TW202331485A - 顯示裝置用積層體及顯示裝置 - Google Patents

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本田和也
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Abstract

本發明提供一種顯示裝置用積層體，其依序具有含氟層、第1無機化合物層、第2無機化合物層、及基材層；且上述第1無機化合物層具有作為低折射率材料之第1無機化合物，相對膜密度D1為0.70以上1.20以下；上述第2無機化合物層具有作為高折射率材料之第2無機化合物，相對膜密度D2為0.50以上且未達1.00；並且，使光以5°入射角入射至上述顯示裝置用積層體之上述含氟層側之面時之單向反射光的視感反射率為2.0%以下。

Description

顯示裝置用積層體及顯示裝置
本發明係關於一種顯示裝置用積層體及顯示裝置。
一般而言，對於以顯示為目的之顯示器等顯示裝置，要求表面之低反射率化，以防止於顯示畫面拍進太陽光及螢光燈等之外界光，或者改善文字或圖像之視認性。又，對顯示裝置要求耐磨性，以使其不易受損。
專利文獻1中提出了一種抗反射積層體，其至少具有樹脂膜、硬塗層、及無機氧化物層，且積層體之鉛筆硬度為4H以上，剛性為8.0 N・mm以上，羅普硬度為150～300 mN/mm 2，並且記載了藉由將上述抗反射積層體貼合於顯示器表面，可有效地抑制顯示器表面之映入並同時賦予充分之耐擦傷性。
最近，可摺疊顯示器、可捲曲顯示器、可彎曲顯示器等可撓性顯示裝置備受關注，故業界正積極地開發配置於可撓性顯示裝置表面之積層體。 [先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]WO2018-179757號公報
[發明所欲解決之課題]
如上所述，對於配置於顯示裝置表面之積層體，要求較高之耐磨性。然而，雖然若使積層體之硬度變高則不易受損，但對於彎折而言變脆，於積層體之製造時或搬送時，有發生破裂（龜裂）之情況。尤其對於可撓性顯示裝置，要求即便使其反覆彎曲亦不發生顯示不良，對於配置於可撓性顯示裝置表面之積層體，要求其具有在反覆彎曲時不發生龜裂或剝落之耐彎曲性。另一方面，若使顯示裝置用之積層體低硬度化，則有耐磨性變差之情況。 如此，顯示裝置用之積層體存在無法於維持低反射性之狀態下兼顧耐彎曲性與耐磨性之問題。
本發明係鑒於上述問題而完成者，其目的在於：提供一種具有低反射性且具有優異之耐彎曲性與耐磨性之顯示裝置用積層體。 [解決課題之技術手段]
本發明之一實施方式提供一種顯示裝置用積層體，其依序具有：含有氟原子之含氟層、第1無機化合物層、第2無機化合物層、及基材層；且上述第1無機化合物層具有作為低折射率材料之第1無機化合物，相對膜密度D1為0.70以上1.20以下；上述第2無機化合物層具有作為高折射率材料之第2無機化合物，相對膜密度D2為0.50以上且未達1.00；並且，使光以5°入射角入射至上述顯示裝置用積層體之上述含氟層側之面時之單向反射光的視感反射率為2.0%以下。
本發明之一實施方式提供一種顯示裝置用積層體，其依序具有：含有氟原子之含氟層、第1無機化合物層、第2無機化合物層、及基材層；且上述第1無機化合物層具有作為低折射率材料之第1無機化合物，氟原子之含有比率為6.5原子%以下；上述第2無機化合物層具有作為高折射率材料之第2無機化合物，相對膜密度D2為0.50以上且未達1.00；並且，使光以5°入射角入射至上述顯示裝置用積層體之上述含氟層側之面時之單向反射光的視感反射率為2.0%以下。
本發明之一實施方式提供一種顯示裝置用積層體，其依序具有：含有氟原子之含氟層、第1無機化合物層、及基材層；且上述第1無機化合物層具有作為低折射率材料之第1無機化合物，相對膜密度D1為0.70以上1.20以下；於上述第1無機化合物層與上述基材層之間具有「使具有高折射率之無機化合物粒子分散於黏合劑樹脂中而成之高折射率分散層」，上述高折射率分散層之相對膜密度D4為0.10以上0.70以下；並且，使光以5°入射角入射至上述顯示裝置用積層體之上述含氟層側之面時之單向反射光的視感反射率為2.0%以下。
本發明之另一實施方式提供一種顯示裝置，其具備顯示面板、及配置於上述顯示面板之觀察者側之上述顯示裝置用積層體。 [發明之效果]
本發明可提供一種具有低反射性且具有優異之耐彎曲性與耐磨性之顯示裝置用積層體。
以下，參照圖式等對本發明之實施方式進行說明。惟本發明能夠以較多之不同之態樣進行實施，並非限定於下述所例示之實施方式之記載內容進行解釋。又，為了使說明變得更明確，圖式存在與實際形態相比而示意性地表示各部之寬度、厚度、形狀等之情況，但其僅為一例，並非限定本發明之解釋。又，於本說明書與各圖中，關於與上文中參照已有之圖所說明之要素相同之要素，有標註同一符號，而適當地省略詳細說明之情形。
本說明書中，於表現在某一構件之上配置其他構件之態樣時，簡單地記為「～上」或「～下」之情形時，只要無特別說明，便視為包括以下兩種情況：以與某一構件相接之方式，將其他構件配置於正上方或正下方；及進而經由另一構件將其他構件配置於某一構件之上方或下方。又，本說明書中，於表現在某一構件之面配置其他構件之態樣時，簡單地記為「～面側」或「～面」之情形時，只要無特別說明，便視為包括以下兩種情況：以與某一構件相接之方式，將其他構件配置於正上方或正下方；及進而經由另一構件將其他構件配置於某一構件之上方或下方。
本發明人等得到以下見解：配置於顯示裝置表面之積層體存在表現低反射性之無機化合物層之耐彎曲性較低之情況。因此，針對無機化合物層的「對應力變化之耐性」進行了反覆研究，結果得出以下見解：藉由使用無機化合物層之相對膜密度作為參數，可針對每種材料判斷出其具有何種程度之對應力變化之耐性。具體而言，得到以下見解：於無機化合物層之膜密度之實測值接近文獻值（即，相對膜密度約為1）之情形時，便幾乎無由材料之不同引起之耐彎曲性之差。進而得到以下見解：即便是膜密度之文獻值較高之材料，於膜密度相對於文獻值較低之情形時（即，相對膜密度較低），亦使無機化合物層之耐彎曲性提高。
於如此相對膜密度較低之情形時，無機化合物層之耐彎曲性提高，推測其原因在於：於相對膜密度較低之情形時，各元素之周圍存在某種程度之空隙，在被彎曲時各元素之移動之自由度提昇。
因此，本發明人等對於配置於顯示裝置表面之積層體，為了在維持低反射性之同時提高耐彎曲性與耐磨性而反覆進行了研究，結果發現：若為以下之第1實施方式、第2實施方式及第3實施方式之顯示裝置用積層體之構成，便可提高耐彎曲性與耐磨性。
A.顯示裝置用積層體 I.第1實施方式 本發明人等對配置於顯示裝置表面之積層體，為了在維持低反射性之同時提高耐彎曲性與耐磨性而反覆進行了研究，結果發現：分別將具有特定之相對膜密度之無機化合物層用於實現積層體之低反射率化之低折射率層與高折射率層，進而將含有氟原子之含氟層配置於顯示裝置用積層體之一面，藉此可提高耐彎曲性與耐磨性。
具體而言，發現了藉由將上述含氟層配置於顯示裝置用積層體之一面，且將作為上述含氟層側之無機化合物層之第1無機化合物層（低折射率層）的相對膜密度設為特定範圍，可提高耐磨性。進而，發現了藉由將第2無機化合物層（高折射率層）之相對膜密度設為特定之較低範圍，而成為對應力變化之耐性較強、耐彎曲性良好之顯示裝置用積層體，從而完成了本發明。以下，對本實施方式之顯示裝置用積層體進行詳細說明。
圖1係表示本實施方式中之顯示裝置用積層體之一例之概略剖視圖。如圖1所示，本實施方式之顯示裝置用積層體1a依序具有含氟層2、第1無機化合物層3、第2無機化合物層4、及基材層5。本實施方式中，第1無機化合物層包含作為低折射率材料之第1無機化合物，且相對膜密度D1為0.70以上1.20以下。進而，第2無機化合物層包含折射率較第1無機化合物高之第2無機化合物，且相對膜密度D2為0.50以上且未達1.00。進而，本實施方式中之顯示裝置用積層體1a之使光以5°入射角入射至含氟層2側之面1A時之單向反射光的視感反射率為2.0%以下。
本實施方式中之顯示裝置用積層體於一表面具有含氟層，進而第1無機化合物層之相對膜密度D1為特定範圍，藉此具有優異之耐磨性。進而，第2無機化合物層之相對膜密度D2為特定之較低範圍，藉此具有優異之耐彎曲性。又，本實施方式中之顯示裝置用積層體包含具有作為低折射率層之第1無機化合物層與作為高折射率層之第2無機化合物層，藉此具有特定的視感反射率。 因此，成為具有低反射性且具有優異之耐彎曲性與耐磨性之顯示裝置用積層體。以下，對本實施方式之顯示裝置用積層體中之各構成進行詳細說明。
1.第1無機化合物層 （1）第1無機化合物 第1無機化合物層由作為低折射率材料之第1無機化合物所構成。於本說明書中，無機化合物層係指以無機化合物作為主體之層，與使無機化合物粒子分散於黏合劑樹脂中而成之層等有所區別。作為構成第1無機化合物層之第1無機化合物，只要為折射率較構成第2無機化合物層之第2無機化合物低之無機化合物，便無特別限定，較佳為矽氧化物、鎵氧化物等無機氧化物、氟化鎂、氟化鋰、氟化鈣、氟化鋇等。於本實施方式中，其中，就折射率或通用性之觀點而言，較佳為矽氧化物。
再者，無機氧化物之平均組成例如由MO x（其中，式中，M表示金屬元素，x之值根據金屬元素之不同而分別範圍不同）表示。例如矽氧化物之平均組成由SiO x表示，式中，x可設為0＜x≦2，較佳為1≦x≦2，更佳為SiO 2。於本實施方式中，無機氧化物之平均組成如上所述，並不限於化學計量上最佳者。
於本實施方式中，第1無機化合物層較佳為蒸鍍膜。尤佳為矽氧化物（二氧化矽，silica）蒸鍍膜。
又，第1無機化合物層中所含之無機化合物較佳為一種，但亦可包含複數種無機化合物。 再者，於如此包含複數種無機化合物之情形時，作為下述膜密度（文獻值），可採用根據複數種無機化合物之含有比率所計算出之膜密度。
（2）折射率 第1無機化合物層之折射率較佳為1.60以下，更佳為1.50以下。另一方面，例如為1.30以上，亦可為1.40以上。
再者，於本說明書中，各層之折射率意指對波長550 nm之光之折射率。關於折射率之測定方法，可例舉使用橢圓偏光計進行測定之方法。作為橢圓偏光計，例如可例舉JOBIN YVON公司製造之「UVSEL」或Techno-Synergy公司製造之「DF1030R」等。
（3）相對膜密度D1 於本實施方式中，作為低折射率層之第1無機化合物層之相對膜密度D1為0.70以上1.20以下。第1無機化合物層之相對膜密度D1較佳為0.75以上，進而較佳為0.80以上。另一方面，較佳為1.17以下，進而較佳為1.15以下。若相對膜密度D1過高，則耐彎曲性變差，第1無機化合物層可能發生龜裂。若相對膜密度D1過低，則耐磨性可能變差。
於本說明書中，無機化合物層之相對膜密度係藉由以下之式而算出。 相對膜密度＝膜密度（實測值）/膜密度（文獻值）
膜密度之實測值可藉由以下方式求出，即，於下述測定裝置及下述測定條件下藉由拉塞福背向散射能譜術（RBS：Rutherford Backscattering Spectrometry）來測定面密度，利用穿透式電子顯微鏡（TEM）來測定膜厚，根據上述面密度及上述膜厚來求出膜密度之實測值。拉塞福背向散射能譜術係以下方法：將氦（He）等輕元素離子以較高之能量照射至試樣時，檢測出朝背向散射之輕元素離子之能量值，藉此測定試樣中所含之元素之種類及存在量。
根據藉由RBS分析所獲得之面密度（atoms/cm 2）與利用穿透式電子顯微鏡（TEM）等所測得之膜厚（cm）算出原子數密度（atoms/cm 3），基於RBS中所決定之組成資訊進行換算，藉此算出無機化合物層之密度（g/cm 3）。
・測定裝置：高解析RBS分析裝置（Pelletron 3SDH（National Electrostatics Corporation製造）） ・測定條件 入射能量：2300 keV 入射離子：He ++入射角：與測定面之法線相差75° 檢測離子：散射He 散射角：160°
無機化合物層之膜密度（文獻值）係理論膜密度，作為具有代表性之無機化合物層之膜密度之值，如下所述。 ・SiO 2（2.2 g/cm 3） ・ZrO 2（5.9 g/cm 3） ・Nb 2O 5（4.6 g/cm 3） ・Al 2O 3（4.0 g/cm 3） ・TiO 2（4.3 g/cm 3） ・ZnO（5.5 g/cm 3） ・SnO 2（6.9 g/cm 3） 其他無機化合物層之膜密度（文獻值）可採用Filler data book for practical use（作者：相馬勳）等文獻或ChemicalBook等資源平台（resource platform）中所記載之值。
再者，即便於實際之無機化合物層之組成例如為SiO x（0＜x＜2）之情形時，文獻值亦採用x為2之化學計量組成即SiO 2之膜密度（文獻值）。
作為將第1無機化合物層之相對膜密度調整為上述範圍之方法，例如可例舉對第1無機化合物層之成膜速度進行調整之方法。藉由提昇成膜速度，可降低相對膜密度。又，亦可例舉變更第1無機化合物層之組成之方法。
第1無機化合物層亦可含有源自含氟層之氟原子。另一方面，較佳為第1無機化合物層之氟原子之含有比率較低。其原因在於：藉由使氟原子之含有比率變得較低，由於第2實施方式中詳述之原因，可抑制第1無機化合物層之軟化，而使耐磨性提高。第1無機化合物層中之氟原子之含有比率可設為與下述第2實施方式中所記載之值相同之值。
（4）厚度 作為第1無機化合物層之厚度，並無特別限定，較佳為30 nm以上200 nm以下，更佳為50 nm以上150 nm以下。 此處，於本說明書中，使用穿透式電子顯微鏡（TEM）、掃描式電子顯微鏡（SEM）或掃描穿透式電子顯微鏡（STEM）對顯示裝置用積層體進行觀察，各層之厚度可設為自所觀察之顯示裝置用積層體之厚度方向之剖面中所測得之任意10個部位之厚度之平均值。
（5）形成方法 第1無機化合物層例如可自低折射率粒子中選擇具有所需折射率之粒子，藉由真空蒸鍍法、濺鍍法、及離子鍍覆法等物理氣相沉積法（Physical Vapor Deposition法，PVD法）等來形成。其等中，就生產性（蒸鍍速度）之觀點而言，較佳為真空蒸鍍法。
第1無機化合物層較佳為直接與含氟層相接。又，第1無機化合物層較佳為直接與第2無機化合物層相接。
2.第2無機化合物層 （1）第2無機化合物 第2無機化合物層由較第1無機化合物而言為高折射率材料之第2無機化合物所構成。作為構成第2無機化合物層之第2無機化合物，可例舉：鋁氧化物、鋯氧化物、鉿氧化物、鉭氧化物、鈰氧化物、鈦氧化物、鋅氧化物、錫氧化物、鎂氧化物、釔氧化物、鈮氧化物等無機氧化物、氟化鑭、氟化鈰等。
鋁氧化物之平均組成由AlO x表示，式中，x可設為0＜x≦1.5，較佳為Al 2O 3。鋯氧化物之平均組成由ZrO x表示，式中，x可設為0＜x≦2，較佳為ZrO 2。鈮氧化物之平均組成由NbO x表示，式中，x可設為0＜x≦2.5，較佳為Nb 2O 5。
第2無機化合物層較佳為蒸鍍膜。尤佳為鋁氧化物（氧化鋁）蒸鍍膜、鋯氧化物蒸鍍膜、鈦氧化物蒸鍍膜、鋅氧化物蒸鍍膜、錫氧化物蒸鍍膜、及鈮氧化物蒸鍍膜中之任一者。
又，第2無機化合物層中所含之無機化合物較佳為一種，但亦可包含複數種無機化合物。
（2）折射率 第2無機化合物層之折射率較佳為1.60以上，更佳為1.80以上。另一方面，例如為3.00以下，亦可為2.50以下。
（3）相對膜密度D2 作為高折射率層之第2無機化合物層之相對膜密度D2為0.50以上且未達1.00。本實施方式中之相對膜密度D2較佳為0.60以上，進而較佳為0.70以上。另一方面，較佳為0.95以下，進而較佳為0.90以下。 若相對膜密度D2過高，則耐彎曲性變差，第2無機化合物層可能發生龜裂。若相對膜密度D2過低，則於彎曲後第2無機化合物層可能發生剝落，視認性可能變差。其原因在於：第2無機化合物層之密接性不夠充分，無法經受得住彎曲時之應力。
作為將第2無機化合物層之相對膜密度調整為上述範圍之方法，例如可例舉對第2無機化合物層之成膜速度進行調整之方法。藉由提昇成膜速度，可降低相對膜密度。又，亦可例舉變更第2無機化合物層之組成之方法。於該情形時，藉由使無機化合物層中之無機化合物之元素比（無機化合物層中之無機氧化物之元素比）與化學計量上最佳之比率產生偏差，可降低相對膜密度。
（4）厚度 作為第2無機化合物層之厚度，並無特別限定，較佳為10 nm以上200 nm以下，更佳為20 nm以上170 nm以下。
（5）形成方法 第2無機化合物層例如可自高折射率粒子中選擇具有所需折射率之粒子，藉由真空蒸鍍法、濺鍍法、及離子鍍覆法等物理氣相沉積法（Physical Vapor Deposition法，PVD法）等來形成。其等中，就生產性（蒸鍍速度）之觀點而言，較佳為真空蒸鍍法。
第2無機化合物層較佳為與第1無機化合物層直接相接。又，第2無機化合物層較佳為與下述基材層、硬塗層、中介層、及第3無機化合物層中之任一者直接相接。
3.含氟層 本實施方式中之含氟層配置於第1無機化合物層之與第2無機化合物層側之面為相反之面側，其中，顯示裝置用積層體較佳為含氟層配置於最表面。含氟層只要為含有氟原子者即可，藉由含有氟原子，可對顯示裝置用積層體賦予耐磨性。具體而言，可將顯示裝置用積層體之含氟層側之表面之動摩擦係數設為特定範圍。本實施方式中之顯示裝置用積層體之含氟層側之表面之動摩擦係數較佳為0.01以上0.30以下，進而較佳為0.03以上0.20以下。若動摩擦係數為上述值以下，則使表面之滑動性提高，使耐磨性變得更優異。
動摩擦係數可藉由依據JIS K7125：1999（摩擦係數試驗方法）之方法進行測定。動摩擦係數之測定方法例如可使用負荷變動型摩擦磨損試驗系統（新東科學（股）公司製造 HEIDON Type HHS2000），並使用2 cm×2 cm之開司米毛氈（cashmere felt），於負荷200 g、速度5 mm/秒之條件下進行測定。動摩擦係數之值係於顯示裝置用積層體之含氟層側之表面，在不同之位置測定5點，設為該等測定值之平均值。
再者，於本實施方式中，含氟層之厚度相對較薄，因此推測不會對薄膜干涉產生影響。含氟層之厚度例如為1 nm以上30 nm以下，更佳為2 nm以上20 nm以下，進而較佳為3 nm以上10 nm以下。
作為含氟層，只要為含有氟原子者，便無特別限定。含氟層例如可含有氟化合物，亦可含有氟化合物及樹脂，亦可含有氟樹脂。作為氟化合物，例如可使用作為氟系防污劑、氟系調平劑、氟系界面活性劑等而為人所知者。作為氟化合物，例如可例舉有機氟化合物，具體而言，可例舉全氟化合物。作為全氟化合物，例如可例舉具有全氟聚醚基、全氟伸烷基、全氟烷基等之全氟化合物。全氟伸烷基及全氟烷基可為直鏈亦可為支鏈。氟化合物可單獨使用一種，亦可混合兩種以上而使用。
又，氟化合物較佳為與樹脂成分鍵結。藉由使氟化合物與樹脂成分鍵結，可抑制氟化合物之滲出，可長期保持耐磨性及防污性。
作為氟化合物，較佳為與樹脂成分鍵結，因此可較佳地使用具有反應性官能基之氟化合物。即，含氟層較佳為含有下述樹脂組成物之硬化物，該樹脂組成物包含具有反應性官能基之氟化合物及下述聚合性化合物。作為反應性官能基，例如可例舉：（甲基）丙烯醯基、乙烯基、烯丙基等乙烯性不飽和鍵結基、或環氧基、氧環丁基等。
氟化合物所具有之反應性官能基之數量只要為1個以上即可，較佳為2個以上。藉由使用具有2個以上之反應性官能基之氟化合物，可提高耐磨性。
又，氟化合物可包含矽。即，含氟層可含有氟及矽。作為包含矽之氟化合物，例如可例舉分子內藉由矽氧烷鍵之氟化合物。藉由使用具有矽氧烷鍵之氟化合物，可提高滑動性，可提高耐磨性。
氟化合物例如較佳為具有反應性官能基之氟化合物、或包含反應性官能基及矽之氟化合物。
作為具有反應性官能基之氟化合物，例如可例舉：具有乙烯性不飽和鍵之含氟單體、主鏈具有氟伸烷基之含氟聚合物或低聚物、主鏈及側鏈具有氟伸烷基或氟烷基之含氟聚合物或低聚物等。關於具有反應性官能基之氟化合物，例如可參照日本特開2017-19247號公報。
作為包含反應性官能基及矽之氟化合物，例如可例舉使分子中具有反應性官能基之有機聚矽氧與上述具有反應性官能基之氟化合物進行反應而成之含聚矽氧之偏二氟乙烯共聚物等。
又，作為包含反應性官能基及矽之氟化合物，例如可較佳地使用具有反應官能基及全氟聚醚基之氟化合物，其中，亦可較佳地使用包含具有反應性官能基之矽烷單元、及具有全氟聚醚基之矽烷單元之氟化合物。關於此種氟化合物，例如可參照國際公開第2012/157682號。
於本實施方式中，上述含氟層亦可為含有氟化合物及樹脂之層。於含氟層含有氟化合物及樹脂之情形時，樹脂例如可例舉聚合性化合物之硬化物。聚合性化合物之硬化物可藉由以下方式獲得：視需要使用聚合起始劑，藉由公知方法使聚合性化合物進行聚合反應。聚合性化合物係分子內具有至少1個聚合性官能基者。作為聚合性化合物，例如可使用自由基聚合性化合物及陽離子聚合性化合物中之至少一種。
又，於含氟層含有氟樹脂之情形時，作為氟樹脂，例如可例舉含有氟之聚合性化合物之硬化物。含有氟之聚合性化合物之硬化物可藉由以下方式獲得：視需要使用聚合起始劑，藉由公知方法使含有氟之聚合性化合物進行聚合反應。
含有氟之聚合性化合物係分子內具有至少1個聚合性官能基者。作為含有氟之聚合性化合物，例如可使用自由基聚合性化合物及陽離子聚合性化合物中之至少一種。又，作為含有氟之聚合性化合物，例如可使用含氟單體、低聚物、聚合物中之任一種。
含氟層可視需要例如含有無機粒子、有機粒子、紫外線吸收劑、抗氧化劑、光穩定劑、防眩劑、調平劑、界面活性劑、易滑劑、各種敏化劑、阻燃劑、接著賦予劑、聚合抑制劑、表面改質劑等添加劑。
於本實施方式中，含氟層可為單層，亦可為多層。 又，作為含氟層之形成方法，可根據材料適當選擇，例如可例舉真空蒸鍍法、濺鍍法、於上述第1無機化合物層上塗布含氟層用組成物並使其硬化之方法等。
含氟層較佳為與第1無機化合物層直接相接。
4.基材層 本實施方式中之基材層係支持第2無機化合物層、第1無機化合物層及含氟層之構件。作為基材層，只要為具有透明性者，便無特別限定，例如可例舉樹脂基材、玻璃基材等。
（1）樹脂基材 作為構成樹脂基材之樹脂，只要能夠獲得具有透明性之樹脂基材，便無特別限定，例如可例舉：聚醯亞胺系樹脂、聚醯胺系樹脂、聚酯系樹脂等。作為聚醯亞胺系樹脂，例如可例舉：聚醯亞胺、聚醯胺醯亞胺、聚醚醯亞胺、聚酯醯亞胺等。作為聚酯系樹脂，例如可例舉：聚對苯二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯、聚萘二甲酸乙二酯等。
（2）玻璃基材 作為構成玻璃基材之玻璃，只要具有透明性，便無特別限定，例如可例舉矽酸鹽玻璃、二氧化矽玻璃等。其中，較佳為硼矽酸玻璃、鋁矽酸鹽玻璃、鋁硼矽酸玻璃，更佳為無鹼玻璃。作為玻璃基材之市售品，例如可例舉日本電氣硝子公司之超薄板玻璃G-Leaf、或松浪硝子工業公司之超薄膜玻璃等。
又，構成玻璃基材之玻璃亦較佳為化學強化玻璃。化學強化玻璃之機械強度優異，可相應地使其變薄，就該方面而言較佳。關於化學強化玻璃，典型而言為藉由對玻璃之表面附近將一部分離子種進行交換，譬如用鉀代替鈉等，而利用化學方法來強化機械物性而成之玻璃，且其表面具有壓縮應力層。
作為構成化學強化玻璃基材之玻璃，例如可例舉：鋁矽酸鹽玻璃、鈉鈣玻璃、硼矽酸玻璃、鉛玻璃、鹼鋇玻璃、鋁硼矽酸玻璃等。
作為化學強化玻璃基材之市售品，例如可例舉：康寧公司之Gorilla Glass（大猩猩玻璃）、AGC公司之Dragontrail（龍跡）、肖特公司之化學強化玻璃等。
（3）基材層之構成 作為基材層之厚度，只要為能夠具有柔軟性之厚度，便無特別限定，可根據基材層之種類等適當選擇。
樹脂基材之厚度例如較佳為10 μm以上100 μm以下，更佳為25 μm以上80 μm以下。藉由使樹脂基材之厚度為上述範圍內，可獲得良好之柔軟性，並且可獲得充分之硬度。又，亦可抑制顯示裝置用積層體之捲曲。進而，就顯示裝置用積層體之輕量化方面而言較佳。
玻璃基材之厚度例如較佳為200 μm以下，更佳為15 μm以上100 μm以下，進而較佳為20 μm以上90 μm以下，尤佳為25 μm以上80 μm以下。藉由使玻璃基材之厚度為上述範圍內，可獲得良好之柔軟性，並且可獲得充分之硬度。又，亦可抑制顯示裝置用積層體之捲曲。進而，就顯示裝置用積層體之輕量化方面而言較佳。
5.顯示裝置用積層體 （1）視感反射率 關於本實施方式中之顯示裝置用積層體，將垂直地入射至含氟層表面之光之入射角設為0°，使光以5°入射角自含氟層側入射時，該入射光之單向反射光的視感反射率為2.0%以下。較佳為1.7%以下，進而較佳為1.5%以下。若視感反射率過高，則無法抑制觀察者本身映入至顯示區域。
此處，視感反射率可依據JIS Z8722：2009而求出。關於視感反射率，使380 nm以上780 nm以下之波長範圍之光入射至顯示裝置用積層體之含氟層側之面而獲得反射光譜，根據該反射光譜，於標準光C之2度視野中求出XYZ表色系統中之三刺激值X、Y、Z，該Y之值即為視感反射率。即，視感反射率意指CIE1931標準表色系統之Y值。於視感反射率之測定中，可設為下述條件。
（測定條件） ・視野：2° ・照明體（illuminant）：C ・光源：鹵鎢燈 ・測定波長：於380 nm以上780 nm以下之範圍且以0.5 nm為間隔 ・掃描速度：高速 ・狹縫寬度：5.0 nm ・S/R切換：標準 ・自動歸零：在基準線之掃描後以550 nm進行實施
再者，於測定顯示裝置用積層體的視感反射率時，為了防止背面反射，而將較測定點面積更大之寬度之黑色塑膠帶（例如產品名「Yamato vinyl tape NO200-19-21」，Yamato公司製造，19 mm寬度）貼附於顯示裝置用積層體之基材層側之面後進行測定。作為視感反射率之測定裝置，例如可使用分光光度計，具體而言，可使用島津製作所公司製造之分光光度計「UV-2600」。
（2）耐動態彎曲性 本實施方式中之顯示裝置用積層體具有耐彎曲性。具體而言，於對顯示裝置用積層體進行下述所說明之動態彎曲試驗之情形時，較佳為顯示裝置用積層體不發生破裂或斷裂。
動態彎曲試驗係藉由以下方式進行。首先，準備20 mm×100 mm大小之顯示裝置用積層體。其後，於動態彎曲試驗中，如圖7（a）所示，將顯示裝置用積層體1之短邊部1C、及與短邊部1C對向之短邊部1D利用平行地配置之固定部51分別加以固定。又，如圖7（a）所示，固定部51能夠在水平方向滑行移動。繼而，如圖7（b）所示，藉由使固定部51以相互接近之方式移動，而使顯示裝置用積層體1以摺疊方式變形，進而，如圖7（c）所示，使固定部51移動至顯示裝置用積層體1之由固定部51固定之對向之2個短邊部1C、1D之間隔d達到特定值的位置後，使固定部51向相反方向移動以解除顯示裝置用積層體1之變形。藉由如圖7（a）～（c）所示使固定部51移動，可將顯示裝置用積層體1摺疊180°。又，以顯示裝置用積層體1之彎曲部1E不自固定部51之下端伸出之方式進行動態彎曲試驗，且控制固定部51最接近時之間隔，藉此可使顯示裝置用積層體1之對向之2個短邊部1C、1D之間隔d達到特定值。例如於短邊部1C、1D之間隔d為10 mm之情形時，將彎曲部1E之外徑視為10 mm。
關於本實施方式中之顯示裝置用積層體，較佳為在將下述動態彎曲試驗反覆進行了20萬次時不發生破裂或斷裂，更佳為反覆進行了50萬次時不發生破裂或斷裂，上述動態彎曲試驗係以顯示裝置用積層體1之對向之短邊部1C、1D之間隔d達到10 mm之方式進行180°摺疊。其中，較佳為將下述動態彎曲試驗反覆進行了20萬次時不發生破裂或斷裂，上述動態彎曲試驗係以顯示裝置用積層體之對向之短邊部1C、1D之間隔d達到6 mm之方式進行180°摺疊。於動態彎曲試驗中，可摺疊顯示裝置用積層體，使含氟層成為外側，或者亦可摺疊顯示裝置用積層體，使含氟層成為內側，但不論於何種情形時，均較佳為顯示裝置用積層體不發生破裂或斷裂。
（3）全光線穿透率及霧度 本實施方式中之顯示裝置用積層體較佳為全光線穿透率例如為85%以上，更佳為88%以上，進而較佳為90%以上。藉由使全光線穿透率如此高，可製成透明性良好之顯示裝置用積層體。
此處，顯示裝置用積層體之全光線穿透率可依據JIS K7361-1：1999進行測定，例如可利用村上色彩技術研究所製造之HAZE METER HM150進行測定。
本實施方式中之顯示裝置用積層體之霧度例如較佳為5%以下，更佳為2%以下，進而較佳為1%以下。藉由使霧度如此低，可製成透明性良好之顯示裝置用積層體。
此處，顯示裝置用積層體之霧度可依據JIS K-7136：2000進行測定，例如可利用村上色彩技術研究所製造之HAZE METER HM150進行測定。
6.其他構成 圖2係表示本實施方式中之顯示裝置用積層體之另一例的概略剖視圖。如圖2所示，本實施方式之顯示裝置用積層體1a較佳為除具有含氟層2、第1無機化合物層3、第2無機化合物層4、及基材層5以外還具有其他無機化合物層6（例如第3無機化合物層）、及硬塗層7。
圖3係表示本實施方式中之顯示裝置用積層體之較佳態樣之一例的概略剖視圖。如圖3所示，本實施方式之顯示裝置用積層體1a較佳為除具有含氟層2、第1無機化合物層3、第2無機化合物層4、及基材層5以外還於第2無機化合物層4與基材層5之間具有相對膜密度D3為0.10以上0.70以下之中介層9。又，如圖3所示，較佳為於基材層5與中介層9之間具有硬塗層7。
（1）其他無機化合物層 本實施方式中之顯示裝置用積層體可於第2無機化合物層與基材層之間具有1個或複數個其他無機化合物層。藉由配置其他無機化合物層，可獲得更低之反射率。於本實施方式中之顯示裝置用積層體具有硬塗層之情形時，其他無機化合物層配置於第2無機化合物層與硬塗層之間。於本說明書中，自第2無機化合物層側起，將其他無機化合物層稱為第3無機化合物層、第4無機化合物層等。
藉由配置其他無機化合物層，而使本實施方式中之顯示裝置用積層體具有折射率不同之多層膜，作為該多層膜之層構成，可採用自基材層側朝向含氟層側為高折射率層（第4無機化合物層）/中折射率層（第3無機化合物層）/高折射率層（第2無機化合物層）/低折射率層（第1無機化合物層）之結構。 於該情形時，第3無機化合物層之折射率例如為1.40以上2.50以下，第4無機化合物層之折射率例如為1.60以上3.00以下。
又，作為多層膜之其他層構成，可採用自基材層側朝向含氟層側為中折射率層（第3無機化合物層）/高折射率層（第2無機化合物層）/低折射率層（第1無機化合物層）等之結構。於該情形時，第3無機化合物層之折射率例如為1.40以上2.50以下。
作為其他無機化合物層中所含之無機化合物，可例舉：矽氧化物、鎵氧化物、鋁氧化物、鋯氧化物、鉿氧化物、鉭氧化物、鈰氧化物、鈦氧化物、鋅氧化物、錫氧化物、鎂氧化物、釔氧化物、鈮氧化物、氟化鎂、氟化鋰、氟化鈣、氟化鋇、氟化鑭及氟化鈰等。
作為1個其他無機化合物層之厚度，並無特別限定，較佳為10 nm以上200 nm以下，更佳為20 nm以上170 nm以下。
又，於本實施方式中，本實施方式中之顯示裝置用積層體中所含之所有無機化合物層之合計厚度較佳為500 nm以下，進而較佳為400 nm以下。另一方面，例如可為50 nm以上，亦可為80 nm以上。若合計厚度過厚，則可能導致顯示裝置用積層體之耐彎曲性變差。
（2）硬塗層 本實施方式中之顯示裝置用積層體可於第2無機化合物層與基材層之間具有硬塗層。藉由配置硬塗層，可提高無機化合物層之密接性。又，藉由配置硬塗層，可提高耐磨性。尤其於上述基材層為樹脂基材之情形時，藉由配置硬塗層，可有效地提高耐磨性。
作為硬塗層之材料，例如可使用有機材料、無機材料、有機無機複合材料等。其中，硬塗層之材料較佳為有機材料。具體而言，硬塗層較佳為含有「包含聚合性化合物之樹脂組成物之硬化物」。包含聚合性化合物之樹脂組成物之硬化物可藉由以下方式獲得：視需要使用聚合起始劑，藉由公知方法使聚合性化合物進行聚合反應。
再者，聚合性化合物係分子內具有至少1個聚合性官能基者。作為聚合性化合物，例如可使用自由基聚合性化合物及陽離子聚合性化合物中之至少一種。
所謂自由基聚合性化合物係指具有自由基聚合性基之化合物。作為自由基聚合性化合物所具有之自由基聚合性基，只要為能夠發生自由基聚合反應之官能基即可，並無特別限定，例如可例舉包含碳-碳不飽和雙鍵之基等，具體而言，可例舉乙烯基、（甲基）丙烯醯基等。再者，於自由基聚合性化合物具有2個以上自由基聚合性基之情形時，該等自由基聚合性基可分別相同，亦可不同。
關於自由基聚合性化合物於1分子中所具有之自由基聚合性基之數量，就硬塗層之表面硬度變高而耐擦傷性提高之方面而言，較佳為2個以上，進而較佳為3個以上。
作為自由基聚合性化合物，就反應性高低之方面而言，其中，較佳為具有（甲基）丙烯醯基之化合物，例如可較佳地使用被稱為胺酯（甲基）丙烯酸酯、聚酯（甲基）丙烯酸酯、環氧（甲基）丙烯酸酯、三聚氰胺（甲基）丙烯酸酯、聚氟烷基（甲基）丙烯酸酯、聚矽氧（甲基）丙烯酸酯等之於分子內具有幾個（甲基）丙烯醯基之分子量自幾百至幾千之多官能（甲基）丙烯酸酯單體及低聚物，又，亦可較佳地使用於丙烯酸酯聚合物之側鏈具有2個以上（甲基）丙烯醯基之多官能（甲基）丙烯酸酯聚合物。其中，可較佳地使用於1分子中具有2個以上（甲基）丙烯醯基之多官能（甲基）丙烯酸酯單體。藉由使硬塗層包含多官能（甲基）丙烯酸酯單體之硬化物，可提高硬塗層之表面硬度，可提高耐擦傷性。進而亦可提高密接性。又，亦可較佳地使用於1分子中具有2個以上（甲基）丙烯醯基之多官能（甲基）丙烯酸酯低聚物或聚合物。藉由使硬塗層包含多官能（甲基）丙烯酸酯低聚物或聚合物之硬化物，可提高硬塗層之表面硬度，可提高耐擦傷性。進而亦可提高耐彎曲性及密接性。
再者，於本說明書中，（甲基）丙烯醯基表示丙烯醯基及甲基丙烯醯基各者，（甲基）丙烯酸酯表示丙烯酸酯及甲基丙烯酸酯各者。
關於多官能（甲基）丙烯酸酯單體之具體例，例如可例舉日本特開2019-132930號公報中所記載者。其中，就反應性較高，硬塗層之表面硬度變高而耐擦傷性提高之方面而言，較佳為於1分子中具有3個以上6個以下之（甲基）丙烯醯基者。作為此種多官能（甲基）丙烯酸酯單體，例如可較佳地使用：新戊四醇三丙烯酸酯（PETA）、二新戊四醇六丙烯酸酯（DPHA）、新戊四醇四丙烯酸酯（PETTA）、二新戊四醇五丙烯酸酯（DPPA）、三羥甲基丙烷三（甲基）丙烯酸酯、三新戊四醇八（甲基）丙烯酸酯、四新戊四醇十（甲基）丙烯酸酯等。尤佳為選自新戊四醇三（甲基）丙烯酸酯、二新戊四醇五（甲基）丙烯酸酯、及二新戊四醇六丙烯酸酯中之至少一種。
又，於使用自由基聚合性化合物之情形時，存在因分子結構內之柔軟性基而導致耐擦傷性降低之情況。因此，為了抑制柔軟性成分（軟鏈段）所導致之耐擦傷性之降低，自由基聚合性化合物較佳為使用分子結構內未導入有柔軟性基者。具體而言，較佳為使用未經EO或PO改質之自由基聚合性化合物。藉由使用此種自由基聚合性化合物，可增加交聯點，提高耐擦傷性。
硬塗層亦可為了調整硬度或黏度、提高密接性等，而包含單官能（甲基）丙烯酸酯單體作為自由基聚合性化合物。關於單官能（甲基）丙烯酸酯單體之具體例，例如可例舉日本特開2019-132930號公報中所記載者。
所謂陽離子聚合性化合物係指具有陽離子聚合性基之化合物。作為陽離子聚合性化合物所具有之陽離子聚合性基，只要為能夠發生陽離子聚合反應之官能基即可，並無特別限定，例如可例舉：環氧基、氧環丁基、乙烯醚基等。再者，於陽離子聚合性化合物具有2個以上陽離子聚合性基之情形時，該等陽離子聚合性基可分別相同，亦可不同。
關於陽離子聚合性化合物於1分子中所具有之陽離子聚合性基之數量，就硬塗層之表面硬度變高而耐擦傷性提高之方面而言，較佳為2個以上，進而較佳為3個以上。
又，作為陽離子聚合性化合物，其中，較佳為具有環氧基及氧環丁基中之至少一種作為陽離子聚合性基之化合物，更佳為於1分子中具有2個以上之環氧基及氧環丁基中之至少一種的化合物。環氧基、氧環丁基等環狀醚基之伴隨於聚合反應之收縮較小，就該方面而言較佳。又，具有環狀醚基中之環氧基之化合物具有以下優點：容易獲取多種結構之化合物，不會對所獲得之硬塗層之耐久性造成不良影響，亦容易控制與自由基聚合性化合物之相容性。又，環狀醚基中之氧環丁基具有以下等優點：與環氧基相比聚合度較高，毒性較低，對於所獲得之硬塗層，在與具有環氧基之化合物組合時使塗膜中之自陽離子聚合性化合物所獲得之網狀結構形成速度加速，即便在與自由基聚合性化合物混合存在之區域，亦不於膜中殘留未反應之單體而形成獨立之網狀結構。
作為具有環氧基之陽離子聚合性化合物，例如可例舉具有脂環族環之多元醇之聚環氧丙基醚，或利用過氧化氫、過酸等適當之氧化劑使含有環己烯環、環戊烯環之化合物進行環氧化而獲得之脂環族環氧樹脂。又，可例舉：脂肪族多元醇、或其環氧烷加成物之聚環氧丙基醚、脂肪族長鏈多元酸之聚環氧丙基酯、（甲基）丙烯酸環氧丙酯之均聚物、共聚物等脂肪族環氧樹脂。又，可例舉：藉由雙酚A、雙酚F或氫化雙酚A等雙酚類、或其等之環氧烷加成體、己內酯加成體等衍生物、與表氯醇之反應所製造之環氧丙基醚，及作為酚醛清漆環氧樹脂等之自雙酚類衍生之環氧丙基醚型環氧樹脂等。
關於脂環族環氧樹脂、環氧丙基醚型環氧樹脂、及具有氧環丁基之陽離子聚合性化合物之具體例，例如可例舉日本特開2018-104682號公報中所記載者。
硬塗層亦可視需要含有聚合起始劑。
又，硬塗層亦可含有抗靜電劑。可對顯示裝置用積層體賦予抗靜電性。硬塗層可視需要進而含有添加劑。作為添加劑，可根據對硬塗層所賦予之功能適當選擇，並無特別限定，例如可例舉：無機粒子、有機粒子、紫外線吸收劑、紅外線吸收劑、防污劑、防眩劑、調平劑、界面活性劑、易滑劑、各種敏化劑、阻燃劑、接著賦予劑、聚合抑制劑、抗氧化劑、光穩定劑、表面改質劑等。
又，於本實施方式中，作為硬塗層之材料，為了獲得更優異之耐彎曲性，較佳為將具有胺酯（甲基）丙烯酸酯與多官能（甲基）丙烯酸酯單體中之至少一者之自由基聚合性化合物、與具有能夠與自由基聚合性化合物形成共價鍵之反應性官能基之反應性無機粒子加以併用而成之有機無機材料，進而較佳為併用接著賦予劑作為添加劑。作為反應性無機粒子，可例舉具有反應性官能基之二氧化矽等。又，作為反應性官能基，可例舉：乙烯基、（甲基）丙烯醯基、烯丙基、環氧基、及矽醇基等。
硬塗層之厚度只要根據硬塗層所具有之功能及顯示裝置用積層體之用途適當選擇即可。硬塗層之厚度例如較佳為0.5 μm以上50 μm以下，更佳為1.0 μm以上40 μm以下，進而較佳為1.5 μm以上30 μm以下，尤佳為2.0 μm以上20 μm以下。若硬塗層之厚度為上述範圍內，則可獲得作為硬塗層而言足夠之硬度。
作為硬塗層之形成方法，例如可例舉於上述基材層上塗布包含上述聚合性化合物等之硬塗層用樹脂組成物，並使其硬化之方法。
（3）貼附用接著層 本實施方式中之顯示裝置用積層體可於基材層之與第2無機化合物層相反側之面具有貼附用接著層。可經由貼附用接著層將顯示裝置用積層體例如貼合於顯示面板等。
作為貼附用接著層中所使用之接著劑，只要為具有透明性且能夠將顯示裝置用積層體接著於顯示面板等之接著劑，便無特別限定，例如可例舉：熱硬化型接著劑、紫外線硬化型接著劑、2液硬化型接著劑、熱熔型接著劑、感壓接著劑（即黏著劑）等。
貼附用接著層之厚度例如可設為較佳為10 μm以上100 μm以下，更佳為25 μm以上80 μm以下，進而較佳為40 μm以上60 μm以下。若貼附用接著層之厚度過薄，則有無法使顯示裝置用積層體與顯示面板等充分接著之虞。另一方面，若貼附用接著層之厚度過厚，則可能使可撓性受損。
作為貼附用接著層，例如亦可使用接著膜。又，例如可於支持體或基材層等之上塗布接著劑組成物而形成貼附用接著層。
貼附用接著層可為具有與顯示裝置之顯示面板貼合後能夠剝離之程度之密接性的層，亦可為不以剝離為目的而具有較高之密接性之層。
（4）層間接著層 於本實施方式中之顯示裝置用積層體中，亦可於各層之間配置層間接著層。作為層間接著層中所使用之接著劑，可設為與上述貼附用接著層中所使用之接著劑相同。
（5）中介層 本實施方式中之顯示裝置用積層體較佳為於第2無機化合物層4與基材層5之間具有相對膜密度D3為0.10以上0.70以下之中介層9。藉由配置此種中介層，而使耐彎曲性進一步提高。 於本實施方式中，配置有中介層之顯示裝置用積層體較佳為將下述動態彎曲試驗反覆進行了20萬次時不發生破裂或斷裂，更佳為反覆進行了50萬次時不發生破裂或斷裂，上述動態彎曲試驗係以顯示裝置用積層體1之對向之短邊部1C、1D之間隔d達到5 mm方式進行180°摺疊。其中，較佳為將下述動態彎曲試驗反覆進行了20萬次時不發生破裂或斷裂，上述動態彎曲試驗係以顯示裝置用積層體之對向之短邊部1C、1D之間隔d達到4 mm之方式進行180°摺疊。於動態彎曲試驗中，可摺疊顯示裝置用積層體，使含氟層成為外側，或者亦可摺疊顯示裝置用積層體，使含氟層成為內側，但不論於何種情形時，均較佳為顯示裝置用積層體不發生破裂或斷裂。
（i）相對膜密度 本實施方式中之中介層之相對膜密度D3為0.10以上0.70以下，較佳為0.20以上0.60以下。
中介層較佳為使無機化合物粒子分散於黏合劑樹脂而成之分散層。其原因在於：容易將相對膜密度設為上述範圍。又，中介層亦可為除第1無機化合物層及第2無機化合物層以外之其他無機化合物層。
再者，於中介層為分散層之情形時，相對膜密度係根據以下之式而算出。 分散層之相對膜密度＝分散層之膜密度（實測值）/膜密度（文獻值） 作為用以算出中介層之相對膜密度之上述膜密度（文獻值），採用以無機化合物粒子中所含之無機化合物作為主體之無機化合物層之膜密度（文獻值）。
於本態樣中，第1無機化合物層之相對膜密度D1、第2無機化合物層之相對膜密度D2及中介層之相對膜密度D3較佳為滿足D3＜D2＜D1之關係。藉由滿足上述關係，可使相鄰之各層之相對膜密度之差變小，可抑制應力集中。因此，耐彎曲性進一步提高，可抑制龜裂或剝落。
又，於本態樣中，第2無機化合物層之相對膜密度D2及中介層之相對膜密度D3較佳為滿足1.0≦D2/D3≦7.0。若D2/D3為1.0以上，則可於彎曲試驗中有效地抑制第1無機化合物層及第2無機化合物層之界面處之剝落。另一方面，若D2/D3為7.0以下，則可於彎曲試驗中有效地抑制中介層及第2無機化合物層之界面處之剝落。
又，於本態樣中，第1無機化合物層之相對膜密度D1及中介層之相對膜密度D3較佳為滿足1.0≦D1/D3≦12.0。若D1/D3為1.0以上，則耐磨性呈進一步提高之趨勢。另一方面，若D1/D3為12.0以下，則耐彎曲性進一步提高，可抑制分散層發生龜裂。
（ii）構成 （ii-1）分散層 如上所述，中介層係使無機化合物粒子分散於黏合劑樹脂中而成之分散層。分散層含有無機化合物粒子及黏合劑樹脂。
（a）無機化合物粒子 作為無機化合物粒子，並無特別限定，可例舉：矽氧化物、鎵氧化物、鋁氧化物、鋯氧化物、鉿氧化物、鉭氧化物、鈰氧化物、鈦氧化物、鋅氧化物、錫氧化物、鎂氧化物、釔氧化物、鈮氧化物、氟化鎂、氟化鋰、氟化鈣、氟化鋇、氟化鑭及氟化鈰等。其中，較佳為具有較第1無機化合物高之折射率之無機化合物粒子。作為此種無機化合物粒子，具體而言，可例舉：鋁氧化物、鋯氧化物、鈮氧化物、鋅氧化物、錫氧化物、鈦氧化物等。作為分散層中之無機化合物粒子之含量，只要為中介層之相對膜密度D3為上述值之量，便無特別限定。
（b）黏合劑樹脂 作為黏合劑樹脂，較佳為聚合性化合物之硬化物。關於聚合性化合物，可設為與第1實施方式之顯示裝置用積層體之硬塗層之項中所記載之聚合性化合物相同者，故此處省略說明。
（c）折射率 分散層之折射率較佳為1.60以上，更佳為1.65以上。另一方面，例如為2.00以下，亦可為1.80以下。
（d）厚度 作為分散層之厚度，並無特別限定，較佳為10 nm以上500 nm以下，更佳為30 nm以上300 nm以下。
（e）形成方法 作為分散層之形成方法，例如可例舉於基材層或下述硬塗層上，塗布包含無機化合物粒子及聚合性化合物之分散層用樹脂組成物，並使其硬化之方法。
（ii-2）無機化合物層 如上所述，中介層亦可為其他無機化合物層。 （a）無機化合物 關於作為中介層之無機化合物層中所含之無機化合物，可例舉：矽氧化物、鎵氧化物、鋁氧化物、鋯氧化物、鉿氧化物、鉭氧化物、鈰氧化物、鈦氧化物、鋅氧化物、錫氧化物、鎂氧化物、釔氧化物、鈮氧化物、氟化鎂、氟化鋰、氟化鈣、氟化鋇、氟化鑭及氟化鈰等。其中，較佳為較第1無機化合物高之高折射率材料。作為此種無機化合物，可例舉：鋁氧化物、鋯氧化物、鉿氧化物、鉭氧化物、鈰氧化物、鈦氧化物、鋅氧化物、錫氧化物、鎂氧化物、釔氧化物、鈮氧化物等無機氧化物、氟化鑭、氟化鈰等。
（b）折射率 作為中介層之無機化合物層之折射率較佳為1.60以上，更佳為1.65以上。另一方面，例如為2.00以下，亦可為1.80以下。
（c）厚度 關於作為中介層之無機化合物層之厚度，並無特別限定，較佳為10 nm以上500 nm以下，更佳為30 nm以上300 nm以下。
（d）形成方法 關於作為中介層之無機化合物層之形成方法，可使用與上述第1無機化合物層及第2無機化合物層之形成方法相同之方法。
7.用途 本實施方式中之顯示裝置用積層體可於顯示裝置中用作配置於較顯示面板更靠近觀察者側之前面板。本實施方式中之顯示裝置用積層體具有優異之耐彎曲性與耐磨性，因此可較佳地用於可摺疊顯示器、可捲曲顯示器、可彎曲顯示器等可撓性顯示裝置中之前面板。尤其是本實施方式中之顯示裝置用積層體可提高耐彎曲性，因此可較佳地用於可摺疊顯示器中之前面板。
本實施方式中之顯示裝置用積層體之厚度例如較佳為10 μm以上500 μm以下，更佳為20 μm以上400 μm以下，進而較佳為30 μm以上300 μm以下。若顯示裝置用積層體之厚度為上述範圍，則可提高可撓性。
又，本實施方式中之顯示裝置用積層體例如可用於智慧型手機、平板終端、可穿戴終端、個人電腦、電視、數位標牌、公共資訊顯示器（PID）、車載顯示器等顯示裝置中之前面板。
II.第2實施方式 本發明人等對配置於顯示裝置表面之積層體反覆進行了研究，以實現在維持低反射性之同時提高耐彎曲性與耐磨性，結果發現：藉由在顯示裝置用積層體之一面配置含有氟原子之含氟層，於實現積層體之低反射率化之低折射率層中使用具有特定之氟含有比率之無機化合物層，並於實現積層體之低反射率化之高折射率層中使用具有特定之相對膜密度之無機化合物層，可提高耐彎曲性與耐磨性。
具體而言，發現了藉由在顯示裝置用積層體之一面配置上述含氟層，且將上述含氟層側之無機化合物層即第1無機化合物層（低折射率層）之氟含有比率設為特定之範圍，可獲得耐磨性。進而，發現了藉由將第2無機化合物層（高折射率層）之相對膜密度設為特定之較低範圍，而成為對應力變化之耐性較強而耐彎曲性良好之顯示裝置用積層體，從而完成了本發明。
即，本實施方式提供一種顯示裝置用積層體，其依序具有：含有氟原子之含氟層、第1無機化合物層、第2無機化合物層、及基材層；且上述第1無機化合物層具有作為低折射率材料之第1無機化合物，氟原子之含有比率為6.5原子%以下；上述第2無機化合物層具有作為高折射率材料之第2無機化合物，相對膜密度D2為0.50以上且未達1.00；並且，使光以5°入射角入射至上述顯示裝置用積層體之上述含氟層側之面時之單向反射光的視感反射率為2.0%以下。 以下，對本實施方式之顯示裝置用積層體進行詳細說明。
圖1係表示本實施方式中之顯示裝置用積層體之一例之概略剖視圖。如圖1所示，本實施方式之顯示裝置用積層體1b依序具有：含有氟原子之含氟層2、第1無機化合物層3、第2無機化合物層4、及基材層5。於本實施方式中，第1無機化合物層包含作為低折射率材料之第1無機化合物，且氟原子之含有比率為6.5原子%以下。進而，第2無機化合物層包含折射率較第1無機化合物高之第2無機化合物，且相對膜密度D2為0.50以上且未達1.00。進而，本實施方式中之顯示裝置用積層體1b中，使光以5°入射角入射至含氟層2側之面1A時之單向反射光的視感反射率為2.0%以下。
本實施方式中之顯示裝置用積層體於一表面具有含氟層，進而第1無機化合物層之氟原子之含有比率為特定範圍，藉此具有優異之耐磨性。推測其原因在於以下內容。於圖4（a）示出第1無機化合物層3之氟原子之含有比率較低之情形時第1無機化合物層3及含氟層2的剖面示意圖，於圖4（b）示出第1無機化合物層3之氟原子之含有比率較高之情形時第1無機化合物層3及含氟層2的剖面示意圖。如圖4（b）所示，推測於第1無機化合物層3之氟原子之含有比率較高之情形時，當在第1無機化合物層3上形成含氟層2時，氟原子（氟化合物）混入至第1無機化合物層3中。因此，第1無機化合物層3發生軟化，導致耐磨性變差。另一方面，如圖4（a）所示，推測於第1無機化合物層3之氟原子之含有比率較低之情形時，當在第1無機化合物層3上形成含氟層2時，氟原子（氟化合物）向第1無機化合物層3中之混入受到抑制。因此，第1無機化合物層之軟化得到抑制，而耐磨性優異。
進而，本實施方式中之顯示裝置用積層體之第2無機化合物層之相對膜密度D2為特定之較低範圍，藉此具有優異之耐彎曲性。又，本實施方式中之顯示裝置用積層體包含作為低折射率層之第1無機化合物層與作為高折射率層之第2無機化合物層，藉此具有特定之視感反射率。 因此，成為具有低反射性且具有優異之耐彎曲性與耐磨性之顯示裝置用積層體。以下，對本實施方式之顯示裝置用積層體中之各構成進行詳細說明。
1.第1無機化合物層 （1）第1無機化合物 本實施方式中之第1無機化合物層由作為低折射率材料之第1無機化合物所構成。作為構成本實施方式中之第1無機化合物層之第1無機化合物，可例舉與第1實施方式中之第1無機化合物相同者。於本實施方式中，其中，就折射率或通用性之觀點而言，較佳為矽氧化物。又，第1無機化合物層中所含之無機化合物較佳為一種，但亦可包含複數種無機化合物。
於本實施方式中，第1無機化合物層較佳為蒸鍍膜。尤佳為矽氧化物（二氧化矽）蒸鍍膜。
（2）氟原子之含有比率 本實施方式中之第1無機化合物層之氟原子之含有比率為6.5原子%以下。氟原子之含有比率較佳為6.3原子%以下，更佳為5.0原子%以下。若氟原子之含有比率為上述範圍，則具有優異之耐磨性。本實施方式中之第1無機化合物層較佳為氟原子比率較低。即，第1無機化合物層亦可不含氟原子，氟原子之含有比率之下限為0%。
第1無機化合物層中之氟原子之含有比率係將於上述測定裝置及測定條件下藉由拉塞福背向散射能譜術（RBS：Rutherford Backscattering Spectrometry）對第1無機化合物層進行測定所獲得之總元素（例如矽等無機元素、氧、氟等）之合計量設為100原子%時之氟原子之比率。
作為將第1無機化合物層之氟原子之含有比率調整為上述範圍之方法，可例舉將第1無機化合物層之相對膜密度D1調整為下述範圍之方法。
（3）折射率 本實施方式中之第1無機化合物層之折射率可設為與第1實施方式中之第1無機化合物層之折射率相同，故此處省略說明。
（4）相對膜密度D1 於本實施方式中，作為低折射率層之第1無機化合物層之相對膜密度D1較佳為0.70以上1.20以下。第1無機化合物層之相對膜密度D1更佳為0.75以上，尤佳為0.80以上。若相對膜密度D1過低，則氟含有比率變高，可能導致耐磨性欠佳。另一方面，更佳為1.17以下，尤佳為1.15以下。若相對膜密度D1過高，則耐彎曲性欠佳，可能導致第1無機化合物層發生龜裂。
無機化合物層之相對膜密度之算出方法與第1實施方式中所記載之方法相同，故此處省略說明。 再者，即便於本實施方式中之第1無機化合物層含有氟原子之情形時，亦採用由第1無機化合物所構成之無機化合物層之理論膜密度作為下述膜密度（文獻值）。
作為將第1無機化合物層之相對膜密度調整為上述範圍之方法，可設為與第1實施方式中所記載之方法相同，故此處省略說明。
（5）厚度 作為本實施方式中之第1無機化合物層之厚度，其與第1實施方式中之第1無機化合物層之厚度相同，故此處省略說明。
（6）形成方法 作為本實施方式中之第1無機化合物層之形成方法，其與第1實施方式中之第1無機化合物層之形成方法相同，故此處省略說明。
2.第2無機化合物層 作為本實施方式中之第2無機化合物層，其與第1實施方式中之第2無機化合物層之內容相同，故此處省略說明。
3.含氟層 作為本實施方式中之含氟層，其與第1實施方式中之含氟層之內容相同，故此處省略說明。
4.基材層 作為本實施方式中之基材層，其與第1實施方式中之基材層之內容相同，故此處省略說明。
5.顯示裝置用積層體 本實施方式中之顯示裝置用積層體之視感反射率、耐動態彎曲性、全光線穿透率及霧度與第1實施方式之內容相同，故此處省略說明。
6.其他構成 本實施方式中之顯示裝置用積層體亦可除上述含氟層2、第1無機化合物層3、第2無機化合物層4、及基材層5以外還具有其他層。 作為其他層，可例舉：其他無機化合物層、中介層、硬塗層、貼附用接著層及層間接著層。
圖2係表示本實施方式中之顯示裝置用積層體之另一例之概略剖視圖。如圖2所示，本實施方式之顯示裝置用積層體1b較佳為除含氟層2、第1無機化合物層3、第2無機化合物層4、及基材層5以外還具有其他無機化合物層6（例如第3無機化合物層）、及硬塗層7。
圖3係表示本實施方式中之顯示裝置用積層體之較佳態樣之一例的概略剖視圖。如圖3所示，本實施方式之顯示裝置用積層體1b較佳為除含氟層2、第1無機化合物層3、第2無機化合物層4、及基材層5以外，還於第2無機化合物層4與基材層5之間具有相對膜密度D3為0.10以上0.70以下之中介層9。又，如圖3所示，較佳為於基材層5與中介層9之間具有硬塗層7。
作為其他無機化合物層、中介層、硬塗層、貼附用接著層及層間接著層，可設為與第1實施方式中所記載者相同，故此處省略說明。
7.用途 作為本實施方式中之顯示裝置用積層體之用途，可設為與第1實施方式中所記載之內容相同，故此處省略說明。
III.第3實施方式 本發明人等對配置於顯示裝置表面之積層體反覆進行了研究，以實現在維持低反射性之同時提高耐彎曲性與耐磨性，結果發現：藉由在顯示裝置用積層體之一面配置含有氟原子之含氟層，於實現積層體之低反射率化之低折射率層中使用具有特定之相對膜密度之無機化合物層，並於積層體之低反射率化之高折射率層中使用具有特定之相對膜密度且具有高折射率之無機化合物粒子之分散層（高折射率分散層），可提高耐彎曲性與耐磨性。
具體而言，發現了藉由在顯示裝置用積層體之一面配置上述含氟層，且將第1無機化合物層（低折射率層）之相對膜密度設為特定之範圍，可獲得耐磨性。進而，發現了藉由在基材層與第1無機化合物層之間配置相對膜密度為特定之較低範圍之具有高折射率之無機化合物粒子之分散層（高折射率分散層），而成為對應力變化之耐性較強、耐彎曲性良好之顯示裝置用積層體，從而完成了本發明。
即，本實施方式提供一種顯示裝置用積層體，其依序具有：含有氟原子之含氟層、第1無機化合物層、及基材層；且上述第1無機化合物層具有作為低折射率材料之第1無機化合物，相對膜密度D1為0.70以上1.20以下；於上述第1無機化合物層與上述基材層之間具有「使具有高折射率之無機化合物粒子分散於黏合劑樹脂中而成之高折射率分散層」，上述高折射率分散層之相對膜密度D4為0.10以上0.70以下；並且，使光以5°入射角入射至上述顯示裝置用積層體之上述含氟層側之面時之單向反射光的視感反射率為2.0%以下。 以下，對本實施方式之顯示裝置用積層體進行詳細說明。
圖5係表示本實施方式中之顯示裝置用積層體之一例之概略剖視圖。如圖5所示，本實施方式之顯示裝置用積層體1c依序具有：含有氟原子之含氟層2、第1無機化合物層3、高折射率分散層10、及基材層5。於本實施方式中，第1無機化合物層包含作為低折射率材料之第1無機化合物，且相對膜密度D1為0.70以上1.20以下。進而，本實施方式中之顯示裝置用積層體於基材層與第1無機化合物層之間配置有使具有高折射率之無機化合物粒子分散於黏合劑樹脂中而成之高折射率分散層，且該高折射率分散層之相對膜密度D4為0.10以上0.70以下。進而，本實施方式中之顯示裝置用積層體1c中，使光以5°入射角入射至含氟層2側之面1A時之單向反射光的視感反射率為2.0%以下。
本實施方式中之顯示裝置用積層體於一表面具有含氟層，進而第1無機化合物層之相對膜密度D1為特定之範圍，藉此具有優異之耐磨性。進而，於基材層與第1無機化合物層之間配置有使具有高折射率之無機化合物粒子分散於黏合劑樹脂中而成之高折射率分散層，且該高折射率分散層之相對膜密度D4為特定之較低範圍，藉此具有優異之耐彎曲性。再者，高折射率分散層與無機化合物層不同，由於包含黏合劑樹脂，故而柔軟性較高。因此，推測即便處於較第1實施方式或第2實施方式中之第2無機化合物層更低之相對膜密度之範圍，亦具有優異之耐彎曲性。 進而，本實施方式中之顯示裝置用積層體包含作為低折射率層之第1無機化合物層與分散有作為高折射率粒子之無機化合物粒子之高折射率分散層，藉此具有特定的視感反射率。 因此，成為具有低反射性且具有優異之耐彎曲性與耐磨性之顯示裝置用積層體。以下，對本實施方式之顯示裝置用積層體中之各構成進行詳細說明。
1.第1無機化合物層 作為本實施方式中之第1無機化合物層，其與第1實施方式中之第1無機化合物層之內容相同，故此處省略說明。
2.高折射率分散層 於本實施方式中，高折射率分散層配置於第1無機化合物層與基材層之間，且含有具有高折射率之無機化合物粒子及黏合劑樹脂。
（1）無機化合物粒子及黏合劑樹脂 關於上述無機化合物粒子及黏合劑樹脂，其等與第1實施方式中之「中介層」之項之「（a）無機化合物粒子」及「（b）黏合劑樹脂」中所說明者相同，故此處省略說明。
（2）相對膜密度 高折射率分散層之相對膜密度D4為0.10以上0.70以下，較佳為0.20以上0.60以下。 作為高折射率分散層之相對膜密度之算出方法，可設為與上述第1實施方式中之分散層之相對膜密度相同，故此處省略說明。
於本實施方式中，第1無機化合物層之相對膜密度D1及高折射率分散層之相對膜密度D4較佳為滿足1.0≦D1/D4≦12.0。若D1/D4為1.0以上，則耐磨性呈提高趨勢。另一方面，若D1/D4為12.0以下，則耐彎曲性進一步提高，可抑制高折射率分散層發生龜裂。
（3）折射率 本實施方式中之高折射率分散層之折射率較佳為1.60以上，更佳為1.65以上。另一方面，例如為2.00以下，亦可為1.80以下。
（4）厚度 作為高折射率分散層之厚度，並無特別限定，較佳為10 nm以上500 nm以下，更佳為30 nm以上300 nm以下。
（5）形成方法 作為本實施方式中之高折射率分散層之形成方法，例如可例舉於基材層或下述硬塗層上，塗布包含具有高折射率之無機化合物粒子及聚合性化合物之高折射率分散層用樹脂組成物，並使其硬化之方法。
3.含氟層 作為本實施方式中之含氟層，其與第1實施方式中之含氟層之內容相同，故此處省略說明。
4.基材層 作為本實施方式中之基材層，其與第1實施方式中之基材層之內容相同，故此處省略說明。
5.顯示裝置用積層體 （1）視感反射率 關於本實施方式中之顯示裝置用積層體，於將垂直地入射至含氟層表面之光之入射角設為0°，使光以5°入射角自含氟層側入射時，該入射光之單向反射光的視感反射率為2.0%以下。較佳為1.7%以下，進而較佳為1.5%以下。若視感反射率過高，則無法抑制觀察者本身映入至顯示區域。
此處，上述視感反射率係藉由第1實施方式中所記載之測定方法所測得之值。
（2）耐動態彎曲性 本實施方式中之顯示裝置用積層體具有耐彎曲性。具體而言，較佳為於對顯示裝置用積層體進行第1實施方式中所說明之動態彎曲試驗之情形時，顯示裝置用積層體不發生破裂或斷裂。
本實施方式中之顯示裝置用積層體較佳為於將下述動態彎曲試驗反覆進行了20萬次時不發生破裂或斷裂，更佳為反覆進行了50萬次時不發生破裂或斷裂，上述動態彎曲試驗係以顯示裝置用積層體1之對向之短邊部1C、1D之間隔d達到5 mm之方式進行180°摺疊。其中，較佳為於將下述動態彎曲試驗反覆進行了20萬次時不發生破裂或斷裂，上述動態彎曲試驗係以顯示裝置用積層體之對向之短邊部1C、1D之間隔d達到4 mm之方式進行180°摺疊。於動態彎曲試驗中，可摺疊顯示裝置用積層體，使含氟層成為外側，或者亦可摺疊顯示裝置用積層體，使含氟層成為內側，但不論於何種情形時，均較佳為顯示裝置用積層體不發生破裂或斷裂。
（3）全光線穿透率及霧度 本實施方式中之顯示裝置用積層體較佳為全光線穿透率例如為85%以上，更佳為88%以上，進而較佳為90%以上。藉由使全光線穿透率如此高，可製成透明性良好之顯示裝置用積層體。本實施方式中之顯示裝置用積層體之霧度例如較佳為5%以下，更佳為2%以下，進而較佳為1%以下。藉由使霧度如此低，可製成透明性良好之顯示裝置用積層體。
此處，顯示裝置用積層體之全光線穿透率及霧度係藉由第1實施方式中所說明之測定方法所測得之值。
6.其他構成 本實施方式中之顯示裝置用積層體亦可除上述含氟層2、第1無機化合物層3、高折射率分散層10、及基材層5以外還具有其他層。 作為其他層，可例舉硬塗層、貼附用接著層及層間接著層。具體而言，本實施方式中之顯示裝置用積層體較佳為於高折射率分散層與基材層之間具有硬塗層。又，較佳為於基材層之與高折射率分散層側之面為相反之面側具有貼附用接著層。
作為硬塗層、貼附用接著層及層間接著層，可設為與第1實施方式中所記載者相同，故此處省略說明。
7.用途 作為本實施方式中之顯示裝置用積層體之用途，可設為與第1實施方式中所記載之內容相同，故此處省略說明。
B.顯示裝置 本發明中之顯示裝置具備顯示面板、及配置於上述顯示面板之觀察者側之上述第1實施方式、第2實施方式及第3實施方式中之任一者之顯示裝置用積層體。
圖6係表示本發明中之顯示裝置之一例之概略剖視圖。如圖6（a）及圖6（b）所示，顯示裝置20a～20c具備顯示面板21、及配置於顯示面板21之觀察者側之第1實施方式之顯示裝置用積層體1a、第2實施方式之顯示裝置用積層體1b、或第3實施方式之顯示裝置用積層體1c。於顯示裝置20a～20c中，顯示裝置用積層體1a、1b、1c與顯示面板21例如可經由顯示裝置用積層體1之貼附用接著層8進行貼合。
本發明中之可撓性顯示裝置具備具有低反射性之顯示裝置用積層體，因此視認性得到提高。進而，顯示裝置用積層體具有優異之耐彎曲性與耐磨性，因此不易受損，即便反覆彎曲亦可抑制顯示不良。
於將本發明中之顯示裝置用積層體配置於顯示裝置表面之情形時，以含氟層為外側且基材層為內側之方式配置。
作為將本發明中之顯示裝置用積層體配置於顯示裝置表面之方法，並無特別限定，例如可例舉經由接著層之方法等。
作為本發明中之顯示面板，例如可例舉有機EL顯示裝置、液晶顯示裝置等顯示裝置中所使用之顯示面板。
本發明中之顯示裝置可於顯示面板與顯示裝置用積層體之間具有觸控面板構件。
關於本發明中之顯示裝置，其中，較佳為可摺疊顯示器、可捲曲顯示器、可彎曲顯示器等可撓性顯示裝置。
又，本發明中之顯示裝置較佳為能夠摺疊。即，本發明中之顯示裝置較佳為可摺疊顯示器。 [實施例]
以下，示出實施例及比較例，進一步詳細地說明本發明。
＜第1實施方式＞ （實施例1-1～1-11、比較例1-3～1-10） 首先，以成為下述所示之組成之方式摻合各成分而獲得硬塗層用樹脂組成物。
（硬塗層用樹脂組成物之組成） ・新戊四醇丙烯酸酯（產品名「A-9550」，新中村化學公司製造）：87質量份 ・新戊四醇丙烯酸酯（產品名「A-TMM-3L」，新中村化學公司製造）：13質量份 ・聚合起始劑（1-羥基環己基苯基酮，產品名「Omnirad184」，IGM Resins B.V.公司製造）：4質量份 ・二氧化矽粒子（平均一次粒徑12 nm，日產化學工業公司製造）：40質量份（固形物成分100%換算值） ・甲基異丁基酮：210質量份
（硬塗層之形成） 繼而，使用厚度50 μm之聚醯胺醯亞胺膜（產品名「CPI」，Kolon公司製造）作為基材層，於基材層上利用棒式塗布機塗布上述硬塗層用樹脂組成物，而形成塗膜。其後，對於該塗膜，藉由在80℃加熱1分鐘而使塗膜中之溶劑蒸發，使用紫外線照射裝置（Fusion UV Systems Japan公司製造，光源H BULB），於氧濃度為100 ppm以下以累計光量達到300 mJ/cm 2之方式照射紫外線而使塗膜硬化，形成厚度3.5 μm之硬塗層。
（無機化合物層之形成） 繼而，於硬塗層上依序形成第2無機化合物層、第1無機化合物層。再者，第1無機化合物層及第2無機化合物層係使用表1中所示之構成材料，以表1中所示之成膜速度藉由真空蒸鍍法而形成。將第1無機化合物層及第2無機化合物層之構成材料、厚度、成膜速度及折射率示於表1、表2。
（含氟層之形成） 繼而，於第1無機化合物層上以100 W之輸出進行40秒電漿處理，以0.1 nm/秒之成膜速度來真空蒸鍍氟化合物（大金工業公司製造，產品名「OPTOOL UD120」），藉此形成厚度7 nm之含氟層。如此獲得了依序具有基材層、硬塗層、第2無機化合物層、第1無機化合物層、含氟層之積層體。
（實施例1-12～1-16、比較例1-11～1-14） 於基材層上依序形成硬塗層、第3無機化合物層、第2無機化合物層、第1無機化合物層、及含氟層（厚度7 nm）。將第1無機化合物層～第3無機化合物層之構成材料、厚度、成膜速度及折射率示於表1、表2。再者，所使用之基材層、硬塗層及含氟層之形成方法與上述實施例1-1相同。
（實施例1-17～1-19、比較例1-15～1-16） 於基材層上依序形成硬塗層、第4無機化合物層、第3無機化合物層、第2無機化合物層、第1無機化合物層、及含氟層（厚度7 nm）。將第1無機化合物層～第4無機化合物層之構成材料、厚度、成膜速度及折射率示於表1、表2。再者，所使用之基材層、硬塗層及含氟層之形成方法與實施例1-1相同。
（比較例1-1） 於基材層上依序形成硬塗層、第1無機化合物層、及含氟層（厚度7 nm）。將第1無機化合物層之構成材料、厚度、成膜速度及折射率示於表2。再者，所使用之基材層、硬塗層及含氟層之形成方法與實施例1-1相同。
（比較例1-2） 於基材層上依序形成硬塗層、第2無機化合物層、及含氟層（厚度7 nm）。將第2無機化合物層之構成材料、厚度、成膜速度及折射率示於表2。再者，所使用之基材層、硬塗層及含氟層之形成方法與實施例1-1相同。
[表1]
   含氟層 第1無機化合物層 第2無機化合物層 第3無機化合物層 第4無機化合物層
材料 厚度 [nm] 材料 厚度 [nm] 折射率 成膜速度 [nm/秒] 材料 厚度 [nm] 折射率 成膜速度 [nm/秒] 材料 厚度 [nm] 折射率 成膜速度 [nm/秒] 材料 厚度 [nm] 折射率 成膜速度 [nm/秒]
實施例1-1 氟化合物 7 SiO 2 80 1.47 0.16 Al 2O 3 80 1.63 0.26 - - - - - - - -
實施例1-2 氟化合物 7 SiO 2 80 1.47 0.16 Al 2O 3 80 1.63 0.58 - - - - - - - -
實施例1-3 氟化合物 7 SiO 2 80 1.47 0.16 Al 2O 3 80 1.63 1.19 - - - - - - - -
實施例1-4 氟化合物 7 SiO 2 80 1.47 0.58 Al 2O 3 80 1.63 1.19 - - - - - - - -
實施例1-5 氟化合物 7 SiO 2 80 1.47 0.11 Al 2O 3 80 1.63 0.26 - - - - - - - -
實施例1-6 氟化合物 7 SiO 2 80 1.47 0.16 Al 2O 3 80 1.63 0.16 - - - - - - - -
實施例1-7 氟化合物 7 SiO 2 80 1.47 0.16 ZrO 2 80 2.00 0.26 - - - - - - - -
實施例1-8 氟化合物 7 SiO 2 80 1.47 0.16 ZrO 2 80 2.00 0.58 - - - - - - - -
實施例1-9 氟化合物 7 SiO 2 80 1.47 0.16 ZrO 2 80 2.00 1.19 - - - - - - - -
實施例1-10 氟化合物 7 SiO 2 80 1.47 0.30 ZrO 2 80 2.00 1.19 - - - - - - - -
實施例1-11 氟化合物 7 SiO 2 80 1.47 0.30 ZnO 80 2.10 0.26 - - - - - - - -
實施例1-12 氟化合物 7 SiO 2 80 1.47 0.16 Nb 2O 5 80 2.30 0.26 ZrO 2 40 2.00 0.26 - - - -
實施例1-13 氟化合物 7 SiO 2 80 1.47 0.16 Nb 2O 5 80 2.30 1.19 ZrO 2 40 2.00 1.19 - - - -
實施例1-14 氟化合物 7 SiO 2 80 1.47 0.30 Nb 2O 5 80 2.30 1.19 ZrO 2 40 2.00 1.52 - - - -
實施例1-15 氟化合物 7 SiO 2 80 1.47 0.30 TiO 2 80 2.30 0.26 ZrO 2 40 2.00 0.26 - - - -
實施例1-16 氟化合物 7 SiO 2 80 1.47 0.30 TiO 2 80 2.30 0.26 ZnO 40 2.10 0.26 - - - -
實施例1-17 氟化合物 7 SiO 2 80 1.47 0.16 Nb 2O 5 80 2.30 0.26 ZrO 2 40 2.00 0.26 Al 2O 3 20 1.64 0.26
實施例1-18 氟化合物 7 SiO 2 80 1.47 0.16 Nb 2O 5 80 2.30 1.19 ZrO 2 40 2.00 1.19 Al 2O 3 20 1.64 1.19
實施例1-19 氟化合物 7 SiO 2 80 1.47 0.30 Nb 2O 5 80 2.30 1.19 ZrO 2 40 2.00 1.52 Al 2O 3 20 1.64 1.52
[表2]
   含氟層 第1無機化合物層 第2無機化合物層 第3無機化合物層 第4無機化合物層
材料 厚度 [nm] 材料 厚度 [nm] 折射率 成膜速度 [nm/秒] 材料 厚度 [nm] 折射率 成膜速度 [nm/秒] 材料 厚度 [nm] 折射率 成膜速度 [nm/秒] 材料 厚度 [nm] 折射率 成膜速度 [nm/秒]
比較例1-1 氟化合物 7 SiO 2 80 1.47 0.16 - - - - - - - - - - - -
比較例1-2 氟化合物 7 - - - - Al 2O 3 80 1.63 0.26 - - - - - - - -
比較例1-3 氟化合物 7 SiO 2 80 1.47 0.65 Al 2O 3 80 1.63 0.26 - - - - - - - -
比較例1-4 氟化合物 7 SiO 2 80 1.47 0.08 Al 2O 3 80 1.63 0.26 - - - - - - - -
比較例1-5 氟化合物 7 SiO 2 80 1.47 0.16 Al 2O 3 80 1.63 1.52 - - - - - - - -
比較例1-6 氟化合物 7 SiO 2 80 1.47 0.16 Al 2O 3 80 1.63 0.11 - - - - - - - -
比較例1-7 氟化合物 7 SiO 2 80 1.47 0.65 ZrO 2 80 2.00 0.26 - - - - - - - -
比較例1-8 氟化合物 7 SiO 2 80 1.47 0.08 ZrO 2 80 2.00 0.26 - - - - - - - -
比較例1-9 氟化合物 7 SiO 2 80 1.47 0.16 ZrO 2 80 2.00 1.52 - - - - - - - -
比較例1-10 氟化合物 7 SiO 2 80 1.47 0.16 ZrO 2 80 2.00 0.11 - - - - - - - -
比較例1-11 氟化合物 7 SiO 2 80 1.47 0.16 Nb 2O 5 80 2.30 1.52 ZrO 2 40 2.00 0.26 - - - •
比較例1-12 氟化合物 7 SiO 2 80 1.47 0.16 Nb 2O 5 80 2.30 1.52 ZrO 2 40 2.00 1.52 - - - -
比較例1-13 氟化合物 7 SiO 2 80 1.47 0.16 Nb 2O 5 80 2.30 0.11 ZrO 2 40 2.00 0.26 - - - -
比較例1-14 氟化合物 7 SiO 2 80 1.47 0.16 Nb 2O 5 80 2.30 0.11 ZrO 2 40 2.00 0.26 - - - -
比較例1-15 氟化合物 7 SiO 2 80 1.47 0.16 Nb 2O 5 80 2.30 1.52 ZrO 2 40 2.00 0.26 Al 2O 3 20 1.64 0.26
比較例1-16 氟化合物 7 SiO 2 80 1.47 0.16 Nb 2O 5 80 2.30 0.11 ZrO 2 40 2.00 0.26 Al 2O 3 20 1.64 0.26
[相對膜密度] 藉由「A.顯示裝置用積層體－I.第1實施方式－1.第1無機化合物層－（3）相對膜密度D1」中所記載之方法來測定實施例1-1～1-19及比較例1-1～1-16中所獲得之顯示裝置用積層體之第1無機化合物層與第2無機化合物層之相對膜密度。將結果示於表3及表4。
[評價] （動摩擦係數） 藉由「A.顯示裝置用積層體－I.第1實施方式－3.含氟層」中所記載之方法來測定實施例1-1～1-19及比較例1-1～1-16中所獲得之顯示裝置用積層體之含氟層側之表面之動摩擦係數。將結果示於表3及表4。
（耐磨性評價） 藉由以下之評價方法及評價基準來評價實施例1-1～1-19及比較例1-1～1-16中所獲得之顯示裝置用積層體之耐磨性。 ・評價方法 使用TESTER SANGYO公司製造之學振型摩擦堅牢度試驗機AB-301，將5 cm×10 cm大小之積層體以無折痕或皺褶之方式利用cellophane tape（註冊商標）固定於玻璃板上。繼而，使用#0000之鋼絲絨（Nippon steel wool公司製造之Bonstar#0000），將鋼絲絨固定於1 cm×1 cm之治具，於負荷750 g/cm 2、移動速度100 mm/秒、移動距離50 mm之條件下對顯示裝置用積層體之防污層（含氟層）側之面反覆摩擦100次。其後，對於進行耐磨試驗後之積層體，在螢光燈下對除移動速度不穩定之兩端10 mm之範圍以外之中心30 mm之範圍之表面進行透射觀察，評價有無傷痕及狀態。 ・評價基準 A：合格（未產生傷痕） B：合格（長度5 mm以下之傷痕未達5條） C：不合格（上述A、B以外）
（動態彎曲性評價） 關於實施例1-1～1-19及比較例1-1～1-16中所獲得之顯示裝置用積層體之彎曲性，進行動態彎曲試驗，根據下述評價基準進行評價。 以下，參照圖7對動態彎曲試驗之方法進行說明。 對積層體進行下述動態彎曲試驗，評價耐彎曲性。首先，準備20 mm×100 mm大小之積層體，對於耐久試驗機（產品名「DLDMLH-FS」，Yuasa System Equipment公司製造），如圖7（a）所示，將顯示裝置用積層體1之短邊部1C、及與短邊部1C對向之短邊部1D利用平行地配置之固定部51分別加以固定。繼而，如圖7（b）所示，藉由使固定部51以相互接近之方式移動，而使顯示裝置用積層體1以摺疊方式變形，進而，如圖7（c）所示，使固定部51移動至顯示裝置用積層體1之由固定部51固定之對向之2個短邊部1C、1D之間隔d達到特定值之位置後，使固定部51向相反方向移動以解除顯示裝置用積層體1之變形。如圖7（a）～（c）所示使固定部51移動，藉此將顯示裝置用積層體1摺疊180°，反覆進行此動作。此時，將顯示裝置用積層體1之對向之2個短邊部1C、1D之間隔d設為6 mm（ϕ6 mm動態彎曲試驗）、或10 mm（ϕ10 mm動態彎曲試驗）。又，積層體係彎曲成含氟層成為外側。動態彎曲試驗之結果係根據下述基準進行評價。
・評價基準 A：合格（於使積層體之含氟層側為外側之ϕ6 mm之動態彎曲試驗中，即便反覆進行了20萬次彎曲，亦未斷裂且未發生龜裂） B：合格（於使積層體之含氟層側為外側之ϕ10 mm之動態彎曲試驗中，即便反覆進行了20萬次彎曲，亦未斷裂且未發生龜裂） C：不合格（於使積層體之含氟層側為外側之ϕ10 mm之動態彎曲試驗中，在反覆進行了20萬次彎曲之期間內，發生斷裂或發生龜裂）
（彎曲試驗後之彎曲部之視認性） 將實施上述動態彎曲試驗後之顯示裝置用積層體貼合於已顯示畫面之平板顯示器，在螢光燈下確認彎曲部之視認性，根據以下評價基準進行評價。 ・評價基準 A：合格（10人中有10人可無障礙地視認） B：合格（10人中有7～9人可無障礙地視認） C：不合格（10人中有4～6人可無障礙地視認） D：不合格（10人中，可無障礙地視認之人數未達4人）
（視感反射率） 藉由「A.顯示裝置用積層體－I.第1實施方式－5.顯示裝置用積層體－（1）視感反射率」中所記載之方法來測定實施例1-1～1-19及比較例1-1～1-16中所獲得之顯示裝置用積層體之視感反射率。將結果示於表3及表4。
[表3]
   相對膜密度 動摩擦係數 耐磨性 動態彎曲性 視感反射率[%] 彎曲試驗後之彎曲部之視認性
D1 D2 含氟層向外彎折 5°反射
實施例1-1 0.96 0.89 0.07 A A 1.5 A
實施例1-2 0.95 0.71 0.07 A A 1.5 A
實施例1-3 0.95 0.53 0.07 A A 1.4 A
實施例1-4 0.79 0.54 0.09 B A 1.5 A
實施例1-5 1.16 0.88 0.07 A B 1.6 B
實施例1-6 0.97 0.94 0.07 A B 1.5 B
實施例1-7 0.95 0.88 0.07 A A 1.1 A
實施例1-8 0.96 0.71 0.07 A A 1.2 A
實施例1-9 0.97 0.53 0.07 A A 1.1 A
實施例1-10 0.78 0.54 0.09 B A 1.1 B
實施例1-11 0.92 0.85 0.07 A A 1.2 A
實施例1-12 0.96 0.89 0.07 A A 0.5 A
實施例1-13 0.96 0.53 0.07 A A 0.6 A
實施例1-14 0.77 0.52 0.08 B A 0.5 B
實施例1-15 0.96 0.86 0.07 A A 0.5 A
實施例1-16 0.96 0.85 0.07 A A 0.5 A
實施例1-17 0.97 0.89 0.07 A A 0.4 A
實施例1-18 0.96 0.53 0.07 A A 0.3 A
實施例1-19 0.78 0.54 0.09 B A 0.3 B
[表4]
   相對膜密度 動摩擦係數 耐磨性 動態彎曲性 視感反射率[%] 彎曲試驗後之彎曲部之視認性
D1 D2 含氟層向外彎折 5°反射
比較例1-1 0.97 - 0.07 A A 2.7 C
比較例1-2 - 0.89 0.07 C A 7.3 D
比較例1-3 0.67 0.87 0.12 C A 1.5 A
比較例1-4 1.24 0.87 0.07 A C 1.5 D
比較例1-5 0.95 0.47 0.07 A C 1.4 D
比較例1-6 0.96 1.07 0.07 A C 1.5 D
比較例1-7 0.67 0.88 0.11 C A 1.2 A
比較例1-8 1.22 0.89 0.07 A C 1.1 D
比較例1-9 0.97 0.48 0.07 A C 1.2 D
比較例1-10 0.96 1.09 0.07 A C 1.1 D
比較例1-11 0.96 0.47 0.07 A C 0.5 D
比較例1-12 0.97 0.47 0.07 A C 0.5 D
比較例1-13 0.95 1.08 0.07 A C 0.6 D
比較例1-14 0.96 1.09 0.07 A C 0.5 D
比較例1-15 0.95 0.48 0.07 A C 0.3 D
比較例1-16 0.96 1.07 0.07 A C 0.4 D
自表3及表4確認到，實施例1-1～1-19之顯示裝置用積層體在維持低反射性之同時具有優異之耐彎曲性與耐磨性。另一方面，確認到於第1無機化合物層之相對膜密度未達0.70之情形時（比較例1-3及比較例1-7），耐磨性欠佳。又，確認到於第1無機化合物層之相對膜密度大於1.20之情形時（比較例1-4及比較例1-8），耐彎曲性欠佳。確認到於第2無機化合物層之相對膜密度未達0.50之情形時（比較例1-5、比較例1-9、比較例1-11～比較例1-12及比較例1-15）、以及第2無機化合物層之相對膜密度為1.0以上之情形時（比較例1-6、1-10、1-13、1-14及比較例1-16），耐彎曲性欠佳。又，關於比較例1-1及比較例1-2，確認到無機化合物層僅為一層，視感反射率較高。
（實施例2-1～2-24、比較例2-1～2-8） 藉由與實施例1-1相同之方法，於基材層上形成硬塗層。
繼而，以下述組成獲得包含無機化合物粒子及聚合性化合物（脂肪族胺酯丙烯酸酯）之分散層用樹脂組成物。此時，使用表5及表6中所示之種類之無機化合物粒子，變更無機化合物粒子之摻合量。
（分散層用樹脂組成物之組成） ・脂肪族胺酯丙烯酸酯（產品名「EBECRYL225」，DAICEL-ALLNEX公司製造）：74質量份 ・新戊四醇(三/四)丙烯酸酯（產品名「PETIA」，DAICEL-ALLNEX公司製造）：26質量份 ・聚合起始劑（1-羥基環己基苯基酮，產品名「Omnirad184」，IGM Resins B.V.公司製造）：4質量份 ・無機化合物粒子（平均一次粒徑10 nm，RESINO COLOR公司製造）：無機化合物粒子之種類與摻合量（質量份（固形物成分100%換算值））示於表5及表6 ・甲基異丁基酮：300質量份
於硬塗層上塗布上述分散層用樹脂組成物，形成塗膜。其後，使該塗膜乾燥、硬化，形成表5及表6中所示之厚度及折射率之分散層。
繼而，於分散層上依序形成第2無機化合物層、第1無機化合物層。 第2無機化合物層係使用表5及表6中所示之構成材料，以表5及表6中所示之成膜速度藉由真空蒸鍍法而形成。將第2無機化合物層之厚度及折射率示於表5及表6。第1無機化合物層係使用表5及表6中所示之構成材料，以表5及表6中所示之成膜速度藉由真空蒸鍍法而形成。將第1無機化合物層之厚度及折射率示於表5及表6。 繼而，藉由與實施例1-1相同之方法，於第1無機化合物層上形成厚度7 nm之含氟層。藉此獲得依序具有基材層、硬塗層、分散層、第2無機化合物層、第1無機化合物層、含氟層之積層體。
[相對膜密度] 藉由「A.顯示裝置用積層體－I.第1實施方式－1.第1無機化合物層－（3）相對膜密度D1」及「A.顯示裝置用積層體－I.第1實施方式－6.其他構成－（5）中介層－（i）相對膜密度」中所記載之方法來測定所獲得之顯示裝置用積層體之第1無機化合物層D1、第2無機化合物層D2及分散層之相對膜密度D3。
（動摩擦係數及視感反射率） 藉由與實施例1-1相同之方式測定動摩擦係數及視感反射率。
（耐磨性評價） 藉由上述評價方法及評價基準來評價顯示裝置用積層體之耐磨性。
（動態彎曲性評價） 於上述動態彎曲試驗中，將顯示裝置用積層體1之對向之2個短邊部1C、1D之間隔d設為3 mm（ϕ3 mm動態彎曲試驗）、或4 mm（ϕ4 mm動態彎曲試驗），使積層體之含氟層側為內側而進行試驗，根據下述評價基準來評價動態彎曲性。又，將顯示裝置用積層體1之對向之2個短邊部1C、1D之間隔d設為4 mm（ϕ4 mm動態彎曲試驗）、或5 mm（ϕ5 mm動態彎曲試驗），使積層體之含氟層側成為外側而進行試驗，根據下述評價基準來評價動態彎曲性。
・評價基準（使積層體之含氟層側為內側之試驗） A：合格（於使積層體之含氟層側為內側之ϕ3 mm之動態彎曲試驗中，即便反覆進行了20萬次彎曲，亦未斷裂且未發生龜裂） B：合格（於使積層體之含氟層側為內側之ϕ4 mm之動態彎曲試驗中，即便反覆進行了20萬次彎曲，亦未斷裂且未發生龜裂） C：不合格（於使積層體之含氟層側為內側之ϕ4 mm之動態彎曲試驗中，在反覆進行了20萬次彎曲之期間內，發生斷裂或發生龜裂）
・評價基準（使積層體之含氟層側為外側之試驗） A：合格（於使積層體之含氟層側為外側之ϕ4 mm之動態彎曲試驗中，即便反覆進行了20萬次彎曲，亦未斷裂且未發生龜裂） B：合格（於使積層體之含氟層側為外側之ϕ5 mm之動態彎曲試驗中，即便反覆進行了20萬次彎曲，亦未斷裂且未發生龜裂） C：不合格（於使積層體之含氟層側為外側之ϕ5 mm之動態彎曲試驗中，在反覆進行了20萬次彎曲之期間內，發生斷裂或發生龜裂）
（彎曲試驗後之彎曲部之視認性） 將實施上述使含氟層側為外側之動態彎曲試驗後之顯示裝置用積層體貼合於已顯示畫面之平板顯示器，在螢光燈下確認彎曲部之視認性，根據以下評價基準進行評價。
・評價基準 A：合格（10人中有10人可無障礙地視認） B：合格（10人中有7～9人可無障礙地視認） C：不合格（10人中有4～6人可無障礙地視認） D：不合格（10人中，可無障礙地視認之人數未達4人）
[表5]
   第1無機化合物層 第2無機化合物層 分散層
材料 厚度 折射率 成膜速度 材料 厚度 折射率 成膜速度 粒子 厚度 折射率
[nm] [nm/秒] [nm] [nm/秒] 種類 摻合量 [nm]
[質量份]
實施例2-1 SiO 2 95 1.47 0.16 ZrO 2 25 2.00 0.26 ZrO 2 190 100 1.70
實施例2-2 SiO 2 95 1.47 0.16 ZrO 2 25 2.00 0.26 ZrO 2 260 100 1.75
實施例2-3 SiO 2 95 1.47 0.16 ZrO 2 25 2.00 0.26 ZrO 2 320 100 1.80
實施例2-4 SiO 2 95 1.47 0.16 ZrO 2 25 2.00 0.26 ZrO 2 150 100 1.65
實施例2-5 SiO 2 95 1.47 0.16 ZrO 2 25 2.00 0.26 ZrO 2 190 100 1.70
實施例2-6 SiO 2 95 1.47 0.16 ZrO 2 25 2.00 0.26 ZrO 2 190 180 1.70
實施例2-7 SiO 2 95 1.47 0.16 ZrO 2 25 2.00 0.26 ZrO 2 190 250 1.70
實施例2-8 SiO 2 95 1.47 0.16 ZrO 2 25 2.00 0.26 ZrO 2 190 290 1.70
實施例2-9 SiO 2 95 1.47 0.16 ZrO 2 25 2.00 0.26 ZrO 2 190 30 1.70
實施例2-10 SiO 2 95 1.47 0.16 TiO 2 15 2.30 0.26 ZrO 2 190 100 1.70
實施例2-11 SiO 2 95 1.47 0.16 Nb 2O 5 15 2.30 0.26 ZrO 2 190 100 1.70
實施例2-12 SiO 2 95 1.47 0.16 ZnO 20 2.10 0.26 ZrO 2 190 100 1.70
實施例2-13 SiO 2 95 1.47 0.16 SnO 2 20 2.05 0.26 ZrO 2 190 100 1.70
實施例2-14 SiO 2 95 1.47 0.16 ZrO 2 25 2.00 0.26 TiO 2 150 100 1.70
實施例2-15 SiO 2 95 1.47 0.16 ZrO 2 25 2.00 0.26 Nb 2O 5 150 100 1.70
實施例2-16 SiO 2 95 1.47 0.16 ZrO 2 25 2.00 0.26 ZnO 190 100 1.70
實施例2-17 SiO 2 95 1.47 0.16 ZrO 2 25 2.00 0.26 SnO 2 190 100 1.70
實施例2-18 SiO 2 95 1.47 0.16 ZrO 2 25 2.00 0.26 ZrO 2 190 100 1.70
實施例2-19 SiO 2 95 1.47 0.16 ZrO 2 25 2.00 0.26 ZrO 2 190 100 1.70
實施例2-20 SiO 2 95 1.47 0.16 ZrO 2 25 2.00 0.26 ZrO 2 190 100 1.70
實施例2-21 SiO 2 95 1.47 0.16 ZrO 2 25 2.00 0.16 ZrO 2 190 100 1.70
實施例2-22 SiO 2 95 1.47 0.16 ZrO 2 25 2.00 1.19 ZrO 2 190 100 1.70
實施例2-23 SiO 2 95 1.47 0.11 ZrO 2 25 2.00 0.26 ZrO 2 190 100 1.70
實施例2-24 SiO 2 95 1.47 0.58 ZrO 2 25 2.00 0.26 ZrO 2 190 100 1.70
[表6]
   第1無機化合物層 第2無機化合物層 分散層
材料 厚度 折射率 成膜速度 材料 厚度 折射率 成膜速度 粒子 厚度 折射率
[nm] [nm/ 秒] [nm] [nm/ 秒] 種類 摻合量 [nm]
[質量份]
比較例2-1 SiO 2 95 1.47 1.50 ZrO 2 25 2.00 0.22 與第2無機化合物層相同
比較例2-2 SiO 2 95 1.47 1.50 ZrO 2 25 2.00 0.22 ZrO 2 100 100 1.60
比較例2-3 SiO 2 95 1.47 0.08 ZrO 2 25 2.00 0.22 ZrO 2 190 100 1.70
比較例2-4 SiO 2 95 1.47 0.16 ZrO 2 25 2.00 0.08 ZrO 2 190 100 1.70
比較例2-5 SiO 2 95 1.47 0.16 ZrO 2 25 2.00 1.50 ZrO 2 190 100 1.70
比較例2-6 SiO 2 95 1.47 0.16 TiO 2 25 2.00 1.50 ZrO 2 30 100 1.56
比較例2-7 SiO 2 95 1.47 0.16 TiO 2 15 2.30 0.50 ZrO 2 190 100 1.70
比較例2-8 SiO 2 95 1.47 0.16 - - - - ZrO 2 30 100 1.56
[表7]
   相對膜密度 動摩擦係數 耐磨性 動態彎曲性 視感反射率[%] 彎曲部之視認性
D1 D2 D3 D3＜D2 ＜D1 D2/D3 D1/D3 向內彎折 向外彎折 5°反射
實施例2-1 0.99 0.77 0.38 OK 2.0 2.6 0.08 A A A 0.7 A
實施例2-2 1.00 0.79 0.49 OK 1.6 2.0 0.08 A A A 0.8 A
實施例2-3 1.00 0.80 0.65 OK 1.2 1.5 0.08 A A B 1.1 B
實施例2-4 0.99 0.76 0.27 OK 2.8 3.7 0.08 A A A 0.7 A
實施例2-5 0.98 0.74 0.12 OK 6.2 8.2 0.08 A B A 1.0 B
實施例2-6 0.99 0.77 0.39 OK 2.0 2.5 0.08 A A A 1.3 A
實施例2-7 0.99 0.78 0.41 OK 1.9 2.4 0.08 A A A 0.5 A
實施例2-8 0.99 0.78 0.42 OK 1.9 2.4 0.08 A A A 1.0 A
實施例2-9 0.99 0.76 0.37 OK 2.1 2.7 0.08 A A A 0.8 A
實施例2-10 0.92 0.56 0.38 OK 1.4 2.4 0.08 A A A 0.6 A
實施例2-11 0.92 0.56 0.38 OK 1.5 2.4 0.08 A A A 0.6 A
實施例2-12 0.93 0.59 0.38 OK 1.6 2.4 0.12 A A A 0.5 A
實施例2-13 0.92 0.58 0.38 OK 1.5 2.4 0.12 A A A 0.6 A
實施例2-14 0.97 0.75 0.22 OK 3.4 4.4 0.08 A A A 0.7 A
實施例2-15 0.97 0.75 0.19 OK 3.9 5.1 0.08 A B A 0.7 B
實施例2-16 0.98 0.76 0.36 OK 2.1 2.7 0.08 A A A 0.7 A
實施例2-17 0.98 0.75 0.37 OK 2.0 2.6 0.08 A A A 0.7 A
實施例2-18 0.99 0.75 0.25 OK 3.0 4.0 0.08 A A A 0.7 A
實施例2-19 0.97 0.74 0.18 OK 4.1 5.4 0.08 A B A 0.7 B
實施例2-20 0.99 0.78 0.39 OK 2.0 2.5 0.08 A A A 0.7 B
實施例2-21 0.99 0.95 0.39 OK 2.4 2.5 0.08 A A B 0.7 B
實施例2-22 0.99 0.52 0.39 OK 1.4 2.5 0.08 A B A 0.7 B
實施例2-23 1.14 0.77 0.38 OK 2.0 3.0 0.07 A A B 0.7 B
實施例2-24 0.79 0.77 0.38 OK 2.0 2.1 0.23 B A A 0.7 A
[表8]
   相對膜密度 動摩擦係數 耐磨性 動態彎曲性 視感反射率[%] 彎曲部之視認性
D1 D2 D3 D3＜D2＜D1 D2/D3 D1/D3 向內彎折 向外彎折 5°反射
比較例2-1 0.65 0.81 0.76 NG 1.1 0.9 0.08 C C B 1.0 C
比較例2-2 0.65 0.81 0.11 NG 7.4 8.9 0.08 C C C 2.2 C
比較例2-3 1.23 0.77 0.38 OK 2.0 3.2 0.07 A A C 0.7 C
比較例2-4 0.99 1.06 0.38 NG 2.8 2.6 0.08 A A C 0.7 C
比較例2-5 0.92 0.43 0.38 OK 1.1 2.4 0.08 A C A 0.7 C
比較例2-6 0.99 0.43 0.08 OK 5.4 12.4 0.08 A C A 1.0 C
比較例2-7 0.99 0.47 0.67 NG 0.7 1.5 0.08 A A C 0.6 C
比較例2-8 0.97 - 0.08 - - 12.1 0.08 A C A 2.1 C
自表7及表8確認到，與比較例2-1～比較例2-8相比，實施例2-1～2-24之顯示裝置用積層體在維持低反射性之同時具有優異之耐彎曲性與耐磨性。又，確認到即便根據較實施例1-12～1-19及下述實施例3-1～3-7更嚴格之評價基準，實施例2-1～2-24之顯示裝置用積層體亦具有優異之彎曲性。
＜第2實施方式＞ （實施例3-1～3-6、比較例3-1） 藉由與實施例1-1相同之方法，於基材層上形成硬塗層。繼而，於硬塗層上依序形成第3無機化合物層、第2無機化合物層、第1無機化合物層。 第3無機化合物層係使用ZrO 2作為構成材料，以0.26 nm/秒之成膜速度藉由真空蒸鍍法而形成。第3無機化合物層之厚度為45 nm，折射率為2.00。第2無機化合物層係使用Nb 2O 5作為構成材料，以0.26 nm/秒之成膜速度藉由真空蒸鍍法而形成。第2無機化合物層之厚度為75 nm，折射率為2.30。第1無機化合物層係使用SiO 2作為構成材料，以表9所示之成膜速度藉由真空蒸鍍法而形成。第1無機化合物層之厚度為80 nm，折射率為1.47。 繼而，藉由與實施例1相同之方法，於第1無機化合物層上形成厚度7 nm之含氟層。藉此獲得依序具有基材層、硬塗層、第3無機化合物層、第2無機化合物層、第1無機化合物層、含氟層之積層體。
（實施例3-7、比較例3-2） 除了於硬塗層之形成中使用下述含抗靜電劑之硬塗層用樹脂組成物以外，藉由與實施例3-1相同之方法獲得積層體。
（含抗靜電劑之硬塗層用樹脂組成物之組成） ・新戊四醇丙烯酸酯（產品名「A-9550」，新中村化學公司製造）：87質量份 ・新戊四醇丙烯酸酯（產品名「A-TMM-3L」，新中村化學公司製造）：13質量份 ・聚合起始劑（1-羥基環己基苯基酮，產品名「Omnirad184」，IGM Resins B.V.公司製造）：4質量份 ・二氧化矽粒子（平均一次粒徑12 nm，日產化學工業公司製造）：40質量份（固形物成分100%換算值） ・甲基異丁基酮：190質量份 ・抗靜電劑（產品名「MT-2」，荒川化學工業公司製造）：3質量份（固形物成分100%換算值）
[相對膜密度及氟原子含有比率] 藉由「A.顯示裝置用積層體－I.第1實施方式－1.第1無機化合物層－（3）相對膜密度D1」中所記載之方法來測定所獲得之顯示裝置用積層體之第1無機化合物層與第2無機化合物層之相對膜密度。又，藉由「A.顯示裝置用積層體－II.第2實施方式－1.第1無機化合物層－（2）氟原子之含有比率」中所記載之方法來測定第1無機化合物層之氟原子之含有比率。將第1無機化合物層之相對膜密度D1及氟原子之含有比率之測定結果示於表9。第2無機化合物層之相對膜密度D2為0.58。
[評價] （龜裂伸長率） 首先，將積層體切成3 mm×100 mm大小，製作試驗片。繼而，使用Tensilon萬能試驗機（Orientec公司製造之「STA-1150」），將夾板間距離（夾具間距離）設為50 mm，將上述試驗片以無撓曲之方式進行設置，於溫度23±5℃、濕度30%RH以上70%RH以下之條件下，以10 mm/分鐘之拉伸速度持續拉伸直至積層體發生龜裂為止，測定積層體發生龜裂之時間點之拉伸長度。龜裂之有無係對試驗片照射LED，藉由目視而判斷。繼而，根據以下之式而算出龜裂伸長率。 龜裂伸長率（%）＝100×拉伸長度（mm）/夾具間距離（mm）
（耐磨性評價及動態彎曲性評價） 藉由上述實施例1-1～1-19及比較例1-1～1-16中之評價方法及評價基準來評價積層體之耐磨性及動態彎曲性。再者，於使積層體之含氟層側為外側之ϕ6 mm之動態彎曲試驗中，即便反覆進行了50萬次彎曲，亦未斷裂且未發生龜裂時，將評價基準設為A’：合格。
（表面電阻值測定） 首先，將積層體切成100 mm×100 mm大小，製作試驗片。繼而，使用電阻率計（產品名「Hiresta UX MCP-HT型」，Mitsubishi Chemical Analytech股份有限公司製造），依據JIS K6911：1995，將施加電壓設為1000 V，並且使積層體之與含氟層側相反側之面與拼版台（register table）接觸，以無折痕或皺褶之方式利用cellophane tape（註冊商標）進行固定，使電阻率計之URS探針與積層體之含氟層側之面接觸，藉此測定表面電阻值。對積層體之含氟層側之面隨機地分別測定10個部位之表面電阻值，表面電阻值採用所測得之10個部位之表面電阻值之算術平均值。
[表9]
   第1無機化合物層 視感反射率 5°反射 龜裂伸長率 表面電阻值 耐磨性 動態彎曲性 含氟層向外彎折
成膜速度 厚度 相對膜密度D1 氟含有比率
[nm/秒] [nm] [原子%] [%] [%] [Ω/□]
實施例3-1 0.16 80 0.99 0.0 0.5 3.8 - A A
實施例3-2 0.18 80 0.91 0.1 0.5 3.8 - A A
實施例3-3 0.24 80 0.87 1.5 0.6 4.7 - A A
實施例3-4 0.39 80 0.82 4.4 0.6 5.1 - A A
實施例3-5 0.51 80 0.79 5.8 0.6 6.5 - B A
實施例3-6 0.58 80 0.73 6.3 0.6 7.2 - B A’
實施例3-7 0.16 80 0.99 0.0 0.5 3.8 7.7×10 10 A A
比較例3-1 0.65 80 0.68 6.7 0.5 7.9 - C A’
比較例3-2 0.65 80 0.68 6.6 0.5 7.9 7.9×10 1 0 C A’
再者，表中之表面電阻值之「-」意指超過裝置極限（上限）。
如表9所示，確認到於第1無機化合物層之氟原子之含有比率為6.5原子%以下之情形時（實施例3-1～實施例3-6），耐磨性及耐彎曲性優異。再者，確認到即便於使用包含抗靜電劑之硬塗層材料之情形時，耐磨性及耐彎曲性亦優異（實施例3-7）。另一方面，確認到比較例3-1及比較例3-2雖然動態彎曲性及龜裂伸長率良好，但由於第1無機化合物層之氟原子之含有比率較高，故而耐磨性欠佳。
＜第3實施方式＞ （實施例4-1～4-3、比較例4-1） 藉由與實施例1-1相同之方法，於基材層上形成硬塗層。
繼而，獲得包含無機化合物粒子及上述聚合性化合物之分散層用樹脂組成物。此時，示於表10中所示之種類之無機化合物粒子，變更無機化合物粒子之摻合量。
於硬塗層上塗布上述分散層用樹脂組成物，形成塗膜。其後，使該塗膜乾燥、硬化，形成厚度100 nm之分散層。
繼而，於分散層上形成第1無機化合物層。第1無機化合物層係使用表10中所示之構成材料，以表10中所示之成膜速度藉由真空蒸鍍法而形成。將第1無機化合物層之厚度及折射率示於表10。 繼而，藉由與實施例1-1相同之方法，於第1無機化合物層上形成厚度7 nm之含氟層。藉此獲得依序具有基材層、硬塗層、高折射率分散層、第1無機化合物層、含氟層之積層體。
[相對膜密度] 藉由「A.顯示裝置用積層體－I.第1實施方式－1.第1無機化合物層－（3）相對膜密度D1」及「A.顯示裝置用積層體－I.第1實施方式－6.其他構成－（5）中介層－（i）相對膜密度」中所記載之方法來測定所獲得之顯示裝置用積層體之第1無機化合物層D1及高折射率分散層之相對膜密度D4。
（動摩擦係數及視感反射率） 藉由與實施例1-1相同之方式測定動摩擦係數及視感反射率。
（耐磨性評價、動態彎曲性評價、彎曲試驗後之彎曲部之視認性） 藉由上述實施例2-1～2-24及比較例2-1～2-8中之評價方法及評價基準來評價顯示裝置用積層體之耐磨性、動態彎曲性及彎曲試驗後之彎曲部之視認性。
[表10]
   第1無機化合物層 高折射率分散層
材料 厚度[nm] 折射率 成膜速度[nm/秒] 粒子 厚度[nm] 折射率
實施例4-1 SiO 2 80 1.47 0.16 ZrO 2 100 1.70
實施例4-2 SiO 2 80 1.47 0.11 ZrO 2 100 1.70
實施例4-3 SiO 2 80 1.47 0.58 ZrO 2 100 1.70
比較例4-1 SiO 2 80 1.47 0.16 ZrO 2 100 1.56
[表11]
   相對膜密度 動摩擦係數 耐磨性 動態彎曲性 視感反射率[%] 彎曲試驗後之彎曲部之視認性
D1 D4 D1/D4 向內彎折 向外彎折 5°反射
實施例4-1 0.98 0.38 2.6 0.08 A A A 0.8 A
實施例4-2 1.12 0.38 2.9 0.07 A A B 0.8 A
實施例4-3 0.76 0.38 2.0 0.23 B A A 0.8 A
比較例4-1 0.97 0.08 12.1 0.08 A C A 2.3 C
自表11確認到，相對於比較例4-1，高折射率分散層之相對膜密度D4為0.10以上0.70以下之實施例4-1～4-3的耐磨性及耐彎曲性優異。
即，本發明可提供以下發明。
[1] 一種顯示裝置用積層體，其依序具有：含有氟原子之含氟層、第1無機化合物層、第2無機化合物層、及基材層；且 上述第1無機化合物層具有作為低折射率材料之第1無機化合物，相對膜密度D1為0.70以上1.20以下； 上述第2無機化合物層具有作為高折射率材料之第2無機化合物，相對膜密度D2為0.50以上且未達1.00；並且， 使光以5°入射角入射至上述顯示裝置用積層體之上述含氟層側之面時之單向反射光的視感反射率為2.0%以下。
[2] 如[1]所記載之顯示裝置用積層體，其中，上述顯示裝置用積層體之上述含氟層側之表面之動摩擦係數為0.01以上0.30以下。
[3] 如[1]或[2]所記載之顯示裝置用積層體，其中，上述第1無機化合物為矽氧化物。
[4] 如[1]至[3]中任一項所記載之顯示裝置用積層體，其中，上述第2無機化合物為鋁氧化物、鋯氧化物、鈦氧化物、鋅氧化物、錫氧化物及鈮氧化物中之任一者。
[5] 如[1]至[4]中任一項所記載之顯示裝置用積層體，其中，上述第1無機化合物層之厚度為30 nm以上200 nm以下。
[6] 如[1]至[5]中任一項所記載之顯示裝置用積層體，其中，上述第2無機化合物層之厚度為10 nm以上200 nm以下。
[7] 如[1]至[6]中任一項所記載之顯示裝置用積層體，其於上述第2無機化合物層與上述基材層之間具有1個或複數個其他無機化合物層。
[8] 如[1]至[7]中任一項所記載之顯示裝置用積層體，其中，上述顯示裝置用積層體中所含之所有無機化合物層之合計厚度為500 nm以下。
[9] 如[1]至[8]中任一項所記載之顯示裝置用積層體，其於上述第2無機化合物層與上述基材層之間具有中介層，且 上述中介層之相對膜密度D3為0.10以上0.70以下。
[10] 如[9]所記載之顯示裝置用積層體，其中，上述中介層係使無機化合物粒子分散於黏合劑樹脂中而成之分散層。
[11] 如[9]或[10]所記載之顯示裝置用積層體，其中，上述中介層為其他無機化合物層。
[12] 如[9]至[11]中任一項所記載之顯示裝置用積層體，其中，上述第1無機化合物層之相對膜密度D1、上述第2無機化合物層之相對膜密度D2及上述中介層之相對膜密度D3滿足D3＜D2＜D1之關係。
[13] 如[9]至[12]中任一項所記載之顯示裝置用積層體，其中，上述第2無機化合物層之相對膜密度D2及上述中介層之相對膜密度D3滿足1.0≦D2/D3≦7.0。
[14] 如[9]至[13]中任一項所記載之顯示裝置用積層體，其中，上述第1無機化合物層之相對膜密度D1及上述中介層之相對膜密度D3滿足1.0≦D1/D3≦12.0。
[15] 如[1]至[14]中任一項所記載之顯示裝置用積層體，其於上述第2無機化合物層與上述基材層之間具有硬塗層。
[16] 如[1]至[15]中任一項所記載之顯示裝置用積層體，其於上述基材層之與上述第2無機化合物層側之面為相反之面側具有貼附用接著層。
[17] 一種顯示裝置用積層體，其依序具有：含有氟原子之含氟層、第1無機化合物層、第2無機化合物層、及基材層；且 上述第1無機化合物層具有作為低折射率材料之第1無機化合物，氟原子之含有比率為6.5原子%以下； 上述第2無機化合物層具有作為高折射率材料之第2無機化合物，相對膜密度D2為0.50以上且未達1.00；並且， 使光以5°入射角入射至上述顯示裝置用積層體之上述含氟層側之面時之單向反射光的視感反射率為2.0%以下。
[18] 如[17]所記載之顯示裝置用積層體，其中，上述顯示裝置用積層體之上述含氟層側之表面之動摩擦係數為0.01以上0.30以下。
[19] 如[17]或[18]所記載之顯示裝置用積層體，其中，上述第1無機化合物為矽氧化物。
[20] 如[17]至[19]中任一項所記載之顯示裝置用積層體，其中，上述第2無機化合物為鋁氧化物、鋯氧化物、鈦氧化物、鋅氧化物、錫氧化物及鈮氧化物中之任一者。
[21] 如[17]至[20]中任一項所記載之顯示裝置用積層體，其中，上述第1無機化合物層之厚度為30 nm以上200 nm以下。
[22] 如[17]至[21]中任一項所記載之顯示裝置用積層體，其中，上述第2無機化合物層之厚度為10 nm以上200 nm以下。
[23] 如[17]至[22]中任一項所記載之顯示裝置用積層體，其於上述第2無機化合物層與上述基材層之間具有1個或複數個其他無機化合物層。
[24] 如[17]至[23]中任一項所記載之顯示裝置用積層體，其中，上述顯示裝置用積層體中所含之所有無機化合物層之合計厚度為500 nm以下。
[25] 如[17]至[24]中任一項所記載之顯示裝置用積層體，其於上述第2無機化合物層與上述基材層之間具有硬塗層。
[26] 如[17]至[25]中任一項所記載之顯示裝置用積層體，其於上述基材層之與上述第2無機化合物層側之面為相反之面側具有貼附用接著層。
[27] 一種顯示裝置用積層體，其依序具有：含有氟原子之含氟層、第1無機化合物層、及基材層；且 上述第1無機化合物層具有作為低折射率材料之第1無機化合物，相對膜密度D1為0.70以上1.20以下； 於上述第1無機化合物層與上述基材層之間具有使具有高折射率之無機化合物粒子分散於黏合劑樹脂中而成之高折射率分散層， 上述高折射率分散層之相對膜密度D4為0.10以上0.70以下；並且， 使光以5°入射角入射至上述顯示裝置用積層體之上述含氟層側之面時之單向反射光的視感反射率為2.0%以下。
[28] 如[27]所記載之顯示裝置用積層體，其中，上述第1無機化合物層之相對膜密度D1及上述高折射率分散層之相對膜密度D4滿足1.0≦D1/D4≦12.0。
[29] 如[27]或[28]所記載之顯示裝置用積層體，其中，上述顯示裝置用積層體之上述含氟層側之表面之動摩擦係數為0.01以上0.30以下。
[30] 如[27]至[29]中任一項所記載之顯示裝置用積層體，其中，上述第1無機化合物為矽氧化物。
[31] 如[27]至[30]中任一項所記載之顯示裝置用積層體，其中，上述無機化合物粒子為鋁氧化物、鋯氧化物、鈮氧化物、鋅氧化物、錫氧化物及鈦氧化物中之任一者。
[32] 如[27]至[31]中任一項所記載之顯示裝置用積層體，其於上述高折射率分散層與上述基材層之間具有硬塗層。
[33] 如[27]至[32]中任一項所記載之顯示裝置用積層體，其於上述基材層之與上述高折射率分散層側之面為相反之面側具有貼附用接著層。
[34] 一種顯示裝置，其具備顯示面板、及 配置於上述顯示面板之觀察者側之[1]至[33]中任一項所記載之顯示裝置用積層體。
1a,1b,1c:顯示裝置用積層體 2:含氟層 3:第1無機化合物層 4:第2無機化合物層 5:基材層 6:第3無機化合物層 7:硬塗層 8:貼附用接著層 9:中介層 10:高折射率分散層 20a,20b,20c:可撓性顯示裝置 21:顯示面板
[圖1]係表示本發明中之第1實施方式及第2實施方式之顯示裝置用積層體之一例的概略剖視圖。 [圖2]係表示本發明中之第1實施方式及第2實施方式之顯示裝置用積層體之另一例的概略剖視圖。 [圖3]係表示本發明中之第1實施方式及第2實施方式之顯示裝置用積層體之另一例的概略剖視圖。 [圖4]係對第1無機化合物層之氟原子之含有比率之不同進行說明之第1無機化合物層及含氟層的剖面示意圖。 [圖5]係表示本發明中之第3實施方式之顯示裝置用積層體之一例的概略剖視圖。 [圖6]係表示本發明之顯示裝置之一例之概略剖視圖。 [圖7]係用以對動態彎曲試驗之方法進行說明之圖。
1,1a,1b:顯示裝置用積層體
1A:含氟層2側之面
2:含氟層
3:第1無機化合物層
4:第2無機化合物層
5:基材層

Claims (34)

  1. 一種顯示裝置用積層體，其依序具有：含有氟原子之含氟層、第1無機化合物層、第2無機化合物層、及基材層；且 上述第1無機化合物層具有作為低折射率材料之第1無機化合物，相對膜密度D1為0.70以上1.20以下； 上述第2無機化合物層具有作為高折射率材料之第2無機化合物，相對膜密度D2為0.50以上且未達1.00；並且， 使光以5°入射角入射至上述顯示裝置用積層體之上述含氟層側之面時之單向反射光的視感反射率為2.0%以下。
  2. 如請求項1之顯示裝置用積層體，其中，上述顯示裝置用積層體之上述含氟層側之表面之動摩擦係數為0.01以上0.30以下。
  3. 如請求項1之顯示裝置用積層體，其中，上述第1無機化合物為矽氧化物。
  4. 如請求項1之顯示裝置用積層體，其中，上述第2無機化合物為鋁氧化物、鋯氧化物、鈦氧化物、鋅氧化物、錫氧化物及鈮氧化物中之任一者。
  5. 如請求項1之顯示裝置用積層體，其中，上述第1無機化合物層之厚度為30 nm以上200 nm以下。
  6. 如請求項1之顯示裝置用積層體，其中，上述第2無機化合物層之厚度為10 nm以上200 nm以下。
  7. 如請求項1之顯示裝置用積層體，其於上述第2無機化合物層與上述基材層之間具有1個或複數個其他無機化合物層。
  8. 如請求項1之顯示裝置用積層體，其中，上述顯示裝置用積層體中所含之所有無機化合物層之合計厚度為500 nm以下。
  9. 如請求項1之顯示裝置用積層體，其於上述第2無機化合物層與上述基材層之間具有中介層，且 上述中介層之相對膜密度D3為0.10以上0.70以下。
  10. 如請求項9之顯示裝置用積層體，其中，上述中介層係使無機化合物粒子分散於黏合劑樹脂中而成之分散層。
  11. 如請求項9之顯示裝置用積層體，其中，上述中介層係其他無機化合物層。
  12. 如請求項9之顯示裝置用積層體，其中，上述第1無機化合物層之相對膜密度D1、上述第2無機化合物層之相對膜密度D2及上述中介層之相對膜密度D3滿足D3＜D2＜D1之關係。
  13. 如請求項9之顯示裝置用積層體，其中，上述第2無機化合物層之相對膜密度D2及上述中介層之相對膜密度D3滿足1.0≦D2/D3≦7.0。
  14. 如請求項9之顯示裝置用積層體，其中，上述第1無機化合物層之相對膜密度D1及上述中介層之相對膜密度D3滿足1.0≦D1/D3≦12.0。
  15. 如請求項1之顯示裝置用積層體，其於上述第2無機化合物層與上述基材層之間具有硬塗層。
  16. 如請求項1之顯示裝置用積層體，其於上述基材層之與上述第2無機化合物層側之面為相反之面側具有貼附用接著層。
  17. 一種顯示裝置用積層體，其依序具有：含有氟原子之含氟層、第1無機化合物層、第2無機化合物層、及基材層；且 上述第1無機化合物層具有作為低折射率材料之第1無機化合物，氟原子之含有比率為6.5原子%以下； 上述第2無機化合物層具有作為高折射率材料之第2無機化合物，相對膜密度D2為0.50以上且未達1.00；並且， 使光以5°入射角入射至上述顯示裝置用積層體之上述含氟層側之面時之單向反射光的視感反射率為2.0%以下。
  18. 如請求項17之顯示裝置用積層體，其中，上述顯示裝置用積層體之上述含氟層側之表面之動摩擦係數為0.01以上0.30以下。
  19. 如請求項17之顯示裝置用積層體，其中，上述第1無機化合物為矽氧化物。
  20. 如請求項17之顯示裝置用積層體，其中，上述第2無機化合物為鋁氧化物、鋯氧化物、鈦氧化物、鋅氧化物、錫氧化物及鈮氧化物中之任一者。
  21. 如請求項17之顯示裝置用積層體，其中，上述第1無機化合物層之厚度為30 nm以上200 nm以下。
  22. 如請求項17之顯示裝置用積層體，其中，上述第2無機化合物層之厚度為10 nm以上200 nm以下。
  23. 如請求項17之顯示裝置用積層體，其於上述第2無機化合物層與上述基材層之間具有1個或複數個其他無機化合物層。
  24. 如請求項17之顯示裝置用積層體，其中，上述顯示裝置用積層體中所含之所有無機化合物層之合計厚度為500 nm以下。
  25. 如請求項17之顯示裝置用積層體，其於上述第2無機化合物層與上述基材層之間具有硬塗層。
  26. 如請求項17之顯示裝置用積層體，其於上述基材層之與上述第2無機化合物層側之面為相反之面側具有貼附用接著層。
  27. 一種顯示裝置用積層體，其依序具有：含有氟原子之含氟層、第1無機化合物層、及基材層；且 上述第1無機化合物層具有作為低折射率材料之第1無機化合物，相對膜密度D1為0.70以上1.20以下； 於上述第1無機化合物層與上述基材層之間具有使具有高折射率之無機化合物粒子分散於黏合劑樹脂中而成之高折射率分散層， 上述高折射率分散層之相對膜密度D4為0.10以上0.70以下；並且， 使光以5°入射角入射至上述顯示裝置用積層體之上述含氟層側之面時之單向反射光的視感反射率為2.0%以下。
  28. 如請求項27之顯示裝置用積層體，其中，上述第1無機化合物層之相對膜密度D1及上述高折射率分散層之相對膜密度D4滿足1.0≦D1/D4≦12.0。
  29. 如請求項27之顯示裝置用積層體，其中，上述顯示裝置用積層體之上述含氟層側之表面之動摩擦係數為0.01以上0.30以下。
  30. 如請求項27之顯示裝置用積層體，其中，上述第1無機化合物為矽氧化物。
  31. 如請求項27之顯示裝置用積層體，其中，上述無機化合物粒子為鋁氧化物、鋯氧化物、鈮氧化物、鋅氧化物、錫氧化物及鈦氧化物中之任一者。
  32. 如請求項27之顯示裝置用積層體，其於上述高折射率分散層與上述基材層之間具有硬塗層。
  33. 如請求項27之顯示裝置用積層體，其於上述基材層之與上述高折射率分散層側之面為相反之面側具有貼附用接著層。
  34. 一種顯示裝置，其具備顯示面板、及 配置於上述顯示面板之觀察者側之請求項1至33中任一項之顯示裝置用積層體。
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