WO2024042792A1

WO2024042792A1 - 複合多孔質体、および複合多孔質体の製造方法

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Publication number: WO2024042792A1
Application number: PCT/JP2023/018638
Authority: WO
Inventors: 和也野々村; 博香青山; 和葉諏澤; 美紀宮永; 徹森田
Original assignee: 住友電気工業株式会社
Priority date: 2022-08-26
Filing date: 2023-05-18
Publication date: 2024-02-29

Abstract

第一面を有する基材と、前記第一面の少なくとも一部を覆う被覆層と、を備え、前記基材は、ポリテトラフルオロエチレンによって構成された多孔質体であり、前記被覆層は、複数のナノファイバーの積層体を含み、前記多孔質体は、分散して配置された複数のノードと、前記複数のノード同士をつないでいるフィブリルと、を有し、前記第一面が前記複数のノードを含み、前記第一面における前記基材の平均孔径が５ｎｍ以上５００ｎｍ以下であり、前記第一面における前記複数のノードの面積率が３０％以上７０％以下である、複合多孔質体。

Description

複合多孔質体、および複合多孔質体の製造方法

　本発明は、複合多孔質体、および複合多孔質体の製造方法に関するものである。本出願は、２０２２年８月２６日に出願した日本特許出願である特願２０２２－１３４９８７号に基づく優先権を主張する。当該日本特許出願に記載された全ての記載内容は、参照によって本明細書に援用される。

　特許文献１には、フィルターに利用されるアルミナ複合分離膜が開示されている。アルミナ複合分離膜は、多孔質材料からなる支持体と多孔質薄膜層とを含む。多孔質材料は代表的にはアルミナなどの無機酸化物によって構成されている。多孔質薄膜層は、複数の繊維状アルミナ粒子を積層することによって構成されている。特許文献１の実施例に開示される複合多孔質体は、アルミナを主成分とする支持体を備える。アルミナによって構成される支持体および多孔質薄膜層を備えるアルミナ複合分離膜は、強度、耐熱性、および耐薬品性に優れる。以下、アルミナ複合分離膜を複合多孔質体と呼ぶ。特許文献２にも、特許文献１と同様、フィルターに利用されるろ過媒体が開示されている。

特開２０１１－２５５３０３号公報特開２０１１－１８３３８９号公報

　本開示の複合多孔質体は、
　第一面を有する基材と、
　前記第一面の少なくとも一部を覆う被覆層と、を備え、
　前記基材は、ポリテトラフルオロエチレンによって構成された多孔質体であり、
　前記被覆層は、複数のナノファイバーの積層体を含み、
　前記多孔質体は、
　　分散して配置された複数のノードと、
　　前記複数のノード同士をつないでいるフィブリルと、を有し、
　前記第一面が前記複数のノードを含み、
　前記第一面における前記基材の平均孔径が５ｎｍ以上５００ｎｍ以下であり、
　前記第一面における前記複数のノードの面積率が３０％以上７０％以下である。

　本開示の複合多孔質体の製造方法は、
　ポリテトラフルオロエチレンによって構成された多孔質体からなる基材を用意する工程Ａと、
　前記基材の第一面を親水化処理する工程Ｂと、
　複数のナノファイバーを含む分散液を前記第一面に塗布する工程Ｃと、
　前記分散液が塗布された前記基材を８０℃以上２００℃以下の加熱雰囲気下で熱処理する工程Ｄと、を備え、
　前記工程Ａで用意された前記多孔質体は、
　　分散して配置された複数のノードと、
　　前記複数のノード同士をつないでいるフィブリルと、を有し、
　前記第一面が前記複数のノードを含み、
　前記第一面における前記基材の平均孔径が５ｎｍ以上５００ｎｍ以下であり、
　前記第一面における前記複数のノードの面積率が３０％以上７０％以下であり、
　前記工程Ｃにおける前記複数のナノファイバーの平均長さは、前記平均孔径の１０倍以上である。

図１は、実施形態１に係るシート形状の複合多孔質体の概略構成図である。図２は、図１の複合多孔質体に備わる基材の第一面を模式的に示す平面図である。図３は、図１の複合多孔質体の構造を模式的に示す説明図である。図４は、図２の複合多孔質体の被覆層の表面を模式的に示す説明図である。図５は、実施形態２に係る筒形状の複合多孔質体の概略構成図である。図６は、試験例に示される通液試験に用いられる試験装置の概略図である。図７は、試験例に示される曲げ試験の概略説明図である。

[本開示が解決しようとする課題]
　複合多孔質体の使用態様によっては、複合多孔質体が曲げられることがある。支持体である基材と多孔質薄膜層である被覆層との密着性に乏しい複合多孔質体は、曲げによって被覆層が基材から剥がれ易い。そのため、基材と被覆層との密着性の向上が望まれている。また、可とう性に乏しい複合多孔質体は、曲げによって損傷し易い。そのため、可とう性の向上が望まれている。

　本開示は、基材と被覆層との密着性に優れる上に、可とう性に優れる複合多孔質体を提供することを目的の一つとする。本開示は、基材と被覆層との密着性に優れる上に、可とう性に優れる複合多孔質体の製造方法を提供することを目的の一つとする。
[本開示の効果]

　本開示の複合多孔質体は、基材と被覆層との密着性に優れる上に、可とう性に優れる。

　本開示の複合多孔質体の製造方法は、基材と被覆層との密着性に優れる上に、可とう性に優れる複合多孔質体を製造できる。

　《本開示の実施形態の説明》
　最初に本開示の実施態様を列記して説明する。

　（１）本開示の一態様の複合多孔質体は、
　第一面を有する基材と、
　前記第一面の少なくとも一部を覆う被覆層と、を備え、
　前記基材は、ポリテトラフルオロエチレンによって構成された多孔質体であり、
　前記被覆層は、複数のナノファイバーの積層体を含み、
　前記多孔質体は、
　　分散して配置された複数のノードと、
　　前記複数のノード同士をつないでいるフィブリルと、を有し、
　前記第一面が前記複数のノードを含み、
　前記第一面における前記基材の平均孔径が５ｎｍ以上５００ｎｍ以下であり、
　前記第一面における前記複数のノードの面積率が３０％以上７０％以下である。

　上記複合多孔質体は、基材と被覆層との密着性に優れる。その理由は、多孔質体である基材が複数のノードを備え、第一面における複数のノードの面積率が３０％以上であることで、基材の第一面と被覆層との接触面積が大きいからである。そのため、上記複合多孔質体は、曲げなどの加工に供されても被覆層が基材から剥がれ難い。

　上記複合多孔質体は、可とう性に優れる。第一の理由は、基材が可とう性を有するポリテトラフルオロエチレンの多孔質体によって構成されていることである。第二の理由は、被覆層が複数のナノファイバーの積層体によって構成されていることである。

　上記複合多孔質体は、ナノオーダーの不純物をろ過対象の流体から除去できる。複数のナノファイバーが積層することによって構成された被覆層では、隣接するナノファイバーの隙間が、流体が通過する空孔となる。隣接するナノファイバーの隙間は非常に小さいため、被覆層によってナノオーダーの不純物が流体から除去される。流体は液体でも良いし、気体でも良いし、固体が混合された液体または固体が混合された気体でもよい。

　上記複合多孔質体は、通液性に優れる。通液性とは、流体の通し易さのことである。第一の理由は、第一面における基材の平均孔径が５ｎｍ以上であることで、流体が流れる孔の径が比較的大きいからである。第二の理由は、第一面における複数のノードの面積率が７０％以下であることで、流体の流れを阻害し得るノードの面積率が比較的小さいからである。通液性が高い複合多孔質体は、ろ過時間を短縮できる。

　第一面の平均孔径が５００ｎｍ以下であれば、上記複合多孔質体の製造時に被覆層が形成され易い。

　ポリテトラフルオロエチレンは耐熱性および耐薬品性に優れる。従って、基材の耐熱性および耐薬品性が向上する。

　（２）上記（１）の複合多孔質体において、
　前記被覆層の平均孔径が１ｎｍ以上５０ｎｍ以下であってもよい。

　平均孔径が１ｎｍ以上の被覆層を備える複合多孔質体は、優れた通液性を有する。平均孔径が５０ｎｍ以下の被覆層を備える複合多孔質体は、優れたろ過性能を有する。

　（３）上記（１）または上記（２）の複合多孔質体において、
　前記被覆層の平均厚さが１０ｎｍ以上１０００ｎｍ以下であってもよい。

　平均厚さが１０ｎｍの被覆層を備える複合多孔質体は、優れたろ過性能を有する。平均厚さが１０００ｎｍ以下の被覆層を備える複合多孔質体は、優れた通液性と可とう性を有する。

　（４）上記（１）から上記（３）のいずれかの複合多孔質体において、
　前記被覆層はポリマーを含んでいてもよい。

　ポリマーを含む被覆層は基材との密着性に優れる。基材との密着性に優れることで薄い被覆層であっても基材の第一面から剥がれ難い。そのため、ポリマーを含む被覆層は、被覆層の厚さを薄くすることができるため通液性に優れる。

　（５）上記（４）の複合多孔質体において、
　前記ポリマーが親水性ポリマーであってもよい。

　親水性ポリマーを含む被覆層は基材との密着性に更に優れる。また、親水性ポリマーを含む被覆層は、被覆層の厚さを更に薄くすることができるため通液性に更に優れる。

　（６）上記（５）の複合多孔質体において、
　前記親水性ポリマーがポリビニルアルコールであってもよい。

　ポリビニルアルコールはポリテトラフルオロエチレンからなる基材に密着し易い。そのため、ポリビニルアルコールを含む被覆層は基材との密着性に優れる。ポリビニルアルコールを含む被覆層は、被覆層の厚さを更に薄くすることができるため通液性に更に優れる。

　（７）上記（１）から上記（６）のいずれかの複合多孔質体において、
　前記複数のナノファイバーのそれぞれは、アルミニウムと酸素と水素とを含む無機材料からなっていてもよい。

　上記ナノファイバーは基材との親和性に優れるため、被覆層と基材との密着性を高め易い。特に、被覆層がポリマーを含む場合、上記ナノファイバーは被覆層のポリマーとの親和性にも優れる。その場合、被覆層と基材との密着性を更に高め易い。

　（８）上記（１）から上記（７）のいずれかの複合多孔質体において、
　前記第一面における空孔の平均短径が４ｎｍ以上４００ｎｍ以下であってもよい。

　平均短径が４ｎｍ以上の空孔を有する第一面は、複合多孔質体の通液性を向上させる。第一面の空孔の平均短径が４００ｎｍ以下であれば、複合多孔質体の製造時にナノファイバーが第一面に成膜され易い。そのため、薄い被覆層が形成され易い。薄い被覆層は、通液性に優れる。

　（９）上記（１）から上記（８）のいずれかの複合多孔質体において、
　前記第一面の少なくとも一部は親水性素材を含んでいてもよい。

　親水性素材は、ポリテトラフルオロエチレンによって構成される基材の第一面と被覆層との密着性を向上させる。従って、薄い被覆層であっても基材の第一面から剥がれ難い。

　（１０）上記（９）の複合多孔質体において、
　前記親水性素材が親水性ポリマーであってもよい。

　基材の表面には、基材の空孔の内周面も含まれる。つまり、親水性素材は、基材の空孔に入り込み、空孔の内周面に被覆されていても良い。基材の表面に被覆された親水性素材によって、基材と被覆層との密着性が向上する。

　（１１）上記（１０）の複合多孔質体において、
　前記親水性素材はポリビニルアルコールであってもよい。

　ポリビニルアルコールからなる親水性樹脂は、基材と被覆層との密着性を向上する。

　（１２）上記（１１）の複合多孔質体において、
　前記親水性素材を含む前記第一面は、前記ポリビニルアルコールおよび前記ポリテトラフルオロエチレンに由来する複数の化学構造を含み、
　前記複数の化学構造のうち、ＸＰＳによって得られたＣ１ｓスペクトルによって検出される化学構造におけるＣＨ_２－Ｏ－Ｒ結合の含有量が３％以上１５％以下であってもよい。
　ＸＰＳは、Ｘ－ｒａｙ　Ｐｈｏｔｏｅｌｅｃｔｒｏｎ　Ｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙの略称である。

　上記範囲のＣＨ_２－Ｏ－Ｒ結合を含む親水性ポリマーは、基材と被覆層との密着性を向上させる。

　（１３）上記（１）から上記（１２）のいずれかの複合多孔質体において、
　前記基材の形状はシートであってもよい。

　シート状の基材を備える複合多孔質体の全体形状はシート形状である。シート形状の複合多孔質体は、様々な形状に加工し易く、種々の形態のろ過装置に適用可能である。複合多孔質体は可とう性に優れるため、曲げなどの加工に供されても損傷し難い。

　（１４）上記（１３）の複合多孔質体において、
　前記基材の平均厚さが１μｍ以上１００μｍ以下であってもよい。

　シート状の基材の平均厚さが１μｍ以上であれば、基材を含む複合多孔質体の強度が確保される。基材の平均厚さが１００μｍ以下であれば、基材を含む複合多孔質体の可とう性が確保される共に、複合多孔質体によるろ過時間が長くなり過ぎない。

　（１５）上記（１）から上記（１２）のいずれかの複合多孔質体において、
　前記基材の形状はチューブであり、
　前記第一面は、前記チューブの外周面であってもよい。

　チューブ状の基材を備える複合多孔質体の全体形状はチューブ形状である。チューブ状の基材には中空糸膜も含まれる。チューブ形状の複合多孔質体では、不純物を含む流体はチューブ形状の複合多孔質体の外部に流通される。複合多孔質体を透過した流体はチューブ形状の複合多孔質体の内部に流通される。上記複合多孔質体は、複合多孔質体自体で流体の流路を構成できる。この複合多孔質体を複数本束ねることで浄化装置のモジュールを構成することができる。

　（１６）上記（１５）の複合多孔質体において、
　前記基材の平均厚さが５０μｍ以上１０００μｍ以下であってもよい。

　チューブ状の基材の平均厚さが５０μｍ以上であれば、基材を含む複合多孔質体の強度が確保される。基材の平均厚さが１０００μｍ以下であれば、基材を含む複合多孔質体の可とう性が確保される共に、複合多孔質体によるろ過時間が長くなり過ぎない。

　（１７）上記（１）から上記（１６）のいずれかの複合多孔質体において、
　前記基材は、前記第一面を含む第一層と、前記第一層に隣接する第二層と、を備え、
　前記第二層の平均孔径は、前記第一層の平均孔径よりも大きくてもよい。

　基材の厚さが厚くなるほど、基材の強度、即ち複合多孔質体の強度が高くなる。反面、基材の通液性、即ち複合多孔質体の通液性は低下する。平均孔径が大きい第二層を備える基材ａの通液性は、基材ａと同じ厚さを有し、かつ第一層のみからなる基材ｂの通液性よりも優れる。従って、基材が第一層と第二層とで構成されることで、基材を厚くしても複合多孔質体のろ過時間が長くなり難い。

　（１８）上記（１）から上記（１７）のいずれかの複合多孔質体において、
　前記被覆層は、Ａｌ－ＯＨ結合、およびＡｌ－Ｏ－Ａｌ結合を含み、
　前記Ａｌ－ＯＨ結合の含有量Ｘと前記Ａｌ－Ｏ－Ａｌ結合の含有量Ｙとの比Ｘ／Ｙが０．３以上１．０以下であってもよい。

　Ａｌ－ＯＨ結合を含むベーマイトは、Ａｌ－Ｏ－Ａｌ結合を含むアルミナよりも柔らかい。ベーマイトの含有量が多い被覆層は曲げ応力に耐性を持つ。従って、上記複合多孔質体は曲げ易い。

　（１９）上記（１）から上記（１８）のいずれかの複合多孔質体において、
　前記被覆層は、前記被覆層の表面に開口する開口孔を備え、
　前記開口孔の平均孔径が２ｎｍ以上２００ｎｍ以下であり、
　前記開口孔の平均短径が１ｎｍ以上１００ｎｍ以下であってもよい。

　平均孔径と平均短径が上記範囲に収まる被覆層を備える複合多孔質体は、ろ過性能と通液性に優れる。

　（２０）本開示の一態様の複合多孔質体の製造方法は、
　ポリテトラフルオロエチレンによって構成された多孔質体からなる基材を用意する工程Ａと、
　前記基材の第一面を親水化処理する工程Ｂと、
　複数のナノファイバーを含む分散液を前記第一面に塗布する工程Ｃと、
　前記分散液が塗布された前記基材を８０℃以上２００℃以下の加熱雰囲気下で熱処理する工程Ｄと、を備え、
　前記工程Ａで用意された前記多孔質体は、
　　分散して配置された複数のノードと、
　　前記複数のノード同士をつないでいるフィブリルと、を有し、
　前記第一面が前記複数のノードを含み、
　前記第一面における前記基材の平均孔径が５ｎｍ以上５００ｎｍ以下であり、
　前記第一面における前記複数のノードの面積率が３０％以上７０％以下であり、
　前記工程Ｃにおける前記複数のナノファイバーの平均長さは、前記平均孔径の１０倍以上である。

　上記複合多孔質体の製造方法は、上記複合多孔質体の製造に好適である。

　工程Ａで複数のノードの面積率が３０％以上の基材を用意し、その基材を用いて工程Ｂおよび工程Ｄを行うことによって、基材に被覆層を密着させ易い。そのため、上記複合多孔質体の製造方法は、基材と被覆層との密着性に優れる複合多孔質体を製造できる。

　一般的に、ナノファイバーは、ポリテトラフルオロエチレンによって構成された基材に付着し難い。従って、複数のナノファイバーの積層体を含む被覆層を基材上に形成するには、基材上に大量のナノファイバーを含む分散液を塗布しなければならない。その場合、被覆層の厚さが数十μｍ以上となるため、可とう性に優れる複合多孔質体が得られない。

　このような問題に対して、上記複合多孔質体の製造方法では、工程Ｂにおいて基材の第一面を親水化処理することで、工程Ｃにおいて第一面にナノファイバーが付着し易くなる。また、工程Ａで用意する基材の第一面における平均孔径が５００ｎｍ以下であり、かつ工程Ｃにおける複数のナノファイバーの平均長さが第一面の平均孔径の１０倍以上であるため、工程Ｃにおいてナノファイバーが第一面の孔に落ち難い。そのため、上記複合多孔質体の製造方法は、厚さの薄い被覆層を基材上に形成できる。従って、上記複合多孔質体の製造方法は、可とう性に優れる複合多孔質体を製造できる。

　上記複合多孔質体の製造方法は、工程Ａで用意する基材の第一面における基材の平均孔径が５ｎｍ以上であり、かつ第一面における複数のノードの面積率が７０％以上であることで、通液性に優れる複合多孔質体を製造できる。

　工程Ｄにおける加熱雰囲気によって分散媒が蒸発し、第一面上にナノファイバーの積層体を含む被覆層が形成される。加熱雰囲気の温度が８０℃以上であれば、分散媒の蒸発時間が短くなり、複合多孔質体の生産性が向上する。また、加熱雰囲気の温度が８０℃以上であれば、ナノファイバー同士が結合し易く、複合多孔質体からナノファイバーが脱落し難くなる。加熱雰囲気の温度が２００℃以下であれば、例えばナノファイバーがアルミニウムを含む場合、ナノファイバーに含まれるベーマイトがアルミナに変化し難い。そのため、被覆層におけるアルミナの割合が多くなりすぎず、被覆層がもろくなり難い。

　《本開示の実施形態の詳細》
　以下、本開示の複合多孔質体、および複合多孔質体の製造方法の具体例を図面に基づいて説明する。以下、図中の同一符号は同一または相当部分を示す。各図面が示す部材の大きさは、説明を明確にする目的で表現されており、必ずしも実際の寸法を表すものではない。

　《実施形態１》
　〔複合多孔質体〕
　図１から図３を参照して、実施形態１の複合多孔質体１を説明する。実施形態１の複合多孔質体１は、基材２と被覆層３とを備える。複合多孔質体１は、例えば図１に示されるようにシート形状を備える。基材２の形状はシートである。基材２は、図１、図３に示されるように、第一面２１と第二面２２とを備える。被覆層３は、基材２の第一面２１の少なくとも一部を覆うように第一面２１に配置されている。本実施形態の複合多孔質体１の特徴の一つは、基材２が特定の構造を有する点にある。

　　［基材］
　基材２は多孔質体である。多孔質体である基材２は、図２に示されるように、複数のノード２５と複数のフィブリル２６とを有している。図２は、基材２の第一面２１を簡略化して示した平面図である。説明の便宜上、図２のノード２５とフィブリル２６とにはハッチングが付されている。図２では第一面２１にのみノード２５とフィブリル２６とが存在するように見えるが、ノード２５とフィブリル２６とは基材２の厚さ方向にも存在する。複数のノード２５は、分散して配置されている。複数のノード２５は、三次元空間に島状に点在されている。各フィブリル２６は、ノード２５同士をつないでいる。各フィブリル２６は、線状に構成されている。基材２は、図３に示されるように、複数の空孔２ｈを備える。図３は断面図であるため、基材２の各空孔２ｈは独立しているように見えるが、各空孔２ｈは他の空孔２ｈにつながっている。空孔２ｈは、図２に示されるノード２５とフィブリル２６との間に設けられている。基材２には、第一面２１から第二面２２に至る無数の流路が形成されている。

　第一面２１における複数のノード２５の面積率は、３０％以上７０％以下である。上記面積率が３０％以上の第一面２１は、被覆層３との密着性に優れる。基材２と被覆層３との密着性は、例えば、図７に示される曲げ試験によって評価される。図７の曲げ試験では、略半円筒状の試験台８の湾曲面に複合多孔質体１を沿わせて、複合多孔質体１の被覆層３が基材２から剥がれるか否かを調べる。曲げ試験については後述する試験例２にて詳しく説明する。上記面積率が７０％以下の第一面２１は、通液性に優れる。上記面積率は、例えば３５％以上６５％以下、更に４０％以上６０％以下であってもよい。

　第一面２１における複数のノード２５の面積率は、次のようにして求められる。基材２をＦＩＢ（Ｆｏｃｕｓｅｄ　Ｉｏｎ　Ｂｅａｍ）によって切断する。基材２の厚さ方向に沿った断面をＳＥＭ（Ｓｃａｎｎｉｎｇ　Ｅｌｅｃｔｒｏｎ　Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ）によって観察する。ＳＥＭ画像の倍率は１００００倍である。ＳＥＭ画像のサイズは、８μｍ×１１μｍである。画像処理ソフトウェア『ＩｍａｇｅＪ』を用いて、ＳＥＭ画像を二値化処理する。二値化処理の閾値は９０である。二値化処理によって各ノード２５を特定する。二値化処理された画像の各ノード２５の面積を合計した値を画像の面積で除することで、基材２のノード２５の面積率を求める。本明細書では、上記断面における基材２のノード２５の面積率を、基材２の第一面２１におけるノード２５の面積率とみなす。

　基材２はポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）によって構成されている。ポリテトラフルオロエチレンは、耐熱性および耐薬品性に優れる。従って、複合多孔質体１の耐熱性および耐薬品性が向上する。また、ポリテトラフルオロエチレンは可とう性に優れるため、基材２は可とう性に優れる。

　基材２の厚さは、第一面２１と第二面２２との間の長さである。本例の基材２の平均厚さは、例えば１μｍ以上１００μｍ以下であってもよい。平均厚さが１μｍ以上の基材２を備える複合多孔質体１は優れた強度を有する。平均厚さが１００μｍ以下の基材２を備える複合多孔質体１は可とう性に優れる。複合多孔質体１には曲げに対する耐性が求められる場合がある。例えば複合多孔質体１は、円筒状に丸められた状態で浄化装置のモジュールのフィルターを構成する。円筒状のモジュールにおいて被覆層３は円筒の外周側に配置される。基材２と被覆層３との密着性に優れる上に可とう性に優れる複合多孔質体１は、浄化装置のモジュールのフィルターに好適である。複合多孔質体１の可とう性は、例えば、図７に示される曲げ試験によって評価される。図７の曲げ試験では、略半円筒状の試験台８の湾曲面に複合多孔質体１を沿わせて、複合多孔質体１の被覆層３が割れるか否かを調べる。また、基材２の平均厚さが１００μｍ以下であることで、複合多孔質体１によるろ過時間が長くなり過ぎない。平均厚さは５μｍ以上、１０μｍ以上、１５μｍ以上、あるいは２０μｍ以上であってもよい。平均厚さは９０μｍ以下、８０μｍ以下、あるいは５０μｍ以下であってもよい。基材２の平均厚さの範囲は、例えば１０μｍ以上９０μｍ以下でもよいし、２０μｍ以上５０μｍ以下でもよい。

　基材２の平均厚さはＳＥＭ－ＥＤＸ（Ｓｃａｎｎｉｎｇ　Ｅｌｅｃｔｒｏｎ　Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ－Ｅｎｅｒｇｙ　Ｄｉｓｐｅｒｓｉｖｅ　Ｘ－ｒａｙ　Ｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ）によって求められる。ＳＥＭ画像の倍率は１００００倍である。ＳＥＭ画像のサイズは、８μｍ×１１μｍである。基材２と被覆層３との境界は、被覆層３に含まれる金属元素の検出によって求められる。ＥＤＸによって基材２の表面３０から深さ方向に金属元素の検出強度をライン分析した際、金属元素が検出されなくなる箇所が、基材２と被覆層３との境界である。または、金属元素の検出強度が急激に低下する箇所を基材２と被覆層３との境界としてもよい。例えば被覆層３が後述するようにアルミニウム（Ａｌ）を含む場合、基材２と被覆層３との境界は、ＥＤＸによって基材２の表面３０から深さ方向にＡｌの検出強度をライン分析することで求められる。位置の異なる５本のライン分析が行われることで、異なる５箇所の境界が求められる。ＳＥＭ画像においてＡｌの検出強度が急激に低下する箇所が、基材２と被覆層３との境界である。上記境界から基材２の第二面２２までの距離が基材２の厚さである。基材２の平均厚さは、例えば基材２における異なる５点の厚さを平均したものである。

　基材２の第一面２１における平均孔径は５ｎｍ以上５００ｎｍ以下である。平均孔径が５ｎｍ以上の基材２を備える複合多孔質体１は、優れた通液性を有する。通液性が高い複合多孔質体１は、ろ過時間を短縮できる。平均孔径が５００ｎｍ以下の基材２は、強度に優れる。平均孔径は５０ｎｍ以上、１００ｎｍ以上、あるいは２００ｎｍ以上であってもよい。平均孔径は４５０ｎｍ以下、４００ｎｍ以下、あるいは３５０ｎｍ以下であってもよい。基材２の平均孔径の範囲は、例えば５０ｎｍ以上４５０ｎｍ以下でもよいし、２００ｎｍ以上３５０ｎｍ以下でもよい。

　第一面２１には複数の空孔２ｈが形成されている。第一面２１の上に被覆層３が形成されていると、第一面２１の空孔２ｈの平均孔径を測定することは難しい。本明細書における第一面２１の平均孔径は、基材２の厚さ方向に沿った断面のＳＥＭ画像から求められる。ＳＥＭ画像の倍率は５０００倍である。ＳＥＭ画像のサイズは、８μｍ×１１μｍである。基材２の厚さ方向に沿った断面のＳＥＭ画像を二値化処理し、ＳＥＭ画像における各空孔２ｈを抽出する。各空孔２ｈの円相当径を求め、全ての空孔２ｈの円相当径の平均を求める。円相当径は、空孔２ｈの面積と同じ大きさの真円の直径のことである。本明細書では、この平均円相当径を第一面２１の平均孔径とみなす。本明細書において、「基材の第一面の平均孔径」と、「基材の第一面の空孔の平均孔径」とは同義である。

　第一面２１における空孔２ｈの平均短径は、例えば４ｎｍ以上４００ｎｍ以下であってもよい。空孔２ｈの平均短径は、基材２の厚さ方向に沿った断面のＳＥＭ画像から求められる。ＳＥＭ画像の倍率およびサイズは、第一面２１の平均孔径を求める場合と同じである。ＳＥＭ画像における各空孔２ｈに外接する最小の長方形を求める。ＳＥＭ画像における全ての長方形の短径の平均が空孔２ｈの平均短径である。平均短径が４ｎｍ以上の空孔２ｈを有する第一面２１は、複合多孔質体１の通液性を向上させる。第一面２１の空孔２ｈの平均短径が４００ｎｍ以下であれば、複合多孔質体１の製造時にナノファイバー４が第一面２１に成膜され易い。そのため、薄い被覆層３が形成され易い。第一面２１における空孔２ｈの平均短径は、例えば１０ｎｍ以上３００ｎｍ以下でもよい。

　基材２は、図３に示されるように、複数の層を備えていてもよい。基材２は、例えば第一層２Ａと第二層２Ｂとを備える。図３では、第一層２Ａと第二層２Ｂとの境界が二点鎖線で模式的に示されている。第一層２Ａは、第一面２１を含む。第二層２Ｂは、第一層２Ａに隣接する。第二層２Ｂは、第二面２２を含む。第二層２Ｂの平均孔径は、第一層２Ａの平均孔径よりも大きくてもよい。平均孔径が大きい第二層２Ｂを備える基材２の通液性は、基材２と同じ厚さを有し、かつ第一層２Ａのみからなる基材２の通液性よりも優れる。従って、基材２が第一層２Ａと第二層２Ｂとで構成されることで、基材２を厚くしても複合多孔質体１のろ過時間が長くなり難い。第二層２Ｂの平均孔径は、例えば第一層２Ａの平均孔径の２倍以上２０００倍以下、更には１０倍以上１０００倍以下であってもよい。基材２が３層以上の層からなる場合、第一面２１から遠い層ほど平均孔径が大きくてもよい。本例とは異なり、基材２は、第一層２Ａのみから構成されていてもよい。この場合、第一層２Ａは第一面２１と第二面２２とを含む。

　第一層２Ａおよび第二層２Ｂの平均孔径は、基材２の厚さ方向に沿った断面のＳＥＭ画像から求められる。ＳＥＭ画像の倍率およびサイズは、第一面２１の平均孔径を求める場合と同じである。第一層２Ａと第二層２Ｂとは、基材２の作製時に熱融着される。そのため、第一層２Ａと第二層２Ｂとの境界はＳＥＭ画像において確認することができる。ＳＥＭ画像において、境界を挟んで第一面２１を含む領域に存在する各空孔２ｈの円相当径の平均が、第一層２Ａの平均孔径である。同様に、ＳＥＭ画像において、境界を挟んで第二面２２を含む領域に存在する各空孔２ｈの円相当径の平均が、第二層２Ｂの平均孔径である。

　基材２の第一面２１の少なくとも一部は親水性素材５を含んでいてもよい。言い換えれば、多孔質体の表面の少なくとも一部に親水性素材５が存在してもよい。図３における親水性素材５は誇張して示されている。親水性素材５は、後述する複合多孔質体１の製造方法において、基材２の第一面２１とナノファイバー４との密着性を向上させる。ＳＥＭ画像において親水性素材５を確認することは難しい。親水性素材５の存在は、例えばＸＰＳによって確認可能である。親水性素材５は、複合多孔質体１の作製過程における熱処理によって消失する可能性がある。従って、親水性素材５はＸＰＳによって検出されないこともあり得る。

　親水性素材５は、例えば第一面２１を含む基材２の表面の少なくとも一部に被覆された親水性ポリマーであってもよい。親水性ポリマーは、基材２の表面に形成された層状体である。基材２の表面には、基材２の空孔２ｈの内周面も含まれる。本例では、親水性ポリマーは基材２の空孔２ｈに入り込んでいる。即ち、親水性ポリマーは、第一面２１だけでなく、空孔２ｈの内周面の少なくとも一部を覆う。親水性ポリマーの層は極めて薄いため、親水性ポリマーの有無によって基材２の孔径はほとんど変化しない。

　親水性ポリマーは、例えばポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、エチレンビニルアルコール共重合体（ｅｔｈｙｌｅｎｅ　ｖｉｎｙｌａｌｃｏｈｏｌ　ｃｏｐｏｌｙｍｅｒ）、ポリビニルピロリドン（Ｐｏｌｙｖｉｎｙｌｐｙｒｒｏｌｉｄｏｎｅ）、ポリエチレンイミン（Ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｉｍｉｎｅ）、またはカルボキシル基を含むポリアクリル酸であってもよい。特に、ＰＶＡは、基材２と被覆層３との密着性を向上させる。

　基材２がＰＴＦＥであるので、親水性ポリマーがＰＶＡである場合、親水性ポリマーを含む第一面２１はＰＶＡおよびＰＴＦＥに由来する複数の化学構造を含む。化学構造の一種であるＣＨ_２－Ｏ－Ｒ結合は、基材２と被覆層３との密着性を向上させる。上記複数の化学構造のうち、ＸＰＳによって得られたＣ１ｓスペクトルによって検出される化学構造におけるＣＨ_２－Ｏ－Ｒ結合の含有量は、例えば３％以上１５％以下であってもよい。ＣＨ_２－Ｏ－Ｒ結合の含有量はＸＰＳによって求められる。ＸＰＳの条件の詳細は、後述する試験例２に示す。

　　［被覆層］
　被覆層３は、複合多孔質体１によってろ過される流体に面する層である。被覆層３は、図３に示すように、複数のナノファイバー４の積層体を含む。図３では一部のナノファイバー４が図示されている。これらのナノファイバー４はおおむね被覆層３の平面方向に沿って配置されている。この被覆層３が曲げられたときに、各ナノファイバー４が微小に変形し、被覆層３に作用する応力を吸収する。そのため、本例の被覆層３は所定の可とう性を有している。可とう性に優れる基材２および被覆層３を備える複合多孔質体１は、可とう性に優れ、曲げられたときに割れたりし難い。

　各ナノファイバー４は、例えばアルミニウム（Ａｌ）と酸素（Ｏ）と水素（Ｈ）とを含む無機材料からなっていてもよい。このナノファイバー４は、熱および薬品によって変性し難い。即ち、ナノファイバー４は耐熱性および耐薬品性に優れる。耐熱性および耐薬品性に優れる基材２および被覆層３を備える複合多孔質体１は、耐熱性および耐薬品性に優れる。ナノファイバー４は、主にベーマイトとアルミナとで構成されていてもよい。ベーマイトはアルミナに比べて柔らかい。従って、ナノファイバー４に占めるベーマイトの割合、即ち被覆層３に占めるベーマイトの割合が高いと、被覆層３が割れたり欠けたりし難い。

　ベーマイトはＡｌ－ＯＨ結合を含む。Ａｌ－ＯＨ結合を含むベーマイトは、Ａｌ－Ｏ－Ａｌ結合を含むアルミナよりも柔らかい。被覆層３におけるベーマイトの存在は、ＸＰＳによって被覆層３の表面３０におけるＡｌ－ＯＨ結合を検知することで確認できる。被覆層３におけるアルミナの存在は、ＸＰＳによって被覆層３の表面３０におけるＡｌ－Ｏ－Ａｌ結合を検出することで確認できる。Ａｌ－ＯＨ結合の含有量ＸとＡｌ－Ｏ－Ａｌ結合の含有量Ｙとの比Ｘ／Ｙは、例えば０．３以上１．０以下であってもよい。ベーマイトの含有量が多い被覆層３は曲げ応力に耐性を持つ。従って、複合多孔質体１は曲げ易い。本明細書において、ＸＰＳによって得られたスペクトルにおけるＡｌ（ＯＨ）_３のピークの積分強度を、Ａｌ－ＯＨ結合の含有量Ｘとみなす。また、上記スペクトルにおけるＡｌ_２Ｏ_３のピークの積分強度を、Ａｌ－Ｏ－Ａｌ結合の含有量Ｙとみなす。ＸＰＳの条件の詳細は、後述する試験例２に示す。

　被覆層３の平均厚さは、例えば１０ｎｍ以上１０００ｎｍ以下であってもよい。被覆層３の平均厚さが１０ｎｍ以上であれば、被覆層３によって効率的に不純物を分離し易い。被覆層３の平均厚さが１０００ｎｍ以下であれば、被覆層３の可とう性が確保され易い。また、複合多孔質体１によるろ過時間が長くなり過ぎない。平均厚さは１５ｎｍ以上、５０ｎｍ以上、１００ｎｍ以上、あるいは２００ｎｍ以上であってもよい。平均厚さは９００ｎｍ以下、８００ｎｍ以下、あるいは５００ｎｍ以下であってもよい。被覆層３の平均厚さの範囲は、例えば１５ｎｍ以上９００ｎｍ以下でもよいし、２００ｎｍ以上５００ｎｍ以下でもよい。

　被覆層３の平均厚さは、基材２の平均厚さと同様の求め方で求められる。即ち、ＳＥＭ－ＥＤＸによって求めた基材２と被覆層３との境界から被覆層３の表面３０までの距離が被覆層３の厚さである。ＳＥＭ画像の倍率は１００００倍である。ＳＥＭ画像のサイズは、８μｍ×１１μｍである。被覆層３の平均厚さは、例えば被覆層３における異なる５点の厚さを平均したものである。

　複数のナノファイバー４が積層することによって構成された被覆層３は多孔質体である。この被覆層３では、隣接するナノファイバー４の隙間が、流体が通過する空孔となる。被覆層３の平均孔径は基材２の平均孔径よりも小さい。被覆層３の平均孔径は例えば１ｎｍ以上５０ｎｍ以下であってもよい。被覆層３の平均孔径が１ｎｍ以上であれば、被覆層３の可とう性が確保される。また、複合多孔質体１によるろ過時間が長くなり過ぎない。被覆層３の平均孔径が５０ｎｍ以下であれば、被覆層３によって効率的に不純物を分離できる。平均孔径は２ｎｍ以上、５ｎｍ以上、１０ｎｍ以上、あるいは２０ｎｍ以上であってもよい。平均孔径は４５ｎｍ以下、４０ｎｍ以下、あるいは３０ｎｍ以下であってもよい。被覆層３の平均孔径の範囲は、例えば２ｎｍ以上４５ｎｍ以下でもよいし、２０ｎｍ以上３０ｎｍ以下でもよい。

　被覆層３の平均孔径は非常に小さいため、被覆層３の断面のＳＥＭ画像から求めることが難しい。本例における被覆層３の平均孔径は、通液試験によって求められる。図６は通液試験に使用される試験装置７である。試験装置７は、真空引き可能なフラスコ７０と、両端が開口した筒状のチャンバー７１とを備える。チャンバー７１の下端開口部７１Ｄとフラスコ７０の上端開口部７０Ｕとの間に複合多孔質体１が挟まれている。複合多孔質体１の被覆層３は、チャンバー７１を向いている。

　被覆層３の平均孔径を求めるための通液試験の手順は以下のとおりである。既知の平均粒径を有する複数の粒子を含む試験液を作製する。ここで、平均粒径とは、粒子の個数分布の最頻値を意味する。試験液における粒子の濃度（ｇ／ｃｍ^３）は既知である。試験液は、異なる平均粒径のものを複数作製する。例えば、平均粒径が１ｎｍ～２０ｎｍの間は、５ｎｍ間隔で試験液を作製する。平均粒径が２０ｎｍ～６０ｎｍの間は、１０ｎｍ間隔で試験液を作製する。平均粒径が６０ｎｍ～１００ｎｍの間は、２０ｎｍ間隔で試験液を作製する。各試験液に含まれる複数の粒子は、アルドリッチ社製の「金ナノ粒子」を用いる。）

　試験液をチャンバー７１に入れる。フラスコ７０内を真空引きすることで、複合多孔質体１を透過したろ液がフラスコ７０に貯まる。真空度は８０Ｐａ以下である。ろ液に含まれる粒子の濃度（ｇ／ｃｍ^３）を測定する。粒子の濃度は、測定したろ液の体積と、ろ液を蒸発させた後に残る粒子の質量とから計算によって求められる。粒子の平均粒径の小さい試験液から順に、上記の手順で通液試験を行う。ろ液における粒子の濃度が、試験液における粒子の濃度の１０％以下になる試験液の粒子の平均粒径のうち、最小の粒子の平均粒径を被覆層３の平均孔径とみなす。例えば、粒子の平均粒径が１０ｎｍの試験液では、ろ液における粒子の濃度が試験液における粒子の濃度の９０％であり、粒子の平均粒径が１５ｎｍの試験液では、ろ液における粒子の濃度が試験液における粒子の濃度の５％であり、粒子の平均粒径が２５ｎｍの試験液では、ろ液における粒子の濃度が試験液における粒子の濃度の５％である場合、被覆層３の平均孔径は１５ｎｍである。

　通液試験で求められる基材２の平均孔径は、通液試験で求められる被覆層３の平均孔径よりも大きくすることができる。ここで、基材２の平均孔径を求めるための通液試験は、上記の被覆層３の平均孔径を求めるための通液試験において、チャンバー７１の下端開口部７１Ｄとフラスコ７０の上端開口部７０Ｕとの間に、複合多孔質体１に代えて、基材２のみを挟むこと以外は、上記の被覆層３の平均孔径を求めるための通液試験と同様の手順で行われる。

　被覆層３全体の空孔の平均孔径を被覆層３の断面のＳＥＭ画像から測定することは難しいが、被覆層３の表面３０に開口した開口孔３ｈの大きさを測定することはできる。開口孔３ｈは隣接するナノファイバー４の隙間によって構成されており、比較的大きい。図４は、表面３０のＳＥＭ画像を模式的に示す模式図である。開口孔３ｈの平均孔径は、例えば２ｎｍ以上２００ｎｍ以下であってもよい。開口孔３ｈの平均孔径は５ｎｍ以上１００ｎｍ以下でもよい。開口孔３ｈの平均短径は、例えば１ｎｍ以上１００ｎｍ以下であってもよい。開口孔３ｈの平均短径は２ｎｍ以上５０ｎｍ以下でもよい。開口孔３ｈの平均孔径と平均短径が上記範囲に収まる被覆層３を備える複合多孔質体１は、ろ過性能と通液性に優れる。開口孔３ｈの平均孔径と平均短径は、第一面２１の平均孔径または平均短径と同様に、画像解析によって求められる。表面３０のＳＥＭ画像を取得し、二値化処理によって開口孔３ｈを特定する。ＳＥＭ画像の倍率は１００００倍である。ＳＥＭ画像のサイズは、８μｍ×１１μｍである。開口孔３ｈの平均円相当径が、開口孔３ｈの平均孔径である。開口孔３ｈに外接する最小の長方形の平均短径が、開口孔３ｈの平均短径である。

　被覆層３はポリマーを含んでいてもよい。ポリマーを含む被覆層３は基材２との密着性に優れる。基材２との密着性に優れることで薄い被覆層３であっても基材２の第一面２１から剥がれ難い。ポリマーを含む被覆層３は、被覆層３の厚さを薄くすることができるため通液性に優れる。被覆層３に含まれるポリマーは親水性ポリマーであってもよい。親水性ポリマーを含む被覆層３は基材２との密着性に更に優れる。また、被覆層３の厚さを更に薄くすることができるため、親水性ポリマーを含む被覆層３は通液性に更に優れる。被覆層３に含まれる親水性ポリマーは、例えば、ＰＶＡ、エチレンビニルアルコール共重合体、ポリビニルピロリドン、ポリエチレンイミン、またはカルボキシル基を含むポリアクリル酸であってもよい。上述したように、ＰＶＡは、基材２に密着し易い。そのため、被覆層３にもＰＶＡが含まれていると、基材２と被覆層３との密着性に優れる。

　〔複合多孔質体の製造方法〕
　実施形態１の複合多孔質体の製造方法は、以下の工程を備える。実施形態１の複合多孔質体の製造方法は、実施形態１の複合多孔質体１を製造できる。
　工程Ａ…ポリテトラフルオロエチレンによって構成された多孔質体からなる基材２を用意する。
　工程Ｂ…基材２の第一面２１を親水化処理する。
　工程Ｃ…複数のナノファイバー４を含む分散液を第一面２１に塗布する。
　工程Ｄ…分散液が塗布された基材２を８０℃以上２００℃以下の雰囲気下で熱処理する。
　実施形態１の複合多孔質体の製造方法の特徴の一つは、工程Ａで特定の構造を有する多孔質体からなる基材２を用意する点にある。

　［工程Ａ］
　基材２は、上述した複合多孔質体１に備わる基材２と同じである。即ち、基材２は複数のノード２５と複数のフィブリル２６とを備える。第一面２１における複数のノード２５の面積率は、３０％以上７０％以下である。基材２の第一面２１の平均孔径は５０ｎｍ以上５００ｎｍ以下である。第一面２１における複数のノード２５の面積率および第一面２１の平均孔径の求め方は上述の通りである。

　基材２は、例えば、ＰＴＦＥからなる圧延材を延伸加工することで得られる。圧延材は、押出材を圧延加工することで作製できる。押出材は、樹脂ペーストを押出成形することで作製できる。樹脂ペーストは、ＰＴＦＥパウダーと助剤とを混合して作製できる。助剤は例えば潤滑剤である。延伸加工は、例えば第一延伸加工と第二延伸加工とを含んでいてもよい。第一延伸加工は、圧延材を圧延方向に沿って延伸して第一延伸材を作製する。第二延伸加工は、第一延伸材を圧延方向と直交する方向に延伸して第二延伸材を作製する。樹脂ペーストの配合比および延伸加工での延伸倍率の少なくとも一方を変更することで、基材２の第一面２１における複数のノード２５の面積率および平均孔径を変えることができる。例えば、第一延伸加工での延伸倍率である第一延伸倍率と第二延伸加工での延伸倍率である第二延伸倍率の各々を変更してもよい。第一延伸倍率は、例えば１．５倍以上１０倍以下である。第二延伸倍率は、例えば２倍以上４０倍以下である。

　［工程Ｂ］
　工程Ｂでは、基材２の少なくとも第一面２１を親水化処理する。具体的には、多孔質の基材２の第一面２１に親水性ポリマーを複合化させる。親水性ポリマーは、アルミナに備わる水酸基と脱水縮合するもの、あるいは水素結合するものでもよい。親水性ポリマーは例えば、多くの水酸基を有するＰＶＡ、エチレンビニルアルコール共重合体である。親水性ポリマーは、アミド基を含むポリビニルピロリドン、イミノ基を含むポリエチレンイミン、カルボキシル基を含むポリアクリル酸等でもよい。特に、ＰＶＡは疎水基を有し、その疎水基がＰＴＦＥの多孔質体の表面に付着し易い。そのため、ＰＶＡは、基材２の構成材料と組み合わされ易い。

　ＰＴＦＥの多孔質体の表面の親水化は例えば次の手順で行うことができる。まず、ＰＴＦＥの多孔質体をイソプロピルアルコール（ＩＰＡ）に浸漬した後、適切な濃度に調整されたＰＶＡ水溶液に浸漬する。次いで、化学架橋または電子線架橋によってＰＶＡをゲル化させる。化学架橋では、ＰＶＡ水溶液に架橋剤が添加される。必要に応じてＰＶＡ水溶液に酸触媒が添加されてもよい。ＰＶＡの架橋後、多孔質体を純水で洗浄し、乾燥させる。ＰＶＡ水溶液におけるＰＶＡ濃度は、基材２の気孔率などによって変化する。例えば、ＰＶＡ水溶液におけるＰＶＡ濃度は０．８質量％以上１０質量％以下でもよい。ＰＶＡ水溶液への多孔質体の浸漬時間は、基材２の気孔率などによって変化する。例えば、ＰＶＡ水溶液への多孔質体の浸漬時間は２分以上２４時間以下でもよい。架橋剤は、例えばアセタール結合を生成するグルタルアルデヒドあるいはテレフタルアルデヒドである。電子線の線量は、例えば６メガｒａｄ程度である。

　［工程Ｃ］
　分散液は、分散媒中に複数のナノファイバー４が分散した液体である。分散媒は主に水である。分散媒は、水の他にＩＰＡを含んでいてもよいし、更に界面活性剤を含んでいてもよい。ＩＰＡは、基材２の表面に対する分散媒の濡れ性を向上させる。ＩＰＡの濃度は、分散液の質量を１００としたとき、５質量％以下でもよい。

　分散媒におけるナノファイバー４の濃度は、０．１質量％以上５質量％以下であってもよい。ナノファイバー４の濃度が０．１質量％以上であれば、分散媒におけるナノファイバー４の濃度が十分であるため、第一面２１にナノファイバー４が積層され易い。ナノファイバー４の濃度が５質量％以下であれば、分散液の濃度が高くなり過ぎない。濃度が高過ぎる分散液は、第一面２１上に薄く均一に塗布することが難しい。

　ナノファイバー４の平均長さは、基材２の第一面２１の平均孔径の１０倍以上である。平均長さは、例えば１００ｎｍ以上１００００ｎｍ以下である。平均長さは５００ｎｍ以上、更には１０００ｎｍ以上でもよい。平均長さは７０００ｎｍ以下、更には５０００ｎｍ以下でもよい。平均長さの範囲は、例えば５００ｎｍ以上７０００ｎｍ以下でもよいし、１０００ｎｍ以上５０００ｎｍ以下でもよい。ナノファイバー４の平均幅は、例えば１ｎｍ以上１０ｎｍ以下である。ナノファイバー４の幅と長さは互いに直交する。平均幅は２ｎｍ以上、更に３ｎｍ以上であってもよい。平均幅は７ｎｍ以下、更には５ｎｍ以下であってもよい。平均幅の範囲は、例えば２ｎｍ以上７ｎｍ以下でもよい。ナノファイバー４の平均長さおよび平均幅は、メーカのカタログ値である。平均長さを平均幅で割った平均アスペクト比は、例えば３０以上５０００以下である。平均アスペクト比は、例えば１００以上５００以下でもよいし、１００以上３００以下でもよい。ナノファイバー４のサイズは、複合多孔質体１の被覆層３においても変化しない。

　第一面２１上に分散液を塗布する方法は特に限定されない。塗布方法は、例えばスピンコート、バーコート、ディップコート、またはダイコートである。また、チューブ状やシート状の基材２を回転軸に固定し、基材２を回転させながら分散液をスプレー等で塗布してもよい。薄い被覆層３を成膜するためには、スピンコートが好ましい。基材２を回転させながら、基材２上に分散液を滴下するスピンコートは、分散液の厚みを薄く、均一にできる。スピンコートの周速は、例えば５０００ｍｍ／分以上２００００ｍｍ／分以下、７０００ｍｍ／分以上１５０００ｍｍ／分以下であってもよい。

　［工程Ｄ］
　加熱雰囲気の温度は８０℃以上２００℃以下である。加熱雰囲気は特に限定されない。加熱雰囲気は、例えば、大気雰囲気、不活性ガス雰囲気、水蒸気雰囲気、または減圧雰囲気である。加熱雰囲気によって分散媒が蒸発し、第一面２１上にナノファイバー４の積層体が形成される。加熱雰囲気の温度が高くなるほど、分散媒の蒸発時間が短くなり、複合多孔質体１の生産性が向上する。また、加熱雰囲気の温度が高くなるほど、ナノファイバー４同士が結合し易く、複合多孔質体１からナノファイバー４が脱落し難くなる。しかし、加熱雰囲気の温度が高すぎると、ナノファイバー４に含まれるベーマイトがアルミナに変化し易い。被覆層３におけるアルミナの割合が多くなると、被覆層３がもろくなる恐れがある。例えば、加熱雰囲気の温度が１３０℃未満であれば、アルミナの割合が多くなり過ぎない。

　［その他］
　工程Ｃと工程Ｄとからなる成膜サイクルは複数回繰り返すことが好ましい。成膜サイクルのリピート数ｋは２以上５以下であることが好ましい。この場合、ｋ回目の工程Ｃでは、ｋ－１回目の工程Ｄによって形成された積層体の上に分散液を塗布する。成膜サイクルを２回以上とすることで、第一面２１に被覆層３が成膜されない領域が形成されることを抑制できる。

　《実施形態２》
　〔複合多孔質体〕
　図４を参照して、実施形態２の複合多孔質体１を説明する。実施形態２の複合多孔質体１は、基材２の形状がチューブである点が実施形態１の複合多孔質体１と相違する。チューブ形状の基材２の第一面２１は基材２の外周面を構成する。第一面２１上に形成される被覆層３は、チューブ形状の複合多孔質体１の外周面を構成する。第二面２２は、チューブ形状の複合多孔質体１の内周面を構成する。この複合多孔質体１によって例えば液体または気体に固体が混ざっている混合流体をろ過する場合、混合流体は複合多孔質体１の外周側に導入される。混合流体は被覆層３と基材２とを通って複合多孔質体１の内部空間に流入する。内部空間に流入した混合流体は、複合多孔質体１の長手方向に沿って複合多孔質体１の外部に排出される。

　チューブ形状の複合多孔質体１は、例えば浄化装置のモジュールにおいて曲げられた状態で配置される場合がある。従って、チューブ形状の複合多孔質体１においても曲げに対する耐性が求められる場合がある。チューブ形状の複合多孔質体１の曲げ耐性は、例えば所定の半径を有する円柱の外周面に複合多孔質体１を巻き付けることによって評価できる。

　チューブ形状の基材２の平均厚さは、例えば５０μｍ以上１０００μｍ以下であってもよい。チューブ状の基材２の平均厚さが５０μｍ以上であれば、基材２を含む複合多孔質体１の強度が確保される。基材２の平均厚さが１０００μｍ以下であれば、基材２を含む複合多孔質体１の可とう性が確保される共に、複合多孔質体１によるろ過時間が長くなり過ぎない。チューブ形状の基材２の平均厚さは、例えば１００μｍ以上５００μｍ以下であってもよい。

　《試験例１》
　試験例１では、基材２の第一面２１の平均孔径およびノード２５の面積率と、ナノファイバー４の平均長さとの関係が、被覆層３の形成に及ぼす影響を調べた。具体的には、以下の試料１－１、試料１－２、および試料１－３の複合多孔質体Ｔを作製した。

　〔試料１〕
　ＰＴＦＥからなる基材を用意した。基材は、樹脂ペーストを押出成形することで押出材を作製する工程と、押出材を圧延加工することで圧延材を作製する工程と、圧延材を延伸加工する工程とを行うことで作製した。樹脂ペーストは、ＰＴＦＥファインパウダーと液体潤滑剤とを混合して作製した。ＰＴＦＥファインパウダーは、ダイキン工業社製、ポリフロンファインパウダーＦ－１０６を用いた。液体潤滑剤は、出光興産社製、スーパーゾル　ＦＰ－２５を用いた。樹脂ペーストに占める液体潤滑剤の割合は１６質量％とした。樹脂ペーストを押出成形することで板状の押出材を作製した。押出成形は市販のラム式押出装置を用いた。押出材の幅は１５３ｍｍ、厚さは１．８ｍｍとした。押出材を圧延加工することで圧延材を作製した。圧延加工は市販の圧延装置を用いた。圧延材の厚さは３００μｍとした。延伸加工は、第一延伸加工と第二延伸加工とを含む。第一延伸加工では、縦延伸装置を用いて圧延材を圧延方向に沿って延伸して第一延伸材を作製した。縦延伸装置のロール温度は２５０℃とした。第一延伸倍率は６倍とした。第二延伸加工では、横延伸装置を用いて第一延伸材を圧延方向と直交する方向に延伸して第二延伸材を作製した。第二延伸倍率は１１倍とした。第二延伸材を焼結することでシート状の基材を作製した。焼結時間は５秒とした。

　得られた基材の第一面の平均孔径は１３０ｎｍ、第一面のノードの面積率は５０％であった。平均孔径は次のようにして求めた。基材をＦＩＢによって切断し、基材の厚さ方向に沿った断面をＳＥＭによって観察した。ＳＥＭ画像の倍率は５０００倍とした。ＳＥＭ画像のサイズは、８μｍ×１１μｍであった。画像処理ソフト『ＩｍａｇｅＪ』を用いてＳＥＭ画像を二値化処理した。二値化処理の閾値は１２７であった。二値化処理された画像の各空孔の円相当径を平均することで、基材の平均孔径を求めた。基材の平均孔径を、基材の第一面の平均孔径とみなした。ノードの面積率は次のようにして求めた。基材の上記断面をＳＥＭによって観察した。ＳＥＭ画像の倍率は１００００倍とした。ＳＥＭ画像のサイズは、８μｍ×１１μｍであった。画像処理ソフトウェア『ＩｍａｇｅＪ』を用いて、ＳＥＭ画像を二値化処理した。二値化処理の閾値は９０であった。二値化処理された画像の各ノードの面積を合計した値を画像の面積で除することで、基材のノードの面積率を求めた。基材のノードの面積率を、基材の第一面におけるノードの面積率とみなした。

　基材をＩＰＡに９０分浸漬した後、ＰＶＡ溶液に１５０分浸漬した。ＰＶＡ溶液におけるＰＶＡ濃度は０．６質量％であった。次いで、基材を純水に１分浸漬した後、電子線の照射によってＰＶＡを架橋した。最後に、基材を２５℃の雰囲気下で乾燥し、基材の表面を親水化させた。

　ナノファイバーを含む分散液を用意した。分散媒は、４質量％のＩＰＡを含む水であった。分散液におけるナノファイバーの濃度は、５質量％であった。ナノファイバーの平均長さは１４００ｎｍ、平均幅は４ｎｍ、平均アスペクト比は３５０であった。ナノファイバー４の平均長さおよび平均幅は、メーカのカタログ値である。ナノファイバーの平均長さは、基材の第一面の平均孔径の１０倍以上であった。

　スピンコートによって基材の第一面に分散液を滴下した。スピンコートの周速は１００００ｍｍ／分であった。分散液が塗布された基材を１００℃の加熱雰囲気に３０分、放置した。この分散液の滴下と加熱とをもう一度繰り返し、試料１の複合多孔質体Ｔを完成させた。

　試料１－１の表面をＳＥＭによって観察したところ、ＳＥＭ画像の図示は省略するものの、基材の第一面には複数のナノファイバーの積層体からなる被覆層が形成されていた。

　試料１－１の被覆層の平均孔径を測定するために、図６の試験装置７を用いた通液試験を実施した。通液試験では、複数の試験液を用意した。各試験液に含まれる粒子の平均粒径は既知である。通液試験の結果、試料１－１の被覆層の平均孔径は２０ｎｍであった。

　〔試料１－２〕
　試料１－２は、ナノファイバーの平均長さが３０００ｎｍである点を除き、試料１－１と同様にして作製した。ナノファイバーの平均幅は４ｎｍであり、ナノファイバーの平均アスペクト比は７５０であった。ナノファイバーの平均長さは、基材の第一面の平均孔径の約２３倍であった。

　試料１－２の表面をＳＥＭによって観察したところ、ＳＥＭ画像の図示は省略するものの、試料１－２の表面には複数のナノファイバーの積層体からなる被覆層が形成されていた。

　試料１－２の被覆層の平均孔径を、試料１－１と同様の通液試験によって測定した。その結果、試料１－２の被覆層の平均孔径は２０ｎｍであった。

　〔試料１－３〕
　試料１－３は、基材の平均孔径が２６０ｎｍである点を除き、試料１－１と同様にして作製した。基材の平均孔径が２６０ｎｍは、延伸倍率を変更することで異ならせた。ナノファイバーの平均長さは１４００ｎｍであり、基材の第一面の平均孔径の約５．４倍であった。

　試料１－３の表面をＳＥＭによって観察したところ、ＳＥＭ画像の図示は省略するものの、ナノファイバーは多孔質の基材の表面に付着しており、基材の第一面の空孔をふさぐことはできなかった。空孔がふさがれなかったのは、ナノファイバーの平均長さが短かったためと推察される。

　《試験例２》
　試験例２では、上述の試料１－１と同様にして試料２－１から試料２－２１の複合多孔質体Ｔを作製した。各試料の物理特性のデータを表１に示す。各試料の性能のデータを表２に示す。物理特性のデータ、および性能のデータは以下の通りである。基材の第一面の平均孔径およびノードの面積率は、延伸倍率を変更することで異ならせた。具体的には、試料２－１から試料２－１９では、第一延伸倍率を１．５倍以上１０倍以下の範囲内とし、第二延伸倍率を２倍以上４０倍以下の範囲内とした。試料２－２０および試料２－２１では、第一延伸倍率および第二延伸倍率のそれぞれを上記範囲外とした。いずれの試料においても、分散液に含まれるナノファイバーの平均長さは基材の第一面の平均孔径の１０倍以上とした。

　　［基材］
　　　（材質）
　基材の材質はＰＴＦＥまたはセラミックスであった。ＰＴＦＥは全て、親水化処理されている。表１に示される『ＰＴＦＥ※』は、ＰＴＦＥの一部、具体的にはＰＴＦＥにおける表面の５０％のみが親水化されたものである。

　　　（形状）
　基材の形状は、丸棒、シート、またはチューブである。丸棒形状およびチューブ形状の基材では、基材の外周面が第一面であり、その外周面に被覆層が設けられている。

　　　（平均厚さ）
　シート形状の基材の平均厚さは、シート形状の複合多孔質体Ｔの厚み方向に複合多孔質体Ｔを切断した断面を撮影したＳＥＭ画像から求めた。チューブ形状の基材の平均厚さは、チューブ形状の複合多孔質体Ｔの延伸方向、即ちチューブの軸方向に直交する方向に複合多孔質体Ｔを切断した断面を撮影したＳＥＭ画像から求めた。いずれのＳＥＭ画像の倍率も１００００倍とした。いずれのＳＥＭ画像のサイズも、８μｍ×１１μｍであった。平均厚さは５点平均であった。丸棒形状の基材の平均厚さは、丸棒形状の基材の直径である。

　　　（第一面の平均孔径・平均短径）
　第一面の平均孔径および平均短径は、複合多孔質体Ｔの厚さ方向に沿った断面のＳＥＭ画像を画像解析することによって求めた。画像解析の条件は試験例１と同じである。画像データにおける各空孔に外接する最小の長方形の平均短径が、第一面の平均短径である。

　　　（第二層の平均孔径）
　表１において『なし』と記載されている試料は、基材が図２に示される第二層２Ｂを備えておらず、第一層２Ａのみで構成されていることを意味する。表１において数値が記載されている試料は、第二層２Ｂを備える。第二層２Ｂの平均孔径は、複合多孔質体Ｔの厚さ方向に沿った断面のＳＥＭ画像から求めた。画像解析の条件は試験例１と同じである。

　　［被覆層］
　　　（材質）
　被覆層は、複数のナノファイバーの積層体を含む。ナノファイバーの材質は、アルミニウムと酸素と水素とを含む無機材料、またはチタン酸カリウムである。被覆層はポリマーを含む試料もある。ポリマーは、親水性のＰＥＩ、親水性のＰＶＡ、または疎水性シリコーンである。

　　　（平均厚さ）
　被覆層の平均厚さは、複合多孔質体Ｔの厚さ方向に沿った断面のＳＥＭ画像から測定した。ＳＥＭ画像の倍率は１００００倍とした。ＳＥＭ画像のサイズは、８μｍ×１１μｍであった。平均厚さは５点平均であった。

　　　（平均孔径）
　被覆層の平均孔径は、試験例１に示す通液試験によって求めた。

　　　（開口孔の平均孔径・平均短径）
　被覆層の開口孔の平均孔径および平均短径は、被覆層の表面を撮影したＳＥＭ画像から測定した。ＳＥＭ画像の倍率は１０万倍であった。ＳＥＭ画像のサイズは、８μｍ×１１μｍであった。平均孔径は、開口孔の円相当径の平均値である。平均短径は、開口孔に外接する最小の長方形の平均短径である。

　　　（Ａｌ－ＯＨ比率）
　『Ａｌ－ＯＨ比率』は、Ａｌ－ＯＨ結合の含有量Ｘと、Ａｌ－Ｏ－Ａｌ結合の含有量Ｙとの比Ｘ／Ｙである。含有量Ｘと含有量Ｙとは、ＸＰＳによって求めた。測定機器は、ＵＬＶＡＣ　ＰＨＩ製のＱｕａｎｔｅｒａＳＸＭであった。測定の条件は以下の通りであった。
・Ｘ線源：ＭＯＮＯ　Ａｌ　Ｋα
・ビーム条件：１００μｍφ，１００Ｗ，２５ｋＶ　ＨＰ
・透過エネルギー：５５ｅＶ（ナロー）、２８０ｅＶ（ワイド）
・分析元素：Ｃ，Ｏ，Ｆ，Ａｌ，Ｓｉ，Ｓ
・帯電補正：Ｆ１ｓを６８９．６７ｅＶとして全元素帯電補正

　ＸＰＳによって得られたスペクトルのＡｌ２ｐ３のピークに、Ａｌ_２Ｏ_３とＡｌ（ＯＨ）_３の２成分が存在すると仮定した。Ａｌ_２Ｏ_３の結合エネルギーと、Ａｌ（ＯＨ）_３の結合エネルギーとの差を０．６ｅＶと規定し、上記ピークを、Ａｌ_２Ｏ_３のピークと、Ａｌ（ＯＨ）_３のピークとに分離した。Ａｌ_２Ｏ_３のピークの積分強度がＡｌ－ＯＨ結合の含有量Ｘ、Ａｌ（ＯＨ）_３のピークの積分強度がＡｌ－Ｏ－Ａｌ結合の含有量Ｙである。

　　［親水性素材］
　　　（材質）
　親水性素材はいずれも、基材の第一面の少なくとも一部を覆う親水性ポリマーの層である。

　　　（ＣＨ_２－Ｏ－Ｒ含有量）
　『ＣＨ_２－Ｏ－Ｒ含有量』は、第一面に含まれるＰＶＡおよびＰＴＦＥに由来する複数の化学構造におけるＣＨ_２－Ｏ－Ｒ結合の含有量をパーセンテージで表したものである。ＣＨ_２－Ｏ－Ｒ結合は、ＰＶＡおよびＰＴＦＥに由来する化学構造の一種である。ＣＨ_２－Ｏ－Ｒ含有量はＸＰＳによって求めた。測定機器は、ＵＬＶＡＣ　ＰＨＩ製のＱｕａｎｔｅｒａＳＸＭであった。測定の条件は以下の通りであった。
・Ｘ線源：ＭＯＮＯ　Ａｌ　Ｋα
・ビーム条件：１００μｍφ，１００Ｗ，２０ｋＶ　ＨＰ
・透過エネルギー：５５ｅＶ（ナロー）、２８０ｅＶ（ワイド）
・分析元素：Ｃ，Ｏ，Ｆ
・光電子取り出し角：４５°

　ＸＰＳによって得られたＣ１ｓスペクトルのピークに、１２成分が存在すると仮定してピーク分離し、各成分のピークの積分強度を求めた。１２成分の結合エネルギーはそれぞれ、２８４．０ｅＶ、２８５．０ｅＶ、２８５．８ｅＶ、２８６．６ｅＶ、２８７．５ｅＶ、２８８．４ｅＶ、２８９．１ｅＶ、２８９．９ｅＶ、２９０．７ｅＶ、２９１．８ｅＶ、２９２．６ｅＶ、および２９３．６ｅＶである。ＣＨ_２－Ｏ－Ｒ結合を含む化学構造は、２８６．６ｅＶのピークに帰属される。上記ピークを１２成分のピークに分離し、各成分のピークの積分強度を求めた。ＣＨ_２－Ｏ－Ｒ含有量は、｛（２８６．６ｅＶの結合エネルギーのピークの積分強度）／（１２成分のピークの積分強度の合計）｝×１００である。

　次に、表２に示される各試料の性能を説明する。

　［密着性・可とう性］
　各試料の密着性および可とう性は、曲げ試験によって調べた。図７を参照して曲げ試験の概要を説明する。略半円筒状の試験台８を用意した。試験台８の湾曲面の曲率半径は５ｃｍであった。試験台８の湾曲面に各試料の複合多孔質体Ｔを沿わせてテープ８０で固定し、所定時間放置した。複合多孔質体Ｔの被覆層は、試験台８の径方向の外方に向けて配置されていた。丸棒形状の試料、およびチューブ形状の試料は、試験台８の湾曲面に沿わせた。表２の密着性の欄および可とう性の欄の評価Ａは、被覆層が割れなかったことを意味する。表２の密着性の欄および可とう性の欄の評価Ｂは、被覆層が割れたことを意味する。

　［流速比］
　流速比は、試料２－１の流速を１としたときの各試料の流速である。流速は、試料を透過したろ液の流速である。全ての試料において、原液の流速は同じである。シート形状の複合多孔質体Ｔでは、被覆層の表面から基材の第二面に向かって、ろ液が流れる。チューブ形状の複合多孔質体Ｔでは、チューブの外周面からチューブの内部空間に向かって、ろ液が流れる。内部空間に流れ込んだろ液は、チューブの延伸方向、即ちチューブの軸方向に沿ってチューブの外部に排出される。丸棒形状の複合多孔質体Ｔでは、丸棒の外周面から内部に向かってろ液が流れる。丸棒の内部に流れ込んだろ液は、丸棒の延伸方向、即ち丸棒の軸方向に沿って移動し、丸棒の端面から丸棒の外部に排出される。流速比が高いほど、複合多孔質体Ｔの通液性が高い。

　［２０ｎｍ粒子の分離率］
　２０ｎｍ粒子の分離率は、原液に含まれる粒子を分離する性能を示す。分散媒は水、粒子の平均粒径は２０ｎｍである。原液における粒子の濃度Ｘ（質量％）と、ろ液における粒子の濃度Ｙ（質量％）とを測定する。２０ｎｍ粒子の分離率は（１－Ｙ／Ｘ）×１００によって求めた。評価Ａは、上記分離率が１０％以上であることを意味し、評価Ｂは、上記分離率が１０％未満であることを意味する。

　［ＰＥＧ１０００の分離率］
　ＰＥＧ１０００の分離率は、原液に含まれるＰＥＧ１０００粒子を分離する性能を示す。ＰＥＧ１０００は、平均分子量が１０００前後のポリエチレングリコールである。分散媒はエタノールである。原液におけるＰＥＧ１０００の濃度Ｘ（質量％）と、ろ液におけるＰＥＧ１０００の濃度Ｙ（質量％）とを測定する。ＰＥＧ１０００の分離率は（１－Ｙ／Ｘ）×１００によって求めた。評価Ａは、上記分離率が１０％以上であることを意味し、評価Ｂは、上記分離率が１０％未満であることを意味する。

　［ＩＰＡの分離率］
　ＩＰＡの分離率は、水とＩＰＡとの混合液である原液からＩＰＡを分離する性能を示す。原液におけるＩＰＡの濃度Ｘ（質量％）と、ろ液におけるＩＰＡの濃度Ｙ（質量％）とを測定する。ＩＰＡの分離率は（１－Ｙ／Ｘ）×１００によって求めた。評価Ａは、上記分離率が１０％以上であることを意味し、評価Ｂは、上記分離率が１０％未満であることを意味する。

　［ＮａＣｌの分離率］
　ＮａＣｌの分離率は、水にＮａＣｌを溶かした原液からＮａＣｌを分離する性能を示す。原液におけるＮａＣｌの濃度Ｘ（質量％）と、ろ液におけるＮａＣｌの濃度Ｙ（質量％）とを測定する。ＮａＣｌの分離率は（１－Ｙ／Ｘ）×１００によって求めた。評価Ａは、上記分離率が１０％以上であることを意味し、評価Ｂは、上記分離率が１０％未満であることを意味する。

　表２の結果から、試料２－１から試料２－１９の複合多孔質体Ｔは、試料２－２０、試料２－２１に比較して、基材と被覆層との密着性に優れると共に、可とう性に優れることが分かった。試料２－１から試料２－１９の複合多孔質体Ｔは、試料２－２０、試料２－２１に比較して、流速比が高いことが分かった。試料２－１から試料２－１９の複合多孔質体Ｔは、試料２－２０、試料２－２１に比較して、２０ｎｍ粒子を分離する性能、ＰＥＧ１０００を分離する性能、およびＩＰＡを分離する性能に優れていることが分かった。試料２－１６から試料２－１９の複合多孔質体Ｔは、試料２－１から試料２－１５および試料２－２０、試料２－２１に比較して、ＮａＣｌを分離する性能に優れていることがわかった。

　本発明は、これらの例示に限定されるものではなく、請求の範囲によって示され、請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。

　１、Ｔ　複合多孔質体、２　基材、２ｈ　空孔、２Ａ　第一層、２Ｂ　第二層、２１　第一面、２２　第二面、２５　ノード、２６　フィブリル、３　被覆層、３ｈ　開口孔、３０　表面、４　ナノファイバー、５　親水性素材、７　試験装置、７０　フラスコ、７０Ｕ　上端開口部、７１　チャンバー、７１Ｄ　下端開口部、８　試験台、８０　テープ。

Claims

　第一面を有する基材と、
　前記第一面の少なくとも一部を覆う被覆層と、を備え、
　前記基材は、ポリテトラフルオロエチレンによって構成された多孔質体であり、
　前記被覆層は、複数のナノファイバーの積層体を含み、
　前記多孔質体は、
　　分散して配置された複数のノードと、
　　前記複数のノード同士をつないでいるフィブリルと、を有し、
　前記第一面が前記複数のノードを含み、
　前記第一面における前記基材の平均孔径が５ｎｍ以上５００ｎｍ以下であり、
　前記第一面における前記複数のノードの面積率が３０％以上７０％以下である、
複合多孔質体。
　前記被覆層の平均孔径が１ｎｍ以上５０ｎｍ以下である、請求項１に記載の複合多孔質体。
　前記被覆層の平均厚さが１０ｎｍ以上１０００ｎｍ以下である、請求項１または請求項２に記載の複合多孔質体。
　前記被覆層はポリマーを含む、請求項１から請求項３のいずれか１項に記載の複合多孔質体。
　前記ポリマーが親水性ポリマーである、請求項４に記載の複合多孔質体。
　前記親水性ポリマーがポリビニルアルコールである、請求項５に記載の複合多孔質体。
　前記複数のナノファイバーのそれぞれは、アルミニウムと酸素と水素とを含む無機材料からなる、請求項１から請求項６のいずれか１項に記載の複合多孔質体。
　前記第一面における空孔の平均短径が４ｎｍ以上４００ｎｍ以下である、請求項１から請求項７のいずれか１項に記載の複合多孔質体。
　前記第一面の少なくとも一部は親水性素材を含む、請求項１から請求項８のいずれか１項に記載の複合多孔質体。
　前記親水性素材が親水性ポリマーである、請求項９に記載の複合多孔質体。
　前記親水性素材はポリビニルアルコールである、請求項１０に記載の複合多孔質体。
　前記親水性素材を含む前記第一面は、前記ポリビニルアルコールおよび前記ポリテトラフルオロエチレンに由来する複数の化学構造を含み、
　前記複数の化学構造のうち、ＸＰＳによって得られたＣ１ｓスペクトルによって検出される化学構造におけるＣＨ_２－Ｏ－Ｒ結合の含有量が３％以上１５％以下である、請求項１１に記載の複合多孔質体。
　前記基材の形状はシートである、請求項１から請求項１２のいずれか１項に記載の複合多孔質体。
　前記基材の平均厚さが１μｍ以上１００μｍ以下である、請求項１３に記載の複合多孔質体。
　前記基材の形状はチューブであり、
　前記第一面は、前記チューブの外周面である、請求項１から請求項１２のいずれか１項に記載の複合多孔質体。
　前記基材の平均厚さが５０μｍ以上１０００μｍ以下である、請求項１５に記載の複合多孔質体。
　前記基材は、前記第一面を含む第一層と、前記第一層に隣接する第二層と、を備え、
　前記第二層の平均孔径は、前記第一層の平均孔径よりも大きい、請求項１から請求項１６のいずれか１項に記載の複合多孔質体。
　前記被覆層は、Ａｌ－ＯＨ結合、およびＡｌ－Ｏ－Ａｌ結合を含み、
　前記Ａｌ－ＯＨ結合の含有量Ｘと前記Ａｌ－Ｏ－Ａｌ結合の含有量Ｙとの比Ｘ／Ｙが０．３以上１．０以下である、請求項１から請求項１７のいずれか１項に記載の複合多孔質体。
　前記被覆層は、前記被覆層の表面に開口する開口孔を備え、
　前記開口孔の平均孔径が２ｎｍ以上２００ｎｍ以下であり、
　前記開口孔の平均短径が１ｎｍ以上１００ｎｍ以下である、請求項１から請求項１８のいずれか１項に記載の複合多孔質体。
　ポリテトラフルオロエチレンによって構成された多孔質体からなる基材を用意する工程Ａと、
　前記基材の第一面を親水化処理する工程Ｂと、
　複数のナノファイバーを含む分散液を前記第一面に塗布する工程Ｃと、
　前記分散液が塗布された前記基材を８０℃以上２００℃以下の加熱雰囲気下で熱処理する工程Ｄと、を備え、
　前記工程Ａで用意された前記多孔質体は、
　　分散して配置された複数のノードと、
　　前記複数のノード同士をつないでいるフィブリルと、を有し、
　前記第一面が前記複数のノードを含み、
　前記第一面における前記基材の平均孔径が５ｎｍ以上５００ｎｍ以下であり、
　前記第一面における前記複数のノードの面積率が３０％以上７０％以下であり、
　前記工程Ｃにおける前記複数のナノファイバーの平均長さは、前記平均孔径の１０倍以上である、
複合多孔質体の製造方法。