CN118265928A - 显示装置用层积体和显示装置 - Google Patents

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小野寺研一
本田和也
川口纱绪里
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Abstract

本发明提供一种显示装置用层积体，其为依次具有第1无机化合物层、第2无机化合物层、硬涂层和基材层的显示装置用层积体，其中，上述第1无机化合物层与上述第2无机化合物层的界面即第1界面处的侵蚀率E1、与上述第2无机化合物层与上述硬涂层的界面即第2界面处的侵蚀率E2之差ΔE1(E2‑E1)为‑1.0×10‑2μm/g以上1.0×10‑1μm/g以下的范围。

Description

显示装置用层积体和显示装置
技术领域
本发明涉及显示装置用层积体和显示装置。
背景技术
在显示装置的表面配置有具备功能层的层积体，该功能层具有例如硬涂性、耐磨耗性、防反射性、防眩性、抗静电性、防污性等各种性能。
专利文献1中公开了一种光学膜，其为用于显示装置的光学膜，其包含丙烯酸类树脂膜，基于微粒喷浆冲蚀(MSE)试验的磨耗率(μm/g)处于0.7以上1.4以下的范围，并且依据JIS P8115测定的耐折次数为300次以上。
近年来，可折叠显示器、可卷曲显示器、可弯曲显示器等柔性显示器正受到关注，正在积极地进行配置于柔性显示器表面的层积体的开发。
对于柔性显示装置，要求即使反复弯曲也不产生显示不良，对于配置于柔性显示装置的表面的层积体，要求在反复弯曲时不产生剥离、裂纹的耐弯曲性。特别是在具备具有防反射性能的功能层的层积体中，有时因弯曲而产生的显示不良明显，因此要求更优异的耐弯曲性。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2016-71274号公报
发明内容
发明所要解决的课题
本发明是鉴于上述实际情况而进行的，其主要目的在于提供耐弯曲性优异的显示装置用层积体和显示装置。
用于解决课题的手段
本发明的一个实施方式提供一种显示装置用层积体，其为依次具有第1无机化合物层、第2无机化合物层、硬涂层和基材层的显示装置用层积体，其中，上述第1无机化合物层与上述第2无机化合物层的界面即第1界面处的侵蚀率E1、与上述第2无机化合物层与上述硬涂层的界面即第2界面处的侵蚀率E2之差ΔE1(E2-E1)为-1.0×10-2μm/g以上1.0×10-1μm/g以下的范围。
本发明中的显示装置用层积体中，上述第1无机化合物层的侵蚀率E3与上述第1界面处的侵蚀率E1之差ΔE2(E3-E1)优选为0.0μm/g以上且小于2.0×10-2μm/g。
另外，本发明中，上述第1无机化合物层的折射率优选小于上述第2无机化合物层的折射率。
此外，优选在上述第1无机化合物层的与上述第2无机化合物层相反侧的面具有含氟层。
本发明中的显示装置用层积体中，上述第1无机化合物层中包含的第1无机化合物优选为硅氧化物。
另外，本发明中的显示装置用层积体中，上述第1无机化合物层的厚度优选为30nm以上200nm以下。
本发明中的显示装置用层积体中，上述第1无机化合物层和上述第2无机化合物层的合计厚度优选为500nm以下。
另外，本发明中的显示装置用层积体中，上述第2无机化合物层中包含的第2无机化合物优选为铝氧化物、锆氧化物和铌氧化物中的任一种。
此外，本发明中的显示装置用层积体中，上述第2无机化合物层的厚度优选为20nm以上300nm以下。
本发明中的显示装置用层积体中，使光以入射角5°入射至上述第1无机化合物层侧的面时的正反射光的视感反射率能够为2.0％以下。
另外，本发明中的显示装置用层积体能够在上述基材层的与上述硬涂层侧的面相反的面侧具有贴附用粘接层。
本发明的另一实施方式提供一种显示装置，其具备：显示面板；和配置于上述显示面板的观察者侧的上述显示装置用层积体。
发明效果
本发明起到能够提供耐弯曲性优异的显示装置用层积体和显示装置的效果。
附图说明
图1是示出本发明的显示装置用层积体的一例的示意性截面图。
图2是示出本发明的显示装置用层积体的另一例的示意性截面图。
图3是示出本发明的显示装置用层积体的另一例的示意性截面图。
图4是示出本发明的显示装置的一例的示意性截面图。
图5是用于说明动态弯曲试验的方法的图。
具体实施方式
以下，参照附图等对本发明的实施方式进行说明。其中，本发明能够以多种不同的方式来实施，并不解释为限定于以下例示的实施方式的记载内容。另外，为了使说明更加明确，附图与实际情况相比，有时对各部分的宽度、厚度、形状等进行示意性地表示，但其始终为一例，并非对本发明的解释进行限定。另外，在本说明书和各附图中，对于与已出现的附图中的上述要素同样的要素赋以相同的附图标记，并适当地省略详细的说明。
本说明书中，在表述在某部件的上方配置其他部件的方式时，在仅表述为“上方”或“下方”的情况下，只要不特别声明，则包括以与某部件接触的方式在正上方或正下方配置其他部件的情况、和在某部件的上方或下方进一步隔着另一部件配置其他部件的情况这两者。另外，本说明书中，在表述在某部件的面配置另一部件的方式时，在仅表述为“面侧”或“面”的情况下，只要不特别声明，则包括以与某部件接触的方式在正上方或正下方配置其他部件的情况、和在某部件的上方或下方进一步隔着另一部件配置其他部件的情况这两者。
本发明的发明人发现，在依次具有第1无机化合物层、第2无机化合物层、硬涂层和基材层的显示装置用层积体中，有时在第1无机化合物层与第2无机化合物层之间、或者第2无机化合物层与硬涂层之间产生剥离，耐弯曲性差。
本发明的发明人对显示装置用层积体的耐弯曲性进行了深入研究，结果发现，包含无机化合物层和硬涂层的层积体的层间密合性与其界面的侵蚀率存在相关性。具体而言，发现：若界面的密合性弱，则基于界面的深度位置的侵蚀率产生偏差，结果侵蚀率变高。即，发现具有下述倾向：界面的侵蚀率越高则界面的密合性越低、界面的侵蚀率越低则界面的密合性越高。
此外，本发明的发明人发现：若第1无机化合物层与第2无机化合物层的界面处的侵蚀率E1、与第2无机化合物层与硬涂层的界面处的侵蚀率E2之差ΔE1(E2-E1)为规定的范围，则层积体的耐弯曲性提高，从而完成了本发明。以下，对本发明的显示装置用层积体进行详细说明。
A.显示装置用层积体
图1是示出本发明中的显示装置用层积体的一例的示意性截面图。如图1所示，本发明的显示装置用层积体1依次具有第1无机化合物层2、第2无机化合物层3、硬涂层4和基材层5。
本发明的特征在于，第1无机化合物层2与第2无机化合物层3的界面即第1界面A处的侵蚀率E1、与第2无机化合物层3与硬涂层4的界面即第2界面B处的侵蚀率E2之差ΔE1(E2-E1)为-1.0×10-2μm/g以上1.0×10-1μm/g以下的范围。
图1示出第2无机化合物层3为单层膜的情况。另一方面，在第2无机化合物层为由多个无机化合物膜构成的多层膜的情况下，第2无机化合物层的最靠第1无机化合物层侧的无机化合物层膜与第1无机化合物层的界面成为第1界面。另外，第2无机化合物层的最靠硬涂层侧的无机化合物膜与硬涂层的界面成为第2界面。即，如图2所示，在第2无机化合物层3为例如包含上层膜3a和下层膜3b的多层膜的情况下，第1无机化合物层2与第2无机化合物层3中的上层膜3a的界面为第1界面A，第2无机化合物层3中的下层膜3b与硬涂层4的界面为第2界面B。
本发明中的显示装置用层积体通过使ΔE1(E2-E1)为-1.0×10-2μm/g以上，能够抑制在第1界面的弯曲部产生剥离。若ΔE1(E2-E1)小于-1.0×10-2μm/g，则与第1界面相比第2界面过于牢固地密合，弯曲时应力集中于第1界面，在第1界面的弯曲部会产生剥离。
另一方面，通过使ΔE1(E2-E1)为1.0×10-1μm/g以下，能够抑制在第2界面B的弯曲部产生剥离。
若ΔE1(E2-E1)为大于1.0×10-1μm/g的值，则第2界面的密合性不充分，弯曲时应力集中于第2界面，在第2界面的弯曲部产生剥离。
需要说明的是，在第2无机化合物层为多层膜的情况下，第2无机化合物层内的相邻的无机化合物膜之间的界面不会对层积体的耐弯曲性造成影响。这是因为，层积体的耐弯曲性受到第1界面和第2界面的密合性的影响大，与第2无机化合物层内相比，应力集中于第1界面或第2界面，从而在第2无机化合物层内产生剥离之前在第1界面或第2界面产生剥离。
因此，成为具有优异的耐弯曲性的显示装置用层积体。以下，对本发明的显示装置用层积体中的各构成进行详细说明。
1.侵蚀率
(1)ΔE1(E2-E1)
本发明中的显示装置用层积体中，第1无机化合物层与第2无机化合物层的界面即第1界面A处的侵蚀率E1、与第2无机化合物层与硬涂层的界面即第2界面B处的侵蚀率E2之差ΔE1(E2-E1)为-1.0×10-2μm/g以上1.0×10-1μm/g以下的范围。优选为-8.0×10-3μm/g以上8.0×10-2μm/g以下的范围。
ΔE1(E2-E1)例如为-1.0×10-2μm/g以上0.0μm/g以下的范围，其中，优选为-8.0×10-3μm/g以上0.0μm/g以下的范围。这是因为能够使耐弯曲性更良好。
另一方面，也能够为0.0μm/g以上1.0×10-1μm/g以下，此外，也能够为1.0×10-3μm/g以上8.0×10-2μm/g以下的范围。
作为使ΔE1(E2-E1)的值为上述范围的方法，调整第1界面A处的侵蚀率E1和第2界面B处的侵蚀率E2，但第1界面A处的侵蚀率E1和第2界面B处的侵蚀率E2可以举出有无对第2无机化合物层或硬涂层的表面处理、进行表面处理条件的调整的方法。
(2)侵蚀率测定方法
本发明中，侵蚀率为使用材料表面精密试验机(微粒喷浆冲蚀试验机、以下称为MSE试验机、Palmeso Co.,Ltd.制/装置名Nano MSE/型号N-MSE-A)测定的值。
使平均粒径D50＝0.7μm的多角氧化铝粉末(颗粒)分散于水中，制备相对于浆料的总质量包含1质量％多角氧化铝粉末的浆料。将固定于夹具上的显示装置用层积体固定于装置台，将显示装置用层积体与用于喷射上述浆料的喷嘴的投射距离设定为4mm。喷嘴直径设为1mm×1mm，进而将具有直径0.3mm的孔的掩模安装于喷嘴口。从喷嘴喷射包含多角氧化铝粉末的浆料，从第1无机化合物层侧的表面依次切削固定于台上的显示装置用层积体(侵蚀处理)。
关于此时的喷射强度，事先在同样的实验条件下切削现有的PMMA基板，由相对于浆料喷射量的被切削的位移(即，喷吹浆料1g时被切削的深度)求出标准投射力X，基于该值来确定。在使用多角氧化铝粉末的本发明中，将对现有的PMMA基板切削7.0μm/g时的投射力设为标准投射力X，将投射力设定为标准投射力X的1/100的投射力(对现有的PMMA基板切削0.07μm/g时的投射力)。
用水清洗被切削的部分后，测定侵蚀深度Z(形状测量)。侵蚀深度Z例如使用触针式表面形状测定器(株式会社小坂研究所制/型号PU-EU1/触针头前端R＝2μm/载荷100μN/测量倍率20,000/测长4mm/测量速度0.2mm/sec)进行测定。
具体而言，首先，使用测量长度中未磨耗的两端基准区域a、b来实施倾斜校正。接着，测定从作为基准的回归直线至磨耗痕迹中心部c(50μm宽度的平均值)的高低差。接着，取得投射0g时的高低差数据与各投射量时的高低差数据之差，取得侵蚀深度Z。
反复实施设定次数(N次)的上述侵蚀处理和利用上述形状测定器的形状测定，取得N次的形状测量数据。本发明中，使用由上述投射力计算出的投射颗粒量X’[g]和侵蚀深度Z[μm]，计算出单位投射颗粒量的侵蚀深度即侵蚀率E[μm/g]，制成侵蚀进行图和侵蚀率分布图(侵蚀深度(纵轴)与侵蚀率(横轴)的图)。
本发明中，预先通过利用显微镜观察等的截面观察，掌握层积体的层积方向上的第1界面A的深度位置。
使用上述得到的图，将与从比第1界面A的深度位置浅10nm的位置到比上述第1界面A的深度位置深10nm的位置的范围所对应的侵蚀深度范围的侵蚀率的平均定义为第1界面A处的侵蚀率E1。同样，将与从比第2界面B的深度位置浅10nm的位置到比上述第2界面B的深度位置深10nm的位置的范围所对应的侵蚀深度范围的侵蚀率的平均定义为第2界面B处的侵蚀率E2。
(3)各界面的侵蚀率
作为第1界面A处的侵蚀率E1，只要是ΔE1(E2-E1)为上述范围的值就没有特别限定，例如为1.0×10-3μm/g以上1.0×10-1μm/g以下，也可以为3.0×10-3μm/g以上8.0×10-2μm/g以下。
作为第2界面B处的侵蚀率E2，只要是ΔE1(E2-E1)为上述范围的值就没有特别限定，例如为1.0×10-3μm/g以上1.0×10-1μm/g以下，也可以为3.0×10-3μm/g以上8.0×10-2μm/g以下。
第1界面A处的侵蚀率E1可以通过在上述的第2无机化合物层形成第1无机化合物层之前，对成为基底的第2无机化合物层进行表面处理，进而变更表面处理条件来调整。
另外，第2界面B处的侵蚀率E2可以通过在上述的硬涂层形成第2无机化合物层之前，对成为基底的硬涂层进行表面处理，进而变更表面处理条件来调整。
此处，作为所使用的表面处理方法，可以举出例如等离子体处理、电晕放电处理等。
2.层构成
2.1第1无机化合物层
第1无机化合物层为层积体中包含的无机化合物层中位于最靠基材层侧的相反侧的单层的无机化合物层。第1无机化合物层与第2无机化合物层直接接触。
(1)第1无机化合物
第1无机化合物层由第1无机化合物构成。作为第1无机化合物，没有特别限定，可以举出例如硅氧化物、镓氧化物等无机氧化物。
另外，在第1无机化合物层中，作为第1无机化合物，可以包含作为折射率低于第2无机化合物的低折射率材料的无机氟化物。这是为了得到低反射性。作为这样的无机氟化物，可以举出例如氟化铝、氟化钡、氟化铈、氟化钆、氟化镧、氟化锂、氟化镁、氟化钠、氟化钕、氟化镱、氟化钇等。
对于本发明而言，其中，从折射率、通用性的方面出发，优选硅氧化物。
另外，第1无机化合物层中包含的无机化合物优选为1种，但也可以包含多种无机化合物。
需要说明的是，无机氧化物的平均组成例如由MOx(其中，式中，M表示金属元素，x的值根据金属元素而范围分别不同)表示。例如硅氧化物的平均组成由SiOx表示，式中，x可以取0＜x≤2，优选为1≤x≤2，更优选为SiO2。本发明中，无机氧化物的平均组成并不限定于如上所述在化学计量上最佳的组成。
本发明中，第1无机化合物层优选为蒸镀膜。特别优选为硅氧化物(二氧化硅)蒸镀膜。
第1无机化合物层中不仅包含上述无机化合物，还可以包含氮氧化物、碳氧化物、碳氮氧化物等。
(2)侵蚀率E3
本发明中的第1无机化合物层的侵蚀率E3与上述第1界面A处的侵蚀率E1之差优选为规定的范围。具体而言，第1无机化合物层的侵蚀率E3与第1界面处的侵蚀率E1之差ΔE2(E3-E1)优选为0.0μm/g以上且小于2.0×10-2μm/g，进一步优选为3.0×10-3μm/g以上1.9×10-2μm/g以下。若ΔE2(E3-E1)过大，有时在弯曲试验时在第1无机化合物层内产生剥离、裂纹。
作为第1无机化合物层的侵蚀率E3，例如为3.0×10-3μm/g以上5.0×10-2μm/g以下，也可以为5.0×10-3μm/g以上3.0×10-2μm/g以下。
需要说明的是，本发明中，在层积体的层积方向上，将与从第1无机化合物层的一个面的深度位置到第1无机化合物层的另一个面的深度位置的范围所对应的侵蚀深度范围的侵蚀率的平均定义为第1无机化合物层的侵蚀率E3。
(3)折射率
第1无机化合物层的折射率优选为1.60以下、更优选为1.50以下。另一方面，例如为1.30以上、也可以为1.40以上。
需要说明的是，本说明书中，各层的折射率是指相对于波长550nm的光的折射率。折射率的测定方法可以举出使用椭偏仪进行测定的方法。作为椭偏仪，可以举出例如JobinYvon公司制造的“UVSEL”、Techno Synergy公司制造的“DF1030R”等。
本发明中，优选上述第1无机化合物层的折射率小于上述第2无机化合物层的折射率。这是因为能够降低本发明的层积体的反射率。
(4)厚度
作为第1无机化合物层的厚度，没有特别限定，优选为30nm以上200nm以下、更优选为50nm以上150nm以下。
此处，本说明书中，各层的厚度可以为由利用透射型电子显微镜(TEM)、扫描型电子显微镜(SEM)或扫描透射型电子显微镜(STEM)观察的显示装置用层积体的厚度方向的截面进行测定而得到的任意10处的厚度的平均值。
(5)形成方法
第1无机化合物层例如可以从低折射率颗粒中选择具有所期望的折射率的颗粒，通过真空蒸镀法、溅射法和离子镀法等物理气相沉积法(Physical Vapor Deposition法、PVD法)等形成。其中，从生产率(蒸镀速度)的方面出发，优选真空蒸镀法。
2.2第2无机化合物层
第2无机化合物层为配置于第1无机化合物层与硬涂层之间的层。第2无机化合物层与第1无机化合物层和硬涂层直接接触。
如图1所示，第2无机化合物层3可以为单层膜，也可以如图2所示为多层膜。图2中的第2无机化合物层3具有与第1无机化合物层2直接接触的上层膜3a和与硬涂层4直接接触的下层膜3b这2层。
第2无机化合物层的第1无机化合物层侧的表面可以实施了表面处理，也可以未实施表面处理。在第2无机化合物层为多层膜的情况下，“第2无机化合物层的第1无机化合物层侧的表面”是指第2无机化合物层的最靠第1无机化合物层侧的无机化合物膜的表面。
作为表面处理，可以举出上述的“1.侵蚀率”中记载的方法。特别优选等离子体处理。作为等离子体处理条件，可以举出等离子体放电电力、辉光放电压力等。本发明中，作为等离子体处理，例如，等离子体处理越强，密合性越提高，第1界面A处的侵蚀率E1越低。
(1)第2无机化合物
作为构成第2无机化合物层的第2无机化合物，没有特别限定，其中，优选为折射率比第1无机化合物高的材料。这是因为，通过与第1无机化合物层的组合，可得到低反射性。作为构成第2无机化合物层的第2无机化合物，可以举出铝氧化物、锆氧化物、硅氧化物、铪氧化物、钽氧化物、铈氧化物、钛氧化物、锌氧化物、镁氧化物、钇氧化物和铌氧化物等无机氧化物。
铝氧化物的平均组成由AlOx表示，式中，x可以取0＜x≤1.5，优选为Al2O3。锆氧化物的平均组成由ZrOx表示，式中，x可以取0＜x≤2，优选为ZrO2。铌氧化物的平均组成由NbOx表示，式中，x可以取0＜x≤2.5，优选为Nb2O5。
第2无机化合物层优选为蒸镀膜。特别优选为铝氧化物(氧化铝)蒸镀膜、氧化锆蒸镀膜、氧化铌蒸镀膜。第2无机化合物层可以为通过1次蒸镀形成的单一膜，也可以为通过多次蒸镀形成的多层膜。在第2无机化合物层为多层膜的情况下，可以组合相同组成的膜，也可以组合不同组成的膜。
另外，在第2无机化合物层为单层膜的情况下，第2无机化合物层中包含的无机化合物优选为1种，但也可以包含多种无机化合物。在为多层膜的情况下，各膜中包含的无机化合物优选为一种，但也可以包含多种无机化合物。
(2)折射率
第2无机化合物层的折射率优选为1.60以上、更优选为1.80以上。另一方面，例如为3.00以下，也可以为2.50以下。
在第2无机化合物层为多层膜的情况下，上述折射率是指各膜的折射率。在第2无机化合物层由多层膜构成的情况下，也可以由折射率不同的多层膜构成。该情况下，第2无机化合物层可以从硬涂层侧朝向第1无机化合物层(低折射率层)依次层积中折射率层、高折射率层，或者依次层积高折射率层、低折射率层、高折射率层。
(3)厚度
作为第2无机化合物层的厚度，没有特别限定，优选为20nm以上300nm以下、更优选为30nm以上270nm以下。
在第2无机化合物层为多层膜的情况下，第2无机化合物层的厚度是指构成第2无机化合物层的多层膜整体的厚度。在第2无机化合物层为多层膜的情况下，各膜的厚度例如为例如10nm以上150nm以下、优选为15nm以上130nm以下。
(4)形成方法
第2无机化合物层例如可以从高折射率颗粒中选择具有所期望的折射率的颗粒，通过真空蒸镀法、溅射法和离子镀法等物理气相沉积法(Physical Vapor Deposition法、PVD法)等形成。其中，从生产率(蒸镀速度)的方面出发，优选真空蒸镀法。
2.3无机化合物层
对于本发明而言，本发明中的显示装置用层积体中包含的无机化合物层的合计厚度优选为500nm以下、进一步优选为400nm以下。另一方面，例如，可以为40nm以上，也可以为70nm以上。若合计厚度过厚，则有时显示装置用层积体的耐弯曲性变差。无机化合物层的合计厚度通常是指第1无机化合物层与第2无机化合物层的合计厚度。
3.硬涂层
本发明中的显示装置用层积体在第2无机化合物层与基材层之间具有硬涂层。本发明中，通过使第2无机化合物层与硬涂层的界面即第2界面处的侵蚀率E2与上述第1界面处的侵蚀率E1之差为上述范围，显示装置用层积体整体上耐弯曲性优异。另外，通过配置硬涂层，能够提高耐磨耗性。特别是在上述基材层为树脂基材的情况下，通过配置硬涂层，能够有效地提高耐磨耗性。
硬涂层的第2无机化合物层侧的表面可以实施了表面处理，也可以未实施表面处理。作为表面处理，可以举出上述的“1.侵蚀率”中记载的方法。特别优选等离子体处理。作为等离子体处理条件，可以举出等离子体放电电力、辉光放电压力等。本发明中，作为等离子体处理，例如，等离子体处理越强，密合性越提高，第2界面B处的侵蚀率E2越低。
(1)材料
作为硬涂层的材料，可以使用例如有机材料、无机材料、有机无机复合材料等。其中，硬涂层的材料优选为有机材料。具体而言，硬涂层优选包含含有聚合性化合物的树脂组合物的固化物。含有聚合性化合物的树脂组合物的固化物可以通过根据需要使用聚合引发剂利用公知的方法使聚合性化合物进行聚合反应而得到。聚合性化合物在分子内具有至少1个聚合性官能团。作为聚合性化合物，可以使用例如自由基聚合性化合物和阳离子聚合性化合物中的至少一种。
自由基聚合性化合物是指具有自由基聚合性基团的化合物。作为自由基聚合性化合物所具有的自由基聚合性基团，可以举出例如包含碳-碳不饱和双键的基团等，具体而言，可以举出乙烯基、(甲基)丙烯酰基等。自由基聚合性化合物在1分子中具有的自由基聚合性基团的数量优选为2个以上，进一步优选为3个以上。
作为自由基聚合性化合物，从反应性高的方面出发，其中优选具有(甲基)丙烯酰基的化合物，可以优选使用例如被称为氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯、聚酯(甲基)丙烯酸酯、环氧(甲基)丙烯酸酯、三聚氰胺(甲基)丙烯酸酯、聚氟代烷基(甲基)丙烯酸酯、硅酮(甲基)丙烯酸酯等的分子内具有几个(甲基)丙烯酰基的分子量为几百至几千的多官能(甲基)丙烯酸酯单体和低聚物，另外，也可以优选使用在丙烯酸酯聚合物的侧链具有2个以上(甲基)丙烯酰基的多官能(甲基)丙烯酸酯聚合物。其中，可以优选使用1分子中具有2个以上的(甲基)丙烯酰基的多官能(甲基)丙烯酸酯单体。通过包含多官能(甲基)丙烯酸酯单体的固化物，能够提高耐磨耗性。进而还能提高密合性。另外，也可以优选使用1分子中具有2个以上的(甲基)丙烯酰基的多官能(甲基)丙烯酸酯低聚物或聚合物。通过包含多官能(甲基)丙烯酸酯低聚物或聚合物的固化物，能够提高耐磨耗性。进而还能提高耐弯曲性和密合性。
需要说明的是，本说明书中，(甲基)丙烯酰基分别表示丙烯酰基和甲基丙烯酰基，(甲基)丙烯酸酯分别表示丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯。
阳离子聚合性化合物是指具有阳离子聚合性基团的化合物。作为阳离子聚合性化合物所具有的阳离子聚合性基团，可以举出例如环氧基、氧杂环丁烷基、乙烯基醚基等。需要说明的是，在阳离子聚合性化合物具有2个以上阳离子聚合性基团的情况下，这些阳离子聚合性基团各自可以相同，也可以不同。
另外，硬涂层可以含有抗静电剂。能够对显示装置用层积体赋予抗静电性。硬涂层可以根据需要进一步含有添加剂。作为添加剂，根据对硬涂层赋予的功能适当选择，没有特别限定，可以举出例如无机颗粒、有机颗粒、紫外线吸收剂、红外线吸收剂、防污剂、防眩剂、流平剂、表面活性剂、润滑剂、各种敏化剂、阻燃剂、赋粘剂、阻聚剂、抗氧化剂、光稳定化剂、表面改性剂等。
另外，本发明中，作为硬涂层的材料，为了兼顾耐弯曲性和与第2无机化合物层的密合性，优选合用了具有氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯和多官能(甲基)丙烯酸酯单体中的至少1种的自由基聚合性化合物、和具有能够与自由基聚合性化合物形成共价键的反应性官能团的反应性无机颗粒的有机无机材料，进一步优选合用赋粘剂作为添加剂。作为反应性无机颗粒，可以举出具有反应性官能团的二氧化硅等。另外，作为反应性官能团，可以举出乙烯基、(甲基)丙烯酰基、烯丙基、环氧基和硅烷醇基等。
(2)厚度
硬涂层的厚度根据硬涂层所具有的功能和显示装置用层积体的用途适当选择即可。硬涂层的厚度例如优选为0.5μm以上50μm以下、更优选为1.0μm以上40μm以下、进一步优选为1.5μm以上30μm以下、特别优选为2μm以上20μm以下。若硬涂层的厚度为上述范围内，则能够得到作为硬涂层充分的硬度。
(3)形成方法
作为硬涂层的形成方法，可以举出例如在上述基材层上涂布包含上述聚合性化合物等的硬涂层用树脂组合物并使其固化的方法。
4.基材层
本发明中的基材层为支撑硬涂层、第2无机化合物层和第1无机化合物层的部件。作为基材层，只要具有透明性就没有特别限定，可以举出例如树脂基材、玻璃基材等。
(1)树脂基材
作为构成树脂基材的树脂，只要能够获得具有透明性的树脂基材就没有特别限定，可以举出例如聚酰亚胺系树脂、聚酰胺系树脂、聚酯系树脂等。作为聚酰亚胺系树脂，可以举出例如聚酰亚胺、聚酰胺酰亚胺、聚醚酰亚胺、聚酯酰亚胺等。作为聚酯系树脂，可以举出例如聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸丙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯等。
(2)玻璃基材
作为构成玻璃基材的玻璃，只要具有透明性就没有特别限定，可以举出例如硅酸盐玻璃、二氧化硅玻璃等。其中，优选硼硅酸盐玻璃、铝硅酸盐玻璃、铝硼硅酸盐玻璃，更优选无碱玻璃。作为玻璃基材的市售品，可以举出例如日本电气硝子公司的超薄板玻璃G-Leaf、松浪硝子工业公司的极薄膜玻璃等。
另外，构成玻璃基材的玻璃也优选为化学强化玻璃。化学强化玻璃的机械强度优异，相应地能够减薄，从这方面出发是优选的。化学强化玻璃典型地为下述玻璃：对于玻璃的表面附近，将钠替换成钾等而对离子种进行部分交换，由此通过化学方法增强了机械物性，其在表面具有压缩应力层。
作为构成化学强化玻璃基材的玻璃，可以举出例如铝硅酸盐玻璃、钠钙玻璃、硼硅酸盐玻璃、铅玻璃、碱性钡玻璃、铝硼硅酸盐玻璃等。
作为化学强化玻璃基材的市售品，可以举出例如Corning公司的Gorilla Glass(大猩猩玻璃)、AGC公司的Dragontrail(龙迹)、肖特公司的化学强化玻璃等。
(3)基材层的构成
作为基材层的厚度，只要是能够具有柔软性的厚度就没有特别限定，根据基材层的种类等适当选择。
树脂基材的厚度例如优选为10μm以上100μm以下、更优选为25μm以上80μm以下。通过使树脂基材的厚度为上述范围内，能够得到良好的柔软性，同时能够得到充分的硬度。另外，还能抑制显示装置用层积体的卷曲。此外，在显示装置用层积体的轻量化方面是优选的。
玻璃基材的厚度例如优选为200μm以下，更优选为15μm以上100μm以下，进一步优选为20μm以上90μm以下，特别优选为25μm以上80μm以下。通过使玻璃基材的厚度为上述范围内，能够得到良好的柔软性，同时能够得到充分的硬度。另外，还能抑制显示装置用层积体的卷曲。此外，在显示装置用层积体的轻量化方面是优选的。
5.其他构成
图3是示出本发明中的显示装置用层积体的另一例的示意性截面图。如图3所示，本发明的显示装置用层积体1优选在第1无机化合物层2的与第2无机化合物层3侧的面相反的面侧具有氟化合物层6。
(1)含氟层
本发明中的显示装置用层积体优选在第1无机化合物层的与第2无机化合物层侧的面相反的面侧具有含有氟原子的含氟层。其中，在显示装置用层积体中，优选含氟层配置于最表面。含氟层只要含有氟原子即可，通过含有氟原子，能够对显示装置用层积体赋予耐磨耗性。
具体而言，可以将显示装置用层积体的含氟层侧的表面的动摩擦系数设为规定的范围。本发明中的显示装置用层积体的含氟层侧的表面的动摩擦系数优选为0.01以上0.30以下、进一步优选为0.03以上0.20以下。若动摩擦系数为上述值以下，则表面的滑动性提高，耐磨耗性变得更优异。
动摩擦系数可以通过依据JIS K7125：1999(摩擦系数试验方法)的方法进行测定。动摩擦系数的测定方法例如可以使用负载可变型摩擦磨耗试验系统(新东科学株式会社制造HEIDON Type HHS2000)，利用2cm×2cm的羊绒毡，在负载200g、速度5mm/sec的条件下进行测定。动摩擦系数的值是在显示装置用层积体的含氟层侧的表面在不同的位置进行5点测定，为该测定值的平均值。
作为含氟层，只要含有氟原子就没有特别限定。含氟层例如可以含有氟化合物，也可以含有氟化合物和树脂，还可以含有氟树脂。作为氟化合物，例如可以使用作为氟系防污剂、氟系流平剂、氟系表面活性剂等而已知的物质。作为氟化合物，可以举出例如有机氟化合物，具体而言，可以举出全氟化合物。作为全氟化合物，可以举出例如具有全氟聚醚基、全氟亚烷基、全氟烷基等的全氟化合物。全氟亚烷基和全氟烷基可以为直链，也可以为支链。氟化合物可以单独使用1种，也可以混合使用2种以上。
另外，氟化合物优选与树脂成分结合。通过氟化合物与树脂成分结合，能够抑制氟化合物的渗出，能够使耐磨耗性、防污性长期持续。
作为氟化合物，由于优选与树脂成分结合，因此优选使用具有反应性官能团的氟化合物。即，含氟层优选含有包含具有反应性官能团的氟化合物和后述的聚合性化合物的树脂组合物的固化物。作为反应性官能团，可以举出例如(甲基)丙烯酰基、乙烯基、烯丙基等烯键式不饱和键基团、环氧基、氧杂环丁烷基等。
氟化合物所具有的反应性官能团的数量为1以上即可，优选为2以上。通过使用具有2个以上反应性官能团的氟化合物，能够提高耐磨耗性。
另外，氟化合物也可以包含硅。即，含氟层可以含有氟和硅。作为包含硅的氟化合物，可以举出例如分子内具有硅氧烷键的氟化合物。通过使用具有硅氧烷键的氟化合物，能够提高滑动性，能够提高耐磨耗性。
氟化合物例如优选为具有反应性官能团的氟化合物、包含反应性官能团和硅的氟化合物。
作为具有反应性官能团的氟化合物，可以举出例如具有烯键式不饱和键的含氟单体、主链具有氟代亚烷基的含氟聚合物或低聚物、主链和侧链具有氟代亚烷基或氟代烷基的含氟聚合物或低聚物等。关于具有反应性官能团的氟化合物，可以参照例如日本特开2017-19247号公报。
作为包含反应性官能团和硅的氟化合物，可以举出例如使分子中具有反应性官能团的有机硅与上述具有反应性官能团的氟化合物反应而得到的含有机硅的偏二氟乙烯共聚物等。
另外，作为包含反应性官能团和硅的氟化合物，例如，也优选使用具有反应性官能团和全氟聚醚基的氟化合物，尤其是包含具有反应性官能团的硅烷单元和具有全氟聚醚基的硅烷单元的氟化合物。关于这样的氟化合物，可以参照例如国际公开第2012/157682号。
本发明中，上述含氟层可以为含有氟化合物和树脂的层。含氟层含有氟化合物和树脂的情况下，作为树脂，可以举出例如聚合性化合物的固化物。聚合性化合物的固化物可以通过根据需要使用聚合引发剂利用公知的方法使聚合性化合物进行聚合反应而得到。
另外，含氟层含有氟树脂的情况下，作为氟树脂，可以举出例如含有氟的聚合性化合物的固化物。含有氟的聚合性化合物的固化物可以通过根据需要使用聚合引发剂利用公知的方法使含有氟的聚合性化合物进行聚合反应而得到。
含有氟的聚合性化合物在分子内具有至少1个聚合性官能团。作为含有氟的聚合性化合物，可以使用例如自由基聚合性化合物和阳离子聚合性化合物中的至少一种。另外，作为含有氟的聚合性化合物，可以使用例如含氟单体、低聚物、聚合物中的至少一种。
含氟层可以根据需要含有例如无机颗粒、有机颗粒、紫外线吸收剂、抗氧化剂、光稳定剂、防眩剂、流平剂、表面活性剂、润滑剂、各种敏化剂、阻燃剂、赋粘剂、阻聚剂、表面改性剂等添加剂。
本发明中，含氟层可以为单层膜，也可以为多层膜。
作为含氟层的厚度，没有特别限定，例如为0.5μm以上50μm以下，可以为1.0μm以上40μm以下、也可以为1.5μm以上30μm以下。若含氟层的厚度过薄，则有可能含氟层的表面硬度降低、耐磨耗性降低。另外，若含氟层的厚度过厚，则柔性有可能受损。
另一方面，本发明中，通过使显示装置用层积体包含第1无机化合物层和第2无机化合物层而表现出低反射性的情况下，优选含氟层的厚度比较薄。这是为了抑制对薄膜干涉的影响。此时的含氟层的厚度例如优选为1nm以上30nm以下、更优选为2nm以上20nm以下、进一步优选为3nm以上10nm以下。
另外，作为含氟层的形成方法，根据材料适当选择，可以举出例如真空蒸镀法、溅射法、在上述第1无机化合物层上涂布含氟层用组合物并使其固化的方法等。
(2)贴附用粘接层
本发明中的显示装置用层积体能够在基材层的与硬涂层相反侧的面具有贴附用粘接层。可以藉由贴附用粘接层将显示装置用层积体贴合至例如显示面板等。
作为贴附用粘接层所用的粘接剂，只要是具有透明性且能够将显示装置用层积体粘接至显示面板等的粘接剂就没有特别限定，可以举出例如热固化型粘接剂、紫外线固化型粘接剂、双液固化型粘接剂、热熔融型粘接剂、压敏粘接剂(所谓的粘合剂)等。
贴附用粘接层的厚度例如优选为10μm以上100μm以下、更优选可以为25μm以上80μm以下、进一步优选可以为40μm以上60μm以下。若贴附用粘接层的厚度过薄，则有可能无法将显示装置用层积体与显示面板等充分粘接。另一方面，若贴附用粘接层的厚度过厚，则柔性有时会受损。
作为贴附用粘接层，例如可以使用粘接膜。另外，例如可以在支撑体或基材层等上涂布粘接剂组合物，形成贴附用粘接层。
贴附用粘接层可以是具有在与显示装置的显示面板贴合后能够剥离的程度的密合性的层，也可以是不以剥离为目的而具有高密合性的层。
(3)层间粘接层
本发明中的显示装置用层积体中，可以在各层之间配置有层间粘接层。作为层间粘接层所用的粘接剂，可以与上述贴附用粘接层所用的粘接剂相同。
5.显示装置用层积体
(1)视感反射率
本发明中的显示装置用层积体中，将从第1无机化合物层侧相对于第1无机化合物层侧的表面垂直入射的光的入射角设为0°，使光以入射角5°入射时，该入射光的正反射光的视感反射率为2.0％以下。优选为1.7％以下、进一步优选为1.5％以下。若视感反射率过高，则无法抑制观察者自身映入显示区域。
此处，视感反射率可以依据JIS Z8722：2009求出。关于视感反射率，根据使380nm以上780nm以下的波长范围的光入射至显示装置用层积体的第1无机化合物层侧的表面而得到的反射光谱，在标准光C的2度视野中，求出XYZ色度系统中的三刺激值X、Y、Z，该Y值作为视感反射率。即，视感反射率是指CIE1931标准色度系统的Y值。视感反射率的测定中，可以为下述条件。
(测定条件)
·视野：2°
·照明体：C
·光源：钨卤素灯
·测定波长：380nm以上780nm以下的范围，间隔0.5nm
·扫描速度：高速
·狭缝宽度：5.0nm
·S/R切换：标准
·自动归零：基线扫描后在550nm实施
需要说明的是，在进行显示装置用层积体的视感反射率的测定时，为了防止背面反射，在显示装置用层积体的基材层侧的面粘贴比测定点面积更大的宽度的黑色乙烯基胶带(例如产品名“Yamato Vinyl Tape NO200-19-21”、YAMATO公司制造、19mm宽)，之后进行测定。作为视感反射率的测定装置，可以使用例如分光光度计，具体而言，可以使用岛津制作所公司制造的分光光度计“UV-2600”。
(2)耐动态弯曲性
本发明中的显示装置用层积体具有耐弯曲性。具体而言，优选在对显示装置用层积体进行了下述说明的动态弯曲试验的情况下，显示装置用层积体不产生裂纹或断裂。
动态弯曲试验如下进行。首先，准备20mm×100mm大小的显示装置用层积体。并且，在动态弯曲试验中，如图5(a)所示，通过平行配置的固定部51分别固定显示装置用层积体1的短边部1C和与短边部1C相向的短边部1D。另外，如图5(a)所示，固定部51可以在水平方向上滑动移动。接着，如图5(b)所示，使固定部51以相互接近的方式移动，由此使显示装置用层积体1折叠地变形，进而，如图5(c)所示，使固定部51移动至由显示装置用层积体1的固定部51所固定的相向的2条短边部1C、1D的间隔d达到规定值的位置，之后，使固定部51反向移动，消除显示装置用层积体1的变形。通过使固定部51如图5(a)～(c)所示移动，能够将显示装置用层积体1折叠180°。另外，通过按照显示装置用层积体1的弯曲部1E不从固定部51的下端突出的方式进行动态弯曲试验，并且对固定部51最接近时的间隔进行控制，能够使显示装置用层积体1的相向的2条短边部1C、1D的间隔d为规定值。例如，在短边部1C、1D的间隔d为10mm的情况下，将弯曲部1E的外径视为10mm。
本发明中的显示装置用层积体中，优选在反复进行了20万次以显示装置用层积体1的相向的短边部1C、1D的间隔d达到10mm的方式进行180°折叠的动态弯曲试验的情况下不产生裂纹或断裂，更优选在反复进行了50万次的情况下不产生裂纹或断裂。其中，优选在反复进行了20万次以显示装置用层积体的相向的短边部1C、1D的间隔d达到6mm的方式进行180°折叠的动态弯曲试验的情况下不产生裂纹或断裂。在动态弯曲试验中，可以按照第1无机化合物层成为外侧的方式折叠显示装置用层积体，或者也可以按照第1无机化合物层成为内侧的方式折叠显示装置用层积体，但在任一情况下，均优选显示装置用层积体不产生裂纹或断裂。
(3)总光线透射率和雾度
本发明中的显示装置用层积体的总光线透射率例如优选为85％以上、更优选为88％以上、进一步优选为90％以上。通过如此使总光线透射率高，能够制成透明性良好的显示装置用层积体。
此处，显示装置用层积体的总光线透射率可以依据JIS K7361-1：1999进行测定，例如可以通过村上色彩技术研究所制造的雾度计HM150进行测定。
本发明中的显示装置用层积体的雾度例如优选为5％以下、更优选为2％以下、进一步优选为1％以下。通过使雾度如此低，能够制成透明性良好的显示装置用层积体。
此处，显示装置用层积体的雾度可以依据JIS K-7136：2000进行测定，例如可以通过村上色彩技术研究所制造的雾度计HM150进行测定。
6.用途
本发明中的显示装置用层积体在显示装置中可以用作较显示面板配置于更靠近观察者侧的前面板。本发明中的显示装置用层积体具有优异的耐弯曲性，因此可以适合用于可折叠显示器、可卷曲显示器、可弯曲显示器等柔性显示装置中的前面板。特别是，本发明中的显示装置用层积体能够提高耐弯曲性，因而可以适合用于可折叠显示器中的前面板。
本发明中的显示装置用层积体的厚度例如优选为10μm以上500μm以下、更优选为20μm以上400μm以下、进一步优选为30μm以上300μm以下。若显示装置用层积体的厚度为上述范围，则能够提高柔性。
另外，本发明中的显示装置用层积体可以用于例如智能手机、平板终端、可穿戴终端、个人计算机、电视机、数字标牌、公共信息显示器(PID)、车载显示器等显示装置中的前面板。
B.显示装置
本发明中的显示装置具备显示面板、和配置于上述显示面板的观察者侧的上述显示装置用层积体。
图4是示出本发明中的显示装置的一例的示意性截面图。如图4所示，显示装置20具备显示面板21和配置于显示面板21的观察者侧的显示装置用层积体1。在显示装置20中，显示装置用层积体1和显示面板21例如可以藉由显示装置用层积体1的贴附用粘接层7贴合。
本发明中的柔性显示装置具有优异的耐弯曲性，因此即使反复弯曲也可抑制显示不良。
将本发明中的显示装置用层积体配置于显示装置的表面的情况下，按照第1无机化合物层为外侧、基材层为内侧的方式进行配置。
作为将本发明中的显示装置用层积体配置于显示装置的表面的方法，没有特别限定，可以举出例如藉由粘接层的方法等。
作为本发明中的显示面板，可以举出例如有机EL显示装置、液晶显示装置等显示装置中所用的显示面板。
本发明中的显示装置能够在显示面板与显示装置用层积体之间具有触控面板部件。
其中，本发明中的显示装置优选为可折叠显示器、可卷曲显示器、可弯曲显示器等柔性显示装置。
另外，本发明中的显示装置优选能够折叠。即，本发明中的显示装置优选为可折叠显示器。
实施例
以下示出实施例和比较例，更详细地说明本发明。
(实施例1～实施例3、比较例1)
首先，按照成为下述所示的组成的方式混配各成分，得到硬涂层用树脂组合物。
(硬涂层用树脂组合物的组成)
·氨基甲酸酯丙烯酸酯(产品名“UA-33H”、新中村化学公司制造)：64质量份
·季戊四醇丙烯酸酯(产品名“ATM-4PL”、新中村化学公司制造)：36质量份
·聚合引发剂(1-羟基环己基苯基酮、产品名“Omnirad184”、IGM Resins B.V.公司制造)：4质量份
·赋粘剂(产品名“BYK-4509”、BYK-Chemie公司制造)：0.3质量份(固体成分100％换算值)
·二氧化硅颗粒(具有环氧基作为反应性基团的二氧化硅颗粒、平均一次粒径12nm、日产化学工业公司制)：70质量份(固体成分100％换算值)
·甲基异丁基酮：220质量份
(硬涂层的形成)
接着，使用厚度50μm的聚酰胺酰亚胺膜(产品名“CPI”、Kolon公司制造)作为基材层，利用棒涂机在基材层上涂布上述硬涂层用树脂组合物，形成涂膜。然后，对该涂膜在80℃加热1分钟，由此使涂膜中的溶剂蒸发，使用紫外线照射装置(Fusion UV Systems Japan公司制造、光源H灯泡)，按照氧浓度为100ppm以下且累积光量为400mJ/cm2的方式照射紫外线以使涂膜固化，形成厚度3.0μm的硬涂层。
(无机化合物层的形成)
接着，在表1所示的条件下对所得到的硬涂层的表面进行等离子体处理。接着，在硬涂层的实施了表面处理的面上，使用表1所示的构成材料，通过真空蒸镀法形成第2无机化合物层。在第2无机化合物层上，使用表1所示的构成材料，通过真空蒸镀法形成第1无机化合物层。
将第1无机化合物层和第2无机化合物层的构成材料、厚度、折射率、等离子体处理条件示于表1。
(含氟层的形成)
接着，通过真空蒸镀法形成氟化合物(产品名“OPTOOL UD120”、大金工业公司制造)，由此形成厚度7nm的含氟层。由此得到依次具有基材层、硬涂层、第2无机化合物层、第1无机化合物层、含氟层的层积体。
(实施例4)
除了不对硬涂层的表面进行等离子体处理以外，利用与实施例1同样的方法得到层积体。
(实施例5～实施例8、比较例2)
通过与实施例1同样的方法，在基材层上形成硬涂层。接着，使用表1所示的构成材料，通过真空蒸镀法在硬涂层上形成第2无机化合物层。接着，在表1所示的条件下对第2无机化合物层的表面进行等离子体处理。接着，在第2无机化合物层的实施了表面处理的面上，使用表1所示的构成材料，通过真空蒸镀法形成第1无机化合物层。接着，通过与实施例1同样的方法形成含氟层，得到依次具有基材层、硬涂层、第2无机化合物层、第1无机化合物层、含氟层的层积体。
(实施例9)
通过与实施例1同样的方法，在基材层上形成硬涂层。接着，在表1所示的条件下对所得到的硬涂层的表面进行等离子体处理。接着，在硬涂层的实施了表面处理的面上，使用表1所示的构成材料，通过真空蒸镀法形成第2无机化合物层的下层膜(ZrO2)和上层膜(Nb2O5)。
接着，使用表1所示的构成材料，在第2无机化合物层上形成第1无机化合物层。接着，通过与实施例1同样的方法形成含氟层，得到依次具有基材层、硬涂层、第2无机化合物层、第1无机化合物层、含氟层的层积体。
(比较例3～比较例5)
通过与实施例1同样的方法，在基材层上形成硬涂层。接着，在硬涂层上，使用表1所示的构成材料，通过真空蒸镀法在比较例3和比较例4中形成第2无机化合物层的下层膜(ZrO2)和上层膜(Nb2O5)，在比较例5中形成第2无机化合物层的下层膜(Al2O3)、中间层膜(ZrO2)和上层膜(Nb2O5)。接着，在表1所示的条件下对第2无机化合物层的表面进行等离子体处理。接着，在第2无机化合物层的实施了表面处理的面上，使用表1所示的构成材料，形成第1无机化合物层。接着，通过与实施例1同样的方法形成含氟层，得到依次具有基材层、硬涂层、第2无机化合物层、第1无机化合物层、含氟层的层积体。
[侵蚀率]
对于实施例1～9和比较例1～5中得到的显示装置用层积体，利用上述的“A.显示装置用层积体1.侵蚀率”中记载的方法，计算出第1无机化合物层与第2无机化合物层的界面即第1界面处的侵蚀率E1、以及第2无机化合物层与硬涂层的界面即第2界面处的侵蚀率E2。进而，计算出它们之差ΔE1(E2-E1)。另外，计算出第1无机化合物层的侵蚀率E3与第1界面处的侵蚀率E1之差ΔE2(E3-E1)。结果示于表2。
(动态弯曲性评价)
关于实施例1～9和比较例1～5中得到的显示装置用层积体的弯曲性，进行动态弯曲试验，根据下述评价基准进行评价。结果示于表2。以下，参照图5对动态弯曲试验的方法进行说明。对层积体进行下述的动态弯曲试验，评价耐弯曲性。首先，准备20mm×100mm大小的层积体，如图5(a)所示，通过平行配置的固定部51将显示装置用层积体1的短边部1C和与短边部1C相向的短边部1D分别固定于耐久试验机(产品名“DLDMLH-FS”、YUASA SYSTEM公司制造)。接着，如图5(b)所示，使固定部51以相互接近的方式移动，由此使显示装置用层积体1折叠地变形，进而，如图5(c)所示，使固定部51移动至由显示装置用层积体1的固定部51所固定的相向的2条短边部1C、1D的间隔d达到规定值的位置，之后，使固定部51反向移动，消除显示装置用层积体1的变形。通过使固定部51如图5(a)～(c)所示移动，反复进行将显示装置用层积体1折叠180°的动作。此时，显示装置用层积体1的相向的2条短边部1C、1D的间隔d为6mm(动态弯曲试验)或10mm(动态弯曲试验)。另外，层积体以氟化合物层成为外侧的方式弯曲。动态弯曲试验的结果按照下述基准进行评价。
·评价基准
A’：合格(在使第1无机化合物层侧为外侧的的动态弯曲试验中，即使反复20万次弯曲也未断裂且未产生裂纹)
A：合格(在使第1无机化合物层侧为外侧的的动态弯曲试验中，即使反复20万次弯曲也未断裂且未产生裂纹)
B：不合格(在使第1无机化合物层侧为外侧的的动态弯曲试验中，在反复20万次弯曲的期间断裂或产生裂纹)
(弯曲试验后的弯曲部的可视性)
将上述动态弯曲试验实施后的显示装置用层积体贴合于进行了画面显示的平板显示器，在荧光灯下确认弯曲部的可视性，根据以下的评价基准进行评价。
·评价基准
A：合格(10人中10人能够没有问题地辨认)
B：合格(10人中7～9人能够没有问题地辨认)
C：不合格(10人中4～6人能够没有问题地辨认)
D：不合格(10人中，能够没有问题地辨认的小于4人)
(视感反射率)
通过“5.显示装置用层积体(1)视感反射率”中记载的方法测定实施例1～9和比较例1～5中得到的显示装置用层积体的视感反射率。结果示于表2。
由表2确认到，实施例1～9的显示装置用层积体具有优异的耐弯曲性。另一方面，在ΔE1小于-1.0×10-2μm/g的比较例1、和ΔE1大于1.0×10-1μm/g的比较例2～5中，在动态弯曲性试验中在弯曲部产生剥离，确认到弯曲试验后的弯曲部的可视性的恶化。
即，本发明中，能够提供以下的方案。
[1]
一种显示装置用层积体，其为依次具有第1无机化合物层、第2无机化合物层、硬涂层和基材层的显示装置用层积体，其中，
上述第1无机化合物层与上述第2无机化合物层的界面即第1界面处的侵蚀率E1、与上述第2无机化合物层与上述硬涂层的界面即第2界面处的侵蚀率E2之差ΔE1(E2-E1)为-1.0×10-2μm/g以上1.0×10-1μm/g以下的范围。
[2]
如[1]所述的显示装置用层积体，其中，上述第1无机化合物层的侵蚀率E3与上述第1界面处的侵蚀率E1之差ΔE2(E3-E1)为0.0μm/g以上且小于2.0×10-2μm/g。
[3]
如[1]或[2]所述的显示装置用层积体，其中，上述第1无机化合物层的折射率小于上述第2无机化合物层的折射率。
[4]
如[1]～[3]中任一项所述的显示装置用层积体，其在上述第1无机化合物层的与上述第2无机化合物层相反侧的面具有含氟层。
[5]
如[1]～[4]中任一项所述的显示装置用层积体，其中，上述第1无机化合物层中包含的第1无机化合物为硅氧化物。
[6]
如[1]～[5]中任一项所述的显示装置用层积体，其中，上述第1无机化合物层的厚度为30nm以上200nm以下。
[7]
如[1]～[6]中任一项所述的显示装置用层积体，其中，上述第1无机化合物层和上述第2无机化合物层的合计厚度为500nm以下。
[8]
如[1]～[7]中任一项所述的显示装置用层积体，其中，上述第2无机化合物层中包含的第2无机化合物为铝氧化物、锆氧化物和铌氧化物中的任一种。
[9]
如[1]～[8]中任一项所述的显示装置用层积体，其中，上述第2无机化合物层的厚度为20nm以上300nm以下。
[10]
如[1]～[9]中任一项所述的显示装置用层积体，其中，使光以入射角5°入射至上述显示装置用层积体的上述第1无机化合物层侧的面时的正反射光的视感反射率为2.0％以下。
[11]
如[1]～[10]中任一项所述的显示装置用层积体，其在上述基材层的与上述硬涂层侧的面相反的面侧具有贴附用粘接层。
[12]
一种显示装置，其具备：
显示面板；和
配置于上述显示面板的观察者侧的[1]～[11]中任一项所述的显示装置用层积体。
附图标记说明
1…显示装置用层积体
2…第1无机化合物层
3…第2无机化合物层
4…硬涂层
5…基材层
6…含氟层
7…贴附用粘接层
20…柔性显示装置
21…显示面板

Claims (12)

1.一种显示装置用层积体，其为依次具有第1无机化合物层、第2无机化合物层、硬涂层和基材层的显示装置用层积体，其中，
所述第1无机化合物层与所述第2无机化合物层的界面即第1界面处的侵蚀率E1、与所述第2无机化合物层与所述硬涂层的界面即第2界面处的侵蚀率E2之差ΔE1(E2-E1)为-1.0×10-2μm/g以上1.0×10-1μm/g以下的范围。
2.如权利要求1所述的显示装置用层积体，其中，所述第1无机化合物层的侵蚀率E3与所述第1界面处的侵蚀率E1之差ΔE2(E3-E1)为0.0μm/g以上且小于2.0×10-2μm/g。
3.如权利要求1所述的显示装置用层积体，其中，所述第1无机化合物层的折射率小于所述第2无机化合物层的折射率。
4.如权利要求1所述的显示装置用层积体，其在所述第1无机化合物层的与所述第2无机化合物层相反侧的面具有含氟层。
5.如权利要求1所述的显示装置用层积体，其中，所述第1无机化合物层中包含的第1无机化合物为硅氧化物。
6.如权利要求1所述的显示装置用层积体，其中，所述第1无机化合物层的厚度为30nm以上200nm以下。
7.如权利要求1所述的显示装置用层积体，其中，所述第1无机化合物层和所述第2无机化合物层的合计厚度为500nm以下。
8.如权利要求1所述的显示装置用层积体，其中，所述第2无机化合物层中包含的第2无机化合物为铝氧化物、锆氧化物和铌氧化物中的任一种。
9.如权利要求1所述的显示装置用层积体，其中，所述第2无机化合物层的厚度为20nm以上300nm以下。
10.如权利要求1所述的显示装置用层积体，其中，使光以入射角5°入射至所述显示装置用层积体的所述第1无机化合物层侧的面时的正反射光的视感反射率为2.0％以下。
11.如权利要求1所述的显示装置用层积体，其在所述基材层的与所述硬涂层侧的面相反的面侧具有贴附用粘接层。
12.一种显示装置，其具备：
显示面板；和
配置于所述显示面板的观察者侧的权利要求1～权利要求11中任一项所述的显示装置用层积体。
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JP2002055202A (ja) * 2000-08-09 2002-02-20 Seiko Epson Corp プラスチックレンズ
JP2012173411A (ja) * 2011-02-18 2012-09-10 Seiko Epson Corp 光学物品
EP2735552A1 (en) * 2012-11-23 2014-05-28 Wintek Corporation Cover glass structure and fabrication method thereof and touch-sensitive display device
JP6683415B2 (ja) 2014-10-01 2020-04-22 株式会社日本触媒 光学フィルムおよびその利用
JP6774383B2 (ja) * 2016-06-17 2020-10-21 日東電工株式会社 反射防止フィルムおよびその製造方法、ならびに反射防止層付き偏光板

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