WO2024004884A1

WO2024004884A1 - ワニス状の環状オレフィン系共重合体組成物の製造方法、環状オレフィン系共重合体組成物、架橋体、フィルムまたはシート、積層体、回路基板、電子機器およびプリプレグ

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Publication number: WO2024004884A1
Application number: PCT/JP2023/023419
Authority: WO
Inventors: 真菜美上野; 一宙中井; 文人竹内; 浩太郎朝比奈
Original assignee: 三井化学株式会社
Priority date: 2022-06-27
Filing date: 2023-06-23
Publication date: 2024-01-04
Also published as: TW202406951A

Abstract

環状オレフィン系共重合体（ｍ）と、有機溶媒とを含む、ワニス状の環状オレフィン系共重合体組成物を製造する方法であって、前記環状オレフィン系共重合体（ｍ）は、（Ａ）１種以上のオレフィン由来の繰り返し単位と、（Ｂ）１種以上の環状非共役ジエン由来の繰り返し単位と、（Ｃ）１種以上の環状オレフィン由来の繰り返し単位と、を含み、前記方法が、遷移金属化合物（Ａ）と化合物（Ｂ）とを含有するオレフィン重合用触媒の存在下において、オレフィンと、環状非共役ジエンと、環状オレフィンとを共重合させる重合工程を備え、前記遷移金属化合物（Ａ）は、遷移金属化合物（Ａ－１）、および遷移金属化合物（Ａ－２）からなる群から選択される一種または二種以上を含有し、前記化合物（Ｂ）は、有機金属化合物（Ｂ－１）、有機アルミニウムオキシ化合物（Ｂ－２）、および前記遷移金属化合物（Ａ）と反応してイオン対を形成する化合物（Ｂ－３）からなる群より選択される一種または二種以上を含有することを特徴とする、ワニス状の環状オレフィン系共重合体組成物の製造方法。

Description

ワニス状の環状オレフィン系共重合体組成物の製造方法、環状オレフィン系共重合体組成物、架橋体、フィルムまたはシート、積層体、回路基板、電子機器およびプリプレグ

　本発明は、ワニス状の環状オレフィン系共重合体組成物の製造方法、環状オレフィン系共重合体組成物、架橋体、フィルムまたはシート、積層体、回路基板、電子機器およびプリプレグに関する。

　昨今、高周波帯域を使用する無線通信機器等の増加に加え、通信速度の高速化によって、必然的に高い帯域の周波数帯が用いられることが多くなってきた。これに伴い、高周波における伝送ロスを極限まで軽減するために誘電正接が小さい回路基板が求められている。

　特許文献１および特許文献２には、特定のジエン化合物を共重合した環状オレフィン系共重合体を有機過酸化物等で架橋することにより得られるシートが優れた誘電特性を示すことが開示されている。
　また、特許文献３や特許文献４には、架橋性シクロオレフィンポリマーを含有する架橋性樹脂成形体について加熱時の流動性や溶剤溶解性に優れる架橋性樹脂成形体が開示されている。

特開２０１０－１００８４３号公報国際公開第２０１２／０４６４４３号特開２０１９－０８１８９８号公報国際公開第２０２１／１４９７１３号

Ｉｎｃｏｒｏｎａｔａ　Ｔｒｉｔｔｏ，Ｌａｕｒａ　Ｂｏｇｇｉｏｎｉ，Ｃｒｉｓｔｉｎａ　Ｚａｍｐａ，　ａｎｄ　Ｄｉｎｏ　Ｒ．　Ｆｅｒｒｏ，"Ｅｔｈｙｌｅｎｅ－Ｎｏｒｂｏｒｎｅｎ　Ｃｏｐｏｌｙｍｅｒｓ　ｂｙ　Ｃｓ－Ｓｙｍｍｅｔｒｉｃ　Ｍｅｔａｌｌｏｃｅｎｅｓ：Ｄｅｔｅｒｍｉｎａｔｉｏｎ　ｏｆ　ｔｈｅ　Ｃｏｐｏｌｙｍｅｒｉｚａｔｉｏｎ　Ｐａｒａｍｅｔｅｒｓ　ａｎｄ　Ｍｅｃｈａｎｉｓｔｉｃ　Ｃｏｎｓｉｄｅｒａｔｉｏｎｓ　ｏｎ　ｔｈｅ　Ｂａｓｉｓ　ｏｆ　Ｔｅｔｒａｄ　Ａｎａｌｙｓｉｓ"　Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ，２００５，３８，９９１０－９９１９．

　本発明者らの検討によれば、特許文献１や特許文献２に記載されているような架橋性基を有する環状オレフィン系共重合体は、環状オレフィン系共重合体を多く含んだ状態（高固形分）でのトルエン溶解性にさらなる改善の余地があることが明らかとなった。高固形分でのトルエン溶解性を改善することができれば、回路基板作製時の繊維基材への含浸性をさらに改善できるものと考えられる。
　また、特許文献３や特許文献４に記載の架橋性基を有する環状オレフィン系共重合体は、流動性や溶解性に改善がみられるものの、環状オレフィン系共重合体を多く含んだ状態（高固形分）でトルエンに溶解後、室温で静置するとゲル化が見られ、流動性が損なわれることが明らかとなった。
　流動性が損なわれる場合、ワニスの管理方法や回路基板作製時の繊維基材への安定した含浸性が損なわれることが問題となる。
　すなわち、本発明者らの検討によると、特許文献３及び４に記載の発明には、架橋性基を有する環状オレフィン系共重合体を多く含んだワニス状態でも溶液状態を維持するという点においてさらなる改善の余地があった。

　本発明は上記事情に鑑みてなされたものであり、架橋性基を有する環状オレフィン系共重合体を多く含んだ状態（高固形分）でも溶液状態をより長く維持できるワニス状の環状オレフィン系共重合体組成物の製造方法を提供するものである。

　本発明者らは上記課題を解決すべく鋭意検討した結果、環状オレフィン系共重合体の製造方法を改良することにより、架橋性基を有する環状オレフィン系共重合体を多く含んだ状態（高固形分）でも溶液状態をより長く維持できるワニスが調製可能であることを見出し、本発明を完成させた。

　すなわち、本発明によれば、以下に示すワニス状の環状オレフィン系共重合組成物の製造方法、環状オレフィン系共重合体組成物、架橋体、フィルムまたはシート、積層体、回路基板、電子機器およびプリプレグが提供される。

１．　環状オレフィン系共重合体（ｍ）と、
　有機溶媒と
を含む、ワニス状の環状オレフィン系共重合体組成物を製造する方法であって、
　前記環状オレフィン系共重合体（ｍ）は、
　　（Ａ）下記一般式（Ｉ）で表される１種以上のオレフィン由来の繰り返し単位と、
　　（Ｂ）下記一般式（ＩＩＩ）で表される１種以上の環状非共役ジエン由来の繰り返し単位と、
　　（Ｃ）下記一般式（Ｖ）で表される１種以上の環状オレフィン由来の繰り返し単位と、を含み、

〔上記一般式（Ｉ）において、Ｒ^３００は水素原子または炭素原子数１～２９の直鎖状または分岐状の炭化水素基を示す。〕

〔上記一般式（ＩＩＩ）中、ｕは０または１であり、ｖは０または正の整数であり、ｗは０または１であり、Ｒ^６１～Ｒ^７６ならびにＲ^ａ１およびＲ^ｂ１は互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１～２０のアルキル基、炭素原子数１～２０のハロゲン化アルキル基、炭素原子数３～１５のシクロアルキル基または炭素原子数６～２０の芳香族炭化水素基であり、Ｒ^１０４は水素原子または炭素原子数１～１０のアルキル基であり、ｔは０～１０の正の整数であり、Ｒ^７５およびＲ^７６は互いに結合し
て単環または多環を形成していてもよい。〕

〔上記一般式（Ｖ）中、ｕは０または１であり、ｖは０または正の整数であり、ｗは０または１であり、Ｒ^６１～Ｒ^７８ならびにＲ^ａ１およびＲ^ｂ１は互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１～２０のアルキル基、炭素原子数１～２０のハロゲン化アルキル基、炭素原子数３～１５のシクロアルキル基または炭素原子数６～２０の芳香族炭化水素基であり、Ｒ^７５～Ｒ^７８は互いに結合して単環または多環を形成していてもよい。〕
　前記方法が、
　遷移金属化合物（Ａ）と化合物（Ｂ）とを含有するオレフィン重合用触媒の存在下において、オレフィンと、環状非共役ジエンと、環状オレフィンとを共重合させる重合工程を備え、
　前記遷移金属化合物（Ａ）は、
　　下記の式（ＩＩ）で示される遷移金属化合物（Ａ－１）、および
　　下記の式（ＶＩ）で示される遷移金属化合物（Ａ－２）からなる群から選択される一種または二種以上を含有し、

〔前記式（ＩＩ）において、
　Ｍ^２は、周期律表４族の遷移金属原子を示し、
　ｎ^１は、１～３の整数を示し、
　Ｌは、それぞれ独立に、周期律表１５族の原子が配位原子となる１価のアニオン性配位子を示し、
　Ｘ^１は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、ハロゲン含有基、酸素含有基、硫黄含有基、窒素含有基、リン含有基、ケイ素含有基、ホウ素含有基およびアルミニウム含有基からなる群、ならびにそれらの置換体からなる群より選択される基または原子を示し、
　Ｒ^５～Ｒ^９は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、ハロゲン含有基、酸素含有基、硫黄含有基、窒素含有基、リン含有基、ケイ素含有基、ホウ素含有基およびアルミニウム含有基からなる群、ならびにそれらの置換体からなる群より選択される基または原子を示し、Ｒ^５～Ｒ^９のうち任意の２つまたは３つが縮合し環を形成していてもよく、形成される環は共役二重結合を含む芳香族性を有するものでもよい。〕

〔前記式（ＶＩ）において、
　Ｍ^３は、周期律表４族の遷移金属原子を示し、
　ｎ^２は、１～４の整数を示し、
　Ｘ^２は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、ハロゲン含有基、酸素含有基、硫黄含有基、窒素含有基、リン含有基、ケイ素含有基、ホウ素含有基およびアルミニウム含有基からなる群、ならびにそれらの置換体からなる群より選択される原子または基を示し、
　Ｒ^１０～Ｒ^１７は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、ハロゲン含有基、酸素含有基、硫黄含有基、窒素含有基、リン含有基、ケイ素含有基、ホウ素含有基およびアルミニウム含有基からなる群、ならびにそれらの置換体からなる群より選択される原子または基を示し、Ｒ^１０～Ｒ^１７のうち隣接するもの同士は互いに結合して環を形成していてもよく、形成される環は共役二重結合を含む芳香族性を有するものでもよい。〕
　前記化合物（Ｂ）は、
　　有機金属化合物（Ｂ－１）、
　　有機アルミニウムオキシ化合物（Ｂ－２）、および
　　前記遷移金属化合物（Ａ）と反応してイオン対を形成する化合物（Ｂ－３）からなる群より選択される一種または二種以上を含有する
ことを特徴とする、ワニス状の環状オレフィン系共重合体組成物の製造方法。
２．　前記ワニス状の環状オレフィン系共重合体組成物中の前記環状オレフィン系共重合体（ｍ）の含有量が、３０質量％以上である、１．に記載の製造方法。
３．　前記有機溶媒が、芳香族炭化水素系溶媒、環式炭化水素系溶媒、直鎖式炭化水素系溶媒およびハロゲン化芳香族炭化水素溶媒からなる群から選択される少なくとも一種を含む、１．または２．に記載の製造方法。
４．　前記環状オレフィン系共重合体（ｍ）中の繰り返し単位の合計モル数を１００モル％とした場合に、前記オレフィン由来の繰り返し単位（Ａ）の含有量が１０モル％以上９０モル％以下、前記環状非共役ジエン由来の繰り返し単位（Ｂ）の含有量が１モル％以上４０モル％以下、および前記環状オレフィン由来の繰り返し単位（Ｃ）の含有量が１モル％以上５０モル％以下である１．～３．のいずれかに記載の製造方法。
５．　前記環状非共役ジエン由来の繰り返し単位（Ｂ）を構成する環状非共役ジエンが、５－ビニル－２－ノルボルネンを含む、１．～４．のいずれかに記載の製造方法。
６．　前記環状オレフィン由来の構造単位（Ｃ）を構成する環状オレフィンが、テトラシクロ［４．４．０．１^２，５．１^７，１０］－３－ドデセンおよびビシクロ［２．２．１］－２－ヘプテンからなる群から選択される少なくとも一種を含む、１．～５．のいずれかに記載の製造方法。
７．　前記方法が、前記オレフィン重合用触媒を除去する触媒除去工程をさらに備える、１．～６．のいずれかに記載の製造方法。
８．　前記環状オレフィン系共重合体（ｍ）の^１３Ｃ－ＮＭＲスペクトルにおいて、
　　４３．８ｐｐｍ以上４５．０ｐｐｍ以下の範囲のシグナルの積分値をＸ_Ｃ、
　　４０．３ｐｐｍ以上４１．３ｐｐｍ以下の範囲のシグナルの積分値をＹ_Ａ、
　　３８．４ｐｐｍ以上３９．９ｐｐｍ以下の範囲のシグナルの積分値をＸ_Ｂ、
としたとき、（Ｘ_Ｂ－Ｘ_Ｃ）／Ｙ_Ａの値が０．２以上２．０以下である、１．～７．のいずれかに記載の製造方法。
９．　前記環状オレフィン系共重合体（ｍ）の、示差走査熱量計（ＤＳＣ）で測定したガラス転移温度が１００℃以上である、１．～８．のいずれかに記載の製造方法。
１０．　１．～９．のいずれかに記載の製造方法により得られた環状オレフィン系共重合体組成物。
１１．　１０．に記載の環状オレフィン系共重合体組成物を架橋して得られる架橋体。
１２．　１１．に記載の架橋体を含むフィルムまたはシート。
１３．　１２．に記載のフィルムまたはシートを基材に積層した積層体。
１４．　１１．に記載の架橋体を含む電気絶縁層と、前記電気絶縁層上に設けられた導体層とを含む回路基板。
１５．　１４．に記載の回路基板を備えた電子機器。
１６．　１０．に記載の環状オレフィン系共重合体組成物と、シート状繊維基材と、を含むプリプレグ。
１７．　環状オレフィン系共重合体（ｍ）と、
　有機溶媒と
を含む、ワニス状の環状オレフィン系共重合体組成物であって、
　前記環状オレフィン系共重合体（ｍ）は、
　　（Ａ）下記一般式（Ｉ）で表される１種以上のオレフィン由来の繰り返し単位と、
　　（Ｂ）下記一般式（ＩＩＩ）で表される１種以上の環状非共役ジエン由来の繰り返し単位と、
　　（Ｃ）下記一般式（Ｖ）で表される１種以上の環状オレフィン由来の繰り返し単位と、を含み、

〔上記一般式（Ｖ）中、ｕは０または１であり、ｖは０または正の整数であり、ｗは０または１であり、Ｒ^６１～Ｒ^７８ならびにＲ^ａ１およびＲ^ｂ１は互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１～２０のアルキル基、炭素原子数１～２０のハロゲン化アルキル基、炭素原子数３～１５のシクロアルキル基または炭素原子数６～２０の芳香族炭化水素基であり、Ｒ^７５～Ｒ^７８は互いに結合して単環または多環を形成していてもよい。〕
　前記環状オレフィン系共重合体（ｍ）の^１３Ｃ－ＮＭＲスペクトルにおいて、
　　４３．８ｐｐｍ以上４５．０ｐｐｍ以下の範囲のシグナルの積分値をＸ_Ｃ、
　　４０．３ｐｐｍ以上４１．３ｐｐｍ以下の範囲のシグナルの積分値をＹ_Ａ、
　　３８．４ｐｐｍ以上３９．９ｐｐｍ以下の範囲のシグナルの積分値の合計をＸ_Ｂ、
としたとき、（Ｘ_Ｂ－Ｘ_Ｃ）／Ｙ_Ａの値が０．２以上２．０以下である、ワニス状の環状オレフィン系共重合体組成物。
１８．　前記環状オレフィン系共重合体（ｍ）の、示差走査熱量計（ＤＳＣ）で測定したガラス転移温度が１００℃以上である、１６．に記載のワニス状の環状オレフィン系共重合体組成物。
１９．　前記ワニス状の環状オレフィン系共重合体組成物中の前記環状オレフィン系共重合体（ｍ）の含有量が、３０質量％以上である、１７．または１８．に記載のワニス状の環状オレフィン系共重合体組成物。
２０．　前記有機溶媒が、芳香族炭化水素系溶媒、環式炭化水素系溶媒、直鎖式炭化水素系溶媒およびハロゲン化芳香族炭化水素溶媒からなる群から選択される少なくとも一種を含む、１７．～１９．のいずれかに記載のワニス状の環状オレフィン系共重合体組成物。
２１．　前記環状オレフィン系共重合体（ｍ）中の繰り返し単位の合計モル数を１００モル％とした場合に、前記オレフィン由来の繰り返し単位（Ａ）の含有量が１０モル％以上９０モル％以下、前記環状非共役ジエン由来の繰り返し単位（Ｂ）の含有量が１モル％以上４０モル％以下、および前記環状オレフィン由来の繰り返し単位（Ｃ）の含有量が１モル％以上５０モル％以下である１７．～２０．のいずれかに記載のワニス状の環状オレフィン系共重合体組成物。
２２．　前記環状非共役ジエン由来の繰り返し単位（Ｂ）を構成する環状非共役ジエンが、５－ビニル－２－ノルボルネンを含む、１７．～２１．のいずれかに記載のワニス状の環状オレフィン系共重合体組成物。
２３．　前記環状オレフィン由来の構造単位（Ｃ）を構成する環状オレフィンが、テトラシクロ［４．４．０．１^２，５．１^７，１０］－３－ドデセンおよびビシクロ［２．２．１］－２－ヘプテンからなる群から選択される少なくとも一種を含む、１７．～２２．のいずれかに記載のワニス状の環状オレフィン系共重合体組成物。
２４．　前記オレフィン由来の繰り返し単位（Ａ）を構成するオレフィンがエチレンを含み、
　前記環状非共役ジエン由来の繰り返し単位（Ｂ）を構成する環状非共役ジエンが５－ビニル－２－ノルボルネンを含み、
　前記環状オレフィン由来の構造単位（Ｃ）を構成する環状オレフィンがテトラシクロ［４．４．０．１^２，５．１^７，１０］－３－ドデセンを含む、１７．～２３．のいずれかに記載のワニス状の環状オレフィン系共重合体組成物。
２５．　１７．～２４．のいずれかに記載のワニス状の環状オレフィン系共重合体組成物を架橋して得られる架橋体。
２６．　２５．に記載の架橋体を含むフィルムまたはシート。
２７．　２６．に記載のフィルムまたはシートを基材に積層した積層体。
２８．　２５．に記載の架橋体を含む電気絶縁層と、前記電気絶縁層上に設けられた導体層とを含む回路基板。
２９．　２８．に記載の回路基板を備えた電子機器。
３０．　１７．～２４．のいずれかに記載のワニス状の環状オレフィン系共重合体組成物と、シート状繊維基材と、を含むプリプレグ。

　本発明によれば、架橋性基を有する環状オレフィン系共重合体を多く含んだ状態（高固形分）でも溶液状態をより長く維持できるワニス状の環状オレフィン系共重合体組成物の製造方法を提供できる。

　以下、本発明を実施形態に基づいて説明する。なお、本実施形態では、数値範囲を示す「Ａ～Ｂ」はとくに断りがなければ、Ａ以上Ｂ以下を表す。
　数値範囲が段階的に記載されている場合、各数値範囲の上限及び下限は任意に組み合わせることができる。
　本発明にかかる環状オレフィン系共重合体を構成する各モノマーは、化石原料から得られるモノマーであってもよく、動植物系原料から得られるモノマーであってもよい。

［ワニス状の環状オレフィン系共重合体組成物の製造方法］
　以下、ワニス状の環状オレフィン系共重合体組成物の製造方法について説明する。

　本実施形態のワニス状の環状オレフィン系共重合体組成物の製造方法は、環状オレフィン系共重合体（ｍ）と、有機溶媒とを含む、ワニス状の環状オレフィン系共重合体組成物を製造する方法であって、遷移金属化合物（Ａ）と化合物（Ｂ）とを含有するオレフィン重合用触媒の存在下において、オレフィンと、環状非共役ジエンと、環状オレフィンとを共重合させる重合工程を備える。
　遷移金属化合物（Ａ）と化合物（Ｂ）とを含有するオレフィン重合用触媒の存在下で重合を行うことにより、架橋性基を有する環状オレフィン系共重合体を多く含んだ状態（高固形分）でも溶液状態を維持できるワニス状の環状オレフィン系共重合体組成物を得ることができる。

＜オレフィン重合用触媒＞
　オレフィン重合用触媒は、遷移金属化合物（Ａ）と化合物（Ｂ）とを含有する。

＜遷移金属化合物（Ａ）＞
　遷移金属化合物（Ａ）は、下記の式（ＩＩ）で示される遷移金属化合物（Ａ－１）、および下記の式（ＶＩ）で示される遷移金属化合物（Ａ－２）からなる群から選択される一種または二種以上を含有する。
　遷移金属化合物（Ａ）は、下記の式（ＶＩ）で示される遷移金属化合物（Ａ－２）を含有することが好ましい。

（遷移金属化合物（Ａ－１））
　遷移金属化合物（Ａ－１）は、下記の式（ＩＩ）で示される。

　上記式（ＩＩ）において、Ｍ^２は、周期律表４族の遷移金属を示す。
　Ｍ^２としては、チタン原子、ジルコニウム原子またはハフニウム原子等を例示できる。Ｍ^２は、チタン原子またはジルコニウム原子であることが好ましく、チタン原子であることがより好ましい。

　ｎ^１は、１～３の整数を示す。ｎ^１は、Ｍ^２の価数およびＸ^１の種類に応じて、式（ＩＩ）が示す遷移金属化合物（Ａ－１）全体が電気的に中性になるように選択される。ｎ^１は、２であることが好ましい。

　Ｌは、それぞれ独立に、周期律表１５族の原子が配位原子となる１価のアニオン性配位子を示す。
　Ｌは、式（ＩＶ）で表される１価のアニオン性配位子であることが好ましい。

　上記式（ＩＶ）において、
　Ｙは、周期律表の１５族の原子を示す。Ｙとしては、窒素原子、リン原子またはヒ素原子等を例示できる。Ｙは、窒素原子であることが好ましい。

　Ｚは、周期律表の１４族、１５族または１６族から選ばれる一種類の原子を示す。Ｚとしては、１４族である炭素原子またはケイ素原子等；１５族である窒素原子、リン原子またはヒ素原子等；１６族である酸素原子または硫黄原子等；を例示できる。
　Ｚは、炭素原子または窒素原子であることが好ましく、炭素原子であることがより好ましい。

　ｎ^３は、１～３の整数を示す。ｎ^３は、Ｚの価数およびＲ^１８の種類に応じて、式（ＩＶ）が示す１価のアニオン性配位子全体が電気的に中性になるように選択される。
　ｎ^２は、１または２であることが好ましく、２であることがより好ましい。

　Ｒ^１８は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、ハロゲン含有基、酸素含有基、硫黄含有基、窒素含有基、リン含有基、ケイ素含有基、ホウ素含有基およびアルミニウム含有基からなる群、ならびにそれらの置換体からなる群より選択される基または原子を示し、各々が互いに結合して環を形成していてもよく、形成される環は共役二重結合を含む芳香族性を有するものでもよく、形成される環がシクロペンタジエニル基と結合していてもよい。

　Ｒ^１８が示すハロゲン原子、炭化水素基、ハロゲン含有基、酸素含有基、硫黄含有基、窒素含有基、リン含有基、ケイ素含有基、ホウ素含有基およびアルミニウム含有基、ならびにそれらの置換体としては、Ｒ^３およびＲ^４が示すハロゲン原子、炭化水素基、ハロゲン含有基、酸素含有基、硫黄含有基、窒素含有基、リン含有基、ケイ素含有基、ホウ素含有基およびアルミニウム含有基、ならびにそれらの置換体として例示したものを例示できる。
　Ｒ^１８が互いに結合して環を形成し、形成される環がシクロペンタジエニル基と結合した構造の例としては、以下のものが例示できる。

　Ｒ^１８が炭化水素基、ハロゲン含有基、酸素含有基、硫黄含有基、窒素含有基、リン含有基、ケイ素含有基、ホウ素含有基およびアルミニウム含有基からなる群、ならびにそれらの置換体からなる群より選択される基である場合、Ｒ^１９の炭素原子数は、それぞれ独立に、１～２０であることが好ましく、１～１０であることがより好ましい。

　Ｒ^１８は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アミド基、アリール基、アラルキル基、シリル基、アルキルアミド基、アルキルシリル基、アリールアミド基、シリルアミド基、ホスフィノアミド基、およびホスフィド基からなる群、ならびにそれらの置換体からなる群より選択される原子または基であることが好ましく、アルキル基、シクロアルキル基もしくはアリール基、またはその置換体であることがより好ましく、ｔ－ブチル基、トリシクロデカン基もしくはフェニル基、又はその置換体であることがさらに好ましく、ｔ－ブチル基であることがさらに好ましい。

　Ｘ^１は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、ハロゲン含有基、酸素含有基、硫黄含有基、窒素含有基、リン含有基、ケイ素含有基、ホウ素含有基およびアルミニウム含有基からなる群、ならびにそれらの置換体からなる群より選択される基または原子を示す。

　Ｘ^１が示すハロゲン原子、炭化水素基、ハロゲン含有基、酸素含有基、硫黄含有基、窒素含有基、リン含有基、ケイ素含有基、ホウ素含有基およびアルミニウム含有基、ならびにそれらの置換体としては、Ｒ^３およびＲ^４が示すハロゲン原子、炭化水素基、ハロゲン含有基、酸素含有基、硫黄含有基、窒素含有基、リン含有基、ケイ素含有基、ホウ素含有基およびアルミニウム含有基、ならびにそれらの置換体として例示したものを例示できる。

　Ｘ^１が炭化水素基、ハロゲン含有基、酸素含有基、硫黄含有基、窒素含有基、リン含有基、ケイ素含有基、ホウ素含有基およびアルミニウム含有基からなる群、ならびにそれらの置換体からなる群より選択される基である場合、Ｘ^１の炭素原子数は、それぞれ独立に、１～２０であることが好ましく、１～１０であることがより好ましい。
　Ｘ^１は、ハロゲン原子であることが好ましく、塩素原子であることがより好ましい。

　Ｒ^５～Ｒ^９は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、ハロゲン含有基、酸素含有基、硫黄含有基、窒素含有基、リン含有基、ケイ素含有基、ホウ素含有基およびアルミニウム含有基からなる群、ならびにそれらの置換体からなる群より選択される基または原子を示し、Ｒ^５～Ｒ^９のうち任意の２つまたは３つが縮合し環を形成していてもよく、形成される環は共役二重結合を含む芳香族性を有するものでもよい。

　Ｒ^５～Ｒ^９が示すハロゲン原子、炭化水素基、ハロゲン含有基、酸素含有基、硫黄含有基、窒素含有基、リン含有基、ケイ素含有基、ホウ素含有基およびアルミニウム含有基、ならびにそれらの置換体としては、Ｒ^３およびＲ^４が示すハロゲン原子、炭化水素基、ハロゲン含有基、酸素含有基、硫黄含有基、窒素含有基、リン含有基、ケイ素含有基、ホウ素含有基およびアルミニウム含有基、ならびにそれらの置換体として例示したものを例示できる。

　Ｒ^５～Ｒ^９が炭化水素基、ハロゲン含有基、酸素含有基、硫黄含有基、窒素含有基、リン含有基、ケイ素含有基、ホウ素含有基およびアルミニウム含有基からなる群、ならびにそれらの置換体からなる群より選択される基である場合、Ｒ^５～Ｒ^９の炭素原子数は、それぞれ独立に、１～２０であることが好ましく、１～１０であることがより好ましい。
　Ｒ^５～Ｒ^９は、水素原子であることが好ましい。

（遷移金属化合物（Ａ－２））
　遷移金属化合物（Ａ－２）は、下記の式（ＶＩ）で示される。

　上記式（ＶＩ）において、Ｍ^３は、周期律表４族の遷移金属を示す。
　Ｍ^３としては、チタン原子、ジルコニウム原子またはハフニウム原子を例示できる。

　Ｍ^３は、チタン原子またはジルコニウム原子であることが好ましく、チタン原子であることがより好ましい。

　ｎ^２は、１～４の整数を示す。
　ｎ^２は、Ｍ^３の価数およびＸ^２の種類に応じて、式（ＶＩ）が示す遷移金属化合物（Ａ－２）全体が電気的に中性になるように選択される。
　ｎ^２は、２であることが好ましい。

　Ｘ^２は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、ハロゲン含有基、酸素含有基、硫黄含有基、窒素含有基、ケイ素含有基およびホウ素含有基からなる群、ならびにそれらの置換体からなる群より選択される原子または基を示す。

　Ｘ^２が示すハロゲン原子、炭化水素基、ハロゲン含有基、酸素含有基、硫黄含有基、窒素含有基、リン含有基、ケイ素含有基、ホウ素含有基およびアルミニウム含有基、ならびにそれらの置換体としては、Ｒ^３およびＲ^４が示すハロゲン原子、炭化水素基、ハロゲン含有基、酸素含有基、硫黄含有基、窒素含有基、リン含有基、ケイ素含有基、ホウ素含有基およびアルミニウム含有基、ならびにそれらの置換体として例示したものを例示できる。

　Ｘ^２が炭化水素基、ハロゲン含有基、酸素含有基、硫黄含有基、窒素含有基、リン含有基、ケイ素含有基、ホウ素含有基およびアルミニウム含有基からなる群、ならびにそれらの置換体からなる群より選択される基である場合、Ｘ^２の炭素原子数は、それぞれ独立に、１～２０であることが好ましく、１～１０であることがより好ましい。
　Ｘ^２は、ハロゲン原子であることが好ましく、塩素原子であることがより好ましい。

　Ｒ^１０～Ｒ^１７は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、ハロゲン含有基、酸素含有基、硫黄含有基、窒素含有基、ケイ素含有基およびホウ素含有基からなる群、ならびにそれらの置換体からなる群より選択される原子または基を示し、Ｒ^１０～Ｒ^１４のうち隣接するもの同士は互いに結合して環を形成していてもよく、形成される環は共役二重結合を含む芳香族性を有するものでもよい。

　Ｒ^１０～Ｒ^１７が示すハロゲン原子、炭化水素基、ハロゲン含有基、酸素含有基、硫黄含有基、窒素含有基、リン含有基、ケイ素含有基、ホウ素含有基およびアルミニウム含有基、ならびにそれらの置換体としては、Ｒ^３およびＲ^４が示すハロゲン原子、炭化水素基、ハロゲン含有基、酸素含有基、硫黄含有基、窒素含有基、リン含有基、ケイ素含有基、ホウ素含有基およびアルミニウム含有基、ならびにそれらの置換体として例示したものを例示できる。

　Ｒ^１０～Ｒ^１７が炭化水素基、ハロゲン含有基、酸素含有基、硫黄含有基、窒素含有基、リン含有基、ケイ素含有基、ホウ素含有基アルミニウム含有基からなる群、ならびにそれらの置換体からなる群より選択される基である場合、Ｒ^１０～Ｒ^１７の炭素原子数は、それぞれ独立に、１～２０であることが好ましく、１～１０であることがより好ましい。

　Ｒ^１０～Ｒ^１７の組合せの具体例としては、Ｒ^１０～Ｒ^１４およびＲ^１７は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、ハロゲン含有基およびケイ素含有基からなる群、ならびにそれらの置換体からなる群より選択される原子または基であり、且つＲ^１５およびＲ^１６は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基およびハロゲン含有基からなる群、ならびにそれらの置換体からなる群より選択される原子または基であることが好ましい。
　Ｒ^１０～Ｒ^１４のうち隣接するもの同士は互いに結合して環を形成していてもよく、形成される環は共役二重結合を含む芳香族性を有するものでもよい。

　Ｒ^１０～Ｒ^１７の組合せの具体例としては、Ｒ^１０～Ｒ^１４およびＲ^１７は、それぞれ独立に、水素原子または炭化水素基であり、且つＲ^１５およびＲ^１６は、それぞれ独立に、水素原子または炭化水素基またはハロゲン含有炭化水素基であることがより好ましい。

　Ｒ^１０～Ｒ^１７の組合せの具体例としては、Ｒ^１０～Ｒ^１４およびＲ^１７は、それぞれ独立に、水素原子またはアルキル基または２個以上の置換基が結合した環状炭化水素基であり、且つＲ^１５およびＲ^１６は、それぞれ独立に、水素原子または炭化水素基またはハロゲン含有アルキル基であることがさらに好ましい。

　Ｒ^１０～Ｒ^１７の組合せの具体例としては、Ｒ^１０～Ｒ^１４およびＲ^１７は、それぞれ独立に、水素原子またはｔ－ブチル基であり、且つＲ^１５およびＲ^１６は、それぞれ独立に、水素原子またはイソプロピル基であることがさらに好ましい。

　Ｒ^１０～Ｒ^１７の組合せの具体例としては、Ｒ^１０～Ｒ^１４は、それぞれ独立に、水素原子、分岐状アルキル基または２個以上の置換基が結合した環状炭化水素基であり、且つ、Ｒ^１５およびＲ^１６は、それぞれ独立に、水素、環状炭化水素基、分岐状アルキル基またはハロゲン含有アルキル基であり、且つ、Ｒ^１７は、水素原子、分岐状アルキル基またはハロゲン含有アルキル基であることが好ましい。

＜化合物（Ｂ）＞
　化合物（Ｂ）は、有機金属化合物（Ｂ－１）、有機アルミニウムオキシ化合物（Ｂ－２）、および上記式（ＩＩ）で示される遷移金属化合物、または上記式（ＶＩ）で示される遷移金属化合物と反応してイオン対を形成する化合物（Ｂ－３）からなる群より選択される一種または二種以上を含有する。
　化合物（Ｂ）は、有機アルミニウムオキシ化合物（Ｂ－２）および遷移金属化合物（Ａ）と反応してイオン対を形成する化合物（Ｂ－３）からなる群より選択される一種または二種以上を含有することが好ましく、有機アルミニウムオキシ化合物（Ｂ－２）および遷移金属化合物（Ａ）と反応してイオン対を形成する化合物（Ｂ－３）の両方を含むことがより好ましい。

（有機金属化合物（Ｂ－１））
　有機金属化合物（Ｂ－１）（以下「成分（Ｂ－１）」ともいう。）としては、例えば、一般式（Ｂ－１ａ）で表される有機アルミニウム化合物（Ｂ－１ａ）、一般式（Ｂ－１ｂ）で表される第１族金属とアルミニウムとの錯アルキル化合物（Ｂ－１ｂ）、一般式（Ｂ－１ｃ）で表される第２族または第１２族金属のジアルキル化合物（Ｂ－１ｃ）等の、第１、２族および第１２、１３族の有機金属化合物が挙げられる。

　（Ｂ－１ａ）：Ｒａ_ｍＡｌ（ＯＲｂ）_ｎＨ_ｐＸ_ｑ
　式（Ｂ－１ａ）中、ＲａおよびＲｂはそれぞれ独立に炭素数１～１５、好ましくは１～４の炭化水素基であり、Ｘはハロゲン原子であり、ｍは０＜ｍ≦３、ｎは０≦ｎ＜３、ｐは０≦ｐ＜３、ｑは０≦ｑ＜３を満たす数であり、かつｍ＋ｎ＋ｐ＋ｑ＝３である。有機アルミニウム化合物（Ｂ－１ａ）としては、例えば、トリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム等のトリアルキルアルミニウム、ジイソブチルアルミニウムハイドライド等のジアルキルアルミニウムハイドライド、トリシクロアルキルアルミニウムが挙げられる。

　（Ｂ－１ｂ）：Ｍ２ＡｌＲａ_４
　式（Ｂ－１ｂ）中、Ｍ２はＬｉ、ＮａまたはＫであり、Ｒａは炭素数１～１５、好ましくは１～４の炭化水素基である。錯アルキル化合物（Ｂ－１ｂ）としては、例えば、ＬｉＡｌ（Ｃ_２Ｈ_５）_４、ＬｉＡｌ（Ｃ_７Ｈ_１５）_４が挙げられる。

　（Ｂ－１ｃ）：ＲａＲｂＭ３
　式（Ｂ－１ｃ）中、ＲａおよびＲｂはそれぞれ独立に炭素数１～１５、好ましくは１～４の炭化水素基であり、Ｍ３はＭｇ、ＺｎまたはＣｄである。化合物（Ｂ－１ｃ）としては、例えば、ジメチルマグネシウム、ジエチルマグネシウム、ジｎ－ブチルマグネシウム、エチルｎ－ブチルマグネシウム、ジフェニルマグネシウム、ジメチル亜鉛、ジエチル亜鉛、ジｎ－ブチル亜鉛、ジフェニル亜鉛が挙げられる。

　有機金属化合物（Ｂ－１）の中では、有機アルミニウム化合物（Ｂ－１ａ）が好ましい。

（有機アルミニウムオキシ化合物（Ｂ－２））
　有機アルミニウムオキシ化合物（Ｂ－２）（以下「成分（Ｂ－２）」ともいう。）としては、従来公知のアルミノキサンをそのまま使用することができる。
　具体的には、下記一般式［Ｂ２－１］および／または下記一般式［Ｂ２－２］で表わされる化合物、特開平２－７８６８７号公報、特開平２－１６７３０５号公報に記載れたベンゼン不溶性の有機アルミニウムオキシ化合物、特開平３－１０３４０７号公報に記載されている二種類以上のアルキル基を有するアルミノキサンが挙げられる。
　式中、Ｒは炭素数１から１０の炭化水素基、ｎは２以上の整数を示す

　また、有機アルミニウムオキシ化合物（Ｂ－２）として、下記一般式［Ｂ２－３］で表されるような修飾メチルアルミノキサン等も挙げられる。
　式中、Ｒは炭素数１から１０の炭化水素基、ｍおよびｎはそれぞれ独立に２以上の整数を示す。

　この修飾メチルアルミノキサンはトリメチルアルミニウムとトリメチルアルミニウム以外のアルキルアルミニウムを用いて調製されるものである。このような化合物は一般にＭＭＡＯと呼ばれている。このようなＭＭＡＯは、米国特許第４９６０８７８号明細書および米国特許第５０４１５８４号明細書で挙げられている方法で調製することができる。

　さらに、有機アルミニウムオキシ化合物（Ｂ－２）として、下記一般式［Ｂ２－４］で表されるボロンを含んだ有機アルミニウムオキシ化合物も挙げることができる。
　式中、Ｒ^ｃは炭素数１から１０の炭化水素基を示す。Ｒ^ｄは、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子または炭素数１から１０の炭化水素基を示す。

　有機アルミニウムオキシ化合物（Ｂ－２）としては、市販品のために入手が容易なメチルアルミノキサン、およびトリメチルアルミニウムとトリイソブチルアルミニウムを用いて調製したＭＭＡＯが好ましい。このうち、各種溶媒への溶解性および保存安定性が改良されたＭＭＡＯがより好ましい。

（遷移金属化合物（Ａ）と反応してイオン対を形成する化合物（Ｂ－３））
　遷移金属化合物（Ａ）と反応してイオン対を形成する化合物（Ｂ－３）（以下「イオン性化合物（Ｂ－３）」または「成分（Ｂ－３）」ともいう。）としては、特開平１－５０１９５０号公報、特開平１－５０２０３６号公報、特開平３－１７９００５号公報、特開平３－１７９００６号公報、特開平３－２０７７０３号公報、特開平３－２０７７０４号公報、ＵＳＰ５３２１１０６号などに記載されたルイス酸、イオン性化合物、ボラン化合物およびカルボラン化合物などを挙げることができる。さらに、ヘテロポリ化合物およびイソポリ化合物も挙げることができる。ただし、前述の（Ｂ－２）有機アルミニウムオキシ化合物は含まない。

　イオン性化合物（Ｂ－３）としては、好ましくは下記一般式［Ｂ３－１］で表されるホウ素化合物が挙げられる。
　式中、Ｒ^ｅ＋としては、Ｈ^＋、カルベニウムカチオン、オキソニウムカチオン、アンモニウムカチオン、ホスホニウムカチオン、シクロヘプチルトリエニルカチオン、遷移金属を有するフェロセニウムカチオンなどが挙げられる。Ｒ^ｆからＲ^ｉは、互いに同一でも異なっていてもよく、炭素数１から２０の炭化水素基、ケイ素含有基、窒素含有基、酸素含有基、ハロゲン原子およびハロゲン含有基から選ばれる置換基であり、好ましくは置換アリール基である。

　上記一般式［Ｂ３－１］で表されるホウ素化合物の例としては、トリフェニルカルベニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、および国際公開第２０１５／１２２４１４号の［０１３３］～［０１４４］に記載されたものを挙げることができる。

　本実施形態の環状オレフィン系共重合体の製造方法は、オレフィン重合用触媒を除去する触媒除去工程を備えることが好ましい。触媒除去工程を備えることで、触媒および触媒中の遷移金属を除去できるので、得られる環状オレフィン系共重合体の電気特性が良好になる場合がある。

　重合工程で得られた重合反応溶液と、希塩酸水溶液等の酸性水溶液、イオン交換水または水酸化ナトリウム水溶液等のアルカリ水溶液とを混合し、混合後、液液界面が分離するまで静置することにより、有機相側に環状オレフィン共重合体を、水層側に触媒を、それぞれ抽出し、オレフィン共重合体と触媒を分離する。

　オレフィン重合用触媒は、下記の式（ＶＩ）で示される遷移金属化合物（Ａ－２）を含有し、化合物（Ｂ）は有機アルミニウムオキシ化合物（Ｂ－２）および遷移金属化合物（Ａ）と反応してイオン対を形成する化合物（Ｂ－３）からなる群より選択される一種または二種以上を含有することが好ましい。

＜環状オレフィン系共重合体（ｍ）＞
　本実施形態の環状オレフィン系共重合体（ｍ）は、（Ａ）下記一般式（Ｉ）で表される１種以上のオレフィン由来の繰り返し単位と、（Ｂ）下記一般式（ＩＩＩ）で表される１種以上の環状非共役ジエン由来の繰り返し単位と、（Ｃ）下記一般式（Ｖ）で表される１種以上の環状オレフィン由来の繰り返し単位と、を含む。

　上記一般式（Ｉ）において、Ｒ^３００は水素原子または炭素原子数１～２９の直鎖状または分岐状の炭化水素基を示す。

　上記一般式（ＩＩＩ）中、ｕは０または１であり、ｖは０または正の整数、好ましくは０
以上２以下の整数、より好ましくは０または１であり、ｗは０または１であり、Ｒ^６１～Ｒ^７６ならびにＲ^ａ１およびＲ^ｂ１は互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１～２０のアルキル基、炭素原子数１～２０のハロゲン化アルキル基、炭素原子数３～１５のシクロアルキル基または炭素原子数６～２０の芳香族炭化水素基であり、Ｒ^１０４は水素原子または炭素原子数１～１０のアルキル基であり、ｔは０～１０の正の整数であり、Ｒ^７５およびＲ^７６は、互いに結合して単環または多環を形成していてもよい。

　上記一般式（Ｖ）中、ｕは０または１であり、ｖは０または正の整数、好ましくは０以上２以下の整数、より好ましくは０または１であり、ｗは０または１であり、Ｒ^６１～Ｒ^７８ならびにＲ^ａ１およびＲ^ｂ１は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１～２０のアルキル基、炭素原子数１～２０のハロゲン化アルキル基、炭素原子数３～１５のシクロアルキル基または炭素原子数６～２０の芳香族炭化水素基であり、Ｒ^７５～Ｒ^７８は互いに結合して単環または多環を形成していてもよい。

　環状オレフィン系共重合体（ｍ）において、環状オレフィン系共重合体（ｍ）中の繰り返し単位の合計モル数を１００モル％とした場合に、オレフィン由来の繰り返し単位（Ａ）の含有量が好ましくは１０モル％以上９０モル％以下、より好ましくは１５モル％以上８５モル％以下、さらに好ましくは２０モル％以上８０モル％以下、さらに好ましくは３０モル％以上８０モル％以下、さらに好ましくは３５モル％以上７０モル％以下、さらに好ましくは４０モル％以上６５モル％以下であり、環状非共役ジエン由来の繰り返し単位（Ｂ）の含有量が好ましくは１モル％以上４０モル％以下、より好ましくは２モル％以上３５モル％以下、さらに好ましくは３モル％以上２５モル％以下、さらに好ましくは５モル％以上２０モル％以下であり、環状オレフィン由来の繰り返し単位（Ｃ）の含有量が好ましくは１モル％以上５０モル％以下、より好ましくは５モル％以上４８モル％以下、さらに好ましくは１０モル％以上４５モル％以下、さらに好ましくは１５モル％以上４３モル％以下である。
　環状オレフィン系共重合体（ｍ）中の繰り返し単位の各含有量が上記範囲内であると、上記環状オレフィン系共重合体組成物から得られる架橋体は、誘電特性の経時的安定性が優れるとともに耐熱性にも優れる。さらに、機械特性、誘電特性、透明性およびガスバリア性にも優れた架橋体（Ｑ）を得ることができる。言い換えればこれらの物性のバランスに優れた架橋体（Ｑ）を得ることができる。

　環状オレフィン系共重合体（ｍ）の共重合原料の一つであるオレフィンモノマーは、付加共重合して上記式（Ｉ）で表される骨格を与えるモノマーであり、下記一般式（Ｉａ）で表されるオレフィンである。

　上記一般式（Ｉａ）中、Ｒ^３００は水素原子または炭素原子数１～２９の直鎖状または分岐状の炭化水素基を示す。一般式（Ｉａ）で表されるオレフィンとしては、例えば、エチレン、プロピレン、１－ブテン、１－ペンテン、１－ヘキセン、３－メチル－１－ブテン、３－メチル－１－ペンテン、３－エチル－１－ペンテン、４－メチル－１－ペンテン、４－メチル－１－ヘキセン、４，４－ジメチル－１－ヘキセン、４，４－ジメチル－１－ペンテン、４－エチル－１－ヘキセン、３－エチル－１－ヘキセン、１－オクテン、１－デセン、１－ドデセン、１－テトラデセン、１－ヘキサデセン、１－オクタデセン、１－エイコセン等が挙げられる。より優れた耐熱性、機械的特性、誘電特性、透明性およびガスバリア性を有する架橋体（Ｑ）を得る観点から、これらの中でも、エチレンとプロピレンが好ましく、エチレンがより好ましい。上記式（Ｉａ）で表されるオレフィンモノマーは二種類以上を用いてもよい。

　環状オレフィン系共重合体（ｍ）の共重合原料の一つである環状非共役ジエン単量体は付加共重合して上記式（ＩＩＩ）で表される構成単位を形成するものである。具体的には、上記一般式（ＩＩＩ）に対応する下記一般式（ＩＩＩａ）で表される環状非共役ジエンが用いられる。

　上記一般式（ＩＩＩａ）中、ｕは０または１であり、ｖは０または正の整数、好ましくは０以上２以下の整数、より好ましくは０または１であり、ｗは０または１であり、Ｒ^６１～Ｒ^７６ならびにＲ^ａ１およびＲ^ｂ１は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１～２０のアルキル基、炭素原子数１～２０のハロゲン化アルキル基、炭素原子数３～１５のシクロアルキル基または炭素原子数６～２０の芳香族炭化水素基であり、Ｒ^１０４は水素原子または炭素原子数１～１０のアルキル基であり、ｔは０～１０の正の整数であり、Ｒ^７５およびＲ^７６は、互いに結合して単環または多環を形成していてもよい。

　上記一般式（ＩＩＩａ）で表される環状非共役ジエンとしては、特に限定されるものではないが、例えば、下記化学式で表される環状非共役ジエンを挙げることができる。これらのうち５－ビニル－２－ノルボルネン、８－ビニル－９－メチルテトラシクロ［４．４．０．１^２，５．１^７，１０］－３－ドデセンが好ましく、５－ビニル－２－ノルボルネンがより好ましい。

　上記一般式（ＩＩＩａ）で表される環状非共役ジエンは、具体的には以下の一般式（ＩＩＩｂ）で表すこともできる。

　一般式（ＩＩＩｂ）中のｎは０～１０の整数であり、Ｒ_１は水素原子または炭素原子数１～１０のアルキル基であり、Ｒ_２は水素原子または炭素原子数１～５のアルキル基である。

　本実施形態の環状オレフィン系共重合体（ｍ）には、一般式（ＩＩＩ）で表される環状非共役ジエン由来の構成単位が含まれることにより、側鎖部分、すなわち共重合の主鎖以外の部分に二重結合を有することが特徴である。

　環状オレフィン系共重合体（ｍ）の共重合原料の一つである環状オレフィンモノマーは付加共重合して上記式（Ｖ）で表される構成単位を形成するものである。具体的には、上記一般式（Ｖ）に対応する下記一般式（Ｖａ）で表される環状オレフィンモノマーが用いられる。

　上記一般式（Ｖａ）中、ｕは０または１であり、ｖは０または正の整数、好ましくは０以上２以下の整数、より好ましくは０または１であり、ｗは０または１であり、Ｒ^６１～Ｒ^７８ならびにＲ^ａ１およびＲ^ｂ１は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１～２０のアルキル基、炭素原子数１～２０のハロゲン化アルキル基、炭素原子数３～１５のシクロアルキル基、または炭素原子数６～２０の芳香族炭化水素基であり、Ｒ^７５～Ｒ^７８は、互いに結合して単環または多環を形成していてもよい。

　上記一般式（Ｖａ）で表される環状オレフィンの具体例については国際公開第２００６／１１８２６１号に記載の化合物を用いることができる。
　上記一般式（Ｖａ）で表される環状オレフィンとしては、ビシクロ［２．２．１］－２－ヘプテン（ノルボルネンとも呼ぶ。）およびテトラシクロ［４．４．０．１^２，５．１^７，１０］－３－ドデセン（テトラシクロドデセンとも呼ぶ。）からなる群から選択される少なくとも一種が好ましく、テトラシクロ［４．４．０．１^２，５．１^７，１０］－３－ドデセンがより好ましい。これらの環状オレフィンは剛直な環構造を有するため共重合体および架橋体の弾性率が保持され易く、また異種二重結合構造を含まないため架橋の制御をし易くなる利点がある。

　共重合成分として、前述した一般式（Ｉａ）で表されるオレフィンモノマー、一般式（Ｖａ）で表される環状オレフィンを用いることにより、環状オレフィン系共重合体（ｍ）の溶媒への溶解性がより向上するため成形性が良好となり、製品の歩留まりが向上する。

　環状オレフィン系共重合体（ｍ）においては、前記オレフィン由来の繰り返し単位（Ａ）を構成するオレフィンがエチレンを含み、前記環状非共役ジエン由来の繰り返し単位（Ｂ）を構成する環状非共役ジエンが５－ビニル－２－ノルボルネンを含み、前記環状オレフィン由来の構造単位（Ｃ）を構成する環状オレフィンがテトラシクロ［４．４．０．１^２，５．１^７，１０］－３－ドデセンを含むことが好ましい。これにより、環状オレフィン系共重合体（ｍ）をワニスにした際の安定性がより一層向上する。

　環状オレフィン系共重合体（ｍ）は、（Ａ）一般式（Ｉ）で表される１種以上のオレフィン由来の繰り返し単位、（Ｂ）一般式（ＩＩＩ）で表される環状非共役ジエン由来の繰り返し単位および（Ｃ）一般式（Ｖ）で表される１種以上の環状オレフィン由来の繰り返し単位に加えて、一般式（ＩＩＩ）で表される環状非共役ジエンおよび一般式（Ｖ）で表される環状オレフィン以外の環状オレフィン、および／または鎖状ポリエン由来の繰り返し単位とから構成されていてもよい。
　この場合、環状オレフィン系共重合体（ｍ）の共重合原料として、一般式（Ｉａ）で表されるオレフィンモノマー、一般式（ＩＩＩａ）で表される環状非共役ジエンモノマー、一般式（Ｖａ）で表される環状オレフィンモノマーに加えて、一般式（ＩＩＩａ）で表される環状非共役ジエンモノマーおよび一般式（Ｖａ）で表される環状オレフィンモノマー以外の環状オレフィンモノマー、および／または鎖状ポリエンモノマーを用いることができる。
　このような環状オレフィンモノマーおよび鎖状ポリエンモノマーとしては下記一般式（ＶＩａ）または（ＶＩＩａ）で表される環状オレフィン、または下記一般式（ＶＩＩＩａ）で表される鎖状ポリエンである。これらの環状オレフィンや鎖状ポリエンは異なる二種以上を用いてもよい。

　一般式（ＶＩａ）中、ｘおよびｄは０または１以上の整数、好ましくは０以上２以下の整数、より好ましくは０または１であり、ｙおよびｚは０、１または２であり、Ｒ^８１～Ｒ^９９は互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１～２０のアルキル基もしくは炭素原子数３～１５のシクロアルキル基である脂肪族炭化水素基、炭素原子数６～２０の芳香族炭化水素基またはアルコキシ基であり、Ｒ^８９およびＲ^９０が結合している炭素原子と、Ｒ^９３が結合している炭素原子またはＲ^９１が結合している炭素原子とは、直接あるいは炭素原子数１～３のアルキレン基を介して結合していてもよく、またｙ＝ｚ＝０のとき、Ｒ^９５とＲ^９２またはＲ^９５とＲ^９９とは互いに結合して単環または多環の芳香族環を形成していてもよい。

　一般式（ＶＩＩａ）中、Ｒ^１００およびＲ^１０１は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子または炭素原子数１～５の炭化水素基を示し、ｆは１≦ｆ≦１８である。

　一般式（ＶＩＩＩａ）中、Ｒ^２０１からＲ^２０６は互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、または炭素原子数１～２０の炭化水素基であり、Ｐは炭素原子数１～２０の直鎖または分岐状の炭化水素基で、二重結合および／または三重結合を含んでいてもよい。

　一般式（ＶＩａ）および一般式（ＶＩＩａ）で表される環状オレフィンの具体例については国際公開第２００６／１１８２６１号の段落００３７～００６３に記載の化合物を用いることができる。

　一般式（ＶＩＩＩａ）で表される鎖状ポリエンとして、具体的には、１，４－ヘキサジエン、３－メチル－１，４－ヘキサジエン、４－メチル－１，４－ヘキサジエン、５－メチル－１，４－ヘキサジエン、４，５－ジメチル－１，４－ヘキサジエン、７－メチル－１，６－オクタジエン、ＤＭＤＴ、１，３－ブタジエン，１，５－ヘキサジエン等が挙げられる。また１，３－ブタジエン、１，５－ヘキサジエン等のポリエンから環化した環化性のポリエンを用いてもよい。

　環状オレフィン系共重合体（ｍ）が、上記一般式（ＶＩＩＩａ）で表される鎖状ポリエン由来の構成単位、あるいは一般式（ＩＩＩ）で表される環状非共役ジエンおよび一般式（Ｖ）で表される環状オレフィン以外の環状オレフィン〔例えば、一般式（ＶＩａ）、一般式（ＶＩＩａ）〕に由来する構成単位を含む場合は、該構成単位の含有量は、上記一般式（Ｉ）で表される１種以上のオレフィン由来の繰り返し単位、上記一般式（ＩＩＩ）で表される１種以上の環状非共役ジエン由来の繰り返し単位、上記一般式（Ｖ）で表される１種以上の環状オレフィン由来の繰り返し単位の合計モル数に対して、通常０．１～１００ｍｏｌ％、好ましくは０．１～５０ｍｏｌ％である。

　共重合成分として、前述した一般式（Ｉ）で表されるオレフィンモノマー、一般式（ＶＩａ）または（ＶＩＩａ）で表される環状オレフィンおよび一般式（ＶＩＩＩａ）で表される鎖状ポリエンを用いることにより、環状オレフィン系共重合体（ｍ）の溶媒への溶解性がより向上するため成形性が良好となり、製品の歩留まりが向上する。これらのうちでも一般式（ＶＩａ）または（ＶＩＩａ）で表される環状オレフィンが好ましい。これらの環状オレフィンは剛直な環構造を有するため共重合体および架橋体の弾性率が保持され易く、また異種二重結合構造を含まないため架橋の制御をし易くなる利点がある。

　環状オレフィン系共重合体（ｍ）は目的とする用途に応じて、モノマーの仕込み比により、そのコモノマー含有量、およびガラス転移点（Ｔｇ）をコントロールできる。
　環状オレフィン系共重合体（ｍ）のＴｇは、好ましくは３００℃以下、より好ましくは２５０℃以下、さらに好ましくは２００℃以下、さらに好ましくは１７０℃以下、さらに好ましくは１５０℃以下である。Ｔｇが上記上限値以下であると、環状オレフィン系共重合体（ｍ）の溶融成形性およびワニス化するときの溶媒への溶解性が向上する。
　耐熱性を向上させる観点から、環状オレフィン系共重合体（ｍ）のＴｇは、好ましくは１００℃以上、より好ましくは１１０℃以上、さらに好ましくは１２０℃以上、さらに好ましくは１２５℃以上、さらに好ましくは１３０℃以上である。
　溶融成形性、溶媒への溶解性および耐熱性のバランスを向上させる観点から、環状オレフィン系共重合体（ｍ）のＴｇは、好ましくは１００℃以上３００℃以下、より好ましくは１１０℃以上２５０℃以下、さらに好ましくは１２０℃以上２００℃以下、さらに好ましくは１２５℃以上１７０℃以下、さらに好ましくは１３０℃以上１５０℃以下である。

　環状オレフィン系共重合体（ｍ）の、１３５℃中デカヒドロナフタレン中で測定した極限粘度［η］は、例えば０．０５～５ｄｌ／ｇ、好ましくは０．０７～１ｄｌ／ｇ、より好ましくは０．０８～０．５ｄｌ／ｇの範囲である。極限粘度［η］が上記上限値以下であると、成形性が向上する。また、極限粘度［η］が上記下限値以上であると、環状オレフィン系共重合体組成物を架橋することによって得られる架橋体（Ｑ）の耐熱性や機械的特性が向上する。
　なお、環状オレフィン系共重合体（ｍ）の極限粘度［η］は、重合触媒、助触媒、Ｈ_２添加量、重合温度等の重合条件により制御することが可能である。

　環状オレフィン系共重合体（ｍ）の、ＧＰＣ測定より求められる数平均分子量（Ｍｎ）は、好ましくは１，０００以上、より好ましくは２，０００以上、さらに好ましくは５，０００以上、さらに好ましくは７，０００以上であり、そして、好ましくは１００，０００以下、より好ましくは７０，０００以下、さらに好ましくは５０，０００以下、さらに好ましくは２５，０００以下であり、そして、好ましくは１，０００以上１００，０００以下、より好ましくは２，０００以上７０，０００以下、さらに好ましくは５，０００以上５０，０００以下、さらに好ましくは７，０００以上２５，０００以下である。これにより、環状オレフィン系共重合体（ｍ）をワニスにしたときの安定性がより一層向上する。つまり、ワニスを調整し保管した場合に、析出物の発生やゲル化がより一層抑制される。

＜立体規則性＞
　本実施形態に係る環状オレフィン系共重合体（ｍ）は特定の立体規則性を有すると考えられる。具体的には、環状オレフィン系共重合体（ｍ）は、繰り返し単位（Ｃ）－繰り返し単位（Ａ）－繰り返し単位（Ｃ）の連鎖構造におけるメソ構造とラセモ構造の比率が一定範囲であると考えられる。これにより、環状オレフィン系共重合体（ｍ）をワニスにした際の安定性がより一層向上する。

　本実施形態に係る環状オレフィン系共重合体（ｍ）の立体規則性は、^１３Ｃ－ＮＭＲにて測定される。以下に、^１３Ｃ－ＮＭＲのシグナル位置およびシグナルの測定方法などについて説明する。

　まず、本実施形態に係る特定の立体規則性について、以下の一般式で表される構造を有する重合体を例に説明する。
　上記繰り返し単位（Ｃ）－繰り返し単位（Ａ）－繰り返し単位（Ｃ）の連鎖におけるメソ構造とは、非特許文献１の図５にαβｍとして記載されている構造を意味する。また、ラセモ構造とは、同図においてαβｒと記載されている構造をいう。

（非特許文献１　第９９１３頁　Ｆｉｇｕｒｅ　５より引用）

　非特許文献１の図５は一例であり、ノルボルネンとエチレンが連鎖した構造を示している。エチレンを挟んで隣り合ったノルボルネンの不斉炭素の立体の向きが同じである構造がメソ構造、向きが異なる構造がラセモ構造である。非特許文献１の図５ではノルボルネンが繰り返し単位（Ｃ）を形成する環状オレフィンである例として記載されているが、繰り返し単位（Ｃ）を形成する環状オレフィンがテトラシクロ［４．４．０．１^２，５．１^７，１０］－３－ドデセンである場合も同様である。また、繰り返し単位（Ｃ）を形成する環状オレフィンがこれら以外のモノマーである場合も同様である。

　本実施形態に係る環状オレフィン共重合体（ｍ）においては、以下の計算式で算出される、（Ｘ_Ｂ－Ｘ_Ｃ）／Ｙ_Ａの値が、０．２以上２．０以下であることが好ましい。ここで、（Ｘ_Ｂ－Ｘ_Ｃ）／Ｙ_Ａの値は、繰り返し単位（Ｃ）－繰り返し単位（Ａ）－繰り返し単位（Ｃ）の連鎖構造におけるメソ構造とラセモ構造の比率に対応すると考えられる。
　（Ｘ_Ｂ－Ｘ_Ｃ）／Ｙ_Ａの下限は特に制限されないが、好ましくは０．２以上、より好ましくは０．３以上、さらに好ましくは０．４以上、さらに好ましくは０．５以上、さらに好ましくは０．６以上、さらに好ましくは０．７以上、さらに好ましくは０．８以上である。
　（Ｘ_Ｂ－Ｘ_Ｃ）／Ｙ_Ａの上限は特に制限されないが、好ましくは２．０以下、より好ましくは１．８以下、さらに好ましくは１．６以下、さらに好ましくは１．５以下、さらに好ましくは１．３以下、さらに好ましくは１．１以下、さらに好ましくは１．０以下である。
　（Ｘ_Ｂ－Ｘ_Ｃ）／Ｙ_Ａの数値範囲は特に制限されないが、たとえば０．２以上２．０以下、０．３以上１．８以下、０．４以上１．６以下、０．５以上１．５以下、０．６以上１．３以下、０．７以上１．１以下、または０．８以上１．０以下とすることができる。
　（Ｘ_Ｂ－Ｘ_Ｃ）／Ｙ_Ａの値が上記範囲にあることで、環状オレフィン系共重合体（ｍ）をワニスにした際の安定性が向上する。上記立体規則性は、重合方法、用いる触媒、組成等を選択することで適宜調整される。

　（Ｘ_Ｂ－Ｘ_Ｃ）／Ｙ_Ａの値は以下のようにして求める。
　本実施形態に係る環状オレフィン系共重合体の^１３Ｃ－ＮＭＲスペクトルにおいて、
　　４３．８～４５．０ｐｐｍの範囲のシグナルの積分値をＸ_Ｃ、
　　４０．３～４１．３ｐｐｍの範囲のシグナルの積分値をＹ_Ａ、
　　３８．４～３９．９ｐｐｍの範囲のシグナルの積分値の合計をＸ_Ｂ
としたときの、（Ｘ_Ｂ－Ｘ_Ｃ）／Ｙ_Ａの値を得る。
　ここで、Ｘ_Ｃは、繰り返し単位（Ｂ）に由来するシグナルの積分値であり、
　Ｙ_Ａは、繰り返し単位（Ｃ）に由来するシグナルの積分値であり、
　Ｘ_Ｂは、繰り返し単位（Ｂ）に由来するシグナルの積分値および繰り返し単位（Ｃ）に由来するシグナルの積分値の合計である。
　^１３Ｃ－ＮＭＲスペクトルは原則として実施例に記載の測定条件により測定される。

＜ワニス状の環状オレフィン系共重合体組成物＞
　以下、ワニス状の環状オレフィン系共重合体組成物について説明する。

　本実施形態のワニス状の環状オレフィン系共重合体組成物は、環状オレフィン系共重合体（ｍ）と、有機溶媒とを含む、ワニス状の環状オレフィン系共重合体組成物であって、前記環状オレフィン系共重合体（ｍ）は、（Ａ）下記一般式（Ｉ）で表される１種以上のオレフィン由来の繰り返し単位と、（Ｂ）下記一般式（ＩＩＩ）で表される１種以上の環状非共役ジエン由来の繰り返し単位と、（Ｃ）下記一般式（Ｖ）で表される１種以上の環状オレフィン由来の繰り返し単位と、を含み、

〔上記一般式（Ｖ）中、ｕは０または１であり、ｖは０または正の整数であり、ｗは０または１であり、Ｒ^６１～Ｒ^７８ならびにＲ^ａ１およびＲ^ｂ１は互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１～２０のアルキル基、炭素原子数１～２０のハロゲン化アルキル基、炭素原子数３～１５のシクロアルキル基または炭素原子数６～２０の芳香族炭化水素基であり、Ｒ^７５～Ｒ^７８は互いに結合して単環または多環を形成していてもよい。〕
　前記環状オレフィン系共重合体（ｍ）の^１３Ｃ－ＮＭＲスペクトルにおいて、４３．８ｐｐｍ以上４５．０ｐｐｍ以下の範囲のシグナルの積分値をＲ_Ｂ、４０．３ｐｐｍ以上４１．３ｐｐｍ以下の範囲のシグナルの積分値をＭ_Ｃ、３８．４ｐｐｍ以上３９．９ｐｐｍ以下の範囲のシグナルの積分値の合計をＲ_Ｂ＋Ｃ、としたとき、（Ｒ_Ｂ＋Ｃ－Ｒ_Ｂ）／Ｍ_Ｃの値が０．２以上２．０以下であることが好ましい。

　ワニス状の環状オレフィン系共重合体組成物中の環状オレフィン系共重合体（ｍ）の含有量は特に限定されないが、好ましくは３０質量％～７０質量％、より好ましくは３０質量％～６０質量％、さらに好ましくは３０質量％～５５質量％である。含有量がこの範囲にあれば、ワニス状の環状オレフィン系共重合体組成物が溶液状態をより一層維持できる。

＜有機溶媒＞
　ワニス状の環状オレフィン系共重合体組成物を調製するための溶媒としては、環状オレフィン系共重合体（ｍ）に対して溶解性または親和性を損なわないものであれば特に限定されない。

　有機溶媒は、好ましくは、芳香族炭化水素系溶媒、環式炭化水素系溶媒、直鎖式炭化水素系溶媒およびハロゲン化芳香族炭化水素溶媒からなる群から選択される少なくとも一種を含み、より好ましくは、トルエン、ベンゼン、キシレン、メシチレン、プソイドクメン等の芳香族炭化水素系溶媒；シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、デカヒドロナフタレン等の環式炭化水素系溶媒；プタン、ヘキサン、オクタン、デカン等の直鎖式炭化水素系溶媒；トリクロルエチレン、ジクロルエチレン、クロルベンゼン等のハロゲン化炭化水素溶媒からなる群から選択される少なくとも一種を含み、更に好ましくは、芳香族炭化水素系溶媒および環式炭化水素系溶媒からなる群から選択される少なくとも一種を含み、さらに好ましくは、トルエンおよびシクロヘキサンからなる群から選択される少なくとも一種を含み、さらに好ましくはトルエンを含む。これらの溶媒は単独で、または２種以上を任意の割合で混合して用いることができる。

　本実施形態のワニス状の環状オレフィン系共重合体組成物の製造方法は、得られたポリマーを析出する析出工程等その他の工程を備えてもよい。

＜架橋体（Ｑ）＞
　本実施形態に係る架橋体（Ｑ）は、本実施形態に係る環状オレフィン共重合体（ｍ）または本実施形態に係る環状オレフィン系共重合体組成物を架橋することにより得られる。本実施形態に係る環状オレフィン共重合体（ｍ）または本実施形態に係る環状オレフィン系共重合体組成物の架橋方法としては特に制限はないが、ラジカル重合開始剤や硫黄、ヒドロシリル基含有化合物、電子線や他の放射線を用いて、任意の形に成形しながら、または成形後に架橋する方法等が挙げられる。

　ラジカル重合開始剤による架橋は、ポリオレフィンで適用されている通常のラジカル重合開始剤による架橋方法をそのまま適用できる。すなわち環状オレフィン共重合体（ｍ）または環状オレフィン系共重合体組成物にジクミルペルオキシドのようなラジカル重合開始剤を配合し、加熱、架橋する。ラジカル重合開始剤の配合割合は特に制限がないものの、環状オレフィン共重合体（ｍ）１００質量部あたり通常は０．０２～２０質量部、好ましくは０．０５～１０質量部であり、さらに好ましくは０．５～１０質量部である。ラジカル重合開始剤の配合割合が上記上限値以下であると、架橋体（Ｑ）の誘電特性が向上し、上記下限値以上であると、架橋体（Ｑ）の耐熱性、機械的特性を向上させることができる。

　上記ラジカル重合開始剤としては、公知の熱ラジカル重合開始剤、光ラジカル重合開始剤およびこれらを併用することができる。これらのラジカル重合開始剤のうち、熱ラジカル重合開始剤を使用する場合は、保存安定性の観点から１０時間半減期温度が通常８０℃以上、好ましくは１２０℃以上のものである。このような開始剤として、例えば、ジクミルパーオキシド、ｔ－ブチルクミルパーオキシド、２，５－ビス（ｔ－ブチルパーオキシ）２，５－ジメチルヘキサン、２，５－ビス（ｔ－ブチルパーオキシ）２，５－ジメチルヘキシン－３、ジ－ｔ－ブチルパーオキシド、イソプロピルクミル－ｔ－ブチルパーオキシド、ビス（α－ｔ－ブチルパーオキシイソプロピル）ベンゼン、等のジアルキルパーオキシド類；１，１－ビス（ｔ－ブチルパーオキシ）シクロヘキサン、１，１－ビス（ｔ－ブチルパーオキシ）３，３，５－トリメチルシクロヘキサン、１，１－ビス（ｔ－ブチルパーオキシ）シクロドデカン、ｎ－ブチル－４，４－ビス（ｔ－ブチルパーオキシ）バレレート、エチル－３，３－ビス（ｔ－ブチルパーオキシ）ブチレート、３，３，６，６，９，９－ヘキサメチル－１，２，４，５－テトラオキシシクロノナン等のパーオキシケタール類；ビス（ｔ－ブチルパーオキシ）イソフタレート、ｔ－ブチルパーオキシベンゾエート、ｔ－ブチルパーオキシアセテート等のパーオキシエステル類；ｔ－ブチルハイドロパーオキシド、ｔ－ヘキシルハイドロパーオキシド、クミンハイドロパーオキシド、１，１，３，３－テトラメチルブチルハイドロパーオキシド、ジイソプロピルベンゼンハイドロパーオキシド、ｐ－メンタンハイドロパーオキシド等のハイドロパーオキシド類；２，３－ジメチル－２，３－ジフェニルブタン等のビベンジル化合物類；３，３，５，７，７－ペンタメチル－１，２，４－トリオキセパン等が挙げられる。

　ラジカル重合開始剤のうち、光ラジカル重合開始剤は具体的には、例えば、ベンゾインアルキルエーテル、ベンジルジメチルケタール、１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２－ヒドロキシ－２－メチル－１－フェニルプロパン－１－オン、ベンゾフェノン、メチルベンゾイルフォーメート、イソプロピルチオキサントンおよびこれらの２種以上の混合物等が挙げられる。また、これらの光ラジカル重合開始剤とともに増感剤を使用することもできる。増感剤の例としては、アントラキノン、１，２－ナフトキノン、１，４－ナフトキノン、ベンズアントロン、ｐ，ｐ’－テトラメチルジアミノベンゾフェノン、クロラニル等のカルボニル化合物、ニトロベンゼン、ｐ－ジニトロベンゼン、２－ニトロフルオレン等のニトロ化合物、アントラセン、クリセン等の芳香族炭化水素、ジフェニルジスルフィド等の硫黄化合物、ニトロアニリン、２－クロロ－４－ニトロアニリン、５－ニトロ－２－アミノトルエン、テトラシアノエチレン等の窒素化合物等を挙げることができる。

　硫黄等により架橋する場合には、環状オレフィン系共重合体組成物に硫黄系化合物、必要に応じて加硫促進剤、加硫促進助剤を配合して加熱し、架橋反応を行う。硫黄系化合物の配合量はとくに制限はないものの、架橋反応を効率よく進行させ、かつ得られる架橋物の物性改善を計ることおよび経済性の面等から環状オレフィン共重合体（ｍ）１００質量部に対して通常０．１～１０質量部、好ましくは０．３～５質量部の範囲で使用され、加硫促進剤や加硫促進助剤を併用する場合には通常０．１～２０質量部、好ましくは０．２～１０質量部の範囲で使用される。
　架橋反応を起こすため使用される硫黄系化合物は公知の種々のものが使用でき、一例を挙げると硫黄、一塩化硫黄、二塩化硫黄、モルホリンジスルフィド、アルキルフェノールジスルフィド、テトラメチルチウラムジスルフィド、ジメチルジチオカルバミン酸セレン等がある。また加硫促進剤も種々のものを使用でき、Ｎ－シクロヘキシル－２－ベンゾチアゾール－スルフェンアミド、Ｎ－オキシジエチレン－２－ベンゾチアゾール－スルフェンアミド、Ｎ，Ｎ－ジイソプロピル－２－ベンゾチアゾール－スルフェンアミド、２－メルカプトベンゾチアゾール、２－（２，４－ジニトロフェニル）メルカプトベンゾチアゾール、２－（２，６－ジエチル－４－モルホリノチオ）ベンゾチアゾール、ベンゾチアジル－ジスルフィド等のチアゾール系；ジフェニルグアニジン、トリフェニルグアニジン、ジ－オルソ－トリルグアニジン、オルソートリルバイグアナイド、ジフェニルグアニジンフタレート等のグアニジン系；アセトアルデヒド－アニリン反応物；ブチルアルデヒド－アニリン縮合物；ヘキサメチレンテトラミン、アセトアルデヒドアンモニア等のアルデヒドアミン、またはアルデヒド－アンモニア系；２－メルカプトイミダゾリン等のイミダゾリン系；チオカルバニリド、ジエチルチオユリアジブチルチオユリア、トリメチルチオユリア、ジオルソートリルチオユリア等のチオユリア系；テトラメチルチウラムモノスルフィド、テトラメチルチウラムジスルフィド、テトラエチルチウラムジスルフィド、テトラブチルチウラムジスルフィド、ジペンタメチレンチウラムテトラスルフィド等のチウラム系；ジメチルジチオカルバミン酸亜鉛、ジエチルチオカルバミン酸亜鉛、ジ－ｎ－ブチルジチオカルバミン酸亜鉛、エチルフェニルジチオカルバミン酸亜鉛、ブチルフェニルジチオカルバミン酸亜鉛、ジメチルジチオカルバミン酸ナトリウム、ジメチルジチオカルバミン酸セレン、ジエチルジチオカルバミン酸テルル等のジチオ酸塩系；ジブチルキサントゲン酸亜鉛等のザンテート系；等を挙げることができる。加硫促進助剤としては、酸化亜鉛、活性亜鉛華、炭酸亜鉛、複合亜鉛華、酸化マグネシウム、リサージ、鉛丹、塩基性炭酸鉛等の金属酸化物系、ステアリン酸、オレイン酸、ラウリン酸、ステアリン酸鉛等の脂肪酸系、トリエタノールアミン、ジエチレングリコール等の有機アミン・グリコール系等を挙げることができる。

　環状オレフィン共重合体（ｍ）または環状オレフィン系共重合体組成物をラジカル重合開始剤架橋または硫黄により架橋する温度は通常１００～３００℃、好ましくは１２０～２５０℃、さらに好ましくは１２０～２２０℃の温度で行い、温度を段階的に変化させて架橋を行ってもよい。上記下限値以上であると、架橋を十分に進行させることができる。また、上記上限値以下であると、得られる架橋体の着色が抑制できたり、プロセスを簡略化できたりする。なお、参考として、代表的な二重結合含有重合体であるポリブタジエンは、一般に上記のような条件では架橋できず、３００℃のような高温での架橋条件を必要とする。

　本実施形態に係る環状オレフィン共重合体（ｍ）または環状オレフィン系共重合体組成物は、ヒドロシリル基を１分子中に少なくとも２つ有するヒドロシリル基含有化合物を用いて架橋することもできる。ヒドロシリル基含有化合物を用いた架橋については、例えば、特開２０１５－１９３６８０号公報に記載の方法にしたがって行うことができる。ここでは詳細は省略する。

　電子線や他の放射線を用いて架橋する方法は、成型時の温度、流動性の制限を伴わないという利点があり、放射線としては、電子線の他、γ線、ＵＶ等を挙げることができる。

　ラジカル重合開始剤や硫黄、ヒドロシリル基含有化合物等を用いる方法、放射線を用いて架橋する方法のいずれの場合も、架橋助剤の併用下に架橋することができる。

　架橋助剤としては特に制限はないが、例えば、ｐ－キノンジオキシム、ｐ，ｐ’－ジベンゾイルキノンジオキシム等のオキシム類；エチレンジメタクリレート、ポリエチレングリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、アクリル酸／酸化亜鉛混合物、アリルメタクリレート等のアクリレートもしくはメタクリレート類；ジビニルベンゼン、ビニルトルエン、ビニルピリジン等のビニルモノマー類；ヘキサメチレンジアリルナジイミド、ジアリルイタコネート、ジアリルフタレート、ジアリルイソフタレート、ジアリルモノグリシジルイソシアヌレート、トリアリルシアヌレート、トリアリルイソシアヌレート等のアリル化合物類；Ｎ，Ｎ’－ｍ－フェニレンビスマレイミド、Ｎ，Ｎ’－（４，４’－メチレンジフェニレン）ジマレイミド等のマレイミド化合物類等、ビニルノルボルネン、エチリデンノルボルネン、ジシクロペンタジエン等の環状非共役ジエン類が挙げられる。これらの架橋助剤は単独で用いてもよいし、組み合わせて使用することもできる。

　本実施形態に係る架橋体（Ｑ）には、必要に応じて、耐熱安定剤、耐候安定剤、帯電防止剤、スリップ剤、アンチブロッキング剤、防曇剤、滑剤、染料、顔料、天然油、合成油、ワックス、有機または無機の充填剤などを本発明の目的を損なわない程度に配合することができ、その配合割合は適宜量である。任意成分として配合される安定剤として、具体的には、テトラキス〔メチレン－３（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕メタン、β－（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオン酸アルキルエステル、２，２’－オキザミドビス〔エチル－３（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕などのフェノール系酸化防止剤；ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸カルシウム、１２－ヒドロキシステアリン酸カルシウムなどの脂肪酸金属塩；グリセリンモノステアレート、グリセリンモノラウレート、グリセリンジステアレート、ペンタエリスリトールモノステアレート、ペンタエリスリトールジステアレート、ペンタエリスリトールトリステアレートなどの多価アルコール脂肪酸エステルなどをあげることができる。これらは単独で配合してもよいし、組合せて配合してもよく、たとえばテトラキス〔メチレン－３（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕メタンとステアリン酸亜鉛およびグリセリンモノステアレートとの組合せなどを例示できる。

　有機または無機の充填剤としては、シリカ、ケイ藻土、アルミナ、酸化チタン、酸化マグネシウム、軽石粉、軽石バルーン、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、塩基性炭酸マグネシウム、ドロマイト、硫酸カルシウム、チタン酸カリウム、硫酸バリウム、亜硫酸カルシウム、タルク、クレー、マイカ、アスベスト、ガラス繊維、ガラスフレーク、ガラスビーズ、ケイ酸カルシウム、モンモリロナイト、ベントナイト、グラファイト、アルミニウム粉、硫化モリブデン、ボロン繊維、炭化ケイ素繊維、ポリエチレン繊維、ポリプロピレン繊維、ポリエステル繊維、ポリアミド繊維などを例示できる。

　架橋体（Ｑ）と各種添加剤を混合するには、環状オレフィン共重合体（ｍ）と各種添加剤を押出機などで溶融ブレンドする方法、または環状オレフィン共重合体（ｍ）と各種添加剤を適当な溶媒、たとえばヘプタン、ヘキサン、デカン、シクロヘキサンのような飽和炭化水素；トルエン、ベンゼン、キシレンのような芳香族炭化水素などに溶解、分散させて行う溶液ブレンド法などを採用することができる。

　架橋反応は、環状オレフィン系共重合体組成物と、上記したラジカル重合開始剤や硫黄、ヒドロシリル基含有化合物等の化合物との混合物を溶融状態として行うこともできるし、または該混合物を溶媒に溶解、または分散させた溶液状態で行うこともできるし、または溶媒に溶解した溶液状態から溶媒を揮発させフィルム、コーティング等任意の形に成形した後にさらに架橋反応を進行させることもできる。

　溶融状態で反応を行う場合はミキシングロール、バンバリーミキサー、押出機、ニーダ、連続ミキサー等の混練装置を用いて、原料の混合物を溶融混練して反応させる。また、任意の手法で成形した後に更に架橋反応を進行させることもできる。

　溶液状態で反応を行う場合に使用する溶媒としては上記溶液ブレンド法で用いた溶媒と同様の溶媒が使用できる。

　電子線またはその他の放射線、ＵＶを用いて架橋反応を行う場合には、任意の方法で賦形した後に、反応を行うことができる。

＜成形体＞
　本実施形態に係る成形体は、本実施形態に係る架橋体（Ｑ）を含む。
　本実施形態に係る成形体は、例えば、フィルムまたはシートである。
　本実施形態に係る環状オレフィン共重合体（ｍ）または本実施形態に係る環状オレフィン系共重合体組成物を用いて、フィルムまたはシートを形成する方法としては、各種公知の方法が適用可能である。例えば、熱可塑性樹脂フィルム等の支持基材上に上述したワニスを塗布して乾燥後、加熱処理等して本実施形態に係る環状オレフィン共重合体（ｍ）または本実施形態に係る環状オレフィン系共重合体組成物を架橋することにより形成する方法が挙げられる。ワニスの支持基材への塗布方法は特に限定されないが、例えば、スピンコーターを用いた塗布、スプレーコーターを用いた塗布、バーコーターを用いた塗布等を挙げることができる。
　また、本実施形態に係る環状オレフィン共重合体（ｍ）または本実施形態に係る環状オレフィン系共重合体組成物を溶融成形して、フィルムまたはシートを得る方法も挙げることができる。

　本実施形態の上記フィルムまたはシートは基材に積層することにより、積層体として各種用途に用いることができる。本実施形態の積層体を形成する方法は各種公知の方法が適用可能である。
　例えば、基材に対し、上述の方法により製造したフィルムまたはシートを積層し、必要に応じてプレス等により加熱硬化することにより積層体を作製することができる。
　また、導体層に対して、前述した架橋体を含む電気絶縁層を積層することにより積層体を作製することもできる。

　本実施形態に係る環状オレフィン共重合体（ｍ）または本実施形態に係る環状オレフィン系共重合体組成物は、各種の多層成形体または多層積層フィルムの表層に形成してもよい。このとき、本実施形態に係る環状オレフィン共重合体（ｍ）または本実施形態に係る環状オレフィン系共重合体組成物により形成された樹脂層は１００μｍ以下であるのが好ましい。
　各種の多層成形体または多層積層フィルムとしては、例えば、樹脂光学レンズ表面に本実施形態に係る環状オレフィン共重合体（ｍ）または本実施形態に係る環状オレフィン系共重合体組成物が形成された光学レンズ用多層成形体や、ＰＥＴフィルムやＰＥフィルム等の樹脂フィルム表面にガスバリア性付与のために本実施形態に係る環状オレフィン共重合体（ｍ）または本実施形態に係る環状オレフィン系共重合体組成物が形成された多層ガスバリアフィルム等が挙げられる。

　また、本実施形態のプリプレグは、本実施形態に係る環状オレフィン共重合体（ｍ）または本実施形態に係る環状オレフィン系共重合体組成物とシート状繊維基材とを複合して形成されたものである。
　プリプレグの製造方法としては特に限定されず、各種公知の方法が適用可能である。例えば、上述したワニスをシート状繊維基材に含浸し含浸体を得る工程と、得られた含浸体を加熱し上記ワニスに含まれる溶媒を乾燥する工程とを含む方法が挙げられる。
　上記ワニスのシート状繊維基材への含浸は、例えば、所定量のワニスを、スプレーコート法、ディップコート法、ロールコート法、カーテンコート法、ダイコート法、スリットコート法等の公知の方法によりシート状繊維基材に塗布し、必要に応じてその上に保護フィルムを重ね、上側からローラー等で押圧することにより行うことができる。
　また、上記含浸体を加熱し、上記ワニスに含まれる溶媒を乾燥する工程はとくに限定されないが、例えば、バッチ式で送風乾燥機により空気中あるいは窒素中で乾燥する、あるいは、連続工程で加熱炉を通すことによって乾燥する、等の方法を挙げることができる。
　本実施形態においては、ワニスをシート状繊維基材に含浸させた後、得られた含浸体を所定温度に加熱することにより、上記ワニスに含まれる溶媒が蒸発し、プリプレグが得られる。

　本実施形態に係るシート状繊維基材を構成する繊維としては無機系および／または有機系の繊維が使用でき、特に限定されないが、例えば、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）繊維、アラミド繊維、超高分子ポリエチレン繊維、ポリアミド（ナイロン）繊維、液晶ポリエステル繊維等の有機繊維；ガラス繊維、炭素繊維、アルミナ繊維、タングステン繊維、モリブデン繊維、チタン繊維、スチール繊維、ボロン繊維、シリコンカーバイド繊維、シリカ繊維等の無機繊維；等を挙げることができる。これらの中でも、有機繊維やガラス繊維が好ましく、特にアラミド繊維、液晶ポリエステル繊維、ガラス繊維が好ましい。ガラス繊維としては、Ｅガラス、ＮＥガラス、Ｓガラス、Ｄガラス、Ｈガラス、Ｔガラス等を挙げることができる。
　シート状繊維基材へのワニスの含浸は、例えば、浸漬および塗布によって実施される。含浸は必要に応じて複数回繰り返してもよい。
　これらのシート状繊維基材は、それぞれ単独であるいは２種以上を組み合わせて用いることができ、その使用量は、所望により適宜選択されるが、プリプレグあるいは積層体中の、通常、１０～９０質量％、好ましくは２０～８０質量％、より好ましくは３０～７０質量％の範囲である。この範囲にあれば、得られる積層体の誘電特性と機械強度が高度にバランスされ、好適である。

　本実施形態に係るプリプレグの厚みは、使用目的に応じて適宜選択されるが、通常は０．００１～１０ｍｍであり、好ましくは０．００５～１ｍｍであり、より好ましくは０．０１～０．５ｍｍである。この範囲にあれば、積層時の賦形性や、硬化して得られる積層体の機械強度や靭性等の特性が充分に発揮され好適である。

　本実施形態に係る環状オレフィン共重合体（ｍ）または本実施形態に係る環状オレフィン系共重合体組成物は、誘電特性、耐熱性、機械的特性等に優れることから、回路基板に好適に用いることができる。
　回路基板の製造方法としては一般的に公知の方法を採用でき特に限定されないが、例えば、前述の方法により製造したフィルム、シートまたはプリプレグを積層プレス等により加熱硬化し、電気絶縁層を形成する。次いで、得られた電気絶縁層に導体層を公知の方法で積層し、積層体を作製する。その後、該積層体中の導体層を回路加工等することにより、回路基板を得ることができる。

　導体層となる金属としては、銅、アルミニウム、ニッケル、金、銀、ステンレス等の金属を用いることができる。導体層の形成方法としては、例えば、該金属類を箔等にして電気絶縁層上に熱融着させる方法、該金属類を箔等にして電気絶縁層上に接着剤を用いて張り合わせる方法、あるいはスパッタ、蒸着、めっき等の方法で電気絶縁層上に該金属類からなる導体層を形成する方法等が挙げられる。回路基板の態様としては、片面板、両面板のいずれでもよい。

　このような回路基板は、例えば、半導体素子等の電子部品を搭載することにより、電子機器として使用することができる。電子機器は公知の情報に基づいて作製することができる。
　このような電子機器としては、例えば、サーバ、ルータ、スーパーコンピューター、メインフレーム、ワークステーション等のＩＣＴインフラ機器；ＧＰＳアンテナ、無線基地局用アンテナ、ミリ波アンテナ、ＲＦＩＤアンテナ等のアンテナ類；携帯電話、スマートフォン、ＰＨＳ、ＰＤＡ、タブレット端末等の通信機器；パーソナルコンピューター、テレビ、デジタルカメラ、デジタルビデオカメラ、ＰＯＳ端末、ウェアラブル端末、デジタルメディアプレーヤー等のデジタル機器；電子制御システム装置、車載通信機器、カーナビゲーション機器、ミリ波レーダー、車載カメラモジュール等の車載電子機器；半導体試験装置、高周波計測装置等；等が挙げられる。

　また、本実施形態に係る環状オレフィン共重合体（ｍ）または本実施形態に係る環状オレフィン系共重合体組成物を架橋するとともに発泡せしめることにより発泡体とすることができる。このとき、環状オレフィン系共重合体組成物に前述した発泡剤を添加してもよい。

＜用途＞
　本実施形態に係る架橋体（Ｑ）は、耐溶剤性、耐熱性、機械的強度、透明性に優れるので、架橋体（Ｑ）からなる成形体は、例えば光ファイバー、光導波路、光ディスク基盤、光フィルター、レンズ、光学用接着剤、ＰＤＰ用光学フィルター、有機ＥＬ用コーティング材料、航空宇宙分野における太陽電池のベースフィルム基材、太陽電池や熱制御システムのコーティング材、半導体素子、発光ダイオード、各種メモリー類等の電子素子、ハイブリッドＩＣ、ＭＣＭ、回路基板、回路基板の絶縁層を形成するために用いられるプリプレグや積層体、表示部品等のオーバコート材料あるいは層間絶縁材料、液晶ディスプレイや太陽電池の基板、医療用器具、自動車用部材、離型剤、樹脂改質剤、ディスプレイ用透明基板、リチウムイオン電池用部材、半導体プロセス部材、フィルムコンデンサ、ガスバリアコート材、電線被服材、自動車用部材、航空宇宙用部材、半導体用プロセス材、電線被覆材、リチウムイオン電池用部材、燃料電池用部材、コンデンサーフィルム、フレキシブルディスプレイ部材、アンカーコート材、透明接着剤、改質材、架橋助剤、医療用容器、医療用カテーテル部材、防水シール材、離型材、ハードコート材、発泡改質剤といった用途で使用することができる。
　特に、誘電特性の経時安定性に優れ、耐溶剤性、耐熱性、透明性、機械的特性等にも優れるので、高周波回路基板等の高周波用途に好適に用いることができる。さらに、ガスバリア性にも優れるため、液晶ディスプレイ用基板や太陽電池の基板やフィルムまたはシートとして好適に用いることができる。

　以上、本発明の実施形態について述べたが、これらは本発明の例示であり、上記以外の様々な構成を採用することもできる。
　また、本発明は前述の実施形態に限定されるものではなく、本発明の目的を達成できる範囲での変形、改良等は本発明に含まれるものである。

　以下、本発明を合成例、実施例にさらに詳細に説明するが、本発明はこれにより何等制限されるものではない。

　なお、合成例、実施例、比較例で用いた環状オレフィン系共重合体（ｍ）の組成は、次に述べる方法で測定した。

［環状オレフィン系共重合体を構成する各構造単位の含有量の測定方法］
　構造単位（Ａ）、構造単位（Ｂ）および構造単位（Ｃ）の含有量は、日本電子社製「ＥＸｃａｌｉｂｕｒ２７０」核磁気共鳴装置を用い、下記条件で測定することにより行った。
　積算回数：１６～６４回
　測定温度：室温
　上記測定で得られた^１Ｈ－ＮＭＲスペクトルから、二重結合炭素に直接結合している水素由来のシグナルとそれ以外の水素のシグナルの強度によりそれぞれ算出した。

　また、合成例、実施例、比較例で用いた環状オレフィン系共重合体（ｍ）の数平均分子量（Ｍｎ）は、ＧＰＣ測定により測定し、標準ポリスチレン換算値として求めた。ＧＰＣ測定は以下の条件で行った。
　装置：ＧＰＣ　ＨＬＣ－８３２１（東ソー株式会社製）
　溶剤：ｏ－ジクロロベンゼン
　カラム：ＴＳＫｇｅｌ　ＧＭＨ６－ＨＴ×２、ＴＳＫｇｅｌ　ＧＭＨ６－ＨＴＬ×２（何れも東ソー社製）
　流速：１．０ｍｌ／分
　試料：１ｍｇ／ｍＬ　ｏ－ジクロロベンゼン溶液
　温度：１４０℃

［ガラス転移温度Ｔｇ（℃）］
　島津サイエンス社製、ＤＳＣ－６２２０を用いてＮ_２（窒素）雰囲気下で環状オレフィン系共重合体のガラス転移温度Ｔｇを測定した。環状オレフィン系共重合体を常温から１０℃／分の昇温速度で２００℃まで昇温した後に５分間保持し、次いで１０℃／分の降温速度で－２０℃まで降温した後に５分間保持した。そして１０℃／分の昇温速度で２００℃まで昇温する際の吸熱曲線から環状オレフィン系共重合体のガラス転移点（Ｔｇ）を求めた。

　［^１３Ｃ－ＮＭＲ測定］
　^１３Ｃ－ＮＭＲ測定は、下記の条件で行った。
装置：ブルカーバイオスピン社製ＡＶＡＮＣＥＩＩＩｃｒｙｏ－５００型核磁気共鳴
測定核：^１３Ｃ（１２５ＭＨｚ）
測定モード：シングルパルスプロトン（逆ゲート付）デカップリング
パルス幅：９０度
ポイント数：６４０００
測定範囲：－５５～１９５ｐｐｍ（合計２５０ｐｐｍ）
繰り返し時間：１２秒
積算回数：２５６回
溶媒：１，１，２，２－テトラクロロエタン－ｄ２
濃度：１０％ｗ／ｖ
温度：１２０℃
ケミカルシフト基準：テトラメチルシラン基準（１，１，２，２－テトラクロロエタン－ｄ２：７４．２ｐｐｍに相当）

　実験には以下の原材料を用いた。

　遷移金属化合物（１）：
Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ　２０１１，４４，１９８６．記載の方法によって、遷移金属化合物（Ａ）に該当する遷移金属化合物（１）を合成した。

〔式中、^ｔＢｕはｔｅｒｔ－ブチル基であり、^ｉＰｒはイソプロピル基である。〕

　遷移金属化合物（２）：
　特開２００４－３３１９６５号公報に記載の方法により、遷移金属化合物（Ａ）に該当しない遷移金属化合物（２）を合成した。

　遷移金属化合物（３）：
　Ｊ．　Ｏｒｇａｎｏｍｅｔ．　Ｃｈｅｍ．，　１９９７，　５２７，　２９７－３００に記載の方法により、遷移金属化合物（Ａ）に該当しない遷移金属化合物（３）を合成した。

　エチレン（住友精化社製）
　有機アルミニウムオキシ化合物（Ｂ－２）：モディファイドメチルアルミノキサン（ＭＭＡＯ、東ソー・ファインケム社製）
　遷移金属化合物（Ａ）と反応してイオン対を形成する化合物（Ｂ－３）：トリフェニルカルベニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（ＡＧＣ社製）
　トルエン（和光純薬工業株式会社製：和光特級）
　５－ビニル－２－ノルボルネン（東京化成工業株式会社製）
　２－ノルボルネン（東京化成工業社製）
　アセトン（和光純薬工業株式会社製：和光特級）
　メタノール（和光純薬工業株式会社製：和光特級）

　環状オレフィン系共重合体（ｍ）：

〔合成例１：環状オレフィン系共重合体（ｍ－１）〕
　十分に窒素置換した内容積１ＬのＳＵＳ製オートクレーブに、トルエン３３９ｍＬ、５－ビニル－２－ノルボルネン（以下、ＶＮＢとも呼ぶ。）６５ｍｌ、テトラシクロ［４．４．０．１^２，５．１^７，１０］－３－ドデセン（以下、ＴＤとも呼ぶ。）９６ｍｌ、ＭＭＡＯのヘキサン溶液をＡｌ換算で１．５ｍｍｏｌ、水素９３ｍｌを挿入した後、系中にエチレンを全圧０．７５ＭＰａになるまで導入した。トルエンに溶解した遷移金属化合物（１）２．５μｍｏｌ、トルエンに溶解したトリフェニルカルベニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートを１０μｍｏｌ添加し、３５℃で３０分間反応させた後、遷移金属化合物（１）２．５μｍｏｌ、トリフェニルカルベニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートを１０μｍｏｌ追加し、更に３０分後に、遷移金属化合物（１）２．５μｍｏｌ、トリフェニルカルベニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートを１０μｍｏｌ追加し、合計１００分間重合を行った後、少量のメタノールを添加することで重合を停止した。重合終了後、得られたポリマー溶液にイオン交換水を添加して１時間攪拌した後に、有機層を濾紙でろ過して触媒を除去した。この有機層をアセトンに投入してポリマーを析出させ、攪拌後濾紙でろ過した。得られたポリマーを８０℃、１０時間で減圧乾燥し、エチレン／ＴＤ／ＶＮＢ共重合体を得た。ＮＭＲにより決定したポリマー中のＴＤ由来構造の組成比は３０ｍｏｌ％、ＶＮＢ由来構造の組成比は１６ｍｏｌ％、ＧＰＣ測定より求めた数平均分子量（Ｍｎ）は２１，０００であった。

〔合成例２：環状オレフィン系共重合体（ｍ－２）〕
　十分に窒素置換した内容積１ＬのＳＵＳ製オートクレーブに、トルエン４２５ｍＬ、ＶＮＢ２３ｍＬ、２－ノルボルネン（以下、ＮＢとも呼ぶ。）の５Ｍトルエン溶液５２ｍＬ、ＭＭＡＯのヘキサン溶液をＡｌ換算で１．５ｍｍｏｌ、水素１２４ｍＬを挿入した後、系中にエチレンを全圧０．７５ＭＰａになるまで導入した。トルエンに溶解した遷移金属化合物（１）２．５μｍｏｌ、トルエンに溶解したトリフェニルカルベニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートを１０μｍｏｌ添加し、３５℃で３０分間反応させた後、遷移金属化合物（１）２．５μｍｏｌ、トリフェニルカルベニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートを１０μｍｏｌ追加し、更に３０分後に、遷移金属化合物（１）２．５μｍｏｌ、トリフェニルカルベニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートを１０μｍｏｌ追加し、合計１００分間重合を行った後、少量のメタノールを添加することで重合を停止した。重合終了後、得られたポリマー溶液にイオン交換水を添加して１時間攪拌した後に、有機層を濾紙でろ過して触媒を除去した。この有機層をアセトンに投入してポリマーを析出させ、攪拌後濾紙でろ過した。得られたポリマーを８０℃、１０時間で減圧乾燥し、エチレン／ＮＢ／ＶＮＢ共重合体を得た。ＮＭＲより決定したポリマー中のＮＢ由来構造の組成比は４０ｍｏｌ％、ＶＮＢ由来構造の組成比は１０ｍｏｌ％、ＧＰＣ測定より求めた数平均分子量（Ｍｎ）は８，０００であった。

　〔合成例３：環状オレフィン系共重合体（ｍ－３）〕
　十分に窒素置換した内容積１ＬのＳＵＳ製オートクレーブに、トルエン４１０ｍＬ、ＶＮＢ１９ｍｌ、ＴＤ７１ｍｌ、ＭＭＡＯのトルエン溶液をＡｌ換算で１．５ｍｍｏｌ、水素７４４ｍｌを挿入した後、系中にエチレンを全圧０．７８ＭＰａになるまで導入した。トルエンに溶解した遷移金属化合物（２）４０μｍｏｌを添加し、３５℃で１８０分間重合を行った後、少量のメタノールを添加することで重合を停止した。重合終了後、得られたポリマー溶液にイオン交換水を添加して１時間攪拌した後に、有機層を濾紙でろ過して触媒を除去した。この有機層をアセトンに投入してポリマーを析出させ、攪拌後濾紙でろ過した。得られたポリマーを８０℃、１０時間で減圧乾燥し、エチレン／ＴＤ／ＶＮＢ共重合体を得た。ＮＭＲにより決定したポリマー中のＴＤ由来構造の組成比は３０ｍｏｌ％、ＶＮＢ由来構造の組成比は１２ｍｏｌ％、ＧＰＣ測定より求めた数平均分子量（Ｍｎ）は１１，０００であった。

　〔合成例４：環状オレフィン系共重合体（ｍ－４）〕
　十分に窒素置換した内容積１ＬのＳＵＳ製オートクレーブに、トルエン４３３ｍＬ、ＶＮＢ１５ｍＬ、ＮＢの５Ｍトルエン溶液５２ｍＬ、ＭＭＡＯのヘキサン溶液をＡｌ換算で１．５ｍｍｏｌ、水素１４８８ｍＬを挿入した後、系中にエチレンを全圧０．７８ＭＰａＧになるまで導入した。トルエンに溶解した遷移金属化合物（２）４μｍｏｌを添加し重合を開始した。３５℃で４０分間反応させた後、遷移金属化合物（２）４μｍｏｌを追加し、更に３０分ごとに遷移金属化合物（２）４μｍｏｌを追加する工程を更に２回繰り返し、合計１３０分間重合を行った。その後、少量のメタノールを添加することで重合を停止した。重合終了後、得られたポリマー溶液にイオン交換水を添加して１時間攪拌した後に、有機層を濾紙でろ過して触媒を除去した。この有機層をアセトンに投入してポリマーを析出させ、攪拌後濾紙でろ過した。得られたポリマーを８０℃、１０時間で減圧乾燥し、エチレン／ＮＢ／ＶＮＢ共重合体を得た。ＮＭＲより決定したポリマー中のＮＢ由来構造の組成比は３３ｍｏｌ％、ＶＮＢ由来構造の組成比は１０ｍｏｌ％、ＧＰＣ測定より求めた数平均分子量（Ｍｎ）は７，５００であった。

〔合成例５：環状オレフィン系共重合体（ｍ－５）〕
　十分に窒素置換した内容積１ＬのＳＵＳ製オートクレーブに、トルエン３４０ｍＬ、ＶＮＢ３５ｍＬ、ＮＢの５Ｍトルエン溶液８２ｍＬ、ＴＤ４４ｍＬ、ＭＭＡＯのヘキサン溶液をＡｌ換算で２ｍｍｏｌ、水素５５８ｍＬを挿入した後、系中にエチレンを全圧０．５２ＭＰａＧになるまで導入した。トルエンに溶解した遷移金属化合物（２）４．７μｍｏｌを添加し重合を開始した。３５℃で４０分間反応させた後、遷移金属化合物（２）９．３μｍｏｌを追加し、更に３０分後に遷移金属化合物（２）９．３μｍｏｌを追加した後に３０分反応させて、合計１００分間重合を行った。その後、少量のメタノールを添加することで重合を停止した。重合終了後、得られたポリマー溶液にイオン交換水を添加して１時間攪拌した後に、有機層を濾紙でろ過して触媒を除去した。この有機層をアセトンに投入してポリマーを析出させ、攪拌後濾紙でろ過した。得られたポリマーを８０℃、１０時間で減圧乾燥し、エチレン／ＴＤ／ＮＢ／ＶＮＢ共重合体を得た。ＮＭＲにより決定したポリマー中のＴＤ由来構造の組成比は１４ｍｏｌ％、ＮＢ由来構造の組成比は１７ｍｏｌ％、ＶＮＢ由来構造の組成比は１０ｍｏｌ％、ＧＰＣ測定より求めた数平均分子量（Ｍｎ）は８，４００であった。

〔合成例６：環状オレフィン系共重合体（ｍ－６）〕
　十分に窒素置換した内容積１ＬのＳＵＳ製オートクレーブに、トルエン３７８ｍＬ、ＶＮＢ７９ｍｌ、ＴＤ４３ｍｌ、ＭＭＡＯのトルエン溶液をＡｌ換算で１．５ｍｍｏｌ、水素７４４ｍｌを挿入した後、系中にエチレンを全圧０．７８ＭＰａになるまで導入した。トルエンに溶解した遷移金属化合物（２）４０μｍｏｌを添加し、３５℃で１８０分間重合を行った後、少量のメタノールを添加することで重合を停止した。重合終了後、得られたポリマー溶液にイオン交換水を添加して１時間攪拌した後に、有機層を濾紙でろ過して触媒を除去した。この有機層をアセトンに投入してポリマーを析出させ、攪拌後濾紙でろ過した。得られたポリマーを８０℃、１０時間で減圧乾燥し、エチレン／ＴＤ／ＶＮＢ共重合体を得た。ＮＭＲにより決定したポリマー中のＴＤ由来構造の組成比は１３ｍｏｌ％、ＶＮＢ由来構造の組成比は３０ｍｏｌ％、ＧＰＣ測定より求めた数平均分子量（Ｍｎ）は１１，０００であった。

〔合成例７：環状オレフィン系共重合体（ｍ－７）〕
　十分に窒素置換した内容積１ＬのＳＵＳ製オートクレーブに、トルエン２２５ｍＬ、ＶＮＢ６５ｍｌ、ＴＤ１８０ｍｌ、トリイソブチルアルミニウムのトルエン溶液をＡｌ換算で１．５ｍｍｏｌ、水素９３ｍｌを挿入した後、系中にエチレンを全圧０．７５ＭＰａになるまで導入した。トルエンに溶解した遷移金属化合物（３）２．５μｍｏｌ、トルエンに溶解したトリフェニルカルベニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートを１０μｍｏｌ添加し、３５℃で３０分間反応させた後、遷移金属化合物（１）２．５μｍｏｌ、トリフェニルカルベニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートを１０μｍｏｌ追加し、更に３０分後に、遷移金属化合物（１）２．５μｍｏｌ、トリフェニルカルベニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートを１０μｍｏｌ追加し、合計１００分間重合を行った後、少量のメタノールを添加することで重合を停止した。重合終了後、得られたポリマー溶液にイオン交換水を添加して１時間攪拌した後に、有機層を濾紙でろ過して触媒を除去した。この有機層をアセトンに投入してポリマーを析出させ、攪拌後濾紙でろ過した。得られたポリマーを８０℃、１０時間で減圧乾燥し、エチレン／ＴＤ／ＶＮＢ共重合体を得た。ＮＭＲにより決定したポリマー中のＴＤ由来構造の組成比は３０ｍｏｌ％、ＶＮＢ由来構造の組成比は１０ｍｏｌ％、ＧＰＣ測定より求めた数平均分子量（Ｍｎ）は９，０００であった。

［実施例１～４、比較例１～５］
　以下に示す方法により各ワニスを作製し、評価を行った。

（ワニスの調製）
　表１に記載の配合量（単位は質量部）で環状オレフィン共重合体（ｍ）とシクロヘキサンまたはトルエンを混合、一晩撹拌し、ワニス状の環状オレフィン系共重合体樹脂組成物を得た。

（立体規則性）
　^１３Ｃ－ＮＭＲ測定を行い、４３．８ｐｐｍ以上４５．０ｐｐｍ以下の範囲のシグナルの積分値をＸ_Ｃ、４０．３ｐｐｍ以上４１．３ｐｐｍ以下の範囲のシグナルの積分値をＹ_Ａ、３８．４ｐｐｍ以上３９．９ｐｐｍ以下の範囲のシグナルの積分値の合計をＸ_Ｂとしたときの、（Ｘ_Ｂ－Ｘ_Ｃ）／Ｙ_Ａの値を算出した。

　ここで、ワニスの安定性について、以下のように評価した。
　温度２２～２７℃、湿度３０～７０％の環境下で静置２週間後、析出物がなくかつゲル化がみられなかったワニスは「Ａ」、上記環境下で静置２週間後、析出物はないがゲル化がみられたワニスは「Ｂ」、一晩攪拌後の時点で溶け残りがある、または上記環境下で静置２週間後に析出物があるものは「Ｃ」とした。

　表１において、立体規則性の列の「－」は、（Ｘ_Ｂ－Ｘ_Ｃ）／Ｙ_Ａの値を測定できなかったことを示す。

　この出願は、２０２２年６月２７日に出願された日本出願特願２０２２－１０２９０１号を基礎とする優先権を主張し、その開示の全てをここに取り込む。

Claims

　環状オレフィン系共重合体（ｍ）と、
　有機溶媒と
を含む、ワニス状の環状オレフィン系共重合体組成物を製造する方法であって、
　前記環状オレフィン系共重合体（ｍ）は、
　　（Ａ）下記一般式（Ｉ）で表される１種以上のオレフィン由来の繰り返し単位と、
　　（Ｂ）下記一般式（ＩＩＩ）で表される１種以上の環状非共役ジエン由来の繰り返し単位と、
　　（Ｃ）下記一般式（Ｖ）で表される１種以上の環状オレフィン由来の繰り返し単位と、を含み、

〔上記一般式（Ｉ）において、Ｒ^３００は水素原子または炭素原子数１～２９の直鎖状または分岐状の炭化水素基を示す。〕

〔上記一般式（ＩＩＩ）中、ｕは０または１であり、ｖは０または正の整数であり、ｗは０または１であり、Ｒ^６１～Ｒ^７６ならびにＲ^ａ１およびＲ^ｂ１は互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１～２０のアルキル基、炭素原子数１～２０のハロゲン化アルキル基、炭素原子数３～１５のシクロアルキル基または炭素原子数６～２０の芳香族炭化水素基であり、Ｒ^１０４は水素原子または炭素原子数１～１０のアルキル基であり、ｔは０～１０の正の整数であり、Ｒ^７５およびＲ^７６は互いに結合し
て単環または多環を形成していてもよい。〕

〔上記一般式（Ｖ）中、ｕは０または１であり、ｖは０または正の整数であり、ｗは０または１であり、Ｒ^６１～Ｒ^７８ならびにＲ^ａ１およびＲ^ｂ１は互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１～２０のアルキル基、炭素原子数１～２０のハロゲン化アルキル基、炭素原子数３～１５のシクロアルキル基または炭素原子数６～２０の芳香族炭化水素基であり、Ｒ^７５～Ｒ^７８は互いに結合して単環または多環を形成していてもよい。〕
　前記方法が、
　遷移金属化合物（Ａ）と化合物（Ｂ）とを含有するオレフィン重合用触媒の存在下において、オレフィンと、環状非共役ジエンと、環状オレフィンとを共重合させる重合工程を備え、
　前記遷移金属化合物（Ａ）は、
　　下記の式（ＩＩ）で示される遷移金属化合物（Ａ－１）、および
　　下記の式（ＶＩ）で示される遷移金属化合物（Ａ－２）からなる群から選択される一種または二種以上を含有し、

〔前記式（ＩＩ）において、
　Ｍ^２は、周期律表４族の遷移金属原子を示し、
　ｎ^１は、１～３の整数を示し、
　Ｌは、それぞれ独立に、周期律表１５族の原子が配位原子となる１価のアニオン性配位子を示し、
　Ｘ^１は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、ハロゲン含有基、酸素含有基、硫黄含有基、窒素含有基、リン含有基、ケイ素含有基、ホウ素含有基およびアルミニウム含有基からなる群、ならびにそれらの置換体からなる群より選択される基または原子を示し、
　Ｒ^５～Ｒ^９は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、ハロゲン含有基、酸素含有基、硫黄含有基、窒素含有基、リン含有基、ケイ素含有基、ホウ素含有基およびアルミニウム含有基からなる群、ならびにそれらの置換体からなる群より選択される基または原子を示し、Ｒ^５～Ｒ^９のうち任意の２つまたは３つが縮合し環を形成していてもよく、形成される環は共役二重結合を含む芳香族性を有するものでもよい。〕

〔前記式（ＶＩ）において、
　Ｍ^３は、周期律表４族の遷移金属原子を示し、
　ｎ^２は、１～４の整数を示し、
　Ｘ^２は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、ハロゲン含有基、酸素含有基、硫黄含有基、窒素含有基、リン含有基、ケイ素含有基、ホウ素含有基およびアルミニウム含有基からなる群、ならびにそれらの置換体からなる群より選択される原子または基を示し、
　Ｒ^１０～Ｒ^１７は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、ハロゲン含有基、酸素含有基、硫黄含有基、窒素含有基、リン含有基、ケイ素含有基、ホウ素含有基およびアルミニウム含有基からなる群、ならびにそれらの置換体からなる群より選択される原子または基を示し、Ｒ^１０～Ｒ^１７のうち隣接するもの同士は互いに結合して環を形成していてもよく、形成される環は共役二重結合を含む芳香族性を有するものでもよい。〕
　前記化合物（Ｂ）は、
　　有機金属化合物（Ｂ－１）、
　　有機アルミニウムオキシ化合物（Ｂ－２）、および
　　前記遷移金属化合物（Ａ）と反応してイオン対を形成する化合物（Ｂ－３）からなる群より選択される一種または二種以上を含有する
ことを特徴とする、ワニス状の環状オレフィン系共重合体組成物の製造方法。
　前記ワニス状の環状オレフィン系共重合体組成物中の前記環状オレフィン系共重合体（ｍ）の含有量が、３０質量％以上である、請求項１に記載の製造方法。
　前記有機溶媒が、芳香族炭化水素系溶媒、環式炭化水素系溶媒、直鎖式炭化水素系溶媒およびハロゲン化芳香族炭化水素溶媒からなる群から選択される少なくとも一種を含む、請求項１または２に記載の製造方法。
　前記環状オレフィン系共重合体（ｍ）中の繰り返し単位の合計モル数を１００モル％とした場合に、前記オレフィン由来の繰り返し単位（Ａ）の含有量が１０モル％以上９０モル％以下、前記環状非共役ジエン由来の繰り返し単位（Ｂ）の含有量が１モル％以上４０モル％以下、および前記環状オレフィン由来の繰り返し単位（Ｃ）の含有量が１モル％以上５０モル％以下である請求項１～３のいずれかに記載の製造方法。
　前記環状非共役ジエン由来の繰り返し単位（Ｂ）を構成する環状非共役ジエンが、５－ビニル－２－ノルボルネンを含む、請求項１～４のいずれかに記載の製造方法。
　前記環状オレフィン由来の構造単位（Ｃ）を構成する環状オレフィンが、テトラシクロ［４．４．０．１^２，５．１^７，１０］－３－ドデセンおよびビシクロ［２．２．１］－２－ヘプテンからなる群から選択される少なくとも一種を含む、請求項１～５のいずれかに記載の製造方法。
　前記方法が、前記オレフィン重合用触媒を除去する触媒除去工程をさらに備える、請求項１～６のいずれかに記載の製造方法。
　前記環状オレフィン系共重合体（ｍ）の^１３Ｃ－ＮＭＲスペクトルにおいて、
　　４３．８ｐｐｍ以上４５．０ｐｐｍ以下の範囲のシグナルの積分値をＸ_Ｃ、
　　４０．３ｐｐｍ以上４１．３ｐｐｍ以下の範囲のシグナルの積分値をＹ_Ａ、
　　３８．４ｐｐｍ以上３９．９ｐｐｍ以下の範囲のシグナルの積分値をＸ_Ｂ、
としたとき、（Ｘ_Ｂ－Ｘ_Ｃ）／Ｙ_Ａの値が０．２以上２．０以下である、請求項１～７のいずれかに記載の製造方法。
　前記環状オレフィン系共重合体（ｍ）の、示差走査熱量計（ＤＳＣ）で測定したガラス転移温度が１００℃以上である、請求項１～８のいずれかに記載の製造方法。
　請求項１～９のいずれかに記載の製造方法により得られた環状オレフィン系共重合体組成物。
　請求項１０に記載の環状オレフィン系共重合体組成物を架橋して得られる架橋体。
　請求項１１に記載の架橋体を含むフィルムまたはシート。
　請求項１２に記載のフィルムまたはシートを基材に積層した積層体。
　請求項１１に記載の架橋体を含む電気絶縁層と、前記電気絶縁層上に設けられた導体層とを含む回路基板。
　請求項１４に記載の回路基板を備えた電子機器。
　請求項１０に記載の環状オレフィン系共重合体組成物と、シート状繊維基材と、を含むプリプレグ。
　環状オレフィン系共重合体（ｍ）と、
　有機溶媒と
を含む、ワニス状の環状オレフィン系共重合体組成物であって、
　前記環状オレフィン系共重合体（ｍ）は、
　　（Ａ）下記一般式（Ｉ）で表される１種以上のオレフィン由来の繰り返し単位と、
　　（Ｂ）下記一般式（ＩＩＩ）で表される１種以上の環状非共役ジエン由来の繰り返し単位と、
　　（Ｃ）下記一般式（Ｖ）で表される１種以上の環状オレフィン由来の繰り返し単位と、を含み、

〔上記一般式（Ｉ）において、Ｒ^３００は水素原子または炭素原子数１～２９の直鎖状または分岐状の炭化水素基を示す。〕

〔上記一般式（ＩＩＩ）中、ｕは０または１であり、ｖは０または正の整数であり、ｗは０または１であり、Ｒ^６１～Ｒ^７６ならびにＲ^ａ１およびＲ^ｂ１は互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１～２０のアルキル基、炭素原子数１～２０のハロゲン化アルキル基、炭素原子数３～１５のシクロアルキル基または炭素原子数６～２０の芳香族炭化水素基であり、Ｒ^１０４は水素原子または炭素原子数１～１０のアルキル基であり、ｔは０～１０の正の整数であり、Ｒ^７５およびＲ^７６は互いに結合し
て単環または多環を形成していてもよい。〕

〔上記一般式（Ｖ）中、ｕは０または１であり、ｖは０または正の整数であり、ｗは０または１であり、Ｒ^６１～Ｒ^７８ならびにＲ^ａ１およびＲ^ｂ１は互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１～２０のアルキル基、炭素原子数１～２０のハロゲン化アルキル基、炭素原子数３～１５のシクロアルキル基または炭素原子数６～２０の芳香族炭化水素基であり、Ｒ^７５～Ｒ^７８は互いに結合して単環または多環を形成していてもよい。〕
　前記環状オレフィン系共重合体（ｍ）の^１３Ｃ－ＮＭＲスペクトルにおいて、
　　４３．８ｐｐｍ以上４５．０ｐｐｍ以下の範囲のシグナルの積分値をＸ_Ｃ、
　　４０．３ｐｐｍ以上４１．３ｐｐｍ以下の範囲のシグナルの積分値をＹ_Ａ、
　　３８．４ｐｐｍ以上３９．９ｐｐｍ以下の範囲のシグナルの積分値の合計をＸ_Ｂ、
としたとき、（Ｘ_Ｂ－Ｘ_Ｃ）／Ｙ_Ａの値が０．２以上２．０以下である、ワニス状の環状オレフィン系共重合体組成物。
　前記環状オレフィン系共重合体（ｍ）の、示差走査熱量計（ＤＳＣ）で測定したガラス転移温度が１００℃以上である、請求項１６に記載のワニス状の環状オレフィン系共重合体組成物。
　前記ワニス状の環状オレフィン系共重合体組成物中の前記環状オレフィン系共重合体（ｍ）の含有量が、３０質量％以上である、請求項１７または１８に記載のワニス状の環状オレフィン系共重合体組成物。
　前記有機溶媒が、芳香族炭化水素系溶媒、環式炭化水素系溶媒、直鎖式炭化水素系溶媒およびハロゲン化芳香族炭化水素溶媒からなる群から選択される少なくとも一種を含む、請求項１７～１９のいずれかに記載のワニス状の環状オレフィン系共重合体組成物。
　前記環状オレフィン系共重合体（ｍ）中の繰り返し単位の合計モル数を１００モル％とした場合に、前記オレフィン由来の繰り返し単位（Ａ）の含有量が１０モル％以上９０モル％以下、前記環状非共役ジエン由来の繰り返し単位（Ｂ）の含有量が１モル％以上４０モル％以下、および前記環状オレフィン由来の繰り返し単位（Ｃ）の含有量が１モル％以上５０モル％以下である請求項１７～２０のいずれかに記載のワニス状の環状オレフィン系共重合体組成物。
　前記環状非共役ジエン由来の繰り返し単位（Ｂ）を構成する環状非共役ジエンが、５－ビニル－２－ノルボルネンを含む、請求項１７～２１のいずれかに記載のワニス状の環状オレフィン系共重合体組成物。
　前記環状オレフィン由来の構造単位（Ｃ）を構成する環状オレフィンが、テトラシクロ［４．４．０．１^２，５．１^７，１０］－３－ドデセンおよびビシクロ［２．２．１］－２－ヘプテンからなる群から選択される少なくとも一種を含む、請求項１７～２２のいずれかに記載のワニス状の環状オレフィン系共重合体組成物。
　前記オレフィン由来の繰り返し単位（Ａ）を構成するオレフィンがエチレンを含み、
　前記環状非共役ジエン由来の繰り返し単位（Ｂ）を構成する環状非共役ジエンが５－ビニル－２－ノルボルネンを含み、
　前記環状オレフィン由来の構造単位（Ｃ）を構成する環状オレフィンがテトラシクロ［４．４．０．１^２，５．１^７，１０］－３－ドデセンを含む、請求項１７～２３のいずれかに記載のワニス状の環状オレフィン系共重合体組成物。
　請求項１７～２４のいずれかに記載のワニス状の環状オレフィン系共重合体組成物を架橋して得られる架橋体。
　請求項２５に記載の架橋体を含むフィルムまたはシート。
　請求項２６に記載のフィルムまたはシートを基材に積層した積層体。
　請求項２５に記載の架橋体を含む電気絶縁層と、前記電気絶縁層上に設けられた導体層とを含む回路基板。
　請求項２８に記載の回路基板を備えた電子機器。
　請求項１７～２４のいずれかに記載のワニス状の環状オレフィン系共重合体組成物と、シート状繊維基材と、を含むプリプレグ。