WO2022255042A1 - 自動分析装置 - Google Patents

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WO2022255042A1
WO2022255042A1 PCT/JP2022/019855 JP2022019855W WO2022255042A1 WO 2022255042 A1 WO2022255042 A1 WO 2022255042A1 JP 2022019855 W JP2022019855 W JP 2022019855W WO 2022255042 A1 WO2022255042 A1 WO 2022255042A1
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cleaning
dispensing
probe
sample
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礼孝 南
健士郎 坂田
拓也 高橋
好洋 嘉部
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株式会社日立ハイテク
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    • G01N35/1004Cleaning sample transfer devices
    • GPHYSICS
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    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
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    • G01N2035/1025Fluid level sensing
    • GPHYSICS
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    • G01N35/1083Devices for transferring samples or any liquids to, in, or from, the analysis apparatus, e.g. suction devices, injection devices characterised by the means for relatively moving the transfer device and the containers in an horizontal plane with one horizontal degree of freedom
    • G01N2035/1086Cylindrical, e.g. variable angle

Definitions

  • the present invention relates to automated analyzers.
  • Automatic analyzers perform qualitative and quantitative analysis of specific components contained in biological samples such as blood and urine.
  • the sample is dispensed from the sample container to the reaction container by the dispensing probe
  • the reagent is dispensed from the reagent container to the reaction container by the dispensing probe
  • the concentration of the target item is calculated from information such as absorbance and luminescence obtained from the reaction solution.
  • the amount of cleaning liquid will change. If the amount of washing liquid is small, for example, the probe cannot be sufficiently washed, and carryover or the like may occur. On the other hand, when the amount of cleaning liquid is large, for example, water droplets may remain on the tip of the probe. In order to cope with such changes in the amount of cleaning liquid, maintenance is generally performed by the operator periodically to adjust the amount of cleaning liquid. was doing
  • Patent Document 1 is known as a technique for checking the amount of cleaning liquid.
  • This patent document 1 discloses that "determining the discharge state of the cleaning liquid flow using the liquid level detection function of the nozzle and the pressure fluctuation detection function in the nozzle pipe" (summary).
  • an object of the present invention to provide an automatic analyzer that increases the accuracy of adjusting the amount of cleaning liquid by detecting changes in the amount of cleaning water with high sensitivity.
  • the automatic analyzer of the present invention includes a dispensing mechanism including a dispensing probe for dispensing a sample or a reagent into a reaction container, a cleaning nozzle for discharging a cleaning solution to the dispensing probe, and the a control unit for controlling a dispensing mechanism, detecting the height of the cleaning liquid discharged from the cleaning nozzle at a plurality of positions with different horizontal distances from the cleaning nozzle, and determining the discharge state of the cleaning liquid. At least one of said plurality of positions is further from said washing nozzle than a washing position of said dispensing probe.
  • an automatic analyzer with improved accuracy in adjusting the amount of cleaning liquid by detecting changes in the amount of cleaning water with high sensitivity.
  • FIG. 4 is a diagram showing the configuration of a sample dispensing mechanism according to Example 1.
  • FIG. 10A is a diagram showing an example of the lowered position of the sample pipetting probe, where (a) is a state in which the height of the washing liquid is detected at the first height detection position, and (b) is at the second height detection position.
  • FIG. 10 is a diagram showing a state in which the height of cleaning liquid is being detected;
  • FIG. 4 is a diagram showing a configuration example of a control block for probe cleaning and probe cleaning fluid volume adjustment; 4 is a flow chart showing a cleaning liquid ejection state determination and adjustment method in Example 1.
  • FIG. FIG. 10 is a diagram showing a cleaning liquid height detection position in Example 2;
  • FIG. 1 is a schematic configuration diagram of the automatic analyzer of this embodiment.
  • the automatic analysis device 100 is a device for measuring the reaction liquid chemically reacted in the reaction vessel 102 and analyzing the components.
  • This automatic analyzer 100 has, as main components, a reaction disk 101, a cleaning mechanism 103, a spectrophotometer 104, a stirring mechanism 105, a cleaning tank 106, a first reagent dispensing mechanism 107, a second reagent dispensing mechanism 107a, a cleaning It has a tank 108 , a reagent disk 109 , a first sample dispensing mechanism 111 , a second sample dispensing mechanism 111 a , a cleaning tank 113 , a sample conveying mechanism 117 and a controller 118 . Also, the first reagent dispensing mechanism 107, the second reagent dispensing mechanism 107a, the first sample dispensing mechanism 111, and the second sample dispensing mechanism 111a have a liquid level detection function.
  • Reaction containers 102 are arranged in a circle on the reaction disk 101 .
  • a plurality of reaction vessels 102 are arranged on the reaction disk 101 to contain a mixture of a sample and a reagent.
  • a sample transport mechanism 117 that transports a sample rack 116 carrying a sample container 115 is arranged near the reaction disk 101 .
  • a first sample pipetting mechanism 111 and a second sample pipetting mechanism 111a which are rotatable and vertically movable are arranged between the reaction disk 101 and the sample transport mechanism 117, each having a sample pipetting probe 111b.
  • a sample syringe 122 is connected to each of the sample dispensing probes 111b.
  • the sample pipetting probe 111b moves horizontally while drawing an arc around the rotating shaft, and moves up and down to pipette the sample from the sample container 115 to the reaction container 102.
  • the reagent disk 109 is a storage box in which a plurality of reagent bottles 110 containing reagents, detergent bottles 112, etc. can be placed on the circumference.
  • the reagent disk 109 is kept cool.
  • a first reagent dispensing mechanism 107 and a second reagent dispensing mechanism 107a capable of rotating and moving up and down are installed, each equipped with a reagent dispensing probe 120. .
  • the reagent-dispensing probe 120 is vertically and horizontally moved by the first reagent-dispensing mechanism 107 or the second reagent-dispensing mechanism 107a.
  • a reagent syringe 121 is connected to each of the reagent dispensing probes 120 . With this reagent syringe 121 , reagents, detergents, diluents, pretreatment reagents, etc. sucked from the reagent bottle 110 , the detergent bottle 112 , the diluent bottle, the pretreatment reagent bottle, etc. via the reagent dispensing probe 120 are reacted. Dispense into container 102 .
  • a cleaning mechanism 103 for cleaning the inside of the reaction container 102
  • a spectrophotometer 104 for measuring the absorbance of light that has passed through the mixed liquid in the reaction container 102, and a sample dispensed into the reaction container 102.
  • a stirring mechanism 105 or the like is arranged for mixing the reagent with the reagent.
  • washing tank 108 for the reagent dispensing probe 120 is located above the operating range of the first reagent dispensing mechanism 107 and the second reagent dispensing mechanism 107a.
  • a washing tank 113 for the sample pipetting probe 111b and a washing tank 106 for the stirring mechanism 105 are disposed on the operating range of the stirring mechanism 105, respectively.
  • the controller 118 which is a control unit, is composed of a computer or the like, controls the operation of each mechanism described above in the automatic analyzer, and performs arithmetic processing to determine the concentration of a predetermined component in a liquid sample such as blood or urine. .
  • the analysis processing of the test sample by the automatic analyzer 100 as described above is executed in the following order.
  • the sample in the sample container 115 placed on the sample rack 116 transported near the reaction disk 101 by the sample transport mechanism 117 is transferred to the sample of the first sample pipetting mechanism 111 and the second sample pipetting mechanism 111a.
  • the reagent used for analysis is dispensed from the reagent bottle 110 on the reagent disk 109 to the reaction container 102 into which the sample was previously dispensed by the first reagent dispensing mechanism 107 or the second reagent dispensing mechanism 107a. note.
  • the mixture of the sample and the reagent in the reaction container 102 is stirred by the stirring mechanism 105 .
  • the light generated from the light source is transmitted through the reaction container 102 containing the mixed liquid, and the luminous intensity of the transmitted light is measured by the spectrophotometer 104 .
  • the light intensity measured by spectrophotometer 104 is sent to controller 118 via an A/D converter and interface. Then, the controller 118 performs calculations to determine the concentration of a predetermined component in a liquid sample such as blood or urine, and displays the result on a display unit (not shown) or the like.
  • An automatic analyzer that determines the concentration of a predetermined component using the spectrophotometer 104 will be described as an example. It may be used in an analyzer or an automatic coagulation analyzer.
  • the sample pipetting mechanism includes a sample pipetting arm 111c having a sample pipetting probe 111b at its tip, a horizontal movement mechanism 111d for moving the sample pipetting arm 111c in the horizontal direction (x direction), It is composed of a vertical movement mechanism 111e that moves the sample dispensing arm 111c in the vertical direction (z direction) and a rotational movement mechanism (not shown) that rotates the sample dispensing arm 111c.
  • the sample dispensing mechanism moves the sample dispensing probe 111b to an aspiration position for aspirating the sample from the sample container 115, a discharge position for discharging the aspirated sample to the reaction container 102, and a sample dispensing in the washing tank 113.
  • the tip of the probe 111b is moved to a cleaning position for cleaning.
  • the sample pipetting mechanism lowers the sample pipetting probe 111b according to the heights of the sample container 115, the reaction container 102 and the washing tank 113 at the suction position, the discharge position and the washing position.
  • cleaning of the sample pipetting probe 111b will be described as an example, but the same can be applied to reagent pipetting probes. It can also be applied to a device that dispenses a sample and a reagent with a single probe.
  • FIG. 3 is a diagram showing a configuration example of the washing liquid amount adjusting means of the sample dispensing probe 111b.
  • the cleaning liquid amount adjusting means includes a cleaning liquid supply pump 208 that supplies cleaning liquid from a pure water facility (not shown), an adjustment valve 215 that can change its open/closed state by a control current, and A solenoid valve 216 that turns ON/OFF the liquid, a control valve 217 that can adjust the flow rate by an opening/closing operation (manually turning the screw of the valve), a cleaning nozzle 202 that discharges the cleaning liquid, and the cleaning liquid discharged from the cleaning tank 113. It is composed of a waste liquid tank 219 for storing waste liquid and a channel 218 connecting each part.
  • a liquid level detector 210 (for example, a capacitance sensor) is mounted in the sample pipetting arm 111c of the sample pipetting mechanism.
  • the cleaning liquid sent from the cleaning liquid supply pump 208 is discharged from the cleaning nozzle 202 by opening the electromagnetic valve 216, and the liquid flow from the cleaning nozzle 202 is applied to the outer surface of the sample pipetting probe 111b. By contacting with , the dirt attached to the outer surface of the sample pipetting probe 111b is removed.
  • This embodiment shows an example in which one adjustment valve 215 adjusts the amount of cleaning liquid from one cleaning nozzle 202, but one adjustment valve 215 can also adjust the amount of cleaning liquid for two or more cleaning nozzles.
  • one adjustment valve 215 can also adjust the amount of cleaning liquid for two or more cleaning nozzles.
  • either the flow path configuration from the cleaning liquid supply pump 208 to the cleaning nozzles should be the same, or each flow path may be provided with an adjustment valve so that the It is desirable to adjust in advance so that the amount of liquid to be ejected is approximately the same.
  • FIG. 4 is a diagram showing an example of the lowered position of the sample dispensing probe 111b in Example 1.
  • FIG. FIG. 4(a) shows a state in which the sample dispensing probe 111b is lowered at the first height detection position 301 on the upstream side of the cleaning liquid flow (position close to the cleaning nozzle) to detect the cleaning liquid
  • FIG. 4(b) shows the cleaning liquid flow.
  • the sample dispensing probe 111b is lowered at the second height detection position 302 on the downstream side of (a position far from the washing nozzle) to detect the washing liquid.
  • the control unit when judging the ejection state of the cleaning liquid, the control unit first lowers the sample dispensing probe 111b to the first height detection position 301 to detect the height of the cleaning liquid flow 300.
  • the control unit After moving the horizontal position of the sample pipetting probe 111b to the second height detection position 302, the control unit lowers the sample pipetting probe 111b to detect the height of the cleaning liquid flow 300.
  • the controller determines the discharge state of the cleaning liquid.
  • the washing liquid flow 300 obliquely discharged from the washing nozzle 202 has a small change in the upper end position on the upstream side close to the washing nozzle 202, and the difference between the normal discharge state and the discharge state when the liquid amount is low is small.
  • the change in the upper end position of the cleaning liquid flow 300 is large due to the influence of gravity, and the difference between the normal ejection state and the ejection state when the liquid amount is low becomes large. Therefore, in the present embodiment, at least one of the height detection positions, specifically the second height detection position, is located downstream (far from the washing nozzle 202) of the washing position of the sample dispensing probe 111b. . This makes it possible to easily detect changes in the amount of cleaning liquid and to increase the detection sensitivity, so that the discharge state of the cleaning liquid can be accurately determined.
  • the positional relationship between the cleaning nozzle 202 and the sample dispensing probe 111b will change during maintenance. If it is, there is a possibility that it will be misjudged. For example, when the sample pipetting probe 111b, the electromagnetic valve 216, or the like is replaced, or the cleaning tank 113 is removed, the detection height at the second height detection position 302 may change even if the amount of cleaning liquid itself does not decrease. may decline.
  • the control unit of the present embodiment uses the height of the cleaning liquid flow 300 at the first height position on the upstream side to determine the ejection state of the cleaning liquid, thereby suppressing erroneous determination. Specifically, the control unit detects the upper end position (height Z1) of the cleaning liquid flow 300 detected at the first height detection position 301 and the upper end position (height Z1) of the cleaning liquid flow 300 detected at the second height detection position 302. Z2) and the difference (Z1-Z2) is calculated, and if this difference is equal to or greater than the reference value, it is determined that the amount of cleaning liquid has decreased.
  • the reference value is as follows ( It can be expressed by the formula 1).
  • Equation 1 indicates the decrease in the cleaning liquid height detected at the second height detection position 302 when the flow velocity of the cleaning liquid flow 300 decreases by 30%. This is because if the flow rate decreases by 30%, the cleaning effect of the dispensing probe cannot be guaranteed, and carryover may occur.
  • the horizontal distance x' is determined so as to satisfy the following (Equation 2), where F is the error caused by the fluctuation of the liquid flow, the detection error of the liquid level, the difference in the liquid properties, etc., and the safety factor is S. Then, it is possible to reliably determine the ejection state.
  • the liquid level detection signal may be time-averaged.
  • the method of determining the horizontal distance x' is not limited to this. For example, according to experiments by the inventors, it was found that a certain accuracy can be obtained if the horizontal distance x' is 1 mm or more, so it may be set to a predetermined value of 1 mm or more (for example, 2 mm).
  • the first height detection position 301 is matched with the washing position of the sample dispensing probe 111b. Therefore, there is no need to separately provide a data table regarding the movement sequence of the sample pipetting probe 111b to the first height detection position 301, and there is no need to separately adjust the position of the first height detection position.
  • the cleaning position can be used), so workability is greatly improved.
  • the downstream of the cleaning liquid flow 300 tends to cause the shape of the liquid flow to become unstable, and splashing (scattering) is likely to occur. Therefore, the drop distance (detection distance) of the sample dispensing probe 111b may vary greatly. Therefore, the controller in this embodiment lowers the speed of lowering the sample pipetting probe 111b when judging the ejection state of the cleaning liquid than the speed of lowering the sample pipetting probe 111b during cleaning. In this way, by making the lowering speed of the sample pipetting probe 111b slower than that during cleaning, it is possible to reduce the possibility that the liquid level detector 210 erroneously detects the contact detection signal with the cleaning liquid, thereby suppressing variations in the detection position. be done. Note that the direction of the cleaning liquid discharged from the cleaning nozzle 202 does not necessarily have to be the same direction as in FIG. 4 because the liquid flow draws a parabola due to gravity even when the cleaning liquid is discharged obliquely from bottom to top.
  • FIG. 5 is a diagram showing a configuration example of a control block for probe cleaning and probe cleaning fluid volume adjustment.
  • An automatic analyzer control unit 501 is a central processing unit for controlling the entire apparatus, and receives instructions such as inspection instructions from the user via a GUI 502 .
  • the dispensing mechanism positions the dispensing probe according to instructions from the dispensing arm control means 503 to the dispensing arm horizontal movement means 504 and the dispensing arm vertical movement means 505 .
  • cleaning processing is performed by moving the dispensing probe to the cleaning position according to instructions from the probe cleaning control means 506 .
  • the dispensing probe is moved to the first height detection position 301 (which is the same as the cleaning position in this embodiment) and the second height detection position 301 according to instructions from the height detection/adjustment control means 507 .
  • the cleaning liquid height detection processing is performed. Since it is necessary to perform high-speed processing during analysis, the speed of the dispensing arm vertical movement means 505 can be switched so that high-speed movement is performed during analysis and low-speed movement is performed during washing liquid discharge state determination/adjustment. Switching between analysis and determination/adjustment of cleaning liquid ejection state is performed by a normal cleaning mode/height detection/adjustment mode switching means 508 .
  • the opening and closing of the electromagnetic valve 216 for discharging the cleaning liquid is performed by the electromagnetic valve control means 509, and the cleaning liquid is discharged at an arbitrary time during probe cleaning and determination/adjustment of the cleaning liquid discharge state.
  • the dispensing probe descends at a lower speed than during cleaning, and the liquid level detector 210 detects contact with the cleaning liquid.
  • the detection signal is stored in the liquid flow detection height table 511 via the cleaning liquid contact determination means 510 (the details of the processing will be described later) and the height detection/adjustment control means 507 .
  • Information about the cleaning liquid height detected at the first height detection position 301 and the second height detection position 302 when the cleaning liquid of the reference water volume (reference flow velocity) is discharged is stored in the liquid flow detection height table in advance. It may be used for judging the liquid amount decrease when judging the cleaning liquid ejection state.
  • the height detection/adjustment control means 507 determines whether the adjustment valve 215 needs to be controlled and the amount of control.
  • the opening/closing state of the regulating valve 215 is controlled by changing the control output from the regulating valve control means 512 .
  • the control output when controlling the regulating valve 215 and information on the liquid flow height measured at that time are managed in the regulating valve control table 513, and can be referred to when controlling the regulating valve 215 from the next time onward. , the amount of cleaning fluid can be adjusted to the target level with fewer operations.
  • FIG. 6 is a flow chart showing the operation of the cleaning liquid amount adjusting means when determining the ejection state of the cleaning liquid.
  • the dispensing probe moves to the first height detection position 301 (step S601).
  • the discharge of the cleaning liquid is started by the opening operation of the electromagnetic valve 216 .
  • the dispensing probe is lowered (step S602).
  • a sensor signal is taken in (step S603), and it is determined whether or not the signal value is equal to or greater than the liquid detection threshold (step S604).
  • the descending speed of the dispensing probe is slower than the descending motion of the dispensing probe in the cleaning operation during analysis.
  • step S605 the washing liquid flow detection height (Z1) is recorded in the liquid flow detection height table 511.
  • step S606 the washing liquid flow detection height
  • step S607 the same flow as the operation described above is next executed after the dispensing probe moves to the second height detection position 302 (step S607) (steps S608 to S612).
  • the controller determines whether the difference between the cleaning liquid height Z1 detected at the first height detection position 301 and the cleaning liquid height Z2 detected at the second height detection position 302 is less than the reference value. (S613). If it is equal to or greater than the reference value, the control unit determines that adjustment (increase) of the liquid amount is necessary, and increases the degree of opening of the adjustment valve 215 (S614).
  • the dispensing arm horizontal movement means does not have the degree of freedom in the X direction (radial direction), but has only the degree of freedom in the ⁇ direction (rotational direction).
  • the dispensing arm horizontal movement means does not have the degree of freedom in the X direction (radial direction), but has only the degree of freedom in the ⁇ direction (rotational direction).
  • an automatic analyzer equipped with such a sample dispensing mechanism it is possible to detect the height of the washing liquid at two positions with different horizontal distances from the washing nozzle.
  • FIG. 7 is a diagram showing the positional relationship between the cleaning nozzle and the dispensing probe from directly above.
  • the horizontal length of the arm is L
  • the vertical axis of rotation 703 (dispensing arm rotation central axis) is the center of the sample dispensing mechanism. Rotatable.
  • a first height detection position 701 which is also the cleaning position of the dispensing probe, and the dispensing probe at a certain angle ( ⁇ 1 ), rotated second height sensing position 702 .
  • the washing liquid can be detected at two locations, one close to the washing nozzle 202 and one far from the washing nozzle 202 .
  • height can be detected. If the arm length L is sufficiently long, the arc trajectory of the dispensing probe can be approximated to a straight trajectory, so height detection can be performed at three or more positions.
  • the present invention is not limited to the embodiments described above, and various modifications are possible.
  • the liquid flow height was detected by lowering the dispensing probe and bringing it into contact with the liquid surface. It is also possible to adopt a method of detecting the height of the liquid flow by Further, in Embodiments 1 and 2, the liquid level detector 210 was used to detect the amount of cleaning liquid, but the present invention is not limited to this as long as it can detect the presence or absence of the cleaning liquid. For example, it is possible to detect the washing liquid using a pressure sensor connected to the flow path of the dispensing probe. Furthermore, in Examples 1 and 2, the liquid level is detected multiple times at the same height detection position, the detection results are averaged, and outliers (among multiple data, the difference from the average value is the largest value) may be removed to improve the variation.
  • DESCRIPTION OF SYMBOLS 100... Automatic analyzer, 101... Reaction disk, 102... Reaction container, 103... Washing mechanism, 104... Spectrophotometer, 105... Stirring mechanism, 106... Washing tank, 107... First reagent dispensing mechanism, 107a...
  • Second Reagent dispensing mechanism 108 Cleaning tank (for reagent dispensing mechanism) 109 Reagent disk 110 Reagent bottle 111 First sample dispensing mechanism 111a Second sample dispensing mechanism 111b Sample dispensing Probe 111c Sample dispensing arm 111d Horizontal movement mechanism 111e Vertical movement mechanism 112 Detergent bottle 113 Cleaning tank (for sample dispensing mechanism) 115 Sample container 116 Sample rack 117 Sample transport mechanism 118 Controller 120 Reagent dispensing probe 121 Reagent syringe 122 Sample syringe 202 Cleaning nozzle 208 Cleaning liquid supply pump 210 Liquid level detector 215 Adjusting valve ( Current control) 216 Solenoid valve 217 Adjusting valve (manual) 218 Flow path 219 Waste liquid tank 300 Cleaning liquid flow 301 First height detection position 302 Second height detection position 501 Automatic analyzer control unit 502 GUI 503 Dispensing arm control means 504 Dispensing arm horizontal movement means 505 Dispensing arm vertical movement means 506 Probe cleaning control means 507 Height detection

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Abstract

本発明の目的は、洗浄水量の変化を高い感度で検出することで、洗浄液量の調整精度を高めた自動分析装置を提供することにある。本発明は、試料または試薬を反応容器に分注する分注プローブを含む分注機構と、前記分注プローブへ洗浄液を吐出する洗浄ノズルと、前記分注機構を制御する制御部と、を備え、前記洗浄ノズルから吐出される前記洗浄液の高さを、前記洗浄ノズルからの水平方向距離が異なる複数の位置で検知し、前記洗浄液の吐出状態を判定するものであって、前記複数の位置のうち少なくとも1つは、前記分注プローブの洗浄位置よりも前記洗浄ノズルから遠い。

Description

自動分析装置
本発明は、自動分析装置に関する。
 自動分析装置は、血液や尿等の生体試料に含まれる特定の成分の定性、定量分析を行う。一般的な動作としては、試料を分注用プローブによって試料容器から反応容器へ分注した後、試薬を試薬容器から反応容器に分注プローブによって分注し、撹拌を行った後に、一定時間反応させ、反応液から得られる吸光度や発光量などの情報から目的とする項目の濃度演算を行っている。このような自動分析装置においては、正確な測定を行うために、検体および試薬を吸引するプローブを適切なタイミング洗浄する必要がある。
 しかし、プローブを洗浄するための洗浄液を供給するポンプの性能が経年劣化により低下したり、ポンプから洗浄液の吐出口までの流路が詰まっていたりすると、洗浄液の液量が変化してくる。洗浄液量が少ない場合、例えば、プローブを十分洗浄できず、キャリーオーバー等が発生する可能性がある。一方、洗浄液量が多い場合、例えば、プローブの先端に水滴が残留してしまう可能性がある。このような洗浄液量の変化に対応するため、一般的には、定期的に作業者が洗浄液量を調整するメンテナンスを行っているが、手動での調整となるため時間がかかったり、バラツキが生じたりしていた。
 ここで、洗浄液量を確認する技術として、例えば、特許文献1が知られている。この特許文献1には、「ノズルの液面検知機能、およびノズル配管内の圧力変動検知機能を用いて洗浄液流の吐出状態を判定」(要約)することが開示されている。
国際公開第2010/016506号
 特許文献1に記載の技術では、分注プローブを通常洗浄する位置でのみ、液流状態の変化を検出している。洗浄ノズルから斜めに洗浄液を吐出する洗浄では、洗浄ノズルの近くは洗浄液流の変化が少ないため、各回の洗浄範囲のばらつきは少なくなる一方、液流変化の検出が難しい。
 本発明は、上記課題を鑑みて、洗浄水量の変化を高い感度で検出することで、洗浄液量の調整精度を高めた自動分析装置を提供することにある。
 上記課題を解決するために、本発明の自動分析装置は、試料または試薬を反応容器に分注する分注プローブを含む分注機構と、前記分注プローブへ洗浄液を吐出する洗浄ノズルと、前記分注機構を制御する制御部と、を備え、前記洗浄ノズルから吐出される前記洗浄液の高さを、前記洗浄ノズルからの水平方向距離が異なる複数の位置で検知し、前記洗浄液の吐出状態を判定するものであって、前記複数の位置のうち少なくとも1つは、前記分注プローブの洗浄位置よりも前記洗浄ノズルから遠い。
 本発明によれば、洗浄水量の変化を高い感度で検出することで、洗浄液量の調整精度を高めた自動分析装置を提供できる。
本実施形態の自動分析装置の概略構成図である。 実施例1に係る試料分注機構の構成を示す図である。 試料分注プローブの洗浄液量調整手段の構成例である。 試料分注プローブの下降位置の例を示す図であり、(a)は、第1高さ検知位置で洗浄液の高さを検出している状態、(b)は、第2高さ検知位置で洗浄液の高さを検出している状態、を表す図である。 プローブ洗浄およびプローブ洗浄液量調整のための制御ブロックの構成例を示す図である。 実施例1における洗浄液の吐出状態判定及び調整方法を示すフローチャートである。 実施例2における洗浄液の高さ検知位置を示す図である。
 本発明の実施形態を図面に基づいて詳細に説明する。図1は、本実施形態の自動分析装置の概略構成図である。自動分析装置100は、反応容器102内で化学反応させた反応液を測定して成分分析を行うための装置である。この自動分析装置100は、主要な構成として、反応ディスク101、洗浄機構103、分光光度計104、撹拌機構105、洗浄槽106、第1試薬分注機構107、第2試薬分注機構107a、洗浄槽108、試薬ディスク109、第1試料分注機構111、第2試料分注機構111a、洗浄槽113、試料搬送機構117、コントローラ118、を有している。また、第1試薬分注機構107、第2試薬分注機構107a、第1試料分注機構111、第2試料分注機構111aは、液面検知機能を有している。
 反応ディスク101には、反応容器102が円周状に配置されている。反応容器102は試料と試薬とを混合させた混合液を収容するための容器であり、反応ディスク101上に複数並べられている。反応ディスク101の近くには、試料容器115を搭載した試料ラック116を搬送する試料搬送機構117が配置されている。
 反応ディスク101と試料搬送機構117との間には、回転及び上下動可能な第1試料分注機構111及び第2試料分注機構111aが配置されており、各々試料分注プローブ111bを備えている。試料分注プローブ111bには各々試料用シリンジ122が接続されている。試料分注プローブ111bは回転軸を中心に円弧を描きながら水平移動し、上下移動して試料容器115から反応容器102への試料分注を行う。
 試薬ディスク109は、その中に試薬を収容した試薬ボトル110や洗剤ボトル112等が複数個円周上に載置可能となっている保管庫である。試薬ディスク109は保冷されている。
 反応ディスク101と試薬ディスク109の間には、回転及び上下動が可能な第1試薬分注機構107、第2試薬分注機構107aが設置されており、それぞれ試薬分注プローブ120を備えている。試薬分注プローブ120は、第1試薬分注機構107又は第2試薬分注機構107aにより、上下および水平移動が行われる。試薬分注プローブ120には各々試薬用シリンジ121が接続されている。この試薬用シリンジ121により、試薬分注プローブ120を介して試薬ボトル110、洗剤ボトル112、希釈液ボトル、前処理用試薬ボトル等から吸引した試薬、洗剤、希釈液、前処理用試薬等を反応容器102に分注する。
 反応ディスク101の周囲には、反応容器102内部を洗浄する洗浄機構103、反応容器102内の混合液を通過した光の吸光度を測定するための分光光度計104、反応容器102へ分注した試料と試薬とを混合する撹拌機構105等が配置されている。
 また、第1試薬分注機構107や第2試薬分注機構107aの動作範囲上に、試薬分注プローブ120用の洗浄槽108が、第1試料分注機構111や第2試料分注機構111aの動作範囲上に、試料分注プローブ111b用の洗浄槽113が、撹拌機構105の動作範囲上に、撹拌機構105用の洗浄槽106が、それぞれ配置されている。
 各機構はコントローラ118に接続され、コントローラ118によりその動作が制御されている。制御部であるコントローラ118は、コンピュータ等から構成され、自動分析装置内の上述した各機構の動作を制御するとともに、血液や尿等の液体試料中の所定の成分の濃度を求める演算処理を行う。
 前述のような自動分析装置100による検査試料の分析処理は、以下の順に従い実行される。まず、試料搬送機構117によって反応ディスク101近くに搬送された試料ラック116の上に載置された試料容器115内の試料を、第1試料分注機構111,第2試料分注機構111aの試料分注プローブ111bにより反応ディスク101上の反応容器102へと分注する。次に、分析に使用する試薬を、試薬ディスク109上の試薬ボトル110から第1試薬分注機構107又は第2試薬分注機構107aにより、先に試料を分注した反応容器102に対して分注する。続いて、撹拌機構105で反応容器102内の試料と試薬との混合液の撹拌を行う。
 その後、光源から発生させた光を混合液の入った反応容器102を透過させ、透過光の光度を分光光度計104により測定する。分光光度計104により測定された光度を、A/Dコンバータ及びインターフェイスを介してコントローラ118に送信する。そしてコントローラ118によって演算を行い、血液や尿等の液体試料中の所定の成分の濃度を求め、結果を表示部(不図示)等に表示させる。なお、分光光度計104を用いて所定の成分の濃度を求める自動分析装置を例として説明するが、後述の実施例にて開示される技術は他の光度計を用いて試料を測定する免疫自動分析装置や凝固自動分析装置に用いても良い。
  ここで、実施例1に係る試料分注機構の構成について、図2を用いて説明する。なお、図2は第1試料分注機構111の構成について示しているが、第2試料分注機構111aも同様の構成となる。図2に示すように、試料分注機構は、試料分注プローブ111bを先端に備える試料分注アーム111cと、試料分注アーム111cを水平方向(x方向)に移動する水平移動機構111dと、試料分注アーム111cを鉛直方向(z方向)に移動する鉛直移動機構111eと、試料分注アーム111cを回転する回転移動機構(図示せず)と、で構成される。試料分注機構は、これらの移動機構によって、試料分注プローブ111bを、試料容器115から試料を吸引する吸引位置、吸引した試料を反応容器102へ吐出する吐出位置、洗浄槽113で試料分注プローブ111bの先端を洗浄する洗浄位置、へそれぞれ移動させる。さらに、試料分注機構は、吸引位置、吐出位置および洗浄位置では、試料容器115、反応容器102および洗浄槽113の高さに合わせて、試料分注プローブ111bを下降させる。
 なお、本実施例では、試料分注プローブ111bの洗浄を例として説明するが、試薬分注プローブの場合も同様に適用可能である。また、試料と試薬を1本のプローブで分注する装置へも同じく適用可能である。
 図3は、試料分注プローブ111bの洗浄液量調整手段の構成例を示す図である。図3に示すように、洗浄液量調整手段は、純水設備(図示せず)から洗浄液を供給する洗浄液供給ポンプ208と、制御電流によって開閉状態を変更可能な調整弁215と、開閉制御により送液をON/OFFする電磁弁216と、開閉操作(弁のネジを手作業で回す)で流量を調整可能な調整弁217と、洗浄液を吐出する洗浄ノズル202と、洗浄槽113から排出される廃液を貯める廃液タンク219と、各部品間を接続する流路218と、で構成される。また、試料分注機構の試料分注アーム111c内には液面検知器210(例えば静電容量センサ)が搭載される。
 試料分注プローブ111bの洗浄では、電磁弁216を開けることで洗浄液供給ポンプ208から送液される洗浄液が、洗浄ノズル202より吐出され、洗浄ノズル202からの液流が試料分注プローブ111bの外面と接触することで、試料分注プローブ111bの外面に付着していた汚れが除去される。
 本実施例では、1つの調整弁215で1つの洗浄ノズル202からの洗浄液量を調整する例を示すが、1つの調整弁215で2つ以上の洗浄ノズルの液量調整も可能である。複数の洗浄ノズルからの液量調整を行う場合は、洗浄液供給ポンプ208から洗浄ノズルに至るまでの流路構成を同様にするか、それぞれの流路に調整弁を設けることで、各洗浄ノズルから吐出される液量が同程度となるよう事前に調整しておくことが望ましい。
 洗浄ノズル202の先端の吐出口は開放されているため、洗浄液の吐出開始直後は、流路218の洗浄ノズル202側に空気が入ることがあり、水が跳ねる場合がある。そのため、液面検知器210の誤検知を回避するには、洗浄ノズル202から洗浄液の吐出を開始した後に、試料分注プローブ111bの下降を開始する順とすることが望ましい。
 図4は、実施例1における試料分注プローブ111bの下降位置の例を示す図である。図4(a)は洗浄液流の上流側(洗浄ノズルに近い位置)における第1高さ検知位置301で試料分注プローブ111bを下降させて洗浄液を検知した状態、図4(b)は洗浄液流の下流側(洗浄ノズルから遠い位置)における第2高さ検知位置302で試料分注プローブ111bを下降させて洗浄液を検知した状態、をそれぞれ示している。
 図4に示すように、洗浄液の吐出状態判定時、制御部は、まず試料分注プローブ111bを第1高さ検知位置301で下降させ、洗浄液流300の高さ検知を行う。次に、制御部は、試料分注プローブ111bの水平位置を、第2高さ検知位置302に移動させた後、試料分注プローブ111bを下降させ、洗浄液流300の高さ検知を行う。これらの高さ検知結果に基づいて、制御部は、洗浄液の吐出状態を判定する。
 ここで、洗浄ノズル202から斜めに吐出される洗浄液流300は、洗浄ノズル202に近い上流側では、上端位置の変化が小さく、通常の吐出状態と液量低下時の吐出状態との差は小さい。しかし、洗浄ノズル202から遠い下流側では、重力の影響を受け洗浄液流300の上端位置の変化が大きく、通常の吐出状態と液量低下時の吐出状態との差が大きくなる。そこで、本実施例では、少なくとも一方の高さ検知位置、具体的には第2高さ検知位置については、試料分注プローブ111bの洗浄位置よりも下流側(洗浄ノズル202から遠い)場所としている。これにより、洗浄液量の変化を容易に検出でき、検出感度が高くなるため、洗浄液の吐出状態を精度よく判定できる。
 ただし、下流側の第2高さ検知位置302で検知された高さ変化だけで、洗浄液の吐出状態を判定しようとすると、メンテナンス時に、洗浄ノズル202と試料分注プローブ111bとの位置関係が変化していた場合に、誤判定してしまう可能性がある。例えば、試料分注プローブ111bや電磁弁216等を交換したり、洗浄槽113を取り外したりした場合に、洗浄液量そのものは低下してなくても、第2高さ検知位置302での検知高さが低下する可能性がある。そこで、本実施例の制御部は、上流側の第1高さ位置での洗浄液流300の高さも用いて、洗浄液の吐出状態を判定することにより、誤判定を抑制している。具体的には、制御部は、第1高さ検知位置301で検知した洗浄液流300の上端位置(高さZ1)と第2高さ検知位置302で検知した洗浄液流300の上端位置(高さZ2)との差(Z1-Z2)を算出し、この差が基準値以上の場合、洗浄液量が低下したと判定する。
 以下、基準値の具体的な設定方法について説明する。例えば、ノズル角度をθ、洗浄液の流速をv、重力加速度をg、第1高さ検知位置301と第2高さ検知位置302の水平方向距離をx’とすると、基準値は、以下の(式1)で表せる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000001
 なお、(式1)は、洗浄液流300の流速が30%減少したときに、第2高さ検知位置302において検出される洗浄液高さの低下分を示している。流速が30%減少すると、分注プローブの洗浄効果が担保できず、キャリーオーバーの発生する可能性があるためである。
 また、2つの高さ検知位置の水平方向距離x’は近過ぎると、洗浄液の吐出状態を判定する精度が低くなってしまう。そこで、液流揺れ、液面検知誤差、液性の違い等から生じる誤差をFとし、安全率をSとしたときに、以下の(式2)を満たすように、水平方向距離x’を決定すれば、吐出状態を確実に判定することが可能となる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000002
  ここで、誤差Fのレンジが大きく、検知精度が担保困難な場合は、液面検知信号を時間平均化処理しても良い。ただし、水平方向距離x’の決定方法はこれに限定されない。例えば、発明者らの実験によれば、水平方向距離x’は1mm以上であれば一定の精度が得られることが判明したので、1mm以上の所定の値(例えば2mm)と定めても良い。
 さらに、本実施例では、第1高さ検知位置301を、試料分注プローブ111bの洗浄位置と一致させている。したがって、試料分注プローブ111bの第1高さ検知位置301への移動シーケンスに関するデータテーブルを別途設ける必要がなく、第1高さ検知位置の位置調整作業を別途行う必要もない(位置調整された洗浄位置を利用すれば良い)ため作業性が大幅に向上する。
 ここで、洗浄液流300の下流ほど液流の形状が不安定になりやすく、しぶき(飛散)も発生しやすくなる。そのため、試料分注プローブ111bの下降距離(検出距離)のばらつきが大きくなることがある。そこで、本実施例における制御部は、洗浄液の吐出状態判定時に、試料分注プローブ111bを下降させる速度を、洗浄時に試料分注プローブ111bを下降させる速度よりも遅くする。このように、試料分注プローブ111bの下降速度を洗浄時より遅くすることで、洗浄液との接触検知信号を液面検知器210が誤検知してしまうことが低減され、検出位置のばらつきが抑制される。なお、洗浄ノズル202から吐出する洗浄液の向きは、下から上へ斜めに吐出する場合であっても重力により液流は放物線を描くため、必ずしも図4と同じ向きでなくても良い。
 図5は、プローブ洗浄およびプローブ洗浄液量調整のための制御ブロックの構成例を示す図である。自動分析装置制御部501は、装置全体を制御するための中央処理部であり、GUI502を介してユーザからの検査指示などの指令を受け取る。分注機構は、分注アーム制御手段503から分注アーム水平移動手段504や分注アーム上下移動手段505への指示で、分注プローブの位置決めを行う。
 分析時の動作では、プローブ洗浄制御手段506からの指示で分注プローブを洗浄位置に移動することで洗浄処理を行う。洗浄液吐出状態判定・調整時の動作では、高さ検出・調整制御手段507からの指示で分注プローブを第1高さ検知位置301(本実施例では洗浄位置と同じ)および第2高さ検知位置302に移動させることで洗浄液の高さ検出処理を行う。なお、分析時は高速で処理する必要があるため、分注アーム上下移動手段505は、分析時に高速移動を行い、洗浄液吐出状態判定・調整時には低速移動を行うよう、速度を切り替えられる。分析時と洗浄液吐出状態判定・調整時の切り替えは、通常洗浄モード/高さ検出・調整モード切替手段508で行われる。
 洗浄液を吐出するための電磁弁216の開閉は、電磁弁制御手段509で行われ、プローブ洗浄時や洗浄液吐出状態判定・調整時の任意の時間に、洗浄液が吐出される。前述のとおり、吐出状態判定時には、分注プローブが洗浄時より低速で下降し、洗浄液との接触が液面検知器210で検知される。検知信号は、洗浄液接触判定手段510(処理内容は後述)と高さ検出・調整制御手段507を介して、液流検出高さテーブル511に格納される。なお、基準水量(基準流速)の洗浄液を吐出したときに第1高さ検知位置301および第2高さ検知位置302で検知した洗浄液高さに関する情報を、液流検出高さテーブルに予め格納しておき、洗浄液吐出状態判定時の液量低下の判定に用いても良い。
 高さ検出・調整制御手段507は、液流検出高さテーブル511に格納された情報を基に、調整弁215の制御要否や制御量を判断する。調整弁215は、調整弁制御手段512からの制御出力が変化することによって、開閉状態が制御される。調整弁215を制御したときの制御出力と、そのときに測定された液流高さの情報は、調整弁制御テーブル513で管理され、次回以降の調整弁215の制御の際に参照することで、より少ない回数の操作で洗浄液量を目標の状態にできる。
 図6は、洗浄液の吐出状態を判定する際の洗浄液量調整手段の動作を示すフローチャートである。はじめに、分注プローブが第1高さ検知位置301に移動する(ステップS601)。次に、電磁弁216の開動作により、洗浄液の吐出が開始される。その後、分注プローブが下降する(ステップS602)。下降時は、センサ信号が取り込まれ(ステップS603)、信号値が液検知の閾値以上か否かが判断される(ステップS604)。この時、分注プローブの下降速度は、分析時の洗浄動作における分注プローブの下降動作よりも遅くなっている。低速で下降することで、洗浄液との接触検知信号を液面検知器210が誤検知してしまうことが抑制され、洗浄液上端位置の検出ばらつきを低減できる。分注プローブの下降動作は、液面検知信号が検出されるまで行われ、液面検知信号が検知された後は、洗浄液流の検出高さ(Z1)が液流検出高さテーブル511に記録される(ステップS605)。そして、電磁弁216が閉じられ、分注プローブが上昇する(ステップS606)。前述した動作と同じフローを、次は分注プローブが第2高さ検知位置302に移動した(ステップS607)後に、実行される(ステップS608~ステップS612)。
 その後、制御部は、第1高さ検知位置301で検知された洗浄液高さZ1と第2高さ検知位置302で検知された洗浄液高さZ2との差が、基準値未満か否かを判定する(S613)。基準値以上の場合、制御部は、液量の調整(増加)が必要と判断し、調整弁215の開放度を拡大させる(S614)。
  実施例2に係る試料分注機構は、分注アーム水平移動手段が、X方向(径方向)の自由度を持たず、θ方向(回転方向)の自由度のみである。しかし、このような試料分注機構を備えた自動分析装置であっても、洗浄ノズルからの水平方向距離の異なる2つの位置で、洗浄液の高さ検知が可能である。
 図7は、洗浄ノズルと分注プローブの位置関係を、真上から示した図である。図7のように、本実施例の試料分注機構は、アームの水平方向の長さがLであり、鉛直方向の回転軸703(分注アーム回転中心軸)を中心として角度θの範囲で回転可能である。また、洗浄ノズル202から吐出される洗浄液流の鉛直投影上に、分注プローブの洗浄位置でもある第1高さ検知位置701と、分注プローブを第1高さ検知位置701から一定角度(θ1)回転させた第2高さ検知位置702と、が存在している。このように高さ検知位置を定めることにより、水平方向の移動が(θ方向のみの)1軸の試料分注機構であっても、洗浄ノズル202に近い場所と遠い場所の2か所で洗浄液の高さ検知が可能となる。なお、アームの長さLが十分に長い場合は、分注プローブの円弧軌跡を直線軌跡に近似できるので、3か所以上の複数の位置で、高さ検知することも可能である。このように高さ検知位置を3か所にすると、洗浄液の吐出状態の判定精度がさらに向上する。
 本発明は前述した各実施例に限定されるものではなく、種々の変形が可能である。例えば、前述の実施例1,2においては分注プローブを下降させて液面に接触させることで液流高さを検知したが、吐出される洗浄液の横から分注プローブを近づけていき、接触させることにより液流高さを検知する方式を採用しても良い。また、実施例1,2では、洗浄液量を検出する際に液面検知器210を用いたが、洗浄液の有無を検知できるものであれば、これに限らない。例えば、分注プローブの流路に接続された圧力センサを用いて洗浄液を検知することも可能である。さらに、実施例1,2において、同じ高さ検知位置にて液面高さの検出を複数回行い、検知結果を平均化したり、外れ値(複数データのうち、最も平均値との差が大きい値)などを除去したりして、ばらつきを改善しても良い。
 また、前述した実施例は本発明を理解しやすく説明するために例示したものであり、必ずしも説明した全ての構成を備えるものに限定されるものではない。さらに、ある実施例の構成の一部を他の実施例の構成に置き換えることも可能であり、ある実施例の構成に他の実施例の構成を加えることも可能である。各実施例の構成の一部について、他の構成の追加・削除・置換をすることも可能である。
100…自動分析装置、101…反応ディスク、102…反応容器、103…洗浄機構、104…分光光度計、105…撹拌機構、106…洗浄槽、107…第1試薬分注機構、107a…第2試薬分注機構、108…洗浄槽(試薬分注機構用)、109…試薬ディスク、110…試薬ボトル、111…第1試料分注機構、111a…第2試料分注機構、111b…試料分注プローブ、111c…試料分注アーム、111d…水平移動機構、111e…鉛直移動機構、112…洗剤ボトル、113…洗浄槽(試料分注機構用)、115…試料容器、116…試料ラック、117…試料搬送機構、118…コントローラ、120…試薬分注プローブ、121…試薬用シリンジ、122…試料用シリンジ、202…洗浄ノズル、208…洗浄液供給ポンプ、210…液面検知器、215…調整弁(電流制御)、216…電磁弁、217…調整弁(手動)、218…流路、219…廃液タンク、300…洗浄液流、301…第1高さ検知位置、302…第2高さ検知位置、501…自動分析装置制御部、502…GUI、503…分注アーム制御手段、504…分注アーム水平移動手段、505…分注アーム上下移動手段、506…プローブ洗浄制御手段、507…高さ検出・調整制御手段、508…通常洗浄モード/高さ検出・調整モード切替手段、509…電磁弁制御手段、510…洗浄液接触判定手段、511…液流検出高さテーブル、512…調整弁制御手段、513…調整弁制御テーブル、701…第1高さ検知位置、702…第2高さ検知位置、703…分注アーム回転中心軸

Claims (6)

  1. 試料または試薬を反応容器に分注する分注プローブを含む分注機構と、
    前記分注プローブへ洗浄液を吐出する洗浄ノズルと、
    前記分注機構を制御する制御部と、
    を備え、
    前記洗浄ノズルから吐出される前記洗浄液の高さを、前記洗浄ノズルからの水平方向距離が異なる複数の位置で検知し、前記洗浄液の吐出状態を判定するものであって、
    前記複数の位置のうち少なくとも1つは、前記分注プローブの洗浄位置よりも前記洗浄ノズルから遠い自動分析装置。
  2. 請求項1に記載の自動分析装置において、
    前記複数の位置のうち、前記洗浄ノズルに最も近い位置は、前記分注プローブの洗浄位置である自動分析装置。
  3. 請求項1に記載の自動分析装置において、
    前記分注機構は、水平方向の移動が鉛直方向の回転軸を中心とした回転のみであって、
    前記複数の位置は、2つの位置であり、
    前記洗浄ノズルに近い方の位置は、前記分注プローブの洗浄位置であり、
    前記洗浄ノズルから遠い方の位置は、前記分注プローブを、前記回転軸を中心として前記洗浄位置から一定角度回転させた位置である自動分析装置。
  4. 請求項1に記載の自動分析装置において、
    前記複数の位置は、2つの位置であり、
    互いの水平方向距離が1mm以上である自動分析装置。
  5. 請求項1に記載の自動分析装置において、
    前記分注機構は、洗浄液検知手段を備え、
    前記制御部は、前記洗浄液の吐出を開始した後に、前記分注プローブの下降を開始させ、
    前記洗浄液検知手段が前記洗浄液を検知したときの高さにより、前記洗浄液の吐出状態を判定する自動分析装置。
  6. 請求項1に記載の自動分析装置において、
    前記分注機構は、洗浄液検知手段を備え、
    前記制御部は、前記複数の位置で、前記分注プローブを下降させていき、前記洗浄液検知手段が前記洗浄液を検知したときの高さに基づいて、前記洗浄液の吐出状態を判定するものであって、
    前記洗浄液の吐出状態を判定する際に前記分注プローブが下降する速度は、
    前記分注プローブを洗浄する際に前記分注プローブが下降する速度よりも遅い自動分析装置。
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