TW202330249A - 顯示裝置用積層體及顯示裝置 - Google Patents

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小野寺研一
本田和也
川口紗緒里
堀井佳奈
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Abstract

本發明提供一種顯示裝置用積層體，其依序具有第1無機化合物層、第2無機化合物層、硬塗層、及基材層，且上述第1無機化合物層與上述第2無機化合物層之界面即第1界面處之侵蝕率E1和上述第2無機化合物層與上述硬塗層之界面即第2界面處之侵蝕率E2的差即ΔE1（E2－E1）處於-1.0×10 -2μm/g以上1.0×10 -1μm/g以下之範圍。

Description

顯示裝置用積層體及顯示裝置
本發明係關於一種顯示裝置用積層體及顯示裝置。
於顯示裝置之表面配置有具備功能層之積層體，該功能層例如具有硬塗性、耐磨性、抗反射性、防眩性、抗靜電性、防污性等各種性能。
專利文獻1中提出了一種光學膜，其係用於顯示裝置者，且包含丙烯酸樹脂膜，藉由微漿噴射侵蝕（MSE）試驗所獲得之磨耗率（μm/g）處於0.7以上1.4以下之範圍，並且依據JIS P8115所測得之耐折次數為300次以上。
近年來，可摺疊顯示器、可捲曲顯示器、可彎曲顯示器等可撓性顯示裝置備受關注，故業界正積極地開發配置於可撓性顯示裝置表面之積層體。
對於可撓性顯示裝置，要求即便使其反覆彎曲亦不會發生顯示不良，對於配置於可撓性顯示裝置表面之積層體，要求其具有在反覆彎曲時不發生剝落或龜裂之耐彎曲性。尤其是具備具有抗反射性能之功能層之積層體，由於存在因彎曲而發生之顯示不良較明顯之情況，故而要求其具有更優異之耐彎曲性。 [先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本特開2016-71274號公報
[發明所欲解決之課題]
本發明係鑒於上述實情而完成者，其目的在於：提供一種耐彎曲性優異之顯示裝置用積層體及顯示裝置。 [解決課題之技術手段]
本發明之一實施方式提供一種顯示裝置用積層體，其依序具有第1無機化合物層、第2無機化合物層、硬塗層、及基材層，且上述第1無機化合物層與上述第2無機化合物層之界面即第1界面處之侵蝕率E1和上述第2無機化合物層與上述硬塗層之界面即第2界面處之侵蝕率E2的差即ΔE1（E2－E1）為-1.0×10 -2μm/g以上1.0×10 -1μm/g以下之範圍。
於本發明中之顯示裝置用積層體中，上述第1無機化合物層之侵蝕率E3與上述第1界面處之侵蝕率E1的差即ΔE2（E3－E1）為0.0 μm/g以上且未達2.0×10 -2μm/g。
又，本發明較佳為上述第1無機化合物層之折射率小於上述第2無機化合物層之折射率。
進而，較佳為於上述第1無機化合物層之與上述第2無機化合物層為相反側之面具有含氟層。
本發明中之顯示裝置用積層體中，上述第1無機化合物層中所含之第1無機化合物較佳為矽氧化物。
又，本發明中之顯示裝置用積層體中，上述第1無機化合物層之厚度較佳為30 nm以上200 nm以下。
本發明中之顯示裝置用積層體中，上述第1無機化合物層及上述第2無機化合物層之合計厚度較佳為500 nm以下。
又，本發明中之顯示裝置用積層體中，上述第2無機化合物層中所含之第2無機化合物較佳為鋁氧化物、鋯氧化物、及鈮氧化物中之任一者
進而，本發明中之顯示裝置用積層體中，上述第2無機化合物層之厚度較佳為20 nm以上300 nm以下。
本發明中之顯示裝置用積層體中，可使光以5°入射角入射至上述第1無機化合物層側之面時之單向反射光之視感反射率為2.0%以下。
又，本發明中之顯示裝置用積層體可於上述基材層之與上述硬塗層側之面為相反之面側具有貼附用接著層。
本發明之另一實施方式提供一種顯示裝置，其具備顯示面板、及配置於上述顯示面板之觀察者側之上述顯示裝置用積層體。 [發明之效果]
本發明發揮可提供一種耐彎曲性優異之顯示裝置用積層體及顯示裝置之效果。
以下，參照圖式等對本發明之實施方式進行說明。惟本發明能夠以較多之不同之態樣進行實施，並非限定於下述所例示之實施方式之記載內容進行解釋。又，為了使說明變得更明確，圖式存在與實際形態相比而示意性地表示各部之寬度、厚度、形狀等之情況，但其僅為一例，並非限定本發明之解釋。又，於本說明書與各圖中，關於與上文中參照已有之圖所說明之要素相同之要素，有標註同一符號，而適當地省略詳細說明之情形。
本說明書中，於表現在某一構件之上配置其他構件之態樣時，簡單地記為「～上」或「～下」之情形時，只要無特別說明，便視為包括以下兩種情況：以與某一構件相接之方式，將其他構件配置於正上方或正下方；及進而經由另一構件將其他構件配置於某一構件之上方或下方。又，本說明書中，於表現在某一構件之面配置其他構件之態樣時，簡單地記為「～面側」或「～面」之情形時，只要無特別說明，便視為包括以下兩種情況：以與某一構件相接之方式，將其他構件配置於正上方或正下方；及進而經由另一構件將其他構件配置於某一構件之上方或下方。
本發明之發明人等發現了依序具有第1無機化合物層、第2無機化合物層、硬塗層、及基材層之顯示裝置用積層體存在以下情況：於第1無機化合物層與第2無機化合物層之間、或第2無機化合物層與硬塗層之間發生剝落，耐彎曲性欠佳。
本發明之發明人等對顯示裝置用積層體之耐彎曲性進行了努力研究，結果發現：包含無機化合物層及硬塗層之積層體之層間之密接性與其界面之侵蝕率有關聯。具體而言，發現了若界面之密接性較弱，則界面之深度位置所決定之侵蝕率產生差異，結果侵蝕率變高。即，發現了以下趨勢：界面之侵蝕率越高則界面之密接性越低，界面之侵蝕率越低則界面之密接性越高。
進而，本發明之發明人等發現了若第1無機化合物層與第2無機化合物層之界面處之侵蝕率E1和第2無機化合物層與硬塗層之界面處之侵蝕率E2的差即ΔE1（E2－E1）為特定範圍，則積層體之耐彎曲性提高，從而完成了本發明。以下，對本發明之顯示裝置用積層體進行詳細說明。
A.顯示裝置用積層體 圖1係表示本發明中之顯示裝置用積層體之一例的概略剖視圖。如圖1所示，本發明之顯示裝置用積層體1依序具有第1無機化合物層2、第2無機化合物層3、硬塗層4、及基材層5。 本發明之特徵在於：第1無機化合物層2與第2無機化合物層3之界面即第1界面A處之侵蝕率E1和第2無機化合物層3與硬塗層4之界面即第2界面B處之侵蝕率E2的差即ΔE1（E2－E1）為-1.0×10 -2μm/g以上1.0×10 -1μm/g以下之範圍。
圖1示出了第2無機化合物層3為單層膜之情況。另一方面，於第2無機化合物層為由複數個無機化合物膜構成之多層膜之情形時，第2無機化合物層之最靠近第1無機化合物層側之無機化合物膜和第1無機化合物層之界面為第1界面。又，第2無機化合物層之最靠近硬塗層側之無機化合物膜和硬塗層之界面為第2界面。即，如圖2所示，於第2無機化合物層3例如為如包含上層膜3a與下層膜3b之多層膜之情形時，第1無機化合物層2與第2無機化合物層3中之上層膜3a之界面為第1界面A，第2無機化合物層3中之下層膜3b與硬塗層4之界面為第2界面B。
本發明中之顯示裝置用積層體中，ΔE1（E2－E1）為-1.0×10 -2μm/g以上，藉此可抑制第1界面之彎曲部發生剝落。若ΔE1（E2－E1）未達-1.0×10 -2μm/g，則第2界面較第1界面過於牢固地密接，在彎曲時應力集中於第1界面，在第1界面之彎曲部發生剝落。
另一方面，ΔE1（E2－E1）為1.0×10 -1μm/g以下，藉此可抑制第2界面B之彎曲部發生剝落。 若ΔE1（E2－E1）為大於1.0×10 -1μm/g之值，則第2界面之密接性不夠充分，在彎曲時應力集中於第2界面，在第2界面之彎曲部發生剝落。
再者，於第2無機化合物層為多層膜之情形時，第2無機化合物層內相鄰之無機化合物膜之間之界面不會對積層體之耐彎曲性產生影響。其原因在於：積層體之耐彎曲性受第1界面及第2界面之密接性之影響較大，由於應力會較第2無機化合物層內更傾向集中於第1界面或第2界面，故而第1界面或第2界面在第2無機化合物層內發生剝落前發生剝落。
因此，成為具有優異之耐彎曲性之顯示裝置用積層體。以下，對本發明之顯示裝置用積層體中之各構成進行詳細說明。
1.侵蝕率 （1）ΔE1（E2－E1） 本發明中之顯示裝置用積層體中，第1無機化合物層與第2無機化合物層之界面即第1界面A處之侵蝕率E1和第2無機化合物層與硬塗層之界面即第2界面B處之侵蝕率E2的差即ΔE1（E2－E1）為-1.0×10 -2μm/g以上1.0×10 -1μm/g以下之範圍。較佳為-8.0×10 -3μm/g以上8.0×10 -2μm/g以下之範圍。
ΔE1（E2－E1）例如為-1.0×10 -2μm/g以上0.0 μm/g以下之範圍，其中，較佳為-8.0×10 -3μm/g以上0.0 μm/g以下之範圍。其原因在於：可使耐彎曲性變得更良好。 另一方面，亦可設為0.0 μm/g以上1.0×10 -1μm/g以下，進而，可設為1.0×10 -3μm/g以上8.0×10 -2μm/g以下之範圍。
作為將ΔE1（E2－E1）之值設為上述範圍之方法，可例舉以下方法，即，調整第1界面A處之侵蝕率E1與第2界面B處之侵蝕率E2，但第1界面A處之侵蝕率E1與第2界面B處之侵蝕率E2係藉由有無對第2無機化合物層或硬塗層之表面處理、或調整表面處理條件而進行調整。
（2）侵蝕率測定方法 本發明中，侵蝕率係使用材料表面精密試驗機（微漿噴射侵蝕試驗機，以下為MSE試驗機，Palmeso股份有限公司製造/裝置名Nano MSE/型號N-MSE-A）所測定之值。
使平均粒徑D 50＝0.7 μm之多角氧化鋁粉末（粒子）分散於水中，製備相對於漿料之總質量包含1質量%之多角氧化鋁粉末之漿料。將固定於治具上之顯示裝置用積層體固定於裝置台，將顯示裝置用積層體與用以噴射上述漿料之噴嘴之投射距離設定為4 mm。噴嘴直徑設為1 mm×1 mm，進而將具有直徑0.3 mm之孔之遮罩安裝於噴嘴口。自噴嘴噴射包含多角氧化鋁粉末之漿料，自第1無機化合物層側之表面依序對固定於裝置台之顯示裝置用積層體進行切削（侵蝕處理）。
此時之噴射強度係以下述方式決定：預先於相同之實驗條件下切削既有之PMMA基板，自與漿料之噴射量對應之削減位移（即，在噴送1 g漿料時被切削之深度）求出標準投射力X，基於其值而決定上述噴射強度。於使用多角氧化鋁粉末之本發明中，將對既有之PMMA基板削減了7.0 μm/g時之投射力作為標準投射力X，將投射力設定為標準投射力X之1/100之投射力（對既有之PMMA基板削減了0.07 μm/g時之投射力）。
用水對經切削之部分進行清洗後，測定侵蝕深度Z（測量形狀）。侵蝕深度Z例如係使用觸針式表面形狀測定器（小坂研究所股份有限公司製造/型號PU-EU1/觸針頭前端R＝2 μm/負荷100 μN/測量倍率20,000/測長4 mm/測量速度0.2 mm/秒）進行測定。
具體而言，首先，使用測量長度中未磨耗之兩端基準區域a、b來實施傾斜修正。繼而，測定自作為基準之回歸直線至磨耗痕跡中心部c（50 μm寬度之平均值）之階差。繼而，收集0 g投射時之階差資料與各投射量時之階差資料之差量，獲取侵蝕深度Z。
將上述侵蝕處理與利用上述形狀測定器進行之形狀測定反覆進行設定次數（N次）而實施，獲取N次量之形狀測量資料。本發明中，使用自上述投射力所算出之投射粒子量X’[g]與侵蝕深度Z[μm]，算出每單位投射粒子量之侵蝕深度即侵蝕率E[μm/g]，製成侵蝕進行圖及侵蝕率分布圖（侵蝕深度（縱軸）與侵蝕率（橫軸）之圖）。
本發明中，預先藉由顯微鏡觀察等進行剖面觀察，藉此掌握積層體之積層方向之第1界面A之深度位置。
使用上述所獲得之圖，將較第1界面A之深度位置淺10 nm之位置至較上述第1界面A之深度位置深10 nm之位置為止之範圍所對應之侵蝕深度範圍之侵蝕率之平均定義為第1界面A處之侵蝕率E1。同樣地，將較第2界面B之深度位置淺10 nm之位置至較上述第2界面B之深度位置深10 nm之位置為止之範圍所對應之侵蝕深度範圍之侵蝕率之平均定義為第2界面B處之侵蝕率E2。
（3）各界面之侵蝕率 作為第1界面A處之侵蝕率E1，只要ΔE1（E2－E1）為上述範圍之值，便無特別限定，例如為1.0×10 -3μm/g以上1.0×10 -1μm/g以下，亦可為3.0×10 -3μm/g以上8.0×10 -2μm/g以下。
作為第2界面B處之侵蝕率E2，只要ΔE1（E2－E1）為上述範圍之值，便無特別限定，例如為1.0×10 -3μm/g以上1.0×10 -1μm/g以下，亦可為3.0×10 -3μm/g以上8.0×10 -2μm/g以下。
第1界面A處之侵蝕率E1可藉由以下方式進行調整，即，於在上述第2無機化合物層形成第1無機化合物層前，對作為基底之第2無機化合物層進行表面處理，以及變更表面處理條件。 又，第2界面B處之侵蝕率E2可藉由以下方式進行調整，即，於在上述硬塗層形成第2無機化合物層前，對作為基底之硬塗層進行表面處理，以及變更表面處理條件。 此處，作為所使用之表面處理方法，例如可例舉電漿處理、電暈放電處理等。
2.層構成 2.1 第1無機化合物層 第1無機化合物層係積層體中所含之無機化合物層中位於基材層側之相反側之最遠處的單層之無機化合物層。第1無機化合物層與第2無機化合物層直接相接。
（1）第1無機化合物 第1無機化合物層由第1無機化合物構成。作為第1無機化合物，並無特別限定，例如可例舉矽氧化物、鎵氧化物等無機氧化物。
又，第1無機化合物層可包含作為折射率較第2無機化合物低之低折射率材料之無機氟化物作為第1無機化合物。其原因在於：可獲得低反射性。作為此種無機氟化物，例如可例舉：氟化鋁、氟化鋇、氟化鈰、氟化釓、氟化鑭、氟化鋰、氟化鎂、氟化鈉、氟化釹、氟化鐿、氟化釔等。
本發明中，其中，就折射率或通用性之觀點而言，較佳為矽氧化物。
又，第1無機化合物層中所含之無機化合物較佳為一種，但亦可包含複數種無機化合物。
再者，無機氧化物之平均組成例如由MO x（其中，式中，M表示金屬元素，x之值根據金屬元素之不同而分別範圍不同）表示。例如矽氧化物之平均組成由SiO x表示，式中，x可設為0＜x≦2，較佳為1≦x≦2，更佳為SiO 2。於本發明中，無機氧化物之平均組成如上所述，並不限於化學計量上最佳者。
本發明中，第1無機化合物層較佳為蒸鍍膜。尤佳為矽氧化物（二氧化矽，silica）蒸鍍膜。
第1無機化合物層不僅包含上述無機化合物，亦可包含氮氧化物、碳氧化物、碳氮氧化物等。
（2）侵蝕率E3 本發明中之第1無機化合物層之侵蝕率E3較佳為與上述第1界面A處之侵蝕率E1的差為特定之範圍。具體而言，第1無機化合物層之侵蝕率E3與第1界面處之侵蝕率E1的差即ΔE2（E3－E1）較佳為0.0 μm/g以上且未達2.0×10 -2μm/g，進而較佳為3.0×10 -3μm/g以上1.9×10 -2μm/g以下。若ΔE2（E3－E1）過大，則彎曲試驗時可能於第1無機化合物層內發生剝落或龜裂。
作為第1無機化合物層之侵蝕率E3，例如為3.0×10 -3μm/g以上5.0×10 -2μm/g以下，亦可為5.0×10 -3μm/g以上3.0×10 -2μm/g以下。
再者，本發明中，將積層體之積層方向中第1無機化合物層之一面之深度位置至第1無機化合物層之另一面之深度位置為止之範圍所對應之侵蝕深度範圍之侵蝕率之平均定義為第1無機化合物層之侵蝕率E3。
（3）折射率 第1無機化合物層之折射率較佳為1.60以下，更佳為1.50以下。另一方面，例如為1.30以上，亦可為1.40以上。
再者，於本說明書中，各層之折射率意指對波長550 nm之光之折射率。關於折射率之測定方法，可例舉使用橢圓偏光計進行測定之方法。作為橢圓偏光計，例如可例舉JOBIN YVON公司製造之「UVSEL」或Techno-Synergy公司製造之「DF1030R」等。 本發明中，上述第1無機化合物層之折射率較佳為小於上述第2無機化合物層之折射率。其原因在於：可降低本發明之積層體之反射率。
（4）厚度 作為第1無機化合物層之厚度，並無特別限定，較佳為30 nm以上200 nm以下，更佳為50 nm以上150 nm以下。 此處，於本說明書中，使用穿透式電子顯微鏡（TEM）、掃描式電子顯微鏡（SEM）或掃描穿透式電子顯微鏡（STEM）對顯示裝置用積層體進行觀察，各層之厚度可設為自所觀察之顯示裝置用積層體之厚度方向之剖面中所測得之任意10個部位之厚度之平均值。
（5）形成方法 第1無機化合物層例如可自低折射率粒子中選擇具有所需折射率之粒子，藉由真空蒸鍍法、濺鍍法、及離子鍍覆法等物理氣相沉積法（Physical Vapor Deposition法，PVD法）等來形成。其等中，就生產性（蒸鍍速度）之觀點而言，較佳為真空蒸鍍法。
2.2 第2無機化合物層 第2無機化合物層係配置於第1無機化合物層與硬塗層之間之層。第2無機化合物層與第1無機化合物層及硬塗層直接相接。
如圖1所示，第2無機化合物層3可為單層膜，亦可如圖2所示為多層膜。圖2中之第2無機化合物層3具有與第1無機化合物層2直接相接之上層膜3a及與硬塗層4直接相接之下層膜3b之2層。
第2無機化合物層可為第1無機化合物層側之表面被實施了表面處理者，亦可為未被實施表面處理者。於第2無機化合物層為多層膜之情形時，「第2無機化合物層之第1無機化合物層側之表面」意指第2無機化合物層之最靠近第1無機化合物層側之無機化合物膜之表面。
作為表面處理，可例舉上述「1.侵蝕率」中所記載之方法。尤佳為電漿處理。作為電漿處理條件，可例舉電漿放電功率、輝光放電壓力等。本發明中，作為電漿處理，例如電漿處理越強，則密接性越提高，第1界面A處之侵蝕率E1變得越低。
（1）第2無機化合物 作為構成第2無機化合物層之第2無機化合物，並無特別限定，其中，較佳為較第1無機化合物而言為高折射率材料。其原因在於：藉由與第1無機化合物層之組合，可獲得低反射性。作為構成第2無機化合物層之第2無機化合物，可例舉：鋁氧化物、鋯氧化物、矽氧化物、鉿氧化物、鉭氧化物、鈰氧化物、鈦氧化物、鋅氧化物、鎂氧化物、釔氧化物及鈮氧化物等無機氧化物。
鋁氧化物之平均組成由AlO x表示，式中，x可設為0＜x≦1.5，較佳為Al 2O 3。鋯氧化物之平均組成由ZrO x表示，式中，x可設為0＜x≦2，較佳為ZrO 2。鈮氧化物之平均組成由NbO x表示，式中，x可設為0＜x≦2.5，較佳為Nb 2O 5。
第2無機化合物層較佳為蒸鍍膜。尤佳為鋁氧化物（氧化鋁）蒸鍍膜、氧化鋯蒸鍍膜、氧化鈮蒸鍍膜。第2無機化合物層可為藉由1次蒸鍍所形成之單一膜，亦可為藉由複數次蒸鍍所形成之多層膜。於第2無機化合物層為多層膜之情形時，可將同一組成之膜加以組合，亦可將不同組成之膜加以組合。
又，於第2無機化合物層為單層膜之情形時，第2無機化合物層中所含之無機化合物較佳為一種，但亦可包含複數種無機化合物。於為多層膜之情形時，各膜中所含之無機化合物較佳為一種，但亦可包含複數種無機化合物。
（2）折射率 第2無機化合物層之折射率較佳為1.60以上，更佳為1.80以上。另一方面，例如為3.00以下，亦可為2.50以下。
上述折射率於第2無機化合物層為多層膜之情形時意指各膜之折射率。於第2無機化合物層由多層膜構成之情形時，可為由折射率不同之多層膜構成者。於該情形時，第2無機化合物層可自硬塗層側起朝向第1無機化合物層（低折射率層）依序積層中折射率層、高折射率層，或者依序積層高折射率層、低折射率層、高折射率層。
（3）厚度 作為第2無機化合物層之厚度，並無特別限定，較佳為20 nm以上300 nm以下，更佳為30 nm以上270 nm以下。 第2無機化合物層之厚度於第2無機化合物層為多層膜之情形時意指構成第2無機化合物層之多層膜整體之厚度。於第2無機化合物層為多層膜之情形時，各膜之厚度例如為10 nm以上150 nm以下，較佳為15 nm以上130 nm以下。
（4）形成方法 第2無機化合物層例如可自高折射率粒子中選擇具有所需折射率之粒子，藉由真空蒸鍍法、濺鍍法、及離子鍍覆法等物理氣相沉積法（Physical Vapor Deposition法，PVD法）等來形成。其等中，就生產性（蒸鍍速度）之觀點而言，較佳為真空蒸鍍法。
2.3 無機化合物層 本發明中，本發明中之顯示裝置用積層體中所含之無機化合物層之合計厚度較佳為500 nm以下，進而較佳為400 nm以下。另一方面，例如可為40 nm以上，亦可為70 nm以上。若合計厚度過厚，則可能導致顯示裝置用積層體之耐彎曲性變差。無機化合物層之合計厚度通常意指第1無機化合物層與第2無機化合物層之合計厚度。
3.硬塗層 本發明中之顯示裝置用積層體於第2無機化合物層與基材層之間具有硬塗層。本發明中，藉由第2無機化合物層與硬塗層之界面即第2界面處之侵蝕率E2和上述第1界面處之侵蝕率E1的差為上述範圍，可使顯示裝置用積層體整體之耐彎曲性變得優異。又，藉由配置硬塗層，可提高耐磨性。尤其於上述基材層為樹脂基材之情形時，藉由配置硬塗層，可有效地提高耐磨性。
硬塗層可為第2無機化合物層側之表面被實施了表面處理者，亦可為未被實施表面處理者。作為表面處理，可例舉上述「1.侵蝕率」中所記載之方法。尤佳為電漿處理。作為電漿處理條件，可例舉電漿放電功率、輝光放電壓力等。本發明中，作為電漿處理，例如電漿處理越強，則密接性越提高，第2界面B處之侵蝕率E2變得越低。
（1）材料 作為硬塗層之材料，例如可使用有機材料、無機材料、有機無機複合材料等。其中，硬塗層之材料較佳為有機材料。具體而言，硬塗層較佳為含有「包含聚合性化合物之樹脂組成物之硬化物」。包含聚合性化合物之樹脂組成物之硬化物可藉由以下方式獲得：視需要使用聚合起始劑，藉由公知方法使聚合性化合物進行聚合反應。聚合性化合物係分子內具有至少1個聚合性官能基者。作為聚合性化合物，例如可使用自由基聚合性化合物及陽離子聚合性化合物中之至少一種。
自由基聚合性化合物係指具有自由基聚合性基之化合物。作為自由基聚合性化合物所具有之自由基聚合性基，例如可例舉包含碳-碳不飽和雙鍵之基等，具體而言，可例舉乙烯基、（甲基）丙烯醯基等。關於自由基聚合性化合物於1分子中所具有之自由基聚合性基之數量，較佳為2個以上，進而較佳為3個以上。
作為自由基聚合性化合物，就反應性高低之方面而言，其中，較佳為具有（甲基）丙烯醯基之化合物，例如可較佳地使用被稱為胺酯（甲基）丙烯酸酯、聚酯（甲基）丙烯酸酯、環氧（甲基）丙烯酸酯、三聚氰胺（甲基）丙烯酸酯、聚氟烷基（甲基）丙烯酸酯、聚矽氧（甲基）丙烯酸酯等之於分子內具有幾個（甲基）丙烯醯基之分子量自幾百至幾千之多官能（甲基）丙烯酸酯單體及低聚物，又，亦可較佳地使用於丙烯酸酯聚合物之側鏈具有2個以上（甲基）丙烯醯基之多官能（甲基）丙烯酸酯聚合物。其中，可較佳地使用於1分子中具有2個以上（甲基）丙烯醯基之多官能（甲基）丙烯酸酯單體。藉由包含多官能（甲基）丙烯酸酯單體之硬化物，可提高耐磨性。進而，亦可提高密接性。又，亦可較佳地使用於1分子中具有2個以上（甲基）丙烯醯基之多官能（甲基）丙烯酸酯低聚物或聚合物。藉由包含多官能（甲基）丙烯酸酯低聚物或聚合物之硬化物，可提高耐磨性。進而，可提高耐彎曲性及密接性。
再者，於本說明書中，（甲基）丙烯醯基表示丙烯醯基及甲基丙烯醯基各者，（甲基）丙烯酸酯表示丙烯酸酯及甲基丙烯酸酯各者。
陽離子聚合性化合物係指具有陽離子聚合性基之化合物。作為陽離子聚合性化合物所具有之陽離子聚合性基，例如可例舉：環氧基、氧環丁基、乙烯醚基等。再者，於陽離子聚合性化合物具有2個以上陽離子聚合性基之情形時，該等陽離子聚合性基可分別相同，亦可不同。
又，硬塗層亦可含有抗靜電劑。可對顯示裝置用積層體賦予抗靜電性。硬塗層可視需要進而含有添加劑。作為添加劑，可根據對硬塗層所賦予之功能適當選擇，並無特別限定，例如可例舉：無機粒子、有機粒子、紫外線吸收劑、紅外線吸收劑、防污劑、防眩劑、調平劑、界面活性劑、易滑劑、各種敏化劑、阻燃劑、接著賦予劑、聚合抑制劑、抗氧化劑、光穩定劑、表面改質劑等。
又，本發明中，作為硬塗層之材料，為了兼顧耐彎曲性及與第2無機化合物層之密接性，較佳為將具有胺酯（甲基）丙烯酸酯與多官能（甲基）丙烯酸酯單體中之至少一者之自由基聚合性化合物、與具有能夠與自由基聚合性化合物形成共價鍵之反應性官能基之反應性無機粒子加以併用而成之有機無機材料，進而較佳為併用接著賦予劑作為添加劑。作為反應性無機粒子，可例舉具有反應性官能基之二氧化矽等。又，作為反應性官能基，可例舉：乙烯基、（甲基）丙烯醯基、烯丙基、環氧基、及矽醇基等。
（2）厚度 硬塗層之厚度只要根據硬塗層所具有之功能及顯示裝置用積層體之用途適當選擇即可。硬塗層之厚度例如較佳為0.5 μm以上50 μm以下，更佳為1.0 μm以上40 μm以下，進而較佳為1.5 μm以上30 μm以下，尤佳為2 μm以上20 μm以下。若硬塗層之厚度為上述範圍內，則可獲得作為硬塗層而言足夠之硬度。
（3）形成方法 作為硬塗層之形成方法，例如可例舉於上述基材層上塗布包含上述聚合性化合物等之硬塗層用樹脂組成物，並使其硬化之方法。
4.基材層 本發明中之基材層係支持硬塗層、第2無機化合物層及第1無機化合物層之構件。作為基材層，只要為具有透明性者，便無特別限定，例如可例舉樹脂基材、玻璃基材等。
（1）樹脂基材 作為構成樹脂基材之樹脂，只要能夠獲得具有透明性之樹脂基材，便無特別限定，例如可例舉：聚醯亞胺系樹脂、聚醯胺系樹脂、聚酯系樹脂等。作為聚醯亞胺系樹脂，例如可例舉：聚醯亞胺、聚醯胺醯亞胺、聚醚醯亞胺、聚酯醯亞胺等。作為聚酯系樹脂，例如可例舉：聚對苯二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯、聚萘二甲酸乙二酯等。
（2）玻璃基材 作為構成玻璃基材之玻璃，只要具有透明性，便無特別限定，例如可例舉矽酸鹽玻璃、二氧化矽玻璃等。其中，較佳為硼矽酸玻璃、鋁矽酸鹽玻璃、鋁硼矽酸玻璃，更佳為無鹼玻璃。作為玻璃基材之市售品，例如可例舉日本電氣硝子公司之超薄板玻璃G-Leaf、或松浪硝子工業公司之超薄膜玻璃等。
又，構成玻璃基材之玻璃亦較佳為化學強化玻璃。化學強化玻璃之機械強度優異，可相應地使其變薄，就該方面而言較佳。關於化學強化玻璃，典型而言為藉由對玻璃之表面附近將一部分離子種進行交換，譬如用鉀代替鈉等，而利用化學方法來強化機械物性而成之玻璃，且其表面具有壓縮應力層。
作為構成化學強化玻璃基材之玻璃，例如可例舉：鋁矽酸鹽玻璃、鈉鈣玻璃、硼矽酸玻璃、鉛玻璃、鹼鋇玻璃、鋁硼矽酸玻璃等。
作為化學強化玻璃基材之市售品，例如可例舉：康寧公司之Gorilla Glass（大猩猩玻璃）、AGC公司之Dragontrail（龍跡）、肖特公司之化學強化玻璃等。
（3）基材層之構成 作為基材層之厚度，只要為能夠具有柔軟性之厚度，便無特別限定，可根據基材層之種類等適當選擇。
樹脂基材之厚度例如較佳為10 μm以上100 μm以下，更佳為25 μm以上80 μm以下。藉由使樹脂基材之厚度為上述範圍內，可獲得良好之柔軟性，並且可獲得充分之硬度。又，亦可抑制顯示裝置用積層體之捲曲。進而，就顯示裝置用積層體之輕量化方面而言較佳。
玻璃基材之厚度例如較佳為200 μm以下，更佳為15 μm以上100 μm以下，進而較佳為20 μm以上90 μm以下，尤佳為25 μm以上80 μm以下。藉由使玻璃基材之厚度為上述範圍內，可獲得良好之柔軟性，並且可獲得充分之硬度。又，亦可抑制顯示裝置用積層體之捲曲。進而，就顯示裝置用積層體之輕量化方面而言較佳。
5.其他構成 圖3係表示本發明中之顯示裝置用積層體之另一例的概略剖視圖。如圖3所示，本發明之顯示裝置用積層體1於第1無機化合物層2之與第2無機化合物層3側之面為相反之面側具有氟化合物層6。
（1）含氟層 本發明中之顯示裝置用積層體較佳為於第1無機化合物層之與第2無機化合物層側之面為相反之面側具有含有氟原子之含氟層。其中，於顯示裝置用積層體中，含氟層較佳為配置於最表面。含氟層只要為含有氟原子者即可，藉由含有氟原子，可對顯示裝置用積層體賦予耐磨性。 具體而言，可將顯示裝置用積層體之含氟層側之表面之動摩擦係數設為特定範圍。本發明中之顯示裝置用積層體之含氟層側之表面之動摩擦係數較佳為0.01以上0.30以下，進而較佳為0.03以上0.20以下。若動摩擦係數為上述值以下，則使表面之滑動性提高，使耐磨性變得更優異。
動摩擦係數可藉由依據JIS K7125：1999（摩擦係數試驗方法）之方法進行測定。動摩擦係數之測定方法例如可使用負荷變動型摩擦磨損試驗系統（新東科學（股）公司製造 HEIDON Type HHS2000），並使用2 cm×2 cm之開司米毛氈（cashmere felt），於負荷200 g、速度5 mm/秒之條件下進行測定。動摩擦係數之值係於顯示裝置用積層體之含氟層側之表面，在不同之位置測定5點，設為該等測定值之平均值。
作為含氟層，只要為含有氟原子者，便無特別限定。含氟層例如可含有氟化合物，亦可含有氟化合物及樹脂，亦可含有氟樹脂。作為氟化合物，例如可使用作為氟系防污劑、氟系調平劑、氟系界面活性劑等而為人所知者。作為氟化合物，例如可例舉有機氟化合物，具體而言，可例舉全氟化合物。作為全氟化合物，例如可例舉具有全氟聚醚基、全氟伸烷基、全氟烷基等之全氟化合物。全氟伸烷基及全氟烷基可為直鏈亦可為支鏈。氟化合物可單獨使用一種，亦可混合兩種以上而使用。
又，氟化合物較佳為與樹脂成分鍵結。藉由使氟化合物與樹脂成分鍵結，可抑制氟化合物之滲出，可長期保持耐磨性及防污性。
作為氟化合物，較佳為與樹脂成分鍵結，因此可較佳地使用具有反應性官能基之氟化合物。即，含氟層較佳為含有下述樹脂組成物之硬化物，該樹脂組成物包含具有反應性官能基之氟化合物及下述聚合性化合物。作為反應性官能基，例如可例舉：（甲基）丙烯醯基、乙烯基、烯丙基等乙烯性不飽和鍵結基、或環氧基、氧環丁基等。
氟化合物所具有之反應性官能基之數量只要為1個以上即可，較佳為2個以上。藉由使用具有2個以上之反應性官能基之氟化合物，可提高耐磨性。
又，氟化合物可包含矽。即，含氟層可含有氟及矽。作為包含矽之氟化合物，例如可例舉分子內藉由矽氧烷鍵之氟化合物。藉由使用具有矽氧烷鍵之氟化合物，可提高滑動性，可提高耐磨性。
氟化合物例如較佳為具有反應性官能基之氟化合物、或包含反應性官能基及矽之氟化合物。
作為具有反應性官能基之氟化合物，例如可例舉：具有乙烯性不飽和鍵之含氟單體、主鏈具有氟伸烷基之含氟聚合物或低聚物、主鏈及側鏈具有氟伸烷基或氟烷基之含氟聚合物或低聚物等。關於具有反應性官能基之氟化合物，例如可參照日本特開2017-19247號公報。
作為包含反應性官能基及矽之氟化合物，例如可例舉使分子中具有反應性官能基之有機聚矽氧與上述具有反應性官能基之氟化合物進行反應而成之含聚矽氧之偏二氟乙烯共聚物等。
又，作為包含反應性官能基及矽之氟化合物，例如可較佳地使用具有反應官能基及全氟聚醚基之氟化合物，其中，亦可較佳地使用包含具有反應性官能基之矽烷單元、及具有全氟聚醚基之矽烷單元之氟化合物。關於此種氟化合物，例如可參照國際公開第2012/157682號。
於本發明中，上述含氟層亦可為含有氟化合物及樹脂之層。於含氟層含有氟化合物及樹脂之情形時，樹脂例如可例舉聚合性化合物之硬化物。聚合性化合物之硬化物可藉由以下方式獲得：視需要使用聚合起始劑，藉由公知方法使聚合性化合物進行聚合反應。
又，於含氟層含有氟樹脂之情形時，作為氟樹脂，例如可例舉含有氟之聚合性化合物之硬化物。含有氟之聚合性化合物之硬化物可藉由以下方式獲得：視需要使用聚合起始劑，藉由公知方法使含有氟之聚合性化合物進行聚合反應。
含有氟之聚合性化合物係分子內具有至少1個聚合性官能基者。作為含有氟之聚合性化合物，例如可使用自由基聚合性化合物及陽離子聚合性化合物中之至少一種。又，作為含有氟之聚合性化合物，例如可使用含氟單體、低聚物、聚合物中之任一種。
含氟層可視需要例如含有無機粒子、有機粒子、紫外線吸收劑、抗氧化劑、光穩定劑、防眩劑、調平劑、界面活性劑、易滑劑、各種敏化劑、阻燃劑、接著賦予劑、聚合抑制劑、表面改質劑等添加劑。
本發明中，含氟層可為單層膜，亦可為多層膜。
作為含氟層之厚度，並無特別限定，例如為0.5 μm以上50 μm以下，可為1.0 μm以上40 μm以下，亦可為1.5 μm以上30 μm以下。若含氟層之厚度過薄，則可能導致含氟層之表面硬度降低，而使耐磨性降低。又，若含氟層之厚度過厚，則有可撓性受損之虞。 另一方面，本發明中，於顯示裝置用積層體包含第1無機化合物層與第2無機化合物層而表現出低反射性之情形時，含氟層之厚度較佳為相對較薄。其原因在於：可抑制對薄膜干涉之影響。該情形時之含氟層之厚度例如較佳為1 nm以上30 nm以下，更佳為2 nm以上20 nm以下，進而較佳為3 nm以上10 nm以下。
又，作為含氟層之形成方法，可根據材料適當選擇，例如可例舉真空蒸鍍法、濺鍍法、於上述第1無機化合物層上塗布含氟層用組成物並使其硬化之方法等。
（2）貼附用接著層 本發明中之顯示裝置用積層體可於基材層之與硬塗層相反側之面具有貼附用接著層。可經由貼附用接著層將顯示裝置用積層體例如貼合於顯示面板等。
作為貼附用接著層中所使用之接著劑，只要為具有透明性且能夠將顯示裝置用積層體接著於顯示面板等之接著劑，便無特別限定，例如可例舉：熱硬化型接著劑、紫外線硬化型接著劑、2液硬化型接著劑、熱熔型接著劑、感壓接著劑（即黏著劑）等。
貼附用接著層之厚度例如可設為較佳為10 μm以上100 μm以下，更佳為25 μm以上80 μm以下，進而較佳為40 μm以上60 μm以下。若貼附用接著層之厚度過薄，則有無法使顯示裝置用積層體與顯示面板等充分接著之虞。另一方面，若貼附用接著層之厚度過厚，則可能使可撓性受損。
作為貼附用接著層，例如亦可使用接著膜。又，例如可於支持體或基材層等之上塗布接著劑組成物而形成貼附用接著層。
貼附用接著層可為具有與顯示裝置之顯示面板貼合後能夠剝離之程度之密接性的層，亦可為不以剝離為目的而具有較高之密接性之層。
（3）層間接著層 於本發明中之顯示裝置用積層體中，亦可於各層之間配置層間接著層。作為層間接著層中所使用之接著劑，可設為與上述貼附用接著層中所使用之接著劑相同。
5.顯示裝置用積層體 （1）視感反射率 關於本發明中之顯示裝置用積層體，將垂直地入射至第1無機化合物層側表面之光之入射角設為0°，而以5°入射角使光自第1無機化合物層側入射時，該入射光之單向反射光之視感反射率為2.0%以下。較佳為1.7%以下，進而較佳為1.5%以下。若視感反射率過高，則無法抑制觀察者本身映入至顯示區域。
此處，視感反射率可依據JIS Z8722：2009而求出。關於視感反射率，使380 nm以上780 nm以下之波長範圍之光入射至顯示裝置用積層體之第1無機化合物層側之表面而獲得反射光譜，根據該反射光譜，於標準光C之2度視野中求出XYZ表色系統中之三刺激值X、Y、Z，該Y之值即為視感反射率。即，視感反射率意指CIE1931標準表色系統之Y值。於視感反射率之測定中，可設為下述條件。
（測定條件） ・視野：2° ・照明體（illuminant）：C ・光源：鹵鎢燈 ・測定波長：於380 nm以上780 nm以下之範圍且以0.5 nm為間隔 ・掃描速度：高速 ・狹縫寬度：5.0 nm ・S/R切換：標準 ・自動歸零：在基準線之掃描後以550 nm進行實施
再者，於測定顯示裝置用積層體的視感反射率時，為了防止背面反射，而將較測定點面積更大之寬度之黑色塑膠帶（例如產品名「Yamato vinyl tape NO200-19-21」，Yamato公司製造，19 mm寬度）貼附於顯示裝置用積層體之基材層側之面後進行測定。作為視感反射率之測定裝置，例如可使用分光光度計，具體而言，可使用島津製作所公司製造之分光光度計「UV-2600」。
（2）耐動態彎曲性 本發明中之顯示裝置用積層體具有耐彎曲性。具體而言，於對顯示裝置用積層體進行下述所說明之動態彎曲試驗之情形時，較佳為顯示裝置用積層體不發生破裂或斷裂。
動態彎曲試驗係藉由以下方式進行。首先，準備20 mm×100 mm大小之顯示裝置用積層體。其後，於動態彎曲試驗中，如圖5（a）所示，將顯示裝置用積層體1之短邊部1C、及與短邊部1C對向之短邊部1D利用平行地配置之固定部51分別加以固定。又，如圖5（a）所示，固定部51能夠在水平方向滑行移動。繼而，如圖5（b）所示，藉由使固定部51以相互接近之方式移動，而使顯示裝置用積層體1以摺疊方式變形，進而，如圖5（c）所示，使固定部51移動至顯示裝置用積層體1之由固定部51固定之對向之2個短邊部1C、1D之間隔d達到特定值之位置後，使固定部51向相反方向移動以解除顯示裝置用積層體1之變形。藉由如圖5（a）～（c）所示使固定部51移動，可將顯示裝置用積層體1摺疊180°。又，以顯示裝置用積層體1之彎曲部1E不自固定部51之下端伸出之方式進行動態彎曲試驗，且控制固定部51最接近時之間隔，藉此可使顯示裝置用積層體1之對向之2個短邊部1C、1D之間隔d達到特定值。例如於短邊部1C、1D之間隔d為10 mm之情形時，將彎曲部1E之外徑視為10 mm。
關於本發明中之顯示裝置用積層體，較佳為在將下述動態彎曲試驗反覆進行了20萬次時不發生破裂或斷裂，更佳為反覆進行了50萬次時不發生破裂或斷裂，上述動態彎曲試驗係以顯示裝置用積層體1之對向之短邊部1C、1D之間隔d達到10 mm之方式進行180°摺疊。其中，較佳為將下述動態彎曲試驗反覆進行了20萬次時不發生破裂或斷裂，上述動態彎曲試驗係以顯示裝置用積層體之對向之短邊部1C、1D之間隔d達到6 mm之方式進行180°摺疊。於動態彎曲試驗中，可摺疊顯示裝置用積層體，使第1無機化合物層成為外側，或者亦可摺疊顯示裝置用積層體，使第1無機化合物層成為內側，但不論於何種情形時，均較佳為顯示裝置用積層體不發生破裂或斷裂。
（3）全光線穿透率及霧度 本發明中之顯示裝置用積層體較佳為全光線穿透率例如為85%以上，更佳為88%以上，進而較佳為90%以上。藉由使全光線穿透率如此高，可製成透明性良好之顯示裝置用積層體。
此處，顯示裝置用積層體之全光線穿透率可依據JIS K7361-1：1999進行測定，例如可利用村上色彩技術研究所製造之HAZE METER HM150進行測定。
本發明中之顯示裝置用積層體之霧度例如較佳為5%以下，更佳為2%以下，進而較佳為1%以下。藉由使霧度如此低，可製成透明性良好之顯示裝置用積層體。
此處，顯示裝置用積層體之霧度可依據JIS K-7136：2000進行測定，例如可利用村上色彩技術研究所製造之HAZE METER HM150進行測定。
6.用途 本發明中之顯示裝置用積層體可於顯示裝置中用作配置於較顯示面板更靠近觀察者側之前面板。本發明中之顯示裝置用積層體具有優異之耐彎曲性，因此可較佳地用於可摺疊顯示器、可捲曲顯示器、可彎曲顯示器等可撓性顯示裝置中之前面板。尤其是本發明中之顯示裝置用積層體可提高耐彎曲性，因此可較佳地用於可摺疊顯示器中之前面板。
本發明中之顯示裝置用積層體之厚度例如較佳為10 μm以上500 μm以下，更佳為20 μm以上400 μm以下，進而較佳為30 μm以上300 μm以下。若顯示裝置用積層體之厚度為上述範圍，則可提高可撓性。
又，本發明中之顯示裝置用積層體例如可用於智慧型手機、平板終端、可穿戴終端、個人電腦、電視、數位標牌、公共資訊顯示器（PID）、車載顯示器等顯示裝置中之前面板。
B.顯示裝置 本發明中之顯示裝置具備顯示面板、及配置於上述顯示面板之觀察者側之上述顯示裝置用積層體。
圖4係表示本發明中之顯示裝置之一例的概略剖視圖。如圖4所示，顯示裝置20具備顯示面板21、及配置於顯示面板21之觀察者側之顯示裝置用積層體1。顯示裝置20中，顯示裝置用積層體1與顯示面板21例如可經由顯示裝置用積層體1之貼附用接著層7而貼合。
本發明中之可撓性顯示裝置具有優異之耐彎曲性，因此即便反覆彎曲亦可抑制顯示不良。
於將本發明中之顯示裝置用積層體配置於顯示裝置表面之情形時，以第1無機化合物層為外側且基材層為內側之方式配置。
作為將本發明中之顯示裝置用積層體配置於顯示裝置表面之方法，並無特別限定，例如可例舉經由接著層之方法等。
作為本發明中之顯示面板，例如可例舉有機EL顯示裝置、液晶顯示裝置等顯示裝置中所使用之顯示面板。
本發明中之顯示裝置可於顯示面板與顯示裝置用積層體之間具有觸控面板構件。
關於本發明中之顯示裝置，其中，較佳為可摺疊顯示器、可捲曲顯示器、可彎曲顯示器等可撓性顯示裝置。
又，本發明中之顯示裝置較佳為能夠摺疊。即，本發明中之顯示裝置較佳為可摺疊顯示器。 [實施例]
以下，示出實施例及比較例，進一步詳細地說明本發明。
（實施例1～實施例3、比較例1） 首先，以成為下述所示之組成之方式摻合各成分而獲得硬塗層用樹脂組成物。
（硬塗層用樹脂組成物之組成） ・胺酯丙烯酸酯（產品名「UA-33H」，新中村化學公司製造）：64質量份 ・新戊四醇丙烯酸酯（產品名「ATM-4PL」，新中村化學公司製造）：36質量份 ・聚合起始劑（1-羥基環己基苯基酮，產品名「Omnirad184」，IGM Resins B.V.公司製造）：4質量份 ・接著賦予劑（產品名「BYK-4509」，BYK-Chemie公司製造）：0.3質量份（固形物成分100%換算值） ・二氧化矽粒子（具有環氧基作為反應性基之二氧化矽粒子，平均一次粒徑12 nm，日產化學工業公司製造）：70質量份（固形物成分100%換算值） ・甲基異丁基酮：220質量份
（硬塗層之形成） 繼而，使用厚度50 μm之聚醯胺醯亞胺膜（產品名「CPI」，Kolon公司製造）作為基材層，於基材層上利用棒式塗布機塗布上述硬塗層用樹脂組成物，而形成塗膜。其後，對於該塗膜，藉由在80℃加熱1分鐘而使塗膜中之溶劑蒸發，使用紫外線照射裝置（Fusion UV Systems Japan公司製造，光源H BULB），於氧濃度為100 ppm以下以累計光量達到400 mJ/cm 2之方式照射紫外線而使塗膜硬化，形成厚度3.0 μm之硬塗層。
（無機化合物層之形成） 繼而，於表1中所示之條件下對所獲得之硬塗層之表面進行電漿處理。繼而，於硬塗層之實施了表面處理之面上，使用表1中所示之構成材料，藉由真空蒸鍍法而形成第2無機化合物層。於第2無機化合物層上，使用表1中所示之構成材料，藉由真空蒸鍍法而形成第1無機化合物層。 將第1無機化合物層及第2無機化合物層之構成材料、厚度、折射率、電漿處理條件示於表1。
（含氟層之形成） 繼而，藉由真空蒸鍍法來形成氟化合物（產品名「OPTOOL UD120」，大金工業公司製造），藉此形成厚度7 nm之含氟層。如此獲得了依序具有基材層、硬塗層、第2無機化合物層、第1無機化合物層、含氟層之積層體。
（實施例4） 除了未對硬塗層之表面進行電漿處理以外，藉由與實施例1相同之方法獲得積層體。
（實施例5～實施例8、比較例2） 藉由與實施例1相同之方法，於基材層上形成硬塗層。繼而，於硬塗層上，使用表1中所示之構成材料，藉由真空蒸鍍法而形成第2無機化合物層。繼而，於表1中所示之條件下對第2無機化合物層之表面進行電漿處理。繼而，於第2無機化合物層之實施了表面處理之面上，使用表1中所示之構成材料，藉由真空蒸鍍法而形成第1無機化合物層。繼而，藉由與實施例1相同之方法形成含氟層，從而獲得依序具有基材層、硬塗層、第2無機化合物層、第1無機化合物層、含氟層之積層體。
（實施例9） 藉由與實施例1相同之方法，於基材層上形成硬塗層。繼而，於表1中所示之條件下對所獲得之硬塗層之表面進行電漿處理。繼而，於硬塗層之實施了表面處理之面上，使用表1中所示之構成材料，藉由真空蒸鍍法而形成第2無機化合物層之下層膜（ZrO 2）及上層膜（Nb 2O 5）。 繼而，於第2無機化合物層上，使用表1中所示之構成材料來形成第1無機化合物層。繼而，藉由與實施例1相同之方法形成含氟層，從而獲得依序具有基材層、硬塗層、第2無機化合物層、第1無機化合物層、含氟層之積層體。
（比較例3～比較例5） 藉由與實施例1相同之方法，於基材層上形成硬塗層。繼而，於硬塗層上，使用表1中所示之構成材料，藉由真空蒸鍍法在比較例3及比較例4中形成第2無機化合物層之下層膜（ZrO 2）及上層膜（Nb 2O 5），在比較例5中形成第2無機化合物層之下層膜（Al 2O 3）、中間層膜（ZrO 2）及上層膜（Nb 2O 5）。繼而，於表1中所示之條件下對第2無機化合物層之表面進行電漿處理。繼而，於第2無機化合物層之實施了表面處理之面上，使用表1中所示之構成材料來形成第1無機化合物層。繼而，藉由與實施例1相同之方法形成含氟層，從而獲得依序具有基材層、硬塗層、第2無機化合物層、第1無機化合物層、含氟層之積層體。
[表1]
   第1無機化合物層 第2無機化合物層
材料 厚度 [nm] 折射率 對第2無機化合物層之表面處理 （電漿處理） 層數 材料 厚度 [nm] 折射率 對硬塗層之表面處理（電漿處理）
實施例1 SiO 2 80 1.47 - 1層 ZrO 2 90 2.00 輸出300 W，90秒
實施例2 SiO 2 80 1.47 - 1層 ZrO 2 90 2.00 輸出500 W，90秒
實施例3 SiO 2 80 1.47 - 1層 ZrO 2 90 2.00 輸出100 W，90秒
實施例4 SiO 2 80 1.47 - 1層 ZrO 2 90 2.00 -
實施例5 SiO 2 80 1.47 輸出300 W，90秒 1層 ZrO 2 90 2.00 -
實施例6 SiO 2 80 1.47 輸出100 W，90秒 1層 ZrO 2 90 2.00 -
實施例7 SiO 2 80 1.47 輸出500 W，90秒 1層 ZrO 2 90 2.00 -
實施例8 SiO 2 80 1.47 輸出500 W，90秒 1層 ZrO 2 130 2.00 -
實施例9 SiO 2 90 1.47 - 2層 ZrO 2/Nb 2O 5 90/35 2.00/2.30 輸出300 W，90秒
比較例1 SiO 2 80 1.47 - 1層 ZrO 2 90 2.00 輸出500 W，270秒
比較例2 SiO 2 80 1.47 輸出500 W，270秒 1層 ZrO 2 90 2.00 -
比較例3 SiO 2 80 1.47 輸出500 W，270秒 2層 ZrO 2/Nb 2O 5 90/35 2.00/2.30 -
比較例4 SiO 2 80 1.47 輸出500 W，270秒 2層 ZrO 2/Nb 2O 5 90/60 2.00/2.30 -
比較例5 SiO 2 80 1.47 輸出500 W，270秒 3層 Al 2O 3/ZrO 2/Nb 2O 5 15/40/75 1.64/2.00/2.30 -
[侵蝕率] 對於實施例1～9及比較例1～5中所獲得之顯示裝置用積層體，藉由上述「A.顯示裝置用積層體 1.侵蝕率」中所記載之方法，算出第1無機化合物層與第2無機化合物層之界面即第1界面處之侵蝕率E1、及第2無機化合物層與硬塗層之界面即第2界面處之侵蝕率E2。進而，算出其等的差即ΔE1（E2－E1）。又，算出第1無機化合物層之侵蝕率E3與第1界面處之侵蝕率E1的差即ΔE2（E3－E1）。將結果示於表2。
（動態彎曲性評價） 關於實施例1～9及比較例1～5中所獲得之顯示裝置用積層體之彎曲性，進行動態彎曲試驗，根據下述評價基準進行評價。將結果示於表2。以下，參照圖5來說明動態彎曲試驗之方法。對積層體進行下述動態彎曲試驗，並評價耐彎曲性。首先，準備20 mm×100 mm大小之積層體，對於耐久試驗機（產品名「DLDMLH-FS」，Yuasa System Equipment公司製造），如圖5（a）所示，將顯示裝置用積層體1之短邊部1C、及與短邊部1C對向之短邊部1D利用平行地配置之固定部51分別加以固定。繼而，如圖5（b）所示，藉由使固定部51以相互接近之方式移動，而使顯示裝置用積層體1以摺疊方式變形，進而，如圖5（c）所示，使固定部51移動至顯示裝置用積層體1之由固定部51固定之對向之2個短邊部1C、1D之間隔d達到特定值之位置後，使固定部51向相反方向移動以解除顯示裝置用積層體1之變形。如圖5（a）～（c）所示使固定部51移動，藉此將顯示裝置用積層體1摺疊180°，反覆進行此動作。此時，將顯示裝置用積層體1之對向之2個短邊部1C、1D之間隔d設為6 mm（ϕ6 mm動態彎曲試驗）、或10 mm（ϕ10 mm動態彎曲試驗）。又，積層體係彎曲成氟化合物層成為外側。動態彎曲試驗之結果係根據下述基準進行評價。
・評價基準 A’：合格（於使第1無機化合物層側為外側之ϕ6 mm之動態彎曲試驗中，即便反覆進行了20萬次彎曲，亦未斷裂且未發生龜裂） A：合格（於使第1無機化合物層側為外側之ϕ10 mm之動態彎曲試驗中，即便反覆進行了20萬次彎曲，亦未斷裂且未發生龜裂） B：不合格（於使第1無機化合物層側為外側之ϕ10 mm之動態彎曲試驗中，在反覆進行了20萬次彎曲之期間內，發生斷裂或發生龜裂）
（彎曲試驗後之彎曲部之視認性） 將實施上述動態彎曲試驗後之顯示裝置用積層體貼合於已顯示畫面之平板顯示器，在螢光燈下確認彎曲部之視認性，根據以下評價基準進行評價。 ・評價基準 A：合格（10人中有10人可無障礙地視認） B：合格（10人中有7～9人可無障礙地視認） C：不合格（10人中有4～6人可無障礙地視認） D：不合格（10人中，可無障礙地視認之人數未達4人）
（視感反射率） 藉由「5.顯示裝置用積層體 （1）視感反射率」中所記載之方法來測定實施例1～9及比較例1～5中所獲得之顯示裝置用積層體之視感反射率。將結果示於表2。
[表2]
   侵蝕率[μm/g] 動態彎曲性 視感反射率[%] 5°反射 彎曲試驗後之彎曲部之視認性
E1 E2 ∆E1（E2－E1） E3 ∆E2（E3－E1） 功能層向外彎折
實施例1 7.5×10 -3 2.1×10 -3 -5.4×10 - 3 2.0×10 -2 1.3×10 -2 A’ 1.1 A
實施例2 8.7×10 - 3 1.3×10 - 3 -7.4×10 - 3 2.1×10 -2 1.2×10 -2 A’ 1.1 A
實施例3 7.3×10 -3 2.5×10 - 3 -4.8×10 -3 2.1×10 -2 1.4×10 -2 A’ 1.1 A
實施例4 8.6×10 -3 6.3×10 -3 -2.3×10 - 3 2.2×10 -2 1.3×10 -2 A’ 1.1 A
實施例5 3.1×10 -3 3.4×10 -2 3.1×10 -2 2.1×10 -2 1.8×10 -2 A 1.1 A
實施例6 4.6×10 -3 1.9×10 -2 1.4×10 -2 2.1×10 -2 1.6×10 -2 A 1.1 A
實施例7 1.6×10 -3 7.8×10 -2 7.6×10 -2 2.0×10 -2 1.8×10 -2 A 1.1 A
實施例8 1.6×10 -3 7.8×10 -2 7.6×10 -2 2.1×10 -2 1.9×10 -2 A 1.8 B
實施例9 8.9×10 -3 2.6×10 - 3 -6.3×10 - 3 2.1×10 -2 1.2×10 -2 A’ 0.3 A
比較例1 1.9×10 -2 8.7×10 -4 -1.8×10 -2 2.1×10 -2 2.0×10 - 3 B 1.1 C
比較例2 1.7×10 -3 1.5×10 - 1 1.5×10 - 1 2.2×10 -2 2.0×10 -2 B 1.1 C
比較例3 1.5×10 -3 1.6×10 -1 1.6×10 - 1 2.2×10 -2 2.1×10 -2 B 0.3 C
比較例4 1.5×10 - 3 1.5×10 -1 1.5×10 -1 2.4×10 -2 2.3×10 -2 B 2.7 D
比較例5 1.4×10 - 3 1.2×10 - 1 1.2×10 - 1 2.4×10 -2 2.3×10 -2 B 0.8 C
自表2確認到，實施例1～9之顯示裝置用積層體具有優異之耐彎曲性。另一方面，於ΔE1未達-1.0×10 -2μm/g之比較例1、及ΔE1大於1.0×10 -1μm/g之比較例2～5中，在動態彎曲性試驗中彎曲部發生剝落，確認到彎曲試驗後之彎曲部之視認性變差。
即，本發明可提供以下發明。
[1] 一種顯示裝置用積層體，其依序具有第1無機化合物層、第2無機化合物層、硬塗層、及基材層，且 上述第1無機化合物層與上述第2無機化合物層之界面即第1界面處之侵蝕率E1和上述第2無機化合物層與上述硬塗層之界面即第2界面處之侵蝕率E2的差即ΔE1（E2－E1）為-1.0×10 -2μm/g以上1.0×10 -1μm/g以下之範圍。
[2] 如[1]所記載之顯示裝置用積層體，其中，上述第1無機化合物層之侵蝕率E3與上述第1界面處之侵蝕率E1的差即ΔE2（E3－E1）為0.0 μm/g以上且未達2.0×10 -2μm/g。
[3] 如[1]或[2]所記載之顯示裝置用積層體，其中，上述第1無機化合物層之折射率小於上述第2無機化合物層之折射率。
[4] 如[1]至[3]中任一項所記載之顯示裝置用積層體，其於上述第1無機化合物層之與上述第2無機化合物層為相反側之面具有含氟層。
[5] 如[1]至[4]中任一項所記載之顯示裝置用積層體，其中，上述第1無機化合物層中所含之第1無機化合物為矽氧化物。
[6] 如[1]至[5]中任一項所記載之顯示裝置用積層體，其中，上述第1無機化合物層之厚度為30 nm以上200 nm以下。
[7] 如[1]至[6]中任一項所記載之顯示裝置用積層體，其中，上述第1無機化合物層及上述第2無機化合物層之合計厚度為500 nm以下。
[8] 如[1]至[7]中任一項所記載之顯示裝置用積層體，其中，上述第2無機化合物層中所含之第2無機化合物為鋁氧化物、鋯氧化物及鈮氧化物中之任一者。
[9] 如[1]至[8]中任一項所記載之顯示裝置用積層體，其中，上述第2無機化合物層之厚度為20 nm以上300 nm以下。
[10] 如[1]至[9]中任一項所記載之顯示裝置用積層體，其中，使光以5°入射角入射至上述顯示裝置用積層體之上述第1無機化合物層側之面時之單向反射光之視感反射率為2.0%以下。
[11] 如[1]至[10]中任一項所記載之顯示裝置用積層體，其於上述基材層之與上述硬塗層側之面為相反之面側具有貼附用接著層。
[12] 一種顯示裝置，其具備顯示面板、及 配置於上述顯示面板之觀察者側之[1]至[11]中任一項所記載之顯示裝置用積層體。
1:顯示裝置用積層體 2:第1無機化合物層 3:第2無機化合物層 4:硬塗層 5:基材層 6:含氟層 7:貼附用接著層 20:可撓性顯示裝置 21:顯示面板
[圖1]係表示本發明之顯示裝置用積層體之一例的概略剖視圖。 [圖2]係表示本發明之顯示裝置用積層體之另一例的概略剖視圖。 [圖3]係表示本發明之顯示裝置用積層體之另一例的概略剖視圖。 [圖4]係表示本發明之顯示裝置之一例的概略剖視圖。 [圖5]係用以對動態彎曲試驗之方法進行說明之圖。
1:顯示裝置用積層體
2:第1無機化合物層
3:第2無機化合物層
4:硬塗層
5:基材層
A:第1界面
B:第2界面

Claims (12)

  1. 一種顯示裝置用積層體，其依序具有第1無機化合物層、第2無機化合物層、硬塗層、及基材層，且 上述第1無機化合物層與上述第2無機化合物層之界面即第1界面處之侵蝕率E1和上述第2無機化合物層與上述硬塗層之界面即第2界面處之侵蝕率E2的差即ΔE1（E2－E1）為-1.0×10 -2μm/g以上1.0×10 -1μm/g以下之範圍。
  2. 如請求項1之顯示裝置用積層體，其中，上述第1無機化合物層之侵蝕率E3與上述第1界面處之侵蝕率E1的差即ΔE2（E3－E1）為0.0 μm/g以上且未達2.0×10 -2μm/g。
  3. 如請求項1之顯示裝置用積層體，其中，上述第1無機化合物層之折射率小於上述第2無機化合物層之折射率。
  4. 如請求項1之顯示裝置用積層體，其於上述第1無機化合物層之與上述第2無機化合物層為相反側之面具有含氟層。
  5. 如請求項1之顯示裝置用積層體，其中，上述第1無機化合物層中所含之第1無機化合物為矽氧化物。
  6. 如請求項1之顯示裝置用積層體，其中，上述第1無機化合物層之厚度為30 nm以上200 nm以下。
  7. 如請求項1之顯示裝置用積層體，其中，上述第1無機化合物層及上述第2無機化合物層之合計厚度為500 nm以下。
  8. 如請求項1之顯示裝置用積層體，其中，上述第2無機化合物層中所含之第2無機化合物為鋁氧化物、鋯氧化物及鈮氧化物中之任一者。
  9. 如請求項1之顯示裝置用積層體，其中，上述第2無機化合物層之厚度為20 nm以上300 nm以下。
  10. 如請求項1之顯示裝置用積層體，其中，使光以5°入射角入射至上述顯示裝置用積層體之上述第1無機化合物層側之面時之單向反射光之視感反射率為2.0%以下。
  11. 如請求項1之顯示裝置用積層體，其於上述基材層之與上述硬塗層側之面為相反之面側具有貼附用接著層。
  12. 一種顯示裝置，其具備顯示面板、及 配置於上述顯示面板之觀察者側之請求項1至11中任一項之顯示裝置用積層體。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002055202A (ja) * 2000-08-09 2002-02-20 Seiko Epson Corp プラスチックレンズ
JP2012173411A (ja) * 2011-02-18 2012-09-10 Seiko Epson Corp 光学物品
EP2735552A1 (en) * 2012-11-23 2014-05-28 Wintek Corporation Cover glass structure and fabrication method thereof and touch-sensitive display device
JP6683415B2 (ja) 2014-10-01 2020-04-22 株式会社日本触媒 光学フィルムおよびその利用
JP6774383B2 (ja) * 2016-06-17 2020-10-21 日東電工株式会社 反射防止フィルムおよびその製造方法、ならびに反射防止層付き偏光板

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