－ＮＭＲ（重クロロホルム）：δ－８０．１８～－８０．２０（ｍ，６Ｆ），－８２．２５～－８２．９９（ｍ，２Ｆ），－８６．０３～－８６．６６（ｍ，２Ｆ），－１２８．３５～－１２８．５０（ｍ，２Ｆ）．
１９Ｆ－ＮＭＲ分析により、上記式（２０）で表される化合物が得られたことを確認した。
１９Ｆ－ＮＭＲ（重クロロホルム）：δ－８０．１８～－８０．２０（ｍ，６Ｆ），－８２．２５～－８２．９９（ｍ，２Ｆ），－８６．０３～－８６．６６（ｍ，２Ｆ），－１２８．３５～－１２８．５０（ｍ，２Ｆ）．
［実施例２４］
上記式（２０）で表される化合物をフルオロアルキル化剤として用い、ｔｅｒｔ－ブチルアルコールのアルコキシ基を－ＣＦ（ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）－基に置換し、下記式（２１）で表される化合物を合成した。
窒素雰囲気下、カリウムｔｅｒｔ－ブトキシドのＴＨＦ溶液（１Ｍ，９．２０ｍＬ、９．２０ｍｍｏｌ）およびｔｅｒｔ－ブチルアルコール（１．９５ｍＬ、１８．４ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（１０ｍＬ）に加えた。これを－７０℃まで冷却し、上記式（２０）で表される化合物（１．００ｇ、１．８４ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（１０ｍＬ）をゆっくり加え、１時間攪拌した。得られた反応液を室温まで昇温して１時間攪拌した後、２Ｍ塩酸水溶液（３０ｍＬ）でクエンチした。得られた反応液にクロロホルム（２０ｍＬ）を加え分液した後、水層をクロロホルム（２０ｍＬ）で１回抽出し、すべての有機層を合わせて飽和食塩水（２０ｍＬ）で洗浄した。洗浄後の有機層を硫酸マグネシウムで乾燥した後に、溶媒を減圧下で留去した。液体を減圧下で蒸留することで、下記式（２１）であらわされる化合物を７６％収率で得た。
１９Ｆ－ＮＭＲ分析により、下記式（２１）で表される化合物が得られたことを確認した。
１９Ｆ－ＮＭＲ（重クロロホルム）：δ－８３．７８～－８３．８２（ｍ，６Ｆ），－８８．６４～－９１．１７（ｍ，４Ｆ），－１４５．１６～－１４５．３２（ｍ，２Ｆ）．
上記式（２０）で表される化合物をフルオロアルキル化剤として用い、ｔｅｒｔ－ブチルアルコールのアルコキシ基を－ＣＦ（ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）－基に置換し、下記式（２１）で表される化合物を合成した。
窒素雰囲気下、カリウムｔｅｒｔ－ブトキシドのＴＨＦ溶液（１Ｍ，９．２０ｍＬ、９．２０ｍｍｏｌ）およびｔｅｒｔ－ブチルアルコール（１．９５ｍＬ、１８．４ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（１０ｍＬ）に加えた。これを－７０℃まで冷却し、上記式（２０）で表される化合物（１．００ｇ、１．８４ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（１０ｍＬ）をゆっくり加え、１時間攪拌した。得られた反応液を室温まで昇温して１時間攪拌した後、２Ｍ塩酸水溶液（３０ｍＬ）でクエンチした。得られた反応液にクロロホルム（２０ｍＬ）を加え分液した後、水層をクロロホルム（２０ｍＬ）で１回抽出し、すべての有機層を合わせて飽和食塩水（２０ｍＬ）で洗浄した。洗浄後の有機層を硫酸マグネシウムで乾燥した後に、溶媒を減圧下で留去した。液体を減圧下で蒸留することで、下記式（２１）であらわされる化合物を７６％収率で得た。
１９Ｆ－ＮＭＲ分析により、下記式（２１）で表される化合物が得られたことを確認した。
１９Ｆ－ＮＭＲ（重クロロホルム）：δ－８３．７８～－８３．８２（ｍ，６Ｆ），－８８．６４～－９１．１７（ｍ，４Ｆ），－１４５．１６～－１４５．３２（ｍ，２Ｆ）．
［実施例２５］
上記式（１１）で表される化合物をフルオロアルキル化剤として用い、金属水酸化物もしくはカリウムｔｅｒｔ－ブトキシドを水素源に用いて－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＳＯ３Ｋ基で置換し、上記式（２）で表される化合物を合成した。
窒素雰囲気下、カリウムｔｅｒｔ－ブトキシドのＴＨＦ溶液（１Ｍ、１．５２ｍＬ、１．５２ｍｍｏｌ）および水酸化カルシウム（０．０４５ｇ、０．６１ｍｍｏｌ）をＮ，Ｎ－ジメチルホルムアミド（５．０ｍＬ）に加えた。これに上記式（１１）で表される化合物（０．２５ｇ、０．６１ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ－ジメチルホルムアミド溶液（５ｍＬ）をゆっくり加え、室温で１時間攪拌した。その後、２Ｍ塩酸水溶液（１０ｍＬ）でクエンチした。得られた反応液に酢酸エチル（１０ｍＬ）を加え分液した後、水槽を酢酸エチル（１０ｍＬ）で１回抽出し、すべての有機層を合わせて飽和食塩水（２０ｍＬ）で洗浄した。洗浄後の有機層を硫酸マグネシウムで乾燥した後に、溶媒を減圧下で留去した。得られた粗生成物を、水（１０ｍＬ）に溶かし、０．１Ｍ水酸化カリウム水溶液（５．６ｍＬ）を加え、溶媒を減圧下で留去した。得られた組成生物に、エタノール（１０ｍＬ）を加え、室温で１時間攪拌した後、懸濁液を得た。当該懸濁液を濾過し、エタノール（５ｍＬ）で洗浄し、固体を減圧下で乾燥することで、上記式（２）で表される化合物を９１％収率で得た。
上記式（１１）で表される化合物をフルオロアルキル化剤として用い、金属水酸化物もしくはカリウムｔｅｒｔ－ブトキシドを水素源に用いて－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＳＯ３Ｋ基で置換し、上記式（２）で表される化合物を合成した。
窒素雰囲気下、カリウムｔｅｒｔ－ブトキシドのＴＨＦ溶液（１Ｍ、１．５２ｍＬ、１．５２ｍｍｏｌ）および水酸化カルシウム（０．０４５ｇ、０．６１ｍｍｏｌ）をＮ，Ｎ－ジメチルホルムアミド（５．０ｍＬ）に加えた。これに上記式（１１）で表される化合物（０．２５ｇ、０．６１ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ－ジメチルホルムアミド溶液（５ｍＬ）をゆっくり加え、室温で１時間攪拌した。その後、２Ｍ塩酸水溶液（１０ｍＬ）でクエンチした。得られた反応液に酢酸エチル（１０ｍＬ）を加え分液した後、水槽を酢酸エチル（１０ｍＬ）で１回抽出し、すべての有機層を合わせて飽和食塩水（２０ｍＬ）で洗浄した。洗浄後の有機層を硫酸マグネシウムで乾燥した後に、溶媒を減圧下で留去した。得られた粗生成物を、水（１０ｍＬ）に溶かし、０．１Ｍ水酸化カリウム水溶液（５．６ｍＬ）を加え、溶媒を減圧下で留去した。得られた組成生物に、エタノール（１０ｍＬ）を加え、室温で１時間攪拌した後、懸濁液を得た。当該懸濁液を濾過し、エタノール（５ｍＬ）で洗浄し、固体を減圧下で乾燥することで、上記式（２）で表される化合物を９１％収率で得た。
［実施例２６］
上記式（１１）で表される化合物をフルオロアルキル化剤として用い、クロロトリメチルシランの塩素置換基をノナフルオロブチル基に置換し、下記式（２２）で表される化合物を合成した。
上記式（１１）で表される化合物をフルオロアルキル化剤として用い、クロロトリメチルシランの塩素置換基をノナフルオロブチル基に置換し、下記式（２２）で表される化合物を合成した。
窒素雰囲気下、上記式（１１）で表される化合物（０．２０ｇ、０．９２ｍｍｏｌ）およびクロロトリメチルシラン（３５０μＬ、２．７８ｍｍｏｌ）をＮ，Ｎ－ジメチルホルムアミド（２．０ｍＬ）に加えた。これにマグネシウム（２７．０ｍｇ、１．１１ｍｍｏｌ）を加え、１７時間攪拌した。得られた反応液を２Ｍ塩酸水溶液（１０ｍＬ）でクエンチした。得られた反応液にクロロホルム（２０ｍＬ）を加え分液した後、水層をクロロホルム（１０ｍＬ）で１回抽出し、すべての有機層を合わせて飽和食塩水（２０ｍＬ）で洗浄した。洗浄後の有機層を硫酸マグネシウムで乾燥した後に、溶媒を減圧下で留去した。粗生成物に内部標準としてベンゾトリフルオリドを加えＮＭＲ収率を求めた。上記式（２２）で表される化合物の収率は１６％であった。
１９Ｆ－ＮＭＲ分析により、上記式（２２）で表される化合物が得られたことを確認した。
１９Ｆ－ＮＭＲ（重クロロホルム）：δ－８０．７４～－８０．７９（ｍ，３Ｆ），－１２０．９３～－１２０．９４（ｍ，２Ｆ），－１２５．９５～－１２６．０３（ｍ，２Ｆ），－１２８．６６～－１２８．７３（ｍ，２Ｆ）．
１９Ｆ－ＮＭＲ分析により、上記式（２２）で表される化合物が得られたことを確認した。
１９Ｆ－ＮＭＲ（重クロロホルム）：δ－８０．７４～－８０．７９（ｍ，３Ｆ），－１２０．９３～－１２０．９４（ｍ，２Ｆ），－１２５．９５～－１２６．０３（ｍ，２Ｆ），－１２８．６６～－１２８．７３（ｍ，２Ｆ）．
［実施例２７］
上記式（１１）で表される化合物をフルオロアルキル化剤として用い、ベンズアルデヒドのカルボニル炭素にノナフルオロブチル基を導入し、下記式（２３）で表される化合物を合成した。
上記式（１１）で表される化合物をフルオロアルキル化剤として用い、ベンズアルデヒドのカルボニル炭素にノナフルオロブチル基を導入し、下記式（２３）で表される化合物を合成した。
窒素雰囲気下、カリウムｔｅｒｔ－ブトキシドのＴＨＦ溶液（１Ｍ，３．４８ｍＬ、３．４８ｍｍｏｌ）およびベンズアルデヒド（０．４２ｍＬ、４．１６ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（１０ｍＬ）に加えた。これを－７０℃まで冷却し、上記式（１１）で表される化合物（０．５０ｇ、１．３９ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（１０ｍＬ）をゆっくり加え、１時間攪拌した。得られた反応液を室温まで昇温して１時間攪拌した後、２Ｍ塩酸水溶液（５０ｍＬ）でクエンチした。得られた反応液にクロロホルム（２０ｍＬ）を加え分液した後、水層をクロロホルム（２０ｍＬ）で１回抽出し、すべての有機層を合わせて飽和食塩水（２０ｍＬ）で洗浄した。洗浄後の有機層を硫酸マグネシウムで乾燥した後に、溶媒を減圧下で留去した。得られた液体を減圧下で蒸留することで、上記式（２３）で表される化合物を７１％収率で得た。
１９Ｆ－ＮＭＲ分析により、上記式（２３）で表される化合物が得られたことを確認した。
１９Ｆ－ＮＭＲ（重クロロホルム）：δ－８２．３０～－８２．４８（ｍ，３Ｆ），－１１７．４０～－１２７．７０（ｍ，６Ｆ）．
１９Ｆ－ＮＭＲ分析により、上記式（２３）で表される化合物が得られたことを確認した。
１９Ｆ－ＮＭＲ（重クロロホルム）：δ－８２．３０～－８２．４８（ｍ，３Ｆ），－１１７．４０～－１２７．７０（ｍ，６Ｆ）．
［実施例２８］
上記式（１５）で表される化合物をフルオロアルキル化剤として用い、ベンズアルデヒドのカルボニル炭素に－ＣＦ（ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３基を導入し、下記式（２４）で表される化合物を合成した。
上記式（１５）で表される化合物をフルオロアルキル化剤として用い、ベンズアルデヒドのカルボニル炭素に－ＣＦ（ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３基を導入し、下記式（２４）で表される化合物を合成した。
窒素雰囲気下、カリウムｔｅｒｔ－ブトキシドのＴＨＦ溶液（１Ｍ、３．２０ｍＬ、３．２０ｍｍｏｌ）およびベンズアルデヒド（０．３９ｍＬ、３．８４ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（１０ｍＬ）に加えた。これを－７０℃まで冷却し、上記式（１５）で表される化合物（０．５０ｇ、１．２８ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（１０ｍＬ）をゆっくり加え、１時間攪拌した。得られた反応液を室温まで昇温して１時間攪拌した後、２Ｍ塩酸水溶液（５０ｍＬ）でクエンチした。得られた反応液にクロロホルム（２０ｍＬ）を加え分液した後、水層をクロロホルム（２０ｍＬ）で１回抽出し、すべての有機層を合わせて飽和食塩水（２０ｍＬ）で洗浄した。洗浄後の有機層を硫酸マグネシウムで乾燥した後に、溶媒を減圧下で留去した。得られた液体を減圧下で蒸留することで、上記式（２４）で表される化合物を４４％収率で得た。
１９Ｆ－ＮＭＲ分析により、上記式（２４）で表される化合物が得られたことを確認した。
１９Ｆ－ＮＭＲ（重クロロホルム）：δ－７８．７０～－７８．９９（ｍ，３Ｆ），－８０．３３～－８２．２０（ｍ，５Ｆ），－１２９．２９～－１２９．５０（ｍ，２Ｆ），－１３６．７４～－１４２．８１（ｍ，１Ｆ）．
１９Ｆ－ＮＭＲ分析により、上記式（２４）で表される化合物が得られたことを確認した。
１９Ｆ－ＮＭＲ（重クロロホルム）：δ－７８．７０～－７８．９９（ｍ，３Ｆ），－８０．３３～－８２．２０（ｍ，５Ｆ），－１２９．２９～－１２９．５０（ｍ，２Ｆ），－１３６．７４～－１４２．８１（ｍ，１Ｆ）．
［実施例２９］
上記式（１１）で表される化合物をフルオロアルキル化剤として用い、ジフェニルジスルフィドのフェニルスルフィドをノナフルオロブチル基に置換し、下記式（２５）で表される化合物を合成した。
上記式（１１）で表される化合物をフルオロアルキル化剤として用い、ジフェニルジスルフィドのフェニルスルフィドをノナフルオロブチル基に置換し、下記式（２５）で表される化合物を合成した。
窒素雰囲気下、上記式（１１）で表される化合物（０．２０ｇ、０．９２ｍｍｏｌ）およびジフェニルジスルフィド（０．２４ｇ、１．１１ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（２．０ｍＬ）に加えた。これを０℃まで冷却し、カリウムｔｅｒｔ－ブトキシドのＴＨＦ溶液（１Ｍ，１．３９ｍＬ、１．３９ｍｍｏｌ）をゆっくり加え、１時間攪拌した。得られた反応液をゆっくり室温まで昇温した後、２Ｍ塩酸水溶液（１０ｍＬ）でクエンチした。得られた反応液にクロロホルム（２０ｍＬ）を加え分液した後、水層をクロロホルム（１０ｍＬ）で１回抽出し、すべての有機層を合わせて飽和食塩水（２０ｍＬ）で洗浄した。洗浄後の有機層を硫酸マグネシウムで乾燥した後に、溶媒を減圧下で留去した。粗生成物に内部標準としてベンゾトリフルオリドを加えＮＭＲ収率を求めた。上記式（２５）で表される化合物の収率は１０％であった。
１９Ｆ－ＮＭＲ分析により、上記式（２５）で表される化合物が得られたことを確認した。
１９Ｆ－ＮＭＲ（重クロロホルム）：δ－８１．０３～－８１．０８（ｍ，３Ｆ），－８７．１０～－８７．１７（ｍ，２Ｆ），－１２０．０７～－１２０．１７（ｍ，２Ｆ），－１２５．５９～－１２５．６７（ｍ，２Ｆ）．
１９Ｆ－ＮＭＲ分析により、上記式（２５）で表される化合物が得られたことを確認した。
１９Ｆ－ＮＭＲ（重クロロホルム）：δ－８１．０３～－８１．０８（ｍ，３Ｆ），－８７．１０～－８７．１７（ｍ，２Ｆ），－１２０．０７～－１２０．１７（ｍ，２Ｆ），－１２５．５９～－１２５．６７（ｍ，２Ｆ）．
［比較例１］
上記一般式［１］中のＲｆ１にフッ素が入っていないアルキル基を有する下記式（２６）で表される化合物を用いてフルオロアルキル化剤と同様の条件を作用させたが、下記式（２６）で表される出発原料が９６％収率で回収された。
上記一般式［１］中のＲｆ１にフッ素が入っていないアルキル基を有する下記式（２６）で表される化合物を用いてフルオロアルキル化剤と同様の条件を作用させたが、下記式（２６）で表される出発原料が９６％収率で回収された。
窒素雰囲気下、カリウムｔｅｒｔ－ブトキシドのＴＨＦ溶液（１Ｍ、４．００ｍＬ、４．００ｍｍｏｌ）およびｔｅｒｔ－ブチルアルコール（０．３８ｍＬ、４．００ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（１０ｍＬ）に加えた。これを－７０℃まで冷却し、化合物（２６）（０．２５ｇ、１．６０ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（１０ｍＬ）をゆっくり加え、１時間攪拌した。得られた反応液を室温まで昇温して１時間攪拌した後、２Ｍ塩酸水溶液（３０ｍＬ）でクエンチした。得られた反応液にクロロホルム（２０ｍＬ）を加え分液した後、水層をクロロホルム（２０ｍＬ）で１回抽出し、すべての有機層を合わせて飽和食塩水（２０ｍＬ）で洗浄した。洗浄後の有機層を硫酸マグネシウムで乾燥した後に、溶媒を減圧下で留去した。固体を減圧下で乾燥することで、上記式（２６）で表される化合物を９６％収率で得た。
[比較例２]
上記一般式［２］中のＲｆ１にフッ素が入っていないアルキル基を有する下記式（２７）で表される化合物を用いてフルオロアルキル化剤と同様の条件を作用させたが、下記式（２７）で表される出発原料が８４％収率で回収された。
上記一般式［２］中のＲｆ１にフッ素が入っていないアルキル基を有する下記式（２７）で表される化合物を用いてフルオロアルキル化剤と同様の条件を作用させたが、下記式（２７）で表される出発原料が８４％収率で回収された。
窒素雰囲気下、カリウムｔｅｒｔ－ブトキシドのＴＨＦ溶液（１Ｍ、５．２０ｍＬ、５．２０ｍｍｏｌ）およびｔｅｒｔ－ブチルアルコール（０．４９ｍＬ、５．２０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（１０ｍＬ）に加えた。これを－７０℃まで冷却し、化合物（２７）（０．２５ｇ、２．０８ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（１０ｍＬ）をゆっくり加え、１時間攪拌した。得られた反応液を室温まで昇温して１時間攪拌した後、２Ｍ塩酸水溶液（３０ｍＬ）でクエンチした。得られた反応液にクロロホルム（２０ｍＬ）を加え分液した後、水層をクロロホルム（２０ｍＬ）で１回抽出し、すべての有機層を合わせて飽和食塩水（２０ｍＬ）で洗浄した。洗浄後の有機層を硫酸マグネシウムで乾燥した後に、溶媒を減圧下で留去した。固体を減圧下で乾燥することで、上記式（２７）で表される化合物を８４％安息香酸をそれぞれ１２％収率で得た。
[比較例３]
上記一般式［１］中のＲ１にアリール基ではなくアリールオキシ基を有する下記式（２８）で表される化合物を用いてフルオロアルキル化剤と同様の条件を作用させた場合、下記式（２）で表される目的物は７％収率に留まり、下記式（２９）で表されるジスルホン酸が主生成物として９３％収率で得られた。
上記一般式［１］中のＲ１にアリール基ではなくアリールオキシ基を有する下記式（２８）で表される化合物を用いてフルオロアルキル化剤と同様の条件を作用させた場合、下記式（２）で表される目的物は７％収率に留まり、下記式（２９）で表されるジスルホン酸が主生成物として９３％収率で得られた。
窒素雰囲気下、上記式（２８）で表される化合物（１．００ｇ、２．３４ｍｍｏｌ）およびｔｅｒｔ－ブチルアルコール（２２２μＬ、２．３４ｍｍｏｌ）をＮ，Ｎ－ジメチルホルムアミド（５．０ｍＬ）に加えた。これにカリウムｔｅｒｔ－ブトキシドのＴＨＦ溶液（１Ｍ、５．８５ｍＬ、５．８５ｍｍｏｌ）をゆっくり加え、室温で１時間攪拌した後、内部標準としてベンゾトリフルオリドを加えＮＭＲ収率を求めた。上記式（２）で表される化合物の収率は７％、上記式（２９）で表される化合物の収率は９３％であった。
[比較例４]
上記一般式［１］中のＲ１にアリール基ではなく酸素置換基を有する下記式（２９）で表される化合物を用いてフルオロアルキル化剤と同様の条件を作用させた場合、下記式（２９）で表される出発原料が定量的に回収された。
上記一般式［１］中のＲ１にアリール基ではなく酸素置換基を有する下記式（２９）で表される化合物を用いてフルオロアルキル化剤と同様の条件を作用させた場合、下記式（２９）で表される出発原料が定量的に回収された。
窒素雰囲気下、上記式（２９）で表される化合物（０．９１ｇ、２．３４ｍｍｏｌ）およびｔｅｒｔ－ブチルアルコール（２２２μＬ、２．３４ｍｍｏｌ）をＮ，Ｎ－ジメチルホルムアミド（５．０ｍＬ）に加えた。これにカリウムｔｅｒｔ－ブトキシドのＴＨＦ溶液（１Ｍ，５．８５ｍＬ、５．８５ｍｍｏｌ）をゆっくり加え、室温で１時間攪拌した後、内部標準としてベンゾトリフルオリドを加えＮＭＲ収率を求めた。上記式（２９）で表される化合物が定量的に回収された。
[比較例５]
上記一般式［２］中のＲ１にアリール基ではなくアリールオキシ基を有する下記式（３０）で表される化合物を用いてフルオロアルキル化剤と同様の条件を作用させた場合、下記式（１８）で表される目的物は１８％収率に留まり、下記式（３１）で表されるジスルホン酸が主生成物として８２％収率で得られた。
上記一般式［２］中のＲ１にアリール基ではなくアリールオキシ基を有する下記式（３０）で表される化合物を用いてフルオロアルキル化剤と同様の条件を作用させた場合、下記式（１８）で表される目的物は１８％収率に留まり、下記式（３１）で表されるジスルホン酸が主生成物として８２％収率で得られた。
窒素雰囲気下、上記式（３０）で表される化合物（０．５０ｇ、０．８７ｍｍｏｌ）およびｔｅｒｔ－ブチルアルコール（０．２５ｍＬ、２．６２ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（１０ｍＬ）に加えた。これにカリウムｔｅｒｔ－ブトキシドのＴＨＦ溶液（１Ｍ、２．１８ｍＬ、２．１８ｍｍｏｌ）をゆっくり加え、室温で１時間攪拌した後、内部標準としてベンゾトリフルオリドを加えＮＭＲ収率を求めた。上記式（１８）で表される化合物の収率は１８％、上記式（３１）で表される化合物の収率は８２％であった。
[比較例６]
一般式［２］中のＲ１にアリール基ではなく酸素置換基を有する下記式（３１）で表される化合物を用いてフルオロアルキル化剤と同様の条件を作用させた場合、下記式（３１）で表される出発原料が定量的に回収された。
一般式［２］中のＲ１にアリール基ではなく酸素置換基を有する下記式（３１）で表される化合物を用いてフルオロアルキル化剤と同様の条件を作用させた場合、下記式（３１）で表される出発原料が定量的に回収された。
窒素雰囲気下、上記式（３１）で表される化合物（０．５０ｇ、１．１５ｍｍｏｌ）およびｔｅｒｔ－ブチルアルコール（０．２７ｍＬ、２．８８ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（１０ｍＬ）に加えた。これにカリウムｔｅｒｔ－ブトキシドのＴＨＦ溶液（１Ｍ、２．８８ｍＬ、２．８８ｍｍｏｌ）をゆっくり加え、室温で１時間攪拌した後、内部標準としてベンゾトリフルオリドを加えＮＭＲ収率を求めた。上記式（３１）で表される化合物が定量的に回収された。
本発明は、既存のフルオロアルキル化剤では例の少ない、長鎖のフルオロアルキル基や、エーテル構造、官能基を有する構造など幅広いフルオロアルキル構造を導入できる、フルオロアルキルスルホン酸またはカルボン酸から誘導できるフルオロアルキル化剤、および当該フルオロアルキル化剤を使用したフルオロアルキル化反応を提供する。本発明に係るフルオロアルキル化剤により、種々の求電子剤を用いて、医薬、農薬、機能性材料等の分野で活用される多様なフルオロアルキル化合物を提供することが可能となる。例えば、上記一般式［４］の水素を有するフルオロアルキル化合物は溶媒、冷媒、作動流体など熱媒体として有用である。上記一般式［６］のケイ素を有するフルオロアルキル化合物は表面処理剤、表面改質剤として有用である。一般式［１３］のヒドロキシ基を有するフルオロアルキル化合物や上記一般式［１０］のスルフィド化合物は有機合成中間体やポリマー原料などとして有用である。
Claims (9)
- 下記一般式［１］または下記一般式［２］で表されるフルオロアルキル化剤と、求電子剤とを用いてフルオロアルキル化反応を行う工程を有する、フルオロアルキル化合物の製造方法。
- 前記求電子剤が、下記一般式［３］で表されるプロトン供与体であり、
下記一般式［４］で表されるフルオロアルキル化合物を得る、請求項１に記載のフルオロアルキル化合物の製造方法。
- 前記求電子剤が下記一般式［５］で表されるケイ素化合物であり、
下記一般式［６］で表されるフルオロアルキル化合物を得る、請求項１に記載のフルオロアルキル化合物の製造方法。
- 前記求電子剤が下記一般式［７］で表されるカルボニル化合物であり、
下記一般式［８］で表されるフルオロアルキル化合物を得る、請求項１に記載のフルオロアルキル化合物の製造方法。
- 前記求電子剤が下記一般式［９］で表されるジスルフィド化合物であり、
下記一般式［１０］で表されるフルオロアルキル化合物を得る、請求項１に記載のフルオロアルキル化合物の製造方法。
- 下記一般式［１１］で表される、フルオロアルキル化剤。
- 下記一般式［１２］で表される、フルオロアルキル化剤。
- 下記一般式［１３］または下記一般式［１４］で表されるフルオロアルキルスルホン酸誘導体と、下記一般式［１５］で表される芳香族化合物とを反応させて、下記一般式［１］で表されるフルオロアルキル化剤を得る工程を有する、フルオロアルキル化剤の製造方法。
- 下記一般式［１６］または下記一般式［１７］で表されるフルオロアルキルカルボン酸誘導体と、下記一般式［１８］で表される芳香族化合物とを反応させて、下記一般式［２］で表されるフルオロアルキル化剤を得る工程を有する、フルオロアルキル化剤の製造方法。
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Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005089682A (ja) * | 2003-09-19 | 2005-04-07 | Shin Etsu Chem Co Ltd | プロトン伝導性フルオロポリエーテル組成物 |
| JP2005511665A (ja) * | 2001-11-29 | 2005-04-28 | ユニバーシティ・オブ・サザン・カリフォルニア | マグネシウムで媒介されたフッ素化アルキルシランの調製 |
| JP2011095700A (ja) * | 2009-09-30 | 2011-05-12 | Fujifilm Corp | 感活性光線性または感放射線性樹脂組成物、及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法 |
| JP2011175230A (ja) * | 2010-01-29 | 2011-09-08 | Fujifilm Corp | 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、これを用いたレジスト膜、及び、パターン形成方法 |
-
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-
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Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005511665A (ja) * | 2001-11-29 | 2005-04-28 | ユニバーシティ・オブ・サザン・カリフォルニア | マグネシウムで媒介されたフッ素化アルキルシランの調製 |
| JP2005089682A (ja) * | 2003-09-19 | 2005-04-07 | Shin Etsu Chem Co Ltd | プロトン伝導性フルオロポリエーテル組成物 |
| JP2011095700A (ja) * | 2009-09-30 | 2011-05-12 | Fujifilm Corp | 感活性光線性または感放射線性樹脂組成物、及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法 |
| JP2011175230A (ja) * | 2010-01-29 | 2011-09-08 | Fujifilm Corp | 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、これを用いたレジスト膜、及び、パターン形成方法 |
Non-Patent Citations (7)
| Title |
|---|
| 4 August 1999 (1999-08-04), SIGRID RÉPICHETCHRISTOPHE LE ROUXPIERRE HERNANDEZJACQUES DUBACJEAN-ROGER DESMURS: "Bismuth(III) Trifluoromethanesulfonate: An Efficient Catalyst for the Sulfonylation of Arenes.", XP009557030 * |
| HULL, W.E. ; SEEHOLZER, K. ; BAUMEISTER, M. ; UGI, I.: "A modified synthesis of mosher's acid and its use in a sensitive stereoisomer analysis of amino acid derivatives", TETRAHEDRON, ELSEVIER SIENCE PUBLISHERS, AMSTERDAM, NL, vol. 42, no. 2, 1 January 1986 (1986-01-01), AMSTERDAM, NL , pages 547 - 552, XP026648695, ISSN: 0040-4020, DOI: 10.1016/S0040-4020(01)87453-6 * |
| JABLONSKI, L. BILLARD, T. LANGLOIS, B.R.: "Trifluoroacetophenone as nucleophilic trifluoromethylating reagent", TETRAHEDRON LETTERS, ELSEVIER, AMSTERDAM, NL, vol. 44, no. 5, 27 January 2003 (2003-01-27), AMSTERDAM, NL, pages 1055 - 1057, XP004408899, ISSN: 0040-4039, DOI: 10.1016/S0040-4039(02)02718-1 * |
| LIN YA-MEI, YI WEN-BIN, SHEN WAN-ZHAO, LU GUO-PING: "A Route to α-Fluoroalkyl Sulfides from α-Fluorodiaroylmethanes", ORGANIC LETTERS, AMERICAN CHEMICAL SOCIETY, US, vol. 18, no. 3, 5 February 2016 (2016-02-05), US , pages 592 - 595, XP093204523, ISSN: 1523-7060, DOI: 10.1021/acs.orglett.5b03654 * |
| PARKER JEREMY S., BOWER JOHN F., MURRAY PAUL M., PATEL BHARTI, TALAVERA PERE: "Kepner-Tregoe Decision Analysis as a Tool To Aid Route Selection. Part 3. Application to a Back-Up Series of Compounds in the PDK Project", ORGANIC PROCESS RESEARCH & DEVELOPMENT, AMERICAN CHEMICAL SOCIETY, US, vol. 12, no. 6, 21 November 2008 (2008-11-21), US , pages 1060 - 1077, XP093204530, ISSN: 1083-6160, DOI: 10.1021/op8000355 * |
| PRAKASH G. K., WANG YING, MOGI RYO, HU JINBO, MATHEW THOMAS, OLAH GEORGE A.: "Nucleophilic Perfluoroalkylation of Imines and Carbonyls: Perfluoroalkyl Sulfones as Efficient Perfluoroalkyl-Transfer Motifs", ORGANIC LETTERS, AMERICAN CHEMICAL SOCIETY, US, vol. 12, no. 13, 2 July 2010 (2010-07-02), US , pages 2932 - 2935, XP093204519, ISSN: 1523-7060, DOI: 10.1021/ol100918d * |
| VÁCLAVÍK JIŘÍ, CHERNYKH YANA, JURÁSEK BRONISLAV, BEIER PETR: "Nucleophilic tetrafluoroethylation of carbonyl compounds with fluorinated sulfones", JOURNAL OF FLUORINE CHEMISTRY, ELSEVIER, NL, vol. 169, 1 January 2015 (2015-01-01), NL , pages 24 - 31, XP093204517, ISSN: 0022-1139, DOI: 10.1016/j.jfluchem.2014.10.019 * |
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| JP2024124118A (ja) | 2024-09-12 |
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