WO2023054683A1 - 表示装置用積層体および表示装置 - Google Patents

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WO2023054683A1
WO2023054683A1 PCT/JP2022/036738 JP2022036738W WO2023054683A1 WO 2023054683 A1 WO2023054683 A1 WO 2023054683A1 JP 2022036738 W JP2022036738 W JP 2022036738W WO 2023054683 A1 WO2023054683 A1 WO 2023054683A1
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inorganic compound
layer
display device
laminate
compound layer
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PCT/JP2022/036738
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純 佐藤
研一 小野寺
和也 本田
紗緒里 川口
佳奈 堀井
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大日本印刷株式会社
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    • G09F9/301—Indicating arrangements for variable information in which the information is built-up on a support by selection or combination of individual elements in which the desired character or characters are formed by combining individual elements flexible foldable or roll-able electronic displays, e.g. thin LCD, OLED

Definitions

  • the present disclosure relates to a laminate for a display device and a display device.
  • a laminate having functional layers with various properties such as hard coat properties, abrasion resistance, antireflection properties, antiglare properties, antistatic properties, and antifouling properties is arranged.
  • Patent Document 1 describes an optical film used in a display device, including an acrylic resin film, and having a wear rate ( ⁇ m/g) in a microslurry erosion (MSE) test ranging from 0.7 to 1.4. Also disclosed is an optical film having a folding endurance of 300 times or more as measured according to JIS P8115.
  • Flexible display devices are required to be able to withstand repeated bending without causing display defects. is required.
  • display defects caused by bending may be conspicuous, so higher bending resistance is required.
  • the present disclosure has been made in view of the above circumstances, and a main object of the present disclosure is to provide a laminate for a display device and a display device that are excellent in bending resistance.
  • One embodiment of the present disclosure is a laminate for a display device having a first inorganic compound layer, a second inorganic compound layer, a hard coat layer, and a substrate layer in this order, Erosion rate E1 at the first interface, which is the interface between the inorganic compound layer and the second inorganic compound layer, and erosion at the second interface, which is the interface between the second inorganic compound layer and the hard coat layer ⁇ E1 (E2 ⁇ E1), which is the difference from the rate E2, is in the range of ⁇ 1.0 ⁇ 10 ⁇ 2 ⁇ m/g or more and 1.0 ⁇ 10 ⁇ 1 ⁇ m/g or less.
  • ⁇ E2 (E3 ⁇ E1) which is the difference between the erosion rate E3 of the first inorganic compound layer and the erosion rate E1 at the first interface, is 0.0 ⁇ m/ g or more and less than 2.0 ⁇ 10 ⁇ 2 ⁇ m/g.
  • the refractive index of the first inorganic compound layer is smaller than the refractive index of the second inorganic compound layer.
  • a fluorine-containing layer on the surface of the first inorganic compound layer opposite to the second inorganic compound layer.
  • the first inorganic compound contained in the first inorganic compound layer is preferably silicon oxide.
  • the thickness of the first inorganic compound layer is preferably 30 nm or more and 200 nm or less.
  • the total thickness of the first inorganic compound layer and the second inorganic compound layer is preferably 500 nm or less.
  • the second inorganic compound contained in the second inorganic compound layer is preferably aluminum oxide, zirconium oxide, or niobium oxide. .
  • the thickness of the second inorganic compound layer is preferably 20 nm or more and 300 nm or less.
  • the luminous reflectance of specularly reflected light when light is incident on the surface on the first inorganic compound layer side at an incident angle of 5° is set to 2.0% or less. be able to.
  • the laminate for a display device according to the present disclosure can have an adhesive layer for attachment on the side of the substrate layer opposite to the side of the hard coat layer.
  • Another embodiment of the present disclosure provides a display device comprising a display panel and the above-described display device laminate disposed on the viewer side of the display panel.
  • the present disclosure has the effect of being able to provide a display device laminate and a display device that are excellent in bending resistance.
  • FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing an example of a laminate for a display device of the present disclosure
  • FIG. FIG. 4 is a schematic cross-sectional view showing another example of the laminate for a display device of the present disclosure
  • FIG. 4 is a schematic cross-sectional view showing another example of the laminate for a display device of the present disclosure
  • 1 is a schematic cross-sectional view showing an example of a display device of the present disclosure
  • FIG. It is a figure for demonstrating the method of a dynamic bending test.
  • 2 when expressing a mode of arranging another member on top of a certain member, when simply describing “above” or “below”, unless otherwise specified, 2 includes both cases in which another member is arranged directly above or directly below, and cases in which another member is arranged above or below a certain member via another member.
  • 2 when expressing a mode in which another member is arranged on the surface of a certain member, when simply describing “on the surface side” or “on the surface”, unless otherwise specified, It includes both the case of arranging another member directly above or directly below so as to be in contact with it, and the case of arranging another member above or below a certain member via another member.
  • the inventors of the present disclosure have found that a laminate for a display device having a first inorganic compound layer, a second inorganic compound layer, a hard coat layer, and a substrate layer in this order, the first inorganic compound It has been found that peeling may occur between the layer and the second inorganic compound layer or between the second inorganic compound layer and the hard coat layer, resulting in poor bending resistance.
  • the inventors of the present disclosure conducted extensive studies on the bending resistance of a laminate for a display device, and found that the adhesion between layers of a laminate including an inorganic compound layer and a hard coat layer correlated with the erosion rate of the interface. I found out something. Specifically, the inventors have found that when the adhesiveness of the interface is weak, the erosion rate varies depending on the depth position of the interface, resulting in a high erosion rate. That is, it was found that the higher the erosion rate of the interface, the lower the adhesion of the interface, and the lower the erosion rate of the interface, the higher the adhesion of the interface.
  • the inventors of the present disclosure have found that the erosion rate E1 at the interface between the first inorganic compound layer and the second inorganic compound layer, the erosion rate E2 at the interface between the second inorganic compound layer and the hard coat layer, and The inventors have found that the bending resistance of the laminate is improved if the difference ⁇ E1 (E2 ⁇ E1) is within a predetermined range, and have completed the present invention.
  • the laminate for a display device of the present disclosure will be described in detail.
  • FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing an example of a laminate for a display device according to the present disclosure.
  • the display device laminate 1 of the present disclosure includes a first inorganic compound layer 2, a second inorganic compound layer 3, a hard coat layer 4, and a substrate layer 5. have in order.
  • the erosion rate E1 at the first interface A which is the interface between the first inorganic compound layer 2 and the second inorganic compound layer 3, and the ratio between the second inorganic compound layer 3 and the hard coat layer 4 ⁇ E1 (E2 ⁇ E1), which is the difference from the erosion rate E2 at the second interface B, which is an interface, is ⁇ 1.0 ⁇ 10 ⁇ 2 ⁇ m/g or more and 1.0 ⁇ 10 ⁇ 1 ⁇ m/g or less It is characterized by being a range.
  • FIG. 1 shows the case where the second inorganic compound layer 3 is a single layer film.
  • the second inorganic compound layer is a multilayer film composed of a plurality of inorganic compound films
  • the inorganic compound layer film closest to the first inorganic compound layer of the second inorganic compound layer and the first The interface with the inorganic compound layer is the first interface.
  • the interface between the second inorganic compound layer closest to the hard coat layer and the hard coat layer is the second interface. That is, as shown in FIG.
  • the second inorganic compound layer 3 is a multilayer film including, for example, an upper layer film 3a and a lower layer film 3b
  • the first inorganic compound layer 2 and the second inorganic compound The interface between the layer 3 and the upper layer film 3a is the first interface A, and the interface between the lower layer film 3b and the hard coat layer 4 in the second inorganic compound layer 3 is the second interface B.
  • ⁇ E1 (E2-E1) is ⁇ 1.0 ⁇ 10 ⁇ 2 ⁇ m/g or more, thereby suppressing peeling at the bent portion of the first interface. be able to.
  • ⁇ E1 (E2 ⁇ E1) is less than ⁇ 1.0 ⁇ 10 ⁇ 2 ⁇ m/g, the second interface is in closer contact with the first interface than the first interface, and the first interface is bent during bending. Stress concentrates and peeling occurs at the bent portion of the first interface.
  • ⁇ E1 (E2 ⁇ E1) when ⁇ E1 (E2 ⁇ E1) is 1.0 ⁇ 10 ⁇ 1 ⁇ m/g or less, the bending portion of the second interface B can be prevented from peeling off.
  • ⁇ E1 (E2 ⁇ E1) is a value larger than 1.0 ⁇ 10 ⁇ 1 ⁇ m/g, the adhesion of the second interface is insufficient, stress concentrates on the second interface during bending, Peeling occurs at the bent portion of the second interface.
  • the interface between adjacent inorganic compound films in the second inorganic compound layer does not affect the bending resistance of the laminate. This is because the bending resistance of the laminate is greatly affected by the adhesion of the first interface and the second interface, and stress concentrates on the first interface or the second interface rather than in the second inorganic compound layer. This is because peeling occurs at the first interface or the second interface before peeling occurs in the second inorganic compound layer.
  • the laminate for a display device in the present disclosure includes the erosion rate E1 at the first interface A, which is the interface between the first inorganic compound layer and the second inorganic compound layer, and the second inorganic compound layer and the hard coat layer.
  • ⁇ E1 (E2 - E1) which is the difference from the erosion rate E2 at the second interface B, which is the interface of the is in the range of The range is preferably -8.0 ⁇ 10 -3 ⁇ m/g or more and 8.0 ⁇ 10 -2 ⁇ m/g or less.
  • ⁇ E1 (E2-E1) is, for example, in the range of ⁇ 1.0 ⁇ 10 ⁇ 2 ⁇ m/g or more and 0.0 ⁇ m/g or less, and among them, ⁇ 8.0 ⁇ 10 ⁇ 3 ⁇ m/g or more, 0 It is preferably in the range of 0 ⁇ m/g or less. This is because the bending resistance can be improved. On the other hand, it can be 0.0 ⁇ m/g or more and 1.0 ⁇ 10 ⁇ 1 ⁇ m/g or less, and further 1.0 ⁇ 10 ⁇ 3 ⁇ m/g or more and 8.0 ⁇ 10 ⁇ 2 ⁇ m / g or less.
  • the erosion rate E1 at the first interface A and the erosion rate E2 at the second interface B are adjusted.
  • the erosion rate E1 at the second interface B and the erosion rate E2 at the second interface B can be determined by adjusting the presence or absence of surface treatment on the second inorganic compound layer or the hard coat layer and by adjusting the surface treatment conditions.
  • the erosion rate is measured by a material surface precision tester (micro slurry jet erosion tester, hereinafter MSE tester, manufactured by Palmeso Co., Ltd. / device name Nano MSE / It is a value measured using model N-MSE-A).
  • MSE tester micro slurry jet erosion tester, hereinafter MSE tester, manufactured by Palmeso Co., Ltd. / device name Nano MSE / It is a value measured using model N-MSE-A).
  • a polygonal alumina powder (particles) having an average particle diameter D 50 of 0.7 ⁇ m is dispersed in water to prepare a slurry containing 1% by mass of the polygonal alumina powder with respect to the total mass of the slurry.
  • the laminate for display device fixed on the jig is fixed to a device stand, and the projection distance between the laminate for display device and the nozzle for injecting the slurry is set to 4 mm.
  • the nozzle diameter is 1 mm ⁇ 1 mm, and a mask having a hole with a diameter of 0.3 mm is attached to the nozzle port.
  • a slurry containing polygonal alumina powder is sprayed from a nozzle, and the laminate for a display device fixed to a stand is sequentially cut from the surface on the first inorganic compound layer side (erosion treatment).
  • the injection intensity at this time was obtained by cutting an existing PMMA substrate under the same experimental conditions in advance, and using the displacement of the cut against the injection amount of the slurry (that is, the depth cut when 1 g of slurry was sprayed) to determine the standard projection.
  • a force X is determined and determined based on that value.
  • the projection force when the existing PMMA substrate is scraped by 7.0 ⁇ m / g is defined as the standard projection force X, and the projection force is 1/100 of the standard projection force X. (projection force when 0.07 ⁇ m/g is shaved from the existing PMMA substrate).
  • tilt correction is performed using the non-worn end reference areas a and b within the measured length.
  • the step from the reference regression line to the wear scar center c (average value of 50 ⁇ m width) is measured.
  • the erosion depth Z is obtained by taking the difference between the step data for 0g projection and the step data for each projection amount.
  • the above erosion processing and shape measurement by the above shape measuring instrument are repeated a set number of times (N times) to acquire shape measurement data for N times.
  • the depth position of the first interface A in the stacking direction of the laminate is grasped in advance by cross-sectional observation such as microscopic observation.
  • the erosion depth range corresponding to the range from a position 10 nm shallower than the depth position of the first interface A to a position 10 nm deeper than the depth position of the first interface A The average erosion rate is defined as the erosion rate E1 at the first interface A.
  • the average erosion rate of the erosion depth range corresponding to the range from the position 10 nm shallower than the depth position of the second interface B to the position 10 nm deeper than the depth position of the second interface B is , the erosion rate E2 at the second interface B.
  • the erosion rate E1 at the first interface A is not particularly limited as long as ⁇ E1 (E2-E1) is within the above range, but for example, 1.0 ⁇ 10 -3 ⁇ m/g or more and 1.0 ⁇ 10 ⁇ 1 ⁇ m/g or less, and may be 3.0 ⁇ 10 ⁇ 3 ⁇ m/g or more and 8.0 ⁇ 10 ⁇ 2 ⁇ m/g or less.
  • the erosion rate E2 at the second interface B is not particularly limited as long as ⁇ E1 (E2 ⁇ E1) is within the above range. ⁇ 10 ⁇ 1 ⁇ m/g or less, and may be 3.0 ⁇ 10 ⁇ 3 ⁇ m/g or more and 8.0 ⁇ 10 ⁇ 2 ⁇ m/g or less.
  • the erosion rate E1 at the first interface A is obtained by subjecting the second inorganic compound layer as a base to surface treatment before forming the first inorganic compound layer on the second inorganic compound layer. Furthermore, it can be adjusted by changing the surface treatment conditions. Further, the erosion rate E2 at the second interface B can be improved by subjecting the underlying hard coat layer to a surface treatment before forming the second inorganic compound layer on the hard coat layer. Adjustments can be made by changing the conditions. Examples of the surface treatment method used here include plasma treatment and corona discharge treatment.
  • the first inorganic compound layer is a single-layer inorganic compound layer located farthest from the base layer side of the inorganic compound layers contained in the laminate. .
  • the first inorganic compound layer is in direct contact with the second inorganic compound layer.
  • the first inorganic compound layer is composed of a first inorganic compound.
  • the first inorganic compound is not particularly limited, and examples thereof include inorganic oxides such as silicon oxide and gallium oxide.
  • the first inorganic compound layer may contain, as the first inorganic compound, an inorganic fluoride, which is a low refractive index material having a lower refractive index than the second inorganic compound. This is because low reflectivity can be obtained.
  • inorganic fluorides include aluminum fluoride, barium fluoride, cerium fluoride, gadolinium fluoride, lanthanum fluoride, lithium fluoride, magnesium fluoride, sodium fluoride, neodymium fluoride, and ytterbium fluoride. , yttrium fluoride and the like.
  • silicon oxide is particularly preferable from the viewpoint of refractive index and versatility.
  • one type of inorganic compound is preferably contained in the first inorganic compound layer, but a plurality of types of inorganic compounds may be contained.
  • the average composition of the inorganic oxide is represented by, for example, MOx (wherein M represents a metal element, and the value of x varies depending on the metal element).
  • MOx metal element
  • x can be 0 ⁇ x ⁇ 2, preferably 1 ⁇ x ⁇ 2, more preferably SiO 2 .
  • the average composition of the inorganic oxide is not limited to the stoichiometric optimum as described above.
  • the first inorganic compound layer is preferably a deposited film.
  • a silicon oxide (silica) deposited film is preferred.
  • the first inorganic compound layer may contain not only the above inorganic compounds, but also oxynitrides, oxycarbides, oxycarbonitrides, and the like.
  • ⁇ E2 (E3 ⁇ E1) which is the difference between the erosion rate E3 of the first inorganic compound layer and the erosion rate E1 at the first interface, is 0.0 ⁇ m/g or more and 2.0 ⁇ 10 ⁇ 2 It is preferably less than ⁇ m/g, more preferably 3.0 ⁇ 10 ⁇ 3 ⁇ m/g or more and 1.9 ⁇ 10 ⁇ 2 ⁇ m/g or less. If ⁇ E2 (E3-E1) is too large, peeling or cracking may occur in the first inorganic compound layer during the bending test.
  • the erosion rate E3 of the first inorganic compound layer is, for example, 3.0 ⁇ 10 ⁇ 3 ⁇ m/g or more and 5.0 ⁇ 10 ⁇ 2 ⁇ m/g or less, and 5.0 ⁇ 10 ⁇ 3 ⁇ m/ g or more and 3.0 ⁇ 10 ⁇ 2 ⁇ m/g or less.
  • the average erosion rate in the erosion depth range is defined as the erosion rate E3 of the first inorganic compound layer.
  • the refractive index of the first inorganic compound layer is preferably 1.60 or less, more preferably 1.50 or less. On the other hand, it is, for example, 1.30 or more, and may be 1.40 or more.
  • the refractive index of each layer refers to the refractive index for light with a wavelength of 550 nm.
  • a method of measuring the refractive index can include a method of measuring using an ellipsometer. Examples of the ellipsometer include "UVSEL" manufactured by Jobin-Evon and "DF1030R” manufactured by Techno Synergy.
  • the refractive index of the first inorganic compound layer is smaller than the refractive index of the second inorganic compound layer. This is because the reflectance of the laminate of the present disclosure can be reduced.
  • the thickness of the first inorganic compound layer is not particularly limited, but is preferably 30 nm or more and 200 nm or less, more preferably 50 nm or more and 150 nm or less.
  • the thickness of each layer is the thickness of the display device laminate observed with a transmission electron microscope (TEM), a scanning electron microscope (SEM), or a scanning transmission electron microscope (STEM). It can be an average value of thicknesses at arbitrary 10 points obtained by measuring from cross sections in the same direction.
  • the first inorganic compound layer for example, selects particles having a desired refractive index from among low refractive index particles, and performs physical vapor deposition such as vacuum deposition, sputtering, and ion plating. method (Physical Vapor Deposition method, PVD method) or the like. Among these, the vacuum deposition method is preferable from the viewpoint of productivity (deposition speed).
  • the second inorganic compound layer is a layer arranged between the first inorganic compound layer and the hard coat layer.
  • the second inorganic compound layer is in direct contact with the first inorganic compound layer and the hard coat layer.
  • the second inorganic compound layer 3 may be a single layer film, or may be a multilayer film as shown in FIG.
  • the second inorganic compound layer 3 in FIG. 2 has two layers, an upper layer film 3 a in direct contact with the first inorganic compound layer 2 and a lower layer film 3 b in direct contact with the hard coat layer 4 .
  • the surface of the second inorganic compound layer on the side of the first inorganic compound layer may or may not be surface-treated.
  • the “surface of the second inorganic compound layer on the side of the first inorganic compound layer” means the surface of the second inorganic compound layer closest to the first inorganic compound layer. It means the surface of the inorganic compound film.
  • the surface treatment includes the method described in "1. Erosion rate" above.
  • Plasma treatment is particularly preferred.
  • Plasma treatment conditions include plasma discharge power, glow discharge pressure, and the like.
  • the stronger the plasma treatment is, the more the adhesion is improved and the erosion rate E1 at the first interface A is lowered.
  • the second inorganic compound constituting the second inorganic compound layer is not particularly limited, but is preferably a material with a higher refractive index than the first inorganic compound. This is because the combination with the first inorganic compound layer provides low reflectivity.
  • the second inorganic compound constituting the second inorganic compound layer includes aluminum oxide, zirconium oxide, silicon oxide, hafnium oxide, tantalum oxide, cerium oxide, titanium oxide, zinc oxide, magnesium Inorganic oxides such as oxides, yttrium oxide and niobium oxide.
  • the average composition of aluminum oxide is represented by AlOx, where x can take 0 ⁇ x ⁇ 1.5 and is preferably Al 2 O 3 .
  • the average composition of zirconium oxide is represented by ZrOx, where x can take 0 ⁇ x ⁇ 2 and is preferably ZrO2 .
  • the average composition of niobium oxide is represented by NbOx, where x can take 0 ⁇ x ⁇ 2.5, preferably Nb 2 O 5 .
  • the second inorganic compound layer is preferably a deposited film.
  • an aluminum oxide (alumina) vapor deposition film, a zirconium oxide vapor deposition film, and a niobium oxide vapor deposition film are preferable.
  • the second inorganic compound layer may be a single film formed by vapor deposition once, or may be a multilayer film formed by vapor deposition multiple times. When the second inorganic compound layer is a multilayer film, films of the same composition may be combined, or films of different compositions may be combined.
  • the second inorganic compound layer is a single-layer film
  • one type of inorganic compound is preferably contained in the second inorganic compound layer, but a plurality of types of inorganic compounds may be contained.
  • one type of inorganic compound is preferably contained in each film, but a plurality of types of inorganic compounds may be contained.
  • the refractive index of the second inorganic compound layer is preferably 1.60 or more, more preferably 1.80 or more. On the other hand, it is, for example, 3.00 or less, and may be 2.50 or less.
  • the above refractive index means the refractive index of each film when the second inorganic compound layer is a multilayer film.
  • the second inorganic compound layer may consist of a multilayer film having a different refractive index.
  • the second inorganic compound layer is laminated in order of a medium refractive index layer and a high refractive index layer from the hard coat layer side toward the first inorganic compound layer (low refractive index layer), or a high refractive index layer index layer, low refractive index layer, and high refractive index layer.
  • the thickness of the second inorganic compound layer is not particularly limited, but is preferably 20 nm or more and 300 nm or less, more preferably 30 nm or more and 270 nm or less.
  • the thickness of the second inorganic compound layer refers to the thickness of the entire multilayer film that constitutes the second inorganic compound layer.
  • the thickness of each film is, for example, 10 nm or more and 150 nm or less, preferably 15 nm or more and 130 nm or less.
  • the second inorganic compound layer selects particles having a desired refractive index from among high refractive index particles, and performs physical vapor deposition such as vacuum deposition, sputtering, and ion plating. method (Physical Vapor Deposition method, PVD method) or the like. Among these, the vacuum deposition method is preferable from the viewpoint of productivity (deposition rate).
  • the total thickness of the inorganic compound layers included in the laminate for display device in the present disclosure is preferably 500 nm or less, more preferably 400 nm or less. On the other hand, for example, it may be 40 nm or more, or may be 70 nm or more. If the total thickness is too thick, the bending resistance of the laminate for display device may deteriorate.
  • the total thickness of the inorganic compound layers usually means the total thickness of the first inorganic compound layer and the second inorganic compound layer.
  • the laminate for a display device in the present disclosure has a hard coat layer between the second inorganic compound layer and the substrate layer.
  • the erosion rate E2 at the second interface which is the interface between the second inorganic compound layer and the hard coat layer, is the difference between the erosion rate E1 at the first interface and the above range.
  • the device laminate as a whole is excellent in bending resistance.
  • the abrasion resistance can be improved by arranging the hard coat layer.
  • the base material layer is a resin base material
  • the abrasion resistance can be effectively improved by disposing the hard coat layer.
  • the surface of the hard coat layer on the side of the second inorganic compound layer may or may not be surface-treated.
  • Examples of the surface treatment include the method described in the above "1. Erosion rate”. Plasma treatment is particularly preferred. Plasma treatment conditions include plasma discharge power, glow discharge pressure, and the like. In the present invention, as the plasma treatment, for example, the stronger the plasma treatment is, the more the adhesion is improved and the erosion rate E2 at the second interface B is lowered.
  • the material of the hard coat layer is preferably an organic material.
  • the hard coat layer preferably contains a cured product of a resin composition containing a polymerizable compound.
  • a cured product of a resin composition containing a polymerizable compound can be obtained by subjecting the polymerizable compound to a polymerization reaction by a known method using a polymerization initiator as necessary.
  • the polymerizable compound has at least one polymerizable functional group in its molecule.
  • the polymerizable compound for example, at least one of a radically polymerizable compound and a cationic polymerizable compound can be used.
  • a radically polymerizable compound is a compound having a radically polymerizable group.
  • the radically polymerizable group possessed by the radically polymerizable compound includes, for example, a group containing a carbon-carbon unsaturated double bond, and specific examples include a vinyl group and a (meth)acryloyl group.
  • the number of radically polymerizable groups in one molecule of the radically polymerizable compound is preferably two or more, more preferably three or more.
  • compounds having a (meth)acryloyl group are preferable from the viewpoint of high reactivity.
  • urethane (meth)acrylate, polyester (meth)acrylate, epoxy (meth)acrylate, melamine Polyfunctional (meth)acrylate monomers having several (meth)acryloyl groups in the molecule and having a molecular weight of several hundred to several thousand, called meth)acrylates, polyfluoroalkyl (meth)acrylates, silicone (meth)acrylates, etc. and oligomers can be preferably used, and polyfunctional (meth)acrylate polymers having two or more (meth)acryloyl groups in side chains of the acrylate polymer can also be preferably used.
  • polyfunctional (meth)acrylate monomers having two or more (meth)acryloyl groups in one molecule can be preferably used.
  • Abrasion resistance can be improved by containing a cured product of a polyfunctional (meth)acrylate monomer.
  • adhesion can be improved.
  • Polyfunctional (meth)acrylate oligomers or polymers having two or more (meth)acryloyl groups in one molecule can also be preferably used.
  • Abrasion resistance can be improved by containing a cured product of a polyfunctional (meth)acrylate oligomer or polymer. Furthermore, bending resistance and adhesion can be improved.
  • (meth)acryloyl represents acryloyl and methacryloyl
  • (meth)acrylate represents acrylate and methacrylate
  • a cationically polymerizable compound is a compound having a cationically polymerizable group.
  • the cationically polymerizable group possessed by the cationically polymerizable compound include an epoxy group, an oxetanyl group, and a vinyl ether group.
  • these cationically polymerizable groups may be the same or different.
  • the hard coat layer may contain an antistatic agent. Antistatic properties can be imparted to the laminate for display device.
  • the hard coat layer can further contain additives as needed.
  • the additive is appropriately selected according to the function to be imparted to the hard coat layer, and is not particularly limited. Examples include inorganic particles, organic particles, ultraviolet absorbers, infrared absorbers, antifouling agents, antiglare agents, and leveling agents. , surfactants, lubricants, various sensitizers, flame retardants, adhesion promoters, polymerization inhibitors, antioxidants, light stabilizers, surface modifiers and the like.
  • the material for the hard coat layer at least one of urethane (meth)acrylate and polyfunctional (meth)acrylate monomer is used in order to achieve both bending resistance and adhesion to the second inorganic compound layer.
  • a reactive inorganic particle having a reactive functional group capable of forming a covalent bond with the radically polymerizable compound. is more preferred.
  • reactive inorganic particles include silica having a reactive functional group.
  • reactive functional groups include vinyl groups, (meth)acryloyl groups, allyl groups, epoxy groups, and silanol groups.
  • the thickness of the hard coat layer may be appropriately selected depending on the function of the hard coat layer and the use of the laminate for display device.
  • the thickness of the hard coat layer is, for example, preferably 0.5 ⁇ m or more and 50 ⁇ m or less, more preferably 1.0 ⁇ m or more and 40 ⁇ m or less, even more preferably 1.5 ⁇ m or more and 30 ⁇ m or less, and 2 ⁇ m or more. 20 ⁇ m or less is particularly preferable. If the thickness of the hard coat layer is within the above range, it is possible to obtain sufficient hardness as the hard coat layer.
  • Forming Method for example, a method of applying a hard coat layer resin composition containing the polymerizable compound and the like onto the base material layer and curing the composition can be mentioned.
  • the base material layer in the present disclosure is a member that supports the hard coat layer, the second inorganic compound layer and the first inorganic compound layer.
  • the substrate layer is not particularly limited as long as it has transparency, and examples thereof include resin substrates and glass substrates.
  • Resin substrate The resin constituting the resin substrate is not particularly limited as long as it can obtain a transparent resin substrate.
  • Examples include polyimide resins, polyamide resins, Examples include polyester-based resins.
  • Examples of polyimide-based resins include polyimide, polyamideimide, polyetherimide, and polyesterimide.
  • polyester resins include polyethylene terephthalate, polypropylene terephthalate, polybutylene terephthalate, and polyethylene naphthalate.
  • the glass constituting the glass substrate is not particularly limited as long as it has transparency, and examples thereof include silicate glass and silica glass. Among them, borosilicate glass, aluminosilicate glass, and aluminoborosilicate glass are preferable, and alkali-free glass is more preferable.
  • Commercially available glass substrates include, for example, ultra-thin sheet glass G-Leaf manufactured by Nippon Electric Glass Co., Ltd., ultra-thin glass manufactured by Matsunami Glass Industry Co., Ltd., and the like.
  • the glass constituting the glass substrate is chemically strengthened glass.
  • Chemically strengthened glass is excellent in mechanical strength and is preferable in that it can be made thinner accordingly.
  • Chemically strengthened glass is glass whose mechanical properties are strengthened by a chemical method, typically by partially exchanging ion species, such as replacing sodium with potassium, in the vicinity of the surface of the glass. It has a compressive stress layer.
  • glass constituting the chemically strengthened glass substrate examples include aluminosilicate glass, soda lime glass, borosilicate glass, lead glass, alkali barium glass, and aluminoborosilicate glass.
  • Examples of commercial products of chemically strengthened glass substrates include Corning's Gorilla Glass (Gorilla Glass), AGC's Dragontrail, and Schott's chemically strengthened glass.
  • the thickness of the base layer is not particularly limited as long as it is a thickness that allows flexibility, and is appropriately selected according to the type of base layer. be.
  • the thickness of the resin base material is, for example, preferably 10 ⁇ m or more and 100 ⁇ m or less, and more preferably 25 ⁇ m or more and 80 ⁇ m or less.
  • the thickness of the resin base material is within the above range, good flexibility and sufficient hardness can be obtained.
  • curling of the laminate for a display device can also be suppressed.
  • the thickness of the glass substrate is, for example, preferably 200 ⁇ m or less, more preferably 15 ⁇ m or more and 100 ⁇ m or less, further preferably 20 ⁇ m or more and 90 ⁇ m or less, and 25 ⁇ m or more and 80 ⁇ m or less. is particularly preferred.
  • the thickness of the glass substrate is within the above range, good flexibility and sufficient hardness can be obtained.
  • curling of the laminate for a display device can also be suppressed.
  • FIG. 3 is a schematic cross-sectional view showing another example of the display device laminate according to the present disclosure.
  • the display device laminate 1 of the present disclosure has a fluorine compound layer 6 on the surface of the first inorganic compound layer 2 opposite to the surface on the second inorganic compound layer 3 side. is preferred.
  • the laminate for a display device in the present disclosure has a fluorine-containing layer containing fluorine atoms on the side of the first inorganic compound layer opposite to the side of the second inorganic compound layer. is preferred. Above all, it is preferable that the fluorine-containing layer is arranged on the outermost surface of the laminate for a display device.
  • the fluorine-containing layer may be any layer as long as it contains fluorine atoms, and by containing fluorine atoms, it is possible to impart abrasion resistance to the display device laminate.
  • the coefficient of dynamic friction of the surface of the display device laminate on the fluorine-containing layer side can be set within a predetermined range.
  • the dynamic friction coefficient of the fluorine-containing layer side surface of the laminate for a display device in the present disclosure is preferably 0.01 or more and 0.30 or less, more preferably 0.03 or more and 0.20 or less. If the coefficient of dynamic friction is equal to or less than the above value, the slipperiness of the surface will be improved, and the wear resistance will be more excellent.
  • the dynamic friction coefficient can be measured by a method conforming to JIS K7125:1999 (friction coefficient test method).
  • the method for measuring the coefficient of dynamic friction is, for example, using a variable load friction and wear test system (HEIDON Type HHS2000 manufactured by Shinto Kagaku Co., Ltd.), using cashmere felt of 2 cm ⁇ 2 cm, a load of 200 g, and a speed of 5 mm / sec. conditions can be measured.
  • the coefficient of dynamic friction is measured at five different positions on the surface of the laminate for a display device on the fluorine-containing layer side, and is taken as the average value of the measured values.
  • the fluorine-containing layer is not particularly limited as long as it contains fluorine atoms.
  • the fluorine-containing layer may contain, for example, a fluorine compound, may contain a fluorine compound and a resin, or may contain a fluorine resin.
  • the fluorine compound for example, those known as fluorine-based antifouling agents, fluorine-based leveling agents, fluorine-based surfactants, and the like can be used.
  • fluorine compounds include organic fluorine compounds, and specific examples include perfluoro compounds.
  • Perfluoro compounds include, for example, perfluoro compounds having perfluoropolyether groups, perfluoroalkylene groups, perfluoroalkyl groups, and the like. Perfluoroalkylene groups and perfluoroalkyl groups may be linear or branched.
  • a fluorine compound may be used individually by 1 type, and may be used in mixture of 2 or more types.
  • the fluorine compound is preferably bound to the resin component.
  • binding the fluorine compound to the resin component bleeding out of the fluorine compound can be suppressed, and wear resistance and antifouling properties can be maintained over a long period of time.
  • the fluorine compound a fluorine compound having a reactive functional group is preferably used because it is preferably bonded to the resin component. That is, the fluorine-containing layer preferably contains a cured product of a resin composition containing a fluorine compound having a reactive functional group and a polymerizable compound to be described later.
  • reactive functional groups include ethylenically unsaturated bond groups such as (meth)acryloyl groups, vinyl groups, and allyl groups, epoxy groups, and oxetanyl groups.
  • the number of reactive functional groups possessed by the fluorine compound should be 1 or more, preferably 2 or more. Abrasion resistance can be enhanced by using a fluorine compound having two or more reactive functional groups.
  • the fluorine compound may contain silicon. That is, the fluorine-containing layer may contain fluorine and silicon.
  • silicon-containing fluorine compounds include fluorine compounds having a siloxane bond in the molecule. By using a fluorine compound having a siloxane bond, it is possible to improve lubricity and wear resistance.
  • the fluorine compound is preferably, for example, a fluorine compound having a reactive functional group or a fluorine compound containing a reactive functional group and silicon.
  • fluorine compounds having a reactive functional group examples include fluorine-containing monomers having an ethylenically unsaturated bond, fluorine-containing polymers or oligomers having a fluoroalkylene group in the main chain, fluoroalkylene groups or fluoroalkyl groups in the main chain and side chains. Fluorine-containing polymers or oligomers having groups are included.
  • fluorine compounds having reactive functional groups for example, JP-A-2017-19247 can be referred to.
  • fluorine compound containing a reactive functional group and silicon for example, a silicone-containing vinylidene fluoride copolymer obtained by reacting an organic silicone having a reactive functional group in the molecule with the above fluorine compound having a reactive functional group. etc.
  • fluorine compound containing a reactive functional group and silicon for example, a fluorine compound having a reactive functional group and a perfluoropolyether group, especially a silane unit having a reactive functional group and a silane having a perfluoropolyether group Fluorine compounds containing units are also preferably used. International publication 2012/157682 can be referred to for such a fluorine compound, for example.
  • the fluorine-containing layer may be a layer containing a fluorine compound and a resin.
  • the resin include cured products of polymerizable compounds.
  • the cured product of the polymerizable compound can be obtained by polymerizing the polymerizable compound by a known method using a polymerization initiator as necessary.
  • examples of the fluorine resin include a cured product of a polymerizable compound containing fluorine.
  • a cured product of a fluorine-containing polymerizable compound can be obtained by polymerizing a fluorine-containing polymerizable compound by a known method using a polymerization initiator as necessary.
  • a polymerizable compound containing fluorine has at least one polymerizable functional group in its molecule.
  • the fluorine-containing polymerizable compound for example, at least one of a radically polymerizable compound and a cationic polymerizable compound can be used.
  • the fluorine-containing polymerizable compound for example, fluorine-containing monomers, oligomers, and polymers can be used.
  • the fluorine-containing layer contains inorganic particles, organic particles, ultraviolet absorbers, antioxidants, light stabilizers, antiglare agents, leveling agents, surfactants, lubricants, various sensitizers, flame retardants, if necessary. , tackifiers, polymerization inhibitors, surface modifiers, and other additives.
  • the fluorine-containing layer may be a single layer film or a multilayer film.
  • the thickness of the fluorine-containing layer is not particularly limited. . If the thickness of the fluorine-containing layer is too thin, the surface hardness of the fluorine-containing layer may decrease, resulting in decreased wear resistance. Moreover, when the thickness of the fluorine-containing layer is too thick, the flexibility may be impaired. On the other hand, in the present disclosure, when the laminate for a display device exhibits low reflectivity by including the first inorganic compound layer and the second inorganic compound layer, the thickness of the fluorine-containing layer is relatively thin. is preferred. This is because the influence on thin film interference is suppressed.
  • the thickness of the fluorine-containing layer is, for example, preferably 1 nm or more and 30 nm or less, more preferably 2 nm or more and 20 nm or less, and even more preferably 3 nm or more and 10 nm or less.
  • the method for forming the fluorine-containing layer is appropriately selected according to the material. is mentioned.
  • the laminate for a display device in the present disclosure can have an adhesive layer for attachment on the surface of the substrate layer opposite to the hard coat layer.
  • the laminate for a display device can be attached to, for example, a display panel or the like via the adhesive layer for attachment.
  • the adhesive used for the sticking adhesive layer is not particularly limited as long as it has transparency and is capable of adhering the laminate for a display device to a display panel or the like.
  • Curable adhesives ultraviolet curable adhesives, two-liquid curable adhesives, hot-melt adhesives, pressure-sensitive adhesives (so-called adhesives), and the like can be mentioned.
  • the thickness of the sticking adhesive layer is, for example, preferably 10 ⁇ m or more and 100 ⁇ m or less, more preferably 25 ⁇ m or more and 80 ⁇ m or less, and even more preferably 40 ⁇ m or more and 60 ⁇ m or less. If the thickness of the sticking adhesive layer is too thin, there is a possibility that the display device laminate and the display panel or the like cannot be sufficiently adhered. On the other hand, if the adhesive layer for sticking is too thick, the flexibility may be impaired.
  • an adhesive film may be used as the sticking adhesive layer.
  • an adhesive composition may be applied onto a support or a substrate layer to form an adhesive layer for attachment.
  • the adhesive layer for attachment may be a layer having adhesion to the extent that it can be peeled off after being attached to the display panel of the display device, or may be a layer having high adhesion without the purpose of peeling. good.
  • an interlayer adhesive layer may be arranged between each layer.
  • the adhesive used for the interlayer adhesive layer the same adhesive as used for the adhesive layer for attachment can be used.
  • Laminate for display device (1) Luminous reflectance When light is incident at an angle of 0° and an incident angle of 5°, the specular reflectance of the incident light has a luminous reflectance of 2.0% or less. It is preferably 1.7% or less, more preferably 1.5% or less. If the luminous reflectance is too high, it is impossible to prevent the viewer from being reflected in the display area.
  • the luminous reflectance can be obtained in accordance with JIS Z8722:2009.
  • the luminous reflectance is 2 with standard light C from the reflection spectrum obtained by making light in the wavelength range of 380 nm or more and 780 nm or less incident on the surface of the first inorganic compound layer side of the laminate for a display device.
  • Tristimulus values X, Y, and Z in the XYZ color system are obtained in the degree visual field, and the value of Y is the luminous reflectance. That is, the luminous reflectance refers to the Y value of the CIE1931 standard color system. In the measurement of luminous reflectance, the following conditions can be used.
  • a black vinyl tape having a width larger than the measurement spot area (for example, product name "Yamato vinyl tape NO200-19-21 , Yamato Co., Ltd., 19 mm width) is attached to the surface of the laminate for display device on the side of the substrate layer, and then the measurement is performed.
  • a spectrophotometer can be used as a device for measuring luminous reflectance.
  • a spectrophotometer “UV-2600” manufactured by Shimadzu Corporation can be used.
  • the laminate for a display device in the present disclosure has flex resistance. Specifically, when the display device laminate is subjected to a dynamic bending test described below, it is preferable that the display device laminate does not crack or break.
  • the dynamic bending test is performed as follows. First, a laminate for a display device having a size of 20 mm ⁇ 100 mm is prepared. In the dynamic bending test, as shown in FIG. 5A, the short side portion 1C of the display device laminate 1 and the short side portion 1D facing the short side portion 1C are arranged in parallel. are fixed by the fixing portion 51. As shown in FIG. Further, as shown in FIG. 5(a), the fixed portion 51 is horizontally slidable. Next, as shown in FIG. 5B, by moving the fixing portions 51 closer to each other, the display device laminate 1 is deformed so as to be folded, and furthermore, as shown in FIG.
  • the fixing portion 51 is removed. Deformation of the display device laminate 1 is eliminated by moving in the opposite direction.
  • the fixing portion 51 By moving the fixing portion 51 as shown in FIGS. 5(a) to 5(c), the display device laminate 1 can be folded 180°.
  • a dynamic bending test was performed so that the bent portion 1E of the laminated body 1 for a display device did not protrude from the lower end of the fixed portion 51, and by controlling the distance when the fixed portion 51 was closest, the display device
  • the distance d between the two opposing short sides 1C and 1D of the laminate 1 can be set to a predetermined value. For example, when the interval d between the short sides 1C and 1D is 10 mm, the outer diameter of the bent portion 1E is considered to be 10 mm.
  • a dynamic bending test in which the display device laminate 1 was folded 180° so that the distance d between the opposing short sides 1C and 1D was 10 mm was repeated 200,000 times. It is preferable that cracks or breaks do not occur when repeated 500,000 times. Above all, it is preferable that no cracks or breaks occur when a dynamic bending test is repeated 200,000 times in which the display device laminate is folded 180° so that the distance d between the opposing short sides 1C and 1D is 6 mm. .
  • the display device laminate may be folded so that the first inorganic compound layer is on the outside, or the display device laminate may be folded so that the first inorganic compound layer is on the inside. However, in any case, it is preferable that the laminate for a display device does not crack or break.
  • the laminate for a display device in the present disclosure preferably has a total light transmittance of, for example, 85% or more, more preferably 88% or more, and 90% or more. is more preferred. Due to such a high total light transmittance, a laminate for a display device with good transparency can be obtained.
  • the total light transmittance of the laminate for display devices can be measured according to JIS K7361-1:1999, and can be measured, for example, with a haze meter HM150 manufactured by Murakami Color Research Laboratory.
  • the haze of the laminate for a display device in the present disclosure is, for example, preferably 5% or less, more preferably 2% or less, and even more preferably 1% or less. Such a low haze makes it possible to obtain a laminate for a display device with good transparency.
  • the haze of the laminate for a display device can be measured according to JIS K-7136:2000, and can be measured, for example, with a haze meter HM150 manufactured by Murakami Color Research Laboratory.
  • the laminate for a display device according to the present disclosure can be used as a front panel in a display device, which is arranged closer to the viewer than the display panel. Since the laminate for a display device according to the present disclosure has excellent bending resistance, it can be suitably used as a front plate in a flexible display device such as a foldable display, a rollable display, and a bendable display. In particular, the laminate for a display device according to the present disclosure can improve bending resistance, and thus can be suitably used for a front panel of a foldable display.
  • the thickness of the laminate for a display device in the present disclosure is, for example, preferably 10 ⁇ m or more and 500 ⁇ m or less, more preferably 20 ⁇ m or more and 400 ⁇ m or less, and even more preferably 30 ⁇ m or more and 300 ⁇ m or less.
  • the thickness of the laminate for a display device is within the above range, the flexibility can be enhanced.
  • the display device laminate in the present disclosure can be used, for example, as a front plate in a display device such as a smartphone, a tablet terminal, a wearable terminal, a personal computer, a television, a digital signage, a public information display (PID), or an in-vehicle display. can be done.
  • a display device such as a smartphone, a tablet terminal, a wearable terminal, a personal computer, a television, a digital signage, a public information display (PID), or an in-vehicle display.
  • PID public information display
  • Display Device A display device includes a display panel and the above-described display device laminate disposed on the viewer side of the display panel.
  • FIG. 4 is a schematic cross-sectional view showing an example of a display device according to the present disclosure.
  • the display device 20 includes a display panel 21 and the display device laminate 1 arranged on the viewer side of the display panel 21 .
  • the display device laminate 1 and the display panel 21 can be bonded together, for example, via the bonding adhesive layer 7 of the display device laminate 1 .
  • the flexible display device according to the present disclosure has excellent bending resistance, display defects are suppressed even if it is repeatedly bent.
  • the laminate for a display device according to the present disclosure is arranged on the surface of the display device, it is arranged so that the first inorganic compound layer is on the outside and the base material layer is on the inside.
  • the method of disposing the laminate for a display device according to the present disclosure on the surface of the display device is not particularly limited, but includes, for example, a method of interposing an adhesive layer.
  • Examples of the display panel in the present disclosure include display panels used in display devices such as organic EL display devices and liquid crystal display devices.
  • the display device according to the present disclosure can have a touch panel member between the display panel and the laminate for display device.
  • the display device in the present disclosure is preferably a flexible display device such as a foldable display, a rollable display, or a bendable display.
  • the display device in the present disclosure is preferably foldable. That is, the display device in the present disclosure is preferably a foldable display.
  • composition of resin composition for hard coat layer ⁇ Urethane acrylate (product name “UA-33H”, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.): 64 parts by mass ⁇ Pentaerythritol acrylate (product name “ATM-4PL”, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.): 36 parts by mass ⁇ Polymerization initiator ( 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, product name "Omnirad 184", manufactured by IGM Resins B.V.): 4 parts by mass Adhesive agent (product name "BYK-4509", manufactured by BYK Chemie): 0.3 parts by mass ( 100% solid content conversion value) - Silica particles (silica particles having an epoxy group as a reactive group, average primary particle diameter 12 nm, manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.): 70 parts by mass (converted to 100% solid content) ⁇ Methyl isobutyl ketone: 220 parts by mass
  • a fluorine-containing layer having a thickness of 7 nm was formed by forming a fluorine compound (product name "OPTOOL UD120", manufactured by Daikin Industries, Ltd.) by a vacuum deposition method.
  • a fluorine compound product name "OPTOOL UD120", manufactured by Daikin Industries, Ltd.
  • Example 4 A laminate was obtained in the same manner as in Example 1, except that the surface of the hard coat layer was not subjected to plasma treatment.
  • Examples 5 to 8, Comparative Example 2 A hard coat layer was formed on the substrate layer in the same manner as in Example 1. Then, using the constituent materials shown in Table 1, a second inorganic compound layer was formed on the hard coat layer by vacuum deposition. Then, the surface of the second inorganic compound layer was subjected to plasma treatment under the conditions shown in Table 1. Next, a first inorganic compound layer was formed on the surface-treated surface of the second inorganic compound layer by vacuum deposition using constituent materials shown in Table 1.
  • a fluorine-containing layer was formed in the same manner as in Example 1 to obtain a laminate having a substrate layer, a hard coat layer, a second inorganic compound layer, a first inorganic compound layer, and a fluorine-containing layer in this order. rice field.
  • Example 9 A hard coat layer was formed on the substrate layer in the same manner as in Example 1. Then, the surface of the obtained hard coat layer was subjected to plasma treatment under the conditions shown in Table 1. Next, on the surface of the hard coat layer subjected to the surface treatment, using the constituent materials shown in Table 1, a lower layer film (ZrO 2 ) and an upper layer film (Nb 2 O 5 ) of the second inorganic compound layer were formed. It was formed by a vacuum deposition method. Then, using the constituent materials shown in Table 1, a first inorganic compound layer was formed on the second inorganic compound layer.
  • a fluorine-containing layer was formed in the same manner as in Example 1 to obtain a laminate having a substrate layer, a hard coat layer, a second inorganic compound layer, a first inorganic compound layer, and a fluorine-containing layer in this order. rice field.
  • Comparative Examples 3 to 5 A hard coat layer was formed on the substrate layer in the same manner as in Example 1. Next, on the hard coat layer, using the constituent materials shown in Table 1, in Comparative Examples 3 and 4, a lower layer film (ZrO 2 ) and an upper layer film (Nb 2 O 5 ) of the second inorganic compound layer were formed. In Comparative Example 5, a lower layer film (Al 2 O 3 ), an intermediate layer film (ZrO 2 ) and an upper layer film (Nb 2 O 5 ) of the second inorganic compound layer were formed by vacuum deposition. Then, the surface of the second inorganic compound layer was subjected to plasma treatment under the conditions shown in Table 1.
  • a first inorganic compound layer was formed on the surface-treated surface of the second inorganic compound layer.
  • a fluorine-containing layer was formed in the same manner as in Example 1 to obtain a laminate having a substrate layer, a hard coat layer, a second inorganic compound layer, a first inorganic compound layer, and a fluorine-containing layer in this order. rice field.
  • the fixing portions 51 are moved closer to each other, thereby deforming the laminate for display device 1 so as to be folded, and further, as shown in FIG. 5(c). Then, after moving the fixing portion 51 to a position where the distance d between the two opposing short side portions 1C and 1D fixed by the fixing portion 51 of the display device laminate 1 becomes a predetermined value, the fixing portion 51 is removed. Deformation of the display device laminate 1 was eliminated by moving in the opposite direction. By moving the fixing portion 51 as shown in FIGS. 5(a) to 5(c), the stack 1 for a display device was repeatedly folded by 180°.
  • the distance d between the two opposing short sides 1C and 1D of the display device laminate 1 was 6 mm ( ⁇ 6 mm dynamic bending test) or 10 mm ( ⁇ 10 mm dynamic bending test). Also, the laminate was bent so that the fluorine compound layer was on the outside. The results of the dynamic bending test were evaluated according to the following criteria.
  • A' Passed (in a dynamic bending test of ⁇ 6 mm with the first inorganic compound layer side outside, no breakage occurred even after repeated bending 200,000 times, and no cracks occurred)
  • the erosion rate E1 at the first interface, which is the interface between the first inorganic compound layer and the second inorganic compound layer, and the second, which is the interface between the second inorganic compound layer and the hard coat layer ⁇ E1 (E2 ⁇ E1), which is the difference from the erosion rate E2 at the interface, is in the range of ⁇ 1.0 ⁇ 10 ⁇ 2 ⁇ m/g or more and 1.0 ⁇ 10 ⁇ 1 ⁇ m/g or less. laminate.
  • a display device comprising: the laminate for a display device according to any one of [1] to [11], which is arranged on the observer side of the display panel.

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Abstract

本開示は、第１の無機化合物層と、第２の無機化合物層と、ハードコート層と、基材層と、をこの順に有する表示装置用積層体であって、上記第１の無機化合物層と上記第２の無機化合物層との界面である第１の界面におけるエロージョン率Ｅ１と、上記第２の無機化合物層と上記ハードコート層との界面である第２の界面におけるエロージョン率Ｅ２との差であるΔＥ１（Ｅ２－Ｅ１）が、－１．０×１０－２μｍ／ｇ以上、１．０×１０－１μｍ／ｇ以下の範囲である、表示装置用積層体を提供する。

Description

表示装置用積層体および表示装置
　本開示は、表示装置用積層体および表示装置に関する。
　表示装置の表面には、例えばハードコート性、耐摩耗性、反射防止性、防眩性、帯電防止性、防汚性等、種々の性能を有する機能層を備える積層体が配置されている。
　特許文献１には、表示装置に用いられる光学フィルムであり、アクリル樹脂フィルムを含み、マイクロスラリーエロージョン（ＭＳＥ）試験による摩耗率（μｍ／ｇ）が０．７以上１．４以下の範囲にあると共に、ＪＩＳ　Ｐ８１１５に準拠して測定した耐折回数が３００回以上である光学フィルムが開示されている。
　近年、フォルダブルディスプレイ、ローラブルディスプレイ、ベンダブルディスプレイ等のフレキシブル表示装置が注目されており、フレキシブル表示装置の表面に配置される積層体の開発が盛んに進められている。
　フレキシブル表示装置には、繰り返し屈曲させても表示不良が発生しないことが求められ、フレキシブル表示装置の表面に配置される積層体には、繰り返し屈曲させたときに、剥がれやクラックが生じない屈曲耐性が求められる。特に、反射防止性能を有する機能層を備える積層体においては、屈曲により生じる表示不良が目立つ場合があるため、より優れた屈曲耐性が求められる。
特開２０１６－７１２７４号公報
　本開示は、上記実情に鑑みてなされたものであり、屈曲耐性に優れる表示装置用積層体および表示装置を提供することを主目的とする。
　本開示の一実施形態は、第１の無機化合物層と、第２の無機化合物層と、ハードコート層と、基材層と、をこの順に有する表示装置用積層体であって、上記第１の無機化合物層と上記第２の無機化合物層との界面である第１の界面におけるエロージョン率Ｅ１と、上記第２の無機化合物層と上記ハードコート層との界面である第２の界面におけるエロージョン率Ｅ２との差であるΔＥ１（Ｅ２－Ｅ１）が、－１．０×１０－２μｍ／ｇ以上、１．０×１０－１μｍ／ｇ以下の範囲である、表示装置用積層体を提供する。
　本開示における表示装置用積層体においては、上記第１の無機化合物層のエロージョン率Ｅ３と、上記第１の界面におけるエロージョン率Ｅ１との差であるΔＥ２（Ｅ３－Ｅ１）が、０．０μｍ／ｇ以上２．０×１０－２μｍ／ｇ未満であることが好ましい。
　また、本開示においては、上記第１の無機化合物層の屈折率が、上記第２の無機化合物層の屈折率より小さいものであることが好ましい。
　さらに、上記第１の無機化合物層の上記第２の無機化合物層とは反対側の面にフッ素含有層を有することが好ましい。
　本開示における表示装置用積層体においては、上記第１の無機化合物層に含まれる第１の無機化合物が、ケイ素酸化物であることが好ましい。
　また、本開示における表示装置用積層体においては、上記第１の無機化合物層の厚みが、３０ｎｍ以上２００ｎｍ以下であることが好ましい。
　本開示における表示装置用積層体においては、上記第１の無機化合物層および上記第２の無機化合物層の合計厚みが、５００ｎｍ以下であることが好ましい。
　また、本開示における表示装置用積層体においては、上記第２の無機化合物層に含まれる第２の無機化合物が、アルミニウム酸化物、ジルコニウム酸化物、およびニオブ酸化物のいずれかであることが好ましい。
　さらに、本開示における表示装置用積層体においては、上記第２の無機化合物層の厚みが、２０ｎｍ以上３００ｎｍ以下であることが好ましい。
　本開示における表示装置用積層体においては、上記第１の無機化合物層側の面に入射角５°で光を入射させた際の正反射光の視感反射率が２．０％以下とすることができる。
　また、本開示における表示装置用積層体は、上記基材層の上記ハードコート層側の面とは反対の面側に、貼付用接着層を有することができる。
　本開示の他の実施形態は、表示パネルと、上記表示パネルの観察者側に配置された、上述の表示装置用積層体と、を備える、表示装置を提供する。
　本開示は、屈曲耐性に優れる表示装置用積層体および表示装置を提供することができるという効果を奏する。
本開示の表示装置用積層体の一例を示す概略断面図である。 本開示の表示装置用積層体の他の一例を示す概略断面図である。 本開示の表示装置用積層体の他の一例を示す概略断面図である。 本開示の表示装置の一例を示す概略断面図である。 動的屈曲試験の方法を説明するための図である。
　下記に、図面等を参照しながら本開示の実施の形態を説明する。ただし、本開示は多くの異なる態様で実施することが可能であり、下記に例示する実施の形態の記載内容に限定して解釈されるものではない。また、図面は説明をより明確にするため、実際の形態に比べ、各部の幅、厚さ、形状等について模式的に表わされる場合があるが、あくまで一例であって、本開示の解釈を限定するものではない。また、本明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同様の要素には、同一の符号を付して、詳細な説明を適宜省略することがある。
　本明細書において、ある部材の上に他の部材を配置する態様を表現するにあたり、単に「上に」、あるいは「下に」と表記する場合、特に断りの無い限りは、ある部材に接するように、直上、あるいは直下に他の部材を配置する場合と、ある部材の上方、あるいは下方に、さらに別の部材を介して他の部材を配置する場合との両方を含むものとする。また、本明細書において、ある部材の面に他の部材を配置する態様を表現するにあたり、単に「面側に」または「面に」と表記する場合、特に断りの無い限りは、ある部材に接するように、直上、あるいは直下に他の部材を配置する場合と、ある部材の上方、あるいは下方に、さらに別の部材を介して他の部材を配置する場合との両方を含むものとする。
　本開示の発明者らは、第１の無機化合物層と、第２の無機化合物層と、ハードコート層と、基材層と、をこの順に有する表示装置用積層体において、第１の無機化合物層と第２の無機化合物層との間、または、第２の無機化合物層とハードコート層との間で剥がれが生じ、屈曲耐性が劣る場合があることを知見した。
　本開示の発明者らは、表示装置用積層体の屈曲耐性について鋭意検討を行った結果、無機化合物層およびハードコート層を含む積層体の層間の密着性は、その界面のエロージョン率と相関があることを知見した。具体的には、界面の密着性が弱いと、界面の深さ位置によるエロージョン率にばらつきが生じ、結果的にエロージョン率が高くなることを知見した。すなわち、界面のエロージョン率が高いほど界面の密着性が低く、界面のエロージョン率が低いほど界面の密着性が高い傾向にあることを見出した。
　さらに、本開示の発明者らは、第１の無機化合物層と第２の無機化合物層との界面におけるエロージョン率Ｅ１と、第２の無機化合物層とハードコート層との界面におけるエロージョン率Ｅ２との差であるΔＥ１（Ｅ２－Ｅ１）が所定の範囲であれば、積層体の屈曲耐性が向上することを見出し、本発明を完成させるに至った。以下、本開示の表示装置用積層体について、詳細に説明する。
Ａ．表示装置用積層体
　図１は、本開示における表示装置用積層体の一例を示す概略断面図である。図１に示すように、本開示の表示装置用積層体１は、第１の無機化合物層２と、第２の無機化合物層３と、ハードコート層４と、基材層５と、をこの順に有する。
　本開示においては、第１の無機化合物層２と第２の無機化合物層３との界面である第１の界面Ａにおけるエロージョン率Ｅ１と、第２の無機化合物層３とハードコート層４との界面である第２の界面Ｂにおけるエロージョン率Ｅ２との差であるΔＥ１（Ｅ２－Ｅ１）が、－１．０×１０－２μｍ／ｇ以上、１．０×１０－１μｍ／ｇ以下の範囲であることを特徴とする。
　図１は、第２の無機化合物層３が単層膜の場合を示している。一方、第２の無機化合物層が、複数の無機化合物膜からなる多層膜である場合には、第２の無機化合物層の最も第１の無機化合物層側の無機化合層膜と、第１の無機化合物層との界面が第１の界面となる。また、第２の無機化合物層の最もハードコート層側の無機化合物膜と、ハードコート層との界面が第２の界面となる。すなわち、図２に示すように、第２の無機化合物層３が、例えば上層膜３ａと下層膜３ｂとを含むような多層膜である場合、第１の無機化合物層２と第２の無機化合物層３における上層膜３ａとの界面が、第１の界面Ａであり、第２の無機化合物層３における下層膜３ｂとハードコート層４との界面が、第２の界面Ｂとなる。
　本開示における表示装置用積層体は、ΔＥ１（Ｅ２－Ｅ１）が、－１．０×１０－２μｍ／ｇ以上であることにより、第１の界面の屈曲部に剥がれが生じることを抑制することができる。ΔＥ１（Ｅ２－Ｅ１）が、－１．０×１０－２μｍ／ｇ未満であると、第１の界面よりも第２の界面が強固に密着し過ぎており、屈曲時に第１の界面に応力が集中し、第１の界面の屈曲部に剥がれが生じてしまう。
　一方、ΔＥ１（Ｅ２－Ｅ１）が、１．０×１０－１μｍ／ｇ以下であることにより、第２の界面Ｂの屈曲部に剥がれが生じることを抑制することができる。
　ΔＥ１（Ｅ２－Ｅ１）が、１．０×１０－１μｍ／ｇよりも大きい値であると、第２の界面の密着性が不充分で、屈曲時に第２の界面に応力が集中し、第２の界面の屈曲部に剥がれが生じてしまう。
　なお、第２の無機化合物層が多層膜である場合において、第２の無機化合物層内の隣接する無機化合物膜の間の界面は、積層体の屈曲耐性に影響を及ぼさない。これは、積層体の屈曲耐性は第１の界面及び第２の界面の密着性の影響が大きく、第２の無機化合物層内よりも第１の界面あるいは第２の界面に応力が集中することで、第２の無機化合物層内に剥がれが生じる前に第１の界面あるいは第２の界面に剥がれが生じてしまうためである。
　従って、優れた屈曲耐性を有する表示装置用積層体となる。以下、本開示の表示装置用積層体における各構成について、詳細に説明する。
１．エロージョン率
（１）　ΔＥ１（Ｅ２－Ｅ１）
　本開示における表示装置用積層体は、第１の無機化合物層と第２の無機化合物層との界面である第１の界面Ａにおけるエロージョン率Ｅ１と、第２の無機化合物層とハードコート層との界面である第２の界面Ｂにおけるエロージョン率Ｅ２との差であるΔＥ１（Ｅ２－Ｅ１）が、－１．０×１０－２μｍ／ｇ以上、１．０×１０－１μｍ／ｇ以下の範囲である。好ましくは、－８．０×１０－３μｍ／ｇ以上、８．０×１０－２μｍ／ｇ以下の範囲である。
　ΔＥ１（Ｅ２－Ｅ１）は、例えば、－１．０×１０－２μｍ／ｇ以上、０．０μｍ／ｇ以下の範囲であり、中でも、－８．０×１０－３μｍ／ｇ以上、０．０μｍ／ｇ以下の範囲であることが好ましい。耐屈曲性がより良好とすることができるからである。
　一方、０．０μｍ／ｇ以上、１．０×１０－１μｍ／ｇ以下とすることも可能であり、さらに、１．０×１０－３μｍ／ｇ以上、８．０×１０－２μｍ／ｇ以下の範囲とすることができる。
　ΔＥ１（Ｅ２－Ｅ１）の値を上述の範囲とする方法としては、第１の界面Ａにおけるエロージョン率Ｅ１と第２の界面Ｂにおけるエロージョン率Ｅ２を調整することとなるが、第１の界面Ａにおけるエロージョン率Ｅ１と第２の界面Ｂにおけるエロージョン率Ｅ２は、第２の無機化合物層またはハードコート層への表面処理の有無や、表面処理条件の調整を行う方法が挙げられる。
（２）エロージョン率測定方法
　本開示において、エロージョン率は、材料表面精密試験機（マイクロ・スラリージェット・エロージョン試験機、以下ＭＳＥ試験機、株式会社パルメソ製／装置名ナノ・エム・エス・イー／型式Ｎ－ＭＳＥ－Ａ）を用いて測定される値である。
　平均粒子径Ｄ５０＝０．７μｍの多角アルミナ粉末（粒子）を水に分散させて、スラリーの総質量に対して多角アルミナ粉末を１質量％含むスラリーを調製する。治具上に固定した表示装置用積層体を装置台に固定し、表示装置用積層体と、上記スラリーを噴射するためのノズルとの投射距離を４ｍｍに設定する。ノズル径は１ｍｍ×１ｍｍとし、さらに、直径０．３ｍｍの穴を有するマスクをノズル口に装着する。ノズルから多角アルミナ粉末を含んだスラリーを噴射し、台に固定された表示装置用積層体を第１の無機化合物層側の表面から順次切削する（エロージョン処理）。
　この時の噴射強度は、事前に同様の実験条件にて既存のＰＭＭＡ基板を切削し、スラリーの噴射量に対する削れた変位（即ち、スラリー１ｇを吹き付けた際に切削される深さ）から標準投射力Ｘを求め、その値に基づいて決定される。多角アルミナ粉末を用いた本開示では、既存のＰＭＭＡ基板に対して７．０μｍ／ｇ削れたときの投射力を標準投射力Ｘとし、投射力を、標準投射力Ｘの１／１００の投射力（既存のＰＭＭＡ基板に対して０．０７μｍ／ｇ削れたときの投射力）に設定する。
　切削された部分を水で洗浄した後に、エロージョン深さＺを測定する（形状計測）。エロージョン深さＺは、例えば、触針式表面形状測定器(株式会社小坂研究所製／型式ＰＵ－ＥＵ１／触針子先端Ｒ＝２μｍ／荷重１００μＮ／計測倍率２０，０００／測長４ｍｍ／計測速度０．２ｍｍ／ｓｅｃ)を用いて測定する。
　具体的には、まず、計測長の中で摩耗していない両端基準エリアａ、ｂを用いて傾き補正を実施する。次に、基準となる回帰直線から摩耗痕中心部ｃ（５０μｍ幅の平均値）までの段差を測定する。次に、０ｇ投射での段差データと、各投射量での段差データとの差分をとり、エロージョン深さＺを取得する。
　上記エロージョン処理と、上記形状測定器による形状測定を設定回数（Ｎ回）繰り返して実施し、Ｎ回分の形状計測データを取得する。本開示では、上述の投射力より算出した投射粒子量Ｘ’［ｇ］とエロージョン深さＺ［μｍ］とを用いて、投射粒子量当たりのエロージョン深さである、エロージョン率Ｅ［μｍ／ｇ］を算出し、エロージョン進行グラフおよびエロージョン率分布グラフ（エロージョン深さ（縦軸）と、エロージョン率（横軸）のグラフ）を作成する。
　本開示においては、予め、顕微鏡観察等による断面観察により、積層体の積層方向における第１の界面Ａの深さ位置を把握しておく。
　上記得られたグラフを用い、第１の界面Ａの深さ位置よりも１０ｎｍ浅い位置から、上記第１の界面Ａの深さ位置よりも１０ｎｍ深い位置までの範囲に対応するエロージョン深さ範囲のエロージョン率の平均を、第１の界面Ａにおけるエロージョン率Ｅ１と定義する。同様に、第２の界面Ｂの深さ位置よりも１０ｎｍ浅い位置から、上記第２の界面Ｂの深さ位置よりも１０ｎｍ深い位置までの範囲に対応するエロージョン深さ範囲のエロージョン率の平均を、第２の界面Ｂにおけるエロージョン率Ｅ２と定義する。
（３）各界面のエロージョン率
　第１の界面Ａにおけるエロージョン率Ｅ１としては、ΔＥ１（Ｅ２－Ｅ１）が上述の範囲となる値であれば特に限定されないが、例えば、１．０×１０－３μｍ／ｇ以上、１．０×１０－１μｍ／ｇ以下であり、３．０×１０－３μｍ／ｇ以上、８．０×１０－２μｍ／ｇ以下であってもよい。
　第２の界面Ｂにおけるエロージョン率Ｅ２としては、ΔＥ１（Ｅ２－Ｅ１）が上述の範囲となる値であれば特に限定されないが、例えば、１．０×１０－３μｍ／ｇ以上、１．０×１０－１μｍ／ｇ以下であり、３．０×１０－３μｍ／ｇ以上、８．０×１０－２μｍ／ｇ以下であってもよい。
　第１の界面Ａにおけるエロージョン率Ｅ１は、上記の第２の無機化合物層に第１の無機化合物層を形成する前に、下地となる第２の無機化合物層への表面処理を行うことによって、さらには表面処理条件を変更することにより、調整することが可能である。
　また、第２の界面Ｂにおけるエロージョン率Ｅ２は、上記のハードコート層に第２の無機化合物層を形成する前に、下地となるハードコート層への表面処理を行うことによって、さらには表面処理条件を変更することにより、調整することが可能である。
　ここで、用いられる表面処理方法としては、例えばプラズマ処理、コロナ放電処理等が挙げられる。
２．層構成
２．１　第１の無機化合物層
　第１の無機化合物層は、積層体に含まれる無機化合物層のうち、最も基材層側とは反対側に位置する単層の無機化合物層である。第１の無機化合物層は、第２の無機化合物層に直接接している。
（１）第１の無機化合物
　第１の無機化合物層は、第１の無機化合物から構成される。第１の無機化合物としては、特に限定されず、例えば、ケイ素酸化物、ガリウム酸化物等の無機酸化物が挙げられる。
　また、第１の無機化合物層には、第１の無機化合物として、第２の無機化合物よりも屈折率が低い低屈折率材料である無機フッ化物が含まれていてもよい。低反射性が得られるためである。このような無機フッ化物としては、例えば、フッ化アルミニウム、フッ化バリウム、フッ化セリウム、フッ化ガドリニウム、フッ化ランタン、フッ化リチウム、フッ化マグネシウム、フッ化ナトリウム、フッ化ネオジム、フッ化イッテルビウム、フッ化イットリウム等が挙げられる。
　本開示においては、中でもケイ素酸化物が屈折率や汎用性の観点から好ましい。
　また、第１の無機化合物層中に含まれる無機化合物は１種類が好ましいが、複数種類の無機化合物が含まれていてもよい。
　なお、無機酸化物の平均組成は、例えば、ＭＯｘ（ただし、式中、Ｍは金属元素を表し、ｘの値は、金属元素によってそれぞれ範囲がことなる。）で表される。例えばケイ素酸化物の平均組成はＳｉＯｘで表され、式中、ｘは、０＜ｘ≦２をとることができ、１≦ｘ≦２が好ましく、より好ましくは、ＳｉＯ２となる。本開示においては、無機酸化物の平均組成は、上述したように化学量論的に最適なものに限定されるものではない。
　本開示において、第１の無機化合物層は、蒸着膜であることが好ましい。特に、ケイ素酸化物（シリカ）蒸着膜であることが好ましい。
　第１の無機化合物層には、上記無機化合物のみならず、酸化窒化物、酸化炭化物、酸化炭化窒化物なども含まれてもよい。
（２）エロージョン率　Ｅ３
　本開示における第１の無機化合物層のエロージョン率Ｅ３は、上記第１の界面Ａにおけるエロージョン率Ｅ１との差が所定の範囲となることが好ましい。具体的には、第１の無機化合物層のエロージョン率Ｅ３と、第１の界面におけるエロージョン率Ｅ１の差であるΔＥ２（Ｅ３－Ｅ１）が、０．０μｍ／ｇ以上２．０×１０－２μｍ／ｇ未満であることが好ましく、さらに好ましくは３．０×１０－３μｍ／ｇ以上１．９×１０－２μｍ／ｇ以下である。ΔＥ２（Ｅ３－Ｅ１）が大きすぎると、屈曲試験時に第１の無機化合物層内に剥がれやクラックが生じる場合がある。
　第１の無機化合物層のエロージョン率Ｅ３としては、例えば、３．０×１０－３μｍ／ｇ以上、５．０×１０－２μｍ／ｇ以下であり、５．０×１０－３μｍ／ｇ以上、３．０×１０－２μｍ／ｇ以下であってもよい。
　なお、本開示においては、積層体の積層方向において、第１の無機化合物層の一方の面の深さ位置から、第１の無機化合物層の他方の面の深さ位置までの範囲に対応するエロージョン深さ範囲のエロージョン率の平均を、第１の無機化合物層のエロージョン率Ｅ３と定義する。
（３）屈折率
　第１の無機化合物層の屈折率は、１．６０以下であることが好ましく、１．５０以下であることがより好ましい。一方、例えば１．３０以上であり、１．４０以上であってもよい。
　なお、本明細書において、各層の屈折率とは、波長５５０ｎｍの光に対する屈折率をいう。屈折率の測定方法は、エリプソメーターを用いて測定する方法を挙げることができる。エリプソメーターとしては、例えばジョバンーイーボン社製「ＵＶＳＥＬ」やテクノ・シナジー社製「ＤＦ１０３０Ｒ」等が挙げられる。
　本開示においては、上記第１の無機化合物層の屈折率が、上記第２の無機化合物層の屈折率より小さいものであることが好ましい。本開示の積層体の反射率を低減することができるからである。
（４）厚み
　第１の無機化合物層の厚みとしては、特に限定されないが、３０ｎｍ以上２００ｎｍ以下であることが好ましく、５０ｎｍ以上１５０ｎｍ以下であることがより好ましい。
ここで、本明細書において、各層の厚さは、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）又は走査透過型電子顕微鏡（ＳＴＥＭ）により観察される表示装置用積層体の厚さ方向の断面から測定して得られた任意の１０箇所の厚さの平均値とすることができる。
（５）形成方法
　第１の無機化合物層は、例えば、低屈折率粒子の中から所望の屈折率を有する粒子を選び、真空蒸着法、スパッタリング法、及びイオンプレーティング法等の物理気相成長法（Physical Vapor Deposition法、PVD法）等により形成することができる。これらの中でも、生産性（蒸着速度）の観点から真空蒸着法が好ましい。
２．２　第２の無機化合物層
　第２の無機化合物層は、第１の無機化合物層とハードコート層との間に配置される層である。第２の無機化合物層は、第１の無機化合物層およびハードコート層と直接接している。
　図１に示すように、第２の無機化合物層３は単層膜であってもよく、図２に示すように多層膜であってもよい。図２における第２の無機化合物層３は、第１の無機化合物層２と直接接する上層膜３ａとハードコート層４と直接接する下層膜３ｂとの２層を有する。
　第２の無機化合物層は、第１の無機化合物層側の表面が、表面処理が施されたものであってもよいし、表面処理が施されていないものであってもよい。第２の無機化合物層が多層膜である場合、「第２の無機化合物層の第１の無機化合物層側の表面」とは、第２の無機化合物層の最も第１の無機化合物層側の無機化合物膜の表面を意味する。
　表面処理としては、上述の「１．エロージョン率」に記載の方法が挙げられる。特には、プラズマ処理が好ましい。プラズマ処理条件としては、プラズマ放電電力、グロー放電圧力等を挙げることができる。本発明において、プラズマ処理としては、例えば、プラズマ処理が、強ければ強い程、密着性が向上し、第１の界面Ａにおけるエロージョン率Ｅ１が低くなる。
（１）第２の無機化合物
　第２の無機化合物層を構成する第２の無機化合物としては、特に限定されないが、中でも、第１の無機化合物よりも高屈折率材料であることが好ましい。第１の無機化合物層との組み合わせにより、低反射性が得られるためである。第２の無機化合物層を構成する第２の無機化合物としては、アルミニウム酸化物、ジルコニウム酸化物、ケイ素酸化物、ハフニウム酸化物、タンタル酸化物、セリウム酸化物、チタン酸化物、亜鉛酸化物、マグネシウム酸化物、イットリウム酸化物およびニオブ酸化物等の無機酸化物が挙げられる。
　アルミニウム酸化物の平均組成はＡｌＯｘで表され、式中、ｘは、０＜ｘ≦１．５をとることができ、好ましくは、Ａｌ２Ｏ３である。ジルコニウム酸化物の平均組成はＺｒＯｘで表され、式中、ｘは、０＜ｘ≦２をとることができ、好ましくは、ＺｒＯ２である。ニオブ酸化物の平均組成はＮｂＯｘで表され、式中、ｘは、０＜ｘ≦２．５をとることができ、好ましくは、Ｎｂ２Ｏ５である。
　第２の無機化合物層は、蒸着膜であることが好ましい。特に、酸化アルミニウム（アルミナ）蒸着膜、酸化ジルコニウム蒸着膜、酸化ニオブ蒸着膜であることが好ましい。第２の無機化合物層は、１回蒸着により形成された単一膜であってもよく、複数回蒸着により形成された多層膜であってもよい。第２の無機化合物層が多層膜である場合、同一組成の膜を組み合わせてもよく、異なる組成の膜を組み合わせてもよい。
　また、第２の無機化合物層が単層膜である場合、第２の無機化合物層中に含まれる無機化合物は１種類が好ましいが、複数種類の無機化合物が含まれていてもよい。多層膜である場合、各膜中に含まれる無機化合物は１種類が好ましいが、複数種類の無機化合物が含まれていてもよい。
（２）屈折率
　第２の無機化合物層の屈折率は、１．６０以上であることが好ましく、１．８０以上であることがより好ましい。一方、例えば３．００以下であり、２．５０以下であってもよい。
　上記屈折率とは、第２の無機化合物層が多層膜である場合、各膜の屈折率をいう。第２の無機化合物層が多層膜からなる場合、屈折率の異なる多層膜からなるものであってもよい。この場合、第２の無機化合物層は、ハードコート層側から第１の無機化合物層（低屈折率層）に向かって、中屈折率層、高屈折率層の順に積層し、または、高屈折率層、低屈折率層、高屈折率層の順に積層しているものとすることができる。
（３）厚み
　第２の無機化合物層の厚みとしては、特に限定されないが、２０ｎｍ以上３００ｎｍ以下であることが好ましく、３０ｎｍ以上２７０ｎｍ以下であることがより好ましい。
　第２の無機化合物層の厚みとは、第２の無機化合物層が多層膜である場合、第２の無機化合物層を構成する多層膜全体での厚みをいう。第２の無機化合物層が多層膜である場合、各膜の厚みは、例えば１０ｎｍ以上１５０ｎｍ以下であり、１５ｎｍ以上１３０ｎｍ以下が好ましい。
（４）形成方法
　第２の無機化合物層は、例えば、高屈折率粒子の中から所望の屈折率を有する粒子を選び、真空蒸着法、スパッタリング法、及びイオンプレーティング法等の物理気相成長法（Physical Vapor Deposition法、PVD法）等により形成することができる。これらの中でも、生産性（蒸着速度）の観点から真空蒸着法が好ましい。
２．３　無機化合物層
　本開示においては、本開示における表示装置用積層体に含まれる無機化合物層の合計厚みが、５００ｎｍ以下であることが好ましく、４００ｎｍ以下であることが更に好ましい。一方、例えば、４０ｎｍ以上であってもよく、７０ｎｍ以上であってもよい。合計厚みが厚すぎると、表示装置用積層体の屈曲耐性が悪化する場合がある。無機化合物層の合計厚みとは、通常、第１の無機化合物層と第２の無機化合物層との合計厚みを意味する。
３．ハードコート層
　本開示における表示装置用積層体は、第２の無機化合物層と、基材層との間にハードコート層を有する。本開示においては、第２の無機化合物層とハードコート層との界面である第２の界面におけるエロージョン率Ｅ２が、上記第１の界面におけるエロージョン率Ｅ１と上記範囲の差であることによって、表示装置用積層体が全体として屈曲耐性に優れるものとなる。また、ハードコート層が配置されていることにより、耐摩耗性を向上させることができる。特に、上記基材層が樹脂基材である場合には、ハードコート層が配置されていることにより、耐摩耗性を効果的に向上させることができる。
　ハードコート層は、第２の無機化合物層側の表面が、表面処理が施されたものであってもよいし、表面処理が施されていないものであってもよい。表面処理としては、上述の「１．エロージョン率」に記載の方法が挙げられる。特には、プラズマ処理が好ましい。プラズマ処理条件としては、プラズマ放電電力、グロー放電圧力等を挙げることができる。本発明において、プラズマ処理としては、例えば、プラズマ処理が、強ければ強い程、密着性が向上し、第２の界面Ｂにおけるエロージョン率Ｅ２が低くなる。
（１）材料
　ハードコート層の材料としては、例えば、有機材料、無機材料、有機無機複合材料等を用いることができる。中でも、ハードコート層の材料は有機材料であることが好ましい。具体的には、ハードコート層は、重合性化合物を含む樹脂組成物の硬化物を含むことが好ましい。重合性化合物を含む樹脂組成物の硬化物は、重合性化合物を、必要に応じて重合開始剤を用い、公知の方法で重合反応させることにより得ることができる。重合性化合物は、分子内に重合性官能基を少なくとも１つ有するものである。重合性化合物としては、例えば、ラジカル重合性化合物およびカチオン重合性化合物の少なくとも１種を用いることができる。
　ラジカル重合性化合物とは、ラジカル重合性基を有する化合物である。ラジカル重合性化合物が有するラジカル重合性基としては、例えば、炭素－炭素不飽和二重結合を含む基などが挙げられ、具体的には、ビニル基、（メタ）アクリロイル基などが挙げられる。ラジカル重合性化合物が１分子中に有するラジカル重合性基の数は、２つ以上であることが好ましく、さらに３つ以上であることが好ましい。
　ラジカル重合性化合物としては、反応性の高さの点から、中でも（メタ）アクリロイル基を有する化合物が好ましく、例えば、ウレタン（メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、メラミン（メタ）アクリレート、ポリフルオロアルキル（メタ）アクリレート、シリコーン（メタ）アクリレート等と称される分子内に数個の（メタ）アクリロイル基を有する分子量が数百から数千の多官能（メタ）アクリレートモノマー及びオリゴマーを好ましく使用でき、またアクリレートポリマーの側鎖に（メタ）アクリロイル基を２個以上有する多官能（メタ）アクリレートポリマーも好ましく使用できる。中でも、１分子中に２個以上の（メタ）アクリロイル基を有する多官能（メタ）アクリレートモノマーを好ましく使用できる。多官能（メタ）アクリレートモノマーの硬化物を含むことにより、耐摩耗性を向上させることができる。さらに密着性を向上させることもできる。また、１分子中に２個以上の（メタ）アクリロイル基を有する多官能（メタ）アクリレートオリゴマー又はポリマーも好ましく使用できる。多官能（メタ）アクリレートオリゴマー又はポリマーの硬化物を含むことにより、耐摩耗性を向上させることができる。さらに屈曲耐性および密着性を向上させることもできる。
　なお、本明細書において、（メタ）アクリロイルとは、アクリロイル及びメタクリロイルの各々を表し、（メタ）アクリレートとは、アクリレート及びメタクリレートの各々を表す。
　カチオン重合性化合物とは、カチオン重合性基を有する化合物である。カチオン重合性化合物が有するカチオン重合性基としては、例えば、エポキシ基、オキセタニル基、ビニルエーテル基などが挙げられる。なお、カチオン重合性化合物が２個以上のカチオン重合性基を有する場合、これらのカチオン重合性基はそれぞれ同一であってもよいし、異なっていてもよい。
　また、ハードコート層は、帯電防止剤を含有していてもよい。表示装置用積層体に帯電防止性を付与することができる。ハードコート層は、必要に応じて、添加剤をさらに含有することができる。添加剤としては、ハードコート層に付与する機能に応じて適宜選択され、特に限定されないが、例えば、無機粒子、有機粒子、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、防汚剤、防眩剤、レベリング剤、界面活性剤、易滑剤、各種増感剤、難燃剤、接着付与剤、重合禁止剤、酸化防止剤、光安定化剤、表面改質剤等が挙げられる。
　また、本開示においては、ハードコート層の材料としては、屈曲耐性と第２の無機化合物層との密着性を両立させるため、ウレタン（メタ）アクリレートと多官能（メタ）アクリレートモノマーのうち少なくとも１つを有するラジカル重合性化合物と、ラジカル重合性化合物と共有結合が形成可能な反応性官能基を有する反応性無機粒子とを併用した有機無機材料が好ましく、添加剤として接着付与剤を併用することが更に好ましい。反応性無機粒子としては、反応性官能基を有するシリカ等が挙げられる。また、反応性官能基としては、ビニル基、（メタ）アクリロイル基、アリル基、エポキシ基、およびシラノール基等が挙げられる。
（２）厚さ
　ハードコート層の厚さは、ハードコート層が有する機能及び表示装置用積層体の用途により適宜選択されればよい。ハードコート層の厚さは、例えば、０．５μｍ以上５０μｍ以下であることが好ましく、１．０μｍ以上４０μｍ以下であることがより好ましく、１．５μｍ以上３０μｍ以下であることがさらに好ましく、２μｍ以上２０μｍ以下であることが特に好ましい。ハードコート層の厚さが上記範囲内であれば、ハードコート層として十分な硬度を得ることができる。
（３）形成方法
　ハードコート層の形成方法としては、例えば、上記基材層上に上記重合性化合物等を含むハードコート層用樹脂組成物を塗布し、硬化させる方法が挙げられる。
４．基材層
　本開示における基材層は、ハードコート層、第２の無機化合物層および第１の無機化合物層を支持する部材である。基材層としては、透明性を有するものであれば特に限定されるものではなく、例えば、樹脂基材、ガラス基材等が挙げられる。
（１）樹脂基材
　樹脂基材を構成する樹脂としては、透明性を有する樹脂基材を得ることができるものであれば特に限定されるものではなく、例えば、ポリイミド系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリエステル系樹脂等が挙げられる。ポリイミド系樹脂としては、例えば、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド、ポリエステルイミド等が挙げられる。ポリエステル系樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等が挙げられる。
（２）ガラス基材
　ガラス基材を構成するガラスとしては、透明性を有するものであれば特に限定されるものではなく、例えば、ケイ酸塩ガラス、シリカガラス等が挙げられる。中でも、ホウケイ酸ガラス、アルミノケイ酸塩ガラス、アルミノホウケイ酸ガラスが好ましく、無アルカリガラスがより好ましい。ガラス基材の市販品としては、例えば、日本電気硝子社の超薄板ガラスＧ－Ｌｅａｆや、松浪硝子工業社の極薄膜ガラス等が挙げられる。
　また、ガラス基材を構成するガラスは、化学強化ガラスであることも好ましい。化学強化ガラスは機械的強度に優れており、その分薄くできる点で好ましい。化学強化ガラスは、典型的には、ガラスの表面近傍について、ナトリウムをカリウムに代える等、イオン種を一部交換することで、化学的な方法によって機械的物性を強化したガラスであり、表面に圧縮応力層を有する。
　化学強化ガラス基材を構成するガラスとしては、例えば、アルミノケイ酸塩ガラス、ソーダライムガラス、ホウケイ酸ガラス、鉛ガラス、アルカリバリウムガラス、アルミノホウケイ酸ガラス等が挙げられる。
　化学強化ガラス基材の市販品としては、例えば、コーニング社のＧｏｒｉｌｌａ　Ｇｌａｓｓ（ゴリラガラス）、ＡＧＣ社のＤｒａｇｏｎｔｒａｉｌ（ドラゴントレイル）、ショット社の化学強化ガラス等が挙げられる。
（３）基材層の構成
　基材層の厚さとしては、柔軟性を有することが可能な厚さであれば特に限定されるものではなく、基材層の種類等に応じて適宜選択される。
　樹脂基材の厚さは、例えば、１０μｍ以上、１００μｍ以下であることが好ましく、２５μｍ以上、８０μｍ以下であることがより好ましい。樹脂基材の厚さが上記範囲内であることにより、良好な柔軟性を得ることができるともに、十分な硬度を得ることができる。また、表示装置用積層体のカールを抑制することもできる。さらに、表示装置用積層体の軽量化の面で好ましい。
　ガラス基材の厚さは、例えば、２００μｍ以下であることが好ましく、１５μｍ以上、１００μｍ以下であることがより好ましく、２０μｍ以上、９０μｍ以下であることがさらに好ましく、２５μｍ以上、８０μｍ以下であることが特に好ましい。ガラス基材の厚さが上記範囲内であることにより、良好な柔軟性を得ることができるともに、十分な硬度を得ることができる。また、表示装置用積層体のカールを抑制することもできる。さらに、表示装置用積層体の軽量化の面で好ましい。
５．その他構成
　図３は、本開示における表示装置用積層体の別の一例を示す概略断面図である。本開示の表示装置用積層体１は、図３に示すように、第１の無機化合物層２の第２の無機化合物層３側の面とは反対の面側に、フッ素化合物層６を有することが好ましい。
（１）フッ素含有層
　本開示における表示装置用積層体は、第１の無機化合物層の第２の無機化合物層側の面とは反対の面側に、フッ素原子を含有するフッ素含有層を有することが好ましい。中でも、表示装置用積層体において、フッ素含有層が最表面に配置されていることが好ましい。フッ素含有層は、フッ素原子を含有するものであればよく、フッ素原子を含有することにより、表示装置用積層体に耐摩耗性を付与することができる。
　具体的には、表示装置用積層体のフッ素含有層側の表面の動摩擦係数を所定の範囲とすることができる。本開示における表示装置用積層体のフッ素含有層側の表面の動摩擦係数は、０．０１以上０．３０以下であることが好ましく、さらに好ましくは０．０３以上０．２０以下である。動摩擦係数が上記値以下であれば、表面の滑り性が向上し、耐摩耗性がより優れるものとなる。
　動摩擦係数はＪＩＳ Ｋ７１２５：１９９９（摩擦係数試験方法）に準拠した方法により測定することができる。動摩擦係数の測定方法は、例えば、荷重変動型摩擦摩耗試験システム（新東科学（株）社製  ＨＥＩＤＯＮ Ｔｙｐｅ ＨＨＳ２０００）を用いて、２ｃｍ×２ｃｍのカシミアフェルトを用い、荷重２００ｇ、速度５ｍｍ／ｓｅｃの条件で測定することができる。動摩擦係数の値は、表示装置用積層体のフッ素含有層側の表面において、異なる位置で５点測定し、当該測定値の平均値とする。
　フッ素含有層としては、フッ素原子を含有するものであれば特に限定されない。フッ素含有層は、例えば、フッ素化合物を含有していてもよく、フッ素化合物および樹脂を含有していてもよく、フッ素樹脂を含有していてもよい。フッ素化合物としては、例えば、フッ素系防汚剤、フッ素系レベリング剤、フッ素系界面活性剤等として知られているものを用いることができる。フッ素化合物としては、例えば、有機フッ素化合物を挙げることができ、具体的には、パーフルオロ化合物が挙げられる。パーフルオロ化合物としては、例えば、パーフルオロポリエーテル基、パーフルオロアルキレン基、パーフルオロアルキル基等を有するパーフルオロ化合物が挙げられる。パーフルオロアルキレン基およびパーフルオロアルキル基は、直鎖でも分岐鎖でもよい。フッ素化合物は、１種を単独で使用してもよく、２種以上を混合して使用してもよい。
　また、フッ素化合物は、樹脂成分と結合していることが好ましい。フッ素化合物が樹脂成分と結合していることにより、フッ素化合物のブリードアウトを抑制することができ、耐摩耗性や防汚性を長期に渡って持続することができる。
　フッ素化合物としては、樹脂成分と結合していることが好ましいことから、反応性官能基を有するフッ素化合物が好ましく用いられる。すなわち、フッ素含有層は、反応性官能基を有するフッ素化合物と後述の重合性化合物とを含む樹脂組成物の硬化物を含有することが好ましい。反応性官能基としては、例えば、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、アリル基等のエチレン性不飽和結合基や、エポキシ基、オキセタニル基等が挙げられる。
　フッ素化合物が有する反応性官能基の数は、１以上であればよく、好ましくは２以上である。２以上の反応性官能基を有するフッ素化合物を用いることにより、耐摩耗性を高めることができる。
　また、フッ素化合物は、ケイ素を含んでいてもよい。すなわち、フッ素含有層は、フッ素およびケイ素を含有していてもよい。ケイ素を含むフッ素化合物としては、例えば、分子内にシロキサン結合を有するフッ素化合物を挙げることができる。シロキサン結合を有するフッ素化合物を用いることにより、滑り性を向上させることができ、耐摩耗性を高めることができる。
　フッ素化合物は、例えば、反応性官能基を有するフッ素化合物や、反応性官能基およびケイ素を含むフッ素化合物であることが好ましい。
　反応性官能基を有するフッ素化合物としては、例えば、エチレン性不飽和結合を有するフッ素含有モノマー、主鎖にフルオロアルキレン基を有するフッ素含有ポリマーもしくはオリゴマー、主鎖および側鎖にフルオロアルキレン基もしくはフルオロアルキル基を有するフッ素含有ポリマーもしくはオリゴマー等が挙げられる。反応性官能基を有するフッ素化合物については、例えば、特開２０１７－１９２４７号公報を参照することができる。
　反応性官能基およびケイ素を含むフッ素化合物としては、例えば、上記の反応性官能基を有するフッ素化合物に、反応性官能基を分子中に有する有機シリコーンを反応させたシリコーン含有フッ化ビニリデン共重合体等が挙げられる。
　また、反応性官能基およびケイ素を含むフッ素化合物としては、例えば、反応官能基およびパーフルオロポリエーテル基を有するフッ素化合物、中でも反応性官能基を有するシラン単位、およびパーフルオロポリエーテル基を有するシラン単位を含むフッ素化合物も好ましく用いられる。このようなフッ素化合物については、例えば、国際公開第２０１２／１５７６８２号を参照することができる。
　本開示においては、上記フッ素含有層は、フッ素化合物および樹脂を含有する層であってもよい。フッ素含有層がフッ素化合物および樹脂を含有する場合、樹脂としては、例えば、重合性化合物の硬化物が挙げられる。重合性化合物の硬化物は、重合性化合物を、必要に応じて重合開始剤を用い、公知の方法で重合反応させることにより得ることができる。
　また、フッ素含有層がフッ素樹脂を含有する場合、フッ素樹脂としては、例えば、フッ素を含有する重合性化合物の硬化物が挙げられる。フッ素を含有する重合性化合物の硬化物は、フッ素を含有する重合性化合物を、必要に応じて重合開始剤を用い、公知の方法で重合反応させることにより得ることができる。
　フッ素を含有する重合性化合物は、分子内に重合性官能基を少なくとも１つ有するものである。フッ素を含有する重合性化合物としては、例えば、ラジカル重合性化合物およびカチオン重合性化合物の少なくとも１種を用いることができる。また、フッ素を含有する重合性化合物としては、例えば、フッ素含有モノマー、オリゴマー、ポリマーのいずれも用いることができる。
　フッ素含有層は、必要に応じて、例えば無機粒子、有機粒子、紫外線吸収剤、酸化防止剤、光安定剤、防眩剤、レベリング剤、界面活性剤、易滑剤、各種増感剤、難燃剤、接着付与剤、重合禁止剤、表面改質剤等の添加剤を含有することができる。
　本開示において、フッ素含有層は、単層膜であってもよく、多層膜であってもよい。
　フッ素含有層の厚さとしては、特に限定されるものではなく、例えば０．５μｍ以上５０μｍ以下であり、１．０μｍ以上４０μｍ以下であってもよく、１．５μｍ以上３０μｍ以下であってもよい。フッ素含有層の厚さが薄すぎると、フッ素含有層の表面硬度が低下して、耐摩耗性が低下する可能性がある。また、フッ素含有層の厚さが厚すぎると、フレキシブル性が損なわれるおそれがある。
　一方、本開示において、表示装置用積層体が第１の無機化合物層と第２の無機化合物層とを含むことにより低反射性を発現する場合においては、フッ素含有層の厚さが比較的薄いことが好ましい。薄膜干渉への影響が抑制されるためである。この場合におけるフッ素含有層の厚さは、例えば、１ｎｍ以上３０ｎｍ以下であることが好ましく、２ｎｍ以上２０ｎｍ以下であることがより好ましく、３ｎｍ以上１０ｎｍ以下であることがさらに好ましい。
　また、フッ素含有層の形成方法としては、材料に応じ適宜選択され、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、上記第１の無機化合物層上にフッ素含有層用組成物を塗布し、硬化させる方法等が挙げられる。
（２）貼付用接着層
　本開示における表示装置用積層体は、基材層のハードコート層とは反対側の面に貼付用接着層を有することができる。貼付用接着層を介して、表示装置用積層体を例えば表示パネル等に貼り合わせることができる。
　貼付用接着層に用いられる接着剤としては、透明性を有し、表示装置用積層体を表示パネル等に接着することが可能な接着剤であれば特に限定されるものではなく、例えば、熱硬化型接着剤、紫外線硬化型接着剤、２液硬化型接着剤、熱溶融型接着剤、感圧接着剤（いわゆる粘着剤）等を挙げることができる。
　貼付用接着層の厚さは、例えば、１０μｍ以上１００μｍ以下であることが好ましく、より好ましくは２５μｍ以上８０μｍ以下、さらに好ましくは４０μｍ以上６０μｍ以下とすることができる。貼付用接着層の厚さが薄すぎると、表示装置用積層体と表示パネル等とを十分に接着することができないおそれがある。一方、貼付用接着層の厚さが厚すぎると、フレキシブル性が損なわれる場合がある。
　貼付用接着層としては、例えば接着フィルムを用いてもよい。また、例えば支持体または基材層等の上に接着剤組成物を塗布して、貼付用接着層を形成してもよい。
　貼付用接着層は、表示装置の表示パネルと貼り合わせた後に剥離が可能な程度の密着性を有する層であってもよいし、剥離を目的とせずに高い密着性を有する層であってもよい。
（３）層間接着層
　本開示における表示装置用積層体においては、各層の間に層間接着層が配置されていてもよい。層間接着層に用いられる接着剤としては、上記貼付用接着層に用いられる接着剤と同様とすることができる。
５．表示装置用積層体
（１）視感反射率
　本開示における表示装置用積層体は、第１の無機化合物層側から、第１の無機化合物層側の表面に対して垂直に入射する光の入射角を０°として、入射角５°で光を入射させた際に、この入射光の正反射光の視感反射率が２．０％以下である。好ましくは１．７％以下であり、更に好ましくは１．５％以下である。視感反射率が高すぎると、表示領域に観察者自身が映り込むのを抑制することができない。
　ここで、視感反射率は、ＪＩＳ　Ｚ８７２２：２００９に準拠して求めることができる。視感反射率は、表示装置用積層体の第１の無機化合物層側の表面に、３８０ｎｍ以上７８０ｎｍ以下の波長範囲の光を入射させて得られた反射スペクトルから、標準の光Ｃでの２度視野において、ＸＹＺ表色系における三刺激値Ｘ、Ｙ、Ｚを求め、そのＹの値が視感反射率となる。すなわち、視感反射率は、ＣＩＥ１９３１標準表色系のＹ値のことをいう。視感反射率の測定においては、下記の条件とすることができる。
（測定条件）
・視野：２°
・イルミナント：Ｃ
・光源：タングステンハロゲンランプ
・測定波長：３８０ｎｍ以上７８０ｎｍ以下の範囲を０．５ｎｍ間隔
・スキャン速度：高速
・スリット幅：５．０ｎｍ
・Ｓ／Ｒ切替：標準
・オートゼロ：ベースラインのスキャン後５５０ｎｍにて実施
　なお、表示装置用積層体の視感反射率の測定に際しては、裏面反射を防止するために、測定スポット面積よりも大きな幅の黒色ビニールテープ（例えば、製品名「ヤマトビニールテープＮＯ２００－１９－２１」、ヤマト社製、１９ｍｍ幅）を表示装置用積層体の基材層側の面に貼り付けてから測定するものとする。視感反射率の測定装置としては、例えば分光光度計を用いることができ、具体的には島津製作所社製の分光光度計「ＵＶ－２６００」を用いることができる。
（２）動的屈曲耐性
　本開示における表示装置用積層体は、耐屈曲性を有する。具体的には、表示装置用積層体に対して、下記に説明する動的屈曲試験を行った場合に、表示装置用積層体に割れ、または破断が生じないことが好ましい。
　動的屈曲試験は、以下のようにして行われる。まず、２０ｍｍ×１００ｍｍの大きさの表示装置用積層体を準備する。そして、動的屈曲試験においては、図５（ａ）に示すように、表示装置用積層体１の短辺部１Ｃと、短辺部１Ｃと対向する短辺部１Ｄとを、平行に配置された固定部５１でそれぞれ固定する。また、図５（ａ）に示すように、固定部５１は水平方向にスライド移動可能になっている。次に、図５（ｂ）に示すように、固定部５１を互いに近接するように移動させることで、表示装置用積層体１を折りたたむように変形させ、更に、図５（ｃ）に示すように、表示装置用積層体１の固定部５１で固定された対向する２つの短辺部１Ｃ、１Ｄの間隔ｄが所定の値となる位置まで固定部５１を移動させた後、固定部５１を逆方向に移動させて表示装置用積層体１の変形を解消させる。図５（ａ）～（ｃ）に示すように固定部５１を移動させることで、表示装置用積層体１を１８０°折りたたむことができる。また、表示装置用積層体１の屈曲部１Ｅが固定部５１の下端からはみ出さないように動的屈曲試験を行い、かつ固定部５１が最接近したときの間隔を制御することで、表示装置用積層体１の対向する２つの短辺部１Ｃ、１Ｄの間隔ｄを所定の値にできる。例えば、短辺部１Ｃ、１Ｄの間隔ｄが１０ｍｍである場合、屈曲部１Ｅの外径を１０ｍｍとみなす。
　本開示における表示装置用積層体においては、表示装置用積層体１の対向する短辺部１Ｃ、１Ｄの間隔ｄが１０ｍｍとなるように１８０°折りたたむ動的屈曲試験を、２０万回繰り返し行った場合に割れまたは破断が生じないことが好ましく、５０万回繰り返し行った場合に割れまたは破断が生じないことがより好ましい。中でも、表示装置用積層体の対向する短辺部１Ｃ、１Ｄの間隔ｄが６ｍｍとなるように１８０°折りたたむ動的屈曲試験を２０万回繰り返し行った場合に割れまたは破断が生じないことが好ましい。動的屈曲試験では、第１の無機化合物層が外側となるように表示装置用積層体を折りたたんでもよく、あるいは、第１の無機化合物層が内側となるように表示装置用積層体を折りたたんでもよいが、いずれの場合であっても、表示装置用積層体に割れまたは破断が生じないことが好ましい。
（３）全光線透過率およびヘイズ
本開示における表示装置用積層体は、全光線透過率が、例えば８５％以上であることが好ましく、８８％以上であることがより好ましく、９０％以上であることがさらに好ましい。このように全光線透過率が高いことにより、透明性が良好な表示装置用積層体とすることができる。
　ここで、表示装置用積層体の全光線透過率は、ＪＩＳ　Ｋ７３６１－１：１９９９に準拠して測定することができ、例えば村上色彩技術研究所製のヘイズメーターＨＭ１５０により測定することができる。
　本開示における表示装置用積層体のヘイズは、例えば５％以下であることが好ましく、２％以下であることがより好ましく、１％以下であることがさらに好ましい。このようにヘイズが低いことにより、透明性が良好な表示装置用積層体とすることができる。
　ここで、表示装置用積層体のヘイズは、ＪＩＳ　Ｋ－７１３６：２０００に準拠して測定することができ、例えば村上色彩技術研究所製のヘイズメーターＨＭ１５０により測定することができる。
６．用途
　本開示における表示装置用積層体は、表示装置において、表示パネルよりも観察者側に配置される前面板として用いることができる。本開示における表示装置用積層体は、優れた屈曲耐性を有するため、フォルダブルディスプレイ、ローラブルディスプレイ、ベンダブルディスプレイ等のフレキシブル表示装置における前面板に好適に用いることができる。特に、本開示における表示装置用積層体は、屈曲耐性を向上させることができることから、フォルダブルディスプレイにおける前面板に好適に用いることができる。
　本開示における表示装置用積層体の厚さは、例えば、１０μｍ以上５００μｍ以下であることが好ましく、２０μｍ以上４００μｍ以下であることがより好ましく、３０μｍ以上３００μｍ以下であることがさらに好ましい。表示装置用積層体の厚さが上記範囲であれば、フレキシブル性を高めることができる。
　また、本開示における表示装置用積層体は、例えば、スマートフォン、タブレット端末、ウェアラブル端末、パーソナルコンピュータ、テレビジョン、デジタルサイネージ、パブリックインフォメーションディスプレイ（ＰＩＤ）、車載ディスプレイ等の表示装置における前面板に用いることができる。
Ｂ．表示装置
　本開示における表示装置は、表示パネルと、上記表示パネルの観察者側に配置された、上述の表示装置用積層体と、を備える。
　図４は、本開示における表示装置の一例を示す概略断面図である。図４に示すように、表示装置２０は、表示パネル２１と、表示パネル２１の観察者側に配置された表示装置用積層体１と、を備える。表示装置２０においては、表示装置用積層体１と表示パネル２１とは、例えば表示装置用積層体１の貼付用接着層７を介して貼り合わせることができる。
　本開示におけるフレキシブル表示装置は、優れた屈曲耐性を有するため、繰り返し屈曲させても表示不良が抑制されたものとなる。
　本開示における表示装置用積層体を表示装置の表面に配置する場合には、第１の無機化合物層が外側、基材層が内側になるように配置される。
　本開示における表示装置用積層体を表示装置の表面に配置する方法としては、特に限定されないが、例えば接着層を介する方法等が挙げられる。
　本開示における表示パネルとしては、例えば、有機ＥＬ表示装置、液晶表示装置等の表示装置に用いられる表示パネルを挙げることができる。
　本開示における表示装置は、表示パネルと表示装置用積層体との間にタッチパネル部材を有することができる。
　本開示における表示装置は、中でも、フォルダブルディスプレイ、ローラブルディスプレイ、ベンダブルディスプレイ等のフレキシブル表示装置であることが好ましい。
　また、本開示における表示装置は、折りたたみ可能であることが好ましい。すなわち、本開示における表示装置は、フォルダブルディスプレイであることが好ましい。
　以下に実施例および比較例を示し、本開示をさらに詳細に説明する。
（実施例１～実施例３、比較例１）
　まず、下記に示す組成となるように各成分を配合して、ハードコート層用樹脂組成物を得た。
（ハードコート層用樹脂組成物の組成）
・ウレタンアクリレート（製品名「ＵＡ-３３Ｈ」、新中村化学社製）：６４質量部
・ペンタエリスリトールアクリレート（製品名「ＡＴＭ-４ＰＬ」、新中村化学社製）：３６質量部
・重合開始剤（１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、製品名「Ｏｍｎｉｒａｄ１８４」、ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．社製）：４質量部
・接着付与剤（製品名「ＢＹＫ-４５０９」、ビックケミー社製）：０．３質量部（固形分１００％換算値）
・シリカ粒子（反応性基としてエポキシ基を有するシリカ粒子、平均一次粒子径１２ｎｍ、日産化学工業社製）：７０質量部（固形分１００％換算値）
・メチルイソブチルケトン：２２０質量部
（ハードコート層の形成）
　次に、基材層として、厚さ５０μｍのポリアミドイミドフィルム（製品名「ＣＰＩ」、コーロン社製）を用い、基材層上にバーコーターで上記ハードコート層用樹脂組成物を塗布して、塗膜を形成した。そして、この塗膜に対して、８０℃、１分間加熱することにより塗膜中の溶剤を蒸発させ、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムズジャパン社製、光源Ｈバルブ）を用いて、紫外線を酸素濃度が１００ｐｐｍ以下にて積算光量が４００ｍＪ／ｃｍ２になるように照射して塗膜を硬化させ、厚さ３．０μｍのハードコート層を形成した。
（無機化合物層の形成）
　次いで、得られたハードコート層の表面に、表１に示す条件でプラズマ処理を行った。次に、ハードコート層の表面処理を施した面上に、表１に示す構成材料を用いて、第２の無機化合物層を真空蒸着法により形成した。第２の無機化合物層上に、表１に示す構成材料を用いて、第１の無機化合物層を真空蒸着法により形成した。
　第１の無機化合物層および第２の無機化合物層の構成材料、厚み、屈折率、プラズマ処理条件を表１に示す。
（フッ素含有層の形成）
　次に、フッ素化合物（製品名「オプツールＵＤ１２０」、ダイキン工業社製）を真空蒸着法により形成することにより、厚さ７ｎｍのフッ素含有層を形成した。このようにして基材層、ハードコート層、第２の無機化合物層、第１の無機化合物層、フッ素含有層をこの順に有する積層体を得た。
（実施例４）
　ハードコート層の表面に、プラズマ処理を行わなかった以外は、実施例１と同様の方法で、積層体を得た。
（実施例５～実施例８、比較例２）
　　実施例１と同様の方法で、基材層上にハードコート層を形成した。次いで、ハードコート層上に、表１に示す構成材料を用いて、第２の無機化合物層を真空蒸着法により形成した。次いで、第２の無機化合物層の表面に、表１に示す条件でプラズマ処理を行った。次に、第２の無機化合物層の表面処理を施した面上に、表１に示す構成材料を用いて、第１の無機化合物層を真空蒸着法により形成した。次いで、実施例１と同様の方法でフッ素含有層を形成し、基材層、ハードコート層、第２の無機化合物層、第１の無機化合物層、フッ素含有層をこの順に有する積層体を得た。
（実施例９）
　実施例１と同様の方法で、基材層上にハードコート層を形成した。次いで、得られたハードコート層の表面に、表１に示す条件でプラズマ処理を行った。次に、ハードコート層の表面処理を施した面上に、表１に示す構成材料を用いて、第２の無機化合物層の下層膜（ＺｒＯ２）および上層膜（Ｎｂ２Ｏ５）を、真空蒸着法により形成した。
　次いで、第２の無機化合物層上に、表１に示す構成材料を用いて、第１の無機化合物層を形成した。次いで、実施例１と同様の方法でフッ素含有層を形成し、基材層、ハードコート層、第２の無機化合物層、第１の無機化合物層、フッ素含有層をこの順に有する積層体を得た。
（比較例３～比較例５）
　実施例１と同様の方法で、基材層上にハードコート層を形成した。次いで、ハードコート層上に、表１に示す構成材料を用いて、比較例３および比較例４では第２の無機化合物層の下層膜（ＺｒＯ２）および上層膜（Ｎｂ２Ｏ５）を、比較例５では第２の無機化合物層の下層膜（Ａｌ２Ｏ３）、中間層膜（ＺｒＯ２）および上層膜（Ｎｂ２Ｏ５）を、真空蒸着法により形成した。次いで、第２の無機化合物層の表面に、表１に示す条件でプラズマ処理を行った。次に、第２の無機化合物層の表面処理を施した面上に、表１に示す構成材料を用いて、第１の無機化合物層を形成した。次いで、実施例１と同様の方法でフッ素含有層を形成し、基材層、ハードコート層、第２の無機化合物層、第１の無機化合物層、フッ素含有層をこの順に有する積層体を得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
［エロージョン率］
　実施例１～９および比較例１～５で得られた表示装置用積層体について、上述の「Ａ．表示装置用積層体　１．エロージョン率」に記載の方法で、第１の無機化合物層と第２の無機化合物層との界面である第１の界面におけるエロージョン率Ｅ１と、第２の無機化合物層とハードコート層との界面である第２の界面におけるエロージョン率Ｅ２とを算出した。さらに、これらの差であるΔＥ１（Ｅ２－Ｅ１）を算出した。また、第１の無機化合物層のエロージョン率Ｅ３と、第１の界面におけるエロージョン率Ｅ１の差であるΔＥ２（Ｅ３－Ｅ１）を算出した。結果を表２に示す。
（動的屈曲性評価）
　実施例１～９および比較例１～５で得られた表示装置用積層体の屈曲性について、動的屈曲試験を行い、下記評価基準により評価した。結果を表２に示す。以下、動的屈曲試験の方法について、図５を参照して説明する。積層体に対して、下記の動的屈曲試験を行い、耐屈曲性を評価した。まず、２０ｍｍ×１００ｍｍの大きさの積層体を準備し、耐久試験機（製品名「ＤＬＤＭＬＨ－ＦＳ」、ユアサシステム機器社製）に対し、図５（ａ）に示すように、表示装置用積層体１の短辺部１Ｃと、短辺部１Ｃと対向する短辺部１Ｄとを、平行に配置された固定部５１でそれぞれ固定した。次に、図５（ｂ）に示すように、固定部５１を互いに近接するように移動させることで、表示装置用積層体１を折りたたむように変形させ、更に、図５（ｃ）に示すように、表示装置用積層体１の固定部５１で固定された対向する２つの短辺部１Ｃ、１Ｄの間隔ｄが所定の値となる位置まで固定部５１を移動させた後、固定部５１を逆方向に移動させて表示装置用積層体１の変形を解消させた。図５（ａ）～（ｃ）に示すように固定部５１を移動させることで、表示装置用積層体１を１８０°折りたたむ動作を繰り返し行った。この際、表示装置用積層体１の対向する２つの短辺部１Ｃ、１Ｄの間隔ｄは６ｍｍ（φ６ｍｍ動的屈曲試験）、または、１０ｍｍ（φ１０ｍｍ動的屈曲試験）とした。また、積層体は、フッ素化合物層が外側になるように屈曲させた。動的屈曲試験の結果は、下記の基準で評価した。
・評価基準
Ａ’：合格（第１の無機化合物層側を外側にしたφ６ｍｍの動的屈曲試験において、２０万回屈曲を繰り返しても破断せず、且つクラックが生じていない）
Ａ：合格（第１の無機化合物層側を外側にしたφ１０ｍｍの動的屈曲試験において、２０万回屈曲を繰り返しても破断せず、且つクラックが生じていない）
Ｂ：不合格（第１の無機化合物層側を外側にしたφ１０ｍｍの動的屈曲試験において、２０万回屈曲を繰り返す間に、破断する、又はクラックが生じている）
（屈曲試験後の屈曲部の視認性）
　上記動的屈曲試験実施後の表示装置用積層体を、画面表示させたタブレットディスプレイに貼り合わせて、蛍光灯下で屈曲部の視認性を確認し、以下の評価基準により評価した。
・評価基準
Ａ：合格（１０人中１０人が問題なく視認できた）
Ｂ：合格（１０人中７～９人が問題なく視認できた）
Ｃ：不合格（１０人中４～６人が問題なく視認できた）
Ｄ：不合格（１０人中、問題なく視認できたのは４人未満であった）
（視感反射率）
　実施例１～９および比較例１～５で得られた表示装置用積層体の視感反射率を、「５．表示装置用積層体　（１）視感反射率」に記載の方法により測定した。結果を表２に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000002
　表２から、実施例１～９の表示装置用積層体は、優れた屈曲耐性を有することが確認された。一方、ΔＥ１が－１．０×１０－２μｍ／ｇ未満である比較例１、およびΔＥ１が１．０×１０－１μｍ／ｇよりも大きい比較例２～５では、動的屈曲性試験において屈曲部に剥がれが生じ、屈曲試験後の屈曲部の視認性の悪化が確認された。
　すなわち、本開示においては、以下の発明を提供できる。
［１］
　第１の無機化合物層と、第２の無機化合物層と、ハードコート層と、基材層と、をこの順に有する表示装置用積層体であって、
　前記第１の無機化合物層と前記第２の無機化合物層との界面である第１の界面におけるエロージョン率Ｅ１と、前記第２の無機化合物層と前記ハードコート層との界面である第２の界面におけるエロージョン率Ｅ２との差であるΔＥ１（Ｅ２－Ｅ１）が、－１．０×１０－２μｍ／ｇ以上、１．０×１０－１μｍ／ｇ以下の範囲である、表示装置用積層体。
［２］
　前記第１の無機化合物層のエロージョン率Ｅ３と、前記第１の界面におけるエロージョン率Ｅ１との差であるΔＥ２（Ｅ３－Ｅ１）が、０．０μｍ／ｇ以上２．０×１０－２μｍ／ｇ未満である、［１］に記載の表示装置用積層体。
［３］
　前記第１の無機化合物層の屈折率が、前記第２の無機化合物層の屈折率より小さいものである、［１］または［２］に記載の表示装置用積層体。
［４］
　前記第１の無機化合物層の前記第２の無機化合物層とは反対側の面にフッ素含有層を有する、［１］から［３］までのいずれかに記載の表示装置用積層体。
［５］
　前記第１の無機化合物層に含まれる第１の無機化合物が、ケイ素酸化物である、［１］から［４］までのいずれかに記載の表示装置用積層体。
［６］
　前記第１の無機化合物層の厚みが、３０ｎｍ以上２００ｎｍ以下である、［１］から［５］までのいずれかに記載の表示装置用積層体。
［７］
　前記第１の無機化合物層および前記第２の無機化合物層の合計厚みが、５００ｎｍ以下である、［１］から［６］までのいずれかに記載の表示装置用積層体。
［８］
　前記第２の無機化合物層に含まれる第２の無機化合物が、アルミニウム酸化物、ジルコニウム酸化物およびニオブ酸化物のいずれかである、［１］から［７］までのいずれかに記載の表示装置用積層体。
［９］
　前記第２の無機化合物層の厚みが、２０ｎｍ以上３００ｎｍ以下である［１］から［８］までのいずれかに記載の表示装置用積層体。
［１０］
　前記表示装置用積層体の前記第１の無機化合物層側の面に入射角５°で光を入射させた際の正反射光の視感反射率が２．０％以下である［１］から［９］までのいずれかに記載の表示装置用積層体。
［１１］
　前記基材層の前記ハードコート層側の面とは反対の面側に、貼付用接着層を有する、［１］から［１０］までのいずれかに記載の表示装置用積層体。
［１２］
　表示パネルと、
　前記表示パネルの観察者側に配置された、［１］から［１１］までのいずれかに記載の表示装置用積層体と、を備える、表示装置。
　１　…　表示装置用積層体
　２　…　第１の無機化合物層
　３　…　第２の無機化合物層
　４　…　ハードコート層
　５　…　基材層
　６　…　フッ素含有層
　７　…　貼付用接着層
２０　…　フレキシブル表示装置
２１　…　表示パネル

Claims (12)

  1. 　第１の無機化合物層と、第２の無機化合物層と、ハードコート層と、基材層と、をこの順に有する表示装置用積層体であって、
    　前記第１の無機化合物層と前記第２の無機化合物層との界面である第１の界面におけるエロージョン率Ｅ１と、前記第２の無機化合物層と前記ハードコート層との界面である第２の界面におけるエロージョン率Ｅ２との差であるΔＥ１（Ｅ２－Ｅ１）が、－１．０×１０－２μｍ／ｇ以上、１．０×１０－１μｍ／ｇ以下の範囲である、表示装置用積層体。
  2. 　前記第１の無機化合物層のエロージョン率Ｅ３と、前記第１の界面におけるエロージョン率Ｅ１との差であるΔＥ２（Ｅ３－Ｅ１）が、０．０μｍ／ｇ以上２．０×１０－２μｍ／ｇ未満である、請求項１に記載の表示装置用積層体。
  3. 　前記第１の無機化合物層の屈折率が、前記第２の無機化合物層の屈折率より小さいものである、請求項１に記載の表示装置用積層体。
  4. 　前記第１の無機化合物層の前記第２の無機化合物層とは反対側の面にフッ素含有層を有する、請求項１に記載の表示装置用積層体。
  5. 　前記第１の無機化合物層に含まれる第１の無機化合物が、ケイ素酸化物である、請求項１に記載の表示装置用積層体。
  6. 　前記第１の無機化合物層の厚みが、３０ｎｍ以上２００ｎｍ以下である、請求項１に記載の表示装置用積層体。
  7. 　前記第１の無機化合物層および前記第２の無機化合物層の合計厚みが、５００ｎｍ以下である、請求項１に記載の表示装置用積層体。
  8. 　前記第２の無機化合物層に含まれる第２の無機化合物が、アルミニウム酸化物、ジルコニウム酸化物およびニオブ酸化物のいずれかである、請求項１に記載の表示装置用積層体。
  9. 　前記第２の無機化合物層の厚みが、２０ｎｍ以上３００ｎｍ以下である、請求項１に記載の表示装置用積層体。
  10. 　前記表示装置用積層体の前記第１の無機化合物層側の面に入射角５°で光を入射させた際の正反射光の視感反射率が２．０％以下である、請求項１に記載の表示装置用積層体。
  11. 　前記基材層の前記ハードコート層側の面とは反対の面側に、貼付用接着層を有する、請求項１に記載の表示装置用積層体。
  12. 　表示パネルと、
    　前記表示パネルの観察者側に配置された、請求項１から請求項１１までのいずれかの請求項に記載の表示装置用積層体と、を備える、表示装置。
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