WO2023214539A1 - ガラス板の洗浄装置及びガラス板の製造方法 - Google Patents

ガラス板の洗浄装置及びガラス板の製造方法 Download PDF

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WO2023214539A1
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glass plate
cleaning liquid
liquid supply
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薫 鑑継
好晴 山本
靖史 遠藤
弘樹 中塚
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Nippon Electric Glass Co Ltd
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Nippon Electric Glass Co Ltd
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    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C23/00—Other surface treatment of glass not in the form of fibres or filaments

Definitions

  • the present invention relates to a glass plate cleaning apparatus and a glass plate manufacturing method including a cleaning process.
  • Displays such as liquid crystal displays and organic EL displays are becoming increasingly high-definition. Accordingly, a dense electric circuit is formed on a glass plate used as a display substrate during the display manufacturing process. Therefore, this type of glass plate is required to have high cleanliness, free from dust and dirt.
  • a cleaning process is generally provided in which the glass plate is cleaned using a cleaning device. It is true.
  • Examples of the method for cleaning the main surface of the glass plate include the method disclosed in Patent Document 1.
  • each cleaning member is rotated in a state in which a plurality of cleaning members are in contact with a glass plate. In this way, the glass plate is cleaned while being rubbed.
  • the cleaning member is attached to the tip of the rotating shaft (spindle) and rotates together with the rotating shaft.
  • the cleaning device disclosed in Patent Document 1 includes a housing having an internal space in which cleaning liquid is stored, and the vertically intermediate portion of the rotating shaft is immersed in the cleaning liquid within the housing.
  • a cleaning liquid supply path (communication path) is provided that communicates the outer peripheral surface of the intermediate portion of the rotating shaft immersed in the cleaning liquid with the lower end of the rotating shaft, and through this cleaning liquid supply path, The cleaning liquid inside the housing is supplied to the cleaning member.
  • the glass plate may be tilted in the width direction, as disclosed in FIG. 3 of Patent Document 1.
  • the cleaning device is also arranged at an angle depending on the inclination of the glass plate. Therefore, the casing in which the cleaning liquid is stored also assumes an inclined posture matching the inclination of the glass plate.
  • the depth of the cleaning liquid inside the housing changes in the width direction. In other words, if one end in the width direction is located higher than the other end in the width direction, the depth of the cleaning liquid inside the casing at one end in the width direction is shallower than the depth of the cleaning liquid inside the casing at the other end in the width direction. .
  • the cleaning liquid cannot be sufficiently supplied to the cleaning member through the cleaning liquid supply path in a portion where the depth of the cleaning liquid inside the housing is shallow.
  • Patent Document 1 there is still a risk that cleaning liquid may not be sufficiently supplied to the cleaning member, resulting in uneven cleaning of the glass plate.
  • An object of the present invention is to reliably reduce uneven cleaning of glass plates.
  • the glass plate cleaning device which was invented to solve the above problems, includes an upper rotating shaft and an upper cleaning member that is provided at the lower end of the upper rotating shaft and cleans the upper surface of the glass plate.
  • the cleaning liquid supplied from the cleaning liquid supply section flows into the upper cleaning liquid supply path from the inlet of the upper cleaning liquid supply path provided in the upper rotating shaft.
  • the cleaning liquid that has flowed in from the inlet flows through the upper cleaning liquid supply path, then flows out from the outlet of the upper cleaning liquid supply path provided in the upper rotating shaft, and is supplied to the upper cleaning member. Therefore, even if the cleaning device is tilted according to the inclination of the glass plate, the inlet of the upper cleaning liquid supply path is provided on the upper side of the upper rotating shaft, so the cleaning liquid can be flowed from the cleaning liquid supply part into the upper cleaning liquid supply path. Easy to supply. Therefore, a sufficient amount of cleaning liquid can be supplied to the upper cleaning member through the upper cleaning liquid supply path, and uneven cleaning on the glass plate can be suppressed.
  • the upper rotating shaft is provided with a bearing that rotatably supports the upper rotating shaft, and that the upper rotating shaft has a penetration portion that supplies the cleaning liquid from the upper cleaning liquid supply path to the bearing.
  • the cleaning liquid in the upper cleaning liquid supply path can be supplied to the bearing through the penetration part.
  • frictional heat generated between the upper rotating shaft and the bearing can be reduced, and wear of the rotating shaft and/or the bearing can be suppressed.
  • the penetrating portion be provided at a height position corresponding to the upper end of the bearing.
  • the outer circumferential surface of the upper rotating shaft has a notch at a height position corresponding to the bearing.
  • the space between the upper rotating shaft and the bearing becomes larger at the position where the notch is formed. Therefore, a part of the cleaning liquid supplied from the cleaning liquid supply section can be easily supplied between the upper rotating shaft and the bearing by using the space between the upper rotating shaft and the bearing formed by the notch.
  • the through portion is provided in the notch.
  • the notch is formed continuously from the upper end to the lower end of the upper rotating shaft.
  • the cleaning liquid supplied between the upper rotating shaft and the bearing can be easily discharged to the outside through the notch. Further, the cleaning liquid supplied without going through the upper cleaning liquid supply path can easily flow from the upper end of the upper rotating shaft between the upper rotating shaft and the bearing, thereby further reducing frictional heat. Furthermore, machining of the notch becomes easier.
  • a bearing is provided to rotatably support the upper rotating shaft, and the outer peripheral surface of the upper rotating shaft has a notch at a height position corresponding to the bearing.
  • the space between the upper rotating shaft and the bearing becomes larger at the position where the notch is formed. Therefore, a part of the cleaning liquid supplied from the upper cleaning liquid supply section can be easily supplied between the upper rotating shaft and the bearing by using the space formed by the notch between the upper rotating shaft and the bearing. .
  • the notch is formed continuously from the upper end to the lower end of the upper rotating shaft.
  • the cleaning liquid supplied between the upper rotating shaft and the bearing can be easily discharged to the outside through the notch. Further, the cleaning liquid supplied without going through the upper cleaning liquid supply path can easily flow from the upper end of the upper rotating shaft between the upper rotating shaft and the bearing, thereby further reducing frictional heat. Furthermore, machining of the notch becomes easier.
  • the configuration according to any one of (2) to (8) above includes a shaft case that accommodates at least a portion of the upper rotating shaft inside, the bearing is housed inside the shaft case, and the shaft It may be provided between the inner circumferential surface of the case and the outer circumferential surface of the upper rotating shaft.
  • the bearing Since the bearing is covered by the shaft case, it is generally difficult to supply cleaning liquid between the upper rotating shaft and the bearing. In this way, since the upper rotating shaft is provided with the through portion and/or the notch, the cleaning liquid can be reliably supplied between the upper rotating shaft and the bearing through these.
  • the inlet is provided on the upper end surface of the upper rotating shaft.
  • the cleaning liquid supplied from the cleaning liquid supply section can easily flow into the upper cleaning liquid supply path.
  • the outlet is provided on the lower end surface of the upper rotating shaft.
  • the cleaning liquid supplied from the cleaning liquid supply section can be efficiently guided into the upper cleaning liquid supply path by the liquid guiding member.
  • the liquid guiding member is provided on the upper rotating shaft and is rotatable together with the upper rotating shaft.
  • the liquid guide member can be easily installed, and the cleaning liquid can be more efficiently guided into the upper cleaning liquid supply path.
  • the inlet is provided at the upper end surface of the upper rotating shaft, and the liquid guiding member is provided at the upper end of the upper rotating shaft.
  • the liquid guiding member is provided only in a part of the upper rotating shaft in the circumferential direction.
  • the liquid guiding member is provided in a range of 20 to 80% of the entire circumference of the upper rotating shaft.
  • the cleaning liquid can be more efficiently guided into the upper cleaning liquid supply path.
  • the liquid guiding member has a shape that follows the circumference of the upper rotating shaft.
  • the cleaning liquid can be more efficiently guided into the upper cleaning liquid supply path. Further, shaft wobbling during rotation of the upper rotating shaft can be suppressed.
  • the lower surface cleaning mechanism includes a lower rotating shaft and a lower cleaning member that is provided at the upper end of the lower rotating shaft and cleans the lower surface of the glass plate.
  • the upper cleaning member and the lower cleaning member have an overlapping portion through which the cleaning liquid can pass and overlap each other when viewed from the top and bottom.
  • the cleaning liquid can be sufficiently supplied to the lower cleaning member through the overlapping portion with the upper cleaning member, it is possible to reliably suppress uneven cleaning on the upper and lower surfaces of the glass plate.
  • the lower rotating shaft is provided with a lower cleaning liquid supply path inside which the cleaning liquid flows, and the lower cleaning liquid supply path allows the cleaning liquid to flow into the lower cleaning liquid supply path above the lower rotating shaft. It is preferable to include an inlet for causing the cleaning liquid to flow out of the lower cleaning liquid supply path and an outlet for causing the cleaning liquid to flow out of the lower cleaning liquid supply path below the inlet of the lower rotating shaft.
  • the cleaning liquid supplied to the lower cleaning member via the upper cleaning member can be efficiently discharged to the outside through the lower cleaning liquid supply path of the lower rotating shaft.
  • the upper cleaning member and the lower cleaning member are preferably arranged coaxially.
  • the area of the overlapping portion of the upper cleaning member and the lower cleaning member becomes larger. Therefore, the cleaning liquid can be more efficiently supplied to the lower cleaning member via the upper cleaning member.
  • the upper cleaning member and the lower cleaning member move apart from each other when there is a glass plate, and move so as to come into contact with each other when there is no glass plate. It is preferable that the configuration is possible.
  • the cleaning liquid can be more efficiently supplied to the lower cleaning member via the upper cleaning member.
  • a glass plate cleaning device devised to solve the above problems includes a rotating shaft and a cleaning member provided at the lower end of the rotating shaft.
  • the rotating shaft has a cleaning liquid supply path therein that penetrates vertically, and the cleaning liquid supply path is provided at the upper end of the rotating shaft, and has an inlet into which the cleaning liquid supplied from the cleaning liquid supply section flows, and a lower end of the rotating shaft. It is characterized by comprising an outlet for discharging the cleaning liquid that has flowed in from the inlet.
  • a method for manufacturing a glass plate according to the present invention uses a glass plate cleaning device having any of the configurations (1) to (22) above to clean a glass plate. It is characterized by comprising a cleaning step for cleaning the board.
  • FIG. 1 is a side view showing a glass plate cleaning device according to a first embodiment.
  • 2 is a sectional view taken along line II in FIG. 1.
  • FIG. FIG. 2 is an enlarged cross-sectional view showing the vicinity of one cleaning unit included in the glass plate cleaning apparatus of FIG. 1.
  • FIG. 4 is a sectional view taken along line II-II in FIG. 3.
  • FIG. 3 is an enlarged cross-sectional view showing the vicinity of one cleaning unit included in the glass plate cleaning apparatus according to the second embodiment.
  • FIG. 3 is an enlarged cross-sectional view showing the vicinity of one cleaning unit included in the glass plate cleaning apparatus according to the third embodiment. It is a sectional view showing a glass plate cleaning device concerning a fourth embodiment.
  • FIG. 8 is an enlarged perspective view showing the vicinity of the liquid guide member included in the glass plate cleaning device shown in FIG. 7; 8 is an enlarged cross-sectional view showing the vicinity of one cleaning unit included in the glass plate cleaning apparatus of FIG. 7.
  • FIG. FIG. 7 is an enlarged cross-sectional view showing the vicinity of one cleaning unit included in the glass plate cleaning apparatus according to the fifth embodiment.
  • FIG. 7 is an enlarged cross-sectional view showing the vicinity of one cleaning unit included in the glass plate cleaning apparatus according to the sixth embodiment.
  • XYZ in the figure is an orthogonal coordinate system.
  • the X direction and the Y direction are horizontal directions, and the Z direction is a vertical direction.
  • Duplicate explanations may be omitted by assigning the same reference numerals to corresponding components in each embodiment.
  • the configuration of the other embodiments previously described can be applied to other parts of the configuration.
  • the glass plate cleaning apparatus 1 includes a pair of glass plates facing each other in the thickness direction of the glass plate G while conveying the glass plate G in a horizontal position in the conveying direction Y.
  • the upper surface Ga and the lower surface Gb, which are the main surfaces, are simultaneously cleaned.
  • the cleaning device 1 includes a cleaning area W and a drying area D.
  • the upper surface Ga of the glass plate G is a guaranteed surface
  • the lower surface Gb of the glass plate G is a non-guaranteed surface. Since electric circuits and the like are formed on the guarantee surface during the display manufacturing process, the cleanliness of the upper surface Ga of the glass plate G, which is the guarantee surface, is particularly important.
  • the size of one side of the glass plate G is preferably 500 mm to 4000 mm, the plate thickness is preferably 0.05 mm to 10 mm, and more preferably 0.2 mm to 0.7 mm.
  • the cleaning device 1 includes, in a cleaning area W, squeezing rollers 2 and 3 that remove liquid attached to the upper surface Ga and lower surface Gb of the glass plate G, an upper surface cleaning mechanism 4 that cleans the upper surface Ga of the glass plate G, and a glass plate G.
  • a lower surface cleaning mechanism 5 that cleans the lower surface Gb of G, and a cleaning liquid supply section 6 that supplies cleaning liquid CL to the upper surface cleaning mechanism 4 are provided.
  • a glass plate G is supplied to the cleaning area W by an arbitrary conveyance mechanism such as a roller arranged on the upstream side thereof.
  • the squeezing rollers 2 and 3 also function as a transport mechanism that transports the glass plate G by sandwiching it between the upper and lower sides.
  • the squeezing rollers 2 and 3 are constituted by a pair of upper and lower rollers including an upper roller and a lower roller.
  • the squeezing rollers 2 and 3 are arranged upstream and downstream of the cleaning mechanisms 4 and 5, respectively.
  • the upper surface cleaning mechanism 4 includes a plurality of cleaning units 7 that clean the upper surface Ga of the glass plate G, and a support body 8 that supports the plurality of cleaning units 7.
  • the plurality of cleaning units 7 are arranged in a row along the width direction X perpendicular to the transport direction Y, and are provided in a plurality of rows (two rows in the illustrated example) in the transport direction Y.
  • the lower surface cleaning mechanism 5 includes a plurality of cleaning units 9 that clean the lower surface Gb of the glass plate G, and a support body 10 that supports the plurality of cleaning units 9.
  • the plurality of cleaning units 9 are arranged in a row along the width direction X perpendicular to the transport direction Y, and are provided in a plurality of rows (two rows in the illustrated example) in the transport direction Y.
  • Each cleaning unit 9 of the lower surface cleaning mechanism 5 is arranged at a position corresponding to each cleaning unit 7 of the upper surface cleaning mechanism 4.
  • the corresponding cleaning units 7 and 9 are configured to sandwich the glass plate G being transported from both upper and lower sides.
  • the cleaning liquid supply section 6 is composed of a shower nozzle, and sprays and supplies the cleaning liquid CL toward the upper side of the upper rotating shaft 13, which will be described later.
  • the cleaning liquid supply section 6 may spray and supply the cleaning liquid CL to the upper side of the upper rotating shaft 13 from above, or may supply the cleaning liquid CL to the upper side of the upper rotating shaft 13 from the lateral direction (including diagonally upward and downward). It may also be something that supplies it by injection.
  • the cleaning liquid supply unit 6 is arranged above the upper surface cleaning mechanism 4 and the cleaning liquid CL is sprayed and supplied from above toward the upper end surface (upper end portion) of the upper rotating shaft 13 (falling supply).
  • the cleaning liquid supply unit 6 is not limited to a shower nozzle, and any mechanism that can supply the cleaning liquid CL toward the upper side of the upper rotating shaft 13 can be adopted.
  • a cleaning liquid for example, liquid detergent
  • a rinsing liquid for example, water
  • the supports 8 and 10 have a housing structure with an internal space.
  • the cleaning liquid CL is not stored in the internal spaces of the supports 8 and 10.
  • Each cleaning unit 7 of the upper surface cleaning mechanism 4 includes a shaft case 11 fixed to a support 8 and an upper rotating shaft 13 partially housed in the shaft case 11 (the middle portion excluding the upper end and the lower end). , an upper cleaning member 15 attached to the lower end of the upper rotating shaft 13 outside the support body 8 and the shaft case 11.
  • Each cleaning unit 9 of the lower surface cleaning mechanism 5 includes a shaft case 12 fixed to a support 10, a lower rotating shaft 14 partially housed in the shaft case 12 (the middle portion excluding the upper end and the lower end). , a lower cleaning member 16 attached to the upper end of the lower rotating shaft 14 outside the support body 10 and the shaft case 12.
  • each cleaning unit 7, 9 the corresponding rotating shaft 13, 14 and cleaning member 15, 16 rotate integrally.
  • the shaft cases 11 and 12 are cylindrical members having a slightly larger diameter than the corresponding rotating shafts 13 and 14.
  • the shaft cases 11 and 12 are inserted and fixed into holes provided in the upper and lower surfaces of the corresponding supports 8 and 10, respectively.
  • the sliding bearings 17 to 20 may be made of metal, for example, but in this embodiment, they are made of resin (for example, thermoplastic resin, thermosetting resin, etc.).
  • the upper cleaning member 15 is removable from the upper rotating shaft 13.
  • the upper cleaning member 15 includes a cleaning section 15a that comes into contact with the upper surface Ga of the glass plate G to clean it, and a support section 15b that supports the cleaning section 15a.
  • the lower cleaning member 16 is removable from the lower rotating shaft 14.
  • the lower cleaning member 16 includes a cleaning section 16a that contacts and cleans the lower surface Gb of the glass plate G, and a support section 16b that supports the cleaning section 16a.
  • the cleaning parts 15a and 16a may be, for example, brushes, but in this embodiment they are sponges. Although the shape of the cleaning portions 15a and 16a is not particularly limited, in this embodiment, it is disk-shaped.
  • the upper rotating shaft 13 includes an upper cleaning liquid supply path 21 in the center (inside) through which the cleaning liquid CL flows.
  • the upper cleaning liquid supply path 21 includes an inlet 21a that allows the cleaning liquid CL to flow into the upper cleaning liquid supply path 21 above the upper rotating shaft 13, and an inlet 21a that allows the cleaning liquid CL to flow into the upper cleaning liquid supply path 21 at the upper side of the upper rotating shaft 13, and an inlet 21a that allows the cleaning liquid CL to flow into the upper cleaning liquid supply path 21 at a lower side than the inlet 21a of the upper rotating shaft 13. and an outlet 21b through which the cleaning liquid CL flows out.
  • the lower rotating shaft 14 includes a lower cleaning liquid supply path 22 in the center (inside) through which the cleaning liquid CL flows.
  • the lower cleaning liquid supply path 22 includes an inlet 22a that allows cleaning liquid CL to flow into the lower cleaning liquid supply path 22 above the lower rotating shaft 14, and an inlet 22a that allows the cleaning liquid CL to flow into the lower cleaning liquid supply path 22 at the upper side of the lower rotating shaft 14, and an inlet 22a that allows the cleaning liquid CL to flow into the lower cleaning liquid supply path 22 at a lower side than the inlet 22a of the lower rotating shaft 14. and an outlet 22b through which the cleaning liquid CL flows out.
  • the cleaning liquid supply paths 21 and 22 linearly penetrate the corresponding rotating shafts 13 and 14 in the vertical direction Z. That is, the inflow ports 21a and 22a are provided on the upper end surfaces (upper end portions) of the corresponding rotating shafts 13 and 14, and the outlet ports 21b and 22b are provided on the lower end surfaces (lower end portions) of the corresponding rotating shafts 13 and 14. It is being
  • the upper cleaning member 15 has a supply hole 23 in the center (inside) that communicates with the outlet 21b of the upper cleaning liquid supply path 21 and penetrates in the vertical direction Z.
  • the lower cleaning member 16 communicates with the inlet 22a of the lower cleaning liquid supply path 22, and has a supply hole 24 in the vertical direction Z in the center (inside).
  • the supply holes 23 and 24 may be omitted when the cleaning members 15 and 16 are made of a material (for example, a porous material) that allows the cleaning liquid CL to pass therethrough.
  • the upper cleaning member 15 and the lower cleaning member 16 have overlapping parts that overlap each other when viewed from the vertical direction.
  • the upper cleaning member 15 and the lower cleaning member 16 are arranged on a concentric axis, and the area of the overlapping portion is substantially equal to the cleaning surface of the upper cleaning member 15 (or the cleaning surface of the lower cleaning member 16).
  • the area is essentially the same.
  • the area of the overlapping portion is preferably 70% or more, 80% or more, 90% or more, or 95% to 100% of the area of the cleaning surface of the upper cleaning member 15 (or the cleaning surface of the lower cleaning member 16).
  • the cleaning liquid CL dropped and supplied from the cleaning liquid supply section 6 arranged above the upper surface cleaning mechanism 4 flows into the upper cleaning liquid supply path 21 from the inlet 21a.
  • the cleaning liquid CL that has flowed into the upper cleaning liquid supply path 21 moves downward within the upper cleaning liquid supply path 21, flows out of the upper cleaning liquid supply path 21 from the outlet 21b, and is supplied to the supply hole 23 of the upper cleaning member 15. Ru.
  • the cleaning liquid CL supplied to the supply hole 23 is supplied to the glass plate G when the glass plate G is present between the upper cleaning member 15 and the lower cleaning member 16. Therefore, the cleaning liquid CL can be sufficiently supplied to the upper cleaning member 15 and the glass plate G through the upper cleaning liquid supply path 21, and the occurrence of uneven cleaning on the glass plate G can be suppressed.
  • the cleaning liquid CL is supplied to the lower cleaning member 16 of the lower surface cleaning mechanism 5 through the supply hole 23 of the upper cleaning member 15 in a state where there is no glass plate G between the upper cleaning member 15 and the lower cleaning member 16. .
  • the cleaning liquid CL supplied to the lower cleaning member 16 flows into the lower cleaning liquid supply path 22 from the inlet 22a through the supply hole 24.
  • the cleaning liquid CL that has flowed into the lower cleaning liquid supply path 22 moves downward within the lower cleaning liquid supply path 22, flows out of the lower cleaning liquid supply path 22 from the outlet 22b, and is discharged to the outside.
  • the upper cleaning member 15 descends under its own weight and comes into contact with the lower cleaning member 16. Therefore, as described above, when supplying the cleaning liquid CL from the upper surface cleaning mechanism 4 to the lower surface cleaning mechanism 5 without the glass plate G, the supply holes 23 and 24 of the upper and lower cleaning members 15 and 16 are in contact with each other. Communicate in the state.
  • the upper surface cleaning mechanism 4 includes a rotational drive mechanism 25 that rotationally drives the upper rotating shaft 13 of each cleaning unit 7.
  • the rotational drive mechanism 25 is configured to apply rotational driving force to the upper side of the upper rotating shaft 13 outside the support body 8 and the shaft case 11.
  • the rotational drive mechanism 25 includes a motor 27 and a gear mechanism 29 including a plurality of gears 29a that transmits the rotational driving force of the motor 27 to each upper rotation shaft 13.
  • the lower surface cleaning mechanism 5 includes a rotational drive mechanism 26 that rotationally drives the lower rotating shaft 14 of each cleaning unit 9.
  • the rotational drive mechanism 26 is configured to apply rotational driving force to the lower side of the lower rotating shaft 14 outside the support body 10 and the shaft case 12.
  • the rotational drive mechanism 26 includes a motor 28 and a gear mechanism 30 including a plurality of gears 30a that transmits the rotational driving force of the motor 28 to each lower rotation shaft 14.
  • a dedicated rotation drive mechanism 25, 26 is provided for each row of cleaning units 7, 9 provided in multiple rows in the transport direction Y.
  • the upper rotating shaft 13 has a through hole 31 as a penetrating portion for supplying the cleaning liquid CL from the internal upper cleaning liquid supply path 21 to the external sliding bearing 19. .
  • the through hole 31 supplies the cleaning liquid CL to the sliding bearing 19 provided at the upper end of the shaft case 11.
  • the through hole 31 is a horizontal hole that penetrates in the radial direction between the inner circumferential surface 13 a and the outer circumferential surface 13 b of the upper rotating shaft 13 , and is provided at a height corresponding to the upper end of the sliding bearing 19 .
  • the formation range of the through hole 31 in the Z-axis direction spans both upper and lower sides of the upper end surface of the sliding bearing 19.
  • the formation range of the through hole 31 is not particularly limited, and may be above the upper end of the sliding bearing 19 or below the upper end of the sliding bearing 19 (for example, at the upper end of the sliding bearing 19). and the lower end).
  • the outer peripheral surface 13b of the upper rotating shaft 13 has a notch 32 that is continuously formed from the upper end to the lower end of the upper rotating shaft 13.
  • the notch 32 has a linear shape extending in the vertical direction Z, and when the upper rotating shaft 13 is stopped, the circumferential position of the notch 32 is from the upper end to the lower end of the upper rotating shaft 13. does not change between
  • the portion of the outer circumferential surface 13b of the upper rotating shaft 13 in which the notch 32 is formed is separated inward from the inner circumferential surface 19a of the sliding bearing 19. Therefore, the notch 32 forms a space 33 between the outer circumferential surface 13b of the upper rotating shaft 13 and the inner circumferential surface 19a of the sliding bearing 19.
  • a through hole 31 is formed in the notch 32, and the upper cleaning liquid supply path 21 and the space 33 communicate with each other via the through hole 31.
  • the cleaning liquid CL in the upper cleaning liquid supply path 21 is efficiently supplied between the upper rotating shaft 13 and the sliding bearing 19 through the through hole 31. Furthermore, since the positions of the through hole 31 and the notch 32 change in the circumferential direction as the upper rotating shaft 13 rotates, the cleaning liquid CL is evenly supplied between the upper rotating shaft 13 and the sliding bearing 19. be done. Therefore, the frictional heat generated between the upper rotating shaft 13 and the sliding bearing 19 can be reduced, and wear of the upper rotating shaft 13 and/or the sliding bearing 19 can be suppressed. Note that a part of the cleaning liquid CL supplied from the cleaning liquid supply section 6 flows directly between the upper rotating shaft 13 and the sliding bearing 19 from the upper end opening of the space 33 without passing through the upper cleaning liquid supply path 21 . Such cleaning liquid CL also has the effect of reducing the frictional heat generated between the upper rotating shaft 13 and the sliding bearing 19.
  • the cleaning liquid CL supplied between the upper rotating shaft 13 and the upper sliding bearing 19 is discharged downward through the notch 32 (space 33).
  • the cleaning liquid CL discharged from the notch 32 moves downward between the upper rotating shaft 13 and the shaft case 11 and between the upper rotating shaft 13 and the lower sliding bearing 17 (formed by the notch 32). (the space between the upper rotating shaft 13 and the sliding bearing 17).
  • the cleaning liquid CL supplied between the upper rotating shaft 13 and the lower sliding bearing 17 is discharged downward through the notch 32 (space). That is, the cleaning liquid CL does not stay between the upper rotating shaft 13 and the shaft case 11.
  • the notch 32 is not limited to the case where it is formed continuously from the upper end to the lower end of the upper rotating shaft 13 on the outer circumferential surface 13b of the upper rotating shaft 13.
  • the notch portion 32 is located at a height position corresponding to the sliding bearing 17 and/or the sliding bearing 19 on the outer circumferential surface 13b of the upper rotating shaft 13 (preferably, a position that includes the entire upper and lower areas of the sliding bearings 17 and 19). It may also be formed only in one piece. However, from the viewpoint of workability, it is preferable that the notch portion 32 is continuously formed over the entire length of the outer circumferential surface 13b of the upper rotating shaft 13 in the upper and lower directions.
  • the lower rotating shaft 14 has a through hole (penetrating portion) 34 that communicates between the lower cleaning liquid supply path 22 and the sliding bearing 18 provided at the upper end of the shaft case 12. and a notch 35 that is continuously formed from the upper end to the lower end of the lower rotating shaft 14.
  • the through hole 34 is formed in a notch 35 .
  • the functions of the through hole 34 and the notch 35 are the same as those of the through hole 31 and the notch 32 in the upper surface cleaning mechanism 4 described above.
  • the cleaning device 1 includes an air knife 36 and a conveyance roller 37 in the drying area D.
  • the air knives 36 are arranged on both sides of the conveyance roller 37, both above and below.
  • the drying area D While the glass plate G is being conveyed by the conveyance roller 37, high-pressure air AG is injected from the air knife 36 onto the upper surface Ga and lower surface Gb of the glass plate G, thereby removing moisture adhering to these surfaces. .
  • the glass plate G may be dried by a known drying means other than the air knife 36. Further, the drying area D may be omitted.
  • This manufacturing method includes, for example, a molding process, an annealing process, a board sampling process, a cutting process, a cleaning process, an inspection process, and a packaging process.
  • a glass ribbon is formed from molten glass by a known method such as an overflow down-draw method or a float method.
  • the shaped glass ribbon is slowly cooled in order to reduce warpage and internal distortion of the shaped glass ribbon.
  • the slowly cooled glass ribbon is cut into predetermined lengths to obtain a plurality of original glass plates.
  • the original glass plate is cut into a predetermined size to obtain one or more glass plates G.
  • a method for cutting the original glass plate for example, bending stress cutting, laser cutting, laser fusing, etc. can be used. It is preferable that the glass plate G has a rectangular shape.
  • the above-mentioned cleaning device 1 is used to clean the glass plate G while being conveyed in a horizontal position.
  • the cleaning liquid CL supplied from the cleaning liquid supply section 6 is sufficiently supplied to the cleaning members 7 and 9 through the upper cleaning liquid supply path 21, so that uneven cleaning does not occur on the upper surface Ga and lower surface Gb of the glass plate G. can be suppressed.
  • the cleaned glass plate G is inspected for scratches, dust, dirt, etc. on the surface and/or for internal defects such as air bubbles and foreign objects.
  • the inspection is performed using an optical inspection device such as a camera.
  • glass plates G that satisfy the desired quality as a result of the inspection are packed.
  • Packing is performed by stacking a plurality of glass plates G horizontally or vertically on a predetermined pallet.
  • a protective sheet made of paper, foamed resin, or the like between the glass plates G in the stacking direction.
  • the present manufacturing method may further include a heat treatment step after the plate sampling step, and an end face processing step after the cutting step.
  • the through hole 41 is provided in the notch 32 at a height corresponding to the upper end of the sliding bearing 17.
  • the formation range of the through hole 41 in the Z direction extends over both upper and lower sides of the upper end surface of the sliding bearing 17.
  • the formation range of the through hole 41 is not particularly limited, and may be above the upper end of the sliding bearing 17 or below the upper end of the sliding bearing 17 (for example, at the upper end of the sliding bearing 17). and the lower end).
  • the upper rotating shaft 13 has a through hole 31 (see FIG. 3) that communicates the upper cleaning liquid supply path 21 with a sliding bearing 19 provided at the upper end of the shaft case 11, and a through hole 31 (see FIG. Each of them may be provided with a through hole 41 (see FIG. 5) that communicates with the sliding bearing 17 provided at the lower end.
  • the lower rotating shaft 14 has a through hole (not shown) that communicates the lower cleaning liquid supply path 22 with the sliding bearing 20 provided at the lower end of the shaft case 12. You may be prepared.
  • the outer peripheral surface of the lower rotating shaft 14 has a spiral notch that is continuously formed from the upper end to the lower end of the lower rotating shaft 14.
  • a section 52 is provided. The function of the notch 52 is similar to that of the notch 51 in the upper surface cleaning mechanism 4 described above.
  • the glass plate cleaning device 1 according to the fourth embodiment is different from the glass plate cleaning device 1 according to the first embodiment in that a liquid guide member R is further provided. be.
  • the liquid guiding member R is disposed between the upper rotating shaft 13 and the cleaning liquid supply section 6, and is for guiding the cleaning liquid CL supplied from the cleaning liquid supply section 6 to the inlet 21a of the upper cleaning liquid supply path 21. .
  • the liquid guiding member R is provided on the upper end surface of the upper rotating shaft 13 and is rotatable together with the upper rotating shaft 13.
  • the liquid guide member R is a plate-like member that extends upward from the inlet 21 a of the upper cleaning liquid supply path 21 and is capable of receiving the cleaning liquid CL supplied from the cleaning liquid supply section 6 .
  • liquid guiding member R is a separate item adhered to the upper end surface of the upper rotating shaft 13 by welding, the liquid guiding member R and the upper rotating shaft 13 may be integrated.
  • the liquid guide member R has the same thickness as the wall of the upper rotating shaft 13.
  • the liquid guiding member R has a shape (for example, a partially cylindrical shape such as a semi-cylindrical shape) that follows the periphery of the upper end surface of the upper rotating shaft 13 (the outline of the inlet 21a).
  • the liquid guiding member R is provided only on a part of the upper end surface of the upper rotating shaft 13 in the circumferential direction. That is, the upper end surface of the upper rotating shaft 13 has a portion where the liquid guiding member R is not provided.
  • the cleaning liquid CL that hits the liquid guide member R and is collected is guided to the inlet 21a of the upper cleaning liquid supply path 21 and is supplied into the upper cleaning liquid supply path 21. Therefore, the cleaning liquid CL can be efficiently guided into the upper cleaning liquid supply path 21.
  • a part of the cleaning liquid CL that hits the liquid guide member R and is collected is scattered to the surrounding area through the part where the liquid guide member R is not provided due to the centrifugal force caused by the rotation of the upper rotating shaft 13. , gear 29a, etc. As a result, the lubricity of gear 29a and the like becomes better.
  • liquid guide member R is provided in a range of 20 to 80% of the entire circumference of the upper end of the upper rotating shaft 13.
  • the glass plate cleaning device 1 according to the fourth embodiment is obtained by applying a liquid guide member R to the glass plate cleaning device 1 according to the second embodiment.
  • the glass plate cleaning device 1 according to the fifth embodiment is obtained by applying a liquid guiding member R to the glass plate cleaning device 1 according to the third embodiment.
  • the position of the inlet is not limited to this.
  • the inlet of the upper cleaning liquid supply path may be provided on the circumferential surface (side surface) of the upper rotating shaft as long as it is above the upper rotating shaft.
  • the inlet of the upper cleaning liquid supply path is formed by a horizontal hole passing through between the inner circumferential surface and the outer circumferential surface of the upper rotating shaft. That is, the upper end surface of the upper rotating shaft may be closed. It is preferable that the inlet of the upper cleaning liquid supply path is formed within a range of 1 ⁇ 3 of the total height from the top of the upper rotating shaft.
  • the inlet of the upper cleaning liquid supply path is preferably provided in a portion of the upper rotating shaft that is exposed to the outside of the support and the shaft case. Further, it is preferable that the inlet of the upper cleaning liquid supply path be provided in a portion of the upper rotating shaft located above the gear of the rotational drive mechanism. Note that similar modifications can be applied to the inlet of the lower cleaning liquid supply path. In other words, the inlet of the lower cleaning liquid supply path is not limited to being provided on the upper end surface of the lower rotating shaft as long as it is above the lower rotating shaft. (within 1/3 of the total height from the top).
  • the outlet of the upper cleaning liquid supply path is provided on the lower end surface of the upper rotating shaft, but the position of the outlet is not limited to this.
  • the outlet of the upper cleaning liquid supply path may be provided on the circumferential surface (side surface) of the upper rotating shaft as long as it is below the upper rotating shaft.
  • the outlet of the upper cleaning liquid supply path is formed by a horizontal hole passing through between the inner circumferential surface and the outer circumferential surface of the upper rotating shaft. That is, the lower end surface of the upper rotating shaft may be closed.
  • the outlet of the upper cleaning liquid supply path is preferably formed within a range of 1 ⁇ 3 of the total height from the bottom of the upper rotating shaft.
  • the outlet of the upper cleaning liquid supply path is preferably provided in a portion of the upper rotating shaft that is exposed to the outside of the support and the shaft case. Note that similar modifications can be applied to the outlet of the lower cleaning liquid supply path.
  • the outlet of the lower cleaning liquid supply path is not limited to being provided on the lower end surface of the lower rotating shaft as long as it is located below the lower rotating shaft. (within 1/3 of the total height from the bottom).
  • a notch and a through hole are provided at one location in the circumferential direction of the outer circumferential surface of the rotating shaft. They may be provided at multiple locations in the direction. Specifically, for example, notches extending vertically in a straight line may be provided at multiple locations in the circumferential direction of the rotating shaft, and through holes may be provided in each of the notches at a height corresponding to the sliding bearing. good.
  • the through hole is provided in the notch, but the through hole may be provided in a portion other than the notch. Moreover, either one of the through hole and the notch portion may be omitted.
  • the through hole that communicates the cleaning liquid supply path and the bearing is a through hole, but the through hole may be a slit or the like extending along a notch.
  • the notch formed on the outer circumferential surface of the rotating shaft of the upper surface cleaning mechanism and the notch formed on the outer circumferential surface of the rotating shaft of the lower surface cleaning mechanism have the same shape. Although described above, both may have different shapes (for example, one notch may be linear, the other notch may be spiral, etc.).
  • the cleaning member may be moved relative to the glass plate placed in a fixed position, or both the glass plate and the cleaning member may be moved.
  • the glass plate when cleaning and transporting the glass plate, may be inclined such that one end side is located lower than the other end side in the width direction perpendicular to the transport direction. This can prevent excess liquid adhering to the top surface of the glass plate from flowing down from the top surface of the glass plate under its own weight, thereby preventing the formation of a liquid pool on the top surface of the glass plate that causes stains.
  • the liquid guiding member provided on the upper end surface of the upper rotating shaft has a shape (for example, a partially cylindrical shape such as a semi-cylindrical shape) that follows the periphery of the upper end surface of the upper rotating shaft (outline of the inlet 21a).
  • a shape of the liquid guiding member is not limited to this, the shape of the liquid guiding member is not limited to this.
  • the liquid guide member may have, for example, a tapered shape or a funnel shape that increases in diameter as it moves upward away from the upper end surface of the upper rotating shaft.
  • the liquid guiding member is provided on the upper end surface of the upper rotating shaft and rotates integrally with the upper rotating shaft, but the position of the liquid guiding member is the inlet of the upper cleaning liquid supply path. It can be changed as appropriate within a range that allows the cleaning solution to be guided.
  • the liquid guiding member may be provided on the peripheral surface (side surface) of the upper rotating shaft.
  • the liquid guiding member may be fixed at a position apart from the upper rotating shaft. That is, the liquid guiding member may be configured not to rotate integrally with the upper rotating shaft.
  • the cleaning liquid supply section sprays and supplies cleaning liquid from the lateral direction of the upper end of the upper rotating shaft
  • no liquid guiding member is provided on the front side of the upper cleaning liquid supply path in the cleaning liquid injection supply direction, and the upper cleaning liquid is supplied. It is preferable to provide the liquid guide member on the back side across the path.
  • the inlet of the upper cleaning liquid supply path is provided on the upper peripheral surface (side surface) of the upper rotating shaft, it is preferable to adjust the position and shape of the liquid guide member according to the position of the inlet.

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Abstract

ガラス板の洗浄装置１は、上回転シャフト１３と、上回転シャフト１３の下端部に設けられた上洗浄部材１５とを備える。上回転シャフト１３は、上洗浄部材１５に洗浄液ＣＬを供給する上洗浄液供給路２１を内部に備える。上洗浄液供給路２１は、上回転シャフト１３の上端面に設けられ、洗浄液供給部６から供給される洗浄液ＣＬが流入する流入口２１ａと、上回転シャフト１３の下端面に設けられ、流入口２１ａから流入した洗浄液ＣＬを流出する流出口２１ｂとを備える。

Description

ガラス板の洗浄装置及びガラス板の製造方法
　本発明は、ガラス板の洗浄装置及び洗浄工程を含むガラス板の製造方法に関する。
　液晶ディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ等のディスプレイは、高精細化が推進されている。これに伴い、ディスプレイ用の基板として用いられるガラス板には、ディスプレイの製造工程において緻密な電気回路が形成される。したがって、この種のガラス板には、塵や汚れが付いていない高い清浄性が要求されている。
　そこで、ガラス板の製造工程では、元ガラス板を所定サイズに切断して複数枚のガラス板を得る切断工程の後等に、洗浄装置によって、ガラス板を洗浄する洗浄工程が設けられるのが一般的である。
　ガラス板の主表面の洗浄方法としては、例えば特許文献１に開示の方法が挙げられる。同文献では、複数の洗浄部材をガラス板に接触させた状態で、各洗浄部材を回転させる。これにより、ガラス板を擦りながら洗浄する。なお、洗浄部材は、回転シャフト（スピンドル）の先端部に装着され、回転シャフトと共に回転するようになっている。
特開２０２１－１１３１３２号公報
　特許文献１に開示の洗浄装置は、洗浄液が貯留された内部空間を有する筐体を備え、回転シャフトの上下方向の中間部が筐体内の洗浄液に浸漬された状態となっている。回転シャフトの内部には、洗浄液に浸漬された回転シャフトの中間部の外周面と、回転シャフトの下端部とを連通する洗浄液供給路（連通路）が設けられており、この洗浄液供給路を通じて、筐体内の洗浄液が洗浄部材に供給されるようになっている。
　ここで、洗浄工程では、特許文献１の図３に開示されているように、ガラス板を幅方向に傾斜させる場合がある。この場合、ガラス板の傾斜に応じて洗浄装置も傾けて配置される。そのため、洗浄液が貯留された筐体も、ガラス板の傾斜に合わせた傾斜姿勢となる。これに対し、筐体内の洗浄液の液面は水平を維持するため、筐体内の洗浄液の深さが幅方向において変化する。つまり、幅方向一端が幅方向他端よりも高位に位置する場合には、幅方向一端側における筐体内の洗浄液の深さが、幅方向他端側における筐体内の洗浄液の深さよりも浅くなる。その結果、筐体内の洗浄液の深さが浅くなる部分において、洗浄液供給路を通じて洗浄部材に対して十分に洗浄液を供給できないおそれがある。
　また、ガラス板を幅方向に傾斜させない場合でも、筐体内にポンプ等により洗浄液を外部から補充する際に、洗浄液を補充する筐体の補充口（供給口）に近い部分と遠い部分とで圧力差が生じやすい。そのため、筐体の補充口からの離間距離によっては、洗浄液供給路を通じて洗浄部材に対して十分に洗浄液を供給できないおそれがある。
　したがって、特許文献１に開示の構成では、洗浄部材に対して十分に洗浄液を供給できずに、ガラス板の洗浄ムラが生じるおそれが依然としてある。
　本発明は、ガラス板の洗浄ムラを確実に低減することを課題とする。
（１）　上記課題を解決するために創案された本発明に係るガラス板の洗浄装置は、上回転シャフトと、上回転シャフトの下端部に設けられ、ガラス板の上面を洗浄する上洗浄部材とを有する上面洗浄機構を備えたガラス板の洗浄装置であって、上回転シャフトの上側に対して洗浄液を供給する洗浄液供給部を備え、上回転シャフトは、洗浄液を流通させる上洗浄液供給路を内部に備え、上洗浄液供給路は、上回転シャフトの上側で上洗浄液供給路内に洗浄液を流入させる流入口と、上回転シャフトの流入口よりも下側で上洗浄液供給路外に洗浄液を流出させて上洗浄部材に供給する流出口とを備えることを特徴とする。
　このようにすれば、洗浄液供給部から供給される洗浄液が、上回転シャフトに設けられた上洗浄液供給路の流入口から上洗浄液供給路内に流入する。そして、流入口から流入した洗浄液は、上洗浄液供給路内を流通した後に、上回転シャフトに設けられた上洗浄液供給路の流出口から流出し、上洗浄部材に供給される。そのため、ガラス板の傾きに応じて洗浄装置を傾斜させたとしても、上洗浄液供給路の流入口が上回転シャフトの上側に設けられているため、洗浄液供給部から上洗浄液供給路内に洗浄液を供給しやすい。したがって、上洗浄液供給路を通じて上洗浄部材に対して十分に洗浄液を供給でき、ガラス板に洗浄ムラが生じるのを抑制できる。
（２）　上記（１）の構成において、上回転シャフトを回転可能に支持する軸受を備え、上回転シャフトは、上洗浄液供給路から軸受に洗浄液を供給する貫通部を有することが好ましい。
　このようにすれば、貫通部を通じて、上洗浄液供給路内の洗浄液を軸受に供給できる。その結果、上回転シャフトと軸受との間に発生する摩擦熱を低減し、回転シャフト及び／又は軸受の摩耗を抑制できる。
（３）　上記（２）の構成において、貫通部が、軸受の上端部に対応する高さ位置に設けられていることが好ましい。
　このようにすれば、貫通部を通じて供給した洗浄液が、重力によって下方に広がるため、軸受と回転シャフトとの間に洗浄液を万遍なく供給しやすくなる。
（４）　上記（２）又は（３）の構成において、上回転シャフトの外周面は、軸受に対応する高さ位置において、切欠き部を有することが好ましい。
　このようにすれば、切欠き部の形成位置では、上回転シャフトと軸受との間の空間が大きくなる。したがって、洗浄液供給部から供給される洗浄液の一部を、切欠き部によって形成された上回転シャフトと軸受との間の空間を利用して上回転シャフトと軸受との間に供給しやすくなる。
（５）　上記（４）の構成において、貫通部が、切欠き部に設けられていることが好ましい。
　このようにすれば、貫通部と軸受との間に切欠き部に伴う空間が常に形成されるため、貫通部を通じて、上洗浄液供給路内の洗浄液を上回転シャフトと軸受との間に供給しやすくなる。
（６）　上記（４）又は（５）の構成において、切欠き部が、上回転シャフトの上端部から下端部まで連続的に形成されていることが好ましい。
　このようにすれば、切欠き部を通じて、上回転シャフトと軸受との間に供給された洗浄液を外部に排出しやすくなる。また、上洗浄液供給路を介さずに供給された洗浄液が、上回転シャフト上端部から上回転シャフトと軸受との間に流入しやすくなり、摩擦熱をより低減できる。さらに、切欠き部の加工が容易になる。
（７）　上記（１）の構成において、上回転シャフトを回転可能に支持する軸受を備え、上回転シャフトの外周面は、軸受に対応する高さ位置において、切欠き部を有することが好ましい。
　このようにすれば、切欠き部の形成位置では、上回転シャフトと軸受との間の空間が大きくなる。したがって、上洗浄液供給部から供給される洗浄液の一部を、切欠き部によって形成された上回転シャフトと軸受との間の空間を利用して上回転シャフトと軸受との間に供給しやすくなる。
（８）　上記（７）の構成において、切欠き部が、上回転シャフトの上端部から下端部まで連続的に形成されていることが好ましい。
　このようにすれば、切欠き部を通じて、上回転シャフトと軸受との間に供給された洗浄液を外部に排出しやすくなる。また、上洗浄液供給路を介さずに供給された洗浄液が、上回転シャフト上端部から上回転シャフトと軸受との間に流入しやすくなり、摩擦熱をより低減できる。さらに、切欠き部の加工が容易になる。
（９）　上記（２）～（８）のいずれかの構成において、上回転シャフトの少なくとも一部を内側に収容するシャフトケースを備え、前記軸受は、シャフトケースの内部に収容されており、シャフトケースの内周面と上回転シャフトの外周面との間に設けられていてもよい。
　シャフトケースによって軸受が覆われるため、一般的に上回転シャフトと軸受との間に洗浄液を供給しにくくなる。このようにすれば、上回転シャフトに貫通部及び／又は切欠き部が設けられているため、これらを通じて、洗浄液を上回転シャフトと軸受との間に確実に供給できる。
（１０）　上記（１）～（９）のいずれかの構成において、流入口が、上回転シャフトの上端面に設けられていることが好ましい。
　このようにすれば、洗浄液供給部から供給される洗浄液を、上洗浄液供給路内に流入させやすくなる。
（１１）　上記（１）～（１０）のいずれかの構成において、流出口が、上回転シャフトの下端面に設けられていることが好ましい。
　このようにすれば、上洗浄液供給路内の洗浄液を、上洗浄部材に供給しやすくなる。
（１２）　上記（１）～（１１）のいずれかの構成において、洗浄液を上洗浄液供給路の流入口に誘導する導液部材を備えることが好ましい。
　このようにすれば、洗浄液供給部から供給される洗浄液を、導液部材により上洗浄液供給路内に効率よく誘導できる。
（１３）　上記（１２）の構成において、導液部材は、上回転シャフトに設けられ、上回転シャフトと共に回転可能であることが好ましい。
　このようにすれば、導液部材の設置が容易になると共に、洗浄液を上洗浄液供給路内により効率よく誘導しやすくなる。
（１４）　上記（１３）の構成において、流入口が、前記上回転シャフトの上端面に設けられ、導液部材が、上回転シャフトの上端部に設けられていることが好ましい。
　このようにすれば、導液部材を用いて、流入口に洗浄液を誘導しやすくなる。
（１５）　上記（１４）の構成において、導液部材は、上回転シャフトの周方向の一部のみに設けられていることが好ましい。
　このようにすれば、導液部材で捕集された洗浄液の一部が、上回転シャフトの回転に伴う遠心力により、導液部材が設けられていない部分を介して周辺部材（例えば、上回転シャフトの駆動部など）にも供給される。これにより、周辺部材の潤滑性を高めることもできる。
（１６）　上記（１５）の構成において、導液部材は、上回転シャフトの全周の２０～８０％の範囲に設けられていることが好ましい。
　このようにすれば、洗浄液を上洗浄液供給路内により効率よく誘導できる。
（１７）　上記（１４）～（１６）のいずれかの構成において、導液部材は、上回転シャフトの周囲に倣った形状であることが好ましい。
　このようにすれば、洗浄液を上洗浄液供給路内により効率よく誘導できる。また、上回転シャフトの回転時の軸ブレを抑制できる。
（１８）　上記（１）～（１７）のいずれかの構成において、下回転シャフトと、下回転シャフトの上端部に設けられ、ガラス板の下面を洗浄する下洗浄部材とを有する下面洗浄機構を備え、上洗浄部材及び下洗浄部材は、洗浄液が通過可能であり、かつ、上下方向からみて互いに重なる重複部を有することが好ましい。
　このようにすれば、下洗浄部材にも、上洗浄部材との重複部を介して十分に洗浄液を供給できるため、ガラス板の上面及び下面の洗浄ムラを確実に抑制できる。
（１９）　上記（１８）の構成において、下回転シャフトは、洗浄液を流通させる下洗浄液供給路を内部に備え、下洗浄液供給路は、下回転シャフトの上側で下洗浄液供給路内に洗浄液を流入させる流入口と、下回転シャフトの流入口よりも下側で下洗浄液供給路外に洗浄液を流出させる流出口とを備えることが好ましい。
　このようにすれば、上洗浄部材を介して下洗浄部材に供給された洗浄液を、下回転シャフトの下洗浄液供給路を通じて外部に効率よく排出できる。
（２０）　上記（１８）又は（１９）の構成において、上洗浄部材及び下洗浄部材は、同軸上に配置されていることが好ましい。
　このようにすれば、上洗浄部材及び下洗浄部材の重複部の面積が大きくなる。そのため、上洗浄部材を介して下洗浄部材に洗浄液をより効率よく供給できる。
（２１）　上記（１８）～（２０）のいずれかの構成において、上洗浄部材及び前記下洗浄部材は、ガラス板がある場合に互いに離間し、ガラス板がない場合に互いに接触するように移動可能に構成されていることが好ましい。
　このようにすれば、ガラス板がない場合に、上洗浄部材を介して下洗浄部材に洗浄液をより効率よく供給できる。
（２２）　上記課題を解決するために創案された本発明に係るガラス板の洗浄装置は、回転シャフトと、回転シャフトの下端部に設けられた洗浄部材とを備えたガラス板の洗浄装置において、回転シャフトは、上下に貫通する洗浄液供給路を内部に備え、洗浄液供給路は、回転シャフトの上端部に設けられ、洗浄液供給部から供給される洗浄液が流入する流入口と、回転シャフトの下端部に設けられ、流入口から流入した洗浄液を流出する流出口とを備えることを特徴とする。
　このようにすれば、既に述べた対応する構成と同様の作用効果を享受できる。
（２３）　上記課題を解決するために創案された本発明に係るガラス板の製造方法は、上記（１）～（２２）のいずれかの構成を備えたガラス板の洗浄装置を用いて、ガラス板を洗浄する洗浄工程を備えることを特徴とする。
　このようにすれば、既に述べた対応する構成と同様の作用効果を享受できる。
　本発明によれば、ガラス板の洗浄ムラを確実に低減できる。
第一実施形態に係るガラス板の洗浄装置を示す側面図である。 図１のＩ－Ｉ断面図である。 図１のガラス板の洗浄装置に含まれる一つの洗浄ユニット周辺を拡大して示す断面図である。 図３のＩＩ－ＩＩ断面図である。 第二実施形態に係るガラス板の洗浄装置に含まれる一つの洗浄ユニット周辺を拡大して示す断面図である。 第三実施形態に係るガラス板の洗浄装置に含まれる一つの洗浄ユニット周辺を拡大して示す断面図である。 第四実施形態に係るガラス板の洗浄装置を示す断面図である。 図７のガラス板の洗浄装置に含まれる導液部材周辺を拡大して示す斜視図である。 図７のガラス板の洗浄装置に含まれる一つの洗浄ユニット周辺を拡大して示す断面図である。 第五実施形態に係るガラス板の洗浄装置に含まれる一つの洗浄ユニット周辺を拡大して示す断面図である。 第六実施形態に係るガラス板の洗浄装置に含まれる一つの洗浄ユニット周辺を拡大して示す断面図である。
　以下、本実施形態に係るガラス板の洗浄装置及びガラス板の製造方法について、図面を参照しながら説明する。なお、図中のＸＹＺは直交座標系である。Ｘ方向及びＹ方向は水平方向であり、Ｚ方向は鉛直方向である。各実施形態において対応する構成要素には同一符号を付すことにより、重複する説明を省略する場合がある。各実施形態において構成の一部分のみを説明している場合、当該構成の他の部分については、先行して説明した他の実施形態の構成を適用することができる。各実施形態の説明において明示している構成の組み合わせばかりではなく、特に組み合わせに支障が生じなければ、明示していなくても複数の実施形態の構成同士を部分的に組み合わせることができる。
＜第一実施形態＞
　図１及び図２に示すように、第一実施形態に係るガラス板の洗浄装置１は、水平姿勢のガラス板Ｇを搬送方向Ｙに搬送しながら、ガラス板Ｇの板厚方向に対向する一対の主表面である上面Ｇａ及び下面Ｇｂを同時に洗浄するものである。洗浄装置１は、洗浄エリアＷと、乾燥エリアＤとを備える。
　本実施形態では、ガラス板Ｇの上面Ｇａは保証面とされ、ガラス板Ｇの下面Ｇｂは非保証面とされる。保証面にはディスプレイの製造工程等で電気回路等が形成されるため、保証面となるガラス板Ｇの上面Ｇａの清浄度が特に重要となる。
　ガラス板Ｇの一辺の大きさは５００ｍｍ～４０００ｍｍであることが好ましく、板厚は０．０５ｍｍ～１０ｍｍであることが好ましく、０．２ｍｍ～０．７ｍｍであることがより好ましい。
　洗浄装置１は、洗浄エリアＷにおいて、ガラス板Ｇの上面Ｇａ及び下面Ｇｂに付着した液体を除去する絞りローラ２，３と、ガラス板Ｇの上面Ｇａを洗浄する上面洗浄機構４と、ガラス板Ｇの下面Ｇｂを洗浄する下面洗浄機構５と、上面洗浄機構４に洗浄液ＣＬを供給する洗浄液供給部６とを備える。洗浄エリアＷには、その上流側に配置されたローラ等の任意の搬送機構によりガラス板Ｇが供給される。
　絞りローラ２，３は、ガラス板Ｇを上下に挟んで搬送する搬送機構としても機能する。絞りローラ２，３は、上側ローラ及び下側ローラを含む上下ローラ対により構成される。絞りローラ２，３は、洗浄機構４，５の上流側及び下流側にそれぞれ配置される。
　上面洗浄機構４は、ガラス板Ｇの上面Ｇａを洗浄する複数の洗浄ユニット７と、複数の洗浄ユニット７を支持する支持体８とを備える。複数の洗浄ユニット７は、搬送方向Ｙと直交する幅方向Ｘに沿って列状に配置され、搬送方向Ｙに複数列（図示例では２列）設けられている。
　下面洗浄機構５は、ガラス板Ｇの下面Ｇｂを洗浄する複数の洗浄ユニット９と、複数の洗浄ユニット９を支持する支持体１０とを備える。複数の洗浄ユニット９は、搬送方向Ｙと直交する幅方向Ｘに沿って列状に配置され、搬送方向Ｙに複数列（図示例では２列）設けられている。下面洗浄機構５の各洗浄ユニット９は、上面洗浄機構４の各洗浄ユニット７と対応する位置に配置されている。対応する各洗浄ユニット７，９は、搬送されてくるガラス板Ｇを上下両側から挟むようになっている。
　洗浄液供給部６は、シャワーノズルから構成され、洗浄液ＣＬを後述する上回転シャフト１３の上側に向かって噴射供給する。洗浄液供給部６は、上回転シャフト１３の上側に上方から洗浄液ＣＬを噴射供給するものであってもよいし、上回転シャフト１３の上側に横方向（斜め上方や斜め下方を含む）から洗浄液ＣＬを噴射供給するものであってもよい。本実施形態では、洗浄液供給部６を上面洗浄機構４の上方に配置し、上回転シャフト１３の上端面（上端部）に向かって上方から洗浄液ＣＬを噴射供給（落下供給）する場合を例示する。なお、洗浄液供給部６は、シャワーノズルに限定されるものではなく、洗浄液ＣＬを上回転シャフト１３の上側に向かって供給できるものであれば任意の機構を採用できる。
　洗浄液ＣＬとしては、洗浄液（例えば液体洗剤）や、すすぎ液（例えば水）などが使用できる。
　図２に示すように、支持体８，１０は、内部空間を有する筐体構造を有する。支持体８，１０の内部空間には、洗浄液ＣＬは貯留されていない。
　上面洗浄機構４の各洗浄ユニット７は、支持体８に固定されたシャフトケース１１と、シャフトケース１１内に一部（上端部及び下端部を除く中間部）が収容された上回転シャフト１３と、支持体８及びシャフトケース１１の外側で上回転シャフト１３の下端部に装着された上洗浄部材１５とを備える。
　下面洗浄機構５の各洗浄ユニット９は、支持体１０に固定されたシャフトケース１２と、シャフトケース１２内に一部（上端部及び下端部を除く中間部）が収容された下回転シャフト１４と、支持体１０及びシャフトケース１２の外側で下回転シャフト１４の上端部に装着された下洗浄部材１６とを備える。
　各洗浄ユニット７，９において、対応する回転シャフト１３，１４及び洗浄部材１５，１６は、一体的に回転する。
　シャフトケース１１，１２は、対応する回転シャフト１３，１４よりも僅かに径が大きい円筒状の部材である。シャフトケース１１，１２は、対応する支持体８，１０の上面及び下面にそれぞれ設けられた孔に挿通された状態で固定されている。
　上面洗浄機構４において、シャフトケース１１の下端部の内周面と、これと対向する上回転シャフト１３の外周面との間には、上回転シャフト１３の下側を回転可能に保持する円筒状の滑り軸受１７が圧入固定されている。また、上面洗浄機構４において、シャフトケース１１の上端部の内周面と、これと対向する上回転シャフト１３の外周面との間には、上回転シャフト１３の上側を回転可能に保持する円筒状の円筒状の滑り軸受１９が圧入固定されている。
　下面洗浄機構５において、シャフトケース１２の上端部の内周面と、これと対向する下回転シャフト１４の外周面との間には、下回転シャフト１４の上側を回転可能に保持する円筒状の滑り軸受１８が圧入固定されている。また、下面洗浄機構５において、シャフトケース１２の下端部の内周面と、これと対向する下回転シャフト１４の外周面との間には、下回転シャフト１４の下側を回転可能に保持する円筒状の円筒状の滑り軸受２０が圧入固定されている。
　滑り軸受１７～２０は、例えば金属製等であってもよいが、本実施形態では樹脂製（例えば熱可塑性樹脂や熱硬化性樹脂等）である。
　上洗浄部材１５は、上回転シャフト１３に対して着脱可能である。上洗浄部材１５は、ガラス板Ｇの上面Ｇａに接触して洗浄する洗浄部１５ａと、洗浄部１５ａを支持する支持部１５ｂとを備える。
　下洗浄部材１６は、下回転シャフト１４に対して着脱可能である。下洗浄部材１６は、ガラス板Ｇの下面Ｇｂに接触して洗浄する洗浄部１６ａと、洗浄部１６ａを支持する支持部１６ｂとを備える。
　洗浄部１５ａ，１６ａの種類は、例えばブラシ等であってもよいが、本実施形態ではスポンジである。洗浄部１５ａ，１６ａの形状は特に限定されるものではないが、本実施形態ではディスク状である。
　上回転シャフト１３は、洗浄液ＣＬを流通させる上洗浄液供給路２１を中心部（内部）に備える。上洗浄液供給路２１は、上回転シャフト１３の上側で上洗浄液供給路２１内に洗浄液ＣＬを流入させる流入口２１aと、上回転シャフト１３の流入口２１ａよりも下側で上洗浄液供給路２１外に洗浄液ＣＬを流出させる流出口２１ｂとを備える。
　下回転シャフト１４は、洗浄液ＣＬを流通させる下洗浄液供給路２２を中心部（内部）に備える。下洗浄液供給路２２は、下回転シャフト１４の上側で下洗浄液供給路２２内に洗浄液ＣＬを流入させる流入口２２ａと、下回転シャフト１４の流入口２２ａよりも下側で下洗浄液供給路２２外に洗浄液ＣＬを流出させる流出口２２ｂとを備える。
　本実施形態では、洗浄液供給路２１，２２は、対応する回転シャフト１３，１４を上下方向Ｚに直線状に貫通する。つまり、流入口２１ａ，２２ａは、対応する回転シャフト１３，１４の上端面（上端部）に設けられ、流出口２１ｂ，２２ｂは、対応する回転シャフト１３，１４の下端面（下端部）に設けられている。
　上洗浄部材１５は、上洗浄液供給路２１の流出口２１ｂに連通すると共に、上下方向Ｚに貫通する供給孔２３を中心部（内部）に備える。
　下洗浄部材１６は、下洗浄液供給路２２の流入口２２ａに連通すると共に、上下方向Ｚに関する供給孔２４を中心部（内部）に備える。
　供給孔２３，２４は、洗浄部材１５，１６が洗浄液ＣＬを透過可能な材質（例えば、多孔質体等）で形成される場合には省略してもよい。
　上洗浄部材１５及び下洗浄部材１６は、上下方向からみて互いに重なる重複部を有する。本実施形態では、上洗浄部材１５及び下洗浄部材１６は、同心軸上に配置されており、重複部の面積が、上洗浄部材１５の洗浄面（又は下洗浄部材１６の洗浄面）と実質的に同じ面積となっている。なお、重複部の面積は、上洗浄部材１５の洗浄面（又は下洗浄部材１６の洗浄面）の面積の７０％以上、８０％以上、９０％以上、９５％～１００％であることが好ましい。
　上面洗浄機構４では、上面洗浄機構４の上方に配置された洗浄液供給部６から落下供給される洗浄液ＣＬは、流入口２１ａから上洗浄液供給路２１内に流入する。上洗浄液供給路２１内に流入した洗浄液ＣＬは、上洗浄液供給路２１内を下方に移動して流出口２１ｂから上洗浄液供給路２１外に流出し、上洗浄部材１５の供給孔２３に供給される。供給孔２３に供給された洗浄液ＣＬは、上洗浄部材１５と下洗浄部材１６との間にガラス板Ｇがある状態ではガラス板Ｇに供給される。したがって、上洗浄液供給路２１を通じて上洗浄部材１５やガラス板Ｇに対して十分に洗浄液ＣＬを供給でき、ガラス板Ｇに洗浄ムラが生じるのを抑制できる。
　一方、下面洗浄機構５の下洗浄部材１６には、上洗浄部材１５と下洗浄部材１６との間にガラス板Ｇがない状態において、上洗浄部材１５の供給孔２３を通じて洗浄液ＣＬが供給される。この状態で、下洗浄部材１６に供給された洗浄液ＣＬは、供給孔２４を通じて、流入口２２ａから下洗浄液供給路２２内に流入する。下洗浄液供給路２２内に流入した洗浄液ＣＬは、下洗浄液供給路２２内を下方に移動して流出口２２ｂから下洗浄液供給路２２外に流出し、外部に排出される。
　本実施形態では、ガラス板Ｇがない状態では、上洗浄部材１５が、自重で下降して下洗浄部材１６と接触するようになっている。そのため、上述のように、ガラス板Ｇがない状態で上面洗浄機構４から下面洗浄機構５に洗浄液ＣＬを供給する際には、上下の洗浄部材１５，１６の供給孔２３，２４が互いに接触した状態で連通する。
　上面洗浄機構４は、各洗浄ユニット７の上回転シャフト１３を回転駆動する回転駆動機構２５を備える。回転駆動機構２５は、支持体８及びシャフトケース１１の外側で上回転シャフト１３の上側に回転駆動力を付与するようになっている。回転駆動機構２５は、モータ２７と、モータ２７による回転駆動力を各上回転シャフト１３に伝達する複数のギア２９ａを含むギア機構２９とを備える。
　下面洗浄機構５は、各洗浄ユニット９の下回転シャフト１４を回転駆動する回転駆動機構２６を備える。回転駆動機構２６は、支持体１０及びシャフトケース１２の外側で下回転シャフト１４の下側に回転駆動力を付与するようになっている。回転駆動機構２６は、モータ２８と、モータ２８による回転駆動力を各下回転シャフト１４に伝達する複数のギア３０ａを含むギア機構３０とを備える。
　本実施形態では、搬送方向Ｙに複数列設けられた洗浄ユニット７，９の列毎に専用の回転駆動機構２５，２６が設けられている。
　図３及び図４に示すように、上面洗浄機構４において、上回転シャフト１３は、内部の上洗浄液供給路２１から外部の滑り軸受１９に洗浄液ＣＬを供給する貫通部としての貫通孔３１を有する。本実施形態では、貫通孔３１は、シャフトケース１１の上端部に設けられた滑り軸受１９に洗浄液ＣＬを供給する。貫通孔３１は、上回転シャフト１３の内周面１３ａと外周面１３ｂとの間を半径方向に貫通する横孔であり、滑り軸受１９の上端部に対応する高さ位置に設けられている。貫通孔３１のＺ軸方向における形成範囲は、滑り軸受１９の上端面の上下両側に跨っている。なお、貫通孔３１の形成範囲は、特に限定されるものではなく、滑り軸受１９の上端部よりも上方であってもよいし、滑り軸受１９の上端部よりも下方（例えば滑り軸受１９の上端部と下端部の中間部）であってもよい。
　上回転シャフト１３の外周面１３ｂは、上回転シャフト１３の上端部から下端部まで連続的に形成された切欠き部３２を有する。切欠き部３２は、上下方向Ｚに延びる直線状をなし、上回転シャフト１３を停止させた状態では、切欠き部３２の周方向位置は、上回転シャフト１３の上端部から下端部に至るまでの間で変化しない。
　上回転シャフト１３の外周面１３ｂのうち、切欠き部３２が形成された部分は、滑り軸受１９の内周面１９ａから内側に離れる。そのため、切欠き部３２は、上回転シャフト１３の外周面１３ｂと滑り軸受１９の内周面１９ａとの間に、空間３３を形成する。そして、本実施形態では、貫通孔３１が切欠き部３２に形成されており、上洗浄液供給路２１と空間３３とが貫通孔３１を介して連通している。
　このように貫通孔３１を設けると、貫通孔３１を通じて、上洗浄液供給路２１内の洗浄液ＣＬが上回転シャフト１３と滑り軸受１９との間に効率よく供給される。また、貫通孔３１及び切欠き部３２の位置は、上回転シャフト１３の回転に伴って周方向で変化するため、洗浄液ＣＬが、上回転シャフト１３と滑り軸受１９との間に万遍なく供給される。したがって、上回転シャフト１３と滑り軸受１９との間に発生する摩擦熱を低減し、上回転シャフト１３及び／又は滑り軸受１９の摩耗を抑制できる。なお、洗浄液供給部６から供給される洗浄液ＣＬの一部は、上洗浄液供給路２１を介さずに、空間３３の上端開口部から上回転シャフト１３と滑り軸受１９との間に直接流入する。このような洗浄液ＣＬも上回転シャフト１３と滑り軸受１９との間に発生する摩擦熱を低減する効果がある。
　上回転シャフト１３と上方の滑り軸受１９との間に供給された洗浄液ＣＬは、切欠き部３２（空間３３）を通じて下方に排出される。切欠き部３２から排出された洗浄液ＣＬは、上回転シャフト１３とシャフトケース１１との間を下方に移動し、上回転シャフト１３と下方の滑り軸受１７との間（切欠き部３２により形成される上回転シャフト１３と滑り軸受１７との間の空間）に供給される。そして、上回転シャフト１３と下方の滑り軸受１７との間に供給された洗浄液ＣＬは、切欠き部３２（空間）を通じて下方に排出される。つまり、洗浄液ＣＬは、上回転シャフト１３とシャフトケース１１との間に滞留しない。
　切欠き部３２は、上回転シャフト１３の外周面１３ｂにおいて、上回転シャフト１３の上端部から下端部まで連続的に形成される場合に限定されない。例えば、切欠き部３２は、上回転シャフト１３の外周面１３ｂのうち、滑り軸受１７及び／又は滑り軸受１９に対応する高さ位置（好ましくは、滑り軸受１７，１９の上下全域を含む位置）のみに形成されていてもよい。ただし、加工性の観点からは、上回転シャフト１３の外周面１３ｂの上下全長に亘って切欠き部３２が連続的に形成されていることが好ましい。
　図３に示すように、下面洗浄機構５においても、下回転シャフト１４は、下洗浄液供給路２２とシャフトケース１２の上端部に設けられた滑り軸受１８とを連通する貫通孔（貫通部）３４と、下回転シャフト１４の上端部から下端部まで連続的に形成された切欠き部３５とを備える。本実施形態では、貫通孔３４は、切欠き部３５に形成されている。貫通孔３４及び切欠き部３５の機能は、上述の上面洗浄機構４における貫通孔３１及び切欠き部３２と同様である。
　図１に示すように、洗浄装置１は、乾燥エリアＤにおいて、エアナイフ３６と、搬送ローラ３７とを備える。本実施形態では、エアナイフ３６は、搬送ローラ３７の上下両側にそれぞれ配置されている。
　乾燥エリアＤでは、搬送ローラ３７によってガラス板Ｇを搬送しつつ、エアナイフ３６から高圧エアＡＧをガラス板Ｇの上面Ｇａ及び下面Ｇｂに噴射することで、これら表面に付着している水分を除去する。なお、乾燥エリアＤでは、エアナイフ３６以外の公知の乾燥手段によりガラス板Ｇを乾燥させてもよい。また、乾燥エリアＤは省略してもよい。
　次に、本実施形態に係るガラス板の製造方法を説明する。
　本製造方法は、例えば、成形工程と、徐冷工程と、採板工程と、切断工程と、洗浄工程と、検査工程と、梱包工程とを備える。
　成形工程では、オーバーフローダウンドロー法やフロート法等の公知の方法によって、溶融ガラスからガラスリボンを成形する。
　徐冷工程では、成形されたガラスリボンの反り及び内部歪を低減するために、成形されたガラスリボンを徐冷する。
　採板工程では、徐冷されたガラスリボンを所定の長さごとに切断し、複数枚の元ガラス板を得る。
　切断工程では、元ガラス板を所定サイズに切断し、一枚又は複数枚のガラス板Ｇを得る。元ガラス板の切断方法としては、例えば、曲げ応力割断、レーザー割断、レーザー溶断等を利用することができる。ガラス板Ｇは矩形状であることが好ましい。
　洗浄工程では、上記の洗浄装置１を用いて、ガラス板Ｇを水平姿勢で搬送しながら洗浄する。この際、洗浄液供給部６から供給される洗浄液ＣＬは、上洗浄液供給路２１を通じて洗浄部材７，９に対して十分供給されるため、ガラス板Ｇの上面Ｇａ及び下面Ｇｂに洗浄ムラが生じるのを抑制できる。
　検査工程では、洗浄されたガラス板Ｇに対して表面に傷、塵、汚れ等がないか、及び／又は、気泡、異物等の内部欠陥がないかを検査する。検査は、カメラ等の光学検査装置を用いて行う。
　梱包工程では、検査の結果、所望の品質を満たすガラス板Ｇを梱包する。梱包は、所定のパレットに対して、複数枚のガラス板Ｇを平置きで積層したり、縦置きで積層したりすることによって行う。この場合、ガラス板Ｇの積層方向の相互間には、合紙や発泡樹脂等からなる保護シートを介在させることが好ましい。
　なお、本製造方法は、採板工程の後に熱処理工程や、切断工程の後に端面加工工程をさらに備えていてもよい。
＜第二実施形態＞
　図５に示すように、第二実施形態に係るガラス板の洗浄装置１は、上面洗浄機構４において、上回転シャフト１３が、上洗浄液供給路２１とシャフトケース１１の下端部に設けられた滑り軸受１７とを連通する貫通孔（貫通部）４１を備える。
　貫通孔４１は、滑り軸受１７の上端部に対応する高さ位置で切欠き部３２に設けられている。貫通孔４１のＺ方向における形成範囲は、滑り軸受１７の上端面の上下両側に跨っている。なお、貫通孔４１の形成範囲は、特に限定されるものではなく、滑り軸受１７の上端部よりも上方であってもよいし、滑り軸受１７の上端部よりも下方（例えば滑り軸受１７の上端部と下端部の中間部）であってもよい。
　上回転シャフト１３は、上洗浄液供給路２１とシャフトケース１１の上端部に設けられた滑り軸受１９とを連通する貫通孔３１（図３を参照）と、上洗浄液供給路２１とシャフトケース１１の下端部に設けられた滑り軸受１７とを連通する貫通孔４１（図５を参照）とをそれぞれ備えていてもよい。
　上面洗浄機構４と同様に下面洗浄機構５においても、下回転シャフト１４が、下洗浄液供給路２２とシャフトケース１２の下端部に設けられた滑り軸受２０とを連通する貫通孔（図示省略）を備えていてもよい。
＜第三実施形態＞
　図６に示すように、第三実施形態に係るガラス板の洗浄装置１は、上面洗浄機構４において、上回転シャフト１３の外周面が、上回転シャフト１３の上端部から下端部まで連続的に形成された螺旋状の切欠き部５１を備える。このようにすれば、上回転シャフト１３を停止させた状態でも、切欠き部５１の周方向位置が、上回転シャフト１３の上端部から下端部に至るまでの間で連続的に変化する。このようにすれば、上回転シャフト１３に切欠き部５１を形成しても、回転バランスが悪化し難いという利点がある。
　本実施形態では、上面洗浄機構４と同様に下面洗浄機構５においても、下回転シャフト１４の外周面が、下回転シャフト１４の上端部から下端部まで連続的に形成された螺旋状の切欠き部５２を備える。切欠き部５２の機能は、上述の上面洗浄機構４における切欠き部５１と同様である。
＜第四実施形態＞
　図７～図９に示すように、第四実施形態に係るガラス板の洗浄装置１は、第一実施形態に係るガラス板の洗浄装置１に対して、さらに導液部材Ｒを設けたものである。
　導液部材Ｒは、上回転シャフト１３と洗浄液供給部６との間に配置され、洗浄液供給部６から供給される洗浄液ＣＬを上洗浄液供給路２１の流入口２１ａに誘導するためのものである。
　本実施形態では、導液部材Ｒは、上回転シャフト１３の上端面に設けられ、上回転シャフト１３と共に回転可能である。詳細には、導液部材Ｒは、上洗浄液供給路２１の流入口２１ａから上方に延び、洗浄液供給部６から供給される洗浄液ＣＬを受け止めることが可能な板状部材である。
　導液部材Ｒは、上回転シャフト１３の上端面に対して溶接により別体品を接着したものであるが、導液部材Ｒ及び上回転シャフト１３は、一体品であってもよい。
　導液部材Ｒは、上回転シャフト１３の壁の厚みと同じ厚みである。導液部材Ｒは、上回転シャフト１３の上端面の周囲（流入口２１ａの輪郭）に倣った形状（例えば、半円筒形などの部分円筒形）である。
　導液部材Ｒは、上回転シャフト１３の上端面の周方向の一部のみに設けられている。つまり、上回転シャフト１３の上端面は、導液部材Ｒが設けられていない部分を有する。
　導液部材Ｒに当たって捕集された洗浄液ＣＬは、上洗浄液供給路２１の流入口２１ａに誘導され、上洗浄液供給路２１内に供給される。したがって、洗浄液ＣＬを上洗浄液供給路２１内に効率よく誘導できる。またこの過程で、導液部材Ｒに当たって捕集された洗浄液ＣＬの一部は、上回転シャフト１３の回転に伴う遠心力により、導液部材Ｒが設けられていない部分を介して周辺に飛散し、ギア２９ａ等に対しても供給される。その結果、ギア２９ａ等の潤滑性が良好となる。
　導液部材Ｒは、上回転シャフト１３の上端部の全周の２０～８０％の範囲に設けられていることが好ましい。
＜第五実施形態＞
　図１０に示すように、第四実施形態に係るガラス板の洗浄装置１は、第二実施形態に係るガラス板の洗浄装置１に対して、導液部材Ｒを適用したものである。
＜第六実施形態＞
　図１１に示すように、第五実施形態に係るガラス板の洗浄装置１は、第三実施形態に係るガラス板の洗浄装置１に対して、導液部材Ｒを適用したものである。
　なお、本発明は、上記の実施形態の構成に限定されるものではなく、上記した作用効果に限定されるものでもない。本発明は、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の変更が可能である。
　上記の実施形態では、上回転シャフトの上端面に上洗浄液供給路の流入口を設ける場合を説明したが、流入口の位置はこれに限定されない。例えば、上洗浄液供給路の流入口は、上回転シャフトの上側であれば、上回転シャフトの周面（側面）に設けられていてもよい。この場合、例えば、上洗浄液供給路の流入口は、上回転シャフトの内周面と外周面との間を貫通する横孔などで形成される。つまり、上回転シャフトの上端面は、閉塞されていてもよい。上洗浄液供給路の流入口は、上回転シャフトの上から全高の１／３の範囲内に形成されていることが好ましい。ただし、上洗浄液供給路の流入口は、上回転シャフトのうち、支持体及びシャフトケースの外側に露出する部分に設けられることが好ましい。また、上洗浄液供給路の流入口は、上回転シャフトのうち、回転駆動機構のギアよりも上方に位置する部分に設けられることが好ましい。なお、下洗浄液供給路の流入口についても、同様の変形例を適用できる。つまり、下洗浄液供給路の流入口は、下回転シャフトの上側であれば、下回転シャフトの上端面に設けられる場合に限定されず、例えば、下回転シャフトの周面（例えば、下回転シャフトの上から全高の１／３の範囲内）に設けられていてもよい。
　上記の実施形態では、上回転シャフトの下端面に上洗浄液供給路の流出口を設ける場合を説明したが、流出口の位置はこれに限定されない。例えば、上洗浄液供給路の流出口は、上回転シャフトの下側であれば、上回転シャフトの周面（側面）に設けられていてもよい。この場合、例えば、上洗浄液供給路の流出口は、上回転シャフトの内周面と外周面との間を貫通する横孔などで形成される。つまり、上回転シャフトの下端面は、閉塞されていてもよい。上洗浄液供給路の流出口は、上回転シャフトの下から全高の１／３の範囲内に形成されていることが好ましい。ただし、上洗浄液供給路の流出口は、上回転シャフトのうち、支持体及びシャフトケースの外側に露出する部分に設けられることが好ましい。なお、下洗浄液供給路の流出口についても、同様の変形例を適用できる。つまり、下洗浄液供給路の流出口は、下回転シャフトの下側であれば、下回転シャフトの下端面に設けられる場合に限定されず、例えば、下回転シャフトの周面（例えば、下回転シャフトの下から全高の１／３の範囲内）に設けられていてもよい。
　上記の実施形態では、回転シャフトの外周面の周方向の一箇所に、切欠き部及び貫通孔を設ける場合を説明したが、切欠き部及び／又は貫通孔は、回転シャフトの外周面の周方向の複数箇所に設けられていてもよい。具体的には、例えば、上下に直線状に延びる切欠き部を回転シャフトの周方向の複数箇所に設け、滑り軸受に対応する高さ位置において、それぞれの切欠き部に貫通孔を設けてもよい。
　上記の実施形態では、貫通孔が、切欠き部に設けられる場合を説明したが、貫通孔は、切欠き部を除く部分に設けられていてもよい。また、貫通孔及び切欠き部のうち、いずれか一方を省略してもよい。
　上記の実施形態では、洗浄液供給路と軸受とを連通する貫通部が貫通孔である場合を説明したが、貫通部は切欠き部に沿って延びるスリットなどであってもよい。
　上記の実施形態では、上面洗浄機構の回転シャフトの外周面に形成された切欠き部と、下面洗浄機構の回転シャフトの外周面に形成された切欠き部とが、同一の形状である場合を説明したが、両者が互いに異なる形状（例えば、一方の切欠き部が直線状、他方の切欠き部が螺旋状など）であってもよい。
　上記の実施形態では、一つの支持体で複数の回転シャフトを支持する場合を説明したが、各回転シャフトにそれぞれ専用の支持体を設けてもよい。
　上記の実施形態では、定位置に配置された洗浄部材に対してガラス板を移動させる場合を説明したが、洗浄部材とガラス板との間に相対的な移動があれば、いずれを移動させる態様であってもよい。すなわち、定位置に配置されたガラス板に対して、洗浄部材を移動させてもよいし、ガラス板と洗浄部材の両方を移動させてもよい。
　上記の実施形態では、ガラス板の上下面を同時に洗浄する場合を説明したが、ガラス板の上面のみを洗浄するようにしてもよい。
　上記の実施形態において、ガラス板の洗浄搬送時に、ガラス板が搬送方向と直交する幅方向において、一端側が他端側よりも低位に位置するように傾斜していてもよい。これにより、ガラス板の上面に付着した余分な液体が自重でガラス板の上面から流れ落ち、ガラス板の上面に汚れの原因となる液体溜りが形成されるのを防止できる。
　上記の実施形態では、上回転シャフトの上端面に設けられた導液部材が、上回転シャフトの上端面の周囲（流入口２１ａの輪郭）に倣った形状（例えば、半円筒形などの部分円筒形）である場合を説明したが、導液部材の形状はこれに限定されない。導液部材は、例えば、上回転シャフトの上端面から上方に離れるに連れて拡径するテーパ状あるいは漏斗状であってもよい。
　上記の実施形態では、導液部材が、上回転シャフトの上端面に設けられ、上回転シャフトと一体的に回転する場合を説明したが、導液部材の位置は、上洗浄液供給路の流入口に洗浄液を誘導できる範囲で適宜変更できる。例えば、導液部材は、上回転シャフトの周面（側面）に設けられていてもよい。また、例えば、導液部材は、上回転シャフトから離れた位置で固定されていてもよい。つまり、導液部材は、上回転シャフトと一体的に回転しない構成であってもよい。特に、洗浄液供給部が上回転シャフトの上端部の横方向から洗浄液を噴射供給する場合には、洗浄液の噴射供給方向における上洗浄液供給路の手前側には導液部材を設けず、上洗浄液供給路を挟んだ奥側に導液部材を設けることが好ましい。なお、上洗浄液供給路の流入口を上回転シャフトの上側の周面（側面）に設ける場合には、流入口の位置に応じて導液部材の位置や形状も調整することが好ましい。
１　　　　　　　　　　　洗浄装置
４　　　　　　　　　　　上面洗浄機構
５　　　　　　　　　　　下面洗浄機構
６　　　　　　　　　　　洗浄液供給部
７，９　　　　　　　　　洗浄ユニット
８，１０　　　　　　　　支持体
１１，１２　　　　　　　シャフトケース
１３，１４　　　　　　　回転シャフト
１５，１６　　　　　　　洗浄部材
１７～２０　　　　　　　滑り軸受
２１，２２　　　　　　　洗浄液供給路
２３，２４　　　　　　　供給孔
２５，２６　　　　　　　回転駆動機構
２７，２８　　　　　　　モータ
２９，３０　　　　　　　ギア機構
３１，３４，４１　　　　貫通孔
３２，３５，５１，５２　切欠き部
３３　　　　　　　　　　空間
３４，４１　　　　　　　貫通孔
Ｇ　　　　　　　　　　　ガラス板
Ｗ　　　　　　　　　　　洗浄エリア
Ｄ　　　　　　　　　　　乾燥エリア
ＣＬ　　　　　　　　　　洗浄液
ＡＧ　　　　　　　　　　高圧エア
Ｒ　　　　　　　　　　　導液部材

Claims (23)

  1. 　上回転シャフトと、前記上回転シャフトの下端部に設けられ、ガラス板の上面を洗浄する上洗浄部材とを有する上面洗浄機構を備えたガラス板の洗浄装置において、
    　前記上回転シャフトの上側に対して洗浄液を供給する洗浄液供給部を備え、
    　前記上回転シャフトは、前記洗浄液を流通させる上洗浄液供給路を内部に備え、
    　前記上洗浄液供給路は、前記上回転シャフトの上側で前記上洗浄液供給路内に前記洗浄液を流入させる流入口と、前記上回転シャフトの前記流入口よりも下側で前記上洗浄液供給路外に前記洗浄液を流出させて前記上洗浄部材に供給する流出口とを備えることを特徴とするガラス板の洗浄装置。
  2. 　前記上回転シャフトを回転可能に支持する軸受を備え、
    　前記上回転シャフトは、前記上洗浄液供給路から前記軸受に前記洗浄液を供給する貫通部を有する請求項１に記載のガラス板の洗浄装置。
  3. 　前記貫通部が、前記軸受の上端部に対応する高さ位置に設けられている請求項２に記載のガラス板の洗浄装置。
  4. 　前記上回転シャフトの外周面は、前記軸受に対応する高さ位置において、切欠き部を有する請求項２に記載のガラス板の洗浄装置。
  5. 　前記貫通部が、前記切欠き部に設けられている請求項４に記載のガラス板の洗浄装置。
  6. 　前記切欠き部が、前記上回転シャフトの上端部から下端部まで連続的に形成されている請求項４又は５に記載のガラス板の洗浄装置。
  7. 　前記上回転シャフトを回転可能に支持する軸受を備え、
    　前記上回転シャフトの外周面は、前記軸受に対応する高さ位置において、切欠き部を有する請求項１に記載のガラス板の洗浄装置。
  8. 　前記切欠き部が、前記上回転シャフトの上端部から下端部まで連続的に形成されている請求項７に記載のガラス板の洗浄装置。
  9. 　前記上回転シャフトの少なくとも一部を内部に収容するシャフトケースを備え、前記軸受は、前記シャフトケースの内周面と前記上回転シャフトの外周面との間に設けられている請求項２又は７に記載のガラス板の洗浄装置。
  10. 　前記流入口が、前記上回転シャフトの上端面に設けられている請求項１に記載のガラス板の洗浄装置。
  11. 　前記流出口が、前記上回転シャフトの下端面に設けられている請求項１に記載のガラス板の洗浄装置。
  12. 　前記洗浄液を前記上洗浄液供給路の前記流入口に誘導する導液部材を備える請求項１～５、７、８、１０、１１のいずれか１項に記載のガラス板の洗浄装置。
  13. 　前記導液部材は、前記上回転シャフトに設けられ、前記上回転シャフトと共に回転可能である請求項１２に記載のガラス板の洗浄装置。
  14. 　前記流入口が、前記上回転シャフトの上端面に設けられ、
    　前記導液部材が、前記上回転シャフトの上端部に設けられている請求項１３に記載のガラス板の洗浄装置。
  15. 　前記導液部材は、前記上回転シャフトの周方向の一部のみに設けられている請求項１４に記載のガラス板の洗浄装置。
  16. 　前記導液部材は、前記上回転シャフトの全周の２０～８０％の範囲に設けられている請求項１５に記載のガラス板の洗浄装置。
  17. 　前記導液部材は、前記上回転シャフトの周囲に倣った形状である請求項１４に記載のガラス板の洗浄装置。
  18. 　下回転シャフトと、前記下回転シャフトの上端部に設けられ、前記ガラス板の下面を洗浄する下洗浄部材とを有する下面洗浄機構を備え、
    　前記上洗浄部材及び前記下洗浄部材は、前記洗浄液が通過可能であり、かつ、上下方向からみて互いに重なる重複部を有する請求項１～５、７、８、１０、１１のいずれか１項に記載のガラス板の洗浄装置。
  19. 　前記下回転シャフトは、前記洗浄液を流通させる下洗浄液供給路を内部に備え、
    　前記下洗浄液供給路は、前記下回転シャフトの上側で前記下洗浄液供給路内に前記洗浄液を流入させる流入口と、前記下回転シャフトの前記流入口よりも下側で前記下洗浄液供給路外に前記洗浄液を流出させる流出口とを備える請求項１８に記載のガラス板の洗浄装置。
  20. 　前記上洗浄部材及び前記下洗浄部材は、同軸上に配置されている請求項１８に記載のガラス板の洗浄装置。
  21. 　前記上洗浄部材及び前記下洗浄部材は、前記ガラス板がある場合に互いに離間し、前記ガラス板がない場合に互いに接触するように移動可能に構成されている請求項１８に記載のガラス板の洗浄装置。
  22. 　回転シャフトと、前記回転シャフトの下端部に設けられた洗浄部材とを備えたガラス板の洗浄装置において、
    　前記回転シャフトは、上下に貫通する洗浄液供給路を内部に備え、
    　前記洗浄液供給路は、前記回転シャフトの上端部に設けられ、洗浄液供給部から供給される洗浄液が流入する流入口と、前記回転シャフトの下端部に設けられ、前記流入口から流入した前記洗浄液を流出する流出口とを備えることを特徴とするガラス板の洗浄装置。
  23. 　請求項１～５、７、８、１０、１１、２２のいずれか１項に記載のガラス板の洗浄装置を用いて、ガラス板を洗浄する洗浄工程を備えることを特徴とするガラス板の製造方法。
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