WO2022201649A1 - 加工装置 - Google Patents

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    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67092Apparatus for mechanical treatment

Definitions

  • the present invention relates to a processing device for planar processing of a work.
  • workpieces such as silicon wafers (hereinafter referred to as "workpieces") into thin, flat planes.
  • Patent Document 1 discloses a grinding device that grinds a rectangular workpiece to a predetermined thickness by bringing a rotating grindstone into contact with the upper surface of a rectangular workpiece held on a chuck table.
  • non-circular workpieces In the case of infeed processing of workpieces with shapes other than circular or with an orientation flat (hereinafter collectively referred to as "non-circular workpieces"), the contact between the grindstone and the workpiece at every predetermined rotation of the chuck table The area is not constant, and in areas where the contact area is relatively large, the amount of grinding of the work tends to be small, and in areas where the contact area is relatively small, the amount of grinding of the work tends to be large. That is, there is a problem that the thickness of the work varies depending on the size of the contact area between the grindstone and the work during processing, and the work cannot be finished to a desired thickness.
  • a processing apparatus for planarizing a workpiece with a grindstone, comprising: a suction body capable of holding the workpiece by suction; and an attachment that is made of a material that is more difficult to cut than the adsorbent and is capable of coming into contact with the whetstone during self-grinding of the adsorbent.
  • the thickness of the adsorbent after self-grinding in the region where the grindstone contacts the adsorbent and the attachment is equal to the thickness of the adsorbent in the region where the grindstone contacts the adsorbent so as to offset the variation in the thickness of the workpiece after planarization. Since it is thicker than the adsorbent after self-grinding, it is possible to reduce variations in the thickness of the workpiece after planarization.
  • the present invention can reduce variations in the thickness of a workpiece after plane machining due to the accuracy of the fixed surface of the workpiece, the accuracy of attaching the machining tool, or the shape of the workpiece.
  • FIG. 3 is a perspective view showing a chuck table; 3A is a plan view of the chuck table of FIG. 2, and FIG. 3B is a cross-sectional view taken along line AA in FIG.
  • the schematic diagram which shows the mode of self-grinding.
  • the top view which compared the contact area of the workpiece
  • FIG. 6 is a schematic diagram showing the thickness of the workpiece after planarization at two locations shown in FIG. 5 ; The top view which shows the positional relationship of the attachment with respect to an adsorption body.
  • FIG. 10A is a plan view of the chuck table of FIG. 9, and FIG. 10B is a cross-sectional view taken along the line BB in FIG.
  • drawings may exaggerate by enlarging and exaggerating characteristic parts in order to make the features easier to understand, and the dimensional ratios, etc. of the constituent elements may not necessarily be the same as the actual ones.
  • hatching of some components may be omitted in order to facilitate understanding of the cross-sectional structure of the components.
  • expressions indicating directions such as up and down, left and right are not absolute, and are appropriate when each component is in the posture depicted in the drawing. In some cases, it should be changed and interpreted according to changes in posture.
  • the processing device 1 performs grinding processing on the workpiece W. As shown in FIG. 1 , the processing device 1 includes a processing section 2 and a holding section 3 .
  • the processing section 2 includes a grindstone 21 , a grindstone spindle 22 and an infeed mechanism 23 .
  • the grindstone 21 is, for example, a cup-shaped grindstone and attached to the lower end of the grindstone spindle 22 .
  • the grindstone spindle 22 is rotatable around the rotary shaft 2a, and the grindstone 21 and the grindstone spindle 22 are configured to be integrally rotatable.
  • the infeed mechanism 23 raises and lowers the grindstone spindle 22 in the vertical direction.
  • the infeed mechanism 23 has a known configuration, and is composed of, for example, a plurality of linear guides that guide the movement direction of the grindstone spindle 22 and a ball screw slider mechanism that moves the grindstone spindle 22 up and down.
  • the infeed mechanism 23 is interposed between the grindstone spindle 22 and the column 24 .
  • the holding unit 3 includes a chuck table 31 and a chuck spindle 32.
  • the chuck table 31 has an adsorbent 33 made of a porous material such as alumina on its upper surface, and a dense body 34 in which the adsorbent 33 is embedded substantially in the center.
  • the chuck table 31 has a conduit (not shown) extending through the inside to the surface.
  • the pipeline is connected to a vacuum source, a compressed air source, or a water supply source via a rotary joint (not shown).
  • a vacuum source When the vacuum source is activated, a negative pressure is generated between the work W placed on the attracting body 33 and the upper surface (attracting surface 33a) of the attracting body 33, and the work W is attracted and held on the attracting surface 33a.
  • the compressed air source or the water supply source is activated, the adsorption between the workpiece W and the adsorbent 33 is released.
  • the adsorbent 33 is formed in a shape corresponding to the workpiece W which is rectangular in plan view.
  • the chuck spindle 32 is configured to rotationally drive the chuck table 31 around the rotary shaft 3a.
  • a drive source for the chuck spindle 32 may be, for example, a servomotor.
  • annular recess 35 is formed in the chuck table 31 so as to surround the attracting body 33 .
  • a plurality of bolt holes 36 are formed in the bottom of the annular recess 35 .
  • the annular recess 35 does not need to be formed on the entire circumference of the adsorbent 33, and may be locally formed within a range where an attachment 37, which will be described later, can be attached.
  • An attachment 37 is attached to the annular recess 35 .
  • the attachment 37 is arranged along the radial direction of the chuck table 31 as viewed from above so as to close the space between the four corners of the attracting body 33 and the outer edge of the chuck table 31 .
  • the attachment 37 may be made of a difficult-to-cut material having hardness higher than that of the adsorbent 33, and is made of the same material as the dense body 34, for example.
  • FIG. 3B when the attachment 37 is attached to the chuck table 31, the suction surface 33a and the upper surface (contact surface 37a) of the attachment 37 are substantially flush with each other.
  • a bolt hole 38 is formed through the attachment 37 from above and below.
  • the attachment 37 is detachably fastened to the chuck table 31 via bolts 39 .
  • the corners of the contact surface 37a are preferably chamfered in order to suppress chipping by the grindstone 21. As shown in FIG.
  • the operation of the processing device 1 is controlled by a control unit (not shown).
  • the control unit controls each of the constituent elements that constitute the processing apparatus 1 .
  • the control unit is composed of, for example, a CPU, a memory, and the like.
  • the functions of the control unit may be realized by controlling using software, or may be realized by operating using hardware.
  • self-grinding refers to a process in which the whetstone 21 is brought close to the chuck table 31 by the infeed mechanism 23, and the whetstone 21 grinds the suction surface 33a of the suction body 33.
  • Self-grinding is performed as appropriate to maintain the desired shape of the attracting surface 33a, and is generally performed prior to planarization of the workpiece W when the chuck table 31 is replaced.
  • the processing apparatus 1 When the processing apparatus 1 performs planar processing of the workpiece W by bringing the processing surface of the grindstone 21 into parallel contact with the surface to be processed of the non-circular workpiece W, the processing amount (grinding amount) of the workpiece W is within the plane. may not be stable. The reason for this will be described below with reference to FIG.
  • the work W having a square shape in plan view will be described below as an example, the shape of the work W is not limited to this.
  • a comparison of the contact area A2 between the work W and the grindstone 21 when contacting through the center of the side of the work W and the rotation center O reveals that the contact area A1 is about twice as wide as the contact area A2. I understand.
  • the workpiece W after processing decreases. thicken. That is, when comparing the thicknesses of the work W after grinding in the contact areas A1 and A2, as shown in FIG. 6, the work W in the contact area A2 is formed thicker than the work W in the contact area A1. For example, in the case of a 280 mm square workpiece W, the end P2 of the contact area A2 is ground to be approximately 4 ⁇ m thinner than the end P1 of the contact area A1.
  • the self-grinding amount is adjusted within the suction body 33 so as to offset the change in the thickness of the work W according to the change in the contact area between the work W and the grindstone 21 during planarization. It is increased or decreased locally.
  • the attachment 37 is arranged on the outer periphery of the adsorbent 33 in the first processing region R1.
  • the first processing region R1 is set in a fan shape with a central angle of ⁇ 15 degrees centered on the diagonal line of the adsorbent 33, and the second processing region R2 is set to the adjacent first processing region R1. It was set in a substantially fan shape with a central angle of 60 degrees between.
  • the sizes of the machining regions R1 and R2 may be appropriately changed according to the machining conditions of the workpiece W and the like.
  • the attachment 37 is made of a material that is more difficult to cut than the suction body 33, as shown in FIG. , the amount of grinding of the adsorbent 33 in the second processing region R2 is smaller than that of the adsorbent 33 in the second processing region R2, so the adsorbent 33 in the first processing region R1 is ground thick locally.
  • the difference in the amount of grinding between the first processing region R1 and the second processing region R2 during planar processing is the thickness of the first processing region R1 and the second processing region R2 in the adsorbent 33. This is offset by the difference, and variations in the thickness of the workpiece W after planarization are reduced.
  • the shape of the attracting body 33 and the attachment 37 is not limited to those described above. As shown in (b), the adsorbent 33 may be formed in a circular shape when viewed from the top, and the attachment 37 may be formed to have an annular sector shape when viewed from the top.
  • the processing apparatus 1 is a processing apparatus 1 that performs planar processing on the work W with the grindstone 21, and includes the suction body 33 capable of holding the work W by suction, and the suction body 33 on the outer peripheral side of the suction body 33. and an attachment 37 that is provided, is made of a material that is harder to grind than the adsorbent 33, and is capable of contacting the grindstone 21 during self-grinding for grinding the adsorbent 33.
  • the thickness of the work W after processing is uneven due to the contact area between the grindstone 21 and the work W changing according to the rotation angle of the chuck table 31. so that the thickness of the adsorbent 33 after self-grinding in the first processing region R1 where the grindstone 21 contacts the adsorbent 33 and the attachment 37 is the second processing region where the grindstone 21 contacts the adsorbent 33 Since it is thicker than the thickness of the adsorbent 33 after self-grinding in R2, it is possible to reduce variations in the thickness of the workpiece W after planarization.
  • the processing apparatus 1 is configured such that the attachment 37 is detachably provided on the chuck table 31 that accommodates the attracting body 33 .
  • the shape of the adsorbent 33 after self-grinding can be changed according to the shape of the workpiece W and processing conditions.
  • the processing apparatus 1 is configured such that the workpiece W is formed in a non-circular shape.
  • Reference Signs List 1 processing device 2: processing unit 21: grindstone 22: grindstone spindle 23: infeed mechanism 24: column 3: holding unit 31: chuck table 32: chuck spindle 33: adsorption body 33a: adsorption surface 34: dense body 35: annular Recess 36: bolt hole 37 (dense body): attachment 37a: contact surface 38: bolt hole 39 (of attachment): bolt R1: first machining area R2: second machining area W: workpiece

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Abstract

【課題】ワークを所望の厚みに平面加工する加工装置を提供する。 【解決部】加工装置1は、非円形状のワークWを砥石21で平面加工する加工装置1であって、ワークWを吸着保持可能な吸着体33と、吸着体33の外周側に設けられ、吸着体33より難削材で構成され、吸着体33を研削するセルフグラインドの際に砥石21に接触可能なアタッチメント37と、を備えている。

Description

加工装置
 本発明は、ワークを平面加工する加工装置に関するものである。
 半導体製造分野では、シリコンウェハ等の半導体ワーク(以下、「ワーク」という)を薄く平坦に平面加工する加工装置が知られている。
 特許文献1には、チャックテーブルに保持された矩形ワークの上面に回転する砥石を接触させ、矩形ワークを所定厚みに研削する研削装置が開示されている。
特許第5230982号公報
 しかしながら、ワークを平面加工する場合、ワークの固定面精度や砥石等の加工工具の取付精度の影響により、加工後のワークに厚みバラつきが生じる虞がある。このような厚みバラつきを解消するために、従来では、ワークの固定面や加工工具を組み付けし直したり調整する必要があった。
 さらに、円形を除く形状のワークやオリフラが設けられたワーク(以下、総称して「非円形状のワーク」という)をインフィード加工する場合、チャックテーブルの所定回転毎における砥石とワークとの接触面積は一定ではなく、接触面積が比較的広い領域では、ワークの研削量は少なくなり、接触面積が比較的狭い領域では、ワークの研削量は大きくなりがちである。すなわち、加工中における砥石とワークとの接触面積の大小に応じて、ワークの厚みがばらつき、ワークを所望の厚みに仕上げられないという問題があった。
 そこで、ワークを所望の厚みに平面加工するために解決すべき技術的課題が生じてくるのであり、本発明はこの課題を解決することを目的とする。
 上記目的を達成するために、本発明に係る加工装置は、ワークを砥石で平面加工する加工装置であって、前記ワークを吸着保持可能な吸着体と、前記吸着体の外周側に設けられ、前記吸着体より難削材で構成され、前記吸着体を研削するセルフグラインドの際に前記砥石に接触可能なアタッチメントと、を備えている。
 この構成によれば、平面加工後のワークの厚みバラつきを相殺するように、砥石が吸着体及びアタッチメントに接触する領域におけるセルフグラインド後の吸着体の厚みが、砥石が吸着体に接触する領域におけるセルフグラインド後の吸着体の厚みより厚くなるため、平面加工後のワークの厚みバラつきを軽減することができる。
 本発明は、ワークの固定面精度、加工工具の取り付け精度又はワークの形状に起因する平面加工後のワークの厚みバラつきを軽減することができる。
本発明の一実施形態に係る加工装置を示す模式図。 チャックテーブルを示す斜視図。 図2のチャックテーブルを示す図であり、(a)は平面図、(b)は(a)中のA-A断面図。 セルフグラインドの様子を示す模式図。 ワーク内の2箇所におけるワークと砥石との接触面積を比較した平面図。 図5に示す2箇所における平面加工後のワークの厚みを示す模式図。 吸着体に対するアタッチメントの位置関係を示す平面図。 (a)は、吸着体内の2箇所におけるセルフグラインド後の厚みを示す模式図であり、(b)は、ワーク内の2箇所における平面加工後の厚みを示す模式図。 本発明の変形例に係る加工装置に適用されるチャックテーブルを示す斜視図。 図9のチャックテーブルを示す図であり、(a)は平面図、(b)は(a)中のB-B断面図。
 本発明の一実施形態について図面に基づいて説明する。なお、以下では、構成要素の数、数値、量、範囲等に言及する場合、特に明示した場合及び原理的に明らかに特定の数に限定される場合を除き、その特定の数に限定されるものではなく、特定の数以上でも以下でも構わない。
 また、構成要素等の形状、位置関係に言及するときは、特に明示した場合及び原理的に明らかにそうでないと考えられる場合等を除き、実質的にその形状等に近似又は類似するもの等を含む。
 また、図面は、特徴を分かり易くするために特徴的な部分を拡大する等して誇張する場合があり、構成要素の寸法比率等が実際と同じであるとは限らない。また、断面図では、構成要素の断面構造を分かり易くするために、一部の構成要素のハッチングを省略することがある。
 また、本実施形態において、上下や左右等の方向を示す表現は、絶対的なものではなく、各構成要素が図面に描かれている姿勢である場合に適切であるが、その姿勢が変化した場合には姿勢の変化に応じて変更して解釈されるべきものである。
 加工装置1は、ワークWに対して研削加工を行うものである。図1に示すように、加工装置1は、加工部2と、保持部3と、を備えている。
 加工部2は、砥石21と、砥石スピンドル22と、インフィード機構23と、を備えている。
 砥石21は、例えばカップ型砥石であり、砥石スピンドル22の下端に取り付けられている。
 砥石スピンドル22は、回転軸2a回りに回転可能であり、砥石21及び砥石スピンドル22が、一体となって回転可能に構成されている。
 インフィード機構23は、砥石スピンドル22を垂直方向に昇降させる。インフィード機構23は、公知の構成であり、例えば、砥石スピンドル22の移動方向を案内する複数のリニアガイドと、砥石スピンドル22を昇降させるボールネジスライダ機構と、で構成されている。インフィード機構23は、砥石スピンドル22とコラム24との間に介装されている。
 保持部3は、チャックテーブル31と、チャックスピンドル32と、を備えている。
 チャックテーブル31は、上面にアルミナ等の多孔質材料からなる吸着体33と、吸着体33を略中央に埋設する緻密体34と、を備えている。
 チャックテーブル31は、内部を通って表面に延びる図示しない管路を備えている。管路は、図示しないロータリージョイントを介して真空源、圧縮空気源又は給水源に接続されている。真空源が起動すると、吸着体33に載置されたワークWと吸着体33の上面(吸着面33a)との間に負圧が生じて、ワークWが吸着面33aに吸着保持される。また、圧縮空気源又は給水源が起動すると、ワークWと吸着体33との吸着が解除される。
 吸着体33は、平面から視て矩形状のワークWに応じた形状に形成されている。
 チャックスピンドル32は、回転軸3a回りにチャックテーブル31を回転駆動するように構成されている。チャックスピンドル32の駆動源は、例えばサーボモータ等が考えられる。
 図2に示すように、チャックテーブル31には、吸着体33を囲繞するように環状凹部35が形成されている。環状凹部35の底部には、複数のボルト孔36が形成されている。なお、環状凹部35は、吸着体33の全周に形成される必要はなく、後述するアタッチメント37が取り付けられ得る範囲に局所的に形成されていても構わない。
 環状凹部35には、アタッチメント37が取り付けられる。具体的には、図3(a)に示すように、アタッチメント37は、平面から視てチャックテーブル31の径方向に沿って吸着体33の四隅とチャックテーブル31の外縁との間を塞ぐように設けられる。アタッチメント37は、吸着体33より高硬度の難削材であれば良く、例えば緻密体34と同様の材料から成る。また、図3(b)に示すように、アタッチメント37がチャックテーブル31に取り付けられた状態において、吸着面33aとアタッチメント37の上面(接触面37a)とは略面一である。
 アタッチメント37には、上下を貫通して形成されたボルト孔38が形成されている。アタッチメント37は、ボルト39を介してチャックテーブル31に着脱自在に締結されている。なお、接触面37aの角は、砥石21によるチッピングを抑制するために面取りされているのが好ましい。
 加工装置1の動作は、図示しない制御部によって制御される。制御部は、加工装置1を構成する構成要素をそれぞれ制御するものである。制御部は、例えば、CPU、メモリ等により構成される。なお、制御部の機能は、ソフトウェアを用いて制御することにより実現されても良く、ハードウェアを用いて動作することにより実現されても良い。
 次に、加工装置1のセルフグラインドについて、図面に基づいて説明する。
 セルフグラインドとは、図4に示すように、インフィード機構23で砥石21をチャックテーブル31に接近させて、砥石21で吸着体33の吸着面33aを研削する工程をいう。セルフグラインドは、吸着面33aを所望の形状に維持するために適宜行うものであり、チャックテーブル31を交換した際にワークWの平面加工に先行して行われるのが一般的である。
 加工装置1が、非円形状のワークWの被加工面に対して砥石21の加工面を平行に接触させてワークWを平面加工する場合に、ワークWの加工量(研削量)が面内で安定しないことがある。以下、その理由について、図5に基づいて説明する。なお、以下では、平面視で正方形状のワークWを例に説明するが、ワークWの形状はこれに限定されるものではない。
 図5に示すように、砥石21の加工面がワークWの角及びチャックテーブル31の回転中心Oを通るように接触する場合のワークWと砥石21との接触領域A1と、砥石21の加工面がワークWの辺の中央及び回転中心Oを通るように接触する場合のワークWと砥石21との接触領域A2とを比較すると、接触領域A1は、接触領域A2より約2倍程度広いことが分かる。
 そして、砥石21をワークWに全面に亘って一様に接触させた場合、ワークWと砥石21との接触面積が大きくなるにしたがい、ワークWの研削量が減少して加工後のワークWが厚くなる。すなわち、接触領域A1、A2における研削後のワークWの厚みを比較すると、図6に示すように、接触領域A2内のワークWは、接触領域A1内のワークWより厚く形成される。例えば、280mm角のワークWの場合、接触領域A2の端部P2では、接触領域A1の端部P1より約4μmほど薄く研削される。
 そこで、加工装置1では、平面加工の際にワークW及び砥石21が接触する接触面積の変化に応じたワークWの厚みの変化を相殺するように、セルフグラインドの研削量を吸着体33内で局所的に増減させている。
 具体的には、図7に示すように、平面加工の際にワークWの研削量が相対的に小さい第1の加工領域R1及びワークWの研削量が相対的に大きい第2の加工領域R2を仮定し、第1の加工領域R1において吸着体33の外周にアタッチメント37を配置する。
 本実施形態では、第1の加工領域R1を、吸着体33の対角線を中心にして中心角±15度の扇形状に設定し、第2の加工領域R2を、隣り合う第1の加工領域R1の間に中心角60度の略扇状に設定した。なお、各加工領域R1、R2の大きさは、ワークWの加工条件等に応じて適宜変更して構わない。
 そして、アタッチメント37が吸着体33より難削材で構成されていることにより、図8(a)に示すように、セルフグラインド時の第1の加工領域R1内での吸着体33の研削量が、第2の加工領域R2内での吸着体33の研削量より少ないため、第1の加工領域R1内の吸着体33が局所的に厚く研削される。
 そして、ワークWが平面加工されると、図8(b)に示すように、平面加工時の第1の加工領域R1内でのワークWの研削量が、第2の加工領域R2内でのワークWの研削量より少ないため、第1の加工領域R1内のワークWが、第2の加工領域R2内のワークWより厚く加工される。
 このようにして、平面加工時における第1の加工領域R1及び第2の加工領域R2の研削量の差が、吸着体33内の第1の加工領域R1及び第2の加工領域R2の厚みの差により相殺されて、平面加工後のワークWの厚みバラツキが軽減される。
 なお、吸着体33及びアタッチメント37は上述した形状に限定されるものではなく、例えば、チャックテーブル31が、オリフラOFが形成されたワークWを吸着保持する場合、図9、図10(a)、(b)に示すように、吸着体33が、平面から視て円形状に形成され、アタッチメント37が、平面から視て環状扇形状に形成されているものであっても構わない。
 このようにして、本実施形態に係る加工装置1は、ワークWを砥石21で平面加工する加工装置1であって、ワークWを吸着保持可能な吸着体33と、吸着体33の外周側に設けられ、吸着体33より難削材で構成され、吸着体33を研削するセルフグラインドの際に砥石21に接触可能なアタッチメント37と、を備えている構成とした。
 この構成によれば、砥石21がワークWを平面加工する場合に砥石21とワークWとの接触面積がチャックテーブル31の回転角に応じて変化することに起因する加工後のワークWの厚みバラつきを相殺するように、砥石21が吸着体33及びアタッチメント37に接触する第1の加工領域R1におけるセルフグラインド後の吸着体33の厚みが、砥石21が吸着体33に接触する第2の加工領域R2におけるセルフグラインド後の吸着体33の厚みより厚くなるため、平面加工後のワークWの厚みバラつきを軽減することができる。
 また、本実施形態に係る加工装置1は、アタッチメント37が、吸着体33を収容するチャックテーブル31に着脱自在に設けられている構成とした。
 この構成によれば、吸着体33に対するアタッチメント37の位置を変更可能なため、ワークWの形状や加工条件に応じてセルフグラインド後の吸着体33の形状を変更することができる。
 また、本実施形態に係る加工装置1は、ワークWが、非円形状に形成されている構成とした。
 この構成によれば、ワークWの形状に起因する平面加工後のワークWの厚みバラつきを軽減することができる。
 また、本発明は、本発明の精神を逸脱しない限り、上記以外にも種々の改変を為すことができ、そして、本発明が該改変されたものに及ぶことは当然である。また、上述した実施形態及び各変形例は、互いに組み合わせても構わない。
1  :加工装置
2  :加工部
21 :砥石
22 :砥石スピンドル
23 :インフィード機構
24 :コラム
3  :保持部
31 :チャックテーブル
32 :チャックスピンドル
33 :吸着体
33a:吸着面
34 :緻密体
35 :環状凹部
36 :(緻密体の)ボルト孔
37 :アタッチメント
37a:接触面
38 :(アタッチメントの)ボルト孔
39 :ボルト
R1 :第1の加工領域
R2 :第2の加工領域
W  :ワーク

Claims (3)

  1.  ワークを砥石で平面加工する加工装置であって、
     前記ワークを吸着保持可能な吸着体と、
     前記吸着体の外周側に設けられ、前記吸着体より難削材で構成され、前記吸着体を研削するセルフグラインドの際に前記砥石に接触可能なアタッチメントと、
    を備えていることを特徴とする加工装置。
  2.  前記アタッチメントは、前記吸着体を収容するチャックテーブルに着脱自在に設けられていることを特徴とする請求項1に記載の加工装置。
  3.  前記ワークは、非円形状に形成されていることを特徴とする請求項1又は2に記載の加工装置。
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