JP2021188027A - 環状オレフィン系共重合体組成物およびその架橋体 - Google Patents
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Abstract
【課題】環状オレフィン系共重合体の優れた誘電特性を維持しながら耐熱老化性を向上させることができる環状オレフィン系共重合体組成物を提供する。【解決手段】環状オレフィン系共重合体(m)と、ヒンダードフェノール(X)と、ピペリジル基を有するヒンダードアミン系化合物(Y)と、を含む環状オレフィン系共重合体組成物であって、環状オレフィン系共重合体(m)は、1種以上のオレフィン由来の繰り返し単位と、1種以上の環状非共役ジエン由来の繰り返し単位と、1種以上の環状オレフィン由来の繰り返し単位と、特定の割合で含み、当該環状オレフィン系共重合体組成物に含まれる環状オレフィン系共重合体(m)の含有量を100質量部としたとき、当該環状オレフィン系共重合体組成物中のヒンダードアミン系化合物(Y)の含有量が、0.01質量部以上5質量部以下である。【選択図】なし
Description
本発明は、環状オレフィン系共重合体組成物およびその架橋体に関する。
環状オレフィン系共重合体は耐熱性、機械的特性、透明性、誘電特性、耐溶剤性、成形性、寸法安定性等に優れているため、種々の分野に利用されている(例えば、特許文献1および2参照)。
また近年、環状オレフィン系重合体は、耐熱性および誘電特性のバランスに優れていることから、例えば、プリント配線基板等の電子部品用の材料としても検討され始めている(例えば、特許文献2および3参照)。
特許文献2には、架橋性基を有する環状オレフィン系共重合体が記載されている。この環状オレフィン系共重合体の架橋体は、誘電特性の経時安定性に優れ、かつ、耐熱性、透明性、機械的特性等にも優れるので、高周波回路基板等の高周波用途に好適に用いることができると記載されている。
特許文献3には、環状オレフィン系樹脂、有機過酸化物、架橋助剤および粉末状赤りんからなる架橋性樹脂組成物が記載されている。この架橋性樹脂組成物を加熱・架橋して得られる架橋樹脂成形品は、高周波帯域での誘電特性とはんだ耐熱性とを有し、かつ、難燃性が高く、機械的強度も高いので、プリント配線基板やコンピューター部品等の、特に、誘電特性、耐熱性、難燃性および機械的物性等が要求される用途に好適に用いることができると記載されている。
本発明者らの検討によれば、特許文献2に記載されているような架橋性基を有する環状オレフィン系共重合体により構成される架橋体は、高温に曝されることにより誘電特性が徐々に悪化してしまうことが明らかになった。すなわち、架橋性基を有する環状オレフィン系共重合体により構成される架橋体は、耐熱老化性に劣っていた。
また、特許文献3に記載されているような環状オレフィン系樹脂により構成される架橋体は、この架橋体を構成する樹脂組成物の主成分である環状オレフィン系樹脂が架橋性基をもたないため、架橋反応性に劣り、耐熱性の点で改善の余地が残る。
さらに、本発明者らの検討によれば、特許文献2に記載されているような架橋性基を有する環状オレフィン系共重合体により構成される架橋体の耐熱老化性を改善するために、環状オレフィン系共重合体に配合する耐熱安定剤の量を増やすと、今度は誘電特性が悪化してしまう場合があることが明らかになった。
以上から、架橋性基を有する環状オレフィン系共重合体により構成される架橋体には、環状オレフィン系共重合体の優れた誘電特性を維持しながら耐熱老化性を向上させるという点で改善の余地があった。
また、特許文献3に記載されているような環状オレフィン系樹脂により構成される架橋体は、この架橋体を構成する樹脂組成物の主成分である環状オレフィン系樹脂が架橋性基をもたないため、架橋反応性に劣り、耐熱性の点で改善の余地が残る。
さらに、本発明者らの検討によれば、特許文献2に記載されているような架橋性基を有する環状オレフィン系共重合体により構成される架橋体の耐熱老化性を改善するために、環状オレフィン系共重合体に配合する耐熱安定剤の量を増やすと、今度は誘電特性が悪化してしまう場合があることが明らかになった。
以上から、架橋性基を有する環状オレフィン系共重合体により構成される架橋体には、環状オレフィン系共重合体の優れた誘電特性を維持しながら耐熱老化性を向上させるという点で改善の余地があった。
本発明は上記事情に鑑みてなされたものであり、環状オレフィン系共重合体の優れた誘電特性を維持しながら耐熱老化性を向上させることができる環状オレフィン系共重合体組成物を提供するものである。
本発明者らは上記課題を解決すべく鋭意検討した結果、架橋性基を有する環状オレフィン系共重合体に対し、特定のヒンダードフェノール(X)と、特定のピペリジル基を有するヒンダートアミン系化合物を特定の割合で混合することにより、環状オレフィン系共重合体の優れた誘電特性を維持しながら耐熱老化性が向上することを見出し、本発明を完成させた。
本発明は以下に示すとおりである。
[1]
環状オレフィン系共重合体(m)と、下記一般式(1)で表されるヒンダードフェノール(X)と、下記一般式(2)で表されるピペリジル基を有するヒンダードアミン系化合物(Y)と、を含む環状オレフィン系共重合体組成物であって、
上記環状オレフィン系共重合体(m)は、
(A)下記一般式(I)で表される1種以上のオレフィン由来の繰り返し単位と、
(B)下記一般式(III)で表される1種以上の環状非共役ジエン由来の繰り返し単
位と、
(C)下記一般式(V)で表される1種以上の環状オレフィン由来の繰り返し単位と、を含み、
上記環状オレフィン系共重合体(m)中の繰り返し単位の合計モル数を100モル%とした場合に、上記オレフィン由来の繰り返し単位(A)の含有量が10モル%以上90モル%以下、上記環状非共役ジエン由来の繰り返し単位(B)の含有量が1モル%以上40モル%以下、および上記環状オレフィン由来の繰り返し単位(C)の含有量が1モル%以上30モル%以下であり、
当該環状オレフィン系共重合体組成物に含まれる上記環状オレフィン系共重合体(m)の含有量を100質量部としたとき、当該環状オレフィン系共重合体組成物中の上記ヒンダードアミン系化合物(Y)の含有量が、0.01質量部以上5質量部以下である環状オレフィン系共重合体組成物。
〔上記一般式(I)において、R300は水素原子または炭素原子数1〜29の直鎖状または分岐状の炭化水素基を示す。〕
〔上記一般式(III)中、uは0または1であり、vは0または正の整数であり、wは0
または1であり、R61〜R76ならびにRa1およびRb1は互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数1〜20のアルキル基、炭素原子数1〜20のハロゲン化アルキル基、炭素原子数3〜15のシクロアルキル基または炭素原子数6〜20の芳香族炭化水素基であり、R104は水素原子または炭素原子数1〜10のアルキル基であり、tは0〜10の正の整数であり、R75およびR76は互いに結合し
て単環または多環を形成していてもよい。〕
〔上記一般式(V)中、uは0または1であり、vは0または正の整数であり、wは0または1であり、R61〜R78ならびにRa1およびRb1は互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数1〜20のアルキル基、炭素原子数1〜20のハロゲン化アルキル基、炭素原子数3〜15のシクロアルキル基または炭素原子数6〜20の芳香族炭化水素基であり、R75〜R78は互いに結合して単環または多環を形成していてもよい。〕
〔上記一般式(1)において、Xは有機基である。〕
〔上記一般式(2)において、Xは水素原子、オキシラジカル基、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、またはヒドロキシ基であり、R1、R2、R3およびR4はそれぞれ独立に水素原子、またはアルキル基ある。〕
[2]
上記ヒンダードフェノール(X)の有機基Xが、炭素原子数1〜20の置換または未置換のアルキル基、シクロヘキシル基、あるいは炭素原子数6〜20の置換または未置換のアリール基であり、
上記アルキル基、上記シクロヘキシル基、および上記アリール基が有する置換基は、炭素原子数1〜12のアルキル基、炭素原子数6〜12のアリール基、ヒドロキシ基、メトキシ基、およびオキサジアゾール基からなる群より選ばれる、上記[1]に環状オレフィン系共重合体組成物。
[3]
上記ヒンダードフェノール(X)の有機基Xが、メチル基、エチル基、n−プロピル基、n−オクチル基、n−テトラデシル基、n−ヘキサデシル基、2,4−ジ−t−ブチル
フェニル基、および2,4−ジ−t−ペンチルフェニル基からなる群より選ばれる基であ
る、上記[1]又は[2]に記載の環状オレフィン系共重合体組成物。
[4]
上記環状非共役ジエン由来の繰り返し単位(B)を構成する環状非共役ジエンが、5−ビニル−2−ノルボルネンまたは8−ビニル−9−メチルテトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]−3−ドデセンである上記[1]乃至[3]のいずれか一つに記載の環状オレフィン系共重合体組成物。
[5]
上記環状オレフィン由来の繰り返し単位(C)を構成する環状オレフィンが、ビシクロ[2.2.1]−2−ヘプテンまたはテトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]−3−ドデセンである上記[1]乃至[4]のいずれか一つに記載の環状オレフィン系
共重合体組成物。
[6]
上記環状オレフィン系共重合体(m)とは異なる環状オレフィン系重合体(n)をさらに含み、
上記環状オレフィン系重合体(n)は、エチレンまたはα−オレフィンと環状オレフィンとの共重合体(n1)(ただし、上記共重合体(n1)は下記一般式(III)で表され
る環状非共役ジエン由来の繰り返し単位を含まない)および環状オレフィンの開環重合体(n2)から選択される少なくとも一種を含み、
上記環状オレフィン系共重合体(m)と上記環状オレフィン系重合体(n)との合計量を100質量%としたとき、
上記環状オレフィン系重合体(m)の含有量が5質量%以上95質量%以下であり、上記環状オレフィン系重合体(n)の含有量が5質量%以上95質量%以下である上記[1]乃至[5]のいずれか一つに記載の環状オレフィン系共重合体組成物。
〔上記一般式(III)中、uは0または1であり、vは0または正の整数であり、wは0
または1であり、R61〜R76ならびにRa1およびRb1は互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数1〜20のアルキル基、炭素原子数1〜20のハロゲン化アルキル基、炭素原子数3〜15のシクロアルキル基または炭素原子数6〜20の芳香族炭化水素基であり、R104は水素原子または炭素原子数1〜10のアルキル基であり、tは0〜10の正の整数であり、R75およびR76は互いに結合し
て単環または多環を形成していてもよい。〕
[7]
上記ヒンダードアミン系化合物(Y)の分子量は1000以上である上記[1]乃至[6]のいずれか一つに記載の環状オレフィン系共重合体組成物。
[8]
上記[1]乃至[7]のいずれか一つに記載の環状オレフィン系共重合体組成物と溶媒を含有するワニス。
[9]
上記[1]乃至[7]のいずれか一つに記載の環状オレフィン系共重合体組成物の架橋体。
[10]
上記[9]に記載の架橋体を含むフィルムまたはシート。
[11]
上記[10]に記載のフィルムまたはシートを基材に積層した積層体。
[12]
上記[1]乃至[7]のいずれか一つに記載の環状オレフィン系共重合体組成物とシート状繊維基材とを含むプリプレグ。
[13]
上記[10]に記載のフィルムまたはシート、上記[11]に記載の積層体、および上記[12]に記載のプリプレグから選択される少なくとも一種と、金属箔と、を積層してなる金属張積層板。
[14]
上記[10]に記載のフィルムまたはシート、上記[11]に記載の積層体、および上記[12]に記載のプリプレグから選択される少なくとも一種により形成された電気絶縁層と、上記電気絶縁層上に設けられた導体層とを備えるプリント配線基板。
[15]
上記[14]に記載のプリント配線基板を備えた電子機器。
環状オレフィン系共重合体(m)と、下記一般式(1)で表されるヒンダードフェノール(X)と、下記一般式(2)で表されるピペリジル基を有するヒンダードアミン系化合物(Y)と、を含む環状オレフィン系共重合体組成物であって、
上記環状オレフィン系共重合体(m)は、
(A)下記一般式(I)で表される1種以上のオレフィン由来の繰り返し単位と、
(B)下記一般式(III)で表される1種以上の環状非共役ジエン由来の繰り返し単
位と、
(C)下記一般式(V)で表される1種以上の環状オレフィン由来の繰り返し単位と、を含み、
上記環状オレフィン系共重合体(m)中の繰り返し単位の合計モル数を100モル%とした場合に、上記オレフィン由来の繰り返し単位(A)の含有量が10モル%以上90モル%以下、上記環状非共役ジエン由来の繰り返し単位(B)の含有量が1モル%以上40モル%以下、および上記環状オレフィン由来の繰り返し単位(C)の含有量が1モル%以上30モル%以下であり、
当該環状オレフィン系共重合体組成物に含まれる上記環状オレフィン系共重合体(m)の含有量を100質量部としたとき、当該環状オレフィン系共重合体組成物中の上記ヒンダードアミン系化合物(Y)の含有量が、0.01質量部以上5質量部以下である環状オレフィン系共重合体組成物。
または1であり、R61〜R76ならびにRa1およびRb1は互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数1〜20のアルキル基、炭素原子数1〜20のハロゲン化アルキル基、炭素原子数3〜15のシクロアルキル基または炭素原子数6〜20の芳香族炭化水素基であり、R104は水素原子または炭素原子数1〜10のアルキル基であり、tは0〜10の正の整数であり、R75およびR76は互いに結合し
て単環または多環を形成していてもよい。〕
[2]
上記ヒンダードフェノール(X)の有機基Xが、炭素原子数1〜20の置換または未置換のアルキル基、シクロヘキシル基、あるいは炭素原子数6〜20の置換または未置換のアリール基であり、
上記アルキル基、上記シクロヘキシル基、および上記アリール基が有する置換基は、炭素原子数1〜12のアルキル基、炭素原子数6〜12のアリール基、ヒドロキシ基、メトキシ基、およびオキサジアゾール基からなる群より選ばれる、上記[1]に環状オレフィン系共重合体組成物。
[3]
上記ヒンダードフェノール(X)の有機基Xが、メチル基、エチル基、n−プロピル基、n−オクチル基、n−テトラデシル基、n−ヘキサデシル基、2,4−ジ−t−ブチル
フェニル基、および2,4−ジ−t−ペンチルフェニル基からなる群より選ばれる基であ
る、上記[1]又は[2]に記載の環状オレフィン系共重合体組成物。
[4]
上記環状非共役ジエン由来の繰り返し単位(B)を構成する環状非共役ジエンが、5−ビニル−2−ノルボルネンまたは8−ビニル−9−メチルテトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]−3−ドデセンである上記[1]乃至[3]のいずれか一つに記載の環状オレフィン系共重合体組成物。
[5]
上記環状オレフィン由来の繰り返し単位(C)を構成する環状オレフィンが、ビシクロ[2.2.1]−2−ヘプテンまたはテトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]−3−ドデセンである上記[1]乃至[4]のいずれか一つに記載の環状オレフィン系
共重合体組成物。
[6]
上記環状オレフィン系共重合体(m)とは異なる環状オレフィン系重合体(n)をさらに含み、
上記環状オレフィン系重合体(n)は、エチレンまたはα−オレフィンと環状オレフィンとの共重合体(n1)(ただし、上記共重合体(n1)は下記一般式(III)で表され
る環状非共役ジエン由来の繰り返し単位を含まない)および環状オレフィンの開環重合体(n2)から選択される少なくとも一種を含み、
上記環状オレフィン系共重合体(m)と上記環状オレフィン系重合体(n)との合計量を100質量%としたとき、
上記環状オレフィン系重合体(m)の含有量が5質量%以上95質量%以下であり、上記環状オレフィン系重合体(n)の含有量が5質量%以上95質量%以下である上記[1]乃至[5]のいずれか一つに記載の環状オレフィン系共重合体組成物。
または1であり、R61〜R76ならびにRa1およびRb1は互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数1〜20のアルキル基、炭素原子数1〜20のハロゲン化アルキル基、炭素原子数3〜15のシクロアルキル基または炭素原子数6〜20の芳香族炭化水素基であり、R104は水素原子または炭素原子数1〜10のアルキル基であり、tは0〜10の正の整数であり、R75およびR76は互いに結合し
て単環または多環を形成していてもよい。〕
[7]
上記ヒンダードアミン系化合物(Y)の分子量は1000以上である上記[1]乃至[6]のいずれか一つに記載の環状オレフィン系共重合体組成物。
[8]
上記[1]乃至[7]のいずれか一つに記載の環状オレフィン系共重合体組成物と溶媒を含有するワニス。
[9]
上記[1]乃至[7]のいずれか一つに記載の環状オレフィン系共重合体組成物の架橋体。
[10]
上記[9]に記載の架橋体を含むフィルムまたはシート。
[11]
上記[10]に記載のフィルムまたはシートを基材に積層した積層体。
[12]
上記[1]乃至[7]のいずれか一つに記載の環状オレフィン系共重合体組成物とシート状繊維基材とを含むプリプレグ。
[13]
上記[10]に記載のフィルムまたはシート、上記[11]に記載の積層体、および上記[12]に記載のプリプレグから選択される少なくとも一種と、金属箔と、を積層してなる金属張積層板。
[14]
上記[10]に記載のフィルムまたはシート、上記[11]に記載の積層体、および上記[12]に記載のプリプレグから選択される少なくとも一種により形成された電気絶縁層と、上記電気絶縁層上に設けられた導体層とを備えるプリント配線基板。
[15]
上記[14]に記載のプリント配線基板を備えた電子機器。
本発明によれば、環状オレフィン系共重合体の優れた誘電特性を維持しながら耐熱老化性を向上させることができる環状オレフィン系共重合体組成物を提供することができる。
以下、本発明を実施形態に基づいて説明する。なお、本実施形態では、数値範囲を示す「A〜B」はとくに断りがなければ、A以上B以下を表す。
まず、本発明に係る実施形態の環状オレフィン系共重合体組成物について説明する。
本実施形態に係る環状オレフィン系共重合体組成物は、環状オレフィン系共重合体(m)と、下記一般式(1)で表されるヒンダードフェノール(X)と、下記一般式(2)で表されるピペリジル基を有するヒンダードアミン系化合物(Y)と、を含有する。
本実施形態に係る環状オレフィン系共重合体組成物に含まれる環状オレフィン系共重合体(m)の含有量を100質量部としたとき、当該環状オレフィン系共重合体組成物中のヒンダードアミン系化合物(Y)の含有量は0.01質量部以上であり、好ましくは0.02質量部以上であり、より好ましくは0.05質量部以上、特に好ましくは0.08質量部以上である。ヒンダードアミン系化合物(Y)の含有量が上記下限値以上であると、環状オレフィン系共重合体組成物の耐熱老化性を向上させることができる。
また、本実施形態に係る環状オレフィン系共重合体組成物に含まれる環状オレフィン系共重合体(m)の含有量を100質量部としたとき、当該環状オレフィン系共重合体組成物中のヒンダードアミン系化合物(Y)の含有量は5質量部以下であり、好ましくは2質量部以下であり、より好ましくは1質量部以下である。ヒンダードアミン系化合物(Y)の含有量が上記上限値以下であると、環状オレフィン系共重合体組成物の誘電特性の悪化を抑制することができる。
本実施形態に係る環状オレフィン系共重合体組成物によれば、環状オレフィン系共重合体の優れた誘電特性を維持しながら耐熱老化性を向上させることができる。
この理由は必ずしも明らかではないが、以下のように考えられる。即ち、ヒンダードフェノール(X)は、環状オレフィン系樹脂が長期間高温にさらされたときに発生するラジカル種の中でも、過酸化物ラジカルを捕捉し、樹脂の酸化劣化を抑制する。またベンゾエート骨格を有するヒンダードフェノール(X)は環状オレフィンとの相溶性が良好で、耐熱老化性を向上させる効果が高いと考えられる。
一方、ヒンダードアミン系化合物(Y)は、特にアルキルラジカルを効率的に捕捉し、樹脂の酸化劣化を抑制する。特に一定以上の分子量を有するヒンダードアミン系化合物(Y)は、環状オレフィン系樹脂中での安定性が高く、長期間にわたって効果を発揮すると考えられる。
これらを特定の割合で混合することにより、より長期間にわたって優れた耐熱老化性を示す環状オレフィン系樹脂組成物を得ることが可能である。
本実施形態に係る環状オレフィン系共重合体組成物は、環状オレフィン系共重合体(m)と、下記一般式(1)で表されるヒンダードフェノール(X)と、下記一般式(2)で表されるピペリジル基を有するヒンダードアミン系化合物(Y)と、を含有する。
本実施形態に係る環状オレフィン系共重合体組成物に含まれる環状オレフィン系共重合体(m)の含有量を100質量部としたとき、当該環状オレフィン系共重合体組成物中のヒンダードアミン系化合物(Y)の含有量は0.01質量部以上であり、好ましくは0.02質量部以上であり、より好ましくは0.05質量部以上、特に好ましくは0.08質量部以上である。ヒンダードアミン系化合物(Y)の含有量が上記下限値以上であると、環状オレフィン系共重合体組成物の耐熱老化性を向上させることができる。
また、本実施形態に係る環状オレフィン系共重合体組成物に含まれる環状オレフィン系共重合体(m)の含有量を100質量部としたとき、当該環状オレフィン系共重合体組成物中のヒンダードアミン系化合物(Y)の含有量は5質量部以下であり、好ましくは2質量部以下であり、より好ましくは1質量部以下である。ヒンダードアミン系化合物(Y)の含有量が上記上限値以下であると、環状オレフィン系共重合体組成物の誘電特性の悪化を抑制することができる。
本実施形態に係る環状オレフィン系共重合体組成物によれば、環状オレフィン系共重合体の優れた誘電特性を維持しながら耐熱老化性を向上させることができる。
この理由は必ずしも明らかではないが、以下のように考えられる。即ち、ヒンダードフェノール(X)は、環状オレフィン系樹脂が長期間高温にさらされたときに発生するラジカル種の中でも、過酸化物ラジカルを捕捉し、樹脂の酸化劣化を抑制する。またベンゾエート骨格を有するヒンダードフェノール(X)は環状オレフィンとの相溶性が良好で、耐熱老化性を向上させる効果が高いと考えられる。
一方、ヒンダードアミン系化合物(Y)は、特にアルキルラジカルを効率的に捕捉し、樹脂の酸化劣化を抑制する。特に一定以上の分子量を有するヒンダードアミン系化合物(Y)は、環状オレフィン系樹脂中での安定性が高く、長期間にわたって効果を発揮すると考えられる。
これらを特定の割合で混合することにより、より長期間にわたって優れた耐熱老化性を示す環状オレフィン系樹脂組成物を得ることが可能である。
本実施形態に係る環状オレフィン系共重合体組成物に含まれる環状オレフィン系重合体の含有量の合計は、環状オレフィン系共重合体組成物の全体を100質量%としたとき、好ましくは20質量%以上、より好ましくは30質量%以上、さらに好ましくは40質量%以上、さらにより好ましくは50質量%以上、特に好ましくは60質量%以上である。これにより、耐熱性、機械的特性、透明性、誘電特性、耐溶剤性、成形性および寸法安定性等のバランスをより良好にすることができる。本実施形態に係る環状オレフィン系共重合体組成物に含まれる環状オレフィン系重合体の含有量の合計の上限値は特に限定されないが、例えば、100質量%未満、好ましくは99質量%以下である。
ここで、本実施形態に係る環状オレフィン系共重合体組成物に含まれる環状オレフィン系重合体とは、環状オレフィン系共重合体(m)および後述する環状オレフィン系共重合体(n)を意味する。
ここで、本実施形態に係る環状オレフィン系共重合体組成物に含まれる環状オレフィン系重合体とは、環状オレフィン系共重合体(m)および後述する環状オレフィン系共重合体(n)を意味する。
以下、各成分について具体的に説明する。
[環状オレフィン系共重合体(m)]
本実施形態に係る環状オレフィン系共重合体(m)は、(A)下記一般式(I)で表される1種以上のオレフィン由来の繰り返し単位と、(B)下記一般式(III)で表される
1種以上の環状非共役ジエン由来の繰り返し単位と、(C)下記一般式(V)で表される1種以上の環状オレフィン由来の繰り返し単位と、を含む。
本実施形態に係る環状オレフィン系共重合体(m)は、(A)下記一般式(I)で表される1種以上のオレフィン由来の繰り返し単位と、(B)下記一般式(III)で表される
1種以上の環状非共役ジエン由来の繰り返し単位と、(C)下記一般式(V)で表される1種以上の環状オレフィン由来の繰り返し単位と、を含む。
上記一般式(I)において、R300は水素原子または炭素原子数1〜29の直鎖状または分岐状の炭化水素基を示す。
上記一般式(III)中、uは0または1であり、vは0または正の整数、好ましくは0
以上2以下の整数、より好ましくは0または1であり、wは0または1であり、R61〜R76ならびにRa1およびRb1は互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数1〜20のアルキル基、炭素原子数1〜20のハロゲン化アルキル基、炭素原子数3〜15のシクロアルキル基または炭素原子数6〜20の芳香族炭化水素基であり、R104は水素原子または炭素原子数1〜10のアルキル基であり、tは0
〜10の正の整数であり、R75およびR76は、互いに結合して単環または多環を形成していてもよい。
以上2以下の整数、より好ましくは0または1であり、wは0または1であり、R61〜R76ならびにRa1およびRb1は互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数1〜20のアルキル基、炭素原子数1〜20のハロゲン化アルキル基、炭素原子数3〜15のシクロアルキル基または炭素原子数6〜20の芳香族炭化水素基であり、R104は水素原子または炭素原子数1〜10のアルキル基であり、tは0
〜10の正の整数であり、R75およびR76は、互いに結合して単環または多環を形成していてもよい。
上記一般式(V)中、uは0または1であり、vは0または正の整数、好ましくは0以上2以下の整数、より好ましくは0または1であり、wは0または1であり、R61〜R78ならびにRa1およびRb1は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数1〜20のアルキル基、炭素原子数1〜20のハロゲン化アルキル基、炭素原子数3〜15のシクロアルキル基または炭素原子数6〜20の芳香族炭化水素基であり、R75〜R78は互いに結合して単環または多環を形成していてもよい。
環状オレフィン系共重合体(m)において、環状オレフィン系共重合体(m)中の繰り返し単位の合計モル数を100モル%とした場合に、オレフィン由来の繰り返し単位(A)の含有量が10モル%以上90モル%以下、好ましくは15モル%以上85モル%以下、より好ましくは20モル%以上80モル%以下、さらに好ましくは30モル%以上80モル%以下、さらにより好ましくは35モル%以上80モル%以下、特に好ましくは40モル%以上80モル%以下であり、環状非共役ジエン由来の繰り返し単位(B)の含有量が1モル%以上40モル%以下、好ましくは2モル%以上35モル%以下、さらに好ましくは3モル%以上30モル%以下であり、環状オレフィン由来の繰り返し単位(C)の含有量が1モル%以上30モル%以下、好ましくは3モル%以上25モル%以下、さらに好ましくは5モル%以上20モル%以下である。
環状オレフィン系共重合体(m)中の繰り返し単位の各含有量が上記範囲内であると、上記環状オレフィン系共重合体組成物から得られる架橋体は、誘電特性の経時的安定性が優れるとともに耐熱性にも優れる。さらに、機械特性、誘電特性、透明性およびガスバリア性にも優れた架橋体(Q)を得ることができる。言い換えればこれらの物性のバランスに優れた架橋体(Q)を得ることができる。
環状オレフィン系共重合体(m)中の繰り返し単位の各含有量が上記範囲内であると、上記環状オレフィン系共重合体組成物から得られる架橋体は、誘電特性の経時的安定性が優れるとともに耐熱性にも優れる。さらに、機械特性、誘電特性、透明性およびガスバリア性にも優れた架橋体(Q)を得ることができる。言い換えればこれらの物性のバランスに優れた架橋体(Q)を得ることができる。
環状オレフィン系共重合体(m)の共重合原料の一つであるオレフィンモノマーは、付加共重合して上記式(I)で表される骨格を与えるモノマーであり、下記一般式(Ia)で表されるオレフィンである。
上記一般式(Ia)中、R300は水素原子または炭素原子数1〜29の直鎖状または分岐状の炭化水素基を示す。一般式(Ia)で表されるオレフィンとしては、例えば、エチレン、プロピレン、1−ブテン、1−ペンテン、1−ヘキセン、3−メチル−1−ブテン、3−メチル−1−ペンテン、3−エチル−1−ペンテン、4−メチル−1−ペンテン、4−メチル−1−ヘキセン、4,4−ジメチル−1−ヘキセン、4,4−ジメチル−1−ペンテン、4−エチル−1−ヘキセン、3−エチル−1−ヘキセン、1−オクテン、1−デセン、1−ドデセン、1−テトラデセン、1−ヘキサデセン、1−オクタデセン、1−エイコセン等が挙げられる。より優れた耐熱性、機械的特性、誘電特性、透明性およびガスバリア性を有する架橋体(Q)を得る観点から、これらの中でも、エチレンとプロピレンが好ましく、エチレンが特に好ましい。上記式(Ia)で表されるオレフィンモノマーは二種類以上を用いてもよい。
環状オレフィン系共重合体(m)の共重合原料の一つである環状非共役ジエン単量体は付加共重合して上記式(III)で表される構成単位を形成するものである。具体的には、
上記一般式(III)に対応する下記一般式(IIIa)で表される環状非共役ジエンが用いられる。
上記一般式(III)に対応する下記一般式(IIIa)で表される環状非共役ジエンが用いられる。
上記一般式(IIIa)中、uは0または1であり、vは0または正の整数、好ましくは
0以上2以下の整数、より好ましくは0または1であり、wは0または1であり、R61〜R76ならびにRa1およびRb1は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数1〜20のアルキル基、炭素原子数1〜20のハロゲン化アルキル基、炭素原子数3〜15のシクロアルキル基または炭素原子数6〜20の芳香族炭化水素基であり、R104は水素原子または炭素原子数1〜10のアルキル基であり、t
は0〜10の正の整数であり、R75およびR76は、互いに結合して単環または多環を形成していてもよい。
0以上2以下の整数、より好ましくは0または1であり、wは0または1であり、R61〜R76ならびにRa1およびRb1は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数1〜20のアルキル基、炭素原子数1〜20のハロゲン化アルキル基、炭素原子数3〜15のシクロアルキル基または炭素原子数6〜20の芳香族炭化水素基であり、R104は水素原子または炭素原子数1〜10のアルキル基であり、t
は0〜10の正の整数であり、R75およびR76は、互いに結合して単環または多環を形成していてもよい。
上記一般式(IIIa)で表される環状非共役ジエンとしては、特に限定されるものでは
ないが、例えば、下記化学式で表される環状非共役ジエンを挙げることができる。これらのうち5−ビニル−2−ノルボルネン、8−ビニル−9−メチルテトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]−3−ドデセンが好ましく、5−ビニル−2−ノルボルネン
が特に好ましい。
ないが、例えば、下記化学式で表される環状非共役ジエンを挙げることができる。これらのうち5−ビニル−2−ノルボルネン、8−ビニル−9−メチルテトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]−3−ドデセンが好ましく、5−ビニル−2−ノルボルネン
が特に好ましい。
上記一般式(IIIa)で表される環状非共役ジエンは、具体的には以下の一般式(IIIb)で表すこともできる。
一般式(IIIb)中のnは0〜10の整数であり、R1は水素原子または炭素原子数1
〜10のアルキル基であり、R2は水素原子または炭素原子数1〜5のアルキル基である。
〜10のアルキル基であり、R2は水素原子または炭素原子数1〜5のアルキル基である。
本実施形態に係る環状オレフィン系共重合体(m)には、一般式(III)で表される環
状非共役ジエン由来の構成単位が含まれることにより、側鎖部分、すなわち共重合の主鎖以外の部分に二重結合を有することが特徴である。
状非共役ジエン由来の構成単位が含まれることにより、側鎖部分、すなわち共重合の主鎖以外の部分に二重結合を有することが特徴である。
環状オレフィン系共重合体(m)の共重合原料の一つである環状オレフィンモノマーは付加共重合して上記式(V)で表される構成単位を形成するものである。具体的には、上記一般式(V)に対応する下記一般式(Va)で表される環状オレフィンモノマーが用いられる。
上記一般式(Va)中、uは0または1であり、vは0または正の整数、好ましくは0以上2以下の整数、より好ましくは0または1であり、wは0または1であり、R61〜R78ならびにRa1およびRb1は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数1〜20のアルキル基、炭素原子数1〜20のハロゲン化アルキル基、炭素原子数3〜15のシクロアルキル基、または炭素原子数6〜20の芳香族炭化水素基であり、R75〜R78は、互いに結合して単環または多環を形成していてもよい。
上記一般式(Va)で表される環状オレフィンの具体例については国際公開第2006/118261号に記載の化合物を用いることができる。
上記一般式(Va)で表される環状オレフィンとしては、ビシクロ[2.2.1]−2−ヘプテン(ノルボルネンとも呼ぶ。)、テトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]−3−ドデセン(テトラシクロドデセンとも呼ぶ。)が好ましく、テトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]−3−ドデセンがより好ましい。これらの環状オレフィンは剛直な環構造を有するため共重合体および架橋体の弾性率が保持され易く、また異種二重結合構造を含まないため架橋の制御をし易くなる利点がある。
上記一般式(Va)で表される環状オレフィンとしては、ビシクロ[2.2.1]−2−ヘプテン(ノルボルネンとも呼ぶ。)、テトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]−3−ドデセン(テトラシクロドデセンとも呼ぶ。)が好ましく、テトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]−3−ドデセンがより好ましい。これらの環状オレフィンは剛直な環構造を有するため共重合体および架橋体の弾性率が保持され易く、また異種二重結合構造を含まないため架橋の制御をし易くなる利点がある。
共重合成分として、前述した一般式(Ia)で表されるオレフィンモノマー、一般式(Va)で表される環状オレフィンを用いることにより、環状オレフィン系共重合体(m)の溶媒への溶解性がより向上するため成形性が良好となり、製品の歩留まりが向上する。
環状オレフィン系共重合体(m)は、(A)一般式(I)で表される1種以上のオレフィン由来の繰り返し単位、(B)一般式(III)で表される環状非共役ジエン由来の繰り
返し単位および(C)一般式(V)で表される1種以上の環状オレフィン由来の繰り返し単位に加えて、一般式(III)で表される環状非共役ジエンおよび一般式(V)で表され
る環状オレフィン以外の環状オレフィン、および/または鎖状ポリエン由来の繰り返し単位とから構成されていてもよい。
この場合、環状オレフィン系共重合体(m)の共重合原料として、一般式(Ia)で表されるオレフィンモノマー、一般式(IIIa)で表される環状非共役ジエンモノマー、一
般式(Va)で表される環状オレフィンモノマーに加えて、一般式(IIIa)で表される
環状非共役ジエンモノマーおよび一般式(Va)で表される環状オレフィンモノマー以外の環状オレフィンモノマー、および/または鎖状ポリエンモノマーを用いることができる。
このような環状オレフィンモノマーおよび鎖状ポリエンモノマーとしては下記一般式(VIa)または(VIIa)で表される環状オレフィン、または下記一般式(VIIIa)で表される鎖状ポリエンである。これらの環状オレフィンや鎖状ポリエンは異なる二種以上を用いてもよい。
返し単位および(C)一般式(V)で表される1種以上の環状オレフィン由来の繰り返し単位に加えて、一般式(III)で表される環状非共役ジエンおよび一般式(V)で表され
る環状オレフィン以外の環状オレフィン、および/または鎖状ポリエン由来の繰り返し単位とから構成されていてもよい。
この場合、環状オレフィン系共重合体(m)の共重合原料として、一般式(Ia)で表されるオレフィンモノマー、一般式(IIIa)で表される環状非共役ジエンモノマー、一
般式(Va)で表される環状オレフィンモノマーに加えて、一般式(IIIa)で表される
環状非共役ジエンモノマーおよび一般式(Va)で表される環状オレフィンモノマー以外の環状オレフィンモノマー、および/または鎖状ポリエンモノマーを用いることができる。
このような環状オレフィンモノマーおよび鎖状ポリエンモノマーとしては下記一般式(VIa)または(VIIa)で表される環状オレフィン、または下記一般式(VIIIa)で表される鎖状ポリエンである。これらの環状オレフィンや鎖状ポリエンは異なる二種以上を用いてもよい。
一般式(VIa)中、xおよびdは0または1以上の整数、好ましくは0以上2以下の
整数、より好ましくは0または1であり、yおよびzは0、1または2であり、R81〜R99は互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数1〜20のアルキル基もしくは炭素原子数3〜15のシクロアルキル基である脂肪族炭化水素基、炭素原子数6〜20の芳香族炭化水素基またはアルコキシ基であり、R89およびR90が結合している炭素原子と、R93が結合している炭素原子またはR91が結合している炭素原子とは、直接あるいは炭素原子数1〜3のアルキレン基を介して結合していてもよく、またy=z=0のとき、R95とR92またはR95とR99とは互いに結合して単環または多環の芳香族環を形成していてもよい。
整数、より好ましくは0または1であり、yおよびzは0、1または2であり、R81〜R99は互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数1〜20のアルキル基もしくは炭素原子数3〜15のシクロアルキル基である脂肪族炭化水素基、炭素原子数6〜20の芳香族炭化水素基またはアルコキシ基であり、R89およびR90が結合している炭素原子と、R93が結合している炭素原子またはR91が結合している炭素原子とは、直接あるいは炭素原子数1〜3のアルキレン基を介して結合していてもよく、またy=z=0のとき、R95とR92またはR95とR99とは互いに結合して単環または多環の芳香族環を形成していてもよい。
一般式(VIIa)中、R100およびR101は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子または炭素原子数1〜5の炭化水素基を示し、fは1≦f≦18である。
一般式(VIIIa)中、R201からR206は互いに同一でも異なっていてもよく、
水素原子、または炭素原子数1〜20の炭化水素基であり、Pは炭素原子数1〜20の直鎖または分岐状の炭化水素基で、二重結合および/または三重結合を含んでいてもよい。
水素原子、または炭素原子数1〜20の炭化水素基であり、Pは炭素原子数1〜20の直鎖または分岐状の炭化水素基で、二重結合および/または三重結合を含んでいてもよい。
一般式(VIa)および一般式(VIIa)で表される環状オレフィンの具体例について
は国際公開第2006/118261号の段落0037〜0063に記載の化合物を用いることができる。
は国際公開第2006/118261号の段落0037〜0063に記載の化合物を用いることができる。
一般式(VIIIa)で表される鎖状ポリエンとして、具体的には、1,4−ヘキサジエ
ン、3−メチル−1,4−ヘキサジエン、4−メチル−1,4−ヘキサジエン、5−メチル−1,4−ヘキサジエン、4,5−ジメチル−1,4−ヘキサジエン、7−メチル−1,6−オクタジエン、DMDT、1,3−ブタジエン,1,5−ヘキサジエン等が挙げられる。また1,3−ブタジエン、1,5−ヘキサジエン等のポリエンから環化した環化性のポリエンを用いてもよい。
ン、3−メチル−1,4−ヘキサジエン、4−メチル−1,4−ヘキサジエン、5−メチル−1,4−ヘキサジエン、4,5−ジメチル−1,4−ヘキサジエン、7−メチル−1,6−オクタジエン、DMDT、1,3−ブタジエン,1,5−ヘキサジエン等が挙げられる。また1,3−ブタジエン、1,5−ヘキサジエン等のポリエンから環化した環化性のポリエンを用いてもよい。
環状オレフィン系共重合体(m)が、上記一般式(VIIIa)で表される鎖状ポリエン
由来の構成単位、あるいは一般式(III)で表される環状非共役ジエンおよび一般式(V
)で表される環状オレフィン以外の環状オレフィン〔例えば、一般式(VIa)、一般式
(VIIa)〕に由来する構成単位を含む場合は、該構成単位の含有量は、上記一般式(I)で表される1種以上のオレフィン由来の繰り返し単位、上記一般式(III)で表される
1種以上の環状非共役ジエン由来の繰り返し単位、上記一般式(V)で表される1種以上の環状オレフィン由来の繰り返し単位の合計モル数に対して、通常0.1〜100mol%、好ましくは0.1〜50mol%である。
由来の構成単位、あるいは一般式(III)で表される環状非共役ジエンおよび一般式(V
)で表される環状オレフィン以外の環状オレフィン〔例えば、一般式(VIa)、一般式
(VIIa)〕に由来する構成単位を含む場合は、該構成単位の含有量は、上記一般式(I)で表される1種以上のオレフィン由来の繰り返し単位、上記一般式(III)で表される
1種以上の環状非共役ジエン由来の繰り返し単位、上記一般式(V)で表される1種以上の環状オレフィン由来の繰り返し単位の合計モル数に対して、通常0.1〜100mol%、好ましくは0.1〜50mol%である。
共重合成分として、前述した一般式(I)で表されるオレフィンモノマー、一般式(VIa)または(VIIa)で表される環状オレフィンおよび一般式(VIIIa)で表される鎖状ポリエンを用いることにより、本実施形態の効果が得られるとともに、環状オレフィン系共重合体の溶媒への溶解性がより向上するため成形性が良好となり、製品の歩留まりが向上する。これらのうちでも一般式(VIa)または(VIIa)で表される環状オレフィ
ンが好ましい。これらの環状オレフィンは剛直な環構造を有するため共重合体および架橋体の弾性率が保持され易く、また異種二重結合構造を含まないため架橋の制御をし易くなる利点がある。
ンが好ましい。これらの環状オレフィンは剛直な環構造を有するため共重合体および架橋体の弾性率が保持され易く、また異種二重結合構造を含まないため架橋の制御をし易くなる利点がある。
環状オレフィン系共重合体(m)は目的とする用途に応じて、モノマーの仕込み比により、そのコモノマー含有量、およびガラス転移点(Tg)をコントロールできる。環状オレフィン系共重合体(m)のTgは、通常300℃以下、好ましくは250℃以下、さらに好ましくは200℃以下、さらにより好ましくは170℃以下、とりわけ好ましくは150℃以下である。Tgが上記上限値以下であると、環状オレフィン系共重合体(m)の溶融成形性およびワニス化するときの溶媒への溶解性が向上する。
環状オレフィン系共重合体(m)の、135℃中デカリン中で測定した極限粘度[η]は、通常0.10〜15dl/g、好ましくは0.10〜5dl/g、より好ましくは0.15〜3dl/gの範囲である。極限粘度[η]が上記上限値以下であると、成形性が向上する。また、極限粘度[η]が上記下限値以上であると、環状オレフィン系共重合体組成物を架橋することによって得られる架橋体(Q)の耐熱性や機械的特性が向上する。
なお、環状オレフィン系共重合体(m)の極限粘度[η]は、重合触媒、助触媒、H2添加量、重合温度等の重合条件により制御することが可能である。
なお、環状オレフィン系共重合体(m)の極限粘度[η]は、重合触媒、助触媒、H2添加量、重合温度等の重合条件により制御することが可能である。
[環状オレフィン系共重合体(m)の製造方法]
本実施形態に係る環状オレフィン系共重合体(m)は、例えば、国際公開第2012/046443号の段落0075〜0219に記載の環状オレフィン系共重合体の製造方法にしたがって製造することができる。ここでは詳細は省略する。
本実施形態に係る環状オレフィン系共重合体(m)は、例えば、国際公開第2012/046443号の段落0075〜0219に記載の環状オレフィン系共重合体の製造方法にしたがって製造することができる。ここでは詳細は省略する。
[ヒンダードフェノール(X)]
本実施形態に係るヒンダードフェノール(X)は下記一般式(1)で表される。
本実施形態に係るヒンダードフェノール(X)は下記一般式(1)で表される。
一般式(1)のXは、有機基を示す。有機基Xは、炭素原子数1〜20の置換または未置換のアルキル基、置換または未置換のシクロヘキシル基、あるいは炭素原子数6〜20の置換または未置換のアリール基を示し、好ましくは炭素原子数1〜20の置換または未置換のアルキル基、あるいは炭素原子数6〜20の置換または未置換のアリール基を示す。
炭素原子数1〜20の置換または未置換のアルキル基の例には、メチル基、エチル基、n−プロピル基、n−オクチル基、n−テトラデシル基、n−ヘキサデシル基などが含まれる。炭素原子数6〜20の置換または未置換のアリール基の例には、2,4−ジ−t−ブチルフェニル基、2,4−ジ−t−ペンチルフェニル基などが含まれる。
有機基Xで表されるアルキル基、シクロヘキシル基、およびアリール基が有しうる置換基は、メチル基、エチル基などの炭素原子数1〜12のアルキル基;フェニル基などの炭素原子数6〜12のアリール基;ヒドロキシ基;メトキシ基;およびオキサジアゾール基からなる群より選ばれる基であることが好ましい。
炭素原子数1〜20の置換または未置換のアルキル基の例には、メチル基、エチル基、n−プロピル基、n−オクチル基、n−テトラデシル基、n−ヘキサデシル基などが含まれる。炭素原子数6〜20の置換または未置換のアリール基の例には、2,4−ジ−t−ブチルフェニル基、2,4−ジ−t−ペンチルフェニル基などが含まれる。
有機基Xで表されるアルキル基、シクロヘキシル基、およびアリール基が有しうる置換基は、メチル基、エチル基などの炭素原子数1〜12のアルキル基;フェニル基などの炭素原子数6〜12のアリール基;ヒドロキシ基;メトキシ基;およびオキサジアゾール基からなる群より選ばれる基であることが好ましい。
ヒンダードフェノール(X)の分子量は、200〜2000であることが好ましく、200〜1000であることがより好ましい。ヒンダードフェノール(X)の分子量が上記範囲にあると、加工時の揮発が少なく、且つ他の成分と良好に混合しやすい。
ヒンダードフェノール(X)は、ラジカル捕捉作用を有しうる。それにより、本実施形態に係る環状オレフィン系共重合体組成物の製造時や成形時、成形物の使用環境下などで受ける熱や光で発生するラジカルを捕捉し、当該製造時や成形時の環状オレフィン系共重合体組成物の酸化劣化、熱分解や、熱や光による成形物中の本実施形態に係る環状オレフィン系共重合体組成物の酸化劣化、分解を抑制しうる。また、ヒンダードフェノール(X)は、紫外線吸収作用を有しうる。それにより、成形物中の本実施形態に係る環状オレフィン系共重合体組成物の光による分解を抑制しうる。
特にヒンダードフェノール(X)は、一般式(1)で示されるようにオキシカルボニル基がベンゼン環に直接結合している。それにより、ヒンダードフェノール(X)は良好なラジカル捕捉性を有しうる。
ヒンダードフェノール(X)は、ラジカル捕捉作用を有しうる。それにより、本実施形態に係る環状オレフィン系共重合体組成物の製造時や成形時、成形物の使用環境下などで受ける熱や光で発生するラジカルを捕捉し、当該製造時や成形時の環状オレフィン系共重合体組成物の酸化劣化、熱分解や、熱や光による成形物中の本実施形態に係る環状オレフィン系共重合体組成物の酸化劣化、分解を抑制しうる。また、ヒンダードフェノール(X)は、紫外線吸収作用を有しうる。それにより、成形物中の本実施形態に係る環状オレフィン系共重合体組成物の光による分解を抑制しうる。
特にヒンダードフェノール(X)は、一般式(1)で示されるようにオキシカルボニル基がベンゼン環に直接結合している。それにより、ヒンダードフェノール(X)は良好なラジカル捕捉性を有しうる。
樹脂組成物におけるヒンダードフェノール(X)の含有割合は、環状オレフィン系共重合体(m)と(n)の合計の含有量を100質量部としたとき、0.01〜5質量部、好ましくは0.02〜2質量部、より好ましくは0.08〜1質量部である。
ヒンダードフェノール(X)の含有割合が上記下限値以上であると、環状オレフィン系共重合体組成物の酸化劣化を抑制し、耐熱老化性を向上させることができる。ヒンダードフェノール(X)の含有割合が上記上限値以下であると、ヒンダードフェノール(X)による環状オレフィン系共重合体組成物の架橋反応の阻害を抑制することができる。
ヒンダードフェノール(X)の含有割合が一定以上であると、熱や光を長時間受けたときの成形物中の環状オレフィン系共重合体(m)および(n)の酸化劣化反応を好ましく抑制しうる。ヒンダードフェノール(X)の含有割合が一定以下であると、ヒンダードフェノール(X)による環状オレフィン系共重合体組成物の架橋反応の阻害を抑制することができる。
成形時、成形物の使用環境下で受ける熱や光で発生するラジカルを捕捉し、当該製造時や成形時の環状オレフィン系重合体の酸化劣化や熱分解、熱や光による成形物中の環状オレフィン系重合体の酸化劣化、分解を抑制しうる。
ヒンダードフェノール(X)の含有割合が上記下限値以上であると、環状オレフィン系共重合体組成物の酸化劣化を抑制し、耐熱老化性を向上させることができる。ヒンダードフェノール(X)の含有割合が上記上限値以下であると、ヒンダードフェノール(X)による環状オレフィン系共重合体組成物の架橋反応の阻害を抑制することができる。
ヒンダードフェノール(X)の含有割合が一定以上であると、熱や光を長時間受けたときの成形物中の環状オレフィン系共重合体(m)および(n)の酸化劣化反応を好ましく抑制しうる。ヒンダードフェノール(X)の含有割合が一定以下であると、ヒンダードフェノール(X)による環状オレフィン系共重合体組成物の架橋反応の阻害を抑制することができる。
成形時、成形物の使用環境下で受ける熱や光で発生するラジカルを捕捉し、当該製造時や成形時の環状オレフィン系重合体の酸化劣化や熱分解、熱や光による成形物中の環状オレフィン系重合体の酸化劣化、分解を抑制しうる。
[ヒンダードアミン系化合物(Y)]
本実施形態に係るヒンダードアミン系化合物(Y)は、下記一般式(2)で表されるピペリジル基を有する化合物である。1分子あたりの一般式(2)で表されるピペリジル基の数は、1つであってもよいし、複数であってもよい。
本実施形態に係るヒンダードアミン系化合物(Y)は、下記一般式(2)で表されるピペリジル基を有する化合物である。1分子あたりの一般式(2)で表されるピペリジル基の数は、1つであってもよいし、複数であってもよい。
R1、R2、R3およびR4はそれぞれ独立に水素原子またはアルキル基であり、好ましくはメチル基またはエチル基であり、より好ましくはメチル基である。
上記一般式(2)において、Xがアルキル基の場合の炭素数は1〜12が好ましく、Xがアルコキシ基の場合の炭素数は1〜12が好ましく、Xがアリール基の場合の炭素数は6〜12が好ましい。また、Xで示されるアルキル基またはアルコキシ基は、それぞれ独立的に直鎖または環状であり、分岐鎖を有していてもよい。また、Xで示されるアルキル基、アルコキシ基またはアリール基は、それぞれ独立的に置換基を有していてもよく、置換基としてはヒドロキシ基、ベンソイルオキシ基、アセトキシ基等が挙げられる。
上記一般式(2)で表されるピペリジル基のうち、R1、R2、R3およびR4がすべてメチル基である基を有する化合物が、価格や入手性の点から好ましい。また、Xがメチル基あるいは水素原子であるピペリジル基を有する化合物が、価格や入手性の点から好ましい。
また、上記一般式(2)で表されるピペリジル基を有するヒンダードアミン系化合物(Y)としては、ピペリジル基を1分子中に2つ以上有する化合物が好ましい。その場合、上記一般式(1)で表されるピペリジル基の4位の結合を介して、2つ以上のピペリジル基が結合した化合物であることが好ましい。
本実施形態に係るヒンダードアミン系化合物(Y)の分子量は、140以上20000以下であることが好ましい。ヒンダードアミン系化合物(Y)の分子量が上記範囲にあると、加工時の揮発が少なく、かつ、他の成分と良好に混合しやすく、本実施形態に係る環状オレフィン系共重合体組成物の流動性の低下も抑制することができる。
また、本実施形態に係るヒンダードアミン系化合物(Y)は低分子量タイプであってもよいし、高分子量タイプであってもよい。低分子量タイプのヒンダードアミン系化合物(Y)の分子量は、200以上1000未満であることが好ましく、高分子量タイプのヒンダードアミン系化合物(Y)の分子量は1000以上20000以下であることが好ましく、1000以上10000以下であることがより好ましい。
特にヒンダードアミン系化合物(Y)の分子量が1000以上であると、加工時の揮発がより一層少なく、かつ、他の成分とより一層良好に混合しやすいので好ましい。
ヒンダードアミン系化合物(Y)の分子量は、例えば質量分析計により分子の相対質量として測定することができる。
また、本実施形態に係るヒンダードアミン系化合物(Y)は低分子量タイプであってもよいし、高分子量タイプであってもよい。低分子量タイプのヒンダードアミン系化合物(Y)の分子量は、200以上1000未満であることが好ましく、高分子量タイプのヒンダードアミン系化合物(Y)の分子量は1000以上20000以下であることが好ましく、1000以上10000以下であることがより好ましい。
特にヒンダードアミン系化合物(Y)の分子量が1000以上であると、加工時の揮発がより一層少なく、かつ、他の成分とより一層良好に混合しやすいので好ましい。
ヒンダードアミン系化合物(Y)の分子量は、例えば質量分析計により分子の相対質量として測定することができる。
本実施形態に係るヒンダードアミン系化合物(Y)は、ラジカル捕捉作用を有しうる。それにより、本実施形態に係る環状オレフィン系共重合体組成物の製造時や成形時、成形物の使用環境下で受ける熱や光で発生するラジカルを捕捉し、当該製造時や成形時の環状オレフィン系重合体の酸化劣化や熱分解、熱や光による成形物中の環状オレフィン系重合体の酸化劣化、分解を抑制しうる。
本実施形態に係るヒンダードアミン系化合物(Y)としては、以下に限定されるものではないが、例えば、2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリドン;2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジノール;ビス−(1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジル)−(3’,5’−ジ−t−ブチル−4’−ヒドロキシベンジル)ブチルマロネート;ジ−(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)セバケート;N−(2−ヒドロキシエチル)−2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジノールとコハク酸のオリゴマー;シアヌル酸とN,N−ジ(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)−ヘキサメチレンジアミンのオリゴマー;ビス−(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジニル)スクシネート;ビス−(1−オクチルオキシ−2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジニル)セバケート;ビス−(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジニル)セバケート;テトラキス−(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)−1,2,3,4−ブタンテトラカルボキシレート;N,N’−ビス−(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)−ヘキサン−1,6−ジアミン;N−ブチル−2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジンアミン;2,2’−[(2,2,6,6−テトラメチル−ピペリジニル)−イミノ]−ビス−[エタノール];ポリ((6−モルホリン−S−トリアジン−2,4−ジイル)(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジニル)−イミノヘキサメチレン−(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジニル)−イミノ);5−(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジニル)−2−シクロ−ウンデシル−オキサゾール);1,1’−(1,2−エタン−ジ−イル)−ビス−(3,3’,5,5’−テトラメチル−ピペラジノン);8−アセチル−3−ドデシル−7,7,9,9−テトラメチル−1,3,8−トリアザスピロ(4.5)デカン−2,4−ジオン;ポリメチルプロピル−3−オキシ−[4(2,2,6,6−テトラメチル)−ピペリジニル]シロキサン;1,2,3,4−ブタン−テトラカルボン酸−1,2,3−トリス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジニル)−4−トリデシルエステル;α−メチルスチレン−N−(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジニル)マレイミドとN−ステアリルマレイミドのコポリマー;1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸、β,β,β’,β’−テトラメチル−2,4,8,10−テトラオキサスピロ[5.5]ウンデカン−3,9−ジエタノール、1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジニルエステルとのポリマー;2,4,8,10−テトラオキサスピロ[5.5]ウンデカン−3,9−ジエタノール、1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸、2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジニルエステルとのβ,β,β’,β’−テトラメチル−ポリマー;D−グルシトール、1,3:2,4−ビス−o−(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジニルイデン)−;7−オキサ−3,20−ジアザジスピロ[5.1.11.2]−ヘンエイコサン−21−オン−2,2,4,4−テトラメチル−20−(オキシラニルメチル)のオリゴマー;プロパン二酸、[(4−メトキシフェニル)メチレン]−,ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジニル)エステル;ホルムアミド、N,N’−1,6−ヘキサンジイルビス[N−(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジニル;1,3,5−トリアジン−2,4,6−トリアミン、N,N’’’−[1,2−エタンジイルビス[[[4,6−ビス[ブチル(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジニル)アミノ]−1,3,5−トリアジン−2−イル]イミノ]−3,1−プロパンジイル]]−ビス[N’,N’’−ジブチル−N’,N’’−ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジニル);ポリ[6−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)イミノ−1,3,5−トリアジン−2,4−ジイル][(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)イミノ]ヘキサメチレン[(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)イミノ];1,5−ジオキサスピロ(5.5)ウンデカン3,3−ジカルボン酸、ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジニル)エステル;1,5−ジオキサスピロ(5.5)ウンデカン3,3−ジカルボン酸、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジニル)エステル;N−2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジニル−N−アミノ−オキサミド;4−アクリロイルオキシ−1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジン;1,5,8,12−テトラキス[2’,4’−ビス(1’’,2’’,2’’,6’’,6’’−ペンタメチル−4’’−ピペリジニル(ブチル)アミノ)−1’,3’,5’−トリアジン−6’−イル]−1,5,8,12−テトラアザドデカン;3−ドデシル−1−(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)−ピロリジン−2,5−ジオン;1,1’−(1,2−エタン−ジ−イル)−ビス−(3,3’,5,5’−テトラ−メチル−ピペラジノン);1,1’1’’−(1,3,5−トリアジン−2,4,6−トリイルトリス((シクロヘキシルイミノ)−2,1−エタンジイル)トリス(3,3,5,5−テトラメチルピペラジノン);1,1’,1’’−(1,3,5−トリアジン−2,4,6−トリイルトリス((シクロヘキシルイミノ)−2,1−エタンジイル)トリス(3,3,4,5,5−テトラメチルピペラジノン)および;ジブチルアミン1,3,5−トリアジン・N,N−ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル−1,6−ヘキサメチレンジアミン・N−(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)ブチルアミンの重縮合物等が挙げられる。
これらの中でも、ポリ[6−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)イミノ−1,3,5−トリアジン−2,4−ジイル][(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)イミノ]ヘキサメチレン[(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)イミノ](例えば、CHIMASSORB944FDL、BASF社製)、およびジブチルアミン1,3,5−トリアジン・N,N−ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル−1,6−ヘキサメチレンジアミン・N−(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)ブチルアミンの重縮合物(例えば、CHIMASSORB2020FDL、BASF社製)から選択される少なくとも一種が好ましい。
これらの中でも、ポリ[6−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)イミノ−1,3,5−トリアジン−2,4−ジイル][(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)イミノ]ヘキサメチレン[(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)イミノ](例えば、CHIMASSORB944FDL、BASF社製)、およびジブチルアミン1,3,5−トリアジン・N,N−ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル−1,6−ヘキサメチレンジアミン・N−(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)ブチルアミンの重縮合物(例えば、CHIMASSORB2020FDL、BASF社製)から選択される少なくとも一種が好ましい。
[環状オレフィン系重合体(n)]
本実施形態に係る環状オレフィン系共重合体組成物は、環状オレフィン系共重合体(m)とは異なる環状オレフィン系重合体(n)をさらに含むことができる。
具体的には、環状オレフィン系重合体(n)は、エチレンまたはα−オレフィンと環状オレフィンとの共重合体(n1)および環状オレフィンの開環重合体(n2)から選択される少なくとも一種を含む。本実施形態に係る環状オレフィン系共重合体組成物は、環状オレフィン系重合体(n)を含むことにより、環状オレフィン系共重合体組成物を架橋して得られる架橋体の誘電特性をより一層良好なものとすることができる。
ここで、上記共重合体(n1)は上記一般式(III)で表される環状非共役ジエン由来
の繰り返し単位を含まない。本実施形態において、上記共重合体(n1)が上記一般式(III)で表される環状非共役ジエン由来の繰り返し単位を含まないとは、上記共重合体(
n1)中の繰り返し単位の合計モル数を100モル%とした場合に、上記一般式(III)
で表される環状非共役ジエン由来の繰り返し単位の含有量が0.05モル%以下であることを意味する。
本実施形態に係る環状オレフィン系共重合体組成物に含まれる環状オレフィン系共重合体(m)と環状オレフィン系重合体(n)との合計量を100質量%としたとき、環状オレフィン系共重合体(m)の含有量が5質量%以上95質量%以下、好ましくは10質量%以上90質量%以下、より好ましくは20質量%以上80質量%以下、さらに好ましくは25質量%以上75質量%以下であり、環状オレフィン系重合体(n)の含有量が5質量%以上95質量%以下、好ましくは10質量%以上90質量%以下、より好ましくは20質量%以上80質量%以下、さらに好ましくは25質量%以上75質量%以下である。
本実施形態に係る環状オレフィン系共重合体組成物は、環状オレフィン系共重合体(m)とは異なる環状オレフィン系重合体(n)をさらに含むことができる。
具体的には、環状オレフィン系重合体(n)は、エチレンまたはα−オレフィンと環状オレフィンとの共重合体(n1)および環状オレフィンの開環重合体(n2)から選択される少なくとも一種を含む。本実施形態に係る環状オレフィン系共重合体組成物は、環状オレフィン系重合体(n)を含むことにより、環状オレフィン系共重合体組成物を架橋して得られる架橋体の誘電特性をより一層良好なものとすることができる。
ここで、上記共重合体(n1)は上記一般式(III)で表される環状非共役ジエン由来
の繰り返し単位を含まない。本実施形態において、上記共重合体(n1)が上記一般式(III)で表される環状非共役ジエン由来の繰り返し単位を含まないとは、上記共重合体(
n1)中の繰り返し単位の合計モル数を100モル%とした場合に、上記一般式(III)
で表される環状非共役ジエン由来の繰り返し単位の含有量が0.05モル%以下であることを意味する。
本実施形態に係る環状オレフィン系共重合体組成物に含まれる環状オレフィン系共重合体(m)と環状オレフィン系重合体(n)との合計量を100質量%としたとき、環状オレフィン系共重合体(m)の含有量が5質量%以上95質量%以下、好ましくは10質量%以上90質量%以下、より好ましくは20質量%以上80質量%以下、さらに好ましくは25質量%以上75質量%以下であり、環状オレフィン系重合体(n)の含有量が5質量%以上95質量%以下、好ましくは10質量%以上90質量%以下、より好ましくは20質量%以上80質量%以下、さらに好ましくは25質量%以上75質量%以下である。
エチレンまたはα−オレフィンと環状オレフィンとの共重合体(n1)としては、例えば、国際公開第2008/047468号の段落0030〜0123に記載の重合体を用いることができる。
例えば、繰り返し構造単位の少なくとも一部に脂環族構造を有する重合体(以下、単に「脂環族構造を有する重合体」ともいう)であり、重合体の繰り返し単位の少なくとも一部に脂環族構造を有するものであればよく、具体的には下記一般式(3)で表される1種ないし2種以上の構造を有する重合体を含むことが好ましい。
nは置換基Qの置換数を示し、0≦n≦2の実数である。
Raは、炭素原子数2〜20の炭化水素基よりなる群から選ばれる2+n価の基である。
Rbは、水素原子、又は炭素原子数1〜10の炭化水素基よりなる群から選ばれる1価の基である。
Rcは、炭素原子数2〜10の炭化水素基よりなる群から選ばれる4価の基である。
Qは、COORd(Rdは、水素原子、または炭素原子数1〜10の炭化水素基よりなる群から選ばれる1価の基である。)である。
Ra、Rb、RcおよびQは、それぞれ1種であってもよく、2種以上を任意の割合で有していてもよい。)
また上記一般式(3)において、Raは、好ましくは、炭素原子数2〜12の炭化水素基から選ばれる1種ないし2種以上の2価の基であり、さらに好ましくはn=0の場合、下記一般式(7)で表される2価の基であり、最も好ましくは、下記一般式(7)において、pが0または1である2価の基である。Raの構造は1種のみ用いても、2種以上を併用しても構わない。
また、エチレンまたはα−オレフィンと環状オレフィンとの共重合体(n1)としては、下記一般式(4)で表現される環状オレフィン系共重合体である。例えば、エチレンまたは炭素原子数が3〜30の直鎖状または分岐状のα−オレフィン由来の構成単位(A)と、環状オレフィン由来の構成単位(B)とからなる。
Rbは、水素原子、または炭素原子数1〜10の炭化水素基よりなる群から選ばれる1価の基である。
RaおよびRbは、それぞれ1種であってもよく、2種以上を任意の割合で有していてもよい。
x、yは共重合比を示し、5/95≦y/x≦95/5を満たす実数である。好ましくは50/50≦y/x≦95/5、さらに好ましくは、55/45≦y/x≦80/20である。x、yはモル基準である。
エチレンまたはα−オレフィンと環状オレフィンとの共重合体(n1)は、エチレンおよび環状オレフィンからなる共重合体が好ましく、環状オレフィンがビシクロ[2.2.1]−2−ヘプテン、テトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]−3−ドデセン、1,4-メタノ-1,4,4a,9a-テトラヒドロフルオレン、シクロペンタジエン−
ベンザイン付加物およびシクロペンタジエン−アセナフチレン付加物からなる群から選ばれる一種または二種以上であるものが好ましく、ビシクロ[2.2.1]−2−ヘプテンおよびテトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]−3−ドデセンから選択される少なくとも一種であるものがより好ましい。
エチレンまたはα−オレフィンと環状オレフィンとの共重合体(n1)体としては、上記一般式(3)で表される1種ないし2種以上の構造を有する重合体または上記一般式(4)で表現される環状オレフィン系共重合体が水素添加処理された重合体であってもよい。
ベンザイン付加物およびシクロペンタジエン−アセナフチレン付加物からなる群から選ばれる一種または二種以上であるものが好ましく、ビシクロ[2.2.1]−2−ヘプテンおよびテトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]−3−ドデセンから選択される少なくとも一種であるものがより好ましい。
エチレンまたはα−オレフィンと環状オレフィンとの共重合体(n1)体としては、上記一般式(3)で表される1種ないし2種以上の構造を有する重合体または上記一般式(4)で表現される環状オレフィン系共重合体が水素添加処理された重合体であってもよい。
また、エチレンまたはα−オレフィンと環状オレフィンとの共重合体(n1)としては、炭素数4〜12のα-オレフィンと環状オレフィンとの共重合体も好ましい。炭素数4
〜12のα-オレフィンと環状オレフィンとの共重合体としては、例えば、国際公開第2
015/178145号の段落0056〜0070に記載の重合体を用いることができる。
炭素数4〜12のα-オレフィンと環状オレフィンとの共重合体を構成する環状オレフ
ィンとしては、例えば、ノルボルネン及び置換ノルボルネンが挙げられ、ノルボルネンが好ましい。上記環状オレフィンは、1種単独で又は2種以上組み合わせて使用することができる。
〜12のα-オレフィンと環状オレフィンとの共重合体としては、例えば、国際公開第2
015/178145号の段落0056〜0070に記載の重合体を用いることができる。
炭素数4〜12のα-オレフィンと環状オレフィンとの共重合体を構成する環状オレフ
ィンとしては、例えば、ノルボルネン及び置換ノルボルネンが挙げられ、ノルボルネンが好ましい。上記環状オレフィンは、1種単独で又は2種以上組み合わせて使用することができる。
上記置換ノルボルネンは特に限定されず、この置換ノルボルネンが有する置換基としては、例えば、ハロゲン原子、1価又は2価の炭化水素基が挙げられる。置換ノルボルネンの具体例としては、下記一般式(A)で示されるものが挙げられる。
一般式(A)で示される置換ノルボルネンについて説明する。一般式(A)におけるR1〜R12は、それぞれ同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、及び、炭化水素基からなる群より選ばれるものである。
R1〜R8の具体例としては、例えば、水素原子;フッ素、塩素、臭素等のハロゲン原子;炭素数1以上20以下のアルキル基等を挙げることができ、これらはそれぞれ異なっていてもよく、部分的に異なっていてもよく、また、全部が同一であってもよい。
また、R9〜R12の具体例としては、例えば、水素原子;フッ素、塩素、臭素等のハロゲン原子;炭素数1以上20以下のアルキル基;シクロヘキシル基等のシクロアルキル基;フェニル基、トリル基、エチルフェニル基、イソプロピルフェニル基、ナフチル基、アントリル基等の置換又は無置換の芳香族炭化水素基;ベンジル基、フェネチル基、その他アルキル基にアリール基が置換したアラルキル基等を挙げることができ、これらはそれぞれ異なっていてもよく、部分的に異なっていてもよく、また、全部が同一であってもよい。
R9とR10、又はR11とR12とが一体化して2価の炭化水素基を形成する場合の具体例としては、例えば、エチリデン基、プロピリデン基、イソプロピリデン基等のアルキリデン基等を挙げることができる。
R9又はR10と、R11又はR12とが、互いに環を形成する場合には、形成される環は単環でも多環であってもよく、架橋を有する多環であってもよく、二重結合を有する環であってもよく、またこれらの環の組み合わせからなる環であってもよい。また、これらの環はメチル基等の置換基を有していてもよい。
一般式(A)で示される置換ノルボルネンの具体例としては、5−メチル−ビシクロ[2.2.1]ヘプタ−2−エン、5,5−ジメチル−ビシクロ[2.2.1]ヘプタ−2−エン、5−エチル−ビシクロ[2.2.1]ヘプタ−2−エン、5−ブチル−ビシクロ[2.2.1]ヘプタ−2−エン、5−エチリデン−ビシクロ[2.2.1]ヘプタ−2−エン、5−ヘキシル−ビシクロ[2.2.1]ヘプタ−2−エン、5−オクチル−ビシクロ[2.2.1]ヘプタ−2−エン、5−オクタデシル−ビシクロ[2.2.1]ヘプタ−2−エン、5−メチリデン−ビシクロ[2.2.1]ヘプタ−2−エン、5−ビニル−ビシクロ[2.2.1]ヘプタ−2−エン、5−プロペニル−ビシクロ[2.2.1]ヘプタ−2−エン等の2環の環状オレフィン;トリシクロ[4.3.0.12,5]デカ−3,7−ジエン(慣用名:ジシクロペンタジエン)、トリシクロ[4.3.0.12,5]デカ−3−エン;トリシクロ[4.4.0.12,5]ウンデカ−3,7−ジエン若しくはトリシクロ[4.4.0.12,5]ウンデカ−3,8−ジエン又はこれらの部分水素添加物(又はシクロペンタジエンとシクロヘキセンの付加物)であるトリシクロ[4.4.0.12,5]ウンデカ−3−エン;5−シクロペンチル−ビシクロ[2.2.1]ヘプタ−2−エン、5−シクロヘキシル−ビシクロ[2.2.1]ヘプタ−2−エン、5−シクロヘキセニルビシクロ[2.2.1]ヘプタ−2−エン、5−フェニル−ビシクロ[2.2.1]ヘプタ−2−エンといった3環の環状オレフィン;テトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカ−3−エン(単にテトラシクロドデセンともいう)、8−メチルテトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカ−3−エン、8−エチルテトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカ−3−エン、8−メチリデンテトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカ−3−エン、8−エチリデンテトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカ−3−エン、8−ビニルテトラシクロ[4,4.0.12,5.17,10]ドデカ−3−エン、8−プロペニル−テトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカ−3−エンといった4環の環状オレフィン;8−シクロペンチル−テトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカ−3−エン、8−シクロヘキシル−テトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカ−3−エン、8−シクロヘキセニル−テトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカ−3−エン、8−フェニル−シクロペンチル−テトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカ−3−エン;テトラシクロ[7.4.13,6.01,9.02,7]テトラデカ−4,9,11,13−テトラエン(1,4−メタノ−1,4,4a,9a−テトラヒドロフルオレンともいう)、テトラシクロ[8.4.14,7.01,10.03,8]ペンタデカ−5,10,12,14−テトラエン(1,4−メタノ−1,4,4a,5,10,10a−へキサヒドロアントラセンともいう);ペンタシクロ[6.6.1.13,6.02,7.09,14]−4−ヘキサデセン、ペンタシクロ[6.5.1.13,6.02,7.09,13]−4−ペンタデセン、ペンタシクロ[7.4.0.02,7.13,6.110,13]−4−ペンタデセン;ヘプタシクロ[8.7.0.12,9.14,7.111,17.03,8.012,16]−5−エイコセン、ヘプタシクロ[8.7.0.12,9.03,8.14,7.012,17.113,l6]−14−エイコセン;シクロペンタジエンの4量体等の多環の環状オレフィンを挙げることができる。
中でも、アルキル置換ノルボルネン(例えば、1つ以上のアルキル基で置換されたビシクロ[2.2.1]ヘプタ−2−エン)、アルキリデン置換ノルボルネン(例えば、1つ以上のアルキリデン基で置換されたビシクロ[2.2.1]ヘプタ−2−エン)が好ましく、5−エチリデン−ビシクロ[2.2.1]ヘプタ−2−エン(慣用名:5−エチリデン−2−ノルボルネン、又は、単にエチリデンノルボルネン)が特に好ましい。
炭素数4〜12のα-オレフィンと環状オレフィンとの共重合体を構成する炭素数4〜
12のα-オレフィンとしては、例えば、炭素数4〜12のα-オレフィンや、ハロゲン原子等の少なくとも1種の置換基を有する炭素数4〜12のα-オレフィンが挙げられ、炭
素数4〜12のα-オレフィンが好ましい。
12のα-オレフィンとしては、例えば、炭素数4〜12のα-オレフィンや、ハロゲン原子等の少なくとも1種の置換基を有する炭素数4〜12のα-オレフィンが挙げられ、炭
素数4〜12のα-オレフィンが好ましい。
炭素数4〜12のα-オレフィンは特に限定されないが、例えば、1−ブテン、1−ペ
ンテン、1−へキセン、3−メチル−1−ブテン、3−メチル−1−ペンテン、3−エチル−1−ペンテン、4−メチル−1−ペンテン、4−メチル−1−へキセン、4,4−ジメチル−1−ヘキセン、4,4−ジメチル−1−ペンテン、4−エチル−1−へキセン、3−エチル−1−ヘキセン、1−オクテン、1−デセン、1−ドデセン等が挙げられる。中でも、1−ヘキセン、1−オクテン、1−デセンが好ましい。
ンテン、1−へキセン、3−メチル−1−ブテン、3−メチル−1−ペンテン、3−エチル−1−ペンテン、4−メチル−1−ペンテン、4−メチル−1−へキセン、4,4−ジメチル−1−ヘキセン、4,4−ジメチル−1−ペンテン、4−エチル−1−へキセン、3−エチル−1−ヘキセン、1−オクテン、1−デセン、1−ドデセン等が挙げられる。中でも、1−ヘキセン、1−オクテン、1−デセンが好ましい。
本実施形態に係る炭素数4〜12のα-オレフィンと環状オレフィンとの共重合体は、
当該共重合体中に含まれる繰り返し単位の合計を100モル%としたとき、炭素数4〜12のα-オレフィン由来の繰り返し単位の割合が、好ましくは10モル%以上90モル%
以下、より好ましくは15モル%以上80モル%以下、さらに好ましくは20モル%以上70モル%以下である。
また、本実施形態に係る炭素数4〜12のα-オレフィンと環状オレフィンとの共重合
体は、当該共重合体中に含まれる繰り返し単位の合計を100モル%としたとき、環状オレフィン由来の繰り返し単位の割合が、好ましくは10モル%以上90モル%以下、より好ましくは20モル%以上85モル%以下、さらに好ましくは30モル%以上80モル%以下である。
当該共重合体中に含まれる繰り返し単位の合計を100モル%としたとき、炭素数4〜12のα-オレフィン由来の繰り返し単位の割合が、好ましくは10モル%以上90モル%
以下、より好ましくは15モル%以上80モル%以下、さらに好ましくは20モル%以上70モル%以下である。
また、本実施形態に係る炭素数4〜12のα-オレフィンと環状オレフィンとの共重合
体は、当該共重合体中に含まれる繰り返し単位の合計を100モル%としたとき、環状オレフィン由来の繰り返し単位の割合が、好ましくは10モル%以上90モル%以下、より好ましくは20モル%以上85モル%以下、さらに好ましくは30モル%以上80モル%以下である。
炭素数4〜12のα-オレフィンと環状オレフィンとの共重合体を得るための重合工程
の条件は、所望の共重合体が得られる限り、特に限定されず、公知の条件を用いることができ、重合温度、重合圧力、重合時間等は適宜調整される。
の条件は、所望の共重合体が得られる限り、特に限定されず、公知の条件を用いることができ、重合温度、重合圧力、重合時間等は適宜調整される。
また、環状オレフィン系重合体(n)としては、環状オレフィンの開環重合体(n2)を用いることができる。
環状オレフィンの開環重合体(n2)としては、例えば、ノルボルネン系単量体の開環重合体およびノルボルネン系単量体とこれと開環共重合可能なその他の単量体との開環重合体、ならびにこれらの水素化物等が挙げられる。
環状オレフィンの開環重合体(n2)としては、例えば、ノルボルネン系単量体の開環重合体およびノルボルネン系単量体とこれと開環共重合可能なその他の単量体との開環重合体、ならびにこれらの水素化物等が挙げられる。
ノルボルネン系単量体としては、例えば、ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン(慣用名:ノルボルネン)およびその誘導体(環に置換基を有するもの)、トリシクロ[4.3.01,6.12,5]デカ−3,7−ジエン(慣用名ジシクロペンタジエン)およびその誘導体、7,8−ベンゾトリシクロ[4.3.0.12,5]デカ−3−エン(慣用名メタノテトラヒドロフルオレン:1,4−メタノ−1,4,4a,9a−テトラヒドロフルオレンともいう)およびその誘導体、テトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]−3−ドデセン(慣用名:テトラシクロドデセン)およびその誘導体、等が挙げられる。
これらの誘導体の環に置換される置換基としては、アルキル基、アルキレン基、ビニル基、アルコキシカルボニル基、アルキリデン基等が挙げられる。なお、置換基は、1つまたは2つ以上を有することができる。このような環に置換基を有する誘導体としては、例えば、8−メトキシカルボニル−テトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカ−3−エン、8−メチル−8−メトキシカルボニル−テトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカ−3−エン、8−エチリデン−テトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカ−3−エン等が挙げられる。
これらのノルボルネン系単量体は、それぞれ単独であるいは2種以上を組み合わせて用いられる。
これらの誘導体の環に置換される置換基としては、アルキル基、アルキレン基、ビニル基、アルコキシカルボニル基、アルキリデン基等が挙げられる。なお、置換基は、1つまたは2つ以上を有することができる。このような環に置換基を有する誘導体としては、例えば、8−メトキシカルボニル−テトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカ−3−エン、8−メチル−8−メトキシカルボニル−テトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカ−3−エン、8−エチリデン−テトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカ−3−エン等が挙げられる。
これらのノルボルネン系単量体は、それぞれ単独であるいは2種以上を組み合わせて用いられる。
ノルボルネン系単量体の開環重合体、またはノルボルネン系単量体とこれと開環共重合可能なその他の単量体との開環重合体は、単量体成分を、公知の開環重合触媒の存在下で重合して得ることができる。
開環重合触媒としては、例えば、ルテニウム、オスミウム等の金属のハロゲン化物と、硝酸塩またはアセチルアセトン化合物と、還元剤とからなる触媒;チタン、ジルコニウム、タングステン、モリブデン等の金属のハロゲン化物またはアセチルアセトン化合物と、有機アルミニウム化合物とからなる触媒;等を用いることができる。
ノルボルネン系単量体と開環共重合可能なその他の単量体としては、例えば、シクロヘキセン、シクロヘプテン、シクロオクテン等の単環の環状オレフィン系単量体等を挙げることができる。
開環重合触媒としては、例えば、ルテニウム、オスミウム等の金属のハロゲン化物と、硝酸塩またはアセチルアセトン化合物と、還元剤とからなる触媒;チタン、ジルコニウム、タングステン、モリブデン等の金属のハロゲン化物またはアセチルアセトン化合物と、有機アルミニウム化合物とからなる触媒;等を用いることができる。
ノルボルネン系単量体と開環共重合可能なその他の単量体としては、例えば、シクロヘキセン、シクロヘプテン、シクロオクテン等の単環の環状オレフィン系単量体等を挙げることができる。
ノルボルネン系単量体の開環重合体の水素化物や、ノルボルネン系単量体とこれと開環共重合可能なその他の単量体との開環重合体の水素化物は、通常、上記開環重合体の重合溶液に、ニッケル、パラジウム等の遷移金属を含む公知の水素化触媒を添加し、炭素−炭素不飽和結合を水素化することにより得ることができる。
本実施形態において環状オレフィン系重合体(n)は1種類を単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
[環状オレフィン系重合体以外の樹脂]
本実施形態に係る環状オレフィン系共重合体組成物は、本実施形態の目的を損なわない範囲内で、環状オレフィン共重合体(m)および環状オレフィン系重合体(n)以外の熱可塑性樹脂および熱硬化性樹脂から選択される少なくとも一種をさらに含んでもよい。
環状オレフィン系重合体以外の樹脂の含有量は、環状オレフィン系共重合体組成物の全体を100質量部としたとき、1質量部以上50質量部以下であることが好ましい。
上記環状オレフィン系重合体以外の樹脂としては、熱可塑性樹脂または熱硬化性樹脂であれば特に限定されないが、例えば、スチレン系エラストマー、エチレン・プロピレンエラストマー、およびジエン系エラストマーから選ばれる一種または二種以上を含むことが好ましい。
本実施形態に係る環状オレフィン系共重合体組成物は、本実施形態の目的を損なわない範囲内で、環状オレフィン共重合体(m)および環状オレフィン系重合体(n)以外の熱可塑性樹脂および熱硬化性樹脂から選択される少なくとも一種をさらに含んでもよい。
環状オレフィン系重合体以外の樹脂の含有量は、環状オレフィン系共重合体組成物の全体を100質量部としたとき、1質量部以上50質量部以下であることが好ましい。
上記環状オレフィン系重合体以外の樹脂としては、熱可塑性樹脂または熱硬化性樹脂であれば特に限定されないが、例えば、スチレン系エラストマー、エチレン・プロピレンエラストマー、およびジエン系エラストマーから選ばれる一種または二種以上を含むことが好ましい。
スチレン系エラストマーは、例えば、スチレン・共役ジエンブロック共重合樹脂(共役ジエンとしてはブタジエン、イソプレン等)、スチレン・共役ジエンブロック共重合樹脂の水素添加物(共役ジエンとしてはブタジエン、イソプレン等)、スチレン・共役ジエン・スチレンのトリブロック共重合樹脂(共役ジエンとしてはブタジエン、イソプレン等)、スチレン・共役ジエン・スチレンのトリブロック共重合樹脂の水素添加物(共役ジエンとしてはブタジエン、イソプレン等)等が挙げられる。
エチレン・プロピレンエラストマーとしては、例えば、エチレン・プロピレンゴム、エチレン・プロピレン・ジエンゴム等が挙げられる。
ジエン系エラストマーとしては、例えば、ポリブタジエン、ポリイソプレン、スチレン・ブタジエンゴム、ブタジエンゴム、イソプレンゴム、クロロプレンゴム、アクリロニトリル・ブタジエンゴム等が挙げられる。
エチレン・プロピレンエラストマーとしては、例えば、エチレン・プロピレンゴム、エチレン・プロピレン・ジエンゴム等が挙げられる。
ジエン系エラストマーとしては、例えば、ポリブタジエン、ポリイソプレン、スチレン・ブタジエンゴム、ブタジエンゴム、イソプレンゴム、クロロプレンゴム、アクリロニトリル・ブタジエンゴム等が挙げられる。
[添加剤]
本実施形態に係る環状オレフィン系共重合体組成物には、目的に応じて、ヒンダードフェノール(X)およびヒンダードアミン系化合物(Y)以外の各種添加剤をさらに添加してもよい。添加剤の添加量は、本実施形態の目的を損なわない範囲内で用途に応じて適宜選択される。
上記添加剤としては、耐熱安定剤、耐候安定剤、耐放射線剤、可塑剤、滑剤、離型剤、核剤、摩擦磨耗性向上剤、難燃剤、発泡剤、帯電防止剤、着色剤、防曇剤、アンチブロッキング剤、耐衝撃剤、表面ぬれ改善剤、充填材、塩酸吸収剤および金属不活性化剤からなる群から選択される一種または二種以上の添加剤が挙げられる。
本実施形態に係る環状オレフィン系共重合体組成物は、本実施形態の効果を大きく損なわない範囲内で、ヒンダードフェノール(X)およびヒンダードアミン系化合物(Y)以外の耐熱安定剤および耐候安定剤を含んでもよいが、ヒンダードフェノール(X)およびヒンダードアミン系化合物(Y)以外の耐熱安定剤および耐候安定剤の合計含有量は、環状オレフィン系共重合体組成物の全体を100質量%としたとき、例えば1質量%以下、好ましくは0.5質量%以下、より好ましくは0.3質量%以下であり、特に好ましくは0.1質量%以下である。
本実施形態に係る環状オレフィン系共重合体組成物には、目的に応じて、ヒンダードフェノール(X)およびヒンダードアミン系化合物(Y)以外の各種添加剤をさらに添加してもよい。添加剤の添加量は、本実施形態の目的を損なわない範囲内で用途に応じて適宜選択される。
上記添加剤としては、耐熱安定剤、耐候安定剤、耐放射線剤、可塑剤、滑剤、離型剤、核剤、摩擦磨耗性向上剤、難燃剤、発泡剤、帯電防止剤、着色剤、防曇剤、アンチブロッキング剤、耐衝撃剤、表面ぬれ改善剤、充填材、塩酸吸収剤および金属不活性化剤からなる群から選択される一種または二種以上の添加剤が挙げられる。
本実施形態に係る環状オレフィン系共重合体組成物は、本実施形態の効果を大きく損なわない範囲内で、ヒンダードフェノール(X)およびヒンダードアミン系化合物(Y)以外の耐熱安定剤および耐候安定剤を含んでもよいが、ヒンダードフェノール(X)およびヒンダードアミン系化合物(Y)以外の耐熱安定剤および耐候安定剤の合計含有量は、環状オレフィン系共重合体組成物の全体を100質量%としたとき、例えば1質量%以下、好ましくは0.5質量%以下、より好ましくは0.3質量%以下であり、特に好ましくは0.1質量%以下である。
上記耐熱安定剤としては、例えば、トリス(2,4−ジ−tert−ブチルフェニル)ホスファイト、ビス[2,4−ビス(1,1−ジメチルエチル)−6−メチルフェニル]エチルエステル亜リン酸、テトラキス(2,4−ジ−tert−ブチルフェニル)[1,1−ビフェニル]−4,4'−ジイルビスホスフォナイト、およびビス(2,4−ジ−t
ert−ブチルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト等のホスファイト系耐熱安定剤;3−ヒドロキシ−5,7−ジ−tert−ブチル−フラン−2−オンとo−キシレンとの反応生成物等のラクトン系耐熱安定剤;3,3',3",5,5',5"−ヘキサ−tert−ブチル−a,a',a"−(メチレン−2,4,6−トリイル)トリ−p−クレゾール、1,3,5−トリメチル−2,4,6−トリス(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)ベンジルベンゼン、ペンタエリスリトールテトラキス[3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、オクタデシル−3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、チオジエチレンビス[3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]等のヒンダードフェノール系耐熱安定剤;硫黄系耐熱安定剤;アミン系耐熱安定剤等を挙げることができる。また、これらを一種単独でまたは二種以上を組み合わせて用いることもできる。中でも、ホスファイト系耐熱安定剤、およびヒンダードフェノール系耐熱安定剤が好ましい。
ert−ブチルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト等のホスファイト系耐熱安定剤;3−ヒドロキシ−5,7−ジ−tert−ブチル−フラン−2−オンとo−キシレンとの反応生成物等のラクトン系耐熱安定剤;3,3',3",5,5',5"−ヘキサ−tert−ブチル−a,a',a"−(メチレン−2,4,6−トリイル)トリ−p−クレゾール、1,3,5−トリメチル−2,4,6−トリス(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)ベンジルベンゼン、ペンタエリスリトールテトラキス[3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、オクタデシル−3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、チオジエチレンビス[3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]等のヒンダードフェノール系耐熱安定剤;硫黄系耐熱安定剤;アミン系耐熱安定剤等を挙げることができる。また、これらを一種単独でまたは二種以上を組み合わせて用いることもできる。中でも、ホスファイト系耐熱安定剤、およびヒンダードフェノール系耐熱安定剤が好ましい。
上記耐候安定剤としては、酸化防止剤、紫外線吸収剤等から選ばれる1種または2種以上の化合物を使用することができる。
上記酸化防止剤としては、例えば、フェノール系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、イオウ系酸化防止剤、チオエーテル系酸化防止剤等が挙げられる。
上記フェノール系酸化防止剤としては、例えば、2−t−ブチル−6−(3−t−ブチル−2−ヒドロキシ−5−メチルベンジル)−4−メチルフェニルアクリレート、2,4−ジ−t−アミル−6−(1−(3,5−ジ−t−アミル−2−ヒドロキシフェニル)エチル)フェニルアクリレート等の特開昭63−179953号公報や特開平1−168643号公報に記載されるアクリレート系フェノール化合物;2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェノール、2,6−ジ−t−ブチル−4−エチルフェノール、オクタデシル−3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、2,2'−
メチレン−ビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、4,4'−ブチリデン−ビ
ス(6−t−ブチル−m−クレゾール)、4,4'−チオビス(3−メチル−6−t−ブ
チルフェノール)、ビス(3−シクロヘキシル−2−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)メタン、3,9−ビス(2−(3−(3−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロピオニルオキシ)−1,1−ジメチルエチル)−2,4,8,10−テトラオキサスピロ[5.5]ウンデカン、1,1,3−トリス(2−メチル−4−ヒドロキシ−5−t−ブチルフェニル)ブタン、1,3,5−トリメチル−2,4,6−トリス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)ベンゼン、テトラキス(メチレン−3−(3',5'−ジ−t−ブチル−4'−ヒドロキシフェニルプロピオネート)メタン[すな
わち、ペンタエリスリメチル−テトラキス(3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニルプロピオネート)]、トリエチレングリコールビス(3−(3−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロピオネート)、トコフェノール等のアルキル置換フェノール系化合物;6−(4−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブチルアニリノ)−2,4−ビスオクチルチオ−1,3,5−トリアジン、6−(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルアニリノ)−2,4−ビスオクチルチオ−1,3,5−トリアジン、6−(4−ヒドロキシ−3−メチル−5−t−ブチルアニリノ)−2,4−ビスオクチルチオ−1,3,5−トリアジン、2−オクチルチオ−4,6−ビス−(3,5−ジ−t−ブチル−4−オキシアニリノ)−1,3,5−トリアジン等のトリアジン基含有フェノール系化合物;等が挙げられる。これらの中でも、アクリレート系フェノール化合物やアルキル置換フェノール系化合物が好ましく、アルキル置換フェノール系化合物が特に好ましい。
メチレン−ビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、4,4'−ブチリデン−ビ
ス(6−t−ブチル−m−クレゾール)、4,4'−チオビス(3−メチル−6−t−ブ
チルフェノール)、ビス(3−シクロヘキシル−2−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)メタン、3,9−ビス(2−(3−(3−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロピオニルオキシ)−1,1−ジメチルエチル)−2,4,8,10−テトラオキサスピロ[5.5]ウンデカン、1,1,3−トリス(2−メチル−4−ヒドロキシ−5−t−ブチルフェニル)ブタン、1,3,5−トリメチル−2,4,6−トリス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)ベンゼン、テトラキス(メチレン−3−(3',5'−ジ−t−ブチル−4'−ヒドロキシフェニルプロピオネート)メタン[すな
わち、ペンタエリスリメチル−テトラキス(3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニルプロピオネート)]、トリエチレングリコールビス(3−(3−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロピオネート)、トコフェノール等のアルキル置換フェノール系化合物;6−(4−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブチルアニリノ)−2,4−ビスオクチルチオ−1,3,5−トリアジン、6−(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルアニリノ)−2,4−ビスオクチルチオ−1,3,5−トリアジン、6−(4−ヒドロキシ−3−メチル−5−t−ブチルアニリノ)−2,4−ビスオクチルチオ−1,3,5−トリアジン、2−オクチルチオ−4,6−ビス−(3,5−ジ−t−ブチル−4−オキシアニリノ)−1,3,5−トリアジン等のトリアジン基含有フェノール系化合物;等が挙げられる。これらの中でも、アクリレート系フェノール化合物やアルキル置換フェノール系化合物が好ましく、アルキル置換フェノール系化合物が特に好ましい。
上記リン系酸化防止剤としては、例えば、トリフェニルホスファイト、ジフェニルイソデシルホスファイト、フェニルジイソデシルホスファイト、トリス(ノニルフェニル)ホスファイト、トリス(ジノニルフェニル)ホスファイト、トリス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ホスファイト、トリス(2−t−ブチル−4−メチルフェニル)ホスファイト、トリス(シクロヘキシルフェニル)ホスファイト、2,2−メチレンビス(4,6−ジ−t−ブチルフェニル)オクチルホスファイト、9,10−ジヒドロ−9−オキサ−10−ホスファフェナントレン−10−オキサイド、10−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−9,10−ジヒドロ−9−オキサ−10−ホスファフェナントレン−10−オキサイド、10−デシロキシ−9,10−ジヒドロ−9−オキサ−10−ホスファフェナントレン等のモノホスファイト系化合物;4,4'−ブチリデン−ビス(
3−メチル−6−t−ブチルフェニル−ジ−トリデシルホスファイト)、4,4'−イソ
プロピリデン−ビス(フェニル−ジ−アルキル(C12〜C15)ホスファイト)、4,4'−イソプロピリデン−ビス(ジフェニルモノアルキル(C12〜C15)ホスファイ
ト)、1,1,3−トリス(2−メチル−4−ジ−トリデシルホスファイト−5−t−ブチルフェニル)ブタン、テトラキス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)−4,4'−ビ
フェニレンジホスファイト、サイクリックネオペンタンテトライルビス(イソデシルホスファイト)、サイクリックネオペンタンテトライルビス(ノニルフェニルホスファイト)、サイクリックネオペンタンテトライルビス(2,4−ジ−t−ブチルフェニルホスファイト)、サイクリックネオペンタンテトライルビス(2,4−ジメチルフェニルホスファイト)、サイクリックネオペンタンテトライルビス(2,6−ジ−t−ブチルフェニルホスファイト)等のジホスファイト系化合物等が挙げられる。これらの中でも、モノホスファイト系化合物が好ましく、トリス(ノニルフェニル)ホスファイト、トリス(ジノニルフェニル)ホスファイト、トリス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ホスファイト等が特に好ましい。
3−メチル−6−t−ブチルフェニル−ジ−トリデシルホスファイト)、4,4'−イソ
プロピリデン−ビス(フェニル−ジ−アルキル(C12〜C15)ホスファイト)、4,4'−イソプロピリデン−ビス(ジフェニルモノアルキル(C12〜C15)ホスファイ
ト)、1,1,3−トリス(2−メチル−4−ジ−トリデシルホスファイト−5−t−ブチルフェニル)ブタン、テトラキス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)−4,4'−ビ
フェニレンジホスファイト、サイクリックネオペンタンテトライルビス(イソデシルホスファイト)、サイクリックネオペンタンテトライルビス(ノニルフェニルホスファイト)、サイクリックネオペンタンテトライルビス(2,4−ジ−t−ブチルフェニルホスファイト)、サイクリックネオペンタンテトライルビス(2,4−ジメチルフェニルホスファイト)、サイクリックネオペンタンテトライルビス(2,6−ジ−t−ブチルフェニルホスファイト)等のジホスファイト系化合物等が挙げられる。これらの中でも、モノホスファイト系化合物が好ましく、トリス(ノニルフェニル)ホスファイト、トリス(ジノニルフェニル)ホスファイト、トリス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ホスファイト等が特に好ましい。
上記イオウ系酸化防止剤としては、例えば、ジラウリル3,3−チオジプロピオネート、ジミリスチル3,3'−チオジプロピオネート、ジステアリル3,3−チオジプロピオ
ネート、ラウリルステアリル3,3−チオジプロピオネート、ペンタエリスリトール−テトラキス−(β−ラウリル−チオ−プロピオネート)、3,9−ビス(2−ドデシルチオエチル)−2,4,8,10−テトラオキサスピロ[5,5]ウンデカン等が挙げられる。
ネート、ラウリルステアリル3,3−チオジプロピオネート、ペンタエリスリトール−テトラキス−(β−ラウリル−チオ−プロピオネート)、3,9−ビス(2−ドデシルチオエチル)−2,4,8,10−テトラオキサスピロ[5,5]ウンデカン等が挙げられる。
上記チオエーテル系酸化防止剤としては、例えば、テトラキス{メチレン−3−(ラウリルチオ)プロピオネート}メタン、ビス〔メチル−4−{3−n−アルキル(C12 or C14)チオプロピオニオジル}−5−t−ブチルフェニル〕スルフィド、ジトリデシル−3,3'−チオジプロピオネート等が挙げられる。
上記紫外線吸収剤としては、例えば、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、サリチル酸系紫外線吸収剤、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、アクリレート系紫外線吸収剤、金属錯塩系紫外線吸収剤等を挙げることができる。
上記ベンゾフェノン系紫外線吸収剤としては、例えば、2,4−ジヒドロキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン−5−スルホン酸3水和物、2−ヒドロキシ−4−オクチロキシベンゾフェノン、4−ドデカロキシ−2−ヒドロキシベンゾフェノン、4−ベンジルオキシ−2−ヒドロキシベンゾフェノン、2,2',4,4'−テトラヒドロキシベンゾフェノン、2,2'−ジヒドロキシ−4,4'−ジメトキシベンゾフェノン等が挙げられる。
上記サリチル酸系紫外線吸収剤としては、例えば、フェニルサルチレート,4−t−ブチルフェニル−2−ヒドロキシベンゾエート、フェニル−2−ヒドロキシベンゾエート、2,4−ジ−t−ブチルフェニル−3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート、ヘキサデシル−3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート等が挙げられる。
上記ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、例えば、2−(2−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)2H−ベンゾトリアゾール、2−(3−t−ブチル−2−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)−5−クロロ−2H−ベンゾトリアゾール、2−(3,5−ジ−t−ブチル−2−ヒドロキシフェニル)−5−クロロ−2H−ベンゾトリアゾール、2−(3,5−ジ−t−ブチル−2−ヒドロキシフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール、5−クロロ−2−(3,5−ジ−t−ブチル−2−ヒドロキシフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール、2−(3,5−ジ−t−アミル−2−ヒドロキシフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール、2−(2−ヒドロキシ−5−t−オクチルフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール、2−(2−ヒドロキシ−4−オクチルフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール、2−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−4−メチル−6−(3,4,5,6−テトラヒドロフタリミジルメチル)フェノール、2,2'−メチレンビス[4−(1,1
,3,3−テトラメチルブチル)−6−[(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)フェノール]]等が挙げられる。
,3,3−テトラメチルブチル)−6−[(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)フェノール]]等が挙げられる。
上記アクリレート系紫外線吸収剤としては、例えば、エチル−2−シアノ−3,3−ジフェニルアクリレート、2'−エチルヘキシル−2−シアノ−3,3−ジフェニルアクリ
レート等が挙げられる。
レート等が挙げられる。
上記金属錯塩系紫外線吸収剤としては、通常ニッケルやコバルトの錯塩が用いられる。具体的には、ニッケル[2,2'チオビス(4−t−オクチル)フェノレート]ノルマル
ブチルアミン、ニッケルジブチルジチオカルバメート、ニッケルビス[o−エチル−3,5−(ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)]ホスフェート、コバルトジシクロヘキシルジチオホスフェート、[1−フェニル,3−メチル,4−デカノニル,ピラゾレート(5)2]ニッケル等が挙げられる。
ブチルアミン、ニッケルジブチルジチオカルバメート、ニッケルビス[o−エチル−3,5−(ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)]ホスフェート、コバルトジシクロヘキシルジチオホスフェート、[1−フェニル,3−メチル,4−デカノニル,ピラゾレート(5)2]ニッケル等が挙げられる。
上記耐放射線剤としては、例えば、ロジン、ロジン誘導体(例えば、水素化ロジン、不均化ロジン、重合ロジン等の変性ロジン、およびこれらの変性ロジンエステル)、テルペン樹脂、テルペンフェノール樹脂、芳香族変性テルペン樹脂、水素化テルペン樹脂、脂肪族系石油樹脂、芳香族系石油樹脂、共重合系石油樹脂、脂環族系石油樹脂、水素化石油樹脂、アルキルフェノール樹脂等が挙げられる。
上記可塑剤としては、例えば、トリクレジルフォスフェート、トリキシリルフォスフェート、トリフェニルフォスフェート、トリエチルフェニルフォスフェート、ジフェニルクレジルフォスフェート、モノフェニルジクレジルフォスフェート、ジクレジルモノキシレニルフォスフェート、アリールアルキルフォスフェート、ジフェニルモノキシレニルフォスフェート、モルフォスフェート、トリオクチルフォスフェート、トリス(イソプロピルフェニル)フォスフェート等のリン酸トリエステル系可塑剤;フタル酸ジメチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジヘプチル、フタル酸ジ−n−オクチル、フタル酸ジ−2−エチルヘキシル、フタル酸ジイソノニル、フタル酸オクチルデシル、フタル酸ブチルベンジル等のフタル酸エステル系可塑剤;オレイン酸ブチル、グリセリンモノオレイン酸エステル等の脂肪酸一塩基酸エステル系可塑剤;アジピン酸ジブチル、アジピン酸ジ−n−脂肪酸二塩基酸エステル系可塑剤;二価アルコールエステル系可塑剤;オキシ酸エステル系可塑剤等が挙げられる。
上記滑剤としては、例えば、ワックス類、油剤、カプリン類、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、マーガリン酸、ステアリン酸、アラキジン酸、ベヘニン酸等の高級脂肪酸類またはこれらの金属塩類、すなわちリチウム塩、カルシウム塩、ナトリウム塩、マグネシウム塩、カリウム塩等、パルミチルアルコール、セチルアルコール、ステアリルアルコール等の脂肪族アルコール類、カプロン酸アミド、カプリル酸アミド、カプリン酸アミド、ラウリル酸アミド、ミリスチン酸アミド、パルミチン酸アミド、ステアリン酸アミド等の脂肪族アミド類、脂肪酸とアルコールとのエステル類、フルオロアルキルカルボン酸またはその金属塩、フルオロアルキルスルホン酸金属塩等のフッ素化合物類等が挙げられる。
上記ワックス類の例としては、モンタンワックス、ピートワックス、オゾケライト・セレシンワックス、石油ワックス等の鉱物性ワックス、ポリエチレンワックス、ポリプロピレンワックス等のポリオレフィンワックス、Fischer−Tropschワックス、化学修飾炭化水素ワックス、置換アミドワックス等の合成ワックス、植物ろう、動物ろう等が挙げられる。
上記油剤の例としては、芳香族系油、ナフテン系油、パラフィン系油の鉱物油、植物油、シリコンオイル等の天然および合成油等が挙げられる。シリコンオイルは粘度10〜5000cSt、好ましくは500cStのジメチルポリシロキサンを使用することができる。
上記ワックス類の例としては、モンタンワックス、ピートワックス、オゾケライト・セレシンワックス、石油ワックス等の鉱物性ワックス、ポリエチレンワックス、ポリプロピレンワックス等のポリオレフィンワックス、Fischer−Tropschワックス、化学修飾炭化水素ワックス、置換アミドワックス等の合成ワックス、植物ろう、動物ろう等が挙げられる。
上記油剤の例としては、芳香族系油、ナフテン系油、パラフィン系油の鉱物油、植物油、シリコンオイル等の天然および合成油等が挙げられる。シリコンオイルは粘度10〜5000cSt、好ましくは500cStのジメチルポリシロキサンを使用することができる。
上記離型剤としては、例えば、高級脂肪酸の低級(C1〜4)アルコールエステル(ステアリン酸ブチル等)、脂肪酸(C4〜30)の多価アルコールエステル(硬化ヒマシ油等)、脂肪酸のグリコールエステル、流動パラフィン等が挙げられる。
上記核剤としては、例えば、ナトリウム−2,2'−メチレンビス(4,6−ジ−t−
ブチルフェニル)ホスフェート、[リン酸−2,2'−メチレンビス(4,6−ジ−t−
ブチルフェニル)]ジヒドロオキシアルミニウム、ビス[リン酸−2,2'−メチレンビ
ス(4,6−ジ−t−ブチルフェニル)]ヒドロオキシアルミニウム、トリス[リン酸−2,2'−メチレンビス(4,6−ジ−t−ブチルフェニル)]アルミニウム、ナトリウ
ム−ビス(4−t−ブチルフェニル)ホスフェート、安息香酸ナトリウム等の安息香酸金属塩、p−t−ブチル安息香酸アルミニウム、1,3:2,4−ビス(O−ベンジリデン)ソルビトール、1,3:2,4−ビス(O−メチルベンジリデン)ソルビトール、1,3:2,4−ビス(O−エチルベンジリデン)ソルビトール、1,3−O−3,4−ジメチルベンジリデン−2,4−O−ベンジリデンソルビトール、1,3−O−ベンジリデン−2,4−O−3,4−ジメチルベンジリデンソルビトール、1,3:2,4−ビス(O−3,4−ジメチルベンジリデン)ソルビトール、1,3−O−p−クロロベンジリデン−2,4−O−3,4−ジメチルベンジリデンソルビトール、1,3−O−3,4−ジメチルベンジリデン−2,4−O−p−クロロベンジリデンソルビトール、1,3:2,4−ビス(O−p−クロロベンジリデン)ソルビトール、およびこれらの混合物等が挙げられる。
ブチルフェニル)ホスフェート、[リン酸−2,2'−メチレンビス(4,6−ジ−t−
ブチルフェニル)]ジヒドロオキシアルミニウム、ビス[リン酸−2,2'−メチレンビ
ス(4,6−ジ−t−ブチルフェニル)]ヒドロオキシアルミニウム、トリス[リン酸−2,2'−メチレンビス(4,6−ジ−t−ブチルフェニル)]アルミニウム、ナトリウ
ム−ビス(4−t−ブチルフェニル)ホスフェート、安息香酸ナトリウム等の安息香酸金属塩、p−t−ブチル安息香酸アルミニウム、1,3:2,4−ビス(O−ベンジリデン)ソルビトール、1,3:2,4−ビス(O−メチルベンジリデン)ソルビトール、1,3:2,4−ビス(O−エチルベンジリデン)ソルビトール、1,3−O−3,4−ジメチルベンジリデン−2,4−O−ベンジリデンソルビトール、1,3−O−ベンジリデン−2,4−O−3,4−ジメチルベンジリデンソルビトール、1,3:2,4−ビス(O−3,4−ジメチルベンジリデン)ソルビトール、1,3−O−p−クロロベンジリデン−2,4−O−3,4−ジメチルベンジリデンソルビトール、1,3−O−3,4−ジメチルベンジリデン−2,4−O−p−クロロベンジリデンソルビトール、1,3:2,4−ビス(O−p−クロロベンジリデン)ソルビトール、およびこれらの混合物等が挙げられる。
上記摩擦磨耗性向上剤としては、例えば、超高分子量ポリエチレンフィラー、PTFEフィラー、ポリイミドフィラー等の樹脂フィラーや、窒化ホウ素フィラー、窒化アルミフィラー等の無機フィラー等が挙げられる。
上記難燃剤としては、例えば、ハロゲン系難燃剤、リン系難燃剤、含窒素難燃剤、アンチモン系難燃剤を使用することができる。
上記ハロゲン系難燃剤としては、塩素系および臭素系の種々の難燃剤が使用可能であるが、難燃化効果、成形時の耐熱性、樹脂への分散性、樹脂の物性への影響等の面から、ペンタブロモジフェニルエーテル、オクタブロモジフェニルエーテル、デカブロモジフェニルエーテル、テトラブロモビスフェノールA、ヘキサブロモシクロドデカン、ヘキサブロモベンゼン、ペンタブロモエチルベンゼン、ヘキサブロモビフェニル、デカブロモジフェニル、ヘキサブロモジフェニルオキサイド、オクタブロモジフェニルオキサイド、デカブロモジフェニルオキサイド、ペンタブロモシクロヘキサン、テトラブロモビスフェノールA、およびその誘導体[例えば、テトラブロモビスフェノールA−ビス(ヒドロキシエチルエーテル)、テトラブロモビスフェノールA−ビス(2,3−ジブロモプロピルエーテル)、テトラブロモビスフェノールA−ビス(ブロモエチルエーテル)、テトラブロモビスフェノールA−ビス(アリルエーテル)等]、テトラブロモビスフェノールS、およびその誘導体[例えば、テトラブロモビスフェノールS−ビス(ヒドロキシエチルエーテル)、テトラブロモビスフェノールS−ビス(2,3−ジブロモプロピルエーテル)等]、テトラブロモ無水フタル酸、およびその誘導体[例えば、テトラブロモフタルイミド、エチレンビステトラブロモフタルイミド等]、エチレンビス(5,6−ジブロモノルボルネン−2,3−ジカルボキシイミド)、トリス−(2,3−ジブロモプロピル−1)−イソシアヌレート、ヘキサクロロシクロペンタジエンのディールス・アルダー反応の付加物、トリブロモフェニルグリシジルエーテル、トリブロモフェニルアクリレート、エチレンビストリブロモフェニルエーテル、エチレンビスペンタブロモフェニルエーテル、テトラデカブロモジフェノキシベンゼン、臭素化ポリスチレン、臭素化ポリフェニレンオキサイド、臭素化エポキシ樹脂、臭素化ポリカーボネート、ポリペンタブロモベンジルアクリレート、オクタブロモナフタレン、ヘキサブロモシクロドデカン、ビス(トリブロモフェニル)フマルアミド、N−メチルヘキサブロモジフェニルアミン等の臭素系難燃剤;塩素化パラフィン等の塩素系難燃剤を使用するのが好ましい。
上記ハロゲン系難燃剤としては、塩素系および臭素系の種々の難燃剤が使用可能であるが、難燃化効果、成形時の耐熱性、樹脂への分散性、樹脂の物性への影響等の面から、ペンタブロモジフェニルエーテル、オクタブロモジフェニルエーテル、デカブロモジフェニルエーテル、テトラブロモビスフェノールA、ヘキサブロモシクロドデカン、ヘキサブロモベンゼン、ペンタブロモエチルベンゼン、ヘキサブロモビフェニル、デカブロモジフェニル、ヘキサブロモジフェニルオキサイド、オクタブロモジフェニルオキサイド、デカブロモジフェニルオキサイド、ペンタブロモシクロヘキサン、テトラブロモビスフェノールA、およびその誘導体[例えば、テトラブロモビスフェノールA−ビス(ヒドロキシエチルエーテル)、テトラブロモビスフェノールA−ビス(2,3−ジブロモプロピルエーテル)、テトラブロモビスフェノールA−ビス(ブロモエチルエーテル)、テトラブロモビスフェノールA−ビス(アリルエーテル)等]、テトラブロモビスフェノールS、およびその誘導体[例えば、テトラブロモビスフェノールS−ビス(ヒドロキシエチルエーテル)、テトラブロモビスフェノールS−ビス(2,3−ジブロモプロピルエーテル)等]、テトラブロモ無水フタル酸、およびその誘導体[例えば、テトラブロモフタルイミド、エチレンビステトラブロモフタルイミド等]、エチレンビス(5,6−ジブロモノルボルネン−2,3−ジカルボキシイミド)、トリス−(2,3−ジブロモプロピル−1)−イソシアヌレート、ヘキサクロロシクロペンタジエンのディールス・アルダー反応の付加物、トリブロモフェニルグリシジルエーテル、トリブロモフェニルアクリレート、エチレンビストリブロモフェニルエーテル、エチレンビスペンタブロモフェニルエーテル、テトラデカブロモジフェノキシベンゼン、臭素化ポリスチレン、臭素化ポリフェニレンオキサイド、臭素化エポキシ樹脂、臭素化ポリカーボネート、ポリペンタブロモベンジルアクリレート、オクタブロモナフタレン、ヘキサブロモシクロドデカン、ビス(トリブロモフェニル)フマルアミド、N−メチルヘキサブロモジフェニルアミン等の臭素系難燃剤;塩素化パラフィン等の塩素系難燃剤を使用するのが好ましい。
上記リン系難燃剤としては、例えば、トリス(クロロエチル)ホスフェート、トリス(2,3−ジクロロプロピル)ホスフェート、トリス(2−クロロプロピル)ホスフェート、トリス(2,3−ブロモプロピル)ホスフェート、トリス(ブロモクロロプロピル)ホスフェート、2,3−ジブロモプロピル−2,3−クロロプロピルホスフェート、トリス(トリブロモフェニル)ホスフェート、トリス(ジブロモフェニル)ホスフェート、トリス(トリブロモネオペンチル)ホスフェート等の含ハロゲン系リン酸エステル難燃剤;トリメチルホスフェート、トリエチルホスフェート、トリブチルホスフェート、トリオクチルホスフェート、トリブトキシエチルホスフェート等の脂肪族リン酸エステル;トリフェニルホスフェート、クレジルジフェニルホスフェート、ジクレジルフェニルホスフェート、トリクレジルフホスフェート、トリキシレニルホスフェート、キシレニルジフェニルホスフェート、トリ(イソプロピルフェニル)ホスフェート、イソプロピルフェニルジフェニルホスフェート、ジイソプロピルフェニルフェニルホスフェート、トリ(トリメチルフェニル)ホスフェート、トリ(t―ブチルフェニル)ホスフェート、ヒドロキシフェニルジフェニルホスフェート、オクチルジフェニルホスフェート等の芳香族リン酸エステル等のノンハロゲン系リン酸エステル難燃剤;ジメチルホスフィン酸アルミニウム、ジエチルホスフィン酸アルミニウム等のホスフィン酸アルミニウム系難燃剤等が挙げられる。
上記含窒素難燃剤としては、メラミンシアヌレート、イソシアヌル酸、トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレート、トリアリルイソシアヌレート、トリス(2,3−エポキシプロピル)イソシアヌレート、塩酸グアニジン、硝酸グアニジン、リン酸グアニジン、硫酸グアニジン、スルファミン酸グアニジン、テトラホウ酸グアニジン、炭酸グアニジン、リン酸グアニル尿素、硫酸グアニル尿素、メラミン、メラミン・メラム・メレム、メラミンシアヌレート、リン酸メラミン、ピロリン酸メラミン、ポリリン酸メラミン、ポリリン酸メラミン・メラム・メレム、硫酸メラミン等が挙げられる。
上記アンチモン系難燃剤としては、酸化アンチモン、三酸化アンチモン、五酸化アンチモン、四酸化アンチモン、アンチモン酸ソーダ等が挙げられる。
上記含窒素難燃剤としては、メラミンシアヌレート、イソシアヌル酸、トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレート、トリアリルイソシアヌレート、トリス(2,3−エポキシプロピル)イソシアヌレート、塩酸グアニジン、硝酸グアニジン、リン酸グアニジン、硫酸グアニジン、スルファミン酸グアニジン、テトラホウ酸グアニジン、炭酸グアニジン、リン酸グアニル尿素、硫酸グアニル尿素、メラミン、メラミン・メラム・メレム、メラミンシアヌレート、リン酸メラミン、ピロリン酸メラミン、ポリリン酸メラミン、ポリリン酸メラミン・メラム・メレム、硫酸メラミン等が挙げられる。
上記アンチモン系難燃剤としては、酸化アンチモン、三酸化アンチモン、五酸化アンチモン、四酸化アンチモン、アンチモン酸ソーダ等が挙げられる。
上記発泡剤としては、一般的にゴムを発泡成形する際に用いられる発泡剤を広く使用することができ、具体的には、重炭酸ナトリウム、炭酸ナトリウム、重炭酸アンモニウム、炭酸アンモニウム、亜硝酸アンモニウム等の無機発泡剤、N,N'−ジメチル−N,N'−ジニトロソテレフタルアミド、N,N'−ジニトロソペンタメチレンテトラミン等のニト
ロソ化合物、アゾジカルボンアミド、アゾビスイソブチロニトリル、アゾシクロヘキシルニトリル、アゾジアミノベンゼン、バリウムアゾジカルボキシレート等のアゾ化合物、ベンゼンスルホニルヒドラジド、トルエンスルホニルヒドラジド、p,p'−オキシビス(
ベンゼンスルホニルヒドラジド)、ジフェニルスルホン−3,3'−ジスルホニルヒドラ
ジド等のスルホニルヒドラジド化合物、カルシウムアジド、4,4−ジフェニル、ジスルホニルアジド、p−トルエンスルホルニルアジド等のアジド化合物が挙げられる。
ロソ化合物、アゾジカルボンアミド、アゾビスイソブチロニトリル、アゾシクロヘキシルニトリル、アゾジアミノベンゼン、バリウムアゾジカルボキシレート等のアゾ化合物、ベンゼンスルホニルヒドラジド、トルエンスルホニルヒドラジド、p,p'−オキシビス(
ベンゼンスルホニルヒドラジド)、ジフェニルスルホン−3,3'−ジスルホニルヒドラ
ジド等のスルホニルヒドラジド化合物、カルシウムアジド、4,4−ジフェニル、ジスルホニルアジド、p−トルエンスルホルニルアジド等のアジド化合物が挙げられる。
上記帯電防止剤、防曇剤としては、例えば、カチオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤、両性界面活性剤、ノニオン性界面活性剤等が挙げられる。
上記カチオン系界面活性剤としては、例えば、ラウリルトリメチルアンモニウムクロライド、ステアリルトリメチルアンモニウムクロライド等のテトラアルキルアンモニウム塩等が挙げられる。
上記アニオン系界面活性剤としては、例えば、デカンスルホン酸ナトリウム、インデカンスルホン酸ナトリウム、ドデカンスルホン酸ナトリウム、トリデンカンスルホン酸ナトリウム、テトラデカンスルホン酸ナトリウム、ペンタデンカンスルホン酸ナトリウム、ヘキサデカンスルホン酸ナトリウム、ヘプタデンカンスルホン酸ナトリウム、オクタデカンスルホン酸ナトリウム、ノナデカンスルホン酸ナトリウム、ヘエイコサンスルホン酸ナトリウム、デカンスルホン酸カリウム、ウンデカンスルホン酸カリウム、ドデカンスルホン酸カリウム、トリデカンスルホン酸カリウム、テトラデカンスルホン酸カリウム、ペンタデカンスルホン酸カリウム、ヘキサデカンスルホン酸カリウム、ヘプタデカンスルホン酸カリウム、オクタデカンスルホン酸カリウム、ノナデカンスルホン酸カリウム、ヘエイコサンデカスルホン酸カリウム等のアルキルスルホン酸塩、デシルベンゼンスルホン酸ナトリウム、ウンデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム、トリデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム、テトラデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム、ペンタデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム、ヘキサデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム、ヘプタデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム、オクタデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム等のアルキルベンゼンスルホン酸塩、アルキルホスフェート等が挙げられる。
上記両性界面活性剤としては、例えば、ラウリルベタイン、ステアリルベタイン、ラウリルアミドプロピルベタイン、ステアリルアミドプロピルベタイン等のベタイン化合物、ラウリルジメチルアミンオキサイド、ステアリルジメチルアミンオキサイド等のジメチルアミンオキサイド化合物、N-ステアリル-α-アラニナート、N-ラウリル-α-アラニナート等のアラニン化合物等が挙げられる。
上記ノニオン性界面活性剤としては、例えば、ラウリン酸モノグリセライド、パルミチン酸モノグリセライド、ステアリン酸モノグリセライド、オレイン酸モノグリセライド、ベヘニン酸モノグリセライド、カプリル酸モノグリセライド、ヤシ脂肪酸モノグリセライド、ラウリン酸ジグリセライド、パルミチン酸ジグリセライド、ステアリン酸ジグリセライド、オレイン酸ジグリセライド、ベヘニン酸ジグリセライド、カプリル酸ジグリセライド、ヤシ脂肪酸ジグリセライド、ラウリン酸トリグリセライド、パルミチン酸トリグリセライド、ステアリン酸トリグリセライド、オレイン酸トリグリセライド、ベヘニン酸トリグリセライド、カプリル酸トリグリセライド、ヤシ脂肪酸トリグリセライド、ペンタエリスリトールモノラウレート、ペンタエリスリトールモノステアレート、ペンタエリスリトールジラウレート、ペンタエリスリトールジステアレート、ペンタエリスリトールトリステアレート、ペンタエリスリトールテトラステアレート、ペンタエリスリトールテトララウレート等のペンタエリスリトールの脂肪酸エステル、ソルビトールモノラウレート、ソルビトールモノステアレート、ソルビトールの脂肪酸エステルポリエチレングリコールモノラウレート、ポリエチレングリコールモノステアレート、ポリエチレングリコールモノオレート、ポリエチレングリコールジステアレート等のポリエチレングリコール脂肪酸エステル等の多価アルコールの脂肪酸エステル、ラウリン酸ジエタノールアミド、ステアリン酸ジエタノールアミド、ヤシ脂肪酸ジエタノールアミド等のジエタノールアミド類等が挙げられる。
上記着色剤としては、例えば、天然系、合成系各種染料や無機系、有機系各種顔料を任意に使用することができる。
上記アンチブロッキング剤としては、シリカ、アルミナ、アルミナシリケート、珪藻土等の微粒子無機化合物や、ポリエチレン、架橋ポリエチレン、ポリメチルメタクリレート、架橋ポリメチルメタクリレート等の微粒子状有機化合物等が挙げられる。
上記耐衝撃剤としては、例えば、コアシェル型構造を有する(メタ)アクリル酸エステル系耐衝撃剤等、種々のものを用いることができる。
上記表面ぬれ改善剤としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、3-グリシドキシ
プロピルトリメトキシシラン、3-メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3-アミノプロピルトリメトキシシラン等のシランカップリング剤等が挙げられる。
プロピルトリメトキシシラン、3-メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3-アミノプロピルトリメトキシシラン等のシランカップリング剤等が挙げられる。
上記充填材としては、無機充填材、有機充填材等が挙げられる。
上記無機充填材としては、例えば、シリカ、ケイ藻土、アルミナ、酸化チタン、酸化マグネシウム、軽石粉、軽石バルーン、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、塩基性炭酸マグネシウム、ドロマイト、硫酸カルシウム、チタン酸カリウム、硫酸バリウム、亜硫酸カルシウム、タルク、クレー、マイカ、アスベスト、ケイ酸カルシウム、モンモリロナイト、ベントナイト、グラファイト、アルミニウム粉、硫化モリブデン等が挙げられる。これらは、1種単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。
上記無機充填材としては、例えば、シリカ、ケイ藻土、アルミナ、酸化チタン、酸化マグネシウム、軽石粉、軽石バルーン、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、塩基性炭酸マグネシウム、ドロマイト、硫酸カルシウム、チタン酸カリウム、硫酸バリウム、亜硫酸カルシウム、タルク、クレー、マイカ、アスベスト、ケイ酸カルシウム、モンモリロナイト、ベントナイト、グラファイト、アルミニウム粉、硫化モリブデン等が挙げられる。これらは、1種単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。
上記有機充填材としては、例えば、デンプンおよびその誘導体、セルロースおよびその誘導体、パルプおよびその誘導体、紙およびその誘導体、小麦粉、おから、ふすま、ヤシ殻、コーヒー糟、タンパクや、フタル酸系、脂肪族多塩基酸系、グリセリン系、クエン酸系、グリコール系、オレフィン系の低分子量体や、ポリエチレンテレフタレート繊維、ポリエチレンナフタレート繊維、アラミド繊維等が挙げられる。
上記塩酸吸収剤としては、例えば、高級脂肪酸金属塩がある。具体的には、ステアリン酸ナトリウム、ステアリン酸マグネシウム、ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸リチウム、ステアリン酸バリウム、ステアリン酸アルミニウム、12−ヒドロキシステアリン酸ナトリウム、12−ヒドロキシステアリン酸カルシウム、12−ヒドロキシステアリン酸マグネシウム、12−ヒドロキシステアリン酸亜鉛等がある。また、エポキシ化ステアリン酸オクチル、エポキシ化大豆油等のエポキシ系化合物;水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、ハイドロタルナイト等の無機化合物等が挙げられる。
上記金属不活性化剤としては、例えば、N,N'−ジフェニルオキサミド、N−サリチ
ラル−N'−サリチロイルヒドラジン、N,N'−ビス(サリチロイル)ヒドラジン、N,N'−ビス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニルプロピオニル)ヒドラジ
ン、3−サリチロイルアミノ−1,2,4−トリアゾール、ビス(ベンジリデン)オキサリルジヒドラジド、オキサニリド、イソフタロイルジヒドラジド、セバコイルビスフェニルヒドラジド、N,N'−ビス(サリチロイル)オキサリルジヒドラジド、N,N'−ビス(サリチロイル)チオプロピオニルジヒドラジド等が挙げられる。
ラル−N'−サリチロイルヒドラジン、N,N'−ビス(サリチロイル)ヒドラジン、N,N'−ビス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニルプロピオニル)ヒドラジ
ン、3−サリチロイルアミノ−1,2,4−トリアゾール、ビス(ベンジリデン)オキサリルジヒドラジド、オキサニリド、イソフタロイルジヒドラジド、セバコイルビスフェニルヒドラジド、N,N'−ビス(サリチロイル)オキサリルジヒドラジド、N,N'−ビス(サリチロイル)チオプロピオニルジヒドラジド等が挙げられる。
[環状オレフィン系共重合体組成物の調製方法]
本実施形態に係る環状オレフィン系共重合体組成物の調製方法は、環状オレフィン系共重合体(m)と、ヒンダードフェノール(X)と、ヒンダードアミン系化合物(Y)と、必要に応じて環状オレフィン系重合体(n)と、エラストマーと、各種添加剤と、を混合することにより調製できる。混合方法としては、押出機等で溶融ブレンドする方法、または適当な溶媒、例えばヘプタン、ヘキサン、デカン、シクロヘキサンのような飽和炭化水素;トルエン、ベンゼン、キシレンのような芳香族炭化水素等に溶解、分散させて行う溶液ブレンド法等を採用することができる。
本実施形態に係る環状オレフィン系共重合体組成物の調製方法は、環状オレフィン系共重合体(m)と、ヒンダードフェノール(X)と、ヒンダードアミン系化合物(Y)と、必要に応じて環状オレフィン系重合体(n)と、エラストマーと、各種添加剤と、を混合することにより調製できる。混合方法としては、押出機等で溶融ブレンドする方法、または適当な溶媒、例えばヘプタン、ヘキサン、デカン、シクロヘキサンのような飽和炭化水素;トルエン、ベンゼン、キシレンのような芳香族炭化水素等に溶解、分散させて行う溶液ブレンド法等を採用することができる。
[ワニス]
本実施形態に係る環状オレフィン系共重合体組成物は、溶媒と混合することによりワニスとすることができる。
上記ワニスを調製するための溶媒としては、環状オレフィン系共重合体(m)、ヒンダードフェノール(X)およびヒンダードアミン系化合物(Y)に対して溶解性または親和性を損なわないものであれば特に限定されない。溶媒として好ましく用いられるものは、例えば、ヘプタン、ヘキサン、オクタン、デカン等の飽和炭化水素;シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、デカヒドロナフタレン等の脂環状炭化水素;トルエン、ベンゼン、キシレン、メシチレン、プソイドクメン等の芳香族炭化水素;メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノール、ペンタノール、ヘキサノール、プロパンジオール、フェノール等のアルコール;アセトン、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトン、ペンタノン、ヘキサノン、シクロヘキサノン、イソホロン、アセトフェノン等のケトン系溶媒;メチルセルソルブ、エチルセルソルブ等のセルソルブ類;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピオン酸メチル、ギ酸ブチル等のエステル類;トリクロルエチレン、ジクロルエチレン、クロルベンゼン等のハロゲン化炭化水素等が用いられる。好ましくはヘプタン、デカン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、デカヒドロナフタレン、トルエン、ベンゼン、キシレン、メシチレン、プソイドクメンが用いられる。これらの溶媒は単独で、または2種以上を任意の割合で混合して用いることができる。
本実施形態に係る環状オレフィン系共重合体組成物は、溶媒と混合することによりワニスとすることができる。
上記ワニスを調製するための溶媒としては、環状オレフィン系共重合体(m)、ヒンダードフェノール(X)およびヒンダードアミン系化合物(Y)に対して溶解性または親和性を損なわないものであれば特に限定されない。溶媒として好ましく用いられるものは、例えば、ヘプタン、ヘキサン、オクタン、デカン等の飽和炭化水素;シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、デカヒドロナフタレン等の脂環状炭化水素;トルエン、ベンゼン、キシレン、メシチレン、プソイドクメン等の芳香族炭化水素;メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノール、ペンタノール、ヘキサノール、プロパンジオール、フェノール等のアルコール;アセトン、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトン、ペンタノン、ヘキサノン、シクロヘキサノン、イソホロン、アセトフェノン等のケトン系溶媒;メチルセルソルブ、エチルセルソルブ等のセルソルブ類;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピオン酸メチル、ギ酸ブチル等のエステル類;トリクロルエチレン、ジクロルエチレン、クロルベンゼン等のハロゲン化炭化水素等が用いられる。好ましくはヘプタン、デカン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、デカヒドロナフタレン、トルエン、ベンゼン、キシレン、メシチレン、プソイドクメンが用いられる。これらの溶媒は単独で、または2種以上を任意の割合で混合して用いることができる。
本実施形態において、ワニスを作製する方法としては、いかなる方法で実施してもよいが、通常は環状オレフィン系共重合体組成物と溶媒とを混合する工程を含む。各成分の混合については、その順序に制限はなく、一括または分割等のいかなる方式でも実施することができる。ワニスを調製する装置としても、制限はなく、撹拌、混合が可能な、バッチ式、もしくは連続式の、いかなる装置で実施してもよい。ワニスを調製する際の温度は、室温から溶媒の沸点までの範囲で任意に選択することができる。
なお、環状オレフィン系共重合体(m)が得られた際の反応溶液をそのまま溶媒として用い、そこへヒンダードフェノール(X)およびヒンダードアミン系化合物(Y)を溶解させることによりワニスを調製してもよい。また、環状オレフィン系共重合体(m)が得られた際の反応溶液に、別途調製したヒンダードアミン系化合物(Y)のワニスを混合することによりワニスを調製してもよい。
なお、環状オレフィン系共重合体(m)が得られた際の反応溶液をそのまま溶媒として用い、そこへヒンダードフェノール(X)およびヒンダードアミン系化合物(Y)を溶解させることによりワニスを調製してもよい。また、環状オレフィン系共重合体(m)が得られた際の反応溶液に、別途調製したヒンダードアミン系化合物(Y)のワニスを混合することによりワニスを調製してもよい。
[架橋体(Q)の製造方法]
架橋体(Q)は、本実施形態に係る環状オレフィン系共重合体組成物の架橋体であり、上述の環状オレフィン系共重合体組成物中の環状オレフィン系共重合体(m)を架橋することにより得られる。環状オレフィン系共重合体(m)の架橋方法としては特に制限はないが、ラジカル重合開始剤や硫黄、ヒドロシリル基含有化合物、電子線や他の放射線を用いて、任意の形に成形しながら、または成形後に架橋する方法等が挙げられる。
架橋体(Q)は、本実施形態に係る環状オレフィン系共重合体組成物の架橋体であり、上述の環状オレフィン系共重合体組成物中の環状オレフィン系共重合体(m)を架橋することにより得られる。環状オレフィン系共重合体(m)の架橋方法としては特に制限はないが、ラジカル重合開始剤や硫黄、ヒドロシリル基含有化合物、電子線や他の放射線を用いて、任意の形に成形しながら、または成形後に架橋する方法等が挙げられる。
ラジカル重合開始剤による架橋は、ポリオレフィンで適用されている通常のラジカル重合開始剤による架橋方法をそのまま適用できる。すなわち環状オレフィン系共重合体組成物にジクミルペルオキシドのようなラジカル重合開始剤を配合し、加熱、架橋する。ラジカル重合開始剤の配合割合は特に制限がないものの、環状オレフィン系共重合体(m)100質量部あたり通常は0.02〜20質量部、好ましくは0.05〜10質量部であり、さらに好ましくは0.5〜10質量部である。ラジカル重合開始剤の配合割合が上記上限値以下であると、架橋体(Q)の誘電特性が向上し、上記下限値以上であると、架橋体(Q)の耐熱性、機械的特性を向上させることができる。
上記ラジカル重合開始剤としては、公知の熱ラジカル重合開始剤、光ラジカル重合開始剤およびこれらを併用することができる。これらのラジカル重合開始剤のうち、熱ラジカル重合開始剤を使用する場合は、保存安定性の観点から10時間半減期温度が通常80℃以上、好ましくは120℃以上のものである。このような開始剤として、例えば、ジクミルパーオキシド、t−ブチルクミルパーオキシド、2,5−ビス(t−ブチルパーオキシ)2,5−ジメチルヘキサン、2,5−ビス(t−ブチルパーオキシ)2,5−ジメチルヘキシン−3、ジ−t−ブチルパーオキシド、イソプロピルクミル−t−ブチルパーオキシド、ビス(α−t−ブチルパーオキシイソプロピル)ベンゼン、等のジアルキルパーオキシド類;1,1−ビス(t−ブチルパーオキシ)シクロヘキサン、1,1−ビス(t−ブチルパーオキシ)3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、1,1−ビス(t−ブチルパーオキシ)シクロドデカン、n−ブチル−4,4−ビス(t−ブチルパーオキシ)バレレート、エチル−3,3−ビス(t−ブチルパーオキシ)ブチレート、3,3,6,6,9,9−ヘキサメチル−1,2,4,5−テトラオキシシクロノナン等のパーオキシケタール類;ビス(t−ブチルパーオキシ)イソフタレート、t−ブチルパーオキシベンゾエート、t−ブチルパーオキシアセテート等のパーオキシエステル類;t−ブチルハイドロパーオキシド、t−ヘキシルハイドロパーオキシド、クミンハイドロパーオキシド、1,1,3,3−テトラメチルブチルハイドロパーオキシド、ジイソプロピルベンゼンハイドロパーオキシド、p−メンタンハイドロパーオキシド等のハイドロパーオキシド類;2,3−ジメチル−2,3−ジフェニルブタン等のビベンジル化合物類;3,3,5,7,7−ペンタメチル−1,2,4−トリオキセパン等が挙げられる。
ラジカル重合開始剤のうち、光ラジカル重合開始剤は具体的には、例えば、ベンゾインアルキルエーテル、ベンジルジメチルケタール、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、ベンゾフェノン、メチルベンゾイルフォーメート、イソプロピルチオキサントンおよびこれらの2種以上の混合物等が挙げられる。また、これらの光ラジカル重合開始剤とともに増感剤を使用することもできる。増感剤の例としては、アントラキノン、1,2−ナフトキノン、1,4−ナフトキノン、ベンズアントロン、p,p'−テトラメチルジアミノベンゾフェノン
、クロラニル等のカルボニル化合物、ニトロベンゼン、p−ジニトロベンゼン、2−ニトロフルオレン等のニトロ化合物、アントラセン、クリセン等の芳香族炭化水素、ジフェニルジスルフィド等の硫黄化合物、ニトロアニリン、2−クロロ−4−ニトロアニリン、5−ニトロ−2−アミノトルエン、テトラシアノエチレン等の窒素化合物等を挙げることができる。
、クロラニル等のカルボニル化合物、ニトロベンゼン、p−ジニトロベンゼン、2−ニトロフルオレン等のニトロ化合物、アントラセン、クリセン等の芳香族炭化水素、ジフェニルジスルフィド等の硫黄化合物、ニトロアニリン、2−クロロ−4−ニトロアニリン、5−ニトロ−2−アミノトルエン、テトラシアノエチレン等の窒素化合物等を挙げることができる。
硫黄等により架橋する場合には、環状オレフィン系共重合体組成物に硫黄系化合物、必要に応じて加硫促進剤、加硫促進助剤を配合して加熱し、架橋反応を行う。硫黄系化合物の配合量はとくに制限はないものの、架橋反応を効率よく進行させ、かつ得られる架橋物の物性改善を計ることおよび経済性の面等から環状オレフィン系共重合体(m)100質量部に対して通常0.1〜10質量部、好ましくは0.3〜5質量部の範囲で使用され、加硫促進剤や加硫促進助剤を併用する場合には通常0.1〜20質量部、好ましくは0.2〜10質量部の範囲で使用される。
架橋反応を起こすため使用される硫黄系化合物は公知の種々のものが使用でき、一例を挙げると硫黄、一塩化硫黄、二塩化硫黄、モルホリンジスルフィド、アルキルフェノールジスルフィド、テトラメチルチウラムジスルフィド、ジメチルジチオカルバミン酸セレン等がある。また加硫促進剤も種々のものを使用でき、N−シクロヘキシル−2−ベンゾチアゾール−スルフェンアミド、N−オキシジエチレン−2−ベンゾチアゾール−スルフェンアミド、N,N−ジイソプロピル−2−ベンゾチアゾール−スルフェンアミド、2−メルカプトベンゾチアゾール、2−(2,4−ジニトロフェニル)メルカプトベンゾチアゾール、2−(2,6−ジエチル−4−モルホリノチオ)ベンゾチアゾール、ベンゾチアジル−ジスルフィド等のチアゾール系;ジフェニルグアニジン、トリフェニルグアニジン、ジ−オルソ−トリルグアニジン、オルソートリルバイグアナイド、ジフェニルグアニジンフタレート等のグアニジン系;アセトアルデヒド−アニリン反応物;ブチルアルデヒド−アニリン縮合物;ヘキサメチレンテトラミン、アセトアルデヒドアンモニア等のアルデヒドアミン、またはアルデヒド−アンモニア系;2−メルカプトイミダゾリン等のイミダゾリン系;チオカルバニリド、ジエチルチオユリアジブチルチオユリア、トリメチルチオユリア、ジオルソートリルチオユリア等のチオユリア系;テトラメチルチウラムモノスルフィド、テトラメチルチウラムジスルフィド、テトラエチルチウラムジスルフィド、テトラブチルチウラムジスルフィド、ジペンタメチレンチウラムテトラスルフィド等のチウラム系;ジメチルジチオカルバミン酸亜鉛、ジエチルチオカルバミン酸亜鉛、ジ−n−ブチルジチオカルバミン酸亜鉛、エチルフェニルジチオカルバミン酸亜鉛、ブチルフェニルジチオカルバミン酸亜鉛、ジメチルジチオカルバミン酸ナトリウム、ジメチルジチオカルバミン酸セレン、ジエチルジチオカルバミン酸テルル等のジチオ酸塩系;ジブチルキサントゲン酸亜鉛等のザンテート系;等を挙げることができる。加硫促進助剤としては、酸化亜鉛、活性亜鉛華、炭酸亜鉛、複合亜鉛華、酸化マグネシウム、リサージ、鉛丹、塩基性炭酸鉛等の金属酸化物系、ステアリン酸、オレイン酸、ラウリン酸、ステアリン酸鉛等の脂肪酸系、トリエタノールアミン、ジエチレングリコール等の有機アミン・グリコール系等を挙げることができる。
架橋反応を起こすため使用される硫黄系化合物は公知の種々のものが使用でき、一例を挙げると硫黄、一塩化硫黄、二塩化硫黄、モルホリンジスルフィド、アルキルフェノールジスルフィド、テトラメチルチウラムジスルフィド、ジメチルジチオカルバミン酸セレン等がある。また加硫促進剤も種々のものを使用でき、N−シクロヘキシル−2−ベンゾチアゾール−スルフェンアミド、N−オキシジエチレン−2−ベンゾチアゾール−スルフェンアミド、N,N−ジイソプロピル−2−ベンゾチアゾール−スルフェンアミド、2−メルカプトベンゾチアゾール、2−(2,4−ジニトロフェニル)メルカプトベンゾチアゾール、2−(2,6−ジエチル−4−モルホリノチオ)ベンゾチアゾール、ベンゾチアジル−ジスルフィド等のチアゾール系;ジフェニルグアニジン、トリフェニルグアニジン、ジ−オルソ−トリルグアニジン、オルソートリルバイグアナイド、ジフェニルグアニジンフタレート等のグアニジン系;アセトアルデヒド−アニリン反応物;ブチルアルデヒド−アニリン縮合物;ヘキサメチレンテトラミン、アセトアルデヒドアンモニア等のアルデヒドアミン、またはアルデヒド−アンモニア系;2−メルカプトイミダゾリン等のイミダゾリン系;チオカルバニリド、ジエチルチオユリアジブチルチオユリア、トリメチルチオユリア、ジオルソートリルチオユリア等のチオユリア系;テトラメチルチウラムモノスルフィド、テトラメチルチウラムジスルフィド、テトラエチルチウラムジスルフィド、テトラブチルチウラムジスルフィド、ジペンタメチレンチウラムテトラスルフィド等のチウラム系;ジメチルジチオカルバミン酸亜鉛、ジエチルチオカルバミン酸亜鉛、ジ−n−ブチルジチオカルバミン酸亜鉛、エチルフェニルジチオカルバミン酸亜鉛、ブチルフェニルジチオカルバミン酸亜鉛、ジメチルジチオカルバミン酸ナトリウム、ジメチルジチオカルバミン酸セレン、ジエチルジチオカルバミン酸テルル等のジチオ酸塩系;ジブチルキサントゲン酸亜鉛等のザンテート系;等を挙げることができる。加硫促進助剤としては、酸化亜鉛、活性亜鉛華、炭酸亜鉛、複合亜鉛華、酸化マグネシウム、リサージ、鉛丹、塩基性炭酸鉛等の金属酸化物系、ステアリン酸、オレイン酸、ラウリン酸、ステアリン酸鉛等の脂肪酸系、トリエタノールアミン、ジエチレングリコール等の有機アミン・グリコール系等を挙げることができる。
環状オレフィン系共重合体組成物をラジカル重合開始剤架橋、硫黄架橋共に、架橋する温度は通常100〜300℃、好ましくは120〜250℃、さらに好ましくは120〜220℃の温度で行い、温度を段階的に変化させて架橋を行ってもよい。上記下限値以上であると、架橋を十分に進行させることができる。また、上記上限値以下であると、得られる架橋体の着色が抑制できたり、プロセスを簡略化できたりする。なお、参考として、代表的な二重結合含有重合体であるポリブタジエンは、一般に上記のような条件では架橋できず、300℃のような高温での架橋条件を必要とする。
本実施形態に係る環状オレフィン系共重合体組成物は、ヒドロシリル基を1分子中に少なくとも2つ有するヒドロシリル基含有化合物を用いて架橋することもできる。ヒドロシリル基含有化合物を用いた架橋については、例えば、特開2015−193680号公報に記載の方法にしたがって行うことができる。ここでは詳細は省略する。
電子線や他の放射線を用いて架橋する方法は、成型時の温度、流動性の制限を伴わないという利点があり、放射線としては、電子線の他、γ線、UV等を挙げることができる。
ラジカル重合開始剤や硫黄、ヒドロシリル基含有化合物等を用いる方法、放射線を用いて架橋する方法のいずれの場合も、架橋助剤の併用下に架橋することができる。
架橋助剤としては特に制限はないが、例えば、p−キノンジオキシム、p,p'−ジベ
ンゾイルキノンジオキシム等のオキシム類;エチレンジメタクリレート、ポリエチレングリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、アクリル酸/酸化亜鉛混合物、アリルメタクリレート等のアクリレートもしくはメタクリレート類;ジビニルベンゼン、ビニルトルエン、ビニルピリジン等のビニルモノマー類;ヘキサメチレンジアリルナジイミド、ジアリルイタコネート、ジアリルフタレート、ジアリルイソフタレート、ジアリルモノグリシジルイソシアヌレート、トリアリルシアヌレート、トリアリルイソシアヌレート等のアリル化合物類;N,N'−m
−フェニレンビスマレイミド、N,N'−(4,4'−メチレンジフェニレン)ジマレイミド等のマレイミド化合物類等、ビニルノルボルネン、エチリデンノルボルネン、ジシクロペンタジエン等の環状非共役ジエン類が挙げられる。これらの架橋助剤は単独で用いてもよいし、組み合わせて使用することもできる。
ンゾイルキノンジオキシム等のオキシム類;エチレンジメタクリレート、ポリエチレングリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、アクリル酸/酸化亜鉛混合物、アリルメタクリレート等のアクリレートもしくはメタクリレート類;ジビニルベンゼン、ビニルトルエン、ビニルピリジン等のビニルモノマー類;ヘキサメチレンジアリルナジイミド、ジアリルイタコネート、ジアリルフタレート、ジアリルイソフタレート、ジアリルモノグリシジルイソシアヌレート、トリアリルシアヌレート、トリアリルイソシアヌレート等のアリル化合物類;N,N'−m
−フェニレンビスマレイミド、N,N'−(4,4'−メチレンジフェニレン)ジマレイミド等のマレイミド化合物類等、ビニルノルボルネン、エチリデンノルボルネン、ジシクロペンタジエン等の環状非共役ジエン類が挙げられる。これらの架橋助剤は単独で用いてもよいし、組み合わせて使用することもできる。
架橋反応は、環状オレフィン系共重合体組成物と、上記したラジカル重合開始剤や硫黄、ヒドロシリル基含有化合物等の化合物との混合物を溶融状態として行うこともできるし、または該混合物を溶媒に溶解、または分散させた溶液状態で行うこともできるし、または溶媒に溶解した溶液状態から溶媒を揮発させフィルム、コーティング等任意の形に成形した後にさらに架橋反応を進行させることもできる。
溶融状態で反応を行う場合はミキシングロール、バンバリーミキサー、押出機、ニーダ、連続ミキサー等の混練装置を用いて、原料の混合物を溶融混練して反応させる。また、任意の手法で成形した後に更に架橋反応を進行させることもできる。
溶液状態で反応を行う場合に使用する溶媒としては上記溶液ブレンド法で用いた溶媒と同様の溶媒が使用できる。
電子線またはその他の放射線、UVを用いて架橋反応を行う場合には、任意の方法で付形した後に、反応を行うことができる。
[フィルムまたはシート]
本実施形態に係る環状オレフィン系共重合体組成物の架橋体はフィルムまたはシートに成形して各種用途に用いることができる。本実施形態に係る環状オレフィン系共重合体組成物を用いて、フィルムまたはシートを形成する方法としては、各種公知の方法が適用可能である。例えば、熱可塑性樹脂フィルム等の支持基材上に上述したワニスを塗布して乾燥後、加熱処理等して環状オレフィン系共重合体組成物を架橋することにより形成する方法が挙げられる。ワニスの支持基材への塗布方法は特に限定されないが、例えば、スピンコーターを用いた塗布、スプレーコーターを用いた塗布、バーコーターを用いた塗布等を挙げることができる。
また、本実施形態に係る環状オレフィン系共重合体組成物を溶融成形して、フィルムまたはシートを得る方法も挙げることができる。
本実施形態に係る環状オレフィン系共重合体組成物の架橋体はフィルムまたはシートに成形して各種用途に用いることができる。本実施形態に係る環状オレフィン系共重合体組成物を用いて、フィルムまたはシートを形成する方法としては、各種公知の方法が適用可能である。例えば、熱可塑性樹脂フィルム等の支持基材上に上述したワニスを塗布して乾燥後、加熱処理等して環状オレフィン系共重合体組成物を架橋することにより形成する方法が挙げられる。ワニスの支持基材への塗布方法は特に限定されないが、例えば、スピンコーターを用いた塗布、スプレーコーターを用いた塗布、バーコーターを用いた塗布等を挙げることができる。
また、本実施形態に係る環状オレフィン系共重合体組成物を溶融成形して、フィルムまたはシートを得る方法も挙げることができる。
[積層体]
本実施形態に係る上記フィルムまたはシートは基材に積層することにより、積層体として各種用途に用いることができる。本実施形態に係る積層体を形成する方法は各種公知の方法が適用可能である。
例えば、基材に対し、上述の方法により製造したフィルムまたはシートを積層し、必要に応じてプレス等により加熱硬化することにより積層体を作製することができる。
また、導体層に対して、前述した架橋体を含む電気絶縁層を積層することにより積層体を作製することもできる。
本実施形態に係る上記フィルムまたはシートは基材に積層することにより、積層体として各種用途に用いることができる。本実施形態に係る積層体を形成する方法は各種公知の方法が適用可能である。
例えば、基材に対し、上述の方法により製造したフィルムまたはシートを積層し、必要に応じてプレス等により加熱硬化することにより積層体を作製することができる。
また、導体層に対して、前述した架橋体を含む電気絶縁層を積層することにより積層体を作製することもできる。
[多層成形体または多層積層フィルム]
本実施形態に係る環状オレフィン系共重合体組成物は、各種の多層成形体または多層積層フィルムの表層に形成してもよい。このとき、環状オレフィン系共重合体組成物により形成された樹脂層は100μm以下であるのが好ましい。
各種の多層成形体または多層積層フィルムとしては、例えば、樹脂光学レンズ表面に本実施形態に係る環状オレフィン系共重合体組成物が形成された光学レンズ用多層成形体や、PETフィルムやPEフィルム等の樹脂フィルム表面にガスバリア性付与のために本実施形態に係る環状オレフィン系共重合体組成物が形成された多層ガスバリアフィルム等が挙げられる。
本実施形態に係る環状オレフィン系共重合体組成物は、各種の多層成形体または多層積層フィルムの表層に形成してもよい。このとき、環状オレフィン系共重合体組成物により形成された樹脂層は100μm以下であるのが好ましい。
各種の多層成形体または多層積層フィルムとしては、例えば、樹脂光学レンズ表面に本実施形態に係る環状オレフィン系共重合体組成物が形成された光学レンズ用多層成形体や、PETフィルムやPEフィルム等の樹脂フィルム表面にガスバリア性付与のために本実施形態に係る環状オレフィン系共重合体組成物が形成された多層ガスバリアフィルム等が挙げられる。
[プリプレグ]
また、本実施形態に係るプリプレグは、本実施形態に係る環状オレフィン系共重合体組成物とシート状繊維基材とを複合して形成されたものである。
プリプレグの製造方法としては特に限定されず、各種公知の方法が適用可能である。例えば、上述したワニスをシート状繊維基材に含浸し含浸体を得る工程と、得られた含浸体を加熱し上記ワニスに含まれる溶媒を乾燥する工程とを含む方法が挙げられる。
上記ワニスのシート状繊維基材への含浸は、例えば、所定量のワニスを、スプレーコート法、ディップコート法、ロールコート法、カーテンコート法、ダイコート法、スリットコート法等の公知の方法によりシート状繊維基材に塗布し、必要に応じてその上に保護フィルムを重ね、上側からローラー等で押圧することにより行うことができる。
また、上記含浸体を加熱し、上記ワニスに含まれる溶媒を乾燥する工程はとくに限定されないが、例えば、バッチ式で送風乾燥機により空気中あるいは窒素中で乾燥する、あるいは、連続工程で加熱炉を通すことによって乾燥する、等の方法を挙げることができる。
本実施形態においては、ワニスをシート状繊維基材に含浸させた後、得られた含浸体を所定温度に加熱することにより、上記ワニスに含まれる溶媒が蒸発し、プリプレグが得られる。
また、本実施形態に係るプリプレグは、本実施形態に係る環状オレフィン系共重合体組成物とシート状繊維基材とを複合して形成されたものである。
プリプレグの製造方法としては特に限定されず、各種公知の方法が適用可能である。例えば、上述したワニスをシート状繊維基材に含浸し含浸体を得る工程と、得られた含浸体を加熱し上記ワニスに含まれる溶媒を乾燥する工程とを含む方法が挙げられる。
上記ワニスのシート状繊維基材への含浸は、例えば、所定量のワニスを、スプレーコート法、ディップコート法、ロールコート法、カーテンコート法、ダイコート法、スリットコート法等の公知の方法によりシート状繊維基材に塗布し、必要に応じてその上に保護フィルムを重ね、上側からローラー等で押圧することにより行うことができる。
また、上記含浸体を加熱し、上記ワニスに含まれる溶媒を乾燥する工程はとくに限定されないが、例えば、バッチ式で送風乾燥機により空気中あるいは窒素中で乾燥する、あるいは、連続工程で加熱炉を通すことによって乾燥する、等の方法を挙げることができる。
本実施形態においては、ワニスをシート状繊維基材に含浸させた後、得られた含浸体を所定温度に加熱することにより、上記ワニスに含まれる溶媒が蒸発し、プリプレグが得られる。
本実施形態に係るシート状繊維基材を構成する繊維としては無機系および/または有機系の繊維が使用でき、特に限定されないが、例えば、PET(ポリエチレンテレフタレート)繊維、アラミド繊維、超高分子ポリエチレン繊維、ポリアミド(ナイロン)繊維、液晶ポリエステル繊維等の有機繊維;ガラス繊維、炭素繊維、アルミナ繊維、タングステン繊維、モリブデン繊維、チタン繊維、スチール繊維、ボロン繊維、シリコンカーバイド繊維、シリカ繊維等の無機繊維;等を挙げることができる。これらの中でも、有機繊維やガラス繊維が好ましく、特にアラミド繊維、液晶ポリエステル繊維、ガラス繊維が好ましい。ガラス繊維としては、Eガラス、NEガラス、Sガラス、Dガラス、Hガラス、Tガラス等を挙げることができる。
シート状繊維基材へのワニスの含浸は、例えば、浸漬および塗布によって実施される。含浸は必要に応じて複数回繰り返してもよい。
これらのシート状繊維基材は、それぞれ単独であるいは2種以上を組み合わせて用いることができ、その使用量は、所望により適宜選択されるが、プリプレグあるいは積層体中の、通常、10〜90質量%、好ましくは20〜80質量%、より好ましくは30〜70質量%の範囲である。この範囲にあれば、得られる積層体の誘電特性と機械強度が高度にバランスされ、好適である。
シート状繊維基材へのワニスの含浸は、例えば、浸漬および塗布によって実施される。含浸は必要に応じて複数回繰り返してもよい。
これらのシート状繊維基材は、それぞれ単独であるいは2種以上を組み合わせて用いることができ、その使用量は、所望により適宜選択されるが、プリプレグあるいは積層体中の、通常、10〜90質量%、好ましくは20〜80質量%、より好ましくは30〜70質量%の範囲である。この範囲にあれば、得られる積層体の誘電特性と機械強度が高度にバランスされ、好適である。
本実施形態に係るプリプレグの厚みは、使用目的に応じて適宜選択されるが、通常は0.001〜10mmであり、好ましくは0.005〜1mmであり、より好ましくは0.01〜0.5mmである。この範囲にあれば、積層時の賦形性や、硬化して得られる積層体の機械強度や靭性等の特性が充分に発揮され好適である。
[金属張積層板]
本実施形態に係るフィルム、シート、積層体またはプリプレグは、少なくとも一方の面に金属箔を積層して積層プレス等により加熱硬化することにより金属張積層板としてもよい。
金属箔としては、例えば、銅箔、アルミニウム箔、ニッケル箔、金箔、銀箔、ステンレス箔等が挙げられる。
本実施形態の金属張積層板を作製する方法は各種公知の方法が適用可能である。
例えば、本実施形態に係るフィルム、シート、積層体またはプリプレグに対し、金属箔を積層し、必要に応じてプレス等により加熱硬化することにより金属張積層板を作製することができる。
本実施形態に係るフィルム、シート、積層体またはプリプレグは、少なくとも一方の面に金属箔を積層して積層プレス等により加熱硬化することにより金属張積層板としてもよい。
金属箔としては、例えば、銅箔、アルミニウム箔、ニッケル箔、金箔、銀箔、ステンレス箔等が挙げられる。
本実施形態の金属張積層板を作製する方法は各種公知の方法が適用可能である。
例えば、本実施形態に係るフィルム、シート、積層体またはプリプレグに対し、金属箔を積層し、必要に応じてプレス等により加熱硬化することにより金属張積層板を作製することができる。
本実施形態に係る金属張積層板は、本実施形態に係る環状オレフィン系共重合体組成物を用いるものであるため、プリント配線基板に好適な誘電特性を満足しながら、耐熱老化性にも優れている。
そのため、本実施形態に係る金属張積層板は、プリント配線基板の絶縁層用材料として好適に使用することができる。
そのため、本実施形態に係る金属張積層板は、プリント配線基板の絶縁層用材料として好適に使用することができる。
[プリント配線基板]
本実施形態に係る環状オレフィン系共重合体組成物は、誘電特性、耐熱性、機械的特性等に優れることから、プリント配線基板に好適に用いることができる。
プリント配線基板の製造方法としては一般的に公知の方法を採用でき特に限定されないが、例えば、前述の方法により製造したフィルム、シート、積層体またはプリプレグを積層プレス等により加熱硬化し、電気絶縁層を形成する。次いで、得られた電気絶縁層に導体層を公知の方法で積層し、積層体を作製する。その後、該積層体中の導体層を回路加工等することにより、プリント配線基板を得ることができる。
本実施形態に係る環状オレフィン系共重合体組成物は、誘電特性、耐熱性、機械的特性等に優れることから、プリント配線基板に好適に用いることができる。
プリント配線基板の製造方法としては一般的に公知の方法を採用でき特に限定されないが、例えば、前述の方法により製造したフィルム、シート、積層体またはプリプレグを積層プレス等により加熱硬化し、電気絶縁層を形成する。次いで、得られた電気絶縁層に導体層を公知の方法で積層し、積層体を作製する。その後、該積層体中の導体層を回路加工等することにより、プリント配線基板を得ることができる。
導体層となる金属としては、銅、アルミニウム、ニッケル、金、銀、ステンレス等の金属を用いることができる。導体層の形成方法としては、例えば、該金属類を箔等にして電気絶縁層上に熱融着させる方法、該金属類を箔等にして電気絶縁層上に接着剤を用いて張り合わせる方法、あるいはスパッタ、蒸着、めっき等の方法で電気絶縁層上に該金属類からなる導体層を形成する方法等が挙げられる。プリント配線基板の態様としては、片面板、両面板のいずれでもよい。
このようなプリント配線基板は、例えば、半導体素子等の電子部品を搭載することにより、電子機器として使用することができる。電子機器は公知の情報に基づいて作製することができる。
このような電子機器としては、例えば、サーバ、ルータ、スーパーコンピューター、メインフレーム、ワークステーション等のICTインフラ機器;GPSアンテナ、無線基地局用アンテナ、ミリ波アンテナ、RFIDアンテナ等のアンテナ類;携帯電話、スマートフォン、PHS、PDA、タブレット端末等の通信機器;パーソナルコンピューター、テレビ、デジタルカメラ、デジタルビデオカメラ、POS端末、ウェアラブル端末、デジタルメディアプレーヤー等のデジタル機器;電子制御システム装置、車載通信機器、カーナビゲーション機器、ミリ波レーダー、車載カメラモジュール等の車載電子機器;半導体試験装置、高周波計測装置等;等が挙げられる。
このような電子機器としては、例えば、サーバ、ルータ、スーパーコンピューター、メインフレーム、ワークステーション等のICTインフラ機器;GPSアンテナ、無線基地局用アンテナ、ミリ波アンテナ、RFIDアンテナ等のアンテナ類;携帯電話、スマートフォン、PHS、PDA、タブレット端末等の通信機器;パーソナルコンピューター、テレビ、デジタルカメラ、デジタルビデオカメラ、POS端末、ウェアラブル端末、デジタルメディアプレーヤー等のデジタル機器;電子制御システム装置、車載通信機器、カーナビゲーション機器、ミリ波レーダー、車載カメラモジュール等の車載電子機器;半導体試験装置、高周波計測装置等;等が挙げられる。
[発泡体]
また、本実施形態に係る環状オレフィン系共重合体組成物を架橋するとともに発泡せしめることにより発泡体とすることができる。このとき、環状オレフィン系共重合体組成物に前述した発泡剤を添加してもよい。
また、本実施形態に係る環状オレフィン系共重合体組成物を架橋するとともに発泡せしめることにより発泡体とすることができる。このとき、環状オレフィン系共重合体組成物に前述した発泡剤を添加してもよい。
[用途]
本実施形態に係る環状オレフィン系共重合体組成物および架橋体(Q)は、耐溶剤性、耐熱性、機械的強度、透明性に優れるので、当該架橋体からなる成形体は、例えば光ファイバー、光導波路、光ディスク基盤、光フィルター、レンズ、光学用接着剤、PDP用光学フィルター、有機EL用コーティング材料、航空宇宙分野における太陽電池のベースフィルム基材、太陽電池や熱制御システムのコーティング材、半導体素子、発光ダイオード、各種メモリー類等の電子素子、ハイブリッドIC、MCM、プリント配線基板、プリント配線基板の絶縁層を形成するために用いられるプリプレグや積層体、表示部品等のオーバコート材料あるいは層間絶縁材料、液晶ディスプレイや太陽電池の基板、医療用器具、自動車用部材、離型剤、樹脂改質剤、ディスプレイ用透明基板、リチウムイオン電池用部材、半導体プロセス部材、フィルムコンデンサ、ガスバリアコート材、電線被服材、自動車用部材、航空宇宙用部材、半導体用プロセス材、電線被覆材、リチウムイオン電池用部材、燃料電池用部材、コンデンサーフィルム、フレキシブルディスプレイ部材、アンカーコート材、透明接着剤、改質材、架橋助剤、医療用容器、医療用カテーテル部材、防水シール材、離型材、ハードコート材、発泡改質剤といった用途で使用することができる。
特に、誘電特性の経時安定性に優れ、耐溶剤性、耐熱性、透明性、機械的特性等にも優れるので、高周波回路基板等の高周波用途に好適に用いることができる。さらに、ガスバリア性にも優れるため、液晶ディスプレイや太陽電池の基板やフィルムまたはシートとして好適に用いることができる。
本実施形態に係る環状オレフィン系共重合体組成物および架橋体(Q)は、耐溶剤性、耐熱性、機械的強度、透明性に優れるので、当該架橋体からなる成形体は、例えば光ファイバー、光導波路、光ディスク基盤、光フィルター、レンズ、光学用接着剤、PDP用光学フィルター、有機EL用コーティング材料、航空宇宙分野における太陽電池のベースフィルム基材、太陽電池や熱制御システムのコーティング材、半導体素子、発光ダイオード、各種メモリー類等の電子素子、ハイブリッドIC、MCM、プリント配線基板、プリント配線基板の絶縁層を形成するために用いられるプリプレグや積層体、表示部品等のオーバコート材料あるいは層間絶縁材料、液晶ディスプレイや太陽電池の基板、医療用器具、自動車用部材、離型剤、樹脂改質剤、ディスプレイ用透明基板、リチウムイオン電池用部材、半導体プロセス部材、フィルムコンデンサ、ガスバリアコート材、電線被服材、自動車用部材、航空宇宙用部材、半導体用プロセス材、電線被覆材、リチウムイオン電池用部材、燃料電池用部材、コンデンサーフィルム、フレキシブルディスプレイ部材、アンカーコート材、透明接着剤、改質材、架橋助剤、医療用容器、医療用カテーテル部材、防水シール材、離型材、ハードコート材、発泡改質剤といった用途で使用することができる。
特に、誘電特性の経時安定性に優れ、耐溶剤性、耐熱性、透明性、機械的特性等にも優れるので、高周波回路基板等の高周波用途に好適に用いることができる。さらに、ガスバリア性にも優れるため、液晶ディスプレイや太陽電池の基板やフィルムまたはシートとして好適に用いることができる。
以上、本発明の実施形態について述べたが、これらは本発明の例示であり、上記以外の様々な構成を採用することもできる。
また、本発明は前述の実施形態に限定されるものではなく、本発明の目的を達成できる範囲での変形、改良等は本発明に含まれるものである。
また、本発明は前述の実施形態に限定されるものではなく、本発明の目的を達成できる範囲での変形、改良等は本発明に含まれるものである。
以下、本発明を合成例、実施例によりさらに詳細に説明するが、本発明はこれにより何等制限されるものではない。
なお、合成例、実施例、比較例で用いた環状オレフィン系共重合体(m)の組成、極限粘度[η]は、次に述べる方法で測定した。
組成;1H−NMR測定を行い、二重結合炭素に直接結合している水素由来のピークとそれ以外の水素のピークの強度により環状非共役ジエン含量を算出した。
極限粘度[η];135℃デカリン中で測定した。
実施例および比較例によって得られたフィルムおよび積層体は次に述べる方法で評価を行った。
誘電正接評価:
実施例および比較例によって得られた積層フィルムについて、円筒空洞共振器法により、10GHzにおける誘電正接を評価した。
実施例および比較例によって得られた積層フィルムについて、円筒空洞共振器法により、10GHzにおける誘電正接を評価した。
耐熱老化性評価:
125℃のオーブン中で、表1記載の時間加熱処理した前後の誘電正接の変化量によって耐熱老化性を評価した。
125℃のオーブン中で、表1記載の時間加熱処理した前後の誘電正接の変化量によって耐熱老化性を評価した。
実験には以下の原材料を用いた。
遷移金属化合物(1)
(特開2004−331965号公報に記載の方法により合成。)
(特開2004−331965号公報に記載の方法により合成。)
MMAO(東ソー・ファインケム社製)
トルエン(富士フイルム和光純薬工業株式会社製:和光特級)
シクロヘキサン(富士フイルム和光純薬株式会社製:和光特級)
5−ビニル−2−ノルボルネン(東京化成工業株式会社製)
テトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]−3−ドデセン(三井化学株式会社製)
メタノール(富士フイルム和光純薬工業株式会社製:和光特級)
トルエン(富士フイルム和光純薬工業株式会社製:和光特級)
シクロヘキサン(富士フイルム和光純薬株式会社製:和光特級)
5−ビニル−2−ノルボルネン(東京化成工業株式会社製)
テトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]−3−ドデセン(三井化学株式会社製)
メタノール(富士フイルム和光純薬工業株式会社製:和光特級)
環状オレフィン系重合体(n):
重合体1:エチレンとテトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]−3−ドデセンとからなる共重合体(製品名:アペル6509T、三井化学社製)
重合体1:エチレンとテトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]−3−ドデセンとからなる共重合体(製品名:アペル6509T、三井化学社製)
ヒンダードアミン系化合物(Y):
化合物(Y)−4:CHIMASSORB 944 FDL(分子量2000〜3100)(BASF社製)
化合物(Y)−5:CHIMASSORB 2020 FDL(分子量2600〜3400)(BASF社製)
化合物(Y)−4:CHIMASSORB 944 FDL(分子量2000〜3100)(BASF社製)
化合物(Y)−5:CHIMASSORB 2020 FDL(分子量2600〜3400)(BASF社製)
比較用化合物:
化合物(R)−1:イルガノックス1010(BASF社製)
化合物(R)−2:イルガノックス1076(BASF社製)
化合物(R)−1:イルガノックス1010(BASF社製)
化合物(R)−2:イルガノックス1076(BASF社製)
ラジカル重合開始剤:
架橋剤1:パークミルD(日本油脂社製)
架橋剤1:パークミルD(日本油脂社製)
〔合成例1〕
十分に窒素置換した内容積1LのSUS製オートクレーブに、トルエン450ml、
5−ビニル−2−ノルボルネン(VNB)30ml、テトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]−3−ドデセン(TD)16ml、MMAO(東ソーファインケム社製)のヘキサン溶液をAl換算で0.9mmol、水素360mlを投入した後、系中にエチレンを全圧0.6MPaになるまで導入した。遷移金属化合物(1)0.028mmolのトルエン溶液を添加し、35℃で180分間重合を行った。その後、1mlのメタノールを圧入することにより重合を停止した。極限粘度[η]は0.35(dL/g)、NMRにより決定したポリマー中のVNB由来構造の組成比は26mol%、TD由来構造の組成比は12mol%であった。DSCで測定したガラス転移温度は96℃であった。
十分に窒素置換した内容積1LのSUS製オートクレーブに、トルエン450ml、
5−ビニル−2−ノルボルネン(VNB)30ml、テトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]−3−ドデセン(TD)16ml、MMAO(東ソーファインケム社製)のヘキサン溶液をAl換算で0.9mmol、水素360mlを投入した後、系中にエチレンを全圧0.6MPaになるまで導入した。遷移金属化合物(1)0.028mmolのトルエン溶液を添加し、35℃で180分間重合を行った。その後、1mlのメタノールを圧入することにより重合を停止した。極限粘度[η]は0.35(dL/g)、NMRにより決定したポリマー中のVNB由来構造の組成比は26mol%、TD由来構造の組成比は12mol%であった。DSCで測定したガラス転移温度は96℃であった。
[実施例1]
(ワニス1の調製)
合成例1で得られた環状オレフィン系共重合体(m)の溶液、環状オレフィン系重合体(n)として重合体1、ラジカル重合開始剤として架橋剤1、ヒンダードフェノール(X)として(X)−1、ヒンダードアミン系化合物(Y)として化合物(Y)−1、溶媒としてトルエン/シクロヘキサン混合溶媒を用い、表1の配合組成に従い秤量した。秤量したサンプルを十分に溶解するまで撹拌し、目的とするワニス状の環状オレフィン系共重合体組成物を得た。なお、表1中における各原料の配合割合の単位は質量部である。
(ワニス1の調製)
合成例1で得られた環状オレフィン系共重合体(m)の溶液、環状オレフィン系重合体(n)として重合体1、ラジカル重合開始剤として架橋剤1、ヒンダードフェノール(X)として(X)−1、ヒンダードアミン系化合物(Y)として化合物(Y)−1、溶媒としてトルエン/シクロヘキサン混合溶媒を用い、表1の配合組成に従い秤量した。秤量したサンプルを十分に溶解するまで撹拌し、目的とするワニス状の環状オレフィン系共重合体組成物を得た。なお、表1中における各原料の配合割合の単位は質量部である。
(フィルム製膜)
得られたワニス状の環状オレフィン系共重合体組成物を、PETフィルム上に10mm/秒の速度で塗工した後、窒素気流下送風乾燥機中150℃で4分乾燥した。次いで、得られたフィルムを2枚重ね、真空プレスにより、3.5MPaに加圧し、室温(25℃)から一定速度で昇温し、180℃で120分保持し、厚さ70μmの積層フィルムを得た。得られた積層フィルムについて各評価を行った。得られた結果を表1に示す。
得られたワニス状の環状オレフィン系共重合体組成物を、PETフィルム上に10mm/秒の速度で塗工した後、窒素気流下送風乾燥機中150℃で4分乾燥した。次いで、得られたフィルムを2枚重ね、真空プレスにより、3.5MPaに加圧し、室温(25℃)から一定速度で昇温し、180℃で120分保持し、厚さ70μmの積層フィルムを得た。得られた積層フィルムについて各評価を行った。得られた結果を表1に示す。
[比較例1]
表1に示す配合組成に変えた以外は、実施例1と同様にフィルムを作製し、評価を実施した。すなわち、ヒンダードアミン(X)、ヒンダートフェノール系化合物(Y)を加えずにフィルムの作製を行い、実施例1と同様に評価を実施した。
表1に示す配合組成に変えた以外は、実施例1と同様にフィルムを作製し、評価を実施した。すなわち、ヒンダードアミン(X)、ヒンダートフェノール系化合物(Y)を加えずにフィルムの作製を行い、実施例1と同様に評価を実施した。
[実施例2〜9および比較例2〜4]
表1に示す配合組成に変えた以外は、実施例1と同様にフィルムをそれぞれ作製し、それぞれ評価を実施した。得られた結果を表1に示す。
表1に示す配合組成に変えた以外は、実施例1と同様にフィルムをそれぞれ作製し、それぞれ評価を実施した。得られた結果を表1に示す。
Claims (15)
- 環状オレフィン系共重合体(m)と、下記一般式(1)で表されるヒンダードフェノール(X)と、下記一般式(2)で表されるピペリジル基を有するヒンダードアミン系化合物(Y)と、を含む環状オレフィン系共重合体組成物であって、
前記環状オレフィン系共重合体(m)は、
(A)下記一般式(I)で表される1種以上のオレフィン由来の繰り返し単位と、
(B)下記一般式(III)で表される1種以上の環状非共役ジエン由来の繰り返し単
位と、
(C)下記一般式(V)で表される1種以上の環状オレフィン由来の繰り返し単位と、を含み、
前記環状オレフィン系共重合体(m)中の繰り返し単位の合計モル数を100モル%とした場合に、前記オレフィン由来の繰り返し単位(A)の含有量が10モル%以上90モル%以下、前記環状非共役ジエン由来の繰り返し単位(B)の含有量が1モル%以上40モル%以下、および前記環状オレフィン由来の繰り返し単位(C)の含有量が1モル%以上30モル%以下であり、
当該環状オレフィン系共重合体組成物に含まれる前記環状オレフィン系共重合体(m)の含有量を100質量部としたとき、当該環状オレフィン系共重合体組成物中の前記ヒンダードアミン系化合物(Y)の含有量が、0.01質量部以上5質量部以下である環状オレフィン系共重合体組成物。
または1であり、R61〜R76ならびにRa1およびRb1は互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数1〜20のアルキル基、炭素原子数1〜20のハロゲン化アルキル基、炭素原子数3〜15のシクロアルキル基または炭素原子数6〜20の芳香族炭化水素基であり、R104は水素原子または炭素原子数1〜10のアルキル基であり、tは0〜10の正の整数であり、R75およびR76は互いに結合し
て単環または多環を形成していてもよい。〕
- 前記ヒンダードフェノール(X)の有機基Xが、炭素原子数1〜20の置換または未置換のアルキル基、シクロヘキシル基、あるいは炭素原子数6〜20の置換または未置換のアリール基であり、
前記アルキル基、前記シクロヘキシル基、および前記アリール基が有する置換基は、炭素原子数1〜12のアルキル基、炭素原子数6〜12のアリール基、ヒドロキシ基、メトキシ基、およびオキサジアゾール基からなる群より選ばれる、請求項1に環状オレフィン系共重合体組成物。 - 前記ヒンダードフェノール(X)の有機基Xが、メチル基、エチル基、n−プロピル基、n−オクチル基、n−テトラデシル基、n−ヘキサデシル基、2,4-ジ-t-ブチルフェニル基、および2,4−ジ−t−ペンチルフェニル基からなる群より選ばれる基である、
請求項1又は2に記載の環状オレフィン系共重合体組成物。 - 前記環状非共役ジエン由来の繰り返し単位(B)を構成する環状非共役ジエンが、5−ビニル−2−ノルボルネンまたは8−ビニル−9−メチルテトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]−3−ドデセンである請求項1乃至3のいずれか一項に記載の環状オレフィン系共重合体組成物。
- 前記環状オレフィン由来の繰り返し単位(C)を構成する環状オレフィンが、ビシクロ[2.2.1]−2−ヘプテンまたはテトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]−3−ドデセンである請求項1乃至4のいずれか一項に記載の環状オレフィン系共重合
体組成物。 - 前記環状オレフィン系共重合体(m)とは異なる環状オレフィン系重合体(n)をさらに含み、
前記環状オレフィン系重合体(n)は、エチレンまたはα−オレフィンと環状オレフィンとの共重合体(n1)(ただし、前記共重合体(n1)は下記一般式(III)で表され
る環状非共役ジエン由来の繰り返し単位を含まない)および環状オレフィンの開環重合体(n2)から選択される少なくとも一種を含み、
前記環状オレフィン系共重合体(m)と前記環状オレフィン系重合体(n)との合計量を100質量%としたとき、
前記環状オレフィン系重合体(m)の含有量が5質量%以上95質量%以下であり、前記環状オレフィン系重合体(n)の含有量が5質量%以上95質量%以下である請求項1乃至5のいずれか一項に記載の環状オレフィン系共重合体組成物。
または1であり、R61〜R76ならびにRa1およびRb1は互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数1〜20のアルキル基、炭素原子数1〜20のハロゲン化アルキル基、炭素原子数3〜15のシクロアルキル基または炭素原子数6〜20の芳香族炭化水素基であり、R104は水素原子または炭素原子数1〜10のアルキル基であり、tは0〜10の正の整数であり、R75およびR76は互いに結合し
て単環または多環を形成していてもよい。〕 - 前記ヒンダードアミン系化合物(Y)の分子量は1000以上である請求項1乃至6のいずれか一項に記載の環状オレフィン系共重合体組成物。
- 請求項1乃至7のいずれか一項に記載の環状オレフィン系共重合体組成物と溶媒を含有するワニス。
- 請求項1乃至7のいずれか一項に記載の環状オレフィン系共重合体組成物の架橋体。
- 請求項9に記載の架橋体を含むフィルムまたはシート。
- 請求項10に記載のフィルムまたはシートを基材に積層した積層体。
- 請求項1乃至7のいずれか一項に記載の環状オレフィン系共重合体組成物とシート状繊維基材とを含むプリプレグ。
- 請求項10に記載のフィルムまたはシート、請求項11に記載の積層体、および請求項12に記載のプリプレグから選択される少なくとも一種と、金属箔と、を積層してなる金属張積層板。
- 請求項10に記載のフィルムまたはシート、請求項11に記載の積層体、および請求項12に記載のプリプレグから選択される少なくとも一種により形成された電気絶縁層と、前記電気絶縁層上に設けられた導体層とを備えるプリント配線基板。
- 請求項14に記載のプリント配線基板を備えた電子機器。
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