WO2022209922A1

WO2022209922A1 - 硬化性組成物、ハードコートフィルム、ハードコートフィルムを備えた物品、画像表示装置、及びフレキシブルディスプレイ

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Publication number: WO2022209922A1
Application number: PCT/JP2022/012086
Authority: WO
Inventors: 哲北村; 悠太福島; 彩子松本
Original assignee: 富士フイルム株式会社
Priority date: 2021-03-31
Filing date: 2022-03-16
Publication date: 2022-10-06
Also published as: CN117120485A; KR20230147167A; JPWO2022209922A1

Abstract

分子量が２０００以下の重合性化合物を含む硬化性組成物であって、上記硬化性組成物の全固形分中の上記分子量が２０００以下の重合性化合物の含有率が７０質量％以上であり、分子内に、１つ以上の水素結合性基と３つ以上の（メタ）アクリル基を有し、水素結合性のプロトン価が３．５ｍｏｌ／ｋｇ以上であり、（メタ）アクリル価が５．０ｍｏｌ／ｋｇ以上であり、分子量が２０００以下である重合性化合物（ａ１）を含む、硬化性組成物、上記硬化性組成物の硬化物を含むハードコート層を有するハードコートフィルム、上記ハードコートフィルムを備えた物品、画像表示装置、及びフレキシブルディスプレイにより、鉛筆硬度及び耐屈曲性に優れ、かつ自己修復性を備えた硬化膜を形成し得る硬化性組成物、上記硬化性組成物の硬化物を含むハードコート層を有するハードコートフィルム、上記ハードコートフィルムを備えた物品、及び画像表示装置を提供する。

Description

硬化性組成物、ハードコートフィルム、ハードコートフィルムを備えた物品、画像表示装置、及びフレキシブルディスプレイ

　本発明は、硬化性組成物、ハードコートフィルム、ハードコートフィルムを備えた物品、画像表示装置、及びフレキシブルディスプレイに関する。

　硬化性組成物は、紫外線などの活性エネルギー線の照射や加熱などにより硬化する組成物である。例えば、基材上に硬化性組成物を塗布して硬化することで硬化膜を形成することができる。液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）やマイクロＬＥＤ（Ｌｉｇｈｔ　Ｅｍｉｔｔｉｎｇ　Ｄｉｏｄｅ）、マイクロＯＬＥＤ（Ｏｒｇａｎｉｃ　Ｌｉｇｈｔ　Ｅｍｉｔｔｉｎｇ　Ｄｉｏｄｅ）などの画像表示装置では、表示面への傷付きを防止するために、基材上にハードコート層を有する光学フィルム（ハードコートフィルム）を設けることが好適であり、ハードコート層の形成のためにハードコート層形成用組成物として硬化性組成物が用いられている。

　例えば、特許文献１には、ウレタン基を有する反応性（メタ）アクリレートポリマーと、重合開始剤と、反応性モノマーとを含有する硬化性組成物が記載されている。特許文献１によれば、上記硬化性組成物により表面硬度や屈曲性に優れた硬化膜を形成できると記載されている。
　また、特許文献２には、ウレタン基を有するモノマー等を含む固体撮像素子の画素形成に用いられる感光性樹脂組成物が記載されている。

国際公開第２００９／１４２２３７号日本国特開２０１０－４９０２９号公報

　しかしながら、表面硬度や耐屈曲性などが更に優れた硬化膜を形成し得る硬化性組成物が求められている。また、損傷が生じても自ら修復する機能（自己修復性）を備えた硬化膜を形成し得る硬化性組成物も求められている。
　本発明の課題は、鉛筆硬度及び耐屈曲性に優れ、かつ自己修復性を備えた硬化膜を形成し得る硬化性組成物、上記硬化性組成物の硬化物を含むハードコート層を有するハードコートフィルム、上記ハードコートフィルムを備えた物品、画像表示装置、及びフレキシブルディスプレイを提供することにある。

　本発明者らは鋭意検討し、下記手段により上記課題が解消できることを見出した。

＜１＞
　分子量が２０００以下の重合性化合物を含む硬化性組成物であって、
　上記硬化性組成物の全固形分中の上記分子量が２０００以下の重合性化合物の含有率が７０質量％以上であり、
　分子内に、１つ以上の水素結合性基と３つ以上の（メタ）アクリル基を有し、水素結合性のプロトン価が３．５ｍｏｌ／ｋｇ以上であり、（メタ）アクリル価が５．０ｍｏｌ／ｋｇ以上であり、分子量が２０００以下である重合性化合物（ａ１）を含む、硬化性組成物。
＜２＞
　上記重合性化合物（ａ１）の上記水素結合性のプロトン価と上記（メタ）アクリル価の和が１０．５ｍｏｌ／ｋｇ以上である、＜１＞に記載の硬化性組成物。
＜３＞
　上記硬化性組成物を下記硬化条件で硬化させ、下記測定条件で測定した弾性率が９．５ＧＰａ以上であり、破断伸びが１０．０％以上である、＜１＞又は＜２＞に記載の硬化性組成物。
　硬化条件：厚さ５０μｍのポリイミド基材上に、上記硬化性組成物を乾燥後の厚さが１１μｍとなるようにバー塗布した後、１２０℃で１分間乾燥させ、８０℃下、照度６０ｍＷ／ｃｍ^２、照射量６００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線にて硬化させて硬化物を形成する。
　測定条件：上記ポリイミド基材と上記硬化物の積層体に対して、微小硬度計を用いて最大荷重５０ｍＮにて測定する。
＜４＞
　上記硬化性組成物の全固形分中の上記重合性化合物（ａ１）の含有率が、５１質量％以上である、＜１＞～＜３＞のいずれか１項に記載の硬化性組成物。
＜５＞
　上記硬化性組成物を上記硬化条件で硬化させた硬化物の波長４００～７００ｎｍの領域における透過率が、いずれの波長においても８０％以上である、＜３＞に記載の硬化性組成物。
＜６＞
　上記水素結合性基が、ウレタン基、チオウレタン基、ウレア基、チオウレア基、アミド基、及びチオアミド基からなる群より選択される少なくとも１つである、＜１＞～＜５＞のいずれか１項に記載の硬化性組成物。
＜７＞
　上記重合性化合物（ａ１）が、下記一般式（１）又は（２）で表される化合物である、＜１＞～＜６＞のいずれか１項に記載の硬化性組成物。

　一般式（１）中、Ｒは置換基を表し、ＸはＣ又はＮを表し、Ｌ^１及びＬ^２は各々独立に単結合又は２価の連結基を表し、Ａは水素結合性基を表し、Ｑは水素原子又はメチル基を表し、ｍは０～２の整数を表し、ｎは２～４の整数を表す。ただし、ＸがＣを表す場合はｍとｎの和は４であり、ＸがＮを表す場合はｍとｎの和は３である。ｍが２を表す場合、２つのＲは同一でも異なっていてもよい。複数のＬ^１、Ａ、Ｌ^２、及びＱは各々同一でも異なってもよい。

　一般式（２）中、Ｚはｋ＋ｗ価の連結基を表し、Ｌ^３及びＬ^４は各々独立に単結合又は２価の連結基を表し、Ａは水素結合性基を表し、Ｑは水素原子又はメチル基を表し、Ｒは置換基を表し、ｋは２～８の整数を表し、ｗは０～２の整数を表す。複数のＬ^３、Ａ、Ｌ^４、及びＱは各々同一でも異なってもよい。ｗが２を表す場合、２つのＲは同一でも異なっていてもよい。
＜８＞
　さらに、フッ素系化合物及びシリコーン系化合物からなる群より選択される少なくとも１つの化合物を含む、＜１＞～＜７＞のいずれか１項に記載の硬化性組成物。
＜９＞
　さらに、溶媒を含み、上記溶媒の８０質量％以上が有機溶媒である、＜１＞～＜８＞のいずれか１項に記載の硬化性組成物。
＜１０＞
　上記硬化性組成物を上記硬化条件で硬化させた硬化物において、上記硬化性組成物に含まれる（メタ）アクリル基の８０モル％以上が、（メタ）アクリル基以外の基に変化している、＜３＞に記載の硬化性組成物。
＜１１＞
　上記硬化性組成物を上記硬化条件で硬化させて得られた上記ポリイミド基材と上記硬化物の積層体を用いて、上記ポリイミド基材を外側にして、曲率半径１．５ｍｍで１８０°折り曲げ試験を１万回繰り返し行った場合にクラックが発生しない、＜３＞に記載の硬化性組成物。
＜１２＞
　上記硬化性組成物を上記硬化条件で硬化させて得られた上記ポリイミド基材と上記硬化物の積層体を用いて、上記ポリイミド基材を内側にして、円筒形マンドレル法により耐屈曲性試験を行った場合に、直径４ｍｍのマンドレルでクラックが発生しない、＜３＞に記載の硬化性組成物。
＜１３＞
　基材と、＜１＞～＜１２＞のいずれか１項に記載の硬化性組成物の硬化物を含むハードコート層とを有するハードコートフィルム。
＜１４＞
　上記ハードコートフィルムの波長４５０～７００ｎｍの領域における透過率が、いずれの波長においても８０％以上である、＜１３＞に記載のハードコートフィルム。
＜１５＞
　上記基材が、ポリイミド、ポリアラミド、ポリエチレンテレフタラート、ポリカーボネート、ポリエチレンナフタレート、ポリウレタン、アクリル樹脂、及びセルロース樹脂からなる群より選択される少なくとも１種のポリマーを含む、＜１３＞又は＜１４＞に記載のハードコートフィルム。
＜１６＞
　＜１３＞～＜１５＞のいずれか１項に記載のハードコートフィルムを備えた物品。
＜１７＞
　＜１３＞～＜１５＞のいずれか１項に記載のハードコートフィルムを表面保護フィルムとして備えた画像表示装置。
＜１８＞
　＜１３＞～＜１５＞のいずれか１項に記載のハードコートフィルムを表面保護フィルムとして備えたフレキシブルディスプレイ。

　本発明によれば、鉛筆硬度及び耐屈曲性に優れ、かつ自己修復性を備えた硬化膜を形成し得る硬化性組成物、上記硬化性組成物の硬化物を含むハードコート層を有するハードコートフィルム、上記ハードコートフィルムを備えた物品、画像表示装置、及びフレキシブルディスプレイを提供することができる。

　以下、本発明を実施するための形態について詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、本明細書において、数値が物性値、特性値等を表す場合に、「（数値１）～（数値２）」という記載は「（数値１）以上（数値２）以下」の意味を表す。また、本明細書において、「（メタ）アクリレート」との記載は、「アクリレート及びメタクリレートの少なくともいずれか」の意味を表す。「（メタ）アクリル酸」、「（メタ）アクリロイル」、「（メタ）アクリルアミド」、「（メタ）アクリロイルオキシ」等も同様である。

〔硬化性組成物〕
　本発明の硬化性組成物は、
　分子量が２０００以下の重合性化合物を含む硬化性組成物であって、
　硬化性組成物の全固形分中の分子量が２０００以下の重合性化合物の含有率が７０質量％以上であり、
　分子内に、１つ以上の水素結合性基と３つ以上の（メタ）アクリル基を有し、水素結合性のプロトン価が３．５ｍｏｌ／ｋｇ以上であり、（メタ）アクリル価が５．０ｍｏｌ／ｋｇ以上であり、分子量が２０００以下である重合性化合物（ａ１）を含む、硬化性組成物である。
　「分子内に、１つ以上の水素結合性基と３つ以上の（メタ）アクリル基を有し、水素結合性のプロトン価が３．５ｍｏｌ／ｋｇ以上であり、（メタ）アクリル価が５．０ｍｏｌ／ｋｇ以上であり、分子量が２０００以下である重合性化合物（ａ１）」を、「重合性化合物（ａ１）」とも呼ぶ。

＜重合性化合物（ａ１）＞
　重合性化合物（ａ１）は、分子内に、１つ以上の水素結合性基と３つ以上の（メタ）アクリル基を有し、水素結合性のプロトン価が３．５ｍｏｌ／ｋｇ以上であり、（メタ）アクリル価が５．０ｍｏｌ／ｋｇ以上であり、分子量が２０００以下である重合性化合物である。
　以下、重合性化合物（ａ１）について説明する。

（水素結合性基）
　重合性化合物（ａ１）は、分子内に１つ以上の水素結合性基を有する。
　水素結合性基とは、水素結合を形成し得る水素原子（プロトン）を含む基である。水素結合を形成し得る水素原子とは、電気陰性度が大きな原子に共有結合で結びついた水素原子であり、近傍に位置した窒素原子、酸素原子等と水素結合を形成し得るものである。
　重合性化合物（ａ１）が有する水素結合性基としては、特に限定されず、一般に知られている水素結合性基であってよい。
　重合性化合物（ａ１）が有する水素結合性基は、ウレタン基、チオウレタン基、ウレア基、チオウレア基、アミド基、及びチオアミド基からなる群より選択される少なくとも１つであることが好ましく、ウレタン基、ウレア基、及びアミド基からなる群より選択される少なくとも１つであることがより好ましく、ウレタン基又はウレア基であることが更に好ましく、ウレア基であることが特に好ましい。
　本発明において、アミド基とは、－ＮＨ－Ｃ（＝Ｏ）－で表される２価の連結基を表し、ウレタン基とは、－ＮＨ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－で表される２価の連結基を表し、ウレア基とは、－ＮＨ－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＨ－で表される２価の連結基を表し、チオウレタン基とは、－ＮＨ－Ｃ（＝Ｓ）－Ｏ－で表される２価の連結基を表し、チオウレア基とは、－ＮＨ－Ｃ（＝Ｓ）－ＮＨ－で表される２価の連結基を表し、チオアミド基とは、－ＮＨ－Ｃ（＝Ｓ）－で表される２価の連結基を表すものとする。

（水素結合性のプロトン価）
　重合性化合物（ａ１）の水素結合性のプロトン価は、３．５ｍｏｌ／ｋｇ以上である。
　水素結合性のプロトン価とは、化合物中の水素結合を形成し得る水素原子（プロトン）の密度を表し、下記式（ｉ）から算出される。

　水素結合性のプロトン価＝化合物の１分子内の水素結合を形成し得る水素原子（プロトン）の物質量（ｍｏｌ）／化合物の１分子の質量（ｋｇ）・・・（ｉ）

　なお、アミド基及びチオアミド基に含まれる水素結合を形成し得る水素原子の数は１、ウレタン基及びチオウレタン基に含まれる水素結合を形成し得る水素原子の数は１、ウレア基及びチオウレア基に含まれる水素結合を形成し得る水素原子の数は２である。

　重合性化合物（ａ１）が構成単位を有する重合体である場合について、水素結合性のプロトン価の求め方を説明する。
　構成単位とは、繰り返し単位のことであり、例えば、重合性化合物（ａ１）が１種のモノマーのみから重合されてなる重合体である場合は、重合性化合物（ａ１）が有する構成単位は１種であり、２種のモノマーの共重合体である場合は、構成単位は２種となる。

　重合性化合物（ａ１）が１種の構成単位を有する場合は、重合性化合物（ａ１）の水素結合性のプロトン価は、上記式（ｉ）により算出した１構成単位における水素結合価となる。

　重合性化合物（ａ１）が複数種の構成単位を有する場合は、上記式（ｉ）により算出した各構成単位における水素結合性のプロトン価に、重合性化合物（ａ１）における各構成単位の組成比率（モル％）を乗じて１００で割った値の総和（モル分率平均値）を重合性化合物（ａ１）の水素結合性のプロトン価とする。

　具体的には、重合性化合物（ａ１）が２種の構成単位（構成単位１及び構成単位２）を有する場合、重合性化合物（ａ１）の水素結合性のプロトン価は、以下の下記式（ｉｉＡ）から算出される。

　水素結合性のプロトン価＝Ｈ_１（構成単位１の水素結合性のプロトン価）×Ｗ_１（構成単位１の組成比率（モル％））／１００＋Ｈ_２（構成単位２の水素結合性のプロトン価）×Ｗ_２（構成単位２の組成比率（モル％））／１００・・・（ｉｉＡ）

　また、重合性化合物（ａ１）が構成単位１、構成単位２、．．．構成単位Ｘ（Ｘは３以上の整数を表す）を有する場合、重合性化合物（ａ１）の水素結合性のプロトン価は、以下の下記式（ｉｉＢ）から算出される。

　水素結合性のプロトン価＝Ｈ_１（構成単位１の水素結合性のプロトン価）×Ｗ_１（構成単位１の組成比率（モル％））／１００＋Ｈ_２（構成単位２の水素結合性のプロトン価）×Ｗ_２（構成単位２の組成比率（モル％））／１００＋　…　Ｈ_Ｘ（構成単位Ｘの水素結合性のプロトン価）×Ｗ_Ｘ（構成単位Ｘの組成比率（モル％））／１００・・・（ｉｉＢ）

　重合性化合物（ａ１）における水素結合性のプロトン価は、３．５ｍｏｌ／ｋｇ以上である。これにより、重合性化合物（ａ１）が形成する水素結合の密度を高くすることが可能となるため、本発明の硬化性組成物を硬化してなる硬化膜の表面の硬度（鉛筆硬度）を高くすることができると推察される。また、水素結合は可逆的に解離、再形成が可能であるため、ひずみ時の応力を水素結合の解離で逃がすことができ、構造変化後に水素結合が再形成することで、硬化膜に耐屈曲性及び自己修復性を付与することができると推察される。特に、基材と、硬化性の硬化物を含むハードコート層とを有するハードコートフィルムに対して、基材を内側にし、ハードコート層を外側にして行う耐屈曲性試験（外曲げ試験）においても優れた耐屈曲性を示すことができると推察される。

　重合性化合物（ａ１）における水素結合性のプロトン価は、３．５ｍｏｌ／ｋｇ以上であり、４．０ｍｏｌ／ｋｇ以上であることが好ましく、５．０ｍｏｌ／ｋｇ以上であることがより好ましく、６．０ｍｏｌ／ｋｇ以上であることが更に好ましい。
　また、溶解性を良好にし、成膜時の凝集物の発生を抑制する観点から、重合性化合物（ａ１）における水素結合性のプロトン価は、２０．０ｍｏｌ／ｋｇ以下であることが好ましく、１７．５ｍｏｌ／ｋｇ以下であることがより好ましく、１５．０ｍｏｌ／ｋｇ以下であることが更に好ましく、１２．５ｍｏｌ／ｋｇ以下であることが更に好ましい。

（（メタ）アクリル価）
　重合性化合物（ａ１）は、分子内に３つ以上の（メタ）アクリル基を有する。すなわち、重合性化合物（ａ１）は、分子内に、アクリル基（アクリロイル基）及びメタクリル基（メタクリロイル基）からなる群より選択される基（下記一般式（Ｔ）で表される基）を少なくとも３つ有する。

　一般式（Ｔ）中、Ｑ^１は水素原子又はメチル基を表し、＊は結合位置を表す。

　一般式（Ｔ）中、Ｑ^１が水素原子の場合はアクリル基であり、Ｑ^１がメチル基の場合はメタクリル基である。
　一般式（Ｔ）中、＊は結合位置を表すが、＊において結合する原子の種類は特に限定されない。例えば、＊において酸素原子と結合する場合、この酸素原子も含めて一般式（Ｔ）で表される基は、（メタ）アクリロイルオキシ基となる。また、＊において窒素原子（水素原子又は置換基と結合した窒素原子）と結合する場合、この窒素原子も含めて一般式（Ｔ）で表される基は、（メタ）アクリロイルアミノ基（（メタ）アクリルアミド基）となる。

　なお、（メタ）アクリルアミド基は、アミド基を内在するものであり、水素結合性基にも相当する。

　（メタ）アクリル価とは、化合物中の（メタ）アクリル基密度を表し、下記式（ｉｉｉ）から算出される。

　（メタ）アクリル価＝化合物の１分子内の（メタ）アクリル基の物質量（ｍｏｌ）／化合物の１分子の質量（ｋｇ）・・・（ｉｉｉ）

　重合性化合物（ａ１）が構成単位を有する重合体である場合について、（メタ）アクリル価の求め方を説明する。
　重合性化合物（ａ１）が１種の構成単位を有する重合体である場合は、１構成単位において算出した（メタ）アクリル価を重合性化合物（ａ１）の（メタ）アクリル価とする。

　重合性化合物（ａ１）が複数種の構成単位を有する場合は、上記式（ｉｉｉ）により算出した各構成単位における（メタ）アクリル価に、重合性化合物（ａ１）における各構成単位の組成比率（モル％）を乗じて１００で割った値の総和（モル分率平均値）を重合性化合物（ａ１）の（メタ）アクリル価とする。

　具体的には、重合性化合物（ａ１）が２種の構成単位（構成単位１及び構成単位２）を有する場合、重合性化合物（ａ１）の（メタ）アクリル価は、以下の下記式（ｉｖＡ）から算出される。

　（メタ）アクリル価＝Ｃ_１（構成単位１の（メタ）アクリル価）×Ｗ_１（構成単位１の組成比率（モル％））／１００＋Ｃ_２（構成単位２の（メタ）アクリル価）×Ｗ_２（構成単位２の組成比率（モル％））／１００・・・（ｉｖＡ）

　また、重合性化合物（ａ１）が構成単位１、構成単位２、．．．構成単位Ｘ（Ｘは３以上の整数を表す）を有する場合、重合性化合物（ａ１）の（メタ）アクリル価は、以下の下記式（ｉｖＢ）から算出される。

　（メタ）アクリル価＝Ｃ_１（構成単位１の（メタ）アクリル価）×Ｗ_１（構成単位１の組成比率（モル％））／１００＋Ｃ_２（構成単位２の（メタ）アクリル価）×Ｗ_２（構成単位２の組成比率（モル％））／１００＋　…　Ｃｘ（構成単位Ｘの（メタ）アクリル）×Ｗ_Ｘ（構成単位Ｘの組成比率（モル％））／１００・・・（ｉｖＢ）

　重合性化合物（ａ１）の（メタ）アクリル価は５．０ｍｏｌ／ｋｇ以上であり、５．３ｍｏｌ／ｋｇ以上であることが好ましく、５．６ｍｏｌ／ｋｇ以上であることがより好ましい。

　重合性化合物（ａ１）の（メタ）アクリル価は、サンプルを適当な溶媒に溶解させておき、（メタ）アクリル基と定量的に反応するチオールを一定の量添加することでエン・チオール反応させ、それにより消費されたチオール量から見積もることが可能である。消費されたチオール量は、ＮＭＲ（Ｎｕｃｌｅａｒ　Ｍａｇｎｅｔｉｃ　Ｒｅｓｏｎａｎｃｅ）やＧＣ（Ｇａｓ　Ｃｈｒｏｍａｔｏｇｒａｐｈ）により定量できる。

　重合性化合物（ａ１）が有する（メタ）アクリル基の数は、３～２０であることが好ましく、３～８であることがより好ましく、３～６であることが更に好ましく、３～４であることが特に好ましい。

（水素結合性のプロトン価と（メタ）アクリル価の和）
　重合性化合物（ａ１）の水素結合性のプロトン価と（メタ）アクリル価の和は、特に限定されないが、１０．５ｍｏｌ／ｋｇ以上であることが好ましく、１１．０ｍｏｌ／ｋｇ以上であることがより好ましく、１１．５ｍｏｌ／ｋｇ以上であることが更に好ましく、１２．０ｍｏｌ／ｋｇ以上であることが特に好ましい。重合性化合物（ａ１）の水素結合性のプロトン価と（メタ）アクリル価の和が１０．５ｍｏｌ／ｋｇ以上であると、弾性率が高くなり、表面硬度が高くなるという観点で好ましい。

（水素結合性のプロトン価と（メタ）アクリル価の比）
　重合性化合物（ａ１）の水素結合性のプロトン価と（メタ）アクリル価の比は、特に限定されないが、水素結合性のプロトン価／（メタ）アクリル価が、０．２５以上４．０以下であることが好ましく、０．３５以上３．５以下であることがより好ましく、０．４５以上３．０以下であることが更に好ましく、０．５５以上２．５以下であることが特に好ましく、０．６０以上２．０以下であることが最も好ましい。

（分子量）
　重合性化合物（ａ１）の分子量は２０００以下であり、１５００以下であることが好ましく、１２５０以下であることがより好ましく、１０００以下であることが更に好ましい。

（重合性化合物（ａ１）の構造）
　重合性化合物（ａ１）の構造は特に限定されないが、下記一般式（１）又は（２）で表される化合物であることが好ましい。

　一般式（２）中、Ｚはｋ＋ｗ価の連結基を表し、Ｌ^３及びＬ^４は各々独立に単結合又は２価の連結基を表し、Ａは水素結合性基を表し、Ｑは水素原子又はメチル基を表し、Ｒは置換基を表し、ｋは２～８の整数を表し、ｗは０～２の整数を表す。複数のＬ^３、Ａ、Ｌ^４、及びＱは各々同一でも異なってもよい。ｗが２を表す場合、２つのＲは同一でも異なっていてもよい。

　一般式（１）中、Ｒが表す置換基は特に限定されないが、例えば、アルキル基（例えば炭素数１～１０）、アリール基（例えば炭素数６～２０）、シクロアルキル基（例えば炭素数３～１０）、アルケニル基（例えば炭素数２～１０）、アルキニル基（例えば炭素数２～１０）、ハロゲン原子、アルキルオキシ基（例えば炭素数１～１０）、アリールオキシ基（例えば炭素数６～２０）、アルキルオキシカルボニル基（例えば炭素数２～１０）、アリールオキシカルボニル基（例えば炭素数７～２０）、アルキルカルボニルオキシ基（例えば炭素数２～１０）、アリールカルボニルオキシ基（例えば炭素数７～２０）、ヘテロ環基（例えば炭素数２～１０）、ヒドロキシ基、シアノ基、ニトロ基等が挙げられる。

　一般式（１）中、Ｌ^１及びＬ^２が２価の連結基を表す場合の２価の連結基は特に限定されないが、例えばアルキレン基（例えば炭素数１～１０）、シクロアルキレン基（例えば炭素数３～１０）、アルケニレン基（例えば炭素数２～１０）、アリーレン基（例えば炭素数６～２０）、２価のヘテロ環基（例えば炭素数２～１０）、－Ｏ－、－ＳＯ_２－、－ＣＯ－、－Ｓ－、又はこれらの複数を組み合わせた２価の連結基が好ましい。Ｌ^１及びＬ^２は置換基を有していてもよい。置換基としては特に制限はなく、例えば、前述の一般式（１）中のＲが表す置換基として記載した置換基、（メタ）アクリル基、（メタ）アクリロイルオキシ基、（メタ）アクリルアミド基などが挙げられる。

　一般式（１）中、Ａは水素結合性基を表し、ウレタン基、チオウレタン基、ウレア基、チオウレア基、アミド基、及びチオアミド基からなる群より選択される少なくとも１つであることが好ましく、ウレタン基、ウレア基、及びアミド基からなる群より選択される少なくとも１つであることがより好ましく、ウレア基であることが更に好ましい。

　一般式（１）中、Ｑは水素原子又はメチル基を表し、水素原子を表すことが好ましい。

　一般式（１）中、ｍは０～２の整数を表し、０又は１を表すことが好ましい。

　一般式（２）中、Ｚが表すｋ＋ｗ価の連結基は特に限定されないが、鎖中にヘテロ原子を有してもよい鎖状炭化水素基（例えば、炭素数２～１０）、又は環員としてヘテロ原子を有してもよい環状炭化水素基（例えば、炭素数２～１０）であることが好ましい。上記ヘテロ原子としては、例えば、酸素原子、窒素原子、硫黄原子等が挙げられ、酸素原子が好ましい。上記鎖状炭化水素基には置換基が結合してもよい。上記環状炭化水素基の環員の炭素原子には置換基が結合してもよく、オキソ基（＝Ｏ）が結合してもよい。上記置換基としては特に制限はなく、例えば、前述の一般式（１）中のＲが表す置換基として記載した置換基、（メタ）アクリル基、（メタ）アクリロイルオキシ基、（メタ）アクリルアミド基などが挙げられる。

　一般式（２）中、Ｌ^３及びＬ^４が２価の連結基を表す場合の２価の連結基は特に限定されないが、例えばアルキレン基（例えば炭素数１～１０）、シクロアルキレン基（例えば炭素数３～１０）、アルケニレン基（例えば炭素数２～１０）、アリーレン基（例えば炭素数６～２０）、２価のヘテロ環基（例えば炭素数２～１０）、－Ｏ－、－ＳＯ_２－、－ＣＯ－、－Ｓ－、又はこれらの複数を組み合わせた２価の連結基が好ましい。Ｌ^３及びＬ^４は置換基を有していてもよい。置換基としては特に制限はなく、例えば、前述の一般式（１）中のＲが表す置換基として記載した置換基、（メタ）アクリル基、（メタ）アクリロイルオキシ基、（メタ）アクリルアミド基などが挙げられる。

　一般式（２）中、Ａは水素結合性基を表し、ウレタン基、チオウレタン基、ウレア基、チオウレア基、アミド基、及びチオアミド基からなる群より選択される少なくとも１つであることが好ましく、ウレタン基、ウレア基、及びアミド基からなる群より選択される少なくとも１つであることがより好ましく、ウレア基であることが更に好ましい。

　一般式（２）中、Ｑは水素原子又はメチル基を表し、水素原子を表すことが好ましい。
　一般式（２）中のＲは、一般式（１）中のＲと同じ意味を表し、具体例及び好ましい範囲も同様である。

　一般式（２）中、ｋは２～８の整数を表し、４～８の整数を表すことが好ましい。

　重合性化合物（ａ１）の具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されない。

　重合性化合物（ａ１）として挙げたものの中で、ウレタン基を有するものを合成するには、分子内に少なくとも一つの一級水酸基を有する化合物の一級水酸基に対して、分子内に（メタ）アクリル基を有するモノイソシアネートのイソシアネート基のモル比が０．７～１．５、好ましくは０．８～１．３、より好ましくは０．９～１．２、最も好ましくは０．９５～１．１になるように調製する。０．７以上とすることで、未反応の一級水酸基を有する生成物の割合を少なくすることができ、精製が容易になる。また、１．５以下とすることで、反応終了後に意図しない副反応が進行しにくく、ゲル化の発生を抑制することができる。
　重合性化合物（ａ１）として挙げたものの中でウレア基を有するものを合成するには、分子内に少なくとも一つの一級アミノ基を有する化合物の一級アミノ基に対して、分子内に（メタ）アクリル基を有するモノイソシアネートのイソシアネート基のモル比が０．７～１．５、好ましくは０．８～１．３、より好ましくは０．９～１．２、最も好ましくは０．９５～１．１になるように調製する。０．７以上とすることで、未反応の一級アミノ基を有する生成物の割合を少なくすることができ、精製が容易になる。また、１．５以下とすることで、反応終了後に意図しない副反応が進行しにくく、ゲル化の発生を抑制することができる。
　重合性化合物（ａ１）として挙げたものの中でアミド基を有するものを合成するには、分子内に少なくとも一つの一級アミノ基を有する化合物の一級アミノ基に対して、分子内に（メタ）アクリル基を有する酸クロリド化合物の酸クロリド基のモル比が０．７～１．５、好ましくは０．８～１．３、より好ましくは０．９～１．２、最も好ましくは０．９５～１．１になるように調製する。０．７以上とすることで、未反応の一級アミノ基を有する生成物の割合を少なくすることができ、精製が容易になる。また、１．５以下とすることで、反応終了後に意図しない副反応が進行しにくく、ゲル化の発生を抑制することができる。

　本発明の硬化性組成物は、重合性化合物（ａ１）を一種のみ含んでもよく、構造の異なる二種以上を含んでもよい。

　本発明の硬化性組成物の全固形分中の重合性化合物（ａ１）の含有率は、５１質量％以上であることが好ましく、５１～１００質量％であることがより好ましく、６０～１００質量％であることが更に好ましく、７０～１００質量％であることが特に好ましく、８０～１００質量％であることが最も好ましい。
　なお、全固形分とは溶媒以外の全成分を意味する。

＜重合開始剤＞
　本発明の硬化性組成物は、重合開始剤を含むことが好ましく、ラジカル重合開始剤を含むことがより好ましい。
　重合開始剤は、ラジカル重合開始剤であることが好ましい。ラジカル重合開始剤は、ラジカル光重合開始剤でも、ラジカル熱重合開始剤でも良いが、ラジカル光重合開始剤であることがより好ましい。
　重合開始剤は一種のみ用いてもよく、構造の異なる二種以上を併用してもよい。

　ラジカル光重合開始剤としては、光照射により活性種としてラジカルを発生することができるものであればよく、公知のラジカル光重合開始剤を、何ら制限なく用いることができる。具体例としては、例えば、ジエトキシアセトフェノン、２－ヒドロキシ－２－メチル－１－フェニルプロパン－１－オン、ベンジルジメチルケタール、４－（２－ヒドロキシエトキシ）フェニル－（２－ヒドロキシ－２－プロピル）ケトン、１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２－メチル－２－モルホリノ（４－チオメチルフェニル）プロパン－１－オン、２－ベンジル－２－ジメチルアミノ－１－（４－モルホリノフェニル）ブタノン、２－ヒドロキシ－２－メチル－１－［４－（１－メチルビニル）フェニル］プロパノンオリゴマー、２－ヒロドキシ－１－｛４－［４－（２－ヒドロキシ－２－メチル－プロピオニル）－ベンジル］フェニル｝－２－メチル－プロパン－１－オン等のアセトフェノン類；１，２－オクタンジオン、１－［４－（フェニルチオ）－，２－（Ｏ－ベンゾイルオキシム）］、エタノン，１－［９－エチル－６－（２－メチルベンゾイル）－９Ｈ－カルバゾール－３－イル］－，１－（０－アセチルオキシム）等のオキシムエステル類；ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル等のベンゾイン類；ベンゾフェノン、ｏ－ベンゾイル安息香酸メチル、４－フェニルベンゾフェノン、４－ベンゾイル－４′－メチル－ジフェニルサルファイド、３，３′，４，４′－テトラ（ｔ－ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、２，４，６－トリメチルベンゾフェノン、４－ベンゾイル－Ｎ，Ｎ－ジメチル－Ｎ－［２－（１－オキソ－２－プロペニルオキシ）エチル］ベンゼンメタナミニウムブロミド、（４－ベンゾイルベンジル）トリメチルアンモニウムクロリド等のベンゾフェノン類；２－イソプロピルチオキサントン、４－イソプロピルチオキサントン、２，４－ジエチルチオキサントン、２，４－ジクロロチオキサントン、１－クロロ－４－プロポキシチオキサントン、２－（３－ジメチルアミノ－２－ヒドロキシ）－３，４－ジメチル－９Ｈ－チオキサントン－９－オンメソクロリド等のチオキサントン類；２，４，６－トリメチルベンゾイル－ジフェニルフォスフィンオキサイド、ビス（２，６－ジメトキシベンゾイル）－２，４，４－トリメチル－ペンチルフォスフィンオキサイド、ビス（２，４，６－トリメチルベンゾイル）－フェニルフォスフィンオキサイド等のアシルフォスフォンオキサイド類；等が挙げられる。また、ラジカル光重合開始剤の助剤として、トリエタノールアミン、トリイソプロパノールアミン、４，４′－ジメチルアミノベンゾフェノン（ミヒラーケトン）、４，４′－ジエチルアミノベンゾフェノン、２－ジメチルアミノエチル安息香酸、４－ジメチルアミノ安息香酸エチル、４－ジメチルアミノ安息香酸（ｎ－ブトキシ）エチル、４－ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、４－ジメチルアミノ安息香酸２－エチルヘキシル、２，４－ジエチルチオキサンソン、２，４－ジイソプロピルチオキサンソン等を併用してもよい。
　以上のラジカル光重合開始剤および助剤は、公知の方法で合成可能であり、市販品として入手も可能である。

　硬化性組成物中の重合開始剤の含有率は、特に限定されるものではないが、例えば重合性化合物（ａ１）１００質量部に対して、０．１～１００質量部が好ましく、１～５０質量部がより好ましく、１～１０質量部が更に好ましい。

＜重合性化合物（ａ１）以外の重合性化合物＞
　本発明の硬化性組成物は、重合性化合物（ａ１）に加えて、さらに、重合性化合物（ａ１）以外の重合性化合物を含有してもよい。「重合性化合物（ａ１）以外の重合性化合物」を、「化合物（ｂ１）」とも呼ぶ。
　化合物（ｂ１）は、ラジカル重合性基を有する化合物であることが好ましい。
　化合物（ｂ１）におけるラジカル重合性基としては、特に限定されず、一般に知られているラジカル重合性基を用いることができる。ラジカル重合性基としては、重合性不飽和基が挙げられ、具体的には、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、アリル基などが挙げられ、（メタ）アクリロイル基が好ましい。なお、上記した各基は置換基を有していてもよい。
　化合物（ｂ１）は、１分子中に２個以上の（メタ）アクリロイル基を有する化合物であることが好ましく、１分子中に３個以上の（メタ）アクリロイル基を有する化合物であることがより好ましい。
　化合物（ｂ１）の分子量は特に限定されず、モノマーでもよいし、オリゴマーでもよいし、ポリマーでもよい。
　化合物（ｂ１）の分子量は特に限定されないが、２０００以下であることが好ましく、１５００以下であることがより好ましく、１２５０以下であることが更に好ましく、１０００以下であることが特に好ましい。
　上記化合物（ｂ１）の具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されない。
　１分子中に２個の（メタ）アクリロイル基を有する化合物としては、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，９－ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニルジ（メタ）アクリレート等が好適に例示される。
　１分子中に３個以上の（メタ）アクリロイル基を有する化合物としては、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステルが挙げられる。具体的には、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート，ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート，ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートなどが挙げられるが、高架橋という点ではペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、もしくはジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、又はこれらの混合物が好ましい。

　化合物（ｂ１）は一種のみ用いてもよく、構造の異なる二種以上を併用してもよい。

　本発明の硬化性組成物中の化合物（ｂ１）の含有率は、硬化性組成物の全固形分に対して、０～４９質量％であることが好ましく、０～４０質量％であることがより好ましく、０～３０質量％であることが更に好ましく、０～２０質量％であることが特に好ましい。

＜フッ素系化合物及びシリコーン系化合物からなる群より選択される少なくとも１つの化合物＞
　本発明の硬化性組成物は、フッ素系化合物及びシリコーン系化合物からなる群より選択される少なくとも１つの化合物（以下、「化合物（ｃ１）」とも呼ぶ。）を含有することが好ましい。
　化合物（ｃ１）は、重合性化合物（ａ１）以外の化合物であることが好ましい。また、化合物（ｃ１）は、重合性化合物（ｂ１）であってもよいし、重合性化合物（ｂ１）以外の化合物であってもよい。
　化合物（ｃ１）は、レベリング剤であることが好ましい。
　化合物（ｃ１）は、低分子化合物であってもよいし、オリゴマー又はポリマーであってもよい。

　フッ素系レベリング剤（フッ素系化合物）は、フルオロ脂肪族基と、例えばこのレベリング剤を添加剤として使用したときに、コーティング用、成形材料用等の各種組成物に対する親和性に寄与する親媒性基とを同一分子内に有する化合物であり、このような化合物は、一般に、フルオロ脂肪族基を有するモノマーと親媒性基を有するモノマーとを共重合させて得ることができる。
　フルオロ脂肪族基を有するモノマーと共重合される、親媒性基を有するモノマーの代表的な例としては、ポリ（オキシアルキレン）アクリレート、ポリ（オキシアルキレン）メタクリレート等が挙げられる。

　好ましい市販のフッ素系レベリング剤としては、電離放射線硬化基を有しないものとしてＤＩＣ（株）製のメガファックシリーズ（ＭＣＦ３５０－５、Ｆ４７２、Ｆ４７６、Ｆ４４５、Ｆ４４４、Ｆ４４３、Ｆ１７８、Ｆ４７０、Ｆ４７５、Ｆ４７９、Ｆ４７７、Ｆ４８２、Ｆ４８６、ＴＦ１０２５、Ｆ４７８、Ｆ１７８Ｋ、Ｆ－７８４－Ｆ等）；ネオス（株）製のフタ―ジェントシリーズ（ＦＴＸ２１８、２５０、２４５Ｍ、２０９Ｆ、２２２Ｆ、２４５Ｆ、２０８Ｇ、２１８Ｇ、２４０Ｇ、２０６Ｄ、２４０Ｄ等）が挙げられ、電離放射線硬化基を有するものとして、ダイキン工業（株）製のオプツールＤＡＣ；ＤＩＣ（株）製のデイフェンサシリーズ（ＴＦ３００１、ＴＦ３０００、ＴＦ３００４、ＴＦ３０２８、ＴＦ３０２７、ＴＦ３０２６、ＴＦ３０２５等）、メガファックＲＳシリーズ（ＲＳ－７１、ＲＳ－９０、ＲＳ－１０１、ＲＳ－１０２、ＲＳ－１０３、ＲＳ－１０４、ＲＳ－１０５等）が挙げられるがこれらに限定されるものではない。

　また、特開２００４－３３１８１２号公報、特開２００４－１６３６１０号公報に記載の化合物等を用いることもできる。

　シリコーン系レベリング剤（シリコーン系化合物）の好ましい例としては、ジメチルシリルオキシ単位を繰り返し単位として複数個含み、末端及び／又は側鎖に置換基を有するポリマーあるいはオリゴマーが挙げられる。ジメチルシリルオキシを繰り返し単位として含むポリマーあるいはオリゴマー中にはジメチルシリルオキシ以外の構造単位を含んでもよい。置換基は同一であっても異なっていてもよく、複数個あることが好ましい。好ましい置換基の例としてはポリエーテル基、アルキル基、アリール基、アリールオキシ基、アリール基、シンナモイル基、オキセタニル基、フルオロアルキル基、ポリオキシアルキレン基、などを含む基が挙げられる。

　シリコーン系レベリング剤の数平均分子量に特に制限はないが、１０万以下であることが好ましく、５万以下であることがより好ましく、１０００～３００００であることが特に好ましく、１０００～２００００であることが最も好ましい。

　好ましいシリコーン系レベリング剤の例としては、電離放射線硬化基を有しない市販のシリコーン系レベリング剤として、信越化学工業（株）製のＸ２２－３７１０、Ｘ２２－１６２Ｃ、Ｘ２２－３７０１Ｅ、Ｘ２２１６０ＡＳ、Ｘ２２１７０ＤＸ、Ｘ２２４０１５、Ｘ２２１７６ＤＸ、Ｘ２２－１７６Ｆ、Ｘ２２４２７２、ＫＦ８００１、Ｘ２２－２０００等；チッソ（株）製のＦＭ４４２１、ＦＭ０４２５、ＦＭＤＡ２６、ＦＳ１２６５等；東レ・ダウコーニング（株）製のＢＹ１６－７５０、ＢＹ１６８８０、ＢＹ１６８４８、ＳＦ８４２７、ＳＦ８４２１、ＳＨ３７４６、ＳＨ８４００、ＳＦ３７７１、ＳＨ３７４９、ＳＨ３７４８、ＳＨ８４１０等；モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン社製のＴＳＦシリーズ（ＴＳＦ４４６０、ＴＳＦ４４４０、ＴＳＦ４４４５、ＴＳＦ４４５０、ＴＳＦ４４４６、ＴＳＦ４４５３、ＴＳＦ４４５２、ＴＳＦ４７３０、ＴＳＦ４７７０等）、ＦＧＦ５０２、ＳＩＬＷＥＴシリーズ（ＳＩＬＷＥＴＬ７７、ＳＩＬＷＥＴＬ２７８０、ＳＩＬＷＥＴＬ７６０８、ＳＩＬＷＥＴＬ７００１、ＳＩＬＷＥＴＬ７００２、ＳＩＬＷＥＴＬ７０８７、ＳＩＬＷＥＴＬ７２００、ＳＩＬＷＥＴＬ７２１０、ＳＩＬＷＥＴＬ７２２０、ＳＩＬＷＥＴＬ７２３０、ＳＩＬＷＥＴＬ７５００、ＳＩＬＷＥＴＬ７５１０、ＳＩＬＷＥＴＬ７６００、ＳＩＬＷＥＴＬ７６０２、ＳＩＬＷＥＴＬ７６０４、ＳＩＬＷＥＴＬ７６０４、ＳＩＬＷＥＴＬ７６０５、ＳＩＬＷＥＴＬ７６０７、ＳＩＬＷＥＴＬ７６２２、ＳＩＬＷＥＴＬ７６４４、ＳＩＬＷＥＴＬ７６５０、ＳＩＬＷＥＴＬ７６５７、ＳＩＬＷＥＴＬ８５００、ＳＩＬＷＥＴＬ８６００、ＳＩＬＷＥＴＬ８６１０、ＳＩＬＷＥＴＬ８６２０、ＳＩＬＷＥＴＬ７２０）等を挙げることができるがこれに限定されるものではない。

　電離放射線硬化基を有するものとして、信越化学工業（株）製のＸ２２－１６３Ａ、Ｘ２２－１７３ＤＸ、Ｘ２２－１６３Ｃ、ＫＦ１０１、Ｘ２２１６４Ａ、Ｘ２４－８２０１、Ｘ２２１７４ＤＸ、Ｘ２２１６４Ｃ、Ｘ２２２４２６、Ｘ２２２４４５、Ｘ２２２４５７、Ｘ２２２４５９、Ｘ２２２４５、Ｘ２２１６０２、Ｘ２２１６０３、Ｘ２２１６４Ｅ、Ｘ２２１６４Ｂ、Ｘ２２１６４Ｃ、Ｘ２２１６４Ｄ、ＴＭ０７０１等；チッソ（株）製のサイラプレーンシリーズ（ＦＭ０７２５、ＦＭ０７２１、ＦＭ７７２５、ＦＭ７７２１、ＦＭ７７２６、ＦＭ７７２７等）；東レ・ダウコーニング（株）製のＳＦ８４１１、ＳＦ８４１３、ＢＹ１６－１５２Ｄ、ＢＹ１６－１５２、ＢＹ１６－１５２Ｃ、８３８８Ａ等；エボニック　デグサ　ジャパン（株）製のＴＥＧＯ　Ｒａｄ２０１０、２０１１、２１００、２２００Ｎ、２３００、２５００、２６００，２７００等；ビックケミー・ジャパン（株）製のＢＹＫ３５００；信越シリコーン社製のＫＮＳ５３００；モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン社製のＵＶＨＣ１１０５、ＵＶＨＣ８５５０等を挙げることができるがこれに限定されるものではない。

　また、後述する耐擦傷層形成用組成物が含んでもよい滑り剤として記載されている含フッ素化合物も、化合物（ｃ１）の好ましい例として挙げられる。

　本発明の硬化性組成物中の化合物（ｃ１）の含有率は、硬化性組成物の全固形分に対して、０．００１～５．０質量％であることが好ましく、０．００５～２．０質量％であることがより好ましく、０．０１～１．０質量％であることが最も好ましい。

＜溶媒＞
　本発明の硬化性組成物は、溶媒を含んでいてもよい。
　溶媒としては、有機溶媒であっても、非有機溶媒（例えば、水）であってもよいが、溶媒の８０質量％以上が有機溶媒であることが好ましく、溶媒の９０質量％以上が有機溶媒であることがより好ましい。溶媒の８０質量％以上が水酸基を有さない有機溶媒であることがより好ましく、溶媒の９０質量％以上が水酸基を有さない有機溶媒であることがさらに好ましい。
　有機溶媒は、一種または二種以上を任意の割合で混合して用いることができる。
　有機溶媒の具体例としては、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、ｎ－ブタノール、ｉ－ブタノール等のアルコール類；アセトン、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類；エチルセロソルブ等のセロソルブ類；トルエン、キシレン等の芳香族類；プロピレングリコールモノメチルエーテル等のグリコールエーテル類；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等の酢酸エステル類；ジアセトンアルコール等が挙げられる。

　本発明の硬化性組成物における溶媒の含有率は、硬化性組成物の塗布適性を確保できる範囲で適宜調整することができる。例えば、硬化性組成物の全固形分１００質量部に対して、５０～５００質量部とすることができ、好ましくは８０～２００質量部とすることができる。
　硬化性組成物は、通常、液の形態をとる。
　硬化性組成物の固形分の濃度は、通常、１０～９０質量％程度であり、好ましくは２０～８０質量％、特に好ましくは４０～７０質量％である。

＜その他の成分＞
　本発明の硬化性組成物は、上記以外の成分を含有していてもよく、たとえば、無機微粒子、分散剤、防汚剤、帯電防止剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤等を含有していてもよい。

　本発明の硬化性組成物は、以上説明した各種成分を同時に、または任意の順序で順次混合することにより調製することができる。調製方法は特に限定されるものではなく、調製には公知の攪拌機等を用いることができる。

　本発明の硬化性組成物は、下記硬化条件で硬化させ、下記測定条件で測定した弾性率が９．５ＧＰａ以上であり、破断伸びが１０．０％以上であることが好ましい。
　弾性率は１０．０ＧＰａ以上であることがより好ましく、１０．５ＧＰａ以上であることがさらに好ましい。破断伸びは１２．５％以上であることが好ましく、１５．０％以上であることがさらに好ましい。
　硬化条件：厚さ５０μｍのポリイミド基材上に、硬化性組成物を乾燥後の厚さが１１μｍとなるようにバー塗布した後、１２０℃で１分間乾燥させ、８０℃下、照度６０ｍＷ／ｃｍ^２、照射量６００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線にて硬化させて硬化物を形成する。
　測定条件：ポリイミド基材と硬化物の積層体に対して、微小硬度計を用いて最大荷重５０ｍＮにて測定する。

　上記硬化条件で使用するポリイミド基材とは、ポリイミドを含む基材を指し、ポリイミド以外の成分を含んでいてもよい。上記基材は微小硬度計を用いて最大荷重５０ｍＮにて測定した際の弾性率（押し込み弾性率）の最大値の算術平均値が、５～１２ＧＰａの範囲であり、かつ破断伸びの算術平均値が７～３０％の範囲である。
　上記基材の押し込み弾性率および破断伸びの評価方法は下記方法で測定する。

（弾性率）
　ＨＭ２０００型硬度計（フィッシャーインスツルメンツ社製、ダイヤモンド製Ｋｎｏｏｐ圧子）を用いて、下記条件にて測定した。
　最大荷重：５０ｍＮ
　荷重印加時間：１０秒
　クリープ：５秒
　荷重除荷時間：１０秒
　除荷重後保持時間：５秒
　測定回数：１０回
　なお、弾性率は上記測定における除荷曲線から算出した。
　弾性率は１０回測定の平均値を用いた。

（破断伸び）
　基材を長さ１２０ｍｍ、幅１０ｍｍに裁断し、温度２５℃、相対湿度６０％の状態に１時間静置させた後に、引張試験機にて１００％／分の速度で引っ張り、破断が生じる伸び率を調べた。

　本発明の硬化性組成物は、上記硬化条件で硬化させた硬化物の波長４００～７００ｎｍにおける透過率が、いずれの波長においても８０％以上であることが好ましく、８５％以上であることがより好ましく、９０％以上であることがさらに好ましく、９５％以上であることが特に好ましい。

　上記硬化条件で硬化させた硬化物において、本発明の硬化性組成物に含まれる（メタ）アクリル基の８０モル％以上が、（メタ）アクリル基以外の基に変化していることが好ましい。「（メタ）アクリル基以外の基に変化している」とは、反応等により（メタ）アクリル基の構造が変化していることを表し、典型的には、（メタ）アクリル基が重合反応により消費されていることを示す。

　本発明の硬化性組成物を上記硬化条件で硬化させて得られたポリイミド基材と硬化物の積層体を用いて、ポリイミド基材を外側（硬化物が内側）にして、曲率半径１．５ｍｍで１８０°折り曲げ試験を１万回繰り返し行った場合にクラックが発生しないことが好ましく、１０万回繰り返し行った場合にクラックが発生しないことがより好ましく、１００万回繰り返し行った場合にクラックが発生しないことが更に好ましい。

　本発明の硬化性組成物を上記硬化条件で硬化させて得られたポリイミド基材と硬化物の積層体を用いて、ポリイミド基材を内側（硬化物が外側）にして、円筒形マンドレル法により耐屈曲性試験を行った場合に、直径６ｍｍのマンドレルでクラックが発生しないことが好ましく、直径４ｍｍのマンドレルでクラックが発生しないことがより好ましく、直径３ｍｍのマンドレルでクラックが発生しないことが更に好ましく、直径２ｍｍのマンドレルでクラックが発生しないことが特に好ましい。

＜分子量が２０００以下の重合性化合物の含有率＞
　本発明の硬化性組成物の全固形分中の分子量が２０００以下の重合性化合物の含有率は７０質量％以上であり、７５質量％以上であることが好ましく、より好ましくは８０質量％以上であることがより好ましい。
　重合性化合物とは、重合性基を１つ以上有する化合物である。重合性化合物は、重合性基を２つ以上有する化合物であることが好ましく、重合性基を３つ以上有する化合物であることがより好ましい。重合性化合物は、（メタ）アクリル基を２つ以上有する化合物であることが更に好ましく、（メタ）アクリル基を３つ以上有する化合物であることが特に好ましい。
　「分子量が２０００以下の重合性化合物」には、前述の重合性化合物（ａ１）も含まれる。

〔ハードコートフィルム〕
　本発明は、基材と、前述の硬化性組成物の硬化物を含むハードコート層とを有するハードコートフィルムにも関する。
　本発明のハードコートフィルムは、基材上に上記ハードコート層を有することが好ましい。

＜基材＞
　本発明のハードコートフィルムに用いる基材は、可視光領域の透過率が７０％以上であることが好ましく、８０％以上であることがより好ましく、９０％以上であることが更に好ましい。

（ポリマー）
　基材はポリマーを含むことが好ましい。
　ポリマーとしては、光学的な透明性、機械的強度、熱安定性などに優れるポリマーが好ましい。

　基材は、ポリイミド（イミド系ポリマー）、ポリアラミド（アラミド系ポリマー）、ポリエチレンテレフタラート、ポリカーボネート、ポリエチレンナフタレート、ポリウレタン、アクリル樹脂、及びセルロース樹脂からなる群より選択される少なくとも１種のポリマーを含むことが好ましい。

　特に、アラミド系ポリマー（芳香族ポリアミド）及びイミド系ポリマーは、ＪＩＳ（日本工業規格）　Ｐ８１１５（２００１）に従いＭＩＴ試験機によって測定した破断折り曲げ回数が大きく、硬度も比較的高いことから、基材として好ましく用いることができる。例えば、特許第５６９９４５４号公報の実施例１にあるような芳香族ポリアミド、特表２０１５－５０８３４５号公報、特表２０１６－５２１２１６号公報、及びＷＯ２０１７／０１４２８７号公報に記載のポリイミドを基材として好ましく用いることができる。
　基材は、イミド系ポリマー及びアラミド系ポリマーから選ばれる少なくとも１種のポリマーを含有することが好ましい。

　また、基材は、アクリル系、ウレタン系、アクリルウレタン系、エポキシ系、シリコーン系等の紫外線硬化型、熱硬化型の樹脂の硬化層として形成することもできる。

（柔軟化素材）
　基材は、上記のポリマーを更に柔軟化する素材を含有しても良い。柔軟化素材とは、破断折り曲げ回数を向上させる化合物を指し、柔軟化素材としては、ゴム質弾性体、脆性改良剤、可塑剤、スライドリングポリマー等を用いることが出来る。
　柔軟化素材として具体的には、特開２０１６－１６７０４３号公報における段落番号［００５１］～［０１１４］に記載の柔軟化素材を好適に用いることができる。

　柔軟化素材は、ポリマーに単独で混合しても良いし、複数を適宜併用して混合しても良いし、また、ポリマーと混合せずに、柔軟化素材のみを単独又は複数併用で用いて基材としても良い。

　これらの柔軟化素材を混合する量は、とくに制限はなく、単独で十分な破断折り曲げ回数を持つポリマーを単独でフィルムの基材としても良いし、柔軟化素材を混合しても良いし、すべてを柔軟化素材（１００％）として十分な破断折り曲げ回数を持たせても良い。

（その他の添加剤）
　基材には、用途に応じた種々の添加剤（例えば、紫外線吸収剤、マット剤、酸化防止剤、剥離促進剤、レターデーション（光学異方性）調節剤、など）を添加できる。それらは固体でもよく油状物でもよい。すなわち、その融点又は沸点において特に限定されるものではない。また添加剤を添加する時期は基材を作製する工程において何れの時点で添加しても良く、素材調製工程に添加剤を添加し調製する工程を加えて行ってもよい。更にまた、各素材の添加量は機能が発現する限りにおいて特に限定されない。
　その他の添加剤としては、特開２０１６－１６７０４３号公報における段落番号［０１１７］～［０１２２］に記載の添加剤を好適に用いることができる。

　以上の添加剤は、１種類を単独で使用してもよいし、２種類以上を組み合わせて使用してもよい。

（紫外線吸収剤）
　紫外線吸収剤としては、例えば、ベンゾトリアゾール化合物、トリアジン化合物、ベンゾオキサジン化合物を挙げることができる。ここでベンゾトリアゾール化合物とは、ベンゾトリアゾール環を有する化合物であり、具体例としては、例えば特開２０１３－１１１８３５号公報段落００３３に記載されている各種ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤を挙げることができる。トリアジン化合物とは、トリアジン環を有する化合物であり、具体例としては、例えば特開２０１３－１１１８３５号公報段落００３３に記載されている各種トリアジン系紫外線吸収剤を挙げることができる。ベンゾオキサジン化合物としては、例えば特開２０１４－２０９１６２号公報段落００３１に記載されているものを用いることができる。基材中の紫外線吸収剤の含有量は、例えば基材に含まれるポリマー１００質量部に対して０．１～１０質量部程度であるが、特に限定されるものではない。また、紫外線吸収剤については、特開２０１３－１１１８３５号公報段落００３２も参照できる。なお、本発明においては、耐熱性が高く揮散性の低い紫外線吸収剤が好ましい。かかる紫外線吸収剤としては、例えば、ＵＶＳＯＲＢ１０１（富士フイルムファインケミカルズ株式会社製）、ＴＩＮＵＶＩＮ　３６０、ＴＩＮＵＶＩＮ　４６０、ＴＩＮＵＶＩＮ　１５７７（ＢＡＳＦ社製）、ＬＡ－Ｆ７０、ＬＡ－３１、ＬＡ－４６（ＡＤＥＫＡ社製）などが挙げられる。

　基材は、透明性の観点から、基材に用いる柔軟性素材及び各種添加剤と、ポリマーとの屈折率の差が小さいことが好ましい。

（イミド系ポリマーを含む基材）
　基材として、イミド系ポリマーを含む基材を好ましく用いることができる。本明細書において、イミド系ポリマーとは、式（ＰＩ）、式（ａ）、式（ａ’）及び式（ｂ）で表される繰り返し構造単位を少なくとも１種以上含む重合体を意味する。なかでも、式（ＰＩ）で表される繰り返し構造単位が、イミド系ポリマーの主な構造単位であると、フィルムの強度及び透明性の観点で好ましい。式（ＰＩ）で表される繰り返し構造単位は、イミド系ポリマーの全繰り返し構造単位に対し、好ましくは４０モル％以上であり、より好ましくは５０モル％以上であり、さらに好ましくは７０モル％以上であり、特に好ましくは９０モル％以上であり、最も好ましくは９８モル％以上である。

　式（ＰＩ）中のＧは４価の有機基を表し、Ａは２価の有機基を表す。式（ａ）中のＧ^２は３価の有機基を表し、Ａ^２は２価の有機基を表す。式（ａ’）中のＧ^３は４価の有機基を表し、Ａ^３は２価の有機基を表す。式（ｂ）中のＧ^４及びＡ^４は、それぞれ２価の有機基を表す。

　式（ＰＩ）中、Ｇで表される４価の有機基の有機基（以下、Ｇの有機基ということがある）としては、非環式脂肪族基、環式脂肪族基及び芳香族基からなる群から選ばれる基が挙げられる。Ｇの有機基は、イミド系ポリマーを含む基材の透明性及び屈曲性の観点から、４価の環式脂肪族基又は４価の芳香族基であることが好ましい。芳香族基としては、単環式芳香族基、縮合多環式芳香族基及び２以上の芳香族環を有しそれらが直接または結合基により相互に連結された非縮合多環式芳香族基等が挙げられる。基材の透明性及び着色の抑制の観点から、Ｇの有機基は、環式脂肪族基、フッ素系置換基を有する環式脂肪族基、フッ素系置換基を有する単環式芳香族基、フッ素系置換基を有する縮合多環式芳香族基又はフッ素系置換基を有する非縮合多環式芳香族基であることが好ましい。本明細書においてフッ素系置換基とは、フッ素原子を含む基を意味する。フッ素系置換基は、好ましくはフルオロ基（フッ素原子，－Ｆ）及びパーフルオロアルキル基であり、さらに好ましくはフルオロ基及びトリフルオロメチル基である。

　より具体的には、Ｇの有機基は、例えば、飽和又は不飽和シクロアルキル基、飽和又は不飽和へテロシクロアルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、アリールアルキル基、アルキルアリール基、ヘテロアルキルアリール基、及び、これらのうちの任意の２つの基（同一でもよい）を有しこれらが直接又は結合基により相互に連結された基から選ばれる。結合基としては、－Ｏ－、炭素数１～１０のアルキレン基、－ＳＯ_２－、－ＣＯ－又は－ＣＯ－ＮＲ－（Ｒは、メチル基、エチル基、プロピル基等の炭素数１～３のアルキル基又は水素原子を表す）が挙げられる。

　Ｇで表される４価の有機基の炭素数は通常２～３２であり、好ましくは４～１５であり、より好ましくは５～１０であり、さらに好ましくは６～８である。Ｇの有機基が環式脂肪族基又は芳香族基である場合、これらの基を構成する炭素原子のうちの少なくとも１つがヘテロ原子で置き換えられていてもよい。ヘテロ原子としては、Ｏ、Ｎ又はＳが挙げられる。

　Ｇの具体例としては、以下の式（２０）、式（２１）、式（２２）、式（２３）、式（２４）、式（２５）又は式（２６）で表される基が挙げられる。式中の＊は結合手を示す。式（２６）中のＺは、単結合、－Ｏ－、－ＣＨ_２－、－Ｃ（ＣＨ_３）_２－、－Ａｒ－Ｏ－Ａｒ－、－Ａｒ－ＣＨ_２－Ａｒ－、－Ａｒ－Ｃ（ＣＨ_３）_２－Ａｒ－又は－Ａｒ－ＳＯ_２－Ａｒ－を表す。Ａｒは炭素数６～２０のアリール基を表し、例えば、フェニレン基であってもよい。これらの基の水素原子のうち少なくとも１つが、フッ素系置換基で置換されていてもよい。

　式（ＰＩ）中、Ａで表される２価の有機基の有機基（以下、Ａの有機基ということがある）としては、非環式脂肪族基、環式脂肪族基及び芳香族基からなる群から選択される基が挙げられる。Ａで表される２価の有機基は、２価の環式脂肪族基及び２価の芳香族基から選ばれることが好ましい。芳香族基としては、単環式芳香族基、縮合多環式芳香族基、及び２以上の芳香族環を有しそれらが直接または結合基により相互に連結された非縮合多環式芳香族基が挙げられる。基材の透明性、及び着色の抑制の観点から、Ａの有機基には、フッ素系置換基が導入されていることが好ましい。

　より具体的には、Ａの有機基は、例えば、飽和又は不飽和シクロアルキル基、飽和又は不飽和へテロシクロアルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、アリールアルキル基、アルキルアリール基、ヘテロアルキルアリール基、及びこれらの内の任意の２つの基（同一でもよい）を有しそれらが直接又は結合基により相互に連結された基から選ばれる。ヘテロ原子としては、Ｏ、Ｎ又はＳが挙げられ、結合基としては、－Ｏ－、炭素数１～１０のアルキレン基、－ＳＯ_２－、－ＣＯ－又は－ＣＯ－ＮＲ－（Ｒはメチル基、エチル基、プロピル基等の炭素数１～３のアルキル基又は水素原子を含む）が挙げられる。

　Ａで表される２価の有機基の炭素数は、通常２～４０であり、好ましくは５～３２であり、より好ましくは１２～２８であり、さらに好ましくは２４～２７である。

　Ａの具体例としては、以下の式（３０）、式（３１）、式（３２）、式（３３）又は式（３４）で表される基が挙げられる。式中の＊は結合手を示す。Ｚ^１～Ｚ^３は、それぞれ独立して、単結合、－Ｏ－、－ＣＨ_２－、－Ｃ（ＣＨ_３）_２－、－ＳＯ_２－、－ＣＯ－又は―ＣＯ―ＮＲ－（Ｒはメチル基、エチル基、プロピル基等の炭素数１～３のアルキル基又は水素原子を表す）を表す。下記の基において、Ｚ^１とＺ^２、及び、Ｚ^２とＺ^３は、それぞれ、各環に対してメタ位又はパラ位にあることが好ましい。また、Ｚ^１と末端の単結合、Ｚ^２と末端の単結合、及び、Ｚ^３と末端の単結合とは、それぞれメタ位又はパラ位にあることが好ましい。Ａの１つの例において、Ｚ^１及びＺ^３が－Ｏ－であり、かつ、Ｚ^２が－ＣＨ_２－、－Ｃ（ＣＨ_３）_２－又は－ＳＯ_２－である。これらの基の水素原子の１つ又は２つ以上が、フッ素系置換基で置換されていてもよい。

　Ａ及びＧの少なくとも一方を構成する水素原子のうちの少なくとも１つの水素原子が、フッ素系置換基、水酸基、スルホン基及び炭素数１～１０のアルキル基等からなる群から選ばれる少なくとも１種の官能基で置換されていてもよい。また、Ａの有機基及びＧの有機基がそれぞれ環式脂肪族基又は芳香族基である場合に、Ａ及びＧの少なくとも一方がフッ素系置換基を有することが好ましく、Ａ及びＧの両方がフッ素系置換基を有することがより好ましい。

　式（ａ）中のＧ^２は、３価の有機基である。この有機基は、３価の基である点以外は、式（ＰＩ）中のＧの有機基と同様の基から選択することができる。Ｇ^２の例としては、Ｇの具体例として挙げられた式（２０）～式（２６）で表される基の４つの結合手のうち、いずれか１つが水素原子に置き換わった基を挙げることができる。式（ａ）中のＡ^２は式（ＰＩ）中のＡと同様の基から選択することができる。

　式（ａ’）中のＧ^３は、式（ＰＩ）中のＧと同様の基から選択することができる。式（ａ’）中のＡ^３は、式（ＰＩ）中のＡと同様の基から選択することができる。

　式（ｂ）中のＧ^４は、２価の有機基である。この有機基は、２価の基である点以外は、式（ＰＩ）中のＧの有機基と同様の基から選択することができる。Ｇ^４の例としては、Ｇの具体例として挙げられた式（２０）～式（２６）で表される基の４つの結合手のうち、いずれか２つが水素原子に置き換わった基を挙げることができる。式（ｂ）中のＡ^４は、式（ＰＩ）中のＡと同様の基から選択することができる。

　イミド系ポリマーを含む基材に含まれるイミド系ポリマーは、ジアミン類と、テトラカルボン酸化合物（酸クロライド化合物およびテトラカルボン酸二無水物などのテトラカルボン酸化合物類縁体を含む）又はトリカルボン酸化合物（酸クロライド化合物及びトリカルボン酸無水物などのトリカルボン酸化合物類縁体を含む）の少なくとも１種類とを重縮合することによって得られる縮合型高分子であってもよい。さらにジカルボン酸化合物（酸クロライド化合物などの類縁体を含む）を重縮合させてもよい。式（ＰＩ）又は式（ａ’）で表される繰り返し構造単位は、通常、ジアミン類及びテトラカルボン酸化合物から誘導される。式（ａ）で表される繰り返し構造単位は、通常、ジアミン類及びトリカルボン酸化合物から誘導される。式（ｂ）で表される繰り返し構造単位は、通常、ジアミン類及びジカルボン酸化合物から誘導される。

　テトラカルボン酸化合物としては、芳香族テトラカルボン酸化合物、脂環式テトラカルボン酸化合物及び非環式脂肪族テトラカルボン酸化合物等が挙げられる。これらは、２種以上を併用してもよい。テトラカルボン酸化合物は、好ましくはテトラカルボン酸二無水物である。テトラカルボン酸二無水物としては、芳香族テトラカルボン酸二無水物、脂環式テトラカルボン酸二無水物、非環式脂肪族テトラカルボン酸二無水物が挙げられる。

　イミド系ポリマーの溶媒に対する溶解性、並びに基材を形成した場合の透明性及び屈曲性の観点から、テトラカルボン酸化合物は、脂環式テトラカルボン化合物又は芳香族テトラカルボン酸化合物等であることが好ましい。イミド系ポリマーを含む基材の透明性及び着色の抑制の観点から、テトラカルボン酸化合物は、フッ素系置換基を有する脂環式テトラカルボン酸化合物及びフッ素系置換基を有する芳香族テトラカルボン酸化合物から選ばれることが好ましく、フッ素系置換基を有する脂環式テトラカルボン酸化合物であることがさらに好ましい。

　トリカルボン酸化合物としては、芳香族トリカルボン酸、脂環式トリカルボン酸、非環式脂肪族トリカルボン酸及びそれらの類縁の酸クロライド化合物、酸無水物等が挙げられる。トリカルボン酸化合物は、好ましくは芳香族トリカルボン酸、脂環式トリカルボン酸、非環式脂肪族トリカルボン酸及びそれらの類縁の酸クロライド化合物から選ばれる。トリカルボン酸化合物は、２種以上を併用してもよい。

　イミド系ポリマーの溶媒に対する溶解性、並びにイミド系ポリマーを含む基材を形成した場合の透明性及び屈曲性の観点から、トリカルボン酸化合物は、脂環式トリカルボン酸化合物又は芳香族トリカルボン酸化合物であることが好ましい。イミド系ポリマーを含む基材の透明性及び着色の抑制の観点から、トリカルボン酸化合物は、フッ素系置換基を有する脂環式トリカルボン酸化合物又はフッ素系置換基を有する芳香族トリカルボン酸化合物であることがより好ましい。

　ジカルボン酸化合物としては、芳香族ジカルボン酸、脂環式ジカルボン酸、非環式脂肪族ジカルボン酸及びそれらの類縁の酸クロライド化合物、酸無水物等が挙げられる。ジカルボン酸化合物は、好ましくは芳香族ジカルボン酸、脂環式ジカルボン酸、非環式脂肪族ジカルボン酸及びそれらの類縁の酸クロライド化合物から選ばれる。ジカルボン酸化合物は、２種以上併用してもよい。

　イミド系ポリマーの溶媒に対する溶解性、並びにイミド系ポリマーを含む基材を形成した場合の透明性及び屈曲性の観点から、ジカルボン酸化合物は、脂環式ジカルボン酸化合物又は芳香族ジカルボン酸化合物であることが好ましい。イミド系ポリマーを含む基材の透明性及び着色の抑制の観点から、ジカルボン酸化合物は、フッ素系置換基を有する脂環式ジカルボン酸化合物又はフッ素系置換基を有する芳香族ジカルボン酸化合物であることがさらに好ましい。

　ジアミン類としては、芳香族ジアミン、脂環式ジアミン及び脂肪族ジアミンが挙げられ、これらは２種以上併用してもよい。イミド系ポリマーの溶媒に対する溶解性、並びにイミド系ポリマーを含む基材を形成した場合の透明性及び屈曲性の観点から、ジアミン類は、脂環式ジアミン及びフッ素系置換基を有する芳香族ジアミンから選ばれることが好ましい。

　このようなイミド系ポリマーを使用すれば、特に優れた屈曲性を有し、高い光透過率（例えば、５５０ｎｍの光に対して８５％以上、好ましくは８８％以上）、低い黄色度（ＹＩ値、５以下、好ましくは３以下）、及び低いヘイズ（１．５％以下、好ましくは１．０％以下）を有する基材が得られ易い。

　イミド系ポリマーは、異なる複数の種類の上記の繰り返し構造単位を含む共重合体でもよい。ポリイミド系高分子の重量平均分子量は、通常１０，０００～５００，０００である。イミド系ポリマーの重量平均分子量は、好ましくは、５０，０００～５００，０００であり、さらに好ましくは７０，０００～４００，０００である。重量平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフィー（Ｇｅｌ　Ｐｅｒｍｅａｔｉｏｎ　Ｃｈｒｏｍａｔｏｇｒａｐｈｙ；ＧＰＣ）で測定した標準ポリスチレン換算分子量である。イミド系ポリマーの重量平均分子量が大きいと高い屈曲性を得られやすい傾向があるが、イミド系ポリマーの重量平均分子量が大きすぎると、ワニスの粘度が高くなり、加工性が低下する傾向がある。

　イミド系ポリマーは、上述のフッ素系置換基等によって導入できるフッ素原子等のハロゲン原子を含んでいてもよい。ポリイミド系高分子がハロゲン原子を含むことにより、イミド系ポリマーを含む基材の弾性率を向上させ且つ黄色度を低減させることができる。これにより、ハードコートフィルムに発生するキズ及びシワ等が抑制され、且つ、イミド系ポリマーを含む基材の透明性を向上させることができる。ハロゲン原子として好ましくは、フッ素原子である。ポリイミド系高分子におけるハロゲン原子の含有量は、ポリイミド系高分子の質量を基準として、１～４０質量％であることが好ましく、１～３０質量％であることがより好ましい。

　イミド系ポリマーを含む基材は、１種又は２種以上の紫外線吸収剤を含有していてもよい。紫外線吸収剤は、樹脂材料の分野で紫外線吸収剤として通常用いられているものから、適宜選択することができる。紫外線吸収剤は、４００ｎｍ以下の波長の光を吸収する化合物を含んでいてもよい。イミド系ポリマーと適切に組み合わせることのできる紫外線吸収剤は、例えば、ベンゾフェノン系化合物、サリシレート系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物及びトリアジン系化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物が挙げられる。
　本明細書において、「系化合物」とは、「系化合物」が付される化合物の誘導体を指す。例えば、「ベンゾフェノン系化合物」とは、母体骨格としてのベンゾフェノンと、ベンゾフェノンに結合している置換基とを有する化合物を指す。

　紫外線吸収剤の含有量は、基材の全体質量に対して、通常１質量％以上であり、好ましくは２質量％以上であり、より好ましくは３質量％以上であり、通常１０質量％以下であり、好ましくは８質量％以下であり、より好ましくは６質量％以下である。紫外線吸収剤がこれらの量で含まれることで、基材の耐候性を高めることができる。

　イミド系ポリマーを含む基材は、無機粒子等の無機材料を更に含有していてもよい。無機材料は、ケイ素原子を含むケイ素材料が好ましい。イミド系ポリマーを含む基材がケイ素材料等の無機材料を含有することで、イミド系ポリマーを含む基材の引張弾性率を容易に４.０ＧＰａ以上とすることができる。ただし、イミド系ポリマーを含む基材の引張弾性率を制御する方法は、無機材料の配合に限られない。

　ケイ素原子を含むケイ素材料としては、シリカ粒子、オルトケイ酸テトラエチル（ＴＥＯＳ）等の４級アルコキシシラン、シルセスキオキサン誘導体等のケイ素化合物が挙げられる。これらのケイ素材料の中でも、イミド系ポリマーを含む基材の透明性及び屈曲性の観点から、シリカ粒子が好ましい。

　シリカ粒子の平均一次粒子径は、通常、１００ｎｍ以下である。シリカ粒子の平均一次粒子径が１００ｎｍ以下であると透明性が向上する傾向がある。

　イミド系ポリマーを含む基材中のシリカ粒子の平均一次粒子径は、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）による観察で求めることができる。シリカ粒子の一次粒子径は、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）による定方向径とすることができる。平均一次粒子径は、ＴＥＭ観察により一次粒子径を１０点測定し、それらの平均値として求めることができる。イミド系ポリマーを含む基材を形成する前のシリカ粒子の粒子分布は、市販のレーザー回折式粒度分布計により求めることができる。

　イミド系ポリマーを含む基材において、イミド系ポリマーと無機材料との配合比は、両者の合計を１０として、質量比で、１：９～１０：０であることが好ましく、３：７～１０：０であることがより好ましく、３：７～８：２であることがさらに好ましく、３：７～７：３であることがよりさらに好ましい。イミド系ポリマー及び無機材料の合計質量に対する無機材料の割合は、通常２０質量％以上であり、好ましくは３０質量％以上であり、通常９０質量％以下であり、好ましくは７０質量％以下である。イミド系ポリマーと無機材料（ケイ素材料）との配合比が上記の範囲内であると、イミド系ポリマーを含む基材の透明性及び機械的強度が向上する傾向がある。また、イミド系ポリマーを含む基材の引張弾性率を容易に４．０ＧＰａ以上とすることができる。

　イミド系ポリマーを含む基材は、透明性及び屈曲性を著しく損なわない範囲で、イミド系ポリマー及び無機材料以外の成分を更に含有していてもよい。イミド系ポリマー及び無機材料以外の成分としては、例えば、酸化防止剤、離型剤、安定剤、ブルーイング剤等の着色剤、難燃剤、滑剤、増粘剤及びレベリング剤が挙げられる。イミド系ポリマー及び無機材料以外の成分の割合は、基材の質量に対して、０％を超えて２０質量％以下であることが好ましく、さらに好ましくは０％を超えて１０質量％以下である。

　イミド系ポリマーを含む基材がイミド系ポリマー及びケイ素材料を含有するとき、少なくとも一方の面における、窒素原子に対するケイ素原子の原子数比であるＳｉ／Ｎが８以上であることが好ましい。この原子数比Ｓｉ／Ｎは、Ｘ線光電子分光（Ｘ－ｒａｙ　Ｐｈｏｔｏｅｌｅｃｔｒｏｎ　Ｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ、ＸＰＳ）によって、イミド系ポリマーを含む基材の組成を評価し、これによって得られたケイ素原子の存在量と窒素原子の存在量から算出される値である。

　イミド系ポリマーを含む基材の少なくとも一方の面におけるＳｉ／Ｎが８以上であることにより、ハードコート層との充分な密着性が得られる。密着性の観点から、Ｓｉ／Ｎは、９以上であることがより好ましく、１０以上であることがさらに好ましく、５０以下であることが好ましく、４０以下であることがより好ましい。

（基材の厚み）
　基材はフィルム状であることが好ましい。
　基材の厚みは、１００μｍ以下であることがより好ましく、８０μｍ以下であることが更に好ましく、５０μｍ以下が最も好ましい。基材の厚みが薄くなれば、折り曲げ時の表面と裏面の曲率差が小さくなり、クラック等が発生し難くなり、複数回の折れ曲げでも、基材の破断が生じなくなる。一方、基材の取り扱いの容易さの観点から基材の厚みは３μｍ以上であることが好ましく、５μｍ以上であることがより好ましく、１５μｍ以上が最も好ましい。

（基材の作製方法）
　基材は、熱可塑性のポリマーを熱溶融して製膜しても良いし、ポリマーを均一に溶解した溶液から溶液製膜（ソルベントキャスト法）によって製膜しても良い。熱溶融製膜の場合は、上述の柔軟化素材及び種々の添加剤を、熱溶融時に加えることができる。一方、基材を溶液製膜法で作製する場合は、ポリマー溶液（以下、ドープともいう）には、各調製工程において上述の柔軟化素材及び種々の添加剤を加えることができる。またその添加する時期はドープ作製工程において何れでも添加しても良いが、ドープ調製工程の最後の調製工程に添加剤を添加し調製する工程を加えて行ってもよい。

　塗膜の乾燥、及び／又はベーキングのために、塗膜を加熱してもよい。塗膜の加熱温度は、通常５０～３５０℃である。塗膜の加熱は、不活性雰囲気下又は減圧下で行ってもよい。塗膜を加熱することにより溶媒を蒸発させ、除去することができる。基材は、塗膜を５０～１５０℃で乾燥する工程と、乾燥後の塗膜を１８０～３５０℃でベーキングする工程とを含む方法により、形成されてもよい。

　基材の少なくとも一方の面には、表面処理を施してもよい。

＜ハードコート層＞
　本発明のハードコートフィルムは前述の本発明の硬化性組成物の硬化物を含むハードコート層を有する。
　ハードコート層は、基材の少なくとも一方の面上に形成されていることが好ましい。
　本発明のハードコートフィルムが後述の耐擦傷層を有する場合は、少なくとも１層のハードコート層を、基材と耐擦傷層との間に有することが好ましい。

（硬化性組成物の硬化物）
　本発明のハードコートフィルムのハードコート層は、重合性化合物（ａ１）を含む硬化性組成物の硬化物を含むものである。
　硬化性組成物の硬化物は、少なくとも、重合性化合物（ａ１）の（メタ）アクリル基が重合反応により結合してなる硬化物を含むことが好ましい。
　本発明のハードコートフィルムのハードコート層における、上記硬化物の含有率は、２０～１００質量％であることが好ましく、３０～１００質量％であることがより好ましく、４０～１００質量％であることが更に好ましく、５０～１００質量％であることが特に好ましい。

（ハードコート層の膜厚）
　ハードコート層の膜厚は特に限定されないが、０．５～５０μｍであることが好ましく、１～４０μｍであることがより好ましく、２～３０μｍであることが更に好ましい。
　ハードコート層の膜厚は、ハードコートフィルムの断面を光学顕微鏡で観察して算出する。断面試料は、断面切削装置ウルトラミクロトームを用いたミクロトーム法や、集束イオンビーム（ＦＩＢ）装置を用いた断面加工法などにより作成できる。

　本発明のハードコートフィルムの波長４５０～７００ｎｍにおける透過率は、いずれの波長においても８０％以上であることが好ましく、８５％以上であることがより好ましく、９０％以上であることがさらに好ましく、９５％以上であることが特に好ましい。

＜耐擦傷層＞
　本発明のハードコートフィルムはさらに耐擦傷層を有することが好ましい。
　本発明のハードコートフィルムが耐擦傷層を有する場合、少なくとも１層の耐擦傷層を、ハードコート層の基材と反対側の表面上に有することが好ましい。
　耐擦傷層は、少なくとも１種の重合性化合物を含む耐擦傷層形成用組成物の硬化物を含むことが好ましく、上記重合性化合物としては、前述の化合物（ｂ１）が好ましい。

　耐擦傷層形成用組成物中の重合性化合物の含有率は、耐擦傷層形成用組成物中の全固形分に対して、８０質量％以上であることが好ましく、８５質量％以上がより好ましく、９０質量％以上が更に好ましい。

　耐擦傷層形成用組成物は、少なくとも１種の重合開始剤を含むことが好ましい。
　重合開始剤としては、前述の本発明の硬化性組成物が含んでいてもよい重合開始剤と同様である。
　耐擦傷層形成用組成物中の重合開始剤の含有率は、特に限定されるものではないが、例えば重合性化合物１００質量部に対して、０．１～２００質量部が好ましく、１～５０質量部がより好ましい。

（溶媒）
　耐擦傷層形成用組成物は、溶媒を含んでいてもよい。
　溶媒としては、前述の本発明の硬化性組成物が含んでいてもよい溶媒と同様である。
　耐擦傷層形成用組成物における溶媒の含有率は、耐擦傷層形成用組成物の塗布適性を確保できる範囲で適宜調整することができる。例えば、耐擦傷層形成用組成物の全固形分１００質量部に対して、５０～５００質量部とすることができ、好ましくは８０～２００質量部とすることができる。
　耐擦傷層形成用組成物は、通常、液の形態をとる。
　耐擦傷層形成用組成物の固形分の濃度は、通常、１０～９０質量％程度であり、好ましくは２０～８０質量％、特に好ましくは４０～７０質量％程度である。

（その他添加剤）
　耐擦傷層形成用組成物は、上記以外の成分を含有していてもよく、たとえば、無機粒子、レベリング剤、防汚剤、帯電防止剤、滑り剤、溶媒等を含有していてもよい。
　特に、滑り剤として下記の含フッ素化合物を含有することが好ましい。

［含フッ素化合物］
　含フッ素化合物は、モノマー、オリゴマー、ポリマーいずれでもよい。含フッ素化合物は、耐擦傷層中で重合性化合物との結合形成あるいは相溶性に寄与する置換基を有していることが好ましい。この置換基は同一であっても異なっていてもよく、複数個あることが好ましい。
　この置換基は重合性基が好ましく、ラジカル重合性、カチオン重合性、アニオン重合性、縮重合性及び付加重合性のうちいずれかを示す重合性反応基であればよく、好ましい置換基の例としては、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、アリル基、シンナモイル基、エポキシ基、オキセタニル基、水酸基、ポリオキシアルキレン基、カルボキシル基、アミノ基が挙げられる。その中でもラジカル重合性基が好ましく、中でもアクリロイル基、メタクリロイル基が特に好ましい。
　含フッ素化合物はフッ素原子を含まない化合物とのポリマーであってもオリゴマーであってもよい。

　上記含フッ素化合物は、下記一般式（Ｆ）で表されるフッ素系化合物が好ましい。
　一般式（Ｆ）：　（Ｒ^ｆ）－［（Ｗ）－（Ｒ^Ａ）_ｎｆ］_ｍｆ
　（式中、Ｒ^ｆは（パー）フルオロアルキル基又は（パー）フルオロポリエーテル基、Ｗは単結合又は連結基、Ｒ^Ａは重合性不飽和基を表す。ｎｆは１～３の整数を表す。ｍｆは１～３の整数を表す。）

　一般式（Ｆ）において、Ｒ^Ａは重合性不飽和基を表す。重合性不飽和基は、紫外線や電子線などの活性エネルギー線を照射することによりラジカル重合反応を起こしうる不飽和結合を有する基（すなわち、ラジカル重合性基）であることが好ましく、（メタ）アクリロイル基、（メタ）アクリロイルオキシ基、ビニル基、アリル基などが挙げられ、（メタ）アクリロイル基、（メタ）アクリロイルオキシ基、及びこれらの基における任意の水素原子がフッ素原子に置換された基が好ましく用いられる。

　一般式（Ｆ）において、Ｒ^ｆは（パー）フルオロアルキル基又は（パー）フルオロポリエーテル基を表す。
　ここで、（パー）フルオロアルキル基は、フルオロアルキル基及びパーフルオロアルキル基のうち少なくとも１種を表し、（パー）フルオロポリエーテル基は、フルオロポリエーテル基及びパーフルオロポリエーテル基のうち少なくとも１種を表す。耐擦傷性の観点では、Ｒ^ｆ中のフッ素含有率は高いほうが好ましい。

　（パー）フルオロアルキル基は、炭素数１～２０の基が好ましく、より好ましくは炭素数１～１０の基である。
　（パー）フルオロアルキル基は、直鎖構造（例えば－ＣＦ_２ＣＦ_３、－ＣＨ_２（ＣＦ_２）_４Ｈ、－ＣＨ_２（ＣＦ_２）_８ＣＦ_３、－ＣＨ_２ＣＨ_２（ＣＦ_２）_４Ｈ）であっても、分岐構造（例えば－ＣＨ（ＣＦ_３）_２、－ＣＨ_２ＣＦ（ＣＦ_３）_２、－ＣＨ（ＣＨ_３）ＣＦ_２ＣＦ_３、－ＣＨ（ＣＨ_３）（ＣＦ_２）_５ＣＦ_２Ｈ）であっても、脂環式構造（好ましくは５員環又は６員環で、例えばパーフルオロシクロへキシル基及びパーフルオロシクロペンチル基並びにこれらの基で置換されたアルキル基）であってもよい。

　（パー）フルオロポリエーテル基は、（パー）フルオロアルキル基がエーテル結合を有している場合を指し、１価でも２価以上の基であってもよい。フルオロポリエーテル基としては、例えば－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_３、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２Ｃ_４Ｆ_８Ｈ、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２Ｃ_８Ｆ_１７、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２Ｈ、フッ素原子を４個以上有する炭素数４～２０のフルオロシクロアルキル基等が挙げられる。また、パーフルオロポリエーテル基としては、例えば、－（ＣＦ_２Ｏ）_ｐｆ－（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｑｆ－、－［ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２Ｏ］_ｐｆ―［ＣＦ（ＣＦ_３）］_ｑｆ－、－（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｐｆ－、－（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｐｆ－などが挙げられる。
　上記ｐｆ及びｑｆはそれぞれ独立に０～２０の整数を表す。ただしｐｆ＋ｑｆは１以上の整数である。
　ｐｆ及びｑｆの総計は１～８３が好ましく、１～４３がより好ましく、５～２３がさらに好ましい。
　上記含フッ素化合物は、耐擦傷性に優れるという観点から－（ＣＦ_２Ｏ）_ｐｆ－（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｑｆ－で表されるパーフルオロポリエーテル基を有することが特に好ましい。

　含フッ素化合物は、パーフルオロポリエーテル基を有し、かつ重合性不飽和基を一分子中に複数有することが好ましい。

　一般式（Ｆ）において、Ｗは連結基を表す。Ｗとしては、例えばアルキレン基、アリーレン基及びヘテロアルキレン基、並びにこれらの基が組み合わさった連結基が挙げられる。これらの連結基は、更に、オキシ基、カルボニル基、カルボニルオキシ基、カルボニルイミノ基及びスルホンアミド基等、並びにこれらの基が組み合わさった官能基を有してもよい。
　Ｗとして、好ましくは、エチレン基、より好ましくは、カルボニルイミノ基と結合したエチレン基である。

　含フッ素化合物のフッ素原子含有量には特に制限は無いが、２０質量％以上が好ましく、３０～７０質量％がより好ましく、４０～７０質量％がさらに好ましい。

　好ましい含フッ素化合物の例としては、ダイキン化学工業（株）製のＲ－２０２０、Ｍ－２０２０、Ｒ－３８３３、Ｍ－３８３３及びオプツールＤＡＣ（以上商品名）、ＤＩＣ社製のメガファックＦ－１７１、Ｆ－１７２、Ｆ－１７９Ａ、ＲＳ－７８、ＲＳ－９０、ディフェンサＭＣＦ－３００及びＭＣＦ－３２３（以上商品名）が挙げられるがこれらに限定されるものではない。

　耐擦傷性の観点から、一般式（Ｆ）において、ｎｆとｍｆの積（ｎｆ×ｍｆ）は２以上が好ましく、４以上がより好ましい。

　重合性不飽和基を有する含フッ素化合物の重量平均分子量（Ｍｗ）は、分子排斥クロマトグラフィー、例えばゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）を用いて測定できる。
　含フッ素化合物のＭｗは４００以上５００００未満が好ましく、４００以上３００００未満がより好ましく、４００以上２５０００未満が更に好ましい。

　含フッ素化合物の含有率は、耐擦傷層形成用組成物中の全固形分に対して、０．０１～５質量％が好ましく、０．１～５質量％がより好ましく、０．５～５質量％が更に好ましく、０．５～２質量％が特に好ましい。

　耐擦傷層形成用組成物は、以上説明した各種成分を同時に、または任意の順序で順次混合することにより調製することができる。調製方法は特に限定されるものではなく、調製には公知の攪拌機等を用いることができる。

（耐擦傷層形成用組成物の硬化物）
　耐擦傷層は、重合性化合物を含む耐擦傷層形成用組成物の硬化物を含むものであることが好ましく、より好ましくは、ラジカル重合性基を有する重合性化合物及びラジカル重合開始剤を含む耐擦傷層形成用組成物の硬化物を含むものである。
　耐擦傷層形成用組成物の硬化物は、少なくとも、ラジカル重合性基を有する重合性化合物のラジカル重合性基が重合反応してなる硬化物を含むことが好ましい。
　耐擦傷層における耐擦傷層形成用組成物の硬化物の含有率は、耐擦傷層の全質量に対して６０質量％以上であることが好ましく、７０質量％以上がより好ましく、８０質量％以上が更に好ましい。

（耐擦傷層の膜厚）
　耐擦傷層の膜厚は、繰り返し折り曲げ耐性の観点から、３．０μｍ未満であることが好ましく、０．１～２．０μｍであることがより好ましく、０．１～１．０μｍであることが更に好ましい。

＜ハードコートフィルムの製造方法＞
　本発明のハードコートフィルムの製造方法について説明する。
　本発明のハードコートフィルムの製造方法は、下記工程（Ｉ）、（ＩＩ）を含む製造方法であることが好ましい。また、ハードコートフィルムが耐擦傷層を有する場合は、さらに下記工程（ＩＩＩ）、（ＩＶ）を含む製造方法であることが好ましい。
　（Ｉ）基材上に、重合性化合物（ａ１）を含む硬化性組成物を塗布してハードコート層塗膜を形成する工程
　（ＩＩ）上記ハードコート層塗膜を硬化することによりハードコート層を形成する工程
　（ＩＩＩ）上記ハードコート層上に、重合性化合物を含む耐擦傷層形成用組成物を塗布して耐擦傷層塗膜を形成する工程
　（ＩＶ）上記耐擦傷層塗膜を硬化することにより耐擦傷層を形成する工程

－工程（Ｉ）－
　工程（Ｉ）は、基材上に重合性化合物（ａ１）含む硬化性組成物を塗布してハードコート層塗膜を設ける工程である。
　基材、重合性化合物（ａ１）、及び硬化性組成物については前述したとおりである。

　硬化性組成物の塗布方法としては、特に限定されず公知の方法を用いることができる。例えば、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、ダイコート法等が挙げられる。

－工程（ＩＩ）－
　工程（ＩＩ）は、上記ハードコート層塗膜を硬化することによりハードコート層を形成する工程である。なお、ハードコート層塗膜を硬化するとは、ハードコート層塗膜に含まれる重合性化合物（ａ１）の（メタ）アクリル基の少なくとも一部を重合反応させることをいう。

　ハードコート層塗膜の硬化は、電離放射線の照射又は加熱に行われることが好ましい。

　電離放射線の種類については、特に制限はなく、Ｘ線、電子線、紫外線、可視光、赤外線などが挙げられるが、紫外線が好ましく用いられる。例えばハードコート層塗膜が紫外線硬化性であれば、紫外線ランプにより１０ｍＪ／ｃｍ^２～２０００ｍＪ／ｃｍ^２の照射量の紫外線を照射して硬化性化合物を硬化することが好ましく、ハードコートフィルムがハードコート層上に耐擦傷層を有する場合においては、硬化性化合物を半硬化するのが好ましい。５０ｍＪ／ｃｍ^２～１８００ｍＪ／ｃｍ^２であることがより好ましく、１００ｍＪ／ｃｍ^２～１５００ｍＪ／ｃｍ^２であることが更に好ましい。紫外線ランプ種としては、メタルハライドランプや高圧水銀ランプ等が好適に用いられる。

　熱により硬化する場合、温度に特に制限はないが、８０℃以上２００℃以下であることが好ましく、１００℃以上１８０℃以下であることがより好ましく、１２０℃以上１６０℃以下であることがさらに好ましい。

　硬化時の酸素濃度は０～１．０体積％であることが好ましく、０～０．１体積％であることが更に好ましく、０～０．０５体積％であることが最も好ましい。

－工程（ＩＩＩ）－
　工程（ＩＩＩ）は、上記ハードコート層上に、重合性化合物を含む耐擦傷層形成用組成物を塗布して耐擦傷層塗膜を形成する工程である。
　重合性化合物、及び耐擦傷層形成用組成物については前述したとおりである。

　耐擦傷層形成用組成物の塗布方法としては、特に限定されず公知の方法を用いることができる。例えば、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、ダイコート法等が挙げられる。

－工程（ＩＶ）－
　工程（ＩＶ）は、上記耐擦傷層塗膜を硬化することにより耐擦傷層を形成する工程である。

　耐擦傷層塗膜の硬化は、電離放射線の照射又は加熱に行われることが好ましい。電離放射線の照射及び加熱については、工程（ＩＩ）において記載したものと同様である。なお、耐擦傷層塗膜を硬化するとは、耐擦傷層塗膜に含まれる重合性化合物の重合性基の少なくとも一部を重合反応させることをいう。

　本発明では、ハードコートフィルムがハードコート層上に耐擦傷層を有する場合においては、上記工程（ＩＩ）において、ハードコート層塗膜を半硬化させることが好ましい。すなわち、工程（ＩＩ）においてハードコート層塗膜を半硬化させ、次いで、工程（ＩＩＩ）では、半硬化されたハードコート層上に耐擦傷層形成用組成物を塗布して耐擦傷層塗膜を形成し、次いで、工程（ＩＶ）では、耐擦傷層塗膜を硬化するとともに、ハードコート層の完全硬化を行うことが好ましい。ここで、ハードコート層塗膜を半硬化させるとは、ハードコート層塗膜に含まれる重合性化合物（ａ１）の（メタ）アクリル基のうち一部のみを重合反応させることをいう。ハードコート層塗膜の半硬化は、電離放射線の照射量や、加熱の温度及び時間を調節することにより行うことができる。

　工程（Ｉ）と工程（ＩＩ）の間、工程（ＩＩ）と工程（ＩＩＩ）の間、工程（ＩＩＩ）と工程（ＩＶ）の間、又は工程（ＩＶ）の後に、必要に応じて乾燥処理を行ってもよい。乾燥処理は、温風の吹き付け、加熱炉内への配置、加熱炉内での搬送、ハードコート層及び耐擦傷層が設けられていない面（基材面）からのローラーでの加熱等により行うことができる。加熱温度は、溶媒を乾燥除去できる温度に設定すればよく、特に限定されるものではない。ここで加熱温度とは、温風の温度または加熱炉内の雰囲気温度をいうものとする。

　本発明のハードコートフィルムは、画像表示装置の表面保護フィルムとして用いることができ、例えば、フォルダブルデバイス（フォルダブルディスプレイ）の表面保護フィルムとして用いることができる。フォルダブルデバイスとは、表示画面が変形可能であるフレキシブルディスプレイを採用したデバイスのことであり、表示画面の変形性を利用してデバイス本体（ディスプレイ）を折りたたむことが可能である。
　フォルダブルデバイスとしては、例えば、有機エレクトロルミネッセンスデバイスなどが挙げられる。
　本発明は、上記ハードコートフィルムを備えた物品にも関する。
　また、本発明は、上記ハードコートフィルムを表面保護フィルムとして備えた画像表示装置にも関する。
　さらに、本発明は、上記ハードコートフィルムを表面保護フィルムとして備えたフォルダブルデバイスにも関する。

　以下、実施例により本発明を更に具体的に説明するが、本発明の範囲はこれによって限定して解釈されるものではない。

＜基材の作製＞
（ポリイミド粉末の製造）
　攪拌器、窒素注入装置、滴下漏斗、温度調節器及び冷却器を取り付けた１Ｌの反応器に、窒素気流下、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド（ＤＭＡｃ）８３２ｇを加えた後、反応器の温度を２５℃にした。ここに、ビストリフルオロメチルベンジジン（ＴＦＤＢ）６４．０４６ｇ（０．２ｍｏｌ）を加えて溶解した。得られた溶液を２５℃に維持しながら、２，２－ビス（３，４－ジカルボキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン二無水物（６ＦＤＡ）３１．０９ｇ（０．０７ｍｏｌ）とビフェニルテトラカルボン酸二無水物（ＢＰＤＡ）８．８３ｇ（０．０３ｍｏｌ）を投入し、一定時間撹拌して反応させた。その後、塩化テレフタロイル（ＴＰＣ）２０．３０２ｇ（０．１ｍｏｌ）を添加して、固形分濃度１３質量％のポリアミック酸溶液を得た。次いで、このポリアミック酸溶液にピリジン２５．６ｇ、無水酢酸３３．１ｇを投入して３０分撹拌し、さらに７０℃で１時間撹拌した後、常温に冷却した。ここにメタノール２０Ｌを加え、沈澱した固形分を濾過して粉砕した。その後、１００℃下、真空で６時間乾燥させて、１１１ｇのポリイミド粉末を得た。

（基材Ｓ－１の作製）
　１００ｇの上記ポリイミド粉末を６７０ｇのＮ，Ｎ－ジメチルアセトアミド（ＤＭＡｃ）に溶かして１３質量％の溶液を得た。得られた溶液をステンレス板に流延し、１３０℃の熱風で３０分乾燥させた。その後フィルムをステンレス板から剥離して、フレームにピンで固定し、フィルムが固定されたフレームを真空オーブンに入れ、１００℃から３００℃まで加熱温度を徐々に上げながら２時間加熱し、その後、徐々に冷却した。冷却後のフィルムをフレームから分離した後、最終熱処理工程として、さらに３００℃で３０分間熱処理して、ポリイミドフィルムからなる、厚み５０μｍの基材Ｓ－１を得た。

＜（Ａ１）の合成＞
　トリメチロールプロパン（２００ｍｍｏｌ）、ジラウリン酸ジブチルすず（２ｍｍｏｌ）、脱水Ｎ，Ｎ’－ジメチルアセトアミド（３００ｍＬ）を混合し、５０℃で攪拌しながら滴下ロートを使用して２－メタクリロイルオキシエチルイソシアナート（６００ｍｍｏｌ）を滴下し、５０℃で５時間攪拌した。反応液を室温に戻し、水１Ｌに投入すると結晶が析出した。濾過後、乾燥すると（Ａ１）が収率９０％で得られた。

＜（Ａ２）～（Ａ４）の合成＞
　（Ａ２）～（Ａ４）は、それぞれトリメチロールプロパンまたは２－メタクリロイルオキシエチルイソシアナートを対応する構造のアルコール化合物またはイソシアネート化合物に置き換える以外は同様にして合成した。

＜（Ａ５）の合成＞
　ビス（２－アミノエチル）アミン（２００ｍｍｏｌ）、脱水アセトニトリル（３００ｍＬ）を混合し、－５℃で攪拌しながら滴下ロートを使用して２－メタクリロイルオキシエチルイソシアナート（６００ｍｍｏｌ）を滴下し、－５℃で３時間攪拌した。酢酸エチル、水で抽出し、有機層を硫酸マグネシウムにより乾燥した後、反応生成物をカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：酢酸エチル／メタノール）により分離精製し、収率１８％で（Ａ５）を得た。

＜（Ａ６）の合成＞
　３，３’－ジアミノジプロピルアミン（１８２ｍｍｏｌ）、炭酸水素ナトリウム（４５０ｍｍｏｌ）、水（１００ｇ）、テトラヒドロフラン（３００ｍＬ）を混合し、０℃で攪拌しながら滴下ロートを使用してアクリル酸クロリド（３８９ｍｍｏｌ）を滴下し、室温で５時間攪拌した。得られた反応混合物からテトラヒドロフランを減圧留去した後、酢酸エチル（２００ｍＬ）を添加して有機層を４回抽出し、有機層をまとめて硫酸マグネシウムで乾燥した。得られた反応混合物をカラムクロマトグラフィー（溶離液：酢酸エチル／メタノール）により分離精製し、収率４０％で（Ａ６）を得た。

　実施例及び比較例で使用した重合性化合物の構造を以下に示す。（Ａ１）～（Ａ６）は重合性化合物（ａ１）であり、（ＲＡ１）～（ＲＡ５）は重合性化合物（ａ１）ではない。

　下記表１に、化合物（Ａ１）～（Ａ６）、（ＲＡ１）～（ＲＡ５）についての分子量、１分子内の水素結合性のプロトンの数、水素結合性のプロトン価、１分子内の（メタ）アクリル基の数、（メタ）アクリル価、弾性率、及び破断伸びを記載した。
　弾性率、及び破断伸びは、硬化性組成物を下記硬化条件で硬化させた硬化物を、下記測定条件で測定した弾性率及び破断伸びである。

（積層体の製造）
　基材Ｓ－１上に硬化性組成物を硬化後の膜厚が１１μｍとなるようにバー塗布した。塗布後、塗膜を１２０℃で１分間加熱した。次いで、酸素濃度１００ｐｐｍ（ｐａｒｔｓ　ｐｅｒ　ｍｉｌｌｉｏｎ）未満の条件下で、高圧水銀灯ランプを用いて、積算照射量が６００ｍＪ／ｃｍ^２、照度が６０ｍＷ／ｃｍ^２となるよう紫外線を照射後、さらに８０℃、酸素濃度１００ｐｐｍの条件にて高圧水銀灯ランプを用いて、照度６０ｍＷ／ｃｍ^２、照射量６００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射することで塗膜を完全硬化させた。このようにしてポリイミド基材と硬化物の膜を有する積層体を得た。
　なお、硬化性組成物としては後述する実施例１、３～６、８、比較例１～５で調製した硬化性組成物を用いた。

（弾性率）
　各積層体のポリイミド基材側とガラスをアロンアルファ（登録商標）（東亜合成（株）製）を用いて接着し、ＨＭ２０００型硬度計（フィッシャーインスツルメンツ社製、ダイヤモンド製Ｋｎｏｏｐ圧子）を用いて、下記条件にて測定した。
　最大荷重：５０ｍＮ
　荷重印加時間：１０秒
　クリープ：５秒
　荷重除荷時間：１０秒
　除荷重後保持時間：５秒
　測定回数：１０回
　なお、弾性率は上記測定における除荷曲線から算出した。
　弾性率は１０回測定の平均値を用いた。

　弾性率は以下の基準で評価した。
　Ａ：１０．５ＧＰａ以上、Ｂ：９．５ＧＰａ以上１０．５ＧＰａ未満、Ｃ：８．５ＧＰａ以上９．５ＧＰａ未満、Ｄ：８．５ＧＰａ未満

（破断伸び）
　各積層体を長さ１２０ｍｍ、幅１０ｍｍに裁断し、温度２５℃、相対湿度６０％の状態に１時間静置させた後に、引張試験機にて１００％／分の速度で引っ張り、破断が生じる伸び率を調べた。
　破断伸びは、上記破断が生じる伸び率について、以下の基準で評価した。
　Ａ：１５％以上、Ｂ：１０％以上１５％未満、Ｃ：５％以上１０％未満、Ｄ：５％未満

（透過率）
　ＵＶ－３１００（島津製作所製）を用いてＵＶ－Ｖｉｓ吸収スペクトルを測定し、ポリイミド基材単独の吸収スペクトルを差し引き、すべての試料について、硬化物の透過率が波長４００～７００ｎｍのいずれの波長においても８０％以上であることを確認した。

［実施例１］
＜硬化性組成物の調製＞
（硬化性組成物ＨＣ－１）
　下記成分の含有量を以下のように調整し、ミキシングタンクに投入、攪拌した。得られた組成物を孔径０．４５μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過し、硬化性組成物ＨＣ－１とした。

　（Ａ１）　　　　　　　　　　　　　　４７．４５質量部
　イルガキュア１２７（Ｉｒｇ．１２７）　　２．５質量部
　メガファックＲＳ－９０　　　　　　　　０．０５質量部
　ＭＩＢＫ（メチルイソブチルケトン）　　５０．０質量部

　なお、イルガキュア１２７（Ｉｒｇ．１２７）はＢＡＳＦ製のラジカル重合開始剤である。
　メガファックＲＳ－９０はＤＩＣ社製のＵＶ反応型表面改質剤である。

（ハードコートフィルムの製造）
　厚さ５０μｍのポリイミド基材Ｓ－１上に硬化性組成物ＨＣ－１をワイヤーバー＃１８を用いて、硬化後の膜厚が１１μｍとなるようにバー塗布し、基材上にハードコート層塗膜を設けた。
　次いで、ハードコート層塗膜を１２０℃で１分間加熱した。次いで、酸素濃度１００ｐｐｍ（ｐａｒｔｓ　ｐｅｒ　ｍｉｌｌｉｏｎ）未満の条件下で、高圧水銀灯ランプを用いて、積算照射量が６００ｍＪ／ｃｍ^２、照度が６０ｍＷ／ｃｍ^２となるよう紫外線を照射後、さらに８０℃、酸素濃度１００ｐｐｍの条件にて高圧水銀灯ランプを用いて、照度６０ｍＷ／ｃｍ^２、照射量６００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射することでハードコート層塗膜を完全硬化させた。このようにしてハードコート層塗膜を硬化して、基材上に、ハードコート層（硬化性組成物ＨＣ－１の硬化物）を有する実施例１のハードコートフィルムを得た。

［実施例２～８、比較例１～５］
　重合性化合物である（Ａ１）を、下記表２に示したものに変更した以外は、実施例１と同様にして、実施例２～８、比較例１～５のハードコートフィルムをそれぞれ製造した。

［比較例６］
　下記成分の含有量を以下のように調整し、ミキシングタンクに投入、攪拌した。得られた組成物を孔径０．４５μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過し、硬化性組成物ＨＣ－Ｒ６とした。
　サイクロマーＰ－ＡＣＡ（固形分濃度５０質量％）　１３．６６質量部
　（Ａ５）　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　７．１７５質量部
　（ＲＡ１）　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　３．０７質量部
　イルガキュア１２７（Ｉｒｇ．１２７）　　　　　　　０．９８質量部
　化合物ＩＩＩ　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１．０３質量部
　メガファックＲＳ－９０　　　　　　　　　　　　　　０．０１質量部
　ＭＩＢＫ　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　６９．８２質量部
　重合禁止剤（ｐ－メトキシフェノール）　　　　　０．００５１質量部

　サイクロマーＰ－ＡＣＡはダイセル社製の重量平均分子量３００００のポリマーである。サイクロマーＰ－ＡＣＡは重合性化合物（ａ１）ではない。また、比較例６の硬化性組成物ＨＣ－Ｒ６は、硬化性組成物の全固形分中の分子量が２０００以下の重合性化合物の含有率が７０質量％未満である。
　化合物ＩＩＩは、下記構造の紫外線吸収剤である。

　赤外分光法により、実施例１～８の硬化性組成物を上記硬化条件で硬化させた硬化物において、硬化性組成物に含まれる（メタ）アクリル基の８０モル％以上が、（メタ）アクリル基以外の基に変化していることを確認した。

［ハードコートフィルムの評価］
　製造した各実施例及び比較例のハードコートフィルムを、以下の方法によって評価した。評価結果を表２に示す。

（鉛筆硬度）
　ＪＩＳ（ＪＩＳは、Ｊａｐａｎｅｓｅ　Ｉｎｄｕｓｔｒｉａｌ　Ｓｔａｎｄａｒｄｓ（日本工業規格）である）　Ｋ５４００に従い鉛筆硬度評価を行った。各実施例および比較例のハードコートフィルムを、温度２５℃、相対湿度６０％で２時間調湿した後、ハードコート層の表面の異なる５箇所について、ＪＩＳ　Ｓ　６００６に規定するＨ～９Ｈの試験用鉛筆を用いて４．９Ｎの荷重にて引っ掻いた。その後、目視で傷が認められる箇所が０～２箇所であった鉛筆の硬度のうち、最も硬度の高い鉛筆硬度を評価結果とした。鉛筆硬度は、「Ｈ」の前に記載される数値が高いほど、硬度が高く好ましい。
　鉛筆硬度は以下の基準で評価した。
　Ａ：５Ｈ以上、Ｂ：４Ｈ以上５Ｈ未満、Ｃ：３Ｈ以上４Ｈ未満、Ｄ：３Ｈ未満

（耐屈曲性）
　各試料を、ＪＩＳ－Ｋ－５６００－５－１に記載の塗料一般試験方法－耐屈曲性（円筒形マンドレル法）の方法を用いて評価を行った。各試料を温度２５℃、相対湿度５５％の条件下で１時間保存後に、直径（Φ）２、３、４、５、６、８、１０、１２、１４、１６ｍｍのマンドレルに塗布面（ハードコート層）を外側にして（基材を内側にして）巻き付けて、クラックの発生状況を観察し、クラックが発生しなかった最小のマンドレルの直径で評価した。マンドレルの直径（Φ）が小さいほど耐屈曲性が優れており、直径が大きい条件でクラックが発生している程、耐屈曲性に劣ることを示す。なお、クラックの発生の有無は目視で判断した。
　耐屈曲性は以下の基準で評価した。
　Ａ：２ｍｍΦ以下、Ｂ：４ｍｍΦ以下２ｍｍΦより大、Ｃ：８ｍｍΦ以下４ｍｍΦより大、Ｄ：８ｍｍΦより大

（自己修復性）
　ＪＩＳ　Ｓ　６００６に規定する４Ｈの試験用鉛筆を用いて、４．９Ｎの荷重にて、目視で１０箇所以上の傷が認められるまでハードコート層の表面を繰り返し引っ掻いた。このサンプルを窒素雰囲気下で８５℃１時間加熱した後、傷を観察し、以下の基準で自己修復性を評価した。
　Ａ：傷が消えている（９０％以上回復している）、Ｂ：傷が半分以下に減っている（５０％以上９０％未満回復している）、Ｃ：傷が減っているが半分以下ではない（１０％以上５０％未満回復している）、Ｄ：傷が減っていない（１０％未満回復している）

（透過率）
　ＵＶ－３１００（島津製作所製）を用いてＵＶ－Ｖｉｓ吸収スペクトルを測定し、すべての実施例及び比較例のハードコートフィルムの波長４５０ｎｍ～７００ｎｍのいずれの波長においても透過率が８０％以上であることを確認した。

　実施例２及び７の重合性化合物の使用比率は、質量比率である。

　表２に示したとおり、実施例１～８のハードコートフィルムは、鉛筆硬度、耐屈曲性、及び自己修復性に優れていた。
　また、実施例１～８のハードコートフィルムを用いて、ポリイミド基材を外側にして、曲率半径１．５ｍｍで１８０°折り曲げ試験を１万回繰り返し行った場合にクラックが発生しないことを確認した。

　本発明を詳細にまた特定の実施態様を参照して説明したが、本発明の精神と範囲を逸脱することなく様々な変更や修正を加えることができることは当業者にとって明らかである。
　本出願は、２０２１年３月３１日出願の日本特許出願（特願２０２１－０６２１４６）に基づくものであり、その内容はここに参照として取り込まれる。

Claims

　分子量が２０００以下の重合性化合物を含む硬化性組成物であって、
　前記硬化性組成物の全固形分中の前記分子量が２０００以下の重合性化合物の含有率が７０質量％以上であり、
　分子内に、１つ以上の水素結合性基と３つ以上の（メタ）アクリル基を有し、水素結合性のプロトン価が３．５ｍｏｌ／ｋｇ以上であり、（メタ）アクリル価が５．０ｍｏｌ／ｋｇ以上であり、分子量が２０００以下である重合性化合物（ａ１）を含む、硬化性組成物。
　前記重合性化合物（ａ１）の前記水素結合性のプロトン価と前記（メタ）アクリル価の和が１０．５ｍｏｌ／ｋｇ以上である、請求項１に記載の硬化性組成物。
　前記硬化性組成物を下記硬化条件で硬化させ、下記測定条件で測定した弾性率が９．５ＧＰａ以上であり、破断伸びが１０．０％以上である、請求項１又は２に記載の硬化性組成物。
　硬化条件：厚さ５０μｍのポリイミド基材上に、前記硬化性組成物を乾燥後の厚さが１１μｍとなるようにバー塗布した後、１２０℃で１分間乾燥させ、８０℃下、照度６０ｍＷ／ｃｍ^２、照射量６００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線にて硬化させて硬化物を形成する。
　測定条件：前記ポリイミド基材と前記硬化物の積層体に対して、微小硬度計を用いて最大荷重５０ｍＮにて測定する。
　前記硬化性組成物の全固形分中の前記重合性化合物（ａ１）の含有率が、５１質量％以上である、請求項１～３のいずれか１項に記載の硬化性組成物。
　前記硬化性組成物を前記硬化条件で硬化させた硬化物の波長４００～７００ｎｍの領域における透過率が、いずれの波長においても８０％以上である、請求項３に記載の硬化性組成物。
　前記水素結合性基が、ウレタン基、チオウレタン基、ウレア基、チオウレア基、アミド基、及びチオアミド基からなる群より選択される少なくとも１つである、請求項１～５のいずれか１項に記載の硬化性組成物。
　前記重合性化合物（ａ１）が、下記一般式（１）又は（２）で表される化合物である、請求項１～６のいずれか１項に記載の硬化性組成物。

　一般式（１）中、Ｒは置換基を表し、ＸはＣ又はＮを表し、Ｌ^１及びＬ^２は各々独立に単結合又は２価の連結基を表し、Ａは水素結合性基を表し、Ｑは水素原子又はメチル基を表し、ｍは０～２の整数を表し、ｎは２～４の整数を表す。ただし、ＸがＣを表す場合はｍとｎの和は４であり、ＸがＮを表す場合はｍとｎの和は３である。ｍが２を表す場合、２つのＲは同一でも異なっていてもよい。複数のＬ^１、Ａ、Ｌ^２、及びＱは各々同一でも異なってもよい。

　一般式（２）中、Ｚはｋ＋ｗ価の連結基を表し、Ｌ^３及びＬ^４は各々独立に単結合又は２価の連結基を表し、Ａは水素結合性基を表し、Ｑは水素原子又はメチル基を表し、Ｒは置換基を表し、ｋは２～８の整数を表し、ｗは０～２の整数を表す。複数のＬ^３、Ａ、Ｌ^４、及びＱは各々同一でも異なってもよい。ｗが２を表す場合、２つのＲは同一でも異なっていてもよい。
　さらに、フッ素系化合物及びシリコーン系化合物からなる群より選択される少なくとも１つの化合物を含む、請求項１～７のいずれか１項に記載の硬化性組成物。
　さらに、溶媒を含み、前記溶媒の８０質量％以上が有機溶媒である、請求項１～８のいずれか１項に記載の硬化性組成物。
　前記硬化性組成物を前記硬化条件で硬化させた硬化物において、前記硬化性組成物に含まれる（メタ）アクリル基の８０モル％以上が、（メタ）アクリル基以外の基に変化している、請求項３に記載の硬化性組成物。
　前記硬化性組成物を前記硬化条件で硬化させて得られた前記ポリイミド基材と前記硬化物の積層体を用いて、前記ポリイミド基材を外側にして、曲率半径１．５ｍｍで１８０°折り曲げ試験を１万回繰り返し行った場合にクラックが発生しない、請求項３に記載の硬化性組成物。
　前記硬化性組成物を前記硬化条件で硬化させて得られた前記ポリイミド基材と前記硬化物の積層体を用いて、前記ポリイミド基材を内側にして、円筒形マンドレル法により耐屈曲性試験を行った場合に、直径４ｍｍのマンドレルでクラックが発生しない、請求項３に記載の硬化性組成物。
　基材と、請求項１～１２のいずれか１項に記載の硬化性組成物の硬化物を含むハードコート層とを有するハードコートフィルム。
　前記ハードコートフィルムの波長４５０～７００ｎｍの領域における透過率が、いずれの波長においても８０％以上である、請求項１３に記載のハードコートフィルム。
　前記基材が、ポリイミド、ポリアラミド、ポリエチレンテレフタラート、ポリカーボネート、ポリエチレンナフタレート、ポリウレタン、アクリル樹脂、及びセルロース樹脂からなる群より選択される少なくとも１種のポリマーを含む、請求項１３又は１４に記載のハードコートフィルム。
　請求項１３～１５のいずれか１項に記載のハードコートフィルムを備えた物品。
　請求項１３～１５のいずれか１項に記載のハードコートフィルムを表面保護フィルムとして備えた画像表示装置。
　請求項１３～１５のいずれか１項に記載のハードコートフィルムを表面保護フィルムとして備えたフレキシブルディスプレイ。