WO2022154156A1 - 스크린 마스크 청소 장치 - Google Patents

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WO2022154156A1
WO2022154156A1 PCT/KR2021/001206 KR2021001206W WO2022154156A1 WO 2022154156 A1 WO2022154156 A1 WO 2022154156A1 KR 2021001206 W KR2021001206 W KR 2021001206W WO 2022154156 A1 WO2022154156 A1 WO 2022154156A1
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WO
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wiper
unit
screen mask
solvent
container
Prior art date
Application number
PCT/KR2021/001206
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English (en)
French (fr)
Inventor
김동준
김선식
Original Assignee
한화정밀기계 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
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    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41F—PRINTING MACHINES OR PRESSES
    • B41F15/00—Screen printers
    • B41F15/08—Machines
    • B41F15/12—Machines with auxiliary equipment, e.g. for drying printed articles
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41F—PRINTING MACHINES OR PRESSES
    • B41F35/00—Cleaning arrangements or devices
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/10—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern
    • H05K3/12—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern using thick film techniques, e.g. printing techniques to apply the conductive material or similar techniques for applying conductive paste or ink patterns

Definitions

  • the present invention relates to a device for cleaning a screen mask.
  • the component mounting process can be classified into a printing process of printing solder paste on a printed circuit board, a process of mounting electronic components on a printed circuit board after the printing process, and a process of drying the printed circuit board after the mounting operation is completed.
  • Screen printer equipment may be used for the heavy print process.
  • Screen printer equipment prints solder paste using a screen mask, and when printing is performed, a part of the solder paste remains on the screen mask. Such residual solder paste must be removed, especially the underside of the screen mask in direct contact with the printed circuit board, which must be cleaned periodically.
  • Japanese Patent Publication No. 5919480 discloses an apparatus for removing paste adhered to the lower surface of a screen mask by wiping it with a cleaning paper.
  • a main object is to provide a screen mask cleaning device with improved cleaning performance.
  • a screen mask cleaning apparatus for performing a cleaning operation of a screen mask with a wiper, a first winding part around which the wiper before the cleaning operation is wound; and a second winding part on which the wiper after the cleaning operation is wound.
  • a screen mask cleaning device including a wiper support for supporting a gin wiper.
  • the performance of cleaning the screen mask can be improved by making the wiper sufficiently wet with the solvent and uniformly wetted.
  • FIG. 1 is a schematic perspective view showing a screen mask cleaning apparatus according to a first embodiment of the present invention, showing a state in which a cover part is closed.
  • FIG. 2 is a schematic perspective view showing a screen mask cleaning apparatus according to a first embodiment of the present invention, showing a state in which the cover part is opened.
  • FIG 3 is a cross-sectional view of the screen mask cleaning apparatus according to the first embodiment of the present invention, showing a state in which the container part is lowered.
  • FIG. 4 is a cross-sectional view of the screen mask cleaning apparatus according to the first embodiment of the present invention, showing a state in which the container part is raised.
  • FIG. 5 is a schematic view showing the separation of the container part and the container part driving part of the screen mask cleaning apparatus according to the first embodiment of the present invention.
  • FIG. 6 is a cross-sectional view of the screen mask cleaning apparatus according to the second embodiment of the present invention, showing a state in which the wiper pressing part is raised.
  • FIG. 7 is a cross-sectional view of the screen mask cleaning apparatus according to the second embodiment of the present invention, showing a state in which the wiper pressing part is lowered.
  • FIG. 8 is a schematic view showing the wiper pressing unit and the pressing unit driving device of the screen mask cleaning device according to the second embodiment of the present invention separated.
  • FIG. 9 is a schematic diagram illustrating an enlarged portion A of FIG. 8 .
  • a screen mask cleaning apparatus for performing a cleaning operation of a screen mask with a wiper, a first winding part around which the wiper before the cleaning operation is wound; and a second winding part on which the wiper after the cleaning operation is wound.
  • a screen mask cleaning device including a wiper support for supporting a gin wiper.
  • the screen mask cleaning apparatus may include a cover part having an opening exposing the wiper supported by the wiper support part.
  • At least one air knife may be installed in the cover part.
  • the cover part may include a wiper support for restricting the upward movement of the wiper.
  • the container portion may have a shape of a trough having a length greater than the width of the wiper.
  • the screen mask cleaning apparatus may include a tank part connected to the container part and storing the solvent.
  • the screen mask cleaning apparatus may include a filter unit for filtering out foreign substances in the solvent.
  • the immersion driving unit may include a vessel unit driving unit for immersing the wiper in the solvent inside the vessel unit by moving the vessel unit upward during the immersion driving.
  • the immersion driving unit may include a wiper pressing unit for immersing the wiper in the solvent inside the container unit by pressing the wiper during immersion driving.
  • FIG. 1 is a schematic perspective view showing a screen mask cleaning apparatus according to a first embodiment of the present invention, and is a view showing a closed state of the cover part
  • FIG. 2 is a screen mask cleaning apparatus according to a first embodiment of the present invention. It is a schematic perspective view showing a state in which the cover part is opened.
  • 3 is a cross-sectional view of the screen mask cleaning apparatus according to the first embodiment of the present invention, showing a state in which the container part is lowered
  • FIG. 4 is a cross-sectional view of the screen mask cleaning apparatus according to the first embodiment of the present invention. It is a figure which shows the state in which the weight is raised.
  • Figure 5 is a schematic view showing the separation of the container and the container driving part of the screen mask cleaning apparatus according to the first embodiment of the present invention.
  • the screen mask cleaning apparatus 100 of the first embodiment includes a first winding unit 110 , a second winding unit 120 , a container unit 130 , and an immersion driving unit ( 140 , a wiper support unit 150 , a cover unit 160 , a tank unit 170 , a filter unit 180 , and a control unit 190 .
  • the screen mask cleaning apparatus 100 of the first embodiment is an apparatus for cleaning the lower surface of the screen mask. That is, the wiper W of the screen mask cleaning apparatus 100 wipes and cleans the lower surface of the screen mask.
  • the wiper (W) wipes the lower surface of the screen mask, and various materials such as natural materials and synthetic materials may be used as the material of the wiper (W).
  • various materials such as natural materials and synthetic materials may be used as the material of the wiper (W).
  • a material of the wiper W paper, cloth, nonwoven fabric, etc. may be used.
  • the wiper (W) is not yet unfolded, but in Figures 3 and 4, the wiper (W) is released from the first winding unit 110 and connected to the second winding unit 120. This is disclosed.
  • the first winding unit 110 is wound around the wiper (W) before the cleaning operation.
  • the first winding unit 110 has a roll shape so that the wiper W is wound along the circumference of the first winding unit 110 .
  • the second winding unit 120 is wound with the wiper W after the cleaning operation.
  • the second winding unit 120 has a roll shape so that the wiper W is wound along the circumference of the second winding unit 120 .
  • the wiper W is unwound and wound by an appropriate amount to perform a cleaning operation. tension is maintained.
  • the cleaning operation is performed by driving the second winding unit 120 to rotate by the winding unit driving device 121 , but the present invention is not limited thereto. That is, according to the present invention, the first winding unit 110 may also be driven to rotate by a separate driving device. In addition, according to the present invention, an anti-loosening device for preventing excessive loosening of the wiper W may be additionally installed.
  • the container part 130 is a place for receiving the solvent (S), the solvent (S) is disposed inside the container part (130).
  • the wiper W released from the first winding unit 110 is immersed in the solvent S disposed inside the container unit 130 .
  • immersion means to put the wiper (W) in the solvent (S) disposed on the inside of the container unit (130) to soak and wet.
  • the solvent (S) may be applied without limitation as long as it is a material capable of dissolving the solder paste attached to the lower surface of the screen mask, and examples thereof include isopropyl alcohol, stencil cleaner, acetone, solvent, thinner, and the like.
  • the solvent (S) is stored in the tank unit 170, and is supplied from the tank unit 170 to the vessel unit 130 if necessary. city) can be installed.
  • the sensor unit is installed in the container unit 130 , the sensor unit is connected to the control unit 190 by wire or wireless to transmit the measurement result.
  • the container part 130 has the shape of a trough, and the length (L) has a greater length than the width (D) of the wiper (W), so the wiper (W) is the width of the container part 130 as it is. It may be immersed in the solvent (S) disposed therein.
  • the container part 130 is installed to move up and down along the container part guide part 131 . That is, the container part 130 can move up and down along the container part guide part 131 by the driving of the immersion driving part 140 .
  • the immersion driving unit 140 immerses the wiper (W) in the solvent (S) disposed inside the container unit (130).
  • the immersion driving unit 140 can move the container unit 130 up and down, and during immersion driving, the container unit 130 is moved upward to move the wiper W within the container unit 130 . It is immersed in the solvent (S).
  • the immersion driving unit 140 is a container unit for immersing the wiper (W) in the solvent (S) inside the container unit 130 by moving the container unit 130 upward during the immersion driving. It includes a driving unit 141 .
  • the container driving unit 141 includes a driving device 141a and a moving mechanism 141b.
  • the driving device 141a is driven by receiving a control signal from the controller 190 and generates power. Power generated by the driving device 141a is transmitted to the moving mechanism 141b.
  • the driving device 141a may be a servo motor, a DC motor, an electric motor such as an AC motor, a cylinder driven by pneumatic or hydraulic pressure, and various power sources such as a micro internal combustion engine without limitation.
  • the moving mechanism 141b is connected to the container 130 and receives power from the driving device 141a to raise or lower the container 130.
  • the moving mechanism unit 141b may be configured with various devices such as a transfer screw, a rack-and-pinion mechanism, a cam mechanism, etc. that can move the container unit 130 by receiving power. That is, the power generated by the driving device 141a is transmitted to the transfer mechanism 141b to move the container unit 130 up and down.
  • the driving device 141a and the moving mechanism 141b are separated from each other and separated, but the present invention is not limited thereto. That is, the driving device 141a and the moving mechanism 141b according to the present invention may be integrally configured.
  • the driving device 141a may be a cylinder driven by hydraulic pressure or supply
  • the moving mechanism 141b may be a cylinder rod installed in the cylinder.
  • the immersion driving unit 140 moves the container part 130 upward to immerse the wiper (W) in the solvent (S) inside the container part 130, but the present invention is It is not limited to this. That is, according to the present invention, it may have a configuration in which the wiper W is lowered while leaving the container 130 as it is, so that the wiper W is immersed in the solvent S inside the container part 130 , a detailed description thereof will be described later.
  • the wiper support 150 supports the wiper W soaked with the solvent S.
  • the wiper support 150 is a device for supporting the wiper W.
  • the wiper support part 150 includes a negative pressure fixing part 151 for fixing the wiper W by negative pressure.
  • the negative pressure fixing unit 151 uses negative pressure to adsorb the wiper (W) to fix the wiper (W) during cleaning.
  • a support lifting device 152 capable of raising or lowering the wiper support 150 is installed at a lower portion of the wiper support 150 .
  • the support lifting device 152 operates to raise the wiper support 150 so that the wiper W supported on the upper surface of the wiper support 150 comes into contact with the lower surface of the screen mask.
  • the negative pressure fixing part 151 and the supporting part lifting device 152 are installed in the wiper support part 150, but the present invention is not limited thereto. That is, according to the present invention, the negative pressure fixing unit 151 may not be installed, and the support unit lifting device 152 may not be installed. When the support lifting device 152 is not installed, the wiper W supported on the upper surface of the wiper support 150 and the lower surface of the screen mask during cleaning work by designing the upper surface of the wiper support 150 at a sufficiently high position. It is preferable to make contact.
  • the cover 160 is installed on the upper surface of the screen mask cleaning apparatus 100 to be able to open and close.
  • the user closes the cover unit 160 when the screen mask cleaning device 100 is driven, and replaces the wipers W of the first and second winding units 110 and 120 or performs maintenance of internal devices
  • the operation is performed by opening the cover unit 160 on the .
  • Openings 161 and 162 are formed in the cover part 160 , among which the opening 161 exposes the wiper W supported by the wiper support part 150 .
  • the wiper W exposed through the opening 161 comes into contact with the lower surface of the screen mask during cleaning and cleaning is performed.
  • At least one air knife 163 is installed in the cover part 160 .
  • the air knife 163 functions to dry the screen mask after cleaning has been completed.
  • the air knife 163 is installed on the cover portion 160, but the present invention is not limited thereto. That is, the air knife may not be installed in the cover according to the present invention.
  • the cover part 160 restricts the upward movement of the wiper W and includes a wiper support 164 for supporting the wiper W.
  • the wiper support 164 restricts the upward movement of the wiper W and supports the wiper W.
  • the wiper support 164 according to the first embodiment is disposed so as not to move on the cover part 160 , but the present invention is not limited thereto. That is, the wiper support 164 according to the present invention is configured in a roller shape and can be installed to be rotatable on the cover part 160. In that case, the contact resistance with the wiper W is reduced to facilitate movement of the wiper W. can do.
  • the tank 170 is connected to the container 130 and stores the solvent (S).
  • a valve device controlled by the control unit 190 is installed in the tank unit 170 . Therefore, when it is sensed by the sensor unit (not shown) installed in the container unit 130 that the amount of the solvent (S) disposed inside the container unit 130 is less than the reference amount, the container unit 130 automatically A solvent (S) is supplied to
  • the filter unit 180 is connected to the container unit 130 to filter out foreign substances in the solvent (S), and various types of filters capable of filtering foreign substances in the solvent (S) may be used without limitation.
  • the filter unit 180 according to the first embodiment is connected to the container unit 130 to filter out foreign substances of the solvent (S), but the present invention is not limited thereto. That is, the filter unit 180 according to the present invention may be configured to be connected to the tank unit 170 to filter out foreign substances in the solvent (S).
  • the controller 190 controls the operation of the screen mask cleaning apparatus 100 . That is, the control unit 190 controls the first and second winding units 110 and 120 to control the supply amount of the wiper W, controls the submerged driving unit 140 to control the submerged driving, and the wiper support unit 150 ) to control the operation of cleaning the lower surface of the screen mask with the wiper (W).
  • the control unit 190 may include hardware, software, firmware, etc. such as an electric circuit board and an integrated circuit chip capable of processing various data, and is driven under the control of a user or a control algorithm.
  • the wiper W removes the space above the container part 130 from the first winding part 110 . It is disposed so as to be connected to the second winding unit 120 through the upper surface of the wiper support unit 150 .
  • the control unit 190 supplies the solvent (S) from the tank unit 170 to the container unit 130 in advance to prepare for immersion driving.
  • the control unit 190 performs immersion driving.
  • the control unit 190 drives the driving device 141a and the moving mechanism 141b of the immersion driving unit 140 to move the container unit 130 upward.
  • the container part 130 is sufficiently moved upward, as shown in FIG. 4 , the wiper W whose movement is restricted by the wiper support 164 of the cover part 160 is, inside the container part 130 .
  • the wiper (W) is wetted in the solvent (S).
  • the control unit 190 drives the winding unit driving device 121 to rotate the first winding unit 110 and the second winding unit 120, and the solvent (S) moves the wet wiper (W). Then, the wiper (W) wetted with the solvent (S) is disposed on the upper surface of the wiper support (150).
  • control unit 190 drives the negative pressure fixing unit 151 to fix the wiper W to the negative pressure, and operates the supporting unit lifting device 152 to raise the wiper supporting unit 150 by operating the support unit 152 to raise the wiper supporting unit 150 .
  • a cleaning operation of removing the solder paste is performed by bringing the wiper (W) supported on the upper surface and soaked in the solvent (S) in contact with the lower surface of the screen mask.
  • the wiper (W) is configured to be movable during the process in which the wiper (W) is immersed in the solvent (S) of the container unit 130, but the present invention is not limited thereto. That is, according to the present invention, the wiper W may be configured not to move during the process in which the immersion of the wiper W is performed. In that case, the control unit 190 drives the immersion driving unit 140 to move the container unit 130 downward, and then moves the wiper W, so that the immersion and the movement of the wiper W alternately progress little by little. do.
  • the screen mask cleaning apparatus 100 moves the container part 130 upward during the immersion driving to move the wiper (W) to the solvent (S) inside the container part 130 . immerse Therefore, since the wiper W can be uniformly wetted with a sufficient amount of the solvent S by the immersion action to perform cleaning, the screen mask can be cleaned effectively.
  • the cover unit 160 that can be opened and closed is installed on the upper surface of the screen mask cleaning apparatus 100 , the user is driven by the cover unit 160 . It is possible to improve the convenience of work when performing the operation of replacing the wiper (W) of the first and second winding units 110 and 120 while protecting the internal devices or performing maintenance of the internal devices.
  • the present invention is not limited thereto. does not Hereinafter, a second embodiment in which the wiper (W) is immersed in the solvent (S) in the container unit 230 by pressing the wiper (W) during immersion driving will be described with reference to FIGS. 6 to 9 .
  • FIG. 6 is a cross-sectional view of the screen mask cleaning apparatus according to the second embodiment of the present invention, showing a state in which the wiper pressing part is raised
  • FIG. 7 is a cross-sectional view of the screen mask cleaning apparatus according to the second embodiment of the present invention. It is a view showing a state in which the pressing part is lowered
  • FIG. 8 is a schematic view showing the wiper pressing part and the pressing part driving device of the screen mask cleaning apparatus according to the second embodiment of the present invention separated
  • FIG. 9 is FIG. It is a schematic drawing showing an enlarged part of A.
  • the screen mask cleaning apparatus 200 of the second embodiment includes a first winding unit 210 , a second winding unit 220 , a container unit 230 , and an immersion driving unit ( 240), a wiper support unit 250, a cover unit 260, a tank unit 270, a filter unit 280, and a control unit (not shown).
  • the unit 280, the control unit includes the first winding unit 110 , the second winding unit 120 , the wiper support unit 150 of the screen mask cleaning apparatus 100 according to the first embodiment described above; Since the configuration and operation of the cover unit 160 , the tank unit 170 , the filter unit 180 , and the control unit 190 are substantially the same, the first winding unit of the screen mask cleaning apparatus 200 according to the second embodiment below.
  • 210 , the second winding unit 220 , the wiper support unit 250 , the cover unit 260 , the tank unit 270 , the filter unit 280 , and a detailed description of the control unit (not shown) will be omitted.
  • the container part 230 of the screen mask cleaning apparatus 200 according to the second embodiment is arranged so that its position is fixed. That is, the container unit 130 according to the first embodiment is installed to be raised or lowered by the immersion driving unit 140 , but the position of the container unit 230 according to the second embodiment is fixed.
  • a solvent (S) is disposed inside the container unit 230 , and the wiper W released from the first winding unit 210 is immersed in the solvent (S).
  • the solvent (S) may be applied without limitation as long as it is a material capable of dissolving the solder paste attached to the lower surface of the screen mask, and examples thereof include isopropyl alcohol, stencil cleaner, acetone, solvent, thinner, and the like.
  • the container part 230 has the shape of a trough, and since the length has a greater length than the width of the wiper W, the wiper W is the solvent (W) disposed inside the container part 230 as it is. S) can be immersed.
  • the immersion driving unit 240 immerses the wiper (W) in the solvent (S) disposed inside the container unit 230 .
  • the immersion driving unit 240 is a wiper pressing unit 241 for immersing the wiper (W) in the solvent (S) inside the container unit 130 by pressing the wiper (W) during immersion driving. ) is included.
  • the wiper pressing part 241 includes a pressing part driving part 241a and a pressing part acting part 241b.
  • the pressing unit driving unit 241a is driven by receiving a control signal from the control unit 290 and transmits power to the pressing unit acting unit 241b.
  • the pressing unit driving unit 241a includes various power sources such as electric motors such as servo motors, DC motors, and AC motors, pneumatically or hydraulically driven cylinders, and micro internal combustion engines, and receiving power from such power sources and pressing unit acting units 241b ), it can be composed of various devices such as a piston, a feed screw, a rack-and-pinion mechanism, a cam mechanism, etc. that transmit power to each other without limitation.
  • the pressing part acting part 241b directly presses the wiper W by receiving power from the pressing part driving part 241a.
  • the working end 241b_1 of the pressing part acting part 241b has a roller shape and is rotatably installed at one end of the pressing part acting part 241b. That is, since the working end 241b_1 is installed in a structure that is rotatable by the rotation shaft C, it reduces the contact resistance with the wiper W while pressing the wiper W, thereby facilitating the movement of the wiper W. .
  • the acting end (241b_1) of the pressing portion acting portion (241b) is installed to be rotatable, but the present invention is not limited thereto. That is, according to the present invention, the working end (241b_1) of the pressing part acting part (241b) may be installed so that rotation is impossible.
  • the wiper W removes the space above the container part 230 from the first winding part 210 . Then, through the upper surface of the wiper support 250 is disposed up to the second winding (220).
  • the control unit 290 supplies the solvent (S) from the tank unit 270 to the container unit 230 in advance to prepare for the immersion driving.
  • the control unit 290 performs the immersion driving.
  • the control unit 290 drives the pressing unit driving unit 241a and the pressing unit acting unit 241b of the immersion driving unit 240 to press the wiper W downward.
  • the acting end 241b_1 of the pressing part acting part 241b moves sufficiently downward, as shown in FIG. 7 , the wiper W is pressed by the acting end 241b_1 to the solvent ( By being immersed in S), the wiper W is wetted with the solvent S.
  • the control unit drives the winding unit driving device (not shown) to rotate the first winding unit 210 and the second winding unit 220 , , move the wiper (W) soaked with the solvent (S). Then, the wiper (W) wetted with the solvent (S) is disposed on the upper surface of the wiper support (250).
  • control unit 290 drives the negative pressure fixing unit 251 to fix the wiper W to negative pressure, and operates the support lifting device 252 to raise the wiper support 250 by operating the support unit 252 to raise the wiper support unit 250 .
  • a cleaning operation of removing the solder paste is performed by bringing the wiper (W) supported on the upper surface and soaked in the solvent (S) in contact with the lower surface of the screen mask.
  • the wiper (W) is configured to be movable during the process in which the wiper (W) is immersed in the solvent (S) of the container unit 230, but the present invention is not limited thereto. That is, according to the present invention, the wiper W may be configured not to move during the process in which the immersion of the wiper W is performed. In that case, the control unit 290 drives the immersion driving unit 240 to move the pressing unit acting unit 241b upward, and then moves the wiper W, so that the immersion and the moving action of the wiper W are alternately little by little. will proceed
  • the wiper W is immersed in the solvent S inside the container 130 by pressing the wiper W during immersion driving. Therefore, since the wiper W can be uniformly wetted with a sufficient amount of the solvent S by the immersion action to perform cleaning, the screen mask can be cleaned effectively.
  • the cover part 260 that can be opened and closed is installed on the upper surface of the screen mask cleaning apparatus 200 , the user is driven by the cover part 260 . It is possible to improve the convenience of the operation when performing the operation of replacing the wiper (W) of the first and second winding units 210 and 220 while protecting the internal devices or performing maintenance of the internal devices.
  • the configuration, operation and effect of the screen mask cleaning apparatus 200 according to the second embodiment of the present invention other than the configuration, operation and effect described above are the screen mask cleaning apparatus according to the first embodiment of the present invention ( 100), since it is the same as or very similar to the configuration, action and effect, it will be omitted from the present description.
  • the screen mask cleaning apparatus according to the present embodiment may be used in an industry that manufactures, tests, or operates a screen mask cleaning apparatus.

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Abstract

본 발명의 일 측면에 따르면, 스크린 마스크의 청소 작업을 와이퍼로 수행하는 스크린 마스크 청소 장치에 있어서, 상기 청소 작업 전의 와이퍼가 감기는 제1 권취부와, 상기 청소 작업 후의 와이퍼가 감기는 제2 권취부와, 상기 제1 권취부에서 풀린 와이퍼가 침지되는 용제가 배치되는 용기부와, 상기 와이퍼를 상기 용기부 내부에 배치된 용제에 침지시키는 침지 구동부와, 상기 침지되어 용제가 적셔진 와이퍼를 지지하는 와이퍼 지지부를 포함하는 스크린 마스크 청소 장치를 제공한다.

Description

스크린 마스크 청소 장치
본 발명은 스크린 마스크를 청소하는 장치에 대한 것이다.
부품 실장 공정은, 인쇄 회로 기판에 솔더 페이스트를 인쇄하는 프린트 공정, 프린트 공정 후 인쇄 회로 기판에 전자 부품을 실장하는 공정, 실장 작업이 완료된 인쇄 회로 기판을 건조하는 공정 등으로 분류할 수 있는데, 그 중 프린트 공정에는 스크린 프린터 장비가 사용될 수 있다.
스크린 프린터 장비는 스크린 마스크를 사용하여 솔더 페이스트를 인쇄하게 되는데, 인쇄를 수행하게 되면 스크린 마스크에 솔더 페이스트의 일부가 남게 된다. 그러한 잔여 솔더 페이스트는 제거되어야 하는데, 특히 인쇄 회로 기판과 직접 맞닿는 스크린 마스크의 하면은 주기적으로 청소를 해야 한다.
청소 방법은 여러 방법이 있는데, 솔벤트가 분사된 클리닝 페이퍼나 천으로 스크린 마스크의 하면을 닦아 내는 방법이 많이 사용되고 있다.
일본 특허공보 제5919480호에는 스크린 마스크의 하면에 부착된 페이스트를 클리닝 페이퍼로 닦아서 제거하는 장치가 개시되어 있다.
청소 성능이 향상된 스크린 마스크 청소 장치를 제공하는 것을 주된 과제로 한다.
본 발명의 일 측면에 따르면, 스크린 마스크의 청소 작업을 와이퍼로 수행하는 스크린 마스크 청소 장치에 있어서, 상기 청소 작업 전의 와이퍼가 감기는 제1 권취부;와, 상기 청소 작업 후의 와이퍼가 감기는 제2 권취부;와, 상기 제1 권취부에서 풀린 와이퍼가 침지되는 용제가 배치되는 용기부;와, 상기 와이퍼를 상기 용기부 내부에 배치된 용제에 침지시키는 침지 구동부;와, 상기 침지되어 용제가 적셔진 와이퍼를 지지하는 와이퍼 지지부를 포함하는 스크린 마스크 청소 장치를 제공한다.
본 발명의 일 측면에 따른 스크린 마스크 청소 장치에 의하면, 침지 구동을 통해 와이퍼를 용제에 침지되도록 함으로써, 와이퍼에 용제를 충분히 적시면서도 균일하게 적시도록 하여 스크린 마스크를 청소하는 성능을 향상시킬 수 있다.
도 1은 본 발명의 제1 실시예에 대한 스크린 마스크 청소 장치를 도시한 개략적인 사시도로서 덮개부를 닫은 상태를 도시한 도면이다.
도 2는 본 발명의 제1 실시예에 대한 스크린 마스크 청소 장치를 도시한 개략적인 사시도로서 덮개부를 열은 상태를 도시한 도면이다.
도 3은 본 발명의 제1 실시예에 대한 스크린 마스크 청소 장치의 단면도로서 용기부가 하강한 상태를 도시한 도면이다.
도 4는 본 발명의 제1 실시예에 대한 스크린 마스크 청소 장치의 단면도로서 용기부가 상승한 상태를 도시한 도면이다.
도 5는 본 발명의 제1 실시예에 대한 스크린 마스크 청소 장치의 용기부와 용기부 구동부를 분리하여 도시한 개략적인 도면이다.
도 6은 본 발명의 제2 실시예에 대한 스크린 마스크 청소 장치의 단면도로서 와이퍼 누름부가 상승한 상태를 도시한 도면이다.
도 7은 본 발명의 제2 실시예에 대한 스크린 마스크 청소 장치의 단면도로서 와이퍼 누름부가 하강한 상태를 도시한 도면이다.
도 8은 발명의 제2 실시예에 대한 스크린 마스크 청소 장치의 와이퍼 누름부와 누름부 구동 장치를 분리하여 도시한 개략적인 도면이다.
도 9는 도 8의 A 부분을 확대하여 도시한 개략적인 도면이다.
본 발명의 일 측면에 따르면, 스크린 마스크의 청소 작업을 와이퍼로 수행하는 스크린 마스크 청소 장치에 있어서, 상기 청소 작업 전의 와이퍼가 감기는 제1 권취부;와, 상기 청소 작업 후의 와이퍼가 감기는 제2 권취부;와, 상기 제1 권취부에서 풀린 와이퍼가 침지되는 용제가 배치되는 용기부;와, 상기 와이퍼를 상기 용기부 내부에 배치된 용제에 침지시키는 침지 구동부;와, 상기 침지되어 용제가 적셔진 와이퍼를 지지하는 와이퍼 지지부를 포함하는 스크린 마스크 청소 장치를 제공한다.
여기서, 상기 스크린 마스크 청소 장치는, 상기 와이퍼 지지부에 지지되는 와이퍼를 노출시키는 개구부가 형성된 덮개부를 포함할 수 있다.
여기서, 상기 덮개부에는 적어도 하나의 에어 나이프가 설치될 수 있다.
여기서, 상기 덮개부는 상기 와이퍼의 상방으로의 움직임을 제한하는 와이퍼 지지대를 포함할 수 있다.
여기서, 상기 용기부는 상기 와이퍼의 폭보다 더 큰 길이를 가지는 홈통의 형상을 가질 수 있다.
여기서, 상기 스크린 마스크 청소 장치는, 상기 용기부와 연결되며 상기 용제를 저장하는 탱크부를 포함할 수 있다.
여기서, 상기 스크린 마스크 청소 장치는, 상기 용제의 이물질을 걸러 내기 위한 필터부를 포함할 수 있다.
여기서, 상기 침지 구동부는, 침지 구동 시 상기 용기부를 상방으로 움직여 상기 와이퍼를 상기 용기부 내부의 용제에 침지시키는 용기부 구동부를 포함할 수 있다.
여기서, 상기 침지 구동부는, 침지 구동 시 상기 와이퍼를 눌러 상기 와이퍼를 상기 용기부 내부의 용제에 침지시키는 와이퍼 누름부를 포함할 수 있다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 바람직한 실시예에 따른 본 발명을 상세히 설명하기로 한다. 또한, 본 명세서 및 도면에 있어서, 실질적으로 동일한 구성을 갖는 구성 요소에 대해서는, 동일한 부호를 사용함으로써 중복 설명을 생략한다.
본 발명은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다.
한편, 본 명세서에서 사용된 용어는 실시예들을 설명하기 위한 것이며 본 발명을 제한하고자 하는 것은 아니다. 본 명세서에서, 단수형은 문구에서 특별히 언급하지 않는 한 복수형도 포함한다. 명세서에서 사용되는 "포함한다(comprises)" 및/또는 "포함하는(comprising)"은 언급된 구성요소, 단계, 동작 및/또는 소자는 하나 이상의 다른 구성요소, 단계, 동작 및/또는 소자의 존재 또는 추가를 배제하지 않는다. 제1, 제2 등의 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 구성요소들은 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다.
도 1은 본 발명의 제1 실시예에 대한 스크린 마스크 청소 장치를 도시한 개략적인 사시도로서 덮개부를 닫은 상태를 도시한 도면이고, 도 2는 본 발명의 제1 실시예에 대한 스크린 마스크 청소 장치를 도시한 개략적인 사시도로서 덮개부를 열은 상태를 도시한 도면이다. 도 3은 본 발명의 제1 실시예에 대한 스크린 마스크 청소 장치의 단면도로서 용기부가 하강한 상태를 도시한 도면이고, 도 4는 본 발명의 제1 실시예에 대한 스크린 마스크 청소 장치의 단면도로서 용기부가 상승한 상태를 도시한 도면이다. 또한, 도 5는 본 발명의 제1 실시예에 대한 스크린 마스크 청소 장치의 용기부와 용기부 구동부를 분리하여 도시한 개략적인 도면이다.
도 1 내지 도 5에 도시된 바와 같이, 본 제1 실시예의 스크린 마스크 청소 장치(100)는, 제1 권취부(110), 제2 권취부(120), 용기부(130), 침지 구동부(140), 와이퍼 지지부(150), 덮개부(160), 탱크부(170), 필터부(180), 제어부(190)를 포함한다.
본 제1 실시예의 스크린 마스크 청소 장치(100)는, 스크린 마스크의 하면을 청소하는 장치이다. 즉, 스크린 마스크 청소 장치(100)의 와이퍼(W)가 스크린 마스크의 하면을 닦아 청소하게 된다.
본 발명에 따른 와이퍼(W)는 스크린 마스크의 하면을 닦는데, 와이퍼(W)의 소재로는 천연 소재, 합성 소재 등 다양한 소재가 사용될 수 있다. 예를 들어, 와이퍼(W)의 소재로는, 종이, 천, 부직포 등이 사용될 수 있다. 도 1과 도 2에는 아직 와이퍼(W)를 펼쳐 지지 않은 상태이지만, 도 3과 도 4에는 와이퍼(W)를 제1 권취부(110)에서 풀어 제2 권취부(120)까지 펼쳐 연결한 모습이 개시되어 있다.
제1 권취부(110)는 청소 작업 전의 와이퍼(W)가 감긴다. 제1 권취부(110)는 롤 형상을 가지고 있어 제1 권취부(110)의 둘레를 따라 와이퍼(W)가 권취된다.
제2 권취부(120)는 청소 작업 후의 와이퍼(W)가 감긴다. 제2 권취부(120)는 롤 형상을 가지고 있어 제2 권취부(120)의 둘레를 따라 와이퍼(W)가 권취된다.
권취부 구동 장치(121)에 의해 제2 권취부(120)가 회동되어 구동됨으로써 적정한 양만큼 와이퍼(W)가 풀리고 감겨 청소 작업이 수행되는데, 텐션 유지 장치(111)에 의해 와이퍼(W)의 텐션이 유지되게 된다.
본 제1 실시예에 따르면, 권취부 구동 장치(121)에 의해 제2 권취부(120)를 회동하도록 구동하여 청소 작업을 수행하지만, 본 발명은 이에 한정하지 않는다. 즉 본 발명에 따르면 제1 권취부(110)도 별개의 구동 장치에 의해 회동하도록 구동시킬 수 있다. 아울러 본 발명에 따르면 와이퍼(W)의 지나친 풀림 작용을 방지하는 풀림 방지 장치도 추가로 설치될 수 있다.
한편, 용기부(130)는 용제(S)를 수용하는 곳으로서 용기부(130)의 내부에는 용제(S)가 배치된다. 용기부(130) 내부에 배치된 용제(S)에는 제1 권취부(110)에서 풀린 와이퍼(W)가 침지된다. 본 명세서에서 「침지」라는 용어는, 용기부(130)의 내부에 배치된 용제(S) 속에 와이퍼(W)를 넣어 담가 적시는 것을 의미한다.
용제(S)는 스크린 마스크의 하면에 부착된 솔더 페이스트 등을 녹일 수 있는 물질이면 제한 없이 적용될 수 있는데, 그 예로 이소프로필 알코올, 스텐실 클리너, 아세톤, 솔벤트, 시너 등이 사용될 수 있다.
용제(S)는 탱크부(170)에 저장되어, 필요한 경우 탱크부(170)로부터 용기부(130)로 공급되는데, 용기부(130)에는 용제(S)의 양을 감지하는 센서부(미도시)가 설치될 수 있다. 용기부(130)에 센서부가 설치되는 경우에, 그 센서부는 제어부(190)와 유무선으로 연결되어 측정 결과를 전송하게 된다.
용기부(130)는 홈통의 형상을 가지고 있는데, 그 길이(L)는 와이퍼(W)의 폭(D)보다 더 큰 길이를 가지고 있으므로, 와이퍼(W)는 그 폭 그대로 용기부(130)의 내부에 배치된 용제(S)에 침지될 수 있다.
도 3 및 도 4에 도시된 바와 같이, 용기부(130)는 용기부 가이드부(131)를 따라 상하로 이동할 수 있게 설치된다. 즉 용기부(130)는 침지 구동부(140)의 구동에 의해 용기부 가이드부(131)를 따라 상하로 이동할 수 있게 된다.
한편, 침지 구동부(140)는 와이퍼(W)를 용기부(130) 내부에 배치된 용제(S)에 침지시킨다.
즉, 본 제1 실시예에 따른 침지 구동부(140)는 용기부(130)를 상하로 움직일 수 있는데, 침지 구동 시 용기부(130)를 상방으로 움직여 와이퍼(W)를 용기부(130) 내의 용제(S)에 침지시킨다.
구체적으로, 본 제1 실시예에 따른 침지 구동부(140)는, 침지 구동 시 용기부(130)를 상방으로 움직여 와이퍼(W)를 용기부(130) 내부의 용제(S)에 침지시키는 용기부 구동부(141)를 포함한다.
용기부 구동부(141)는 구동 장치(141a)와 이동 기구부(141b)를 포함한다.
구동 장치(141a)는 제어부(190)의 제어 신호를 받아 구동되며 동력을 발생시킨다. 구동 장치(141a)에서 발생된 동력은 이동 기구부(141b)로 전달된다. 구동 장치(141a)는 서보 모터, 직류 모터, 교류 모터 등의 전동 모터, 공압 또는 유압으로 구동되는 실린더, 미소 내연 기관 등 다양한 동력원이 제한 없이 적용될 수 있다.
이동 기구부(141b)는 용기부(130)와 연결되어 있으며, 구동 장치(141a)로부터 동력을 전달받아 용기부(130)를 상승시키거나 하강시킨다. 이를 위해 이동 기구부(141b)는 동력을 전달받아 용기부(130)를 이동시킬 수 있는 이송 스크류, 랙-피니언 기구, 캠 기구 등 다양한 장치로 제한 없이 구성될 수 있다. 즉 구동 장치(141a)에서 발생된 동력은 이송 기구부(141b)로 전달되어 용기부(130)를 상하로 이동시키게 된다.
본 제1 실시예에 따른 용기부 구동부(141)는 구동 장치(141a)와 이동 기구부(141b)가 서로 구별되어 분리되어 있지만, 본 발명은 이에 한정하지 않는다. 즉 본 발명에 따른 구동 장치(141a)와 이동 기구부(141b)는 일체형으로 구성될 수도 있다. 일 예로 구동 장치(141a)는 유압 또는 공급으로 구동되는 실린더가 될 수 있고, 이동 기구부(141b)는 실린더에 설치되는 실린더 로드가 될 수 있다.
본 제1 실시예에 따르면 침지 구동부(140)가 용기부(130)를 상방으로 이동시켜 와이퍼(W)를 용기부(130) 내부의 용제(S)에 침지시키는 구성을 가지고 있지만, 본 발명은 이에 한정하지 않는다. 즉, 본 발명에 따르면 용기부(130)를 그대로 두고 와이퍼(W)를 하강시켜 와이퍼(W)를 용기부(130) 내부의 용제(S)에 침지시키는 구성을 가질 수도 있는데, 그에 대한 자세한 설명은 후술한다.
한편, 와이퍼 지지부(150)는, 침지되어 용제(S)가 적셔진 와이퍼(W)를 지지한다.
와이퍼 지지부(150)는 와이퍼(W)를 지지하는 장치이다.
와이퍼 지지부(150)는 와이퍼(W)를 음압으로 고정하기 위한 음압 고정부(151)를 포함하고 있다. 음압 고정부(151)는 음압을 이용하여 와이퍼(W)를 흡착하여 청소 작업 시 와이퍼(W)를 고정한다.
와이퍼 지지부(150)의 하부에는 와이퍼 지지부(150)를 상승시키거나 하강시킬 수 있는 지지부 승강 장치(152)가 설치되어 있다. 청소 작업을 할 때에는 지지부 승강 장치(152)가 작동하여 와이퍼 지지부(150)를 상승시켜 와이퍼 지지부(150)의 상면에 지지된 와이퍼(W)를 스크린 마스크의 하면과 접촉하도록 한다.
본 제1 실시예에 따르면 와이퍼 지지부(150)에는 음압 고정부(151)와 지지부 승강 장치(152)가 설치되지만, 본 발명은 이에 한정하지 않는다. 즉, 본 발명에 따르면 음압 고정부(151)가 설치되지 않을 수 있고, 지지부 승강 장치(152)가 설치되지 않을 수 있다. 지지부 승강 장치(152)가 설치되지 않을 경우, 와이퍼 지지부(150)의 상면이 충분히 높은 위치에 있도록 설계함으로써 청소 작업 시 와이퍼 지지부(150)의 상면에 지지된 와이퍼(W)가 스크린 마스크의 하면과 접촉하도록 하는 것이 바람직하다.
한편, 덮개부(160)는 스크린 마스크 청소 장치(100)의 상면에 개폐가 가능하도록 설치된다. 사용자는 스크린 마스크 청소 장치(100)의 구동 시에는 덮개부(160)를 닫고, 제1, 2 권취부(110)(120)의 와이퍼(W)를 교체하거나 내부 장치들의 유지 보수를 수행하는 경우에 덮개부(160)를 열어 작업을 수행한다.
덮개부(160)에는 개구부(161)(162)가 형성되어 있는데, 그 중 개구부(161)는 와이퍼 지지부(150)에 지지되는 와이퍼(W)를 노출시킨다. 개구부(161)를 통해 노출되는 와이퍼(W)는 청소 작업 시 스크린 마스크의 하면과 접촉하여 청소가 수행된다.
덮개부(160)에는 적어도 한개의 에어 나이프(163)가 설치된다. 에어 나이프(163)는 청소가 종료된 스크린 마스크를 건조시키는 기능을 수행한다.
본 제1 실시예에 따르면 덮개부(160)에 에어 나이프(163)가 설치되지만, 본 발명은 이에 한정하지 않는다. 즉, 본 발명에 따른 덮개부에는 에어 나이프가 설치되지 않을 수도 있다.
덮개부(160)는 와이퍼(W)의 상방으로의 움직임을 제한하며 와이퍼(W)를 지지하는 와이퍼 지지대(164)를 포함한다. 와이퍼 지지대(164)는 와이퍼(W)가 상방으로 움직이는 것을 제한하며 와이퍼(W)를 지지한다.
본 제1 실시예에 따른 와이퍼 지지대(164)는 덮개부(160)에 움직이지 않도록 배치되지만, 본 발명은 이에 한정하지 않는다. 즉 본 발명에 따른 와이퍼 지지대(164)는 롤러 형상으로 구성되어 덮개부(160)에 회동 가능하도록 설치될 수 있고, 그 경우 와이퍼(W)와의 접촉 저항을 줄여 와이퍼(W)의 이동을 용이하게 할 수 있다.
한편, 탱크부(170)는 용기부(130)와 연결되며 용제(S)를 저장한다. 탱크부(170)에는 제어부(190)의 제어를 받는 밸브 장치가 설치되어 있다. 따라서, 용기부(130)에 설치된 센서부(미도시)에 의해, 용기부(130)의 내부에 배치되는 용제(S)의 양이 기준량에 미달된다고 감지될 경우, 자동으로 용기부(130)에 용제(S)를 공급한다.
필터부(180)는 용기부(130)와 연결되어 용제(S)의 이물질을 걸러 내는데, 용제(S)의 이물질을 걸러낼 수 있는 다양한 종류의 필터가 제한 없이 사용될 수 있다.
본 제1 실시예에 따른 필터부(180)는 용기부(130)와 연결되어 용제(S)의 이물질을 걸러 내지만, 본 발명은 이에 한정하지 않는다. 즉 본 발명에 따른 필터부(180)는 탱크부(170)와 연결되어 용제(S)의 이물질을 걸러내도록 구성할 수 있다.
한편, 제어부(190)는 스크린 마스크 청소 장치(100)의 작동을 제어한다. 즉 제어부(190)는, 제1, 2 권취부(110)(120)를 제어하여 와이퍼(W)의 공급량을 제어하고, 침지 구동부(140)를 제어하여 침지 구동을 제어하고, 와이퍼 지지부(150)를 제어하여 와이퍼(W)로 스크린 마스크의 하면을 청소하는 작업을 제어한다. 이를 위해 제어부(190)는 여러 데이터를 처리할 수 있는 전기 회로 기판, 집적 회로칩 등의 하드웨어, 소프트웨어, 펌웨어 등을 포함하여 이루어질 수 있고, 사용자 또는 제어 알고리즘의 제어를 받아 구동된다.
이하, 도 1 내지 도 5를 참조로 하여, 본 제1 실시예에 따른 스크린 마스크 청소 장치(100)가 작동되는 모습을 설명한다.
스크린 마스크 청소 장치(100)의 구동을 위해 덮개부(160)를 닫으면, 도 3에 도시된 것과 같이, 와이퍼(W)는 제1 권취부(110)로부터 용기부(130)의 상방 쪽 공간을 지나, 와이퍼 지지부(150)의 상면을 거쳐 제2 권취부(120)까지 연결되도록 배치된다.
이 때 용기부(130)에는 용제(S)가 배치되어 있는데, 제어부(190)는 미리 탱크부(170)로부터 용제(S)를 용기부(130)로 공급하여 침지 구동에 대비한다.
이어, 제어부(190)는 침지 구동을 수행한다. 침지 구동이 시작되면 제어부(190)는 침지 구동부(140)의 구동 장치(141a)와 이동 기구부(141b)를 구동하여 용기부(130)를 상방으로 이동시킨다. 용기부(130)가 상방으로 충분히 이동하게 되면, 도 4에 도시된 바와 같이, 덮개부(160)의 와이퍼 지지대(164)에 의해 움직임이 제한된 와이퍼(W)는, 용기부(130) 내부의 용제(S)에 침지되게 됨으로써, 와이퍼(W)가 용제(S)에 적셔지게 된다.
와이퍼(W)가 용제(S)에 침지된 상태에서, 제어부(190)는 권취부 구동 장치(121)를 구동시켜 제1 권취부(110)와 제2 권취부(120)를 회전시켜, 용제(S)가 적셔진 와이퍼(W)를 이동시킨다. 그렇게 되면, 용제(S)가 적셔진 와이퍼(W)는 와이퍼 지지부(150)의 상면에 배치된다.
이어, 제어부(190)는 음압 고정부(151)를 구동시켜 와이퍼(W)를 음압으로 고정시키고, 지지부 승강 장치(152)를 작동시켜 와이퍼 지지부(150)를 상승시킴으로써, 와이퍼 지지부(150)의 상면에 지지되고 용제(S)가 적셔진 와이퍼(W)를 스크린 마스크의 하면과 접촉시켜 솔더 페이스트를 제거하는 청소 작업을 수행한다.
이후, 청소 작업이 종료된 와이퍼(W)는, 제2 권취부(120)로 이동되어 회수된다.
본 제1 실시예에 따르면, 용기부(130)의 용제(S)에 와이퍼(W)가 침지되는 공정 중에서도 와이퍼(W)가 움직일 수 있도록 구성되지만, 본 발명은 이에 한정하지 않는다. 즉, 본 발명에 따르면, 와이퍼(W)의 침지가 수행되는 공정 중에는 와이퍼(W)가 움직이지 않도록 구성될 수 있다. 그 경우 제어부(190)는 침지 구동부(140)를 구동하여 용기부(130)를 하방으로 이동시킨 후, 와이퍼(W)를 이동시키게 되므로, 침지와 와이퍼(W)의 이동 작용이 번갈아 조금씩 진행되게 된다.
이상에서 설명한 바와 같이, 본 제1 실시예에 따른 스크린 마스크 청소 장치(100)는 침지 구동 시 용기부(130)를 상방으로 움직여 와이퍼(W)를 용기부(130) 내부의 용제(S)에 침지시킨다. 따라서 침지 작용에 의해 충분한 양의 용제(S)로 균일하게 와이퍼(W)를 적셔 청소를 수행할 수 있으므로, 스크린 마스크의 청소를 효과적으로 수행할 수 있게 된다.
또한, 본 제1 실시예에 따른 스크린 마스크 청소 장치(100)는, 스크린 마스크 청소 장치(100)의 상면에 개폐가 가능한 덮개부(160)가 설치되므로, 덮개부(160)에 의해 구동 중 사용자를 보호하면서도 제1, 2 권취부(110)(120)의 와이퍼(W)를 교체하는 작업을 수행하거나 내부 장치들의 유지 보수 작업을 수행할 때 작업의 편의성을 향상시킬 수 있다.
한편, 본 제1 실시예에서는 침지 구동 시 용기부(130)를 상방으로 움직여 와이퍼(W)를 용기부(130) 내부의 용제(S)에 침지시키는 구성을 설명하였지만, 본 발명은 이에 한정하지 않는다. 이하, 도 6 내지 도 9를 참조하여, 침지 구동 시 와이퍼(W)를 눌러 와이퍼(W)를 용기부(230) 내의 용제(S)에 침지시키는 제2 실시예를 설명한다.
도 6은 본 발명의 제2 실시예에 대한 스크린 마스크 청소 장치의 단면도로서 와이퍼 누름부가 상승한 상태를 도시한 도면이고, 도 7은 본 발명의 제2 실시예에 대한 스크린 마스크 청소 장치의 단면도로서 와이퍼 누름부가 하강한 상태를 도시한 도면이며, 도 8은 발명의 제2 실시예에 대한 스크린 마스크 청소 장치의 와이퍼 누름부와 누름부 구동 장치를 분리하여 도시한 개략적인 도면이며, 도 9는 도 8의 A 부분을 확대하여 도시한 개략적인 도면이다.
도 6 내지 도 9에 도시된 바와 같이, 본 제2 실시예의 스크린 마스크 청소 장치(200)는, 제1 권취부(210), 제2 권취부(220), 용기부(230), 침지 구동부(240), 와이퍼 지지부(250), 덮개부(260), 탱크부(270), 필터부(280), 제어부(미도시)를 포함한다.
본 제2 실시예에 따른 스크린 마스크 청소 장치(200)의 제1 권취부(210), 제2 권취부(220), 와이퍼 지지부(250), 덮개부(260), 탱크부(270), 필터부(280), 제어부(미도시)는, 전술한 제1 실시예에 따른 스크린 마스크 청소 장치(100)의 제1 권취부(110), 제2 권취부(120), 와이퍼 지지부(150), 덮개부(160), 탱크부(170), 필터부(180), 제어부(190)의 구성 및 작용과 대동소이하므로, 이하 제2 실시예에 따른 스크린 마스크 청소 장치(200)의 제1 권취부(210), 제2 권취부(220), 와이퍼 지지부(250), 덮개부(260), 탱크부(270), 필터부(280), 제어부(미도시)에 대한 자세한 설명은 생략한다.
본 제2 실시예의 스크린 마스크 청소 장치(200)의 용기부(230)는 그 위치가 고정되도록 배치되어 있다. 즉, 제1 실시예에 따른 용기부(130)는 침지 구동부(140)에 의해 상승 또는 하강이 가능하도록 설치되지만, 본 제2 실시예에 따른 용기부(230)는 그 위치가 고정된다.
용기부(230)의 내부에는 용제(S)가 배치되는데, 그 용제(S)에는 제1 권취부(210)에서 풀린 와이퍼(W)가 침지되게 된다. 용제(S)는 스크린 마스크의 하면에 부착된 솔더 페이스트 등을 녹일 수 있는 물질이면 제한 없이 적용될 수 있는데, 그 예로 이소프로필 알코올, 스텐실 클리너, 아세톤, 솔벤트, 시너 등이 사용될 수 있다.
용기부(230)는 홈통의 형상을 가지고 있는데, 그 길이는 와이퍼(W)의 폭보다 더 큰 길이를 가지고 있으므로, 와이퍼(W)는 그 폭 그대로 용기부(230)의 내부에 배치된 용제(S)에 침지될 수 있다.
한편, 침지 구동부(240)는 와이퍼(W)를 용기부(230) 내부에 배치된 용제(S)에 침지시킨다.
구체적으로, 본 제2 실시예에 따른 침지 구동부(240)는, 침지 구동 시 와이퍼(W)를 눌러 와이퍼(W)를 용기부(130) 내부의 용제(S)에 침지시키는 와이퍼 누름부(241)를 포함한다.
와이퍼 누름부(241)는 누름부 구동부(241a)와 누름부 작용부(241b)를 포함한다.
누름부 구동부(241a)는 제어부(290)의 제어 신호를 받아 구동되며, 누름부 작용부(241b)로 동력을 전달한다.
누름부 구동부(241a)는, 서보 모터, 직류 모터, 교류 모터 등의 전동 모터, 공압 또는 유압으로 구동되는 실린더, 미소 내연 기관 등 다양한 동력원과, 그러한 동력원으로부터 동력을 공급받아 누름부 작용부(241b)로 동력을 전달하는 피스톤, 이송 스크류, 랙-피니언 기구, 캠 기구 등의 다양한 장치로 제한 없이 구성될 수 있다.
누름부 작용부(241b)는 누름부 구동부(241a)로부터 동력을 전달받아 와이퍼(W)를 직접 누른다.
누름부 작용부(241b)의 작용 단부(241b_1)는 롤러 형상을 가지고 있으며, 누름부 작용부(241b)의 일단에 회동 가능하도록 설치된다. 즉, 작용 단부(241b_1)는 회동축(C)에 의해 회전이 가능한 구조로 설치되어 있으므로, 와이퍼(W)를 누르면서도 와이퍼(W)와의 접촉 저항을 줄여 와이퍼(W)의 이동을 용이하게 한다.
본 제1 실시예에 따르면, 누름부 작용부(241b)의 작용 단부(241b_1)는 회동 가능하도록 설치되지만, 본 발명은 이에 한정하지 않는다. 즉 본 발명에 따르면, 누름부 작용부(241b)의 작용 단부(241b_1)는 회동이 불가능하도록 설치될 수도 있다.
이하, 도 6 내지 도 9를 참조로 하여, 본 제2 실시예에 따른 스크린 마스크 청소 장치(200)가 작동되는 모습을 설명한다.
스크린 마스크 청소 장치(200)의 구동을 위해 덮개부(260)를 닫으면, 도 6에 도시된 것과 같이, 와이퍼(W)는 제1 권취부(210)로부터 용기부(230)의 상방 쪽 공간을 지나, 와이퍼 지지부(250)의 상면을 거쳐 제2 권취부(220)까지 배치된다.
이 때 용기부(230)에는 용제(S)가 배치되어 있는데, 제어부(290)는 미리 탱크부(270)로부터 용제(S)를 용기부(230)로 공급하여 침지 구동에 대비한다.
이어, 제어부(290)는 침지 구동을 수행한다. 침지 구동이 시작되면 제어부(290)는 침지 구동부(240)의 누름부 구동부(241a)와 누름부 작용부(241b)를 구동하여 와이퍼(W)를 하방으로 누른다. 누름부 작용부(241b)의 작용 단부(241b_1)가 하방으로 충분히 이동하게 되면, 도 7에 도시된 바와 같이, 와이퍼(W)는 작용 단부(241b_1)에 눌려 용기부(230) 내부의 용제(S)에 침지되게 됨으로써, 와이퍼(W)가 용제(S)에 적셔지게 된다.
와이퍼(W)가 용제(S)에 침지된 상태에서, 제어부(미도시)는 권취부 구동 장치(미도시)를 구동시켜 제1 권취부(210)와 제2 권취부(220)를 회전시켜, 용제(S)가 적셔진 와이퍼(W)를 이동시킨다. 그렇게 되면, 용제(S)가 적셔진 와이퍼(W)는 와이퍼 지지부(250)의 상면에 배치한다.
이어, 제어부(290)는 음압 고정부(251)를 구동시켜 와이퍼(W)를 음압으로 고정시키고, 지지부 승강 장치(252)를 작동시켜 와이퍼 지지부(250)를 상승시킴으로써, 와이퍼 지지부(250)의 상면에 지지되고 용제(S)가 적셔진 와이퍼(W)를 스크린 마스크의 하면과 접촉시켜 솔더 페이스트를 제거하는 청소 작업을 수행한다.
이후, 청소 작업이 종료된 와이퍼(W)는, 제2 권취부(220)로 이동되어 회수된다.
본 제2 실시예에 따르면, 용기부(230)의 용제(S)에 와이퍼(W)가 침지되는 공정 중에서도 와이퍼(W)가 움직일 수 있도록 구성되지만, 본 발명은 이에 한정하지 않는다. 즉, 본 발명에 따르면, 와이퍼(W)의 침지가 수행되는 공정 중에는 와이퍼(W)가 움직이지 않도록 구성될 수 있다. 그 경우 제어부(290)는 침지 구동부(240)를 구동하여 누름부 작용부(241b)를 상방으로 이동시킨 후, 와이퍼(W)를 이동시키게 되므로, 침지와 와이퍼(W)의 이동 작용이 번갈아 조금씩 진행되게 된다.
이상에서 설명한 바와 같이, 본 제2 실시예에 따른 스크린 마스크 청소 장치(200)는 침지 구동 시 와이퍼(W)를 눌러 와이퍼(W)를 용기부(130) 내부의 용제(S)에 침지시킨다. 따라서 침지 작용에 의해 충분한 양의 용제(S)로 균일하게 와이퍼(W)를 적셔 청소를 수행할 수 있으므로, 스크린 마스크의 청소를 효과적으로 수행할 수 있게 된다.
또한, 본 제2 실시예에 따른 스크린 마스크 청소 장치(200)는, 스크린 마스크 청소 장치(200)의 상면에 개폐가 가능한 덮개부(260)가 설치되므로, 덮개부(260)에 의해 구동 중 사용자를 보호하면서도 제1, 2 권취부(210)(220)의 와이퍼(W)를 교체하는 작업을 수행하거나 내부 장치들의 유지 보수 작업을 수행할 때 작업의 편의성을 향상시킬 수 있다.
이상과 같이 살펴본 구성, 작용 및 효과 외의 본 발명의 제2 실시예에 따른 스크린 마스크 청소 장치(200)의 구성, 작용 및 효과는, 상기 본 발명의 제1 실시예에 따른 관한 스크린 마스크 청소 장치(100)의 구성, 작용 및 효과와 동일하거나 매우 유사하므로, 본 설명에서는 생략하기로 한다.
본 발명은 첨부된 도면에 도시된 실시예들을 참고로 설명되었으나, 이는 예시적인 것에 불과하며, 당해 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다는 점을 이해할 수 있을 것이다. 따라서, 본 발명의 진정한 보호 범위는 첨부된 청구 범위에 의해서만 정해져야 할 것이다.
본 실시예에 따른 스크린 마스크 청소 장치는 스크린 마스크 청소 장치를 제조하거나 시험, 운용하는 산업에 사용될 수 있다.

Claims (9)

  1. 스크린 마스크의 청소 작업을 와이퍼로 수행하는 스크린 마스크 청소 장치에 있어서,
    상기 청소 작업 전의 와이퍼가 감기는 제1 권취부;
    상기 청소 작업 후의 와이퍼가 감기는 제2 권취부;
    상기 제1 권취부에서 풀린 와이퍼가 침지되는 용제가 배치되는 용기부;
    상기 와이퍼를 상기 용기부 내부에 배치된 용제에 침지시키는 침지 구동부; 및
    상기 침지되어 용제가 적셔진 와이퍼를 지지하는 와이퍼 지지부를 포함하는, 스크린 마스크 청소 장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 와이퍼 지지부에 지지되는 와이퍼를 노출시키는 개구부가 형성된 덮개부를 포함하는, 스크린 마스크 청소 장치.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 덮개부에는 적어도 하나의 에어 나이프가 설치된, 스크린 마스크 청소 장치.
  4. 제2항에 있어서,
    상기 덮개부는 상기 와이퍼의 상방으로의 움직임을 제한하는 와이퍼 지지대를 포함하는, 스크린 마스크 청소 장치.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 용기부는 상기 와이퍼의 폭보다 더 큰 길이를 가지는 홈통의 형상을 가지는, 스크린 마스크 청소 장치.
  6. 제1항에 있어서,
    상기 용기부와 연결되며 상기 용제를 저장하는 탱크부를 포함하는, 스크린 마스크 청소 장치.
  7. 제1항에 있어서,
    상기 용제의 이물질을 걸러 내기 위한 필터부를 포함하는, 스크린 마스크 청소 장치.
  8. 제1항에 있어서,
    상기 침지 구동부는, 침지 구동 시 상기 용기부를 상방으로 움직여 상기 와이퍼를 상기 용기부 내부의 용제에 침지시키는 용기부 구동부를 포함하는, 스크린 마스크 청소 장치.
  9. 제1항에 있어서,
    상기 침지 구동부는, 침지 구동 시 상기 와이퍼를 눌러 상기 와이퍼를 상기 용기부 내부의 용제에 침지시키는 와이퍼 누름부를 포함하는, 스크린 마스크 청소 장치.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN117261435A (zh) * 2023-11-22 2023-12-22 芯朋半导体科技(如东)有限公司 一种芯片印刷钢网擦拭装置

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3062659U (ja) * 1999-04-01 1999-10-08 ミナミ株式会社 スクリ―ン印刷機のスクリ―ンマスクのクリ―ニング装置
US6036787A (en) * 1998-07-13 2000-03-14 Dek Printing Machines, Ltd. Stencil cleaning apparatus
JP2010201797A (ja) * 2009-03-04 2010-09-16 Panasonic Corp スクリーン印刷装置およびスクリーン印刷方法
KR20110090395A (ko) * 2010-02-03 2011-08-10 삼성테크윈 주식회사 스크린 프린터용 스크린의 세척장치
JP2017001196A (ja) * 2015-06-05 2017-01-05 富士機械製造株式会社 スクリーン印刷機

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0362659U (ko) * 1989-10-14 1991-06-19
JPH08230172A (ja) * 1995-02-27 1996-09-10 Tani Denki Kogyo Kk スクリーン印刷におけるクリーニングの方法とスキージ装置

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6036787A (en) * 1998-07-13 2000-03-14 Dek Printing Machines, Ltd. Stencil cleaning apparatus
JP3062659U (ja) * 1999-04-01 1999-10-08 ミナミ株式会社 スクリ―ン印刷機のスクリ―ンマスクのクリ―ニング装置
JP2010201797A (ja) * 2009-03-04 2010-09-16 Panasonic Corp スクリーン印刷装置およびスクリーン印刷方法
KR20110090395A (ko) * 2010-02-03 2011-08-10 삼성테크윈 주식회사 스크린 프린터용 스크린의 세척장치
JP2017001196A (ja) * 2015-06-05 2017-01-05 富士機械製造株式会社 スクリーン印刷機

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN117261435A (zh) * 2023-11-22 2023-12-22 芯朋半导体科技(如东)有限公司 一种芯片印刷钢网擦拭装置
CN117261435B (zh) * 2023-11-22 2024-01-30 芯朋半导体科技(如东)有限公司 一种芯片印刷钢网擦拭装置

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