WO2022149603A1 - 熱硬化性樹脂組成物の製造方法及び電子部品装置の製造方法 - Google Patents

熱硬化性樹脂組成物の製造方法及び電子部品装置の製造方法 Download PDF

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WO2022149603A1
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thermosetting resin
resin composition
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solvent
temperature
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岳博 中村
昌勲 洪
東哲 姜
克至 平嶋
博 野澤
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昭和電工マテリアルズ株式会社
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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29BPREPARATION OR PRETREATMENT OF THE MATERIAL TO BE SHAPED; MAKING GRANULES OR PREFORMS; RECOVERY OF PLASTICS OR OTHER CONSTITUENTS OF WASTE MATERIAL CONTAINING PLASTICS
    • B29B7/00Mixing; Kneading
    • B29B7/80Component parts, details or accessories; Auxiliary operations
    • B29B7/88Adding charges, i.e. additives
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K3/00Use of inorganic substances as compounding ingredients
    • C08K3/01Use of inorganic substances as compounding ingredients characterized by their specific function
    • C08K3/013Fillers, pigments or reinforcing additives
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L101/00Compositions of unspecified macromolecular compounds
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L63/00Compositions of epoxy resins; Compositions of derivatives of epoxy resins
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/28Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection
    • H01L23/29Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the material, e.g. carbon
    • HELECTRICITY
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    • H01L23/29Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the material, e.g. carbon
    • H01L23/293Organic, e.g. plastic
    • H01L23/295Organic, e.g. plastic containing a filler
    • HELECTRICITY
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    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/28Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection
    • H01L23/31Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape

Definitions

  • the present disclosure relates to a method for manufacturing a thermosetting resin composition and a method for manufacturing an electronic component device.
  • thermosetting resin composition containing a thermosetting resin, a curing agent and an inorganic filler is widely used from the viewpoint of productivity, cost and the like.
  • the bump-chip distance in the CSP or the distance between the elements in the SiP is becoming narrower. Therefore, the diameter of the cut point of the inorganic filler is being reduced.
  • the specific surface area of the inorganic filler increases, making uniform dispersion difficult, and as a result, increasing the filling of the inorganic filler has become an issue.
  • thermosetting resin composition As an example of a method for producing a thermosetting resin composition, all the raw materials including an epoxy resin, a curing agent and an inorganic filler are mixed with a solvent and dissolved to obtain a mixed solution, and then the solvent is removed.
  • a method for producing an epoxy resin molding material for encapsulating a semiconductor is disclosed (see, for example, Patent Documents 1 and 2).
  • Patent Document 1 or 2 puts the raw material in a mixed solution state in order to remove metallic foreign substances in the epoxy resin molding material for semiconductor encapsulation.
  • it is difficult to apply a strong shearing force to the mixed solution, and it may be difficult to uniformly disperse the inorganic filler having a low cut point.
  • One aspect of the present disclosure has been made in view of the above-mentioned conventional circumstances, and is a method for producing a thermosetting resin composition capable of highly filling an inorganic filler, and a thermosetting obtained by this production method. It is an object of the present invention to provide a method for manufacturing an electronic component device using a sex resin composition.
  • thermosetting resin composition having.
  • the solvent is removed from the third mixture containing one of the thermosetting resin and the curing agent, the slurry containing the inorganic filler and the solvent, at the second solvent removal temperature, and then the thermocurable.
  • a second solvent removal from a third mixture comprising the resin and the other of the curing agents, or a slurry containing one of the thermocurable resin and the curing agent, the inorganic filler and the solvent.
  • a method for producing a thermosetting resin composition having. ⁇ 3> The temperature according to ⁇ 1>, wherein the first kneading temperature is equal to or lower than a temperature at which the reaction rate measured by differential scanning calorimetry for the second mixture to which the curing accelerator is added becomes 40%.
  • thermosetting resin composition The temperature according to ⁇ 2>, wherein the second kneading temperature is equal to or lower than a temperature at which the reaction rate measured by differential scanning calorimetry for the fourth mixture to which the curing accelerator is added becomes 40%.
  • a method for producing a thermosetting resin composition ⁇ 5> The method for producing a thermosetting resin composition according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 4>, wherein the solvent removal step and the kneading step are continuously performed.
  • ⁇ 6> The method for producing a thermosetting resin composition according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 4>, wherein the solvent removal step is performed in a batch manner.
  • ⁇ 8> The method for producing a thermosetting resin composition according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 7>, wherein the slurry further contains a coupling agent.
  • ⁇ 9> The method for producing a thermosetting resin composition according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 8>, wherein the top cut diameter of the inorganic filler is 10 ⁇ m or less.
  • thermosetting resin composition according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 9>, wherein the solvent has a boiling point of 50 ° C to 200 ° C.
  • Manufacturing method. ⁇ 13> An electronic component apparatus having a step of sealing an element with a thermosetting resin composition obtained by the method for producing a thermosetting resin composition according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 12>. Production method.
  • thermosetting resin composition capable of highly filling an inorganic filler, and an electronic component device using the thermosetting resin composition obtained by this production method. Production method can be provided.
  • the term "process” includes, in addition to a process independent of other processes, the process as long as the purpose of the process is achieved even if it cannot be clearly distinguished from the other process. ..
  • the numerical range indicated by using "-" includes the numerical values before and after "-" as the minimum value and the maximum value, respectively.
  • the upper limit value or the lower limit value described in one numerical range may be replaced with the upper limit value or the lower limit value of the numerical range described in another stepwise description. ..
  • the upper limit value or the lower limit value of the numerical range may be replaced with the value shown in the examples.
  • each component may contain a plurality of applicable substances.
  • the content or content of each component is the total content or content of the plurality of substances present in the composition unless otherwise specified.
  • the particles corresponding to each component may contain a plurality of types of particles.
  • the particle size of each component means a value for a mixture of the plurality of particles present in the composition, unless otherwise specified.
  • solid content means the remaining components of a mixture, slurry or thermosetting resin composition excluding volatile components such as solvents.
  • thermosetting resin composition ⁇ Manufacturing method of thermosetting resin composition>
  • the method for producing a thermosetting resin composition according to the first embodiment of the present disclosure is first from a first mixture containing a thermosetting resin, a curing agent, and a slurry containing an inorganic filler and a solvent.
  • the solvent removal step of removing the solvent at the solvent removal temperature of the above to obtain a second mixture, and the first step of adding a curing accelerator to the second mixture to be lower than the first solvent removal temperature. It has a kneading step of kneading the second mixture to which the curing accelerator is added at a kneading temperature.
  • the method for producing a thermosetting resin composition according to the second embodiment of the present disclosure is a third mixture containing one of a thermosetting resin and a curing agent, and a slurry containing an inorganic filler and a solvent. From the second solvent removal temperature, the solvent is removed and then one of the thermosetting resin and the curing agent is added, or one of the thermosetting resin and the curing agent, the inorganic filler and the solvent. From the slurry containing and the third mixture containing, the thermosetting resin and the other one of the curing agent are added while removing the solvent at the second desolving temperature to obtain a fourth mixture.
  • the curing accelerator is added to the fourth mixture, and the fourth mixture to which the curing accelerator is added is kneaded at a second kneading temperature lower than the second solvent removal temperature. It has a kneading process.
  • the method for producing a thermosetting resin composition according to the first embodiment and the method for producing a thermosetting resin composition according to the second embodiment may be collectively referred to as the production method of the present disclosure.
  • the method for producing a thermosetting resin composition according to the first embodiment is referred to as a first production method
  • the method for producing a thermosetting resin composition according to a second embodiment is referred to as a second production method. There is.
  • first solvent removal temperature and the second solvent removal temperature may be collectively referred to as a specific solvent removal temperature
  • first kneading temperature and the second kneading temperature may be collectively referred to as a specific kneading temperature
  • the manufacturing method of the present disclosure it is possible to increase the filling of the inorganic filler.
  • the solvent contained in the first or third mixture acts as a dispersion medium to reduce the viscosity of the first or third mixture, when preparing the first or third mixture or in the first or third mixture.
  • the generation of shear heat when removing the solvent from the mixture of the above while stirring at a specific solvent removal temperature is suppressed.
  • Shear heat may be generated and gelation of the thermosetting resin composition may occur. Since a solvent is used in obtaining the first or third mixture in the production method of the present disclosure, the temperature rise of the first or third mixture is suppressed as compared with the conventional production method in which no solvent is used, and the mixture is removed. Sufficient shearing force can be imparted to the first or third mixture without worrying about gelation of the thermosetting resin composition in the solvent step. By applying a sufficient shearing force to the first or third mixture, the inorganic filler in the thermosetting resin composition is easily dispersed uniformly.
  • the viscosity of the first or third mixture can be further reduced in the desolvation step, so that the stirring of the first or third mixture can be performed.
  • This facilitates the more uniform dispersion of the inorganic filler in the thermosetting resin composition.
  • the specific kneading temperature to be lower than the specific desolving temperature, it is possible to suppress the progress of the curing reaction between the thermosetting resin and the curing agent by the curing accelerator in the kneading step, and the thermosetting resin composition Concerns about gelling are reduced. From the above, it is presumed that the dispersibility of the inorganic filler is further improved, and as a result, the inorganic filler can be highly filled in the thermosetting resin composition.
  • the "kneading temperature” refers to the temperature of the heated part of the kneading device when the mixture is kneaded by the kneading device.
  • the “solvent removal temperature” refers to the temperature of the heating part of the device for heating the mixture, which is used when removing the solvent from the mixture.
  • the solvent removal temperature when the solvent removal step is performed in a batch manner using a vacuum dryer, the temperature of the heating part of the container containing the mixture is defined as the solvent removal temperature.
  • the solvent removing step is performed using the kneading device, the temperature of the heating part of the kneading device is defined as the solvent removing temperature.
  • both “mixing” and “kneading” mean mixing the mixture.
  • Mixing powders or materials with relatively low viscosity such as powder and solvent without shearing is called “mixing”
  • the content of molten resin or relatively low solvent is low and the viscosity is high.
  • Performing shearing in a state to disperse and mix at the same time is called “kneading”.
  • the value of the solvent content in the mixture for distinguishing between "mixing” and “kneading” is not a strict value defined as a specific numerical value.
  • a first mixture containing a thermosetting resin, a curing agent, and a slurry containing an inorganic filler and a solvent is used.
  • the first mixture may contain other components such as a stress relaxant, an ion exchanger and the like, if necessary.
  • the first mixture is a stirrer containing a slurry containing a thermosetting resin, a curing agent, an inorganic filler and a solvent, and other components such as a stress relieving agent and an ion exchanger used as necessary.
  • a mixer such as a planetary mixer, an ultrasonic disperser, a wet disperser such as a jet mill, or the like.
  • the mixing conditions for preparing the first mixture are appropriately set according to the types of components contained in the first mixture, the ratio of the components, and the like.
  • a mixture containing a thermosetting resin, a slurry containing an inorganic filler and a solvent, and a slurry containing a curing agent and an inorganic filler and a solvent are prepared.
  • a composite mixture obtained by mixing the containing mixture and the mixture may be used as the first mixture.
  • a mixture containing a thermosetting resin, a slurry containing an inorganic filler and a solvent, a mixture containing a curing agent and a slurry containing an inorganic filler and a solvent, and a composite mixture are the first mixture. Obtained in the same way as.
  • a third mixture containing one of a thermosetting resin and a curing agent and a slurry containing an inorganic filler and a solvent is used.
  • the third mixture may contain other components such as a stress relaxant and an ion exchanger, if necessary. Further, the third mixture may contain the other one of the thermosetting resin and the curing agent.
  • the third mixture contains the other one of the thermosetting resin and the curing agent, one of the thermosetting resin or the curing agent contained in the thermosetting resin composition produced by the second production method. Parts are added to the third mixture.
  • the third mixture is obtained in the same manner as the first mixture.
  • the solid content ratio of the first or third mixture is preferably 30% by mass to 90% by mass, more preferably 40% by mass to 85% by mass, from the viewpoint of liquid transportability in the solvent removal step. , 50% by mass to 80% by mass, more preferably.
  • the solvent is removed from the first mixture at the first solvent removal temperature to obtain a second mixture.
  • the solvent may be removed while mixing the first mixture.
  • the method for removing the solvent from the first mixture is not particularly limited, and the method for heating the first mixture, the method for placing the first mixture in a reduced pressure environment, and the method for placing the first mixture in a reduced pressure environment are applied. A method of heating while heating can be mentioned. If the first mixture is placed in a reduced pressure environment, a known vacuum dryer may be used. At that time, the first mixture may be stirred. When removing the solvent while mixing the first mixture, a known kneading device may be used.
  • Examples of the kneading device include a single-screw kneader, a double-screw kneader, a screw-type kneader such as a multi-screw kneader with three or more shafts, and a roll mill such as a two-roll mill and a three-roll mill.
  • the stirring blade included in the screw type kneader may be supported by the root and the tip, or may be supported only by the root. From the viewpoint of improving the mixing property and productivity, it is preferable that the stirring blade is supported only at the root.
  • a screw type kneader which is an example of a closed-type kneader capable of removing a solvent by depressurization, is preferable, and a twin-screw kneader is more preferable from the viewpoint of easily controlling the shearing force.
  • a screw type kneader as the kneading device. ..
  • a solvent is prepared from a third mixture containing one of a thermosetting resin and a curing agent and a slurry containing an inorganic filler and a solvent at a second solvent removal temperature. And then add the other one of the thermosetting resin and the curing agent, or from a third mixture containing one of the thermosetting resin and the curing agent and a slurry containing an inorganic filler and a solvent. , The thermosetting resin and the other one of the curing agent are added while removing the solvent at the second solvent removal temperature to obtain a fourth mixture.
  • the method for obtaining the fourth mixture is not particularly limited, and the fourth mixture may be obtained by the same method as in the case of the first production method.
  • a vacuum dryer may be used to remove the solvent from the third mixture at the second solvent removal temperature.
  • a screw type kneader may be used when adding the other one of the thermosetting resin and the curing agent while removing the solvent from the third mixture at the second solvent removal temperature. It is preferable to use a screw type kneader from the viewpoint that the operation of adding the other one of the thermosetting resin and the curing agent to the third mixture can be easily performed.
  • the solvent removal step in the second production method is carried out using a screw type kneader, the thermosetting resin and the other one of the curing agent may be added to the third mixture by side feed.
  • the specific desolving temperature is not particularly limited, and is preferably a temperature higher than the melting point or softening point of the thermosetting resin from the viewpoint of suppressing uneven distribution of the thermosetting resin.
  • the specific desolving temperature is preferably a temperature higher than the melting point or softening point of the thermosetting resin having the highest melting point or softening point.
  • the specific desolving temperature is 1 ° C to 90 ° C higher than the melting point or softening point of a thermosetting resin (a thermosetting resin having the highest melting point or softening point when a plurality of types of thermosetting resins are used in combination).
  • the temperature is preferably 1 ° C to 70 ° C higher, more preferably 1 ° C to 60 ° C higher, and even more preferably 1 ° C to 60 ° C higher.
  • the specific solvent removal temperature is preferably 30 ° C to 200 ° C, more preferably 50 ° C to 180 ° C, still more preferably 80 ° C to 160 ° C.
  • the pressure in the screw type kneader is preferably 0.001 MPa to 0.08 MPa, more preferably 0.003 MPa to 0.06 MPa, and 0. It is more preferably 005 MPa to 0.05 MPa.
  • a curing accelerator is added to the second or fourth mixture obtained in the solvent removal step, and the curing accelerator is added at a specific kneading temperature lower than the specific solvent removal temperature.
  • the fourth mixture is kneaded to obtain a kneaded product.
  • the temperature of the second or fourth mixture when the curing accelerator is added to the second or fourth mixture is higher than the specific solvent removal temperature from the viewpoint of suppressing the progress of the curing reaction between the thermosetting resin and the curing agent. Is also preferably low.
  • the specific kneading temperature is not particularly limited as long as it is lower than the specific desolvent temperature.
  • the specific kneading temperature is the specific kneading temperature calculated based on the differential scanning calorimetry of the second or fourth mixture to which the curing accelerator is added from the viewpoint of suppressing the gelation of the kneaded product in the kneading step.
  • the reaction rate is preferably set to be small, the reaction rate is preferably 40% or less, more preferably 30% or less, and 20% or less. It is more preferable to have.
  • the reaction rate at a predetermined temperature can be measured by the following method.
  • the DSC chart is measured under the condition of a heating rate of 10 ° C./min from 50 ° C. Next, the area from the rising temperature of the exothermic peak observed on the obtained DSC chart to the temperature set as the predetermined temperature and the total exothermic area of the exothermic peak are calculated. The area from the rising temperature of the exothermic peak to the predetermined temperature is divided by the total exothermic area and multiplied by 100 to obtain the reaction rate at the predetermined temperature.
  • the specific kneading temperature is preferably 1 ° C. to 100 ° C. lower than the specific desolvent temperature, more preferably 10 ° C. to 90 ° C., and even more preferably 20 ° C. to 85 ° C. In some embodiments, the specific kneading temperature is preferably 50 ° C. to 150 ° C., more preferably 60 ° C. to 140 ° C., and even more preferably 70 ° C. to 120 ° C.
  • the method of adding the curing accelerator to the second or fourth mixture is not particularly limited.
  • a screw type kneader is used as the kneading device, the first or third mixture is kneaded at a specific desolvent temperature to obtain a second or fourth mixture, and then the second or fourth mixture is obtained by side feeding.
  • a method of adding a curing accelerator is preferable.
  • the curing accelerator may be added directly to the second or fourth mixture, or the curing accelerator may be added to the curing agent, inorganic filler, etc. May be mixed with to prepare a masterbatch and the masterbatch may be added to the second or fourth mixture. It is preferable to add the masterbatch to the second or fourth mixture in order to improve the accuracy of the amount of the curing accelerator added.
  • the ratio of the masterbatch to the thermosetting resin composition obtained as the kneaded product in the kneading step is 50% by mass or less.
  • the ratio of the masterbatch to the thermosetting resin composition obtained as a kneaded product is preferably less than 50% by mass, more preferably less than 30% by mass, still more preferably less than 25% by mass. If it is 50% by mass or less, the mixing property after adding the masterbatch to the second or fourth mixture tends to be improved.
  • the ratio of the masterbatch may be 5% by mass or more.
  • thermosetting resin composition obtained as a kneaded product may be cooled and pulverized to obtain a powdery thermosetting resin composition. Further, the thermosetting resin composition obtained by kneading may be formed into granules, tablets, pellets or granules (cylindrical granules or the like).
  • the method for pulverizing or molding the thermosetting resin composition is not particularly limited, and conventionally known methods can be used.
  • the solvent removal step and the kneading step may be continuously performed. Further, in the manufacturing method of the present disclosure, the solvent removal step may be performed in a batch manner.
  • the solvent removing step and the kneading step are continuously performed, it is preferable to use a screw type kneader for carrying out the solvent removing step and the kneading step.
  • the solvent removing step and the kneading step can be continuously performed by carrying out the kneading step after the solvent removing step.
  • thermosetting resin composition may be obtained by adding an accelerator and kneading with a screw type kneader.
  • the method of adding the curing accelerator to the second or fourth mixture is not particularly limited, and a mixture of the second or fourth mixture and the curing accelerator is kneaded with a screw type kneader.
  • a curing accelerator may be added to the second or fourth mixture by side feed.
  • thermosetting resin composition produced by the production method of the present disclosure contains a thermosetting resin.
  • the type of the thermosetting resin is not particularly limited, and examples thereof include epoxy resin, phenol resin, urea resin, thiol resin, melamine resin, urethane resin, silicone resin, maleimide resin, and unsaturated polyester resin.
  • those exhibiting both thermoplastic and thermosetting properties, such as acrylic resins containing epoxy groups are included in "thermosetting resins”.
  • the thermosetting resin may be a solid or a liquid under normal temperature and pressure (for example, 25 ° C. and atmospheric pressure), and is preferably a solid.
  • the thermosetting resin may be used alone or in combination of two or more.
  • the thermosetting resin preferably contains an epoxy resin.
  • the type of epoxy resin is not particularly limited as long as it has two or more epoxy groups in one molecule.
  • at least one phenol selected from the group consisting of phenol compounds such as phenol, cresol, xylenol, resorcin, catechol, bisphenol A, and bisphenol F and naphthol compounds such as ⁇ -naphthol, ⁇ -naphthol, and dihydroxynaphthalene.
  • a novolak type epoxy resin (phenol novolak type epoxy resin, which is an epoxidation of a novolak resin obtained by condensing or cocondensing a sex compound and an aliphatic aldehyde compound such as formaldehyde, acetaldehyde, propionaldehyde, etc. under an acidic catalyst.
  • Orthocresol novolak type epoxy resin, etc.) A epoxidized triphenylmethane type phenol resin obtained by condensing or cocondensing the above phenolic compound with an aromatic aldehyde compound such as benzaldehyde or salicylaldehyde under an acidic catalyst.
  • Triphenylmethane type epoxide resin a copolymerized epoxy resin obtained by epoxidizing a novolak resin obtained by cocondensing the above phenol compound and naphthol compound with an aldehyde compound under an acidic catalyst; bisphenol A, bisphenol.
  • Diphenylmethane type epoxy resin which is a diglycidyl ether such as F; biphenyl type epoxy resin which is an alkyl-substituted or unsubstituted biphenol diglycidyl ether; stillben type epoxy resin which is a diglycidyl ether of a stillben-based phenol compound; bisphenol S and the like.
  • Sulfur atom-containing epoxy resin that is a diglycidyl ether epoxy resin that is a glycidyl ether of alcohols such as butanediol, polyethylene glycol, and polypropylene glycol; glycidyl of a polyvalent carboxylic acid compound such as phthalic acid, isophthalic acid, and tetrahydrophthalic acid.
  • Glysidyl ester type epoxy resin that is an ester
  • Glysidylamine type epoxy resin in which active hydrogen bonded to a nitrogen atom such as aniline, diaminodiphenylmethane, or isocyanuric acid is replaced with a glycidyl group
  • a cocondensation resin of dicyclopentadiene and a phenol compound is an ester
  • Dicyclopentadiene-type epoxy resin which is an epoxide of (3,4-epoxide) Cyclohexyl-5,5-spiro (3,4-epoxide) 4-Epoxy) Alicyclic epoxy resin such as cyclohexane-m-dioxane; paraxylylene-modified epoxy resin which is a glycidyl ether of paraxylylene-modified phenol resin; metaxylylene-modified epoxy resin which is a glycidyl ether of metaxylylene-modified phenol resin; terpene-modified phenol resin Terpen-modified epoxy resin that is a glycidyl ether; Dicyclopentadiene-modified epoxy resin that is a glycidyl ether of a dicyclopentadiene-modified phenol resin; Cyclopentadiene-modified epoxy resin that is a glycidyl ether of a cyclopentad
  • epoxy resins from the viewpoint of the balance between heat resistance and fluidity, biphenyl type epoxy resin, stylben type epoxy resin, diphenylmethane type epoxy resin, sulfur atom-containing epoxy resin, novolak type epoxy resin, dicyclopentadiene type epoxy resin.
  • Epoxy resins selected from the group consisting of triphenylmethane type epoxy resins, copolymerized epoxy resins and aralkyl type epoxy resins are preferable.
  • the specific epoxy resin may be used alone or in combination of two or more.
  • the content thereof is preferably 30% by mass or more, more preferably 50% by mass or more, from the viewpoint of exhibiting the performance of the specific epoxy resin. ..
  • biphenyl type epoxy resin, stillben type epoxy resin, diphenylmethane type epoxy resin or sulfur atom-containing epoxy resin are more preferable from the viewpoint of fluidity, and dicyclopentadiene type epoxy from the viewpoint of heat resistance.
  • a resin, a triphenylmethane type epoxy resin or an aralkyl type epoxy resin is preferable.
  • preferable epoxy resins will be shown.
  • the biphenyl type epoxy resin is not particularly limited as long as it is an epoxy resin having a biphenyl skeleton.
  • an epoxy resin represented by the following general formula (II) is preferable.
  • the 3,3', 5,5'positions of R8 where the oxygen atom is substituted are the methyl groups at the 4 and 4'positions.
  • R 8s are hydrogen atoms YX-4000H (Mitsubishi Chemical Co., Ltd., trade name), all R 8s are hydrogen atoms 4,4'-bis (2,3-epoxypropoxy) biphenyl, When all R 8s are hydrogen atoms and when the positions of R 8 where oxygen atoms are substituted are the 4 and 4'positions, the 3, 3', 5, 5'positions are methyl groups and the other Rs.
  • YL-6121H Mitsubishi Chemical Co., Ltd., trade name
  • which is a mixed product when 8 is a hydrogen atom is available as a commercially available product.
  • R 8 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms or an aromatic group having 4 to 18 carbon atoms, all of which may be the same or different.
  • n is an average value and indicates a number from 0 to 10.
  • the stilbene type epoxy resin is not particularly limited as long as it is an epoxy resin having a stilbene skeleton.
  • an epoxy resin represented by the following general formula (III) is preferable.
  • the 3,3', 5,5'positions of R9 where the oxygen atom is substituted are the methyl groups at the 4 and 4'positions.
  • the other cases where R 9 is a hydrogen atom and all of R 10 are hydrogen atoms, and three of the 3, 3', 5, and 5'positions of R 9 are methyl groups.
  • R 9 and R 10 represent hydrogen atoms or monovalent organic groups having 1 to 18 carbon atoms, all of which may be the same or different.
  • n is an average value and indicates a number from 0 to 10.
  • the diphenylmethane type epoxy resin is not particularly limited as long as it is an epoxy resin having a diphenylmethane skeleton.
  • an epoxy resin represented by the following general formula (IV) is preferable.
  • all of R 11 are hydrogen atoms, and the positions of R 12 where the oxygen atom is substituted are set to the 4 and 4'positions 3,3.
  • YSLV-80XY Nittetsu Chemical & Materials Co., Ltd., trade name
  • the like in which the', 5, 5'position is a methyl group and the other R 12 is a hydrogen atom is available as a commercially available product.
  • R 11 and R 12 represent hydrogen atoms or monovalent organic groups having 1 to 18 carbon atoms, all of which may be the same or different.
  • n is an average value and indicates a number from 0 to 10.
  • the sulfur atom-containing epoxy resin is not particularly limited as long as it is an epoxy resin containing a sulfur atom.
  • an epoxy resin represented by the following general formula (V) can be mentioned.
  • the 3,3'position of R13 when the position where the oxygen atom is substituted is the 4th and 4'positions is the t-butyl group.
  • YSLV-120TE Nitetsu Chemical & Materials Co., Ltd., trade name
  • the 6 and 6'positions are methyl groups and the other R13 is a hydrogen atom, is available as a commercially available product.
  • R 13 represents a hydrogen atom or a monovalent organic group having 1 to 18 carbon atoms, all of which may be the same or different.
  • n is an average value and indicates a number from 0 to 10.
  • the novolak type epoxy resin is not particularly limited as long as it is an epoxy resin obtained by epoxidizing a novolak type phenol resin.
  • an epoxy resin obtained by epoxidizing a novolak-type phenol resin such as a phenol novolak resin, a cresol novolak resin, or a naphthol novolak resin by a method such as glycidyl etherification is preferable, and an epoxy represented by the following general formula (VI) is preferable. Resin is more preferred.
  • a benzyl group-modified cresol novolak type epoxy resin having the above is available as a commercially available product.
  • R 14 represents a hydrogen atom or a monovalent organic group having 1 to 18 carbon atoms, all of which may be the same or different.
  • R 15 represents a monovalent organic group having 1 to 18 carbon atoms, all of which may be the same or different.
  • i independently represents an integer of 0 to 3.
  • n is an average value and indicates a number from 0 to 10.
  • the dicyclopentadiene type epoxy resin is not particularly limited as long as it is an epoxy resin obtained by epoxidizing a compound having a dicyclopentadiene skeleton as a raw material.
  • an epoxy resin represented by the following general formula (VII) is preferable.
  • R 16 represents a monovalent organic group having 1 to 18 carbon atoms, all of which may be the same or different.
  • i independently represents an integer of 0 to 3.
  • n is an average value and indicates a number from 0 to 10.
  • the triphenylmethane type epoxy resin is not particularly limited as long as it is an epoxy resin made from a compound having a triphenylmethane skeleton.
  • an epoxy resin obtained by glycidyl etherifying a triphenylmethane-type phenol resin obtained from an aromatic aldehyde compound and a phenolic compound is preferable, and an epoxy resin represented by the following general formula (VIII) is more preferable.
  • the epoxy resins represented by the following general formula (VIII) 1032H60 (Mitsubishi Chemical Corporation, trade name) and EPPN-502H (Nippon Kayaku Co., Ltd., trade name) in which i is 0 and k is 0. Etc. are available as commercial products.
  • R 17 and R 18 represent monovalent organic groups having 1 to 18 carbon atoms, all of which may be the same or different.
  • i indicates an integer of 0 to 3 independently
  • k indicates an integer of 0 to 4 independently.
  • n is an average value and indicates a number from 0 to 10.
  • the copolymerized epoxy resin obtained by epoxidizing a novolak resin obtained from a naphthol compound and a phenol compound and an aldehyde compound is not particularly limited as long as it is an epoxy resin made from a compound having a naphthol skeleton and a compound having a phenol skeleton. ..
  • an epoxy resin obtained by glycidyl etherifying a novolak-type phenol resin using a compound having a naphthol skeleton and a compound having a phenol skeleton is preferable, and an epoxy resin represented by the following general formula (IX) is more preferable.
  • R 19 to R 21 represent monovalent organic groups having 1 to 18 carbon atoms, all of which may be the same or different.
  • i is an integer of 0 to 3 independently
  • j is an integer of 0 to 2 independently
  • k is an integer of 0 to 4 independently.
  • l and m are average values, respectively, and are numbers from 0 to 10, and (l + m) indicate numbers from 0 to 10.
  • the end of the epoxy resin represented by the formula (IX) is either one of the following formulas (IX-1) or (IX-2).
  • R 19 to R 21 , i, j and k are the same as the definitions of R 19 to R 21 , i, j and k in formula (IX). .. n is 1 (when bonded via a methylene group) or 0 (when not bonded via a methylene group).
  • the epoxy resin represented by the above general formula (IX) includes a random copolymer randomly containing l structural units and m structural units, an alternating copolymer containing alternately, and a copolymer containing regularly.
  • n and m are average values and are numbers from 0 to 10
  • n + m are numbers from 0 to 10
  • n and m are average values and 1 to 9 respectively.
  • N + m is a number of 2 to 10.
  • the aralkyl type epoxy resin is composed of at least one selected from the group consisting of phenol compounds such as phenol and cresol and naphthol compounds such as naphthol and dimethylnaphthol, and dimethoxyparaxylene, bis (methoxymethyl) biphenyl or derivatives thereof.
  • the epoxy resin is not particularly limited as long as it is an epoxy resin made from a synthesized phenol resin.
  • the epoxy resin obtained by glycidyl etherification is preferable, and the epoxy resin represented by the following general formulas (X) and (XI) is more preferable.
  • epoxy resins represented by the following general formula (X) i is 0, R 38 is a hydrogen atom NC-3000S (Nippon Kayaku Co., Ltd., trade name), i is 0, and R 38 .
  • CER-3000 Nippon Kayaku Co., Ltd., trade name
  • CER-3000 which is a mixture of an epoxy resin in which is a hydrogen atom and an epoxy resin in which all R8s of the general formula (II) are hydrogen atoms at a mass ratio of 80:20, is commercially available. It is available as an item.
  • epoxy resins represented by the following general formula (XI) ESN-175 (Nittetsu Chemical & Materials Co., Ltd., trade name) in which l is 0, j is 0, and k is 0, etc. Is available as a commercial product.
  • R 38 represents a hydrogen atom or a monovalent organic group having 1 to 18 carbon atoms, all of which may be the same or different.
  • R 37 and R 39 to R 41 represent monovalent organic groups having 1 to 18 carbon atoms, and all of them may be the same or different.
  • i is an integer of 0 to 3 independently
  • j is an integer of 0 to 2 independently
  • k is an integer of 0 to 4 independently
  • l is an integer of 0 to 4 independently.
  • n is an average value, and each is independently a number from 0 to 10.
  • R8 to R21 and R37 to R41 in the general formulas ( II) to (XI) “all may be the same or different” means, for example, 8 to 8 in the formula (II). It means that all 88 R8s may be the same or different. It also means that the other R 9 to R 21 and R 37 to R 41 may all be the same or different for each number included in the equation. Further, R 8 to R 21 and R 37 to R 41 may be the same or different from each other. For example, all of R 9 and R 10 may be the same or different. Further, the monovalent organic group having 1 to 18 carbon atoms in the general formulas (III) to (XI) is preferably an alkyl group or an aryl group.
  • N in the above general formulas (II) to (XI) is an average value, and it is preferable that each is independently in the range of 0 to 10.
  • n is 10 or less, the melt viscosity of the resin component does not become too high, the viscosity of the thermosetting resin composition at the time of melt molding decreases, filling failure, and bonding wire (gold wire connecting the element and the lead). The occurrence of deformation and the like tends to be suppressed. It is more preferable that n is set in the range of 0 to 4.
  • thermosetting resin composition The specific examples of the preferable epoxy resin that can be used in the thermosetting resin composition have been described above according to the above general formulas (II) to (XI), but as a more specific preferable epoxy resin, from the viewpoint of heat resistance. , 4,4'-bis (2,3-epoxypropoxy) -3,3', 5,5'-tetramethylbiphenyl, and from the viewpoint of moldability and heat resistance, 4,4'-bis (2,3-Epoxy propoxy) -biphenyl can be mentioned.
  • the epoxy equivalent of the epoxy resin is not particularly limited. From the viewpoint of balancing various characteristics such as moldability, heat resistance, and electrical reliability, the epoxy equivalent of the epoxy resin is preferably 60 g / eq to 1000 g / eq, and is preferably 80 g / eq to 500 g / eq. Is more preferable.
  • the epoxy resin may be liquid or solid.
  • the softening point or melting point of the epoxy resin is not particularly limited. From the viewpoint of moldability and heat resistance, the temperature is preferably 40 ° C. to 180 ° C., and from the viewpoint of handleability when preparing the thermosetting resin composition, the temperature is more preferably 50 ° C. to 130 ° C.
  • the softening point refers to a value measured by the ring ball method of JIS K 7234: 1986.
  • the melting point refers to a value measured according to the visual method of JIS K 0064: 1992.
  • the content of the epoxy resin in the thermosetting resin composition is preferably 0.5% by mass to 60% by mass, preferably 2% by mass to 50% by mass, from the viewpoints of strength, fluidity, heat resistance, moldability and the like. % Is more preferable.
  • the thermosetting resin composition produced by the production method of the present disclosure contains a curing agent.
  • the type of the curing agent is not particularly limited, and is not particularly limited as long as it is a compound that causes a curing reaction with the thermosetting resin used in combination.
  • a phenol-based curing agent, an amine-based curing agent, an acid anhydride-based curing agent, a polypeptide-based curing agent, a polyaminoamide-based curing agent, an isocyanate-based curing agent, and a blocked isocyanate-based curing agent are used as the curing agent used in combination with the epoxy resin.
  • a phenol-based curing agent, an amine-based curing agent, an acid anhydride-based curing agent, a polypeptide-based curing agent, a polyaminoamide-based curing agent, an isocyanate-based curing agent, and a blocked isocyanate-based curing agent are used as the curing agent used in combination with the epoxy resin.
  • the curing agent may be a solid or a liquid under normal temperature and pressure (for example, 25 ° C. and atmospheric pressure), and is preferably a solid.
  • the thermosetting resin is an epoxy resin
  • the curing agent is preferably a phenol-based curing agent or an amine-based curing agent from the viewpoint of heat resistance.
  • the phenolic curing agent include phenolic resins having two or more phenolic hydroxyl groups in one molecule and polyvalent phenolic compounds.
  • polyhydric phenol compounds such as resorcin, catechol, bisphenol A, bisphenol F, substituted or unsubstituted biphenol; phenol, cresol, xylenol, resorcin, catechol, bisphenol A, bisphenol F, phenylphenol, aminophenol and the like.
  • At least one phenolic compound selected from the group consisting of the phenolic compounds of the above and naphthol compounds such as ⁇ -naphthol, ⁇ -naphthol and dihydroxynaphthalene, and aldehyde compounds such as formaldehyde, acetaldehyde and propionaldehyde are condensed or condensed under an acidic catalyst.
  • Novorak-type phenolic resin obtained by co-condensation Phenolic aralkyl resin synthesized from the above phenolic compound and dimethoxyparaxylene, bis (methoxymethyl) biphenyl, etc., naphthol aralkyl resin and other aralkyl-type phenolic resins; paraxylylene-modified phenol Resin, metaxylylene-modified phenolic resin; melamine-modified phenolic resin; terpene-modified phenolic resin; dicyclopentadiene-type phenolic resin and dicyclopentadiene-type naphthol resin synthesized by copolymerization of the above phenolic compound with dicyclopentadiene; cyclopentadiene.
  • Modified phenol resin Polycyclic aromatic ring modified phenol resin; Biphenyl type phenol resin; Triphenylmethane obtained by condensing or cocondensing the above phenolic compound with aromatic aldehyde compounds such as benzaldehyde and salicylaldehyde under an acidic catalyst.
  • Type phenolic resin examples thereof include phenolic resins obtained by copolymerizing two or more of these types. These phenolic curing agents may be used alone or in combination of two or more.
  • phenol-based curing agents from the viewpoint of heat resistance, aralkyl-type phenol resin, dicyclopentadiene-type phenol resin, triphenylmethane-type phenol resin, triphenylmethane-type phenol resin and aralkyl-type phenol resin copolymerized phenol resin. , And at least one selected from the group consisting of novolak-type phenolic resins (these are referred to as "specific phenol-based curing agents”) are preferable.
  • the specific phenolic curing agent may be used alone or in combination of two or more.
  • the content of the specific phenolic curing agent is preferably 30% by mass or more of the total amount of the phenolic curing agent from the viewpoint of fully exerting their performance. It is more preferably 50% by mass or more.
  • aralkyl-type phenol resin examples include a phenol aralkyl resin synthesized from a phenolic compound, dimethoxyparaxylene, bis (methoxymethyl) biphenyl and the like, a naphthol aralkyl resin and the like.
  • the aralkyl type phenol resin may be further copolymerized with another phenol resin.
  • Examples of the copolymerized aralkyl type phenol resin include a copolymerized phenol resin of a triphenylmethane type phenol resin and an aralkyl type phenol resin, a copolymerized phenol resin of a salicylaldehyde type phenol resin and an aralkyl type phenol resin, and a novolak type phenol. Examples thereof include a copolymer formaldehyde resin in which a resin and an aralkyl type phenol resin are used.
  • the aralkyl-type phenol resin is not particularly limited as long as it is a phenol resin synthesized from at least one selected from the group consisting of phenol compounds and naphthol compounds, and dimethoxyparaxylene, bis (methoxymethyl) biphenyl or derivatives thereof. ..
  • phenolic resins represented by the following general formulas (XII) to (XIV) are preferable.
  • R 23 represents a hydrogen atom or a monovalent organic group having 1 to 18 carbon atoms, all of which may be the same or different.
  • R 22 , R 24 , R 25 and R 28 represent monovalent organic groups having 1 to 18 carbon atoms, all of which may be the same or different.
  • R 26 and R 27 represent a hydroxyl group or a monovalent organic group having 1 to 18 carbon atoms, and all of them may be the same or different.
  • i is an integer of 0 to 3 independently
  • j is an integer of 0 to 2 independently
  • k is an integer of 0 to 4 independently
  • p is an integer of 0 to 4 independently.
  • n is an average value, and each is independently a number from 0 to 10.
  • phenolic resins represented by the above general formula (XIII), XL-225, XLC (Mitsui Chemicals, Inc., trade name), MEH-7800 (Meiwa Kasei Co., Ltd.) in which i is 0 and k is 0. Product name) etc. are available as commercial products.
  • phenolic resins represented by the above general formula (XIV) SN-170 (Nittetsu Chemical & Materials Co., Ltd., trade name) and j in which j is 0, k is 0, and p is 0 are SN-395 (Nittetsu Chemical & Materials Co., Ltd., trade name) and the like, which are 0, k is 1, R 27 is a hydroxyl group, and p is 0, are available as commercial products.
  • the dicyclopentadiene-type phenol resin is not particularly limited as long as it is a phenol resin obtained from a compound having a dicyclopentadiene skeleton as a raw material.
  • a phenol resin represented by the following general formula (XV) is preferable.
  • the phenolic resins represented by the following general formula (XV) the phenolic resin in which i is 0 is available as a commercially available product.
  • R 29 represents a monovalent organic group having 1 to 18 carbon atoms, all of which may be the same or different.
  • i independently represents an integer of 0 to 3.
  • n is an average value and indicates a number from 0 to 10.
  • the triphenylmethane type phenol resin is not particularly limited as long as it is a phenol resin obtained from an aromatic aldehyde compound as a raw material.
  • a phenol resin represented by the following general formula (XVI) is preferable.
  • phenolic resins represented by the following general formula (XVI), MEH-7500 (Meiwa Kasei Co., Ltd., trade name) in which i is 0 and k is 0 is available as a commercially available product.
  • R 30 and R 31 represent monovalent organic groups having 1 to 18 carbon atoms, all of which may be the same or different.
  • i is an integer of 0 to 3 independently
  • k is an integer of 0 to 4 independently.
  • n is an average value and is a number from 0 to 10.
  • the copolymerized phenol resin of the triphenylmethane type phenol resin and the aralkyl type phenol resin is not particularly limited as long as it is a copolymerized phenol resin of the phenol resin obtained from the compound having a benzaldehyde skeleton as a raw material and the aralkyl type phenol resin. ..
  • a phenol resin represented by the following general formula (XVII) is preferable.
  • phenolic resins represented by the following general formula (XVII), HE-510 (Air Water Chemical Co., Ltd., trade name) in which i is 0, k is 0, and q is 0 is commercially available. It is available as a product.
  • R 32 to R 34 represent monovalent organic groups having 1 to 18 carbon atoms, all of which may be the same or different.
  • i is an integer of 0 to 3 independently
  • k is an integer of 0 to 4 independently
  • q is an integer of 0 to 5 independently.
  • l and m are average values, respectively, and are independently numbers from 0 to 11. However, the total of l and m is a number of 1 to 11.
  • the novolak-type phenol resin is not particularly limited as long as it is a phenol resin obtained by condensing or co-condensing an aldehyde compound with at least one phenolic compound selected from the group consisting of a phenol compound and a naphthol compound. ..
  • a phenol resin represented by the following general formula (XVIII) is preferable.
  • phenolic resins represented by the following general formula (XVIII), Tamanol 758, 759 (Arakawa Chemical Industry Co., Ltd., trade name), H-4 (Meiwa Kasei) in which i is 0 and R35 is all hydrogen atoms. Co., Ltd., product name) etc. are available as commercial products.
  • R35 represents a hydrogen atom or a monovalent organic group having 1 to 18 carbon atoms, all of which may be the same or different.
  • R 36 represents a monovalent organic group having 1 to 18 carbon atoms, all of which may be the same or different.
  • i independently represents an integer of 0 to 3.
  • n is an average value and indicates a number from 0 to 10.
  • R 22 to R 36 in the above general formulas (XII) to (XVIII) is, for example, that all i R 22s in the formula (XII) are the same. But it means that they can be different from each other. It means that all of the other R 23 to R 36 may be the same or different from each other for each number included in the equation. Further, R 22 to R 36 may be the same or different from each other. For example, all of R 22 and R 23 may be the same or different, and all of R 30 and R 31 may be the same or different.
  • N in the above general formulas (XII) to (XVIII) is preferably in the range of 0 to 10.
  • the melt viscosity of the resin component does not become too high, the viscosity of the thermosetting resin composition at the time of melt molding also becomes low, filling failure, deformation of the bonding wire (gold wire connecting the element and the lead), etc. Is less likely to occur.
  • the average n in one molecule is preferably set in the range of 0 to 4.
  • amine-based curing agent examples include aliphatic amine compounds such as diethylenetriamine, triethylenetetramine, n-propylamine, 2-hydroxyethylaminopropylamine, cyclohexylamine, and 4,4'-diamino-dicyclohexylmethane.
  • Aromatic amine compounds such as diethyltoluenediamine, 3,3'-diethyl-4,4'-diaminodiphenylmethane, dimethylthiotoludiamine, 2-methylaniline, imidazole, 2-methylimidazole, 2-ethylimidazole, 2-isopropyl
  • imidazole compounds such as imidazole
  • imidazoline compounds such as imidazoline, 2-methylimidazoline, and 2-ethylimidazolin.
  • aromatic amine compounds are preferable, and diethyltoluenediamine, 3,3'-diethyl-4,4'-diaminodiphenylmethane and dimethylthiotoluenediamine are more preferable from the viewpoint of storage stability.
  • the functional group equivalent of the curing agent (hydroxyl equivalent in the case of a phenol curing agent, active hydrogen equivalent in the case of an amine-based curing agent) is not particularly limited. From the viewpoint of balance of various characteristics such as moldability, heat resistance, and electrical reliability, it is preferably 10 g / eq to 1000 g / eq, and more preferably 30 g / eq to 500 g / eq.
  • the hydroxyl group equivalent in the case of a phenol curing agent means a value calculated based on the hydroxyl group value measured in accordance with JIS K0070: 1992.
  • the active hydrogen equivalent in the case of an amine-based curing agent is a value calculated based on the amine value measured in accordance with JIS K7237: 1995.
  • the softening point or melting point is not particularly limited.
  • the temperature is preferably 40 ° C. to 180 ° C., and from the viewpoint of handleability during production of the thermosetting resin composition, the temperature is more preferably 50 ° C. to 130 ° C.
  • the equivalent ratio of the epoxy resin to the curing agent is not particularly limited, but each has not been obtained. From the viewpoint of suppressing the reaction content to a small amount, for example, it is preferably 0.7 to 1.6, more preferably 0.8 to 1.4, and even more preferably 0.9 to 1.2. ..
  • a slurry containing an inorganic filler and a solvent is used.
  • the slurry is made of an inorganic filler, a solvent, a coupling agent used as needed, a dispersant, etc., a stirrer, a mixer such as a planetary mixer, an ultrasonic disperser, a wet disperser such as a jet mill, etc. Obtained by using and mixing.
  • the mixing conditions for preparing the slurry are appropriately set according to the types of components contained in the slurry, the ratio of the components, and the like.
  • the inorganic filler contained in the slurry may be subjected to a wet sieving treatment. The wet sieving process tends to make it easier to reduce the top cut diameter, which will be described later, as compared with the dry sieving process.
  • the solid content ratio in the slurry of the inorganic filler is preferably 40% by mass to 90% by mass, more preferably 50% by mass to 85% by mass, and 60% by mass to 80% by mass from the viewpoint of suppressing sedimentation. % Is more preferable.
  • the slurry contains an inorganic filler.
  • the type of the inorganic filler is not particularly limited. Specifically, silica such as spherical silica and crystalline silica, glass, alumina, calcium carbonate, zirconium silicate, calcium silicate, silicon nitride, aluminum nitride, boron nitride, aluminum nitride, boehmite, verilia, magnesium oxide, zirconia, Inorganic materials such as zircone, fosterite, steatite, spinel, mulite, titania, talc, clay, mica and titanate can be mentioned.
  • An inorganic filler having a flame-retardant effect may be used.
  • Examples of the inorganic filler having a flame-retardant effect include aluminum hydroxide, magnesium hydroxide, a composite metal hydroxide such as a composite hydroxide of magnesium and zinc, and zinc borate. Of these, spherical silica is preferable from the viewpoint of reducing the coefficient of linear expansion, and alumina is preferable from the viewpoint of high thermal conductivity.
  • the inorganic filler may be used alone or in combination of two or more. Examples of the state of the inorganic filler include powder, beads made by spheroidizing the powder, fibers and the like.
  • the top cut diameter of the inorganic filler is not particularly limited. From the viewpoint of filling properties into narrow gaps of 30 ⁇ m or less, the top cut diameter of the inorganic filler is preferably 10 ⁇ m or less, more preferably 7 ⁇ m or less, further preferably 6 ⁇ m or less, and further preferably 5 ⁇ m or less. Is particularly preferable.
  • the top cut diameter of the inorganic filler may be 1 ⁇ m or more from the viewpoint of suppressing an increase in the viscosity of the thermosetting resin composition.
  • the top cut diameter of the inorganic filler is the particle size when the cumulative volume distribution value is 90% by volume when the volume cumulative distribution curve is drawn from the small diameter side by the laser diffraction / scattering method particle size distribution measuring device. The value.
  • the average particle size of the inorganic filler is not particularly limited.
  • the volume average particle diameter is preferably 10 ⁇ m or less, more preferably 0.1 ⁇ m to 10 ⁇ m, further preferably 0.1 ⁇ m to 8 ⁇ m, and particularly preferably 0.2 ⁇ m to 6 ⁇ m. ..
  • the volume average particle size of the inorganic filler can be measured as the volume average particle size (D50) by a laser diffraction scattering method particle size distribution measuring device.
  • the particle shape of the inorganic filler is preferably spherical rather than square, and the particle size distribution of the inorganic filler is preferably widely distributed.
  • the content of the inorganic filler in the thermosetting resin composition is not particularly limited. From the viewpoint of fluidity and strength, it is preferably 30% by volume to 95% by volume, more preferably 35% by volume to 90% by volume, and 40% by volume to 80% by volume of the entire thermosetting resin composition. % Is more preferable.
  • the content of the inorganic filler is 30% by volume or more of the entire thermosetting resin composition, the properties such as the thermal expansion coefficient, thermal conductivity, and elastic modulus of the cured product tend to be further improved.
  • the content of the inorganic filler is 95% by volume or less of the entire thermosetting resin composition, an increase in the viscosity of the thermosetting resin composition is suppressed, the fluidity is further improved, and the moldability is improved. It tends to be.
  • the slurry contains a solvent.
  • the type of the solvent is not particularly limited, and is appropriately selected from those that can be easily removed from the first or third mixture in the solvent removal step.
  • the solvent contained in the first or third mixture may or may not dissolve one of the thermosetting resin and the curing agent.
  • the boiling point of the solvent at normal pressure is preferably 50 ° C. to 200 ° C., more preferably 60 ° C. to 180 ° C., and 70 ° C., because it can be easily removed from the first or third mixture. It is more preferably ° C. to 160 ° C., particularly preferably 70 ° C. to 140 ° C., and extremely preferably 70 ° C. to 130 ° C.
  • the solvent examples include methyl ethyl ketone (MEK), methyl isobutyl ketone (MIBK), toluene, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, cyclohexanone (CHN) and the like. Among these, MIBK, CHN or MEK is preferable.
  • MIBK, CHN or MEK is preferable.
  • the solvent one type may be used alone or two or more types may be used in combination.
  • the slurry may further contain a coupling agent.
  • the type of the coupling agent is not particularly limited, and a known coupling agent can be used. Examples of the coupling agent include a silane coupling agent and a titanium coupling agent. One type of coupling agent may be used alone, or two or more types may be used in combination.
  • silane coupling agent examples include 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltriethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, and 3-glycidoxy.
  • Titanium coupling agents include isopropyltriisostearoyl titanate, isopropyltris (dioctylpyrophosphate) titanate, isopropyltri (N-aminoethyl-aminoethyl) titanate, tetraoctylbis (ditridecylphosphite) titanate, tetra (2,).
  • the content of the coupling agent is 0.001 mass by mass with respect to 100 parts by mass of the inorganic filler from the viewpoint of the adhesion of the interface between the thermosetting resin and the inorganic filler. It is preferably 10 parts by mass, more preferably 0.01 part by mass to 8 parts by mass, and further preferably 0.05 part by mass to 5 parts by mass.
  • thermosetting resin composition produced by the production method of the present disclosure is further improved.
  • thermosetting resin composition produced by the production method of the present disclosure contains a curing accelerator.
  • the type of the curing accelerator is not particularly limited, and can be selected according to the type of the thermosetting resin, the desired characteristics of the thermosetting resin composition, and the like.
  • diazabicycloalkenes such as 1,5-diazabicyclo [4.3.0] nonen-5 (DBN) and 1,8-diazabicyclo [5.4.0] undecene-7 (DBU), 2 -Cyclic amidine compounds such as methylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole, 2-heptadecylimidazole; derivatives of the cyclic amidin compounds; phenol novolac salts of the cyclic amidin compounds or derivatives thereof; Compounds include maleic anhydride, 1,4-benzoquinone, 2,5-turquinone, 1,4-naphthoquinone, 2,3-dimethylbenzoquinone, 2,6-dimethylbenzoquinone, 2,3-dimethoxy-5-methyl-1, A quinone compound such as 4-benzoquinone, 2,3-dimethoxy-1,4-benzoquinone, phenyl-1,4
  • Cyclic amidinium compounds such as DBU tetraphenylborate salt, DBN tetraphenylborate salt, 2-ethyl-4-methylimidazole tetraphenylborate salt, N-methylmorpholin tetraphenylborate salt; pyridine, triethylamine, triethylenediamine , A tertiary amine compound such as benzyldimethylamine, triethanolamine, dimethylaminoethanol, tris (dimethylaminomethyl) phenol; a derivative of the tertiary amine compound; tetra-n-butylammonium acetate, tetra-n-butyl phosphate.
  • Ammonium salt compounds such as ammonium, tetraethylammonium acetate, tetra-n-hexylammonium benzoate, tetrapropylammonium hydroxide; Phosphin, diphenyl (p-tolyl) phosphin, tris (alkylphenyl) phosphin, tris (alkoxyphenyl) phosphin, tris (alkylalkoxyphenyl) phosphin, tris (dialkylphenyl) phosphin, tris (trialkylphenyl) phosphin, tris (tetra) Alkylphenyl) phosphine, tris (dialkoxyphenyl) phosphine, tris (trialkoxyphenyl) phosphine, tris (tetraalkoxyphenyl) phosphine, trialkylphosphine, dialkylally Organic phosphin such as ruphosphin,
  • a compound having intramolecular polarization, which is obtained through the process of dehalogenation after the reaction of Examples thereof include tetra-substituted phosphonium compounds; phosphobetaine compounds; adducts
  • examples of the curing accelerator particularly suitable include triphenylphosphine, an adduct of triphenylphosphine and a quinone compound, and the like.
  • an epoxy resin is used as a thermosetting resin
  • a curing accelerator capable of low-temperature curing an adduct of tributylphosphine and 1,4-benzoquinone, dimethylaminopyridine, 2-ethyl-4-methylimidazole is used.
  • the curing accelerator may be used alone or in combination of two or more.
  • the content of the curing accelerator in the thermosetting resin composition is preferably 0.1% by mass to 8% by mass, preferably 0.3% by mass, based on the total amount of the thermosetting resin and the curing agent. It is more preferably% to 6% by mass, and even more preferably 0.5% by mass to 5% by mass.
  • thermosetting resin composition produced by the production method of the present disclosure may contain a colorant.
  • the colorant include known colorants such as carbon black, black titanium oxide, organic dyes, organic pigments, lead tan, and red iron oxide.
  • the content of the colorant can be appropriately selected according to the purpose and the like.
  • the colorant one type may be used alone or two or more types may be used in combination.
  • thermosetting resin composition contains a colorant
  • the content thereof is preferably 0.01% by mass to 5% by mass, more preferably 0.05% by mass to 3% by mass.
  • the colorant may be added to the first or third mixture.
  • the thermosetting resin composition produced by the production method of the present disclosure may contain an ion exchanger.
  • an ion exchanger is not particularly limited, and conventionally known ones can be used.
  • a hydrotalcite compound and a hydrous oxide of at least one element selected from the group consisting of magnesium, aluminum, titanium, zirconium and bismuth can be mentioned.
  • the ion exchanger one type may be used alone or two or more types may be used in combination. Of these, hydrotalcite represented by the following general formula (A) is preferable.
  • thermosetting resin composition contains an ion exchanger
  • the content thereof is not particularly limited as long as it is a sufficient amount to capture ions such as halogen ions.
  • it is preferably 0.1 part by mass to 30 parts by mass, and more preferably 1 part by mass to 5 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the thermosetting resin.
  • the thermosetting resin composition contains an ion exchanger
  • the ion exchanger may be added to the first or third mixture.
  • the thermosetting resin composition produced by the production method of the present disclosure may contain a mold release agent from the viewpoint of obtaining good mold release from the mold at the time of molding.
  • the release agent is not particularly limited, and conventionally known release agents can be used. Specific examples thereof include higher fatty acids such as carnauba wax, montanic acid and stearic acid, ester waxes such as higher fatty acid metal salts and montanic acid esters, and polyolefin waxes such as polyethylene oxide and non-oxidized polyethylene.
  • the release agent one type may be used alone or two or more types may be used in combination.
  • the content thereof is preferably 0.01 part by mass to 15 parts by mass, and 0.1 part by mass to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the thermosetting resin. Is more preferable.
  • the amount of the mold release agent is 0.01 part by mass or more with respect to 100 parts by mass of the thermosetting resin, the mold release property tends to be sufficiently obtained.
  • the amount of the mold release agent is 15 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the thermosetting resin, better adhesiveness tends to be obtained.
  • the thermosetting resin composition contains a mold release agent, the mold release agent may be added to the first or third mixture.
  • the thermosetting resin composition produced by the production method of the present disclosure may contain a flame retardant.
  • the flame retardant is not particularly limited, and conventionally known flame retardants can be used. Specific examples thereof include organic or inorganic compounds containing halogen atoms, antimony atoms, nitrogen atoms or phosphorus atoms, metal hydroxides and the like.
  • the flame retardant may be used alone or in combination of two or more.
  • thermosetting resin composition contains a flame retardant
  • the content thereof is not particularly limited as long as it is sufficient to obtain the desired flame retardant effect.
  • it is preferably 1 part by mass to 30 parts by mass, and more preferably 2 parts by mass to 20 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the thermosetting resin.
  • the flame retardant may be added to the first or third mixture.
  • the thermosetting resin composition produced by the production method of the present disclosure may contain a stress relaxation agent such as silicone oil and silicone rubber particles.
  • a stress relaxation agent such as silicone oil and silicone rubber particles.
  • the stress relaxation agent include commonly used known stress relaxation agents (flexible agents).
  • thermoplastic elastomers such as silicone-based, styrene-based, olefin-based, urethane-based, polyester-based, polyether-based, polyamide-based, and polybutadiene-based, NR (natural rubber), NBR (acrylonitrile-butadiene rubber), and acrylic.
  • Rubber particles such as rubber, urethane rubber, silicone powder, core-shell such as methyl methacrylate-styrene-butadiene copolymer (MBS), methyl methacrylate-silicone copolymer, methyl methacrylate-butyl acrylate copolymer, etc.
  • Examples include rubber particles having a structure.
  • the stress relaxation agent one type may be used alone or two or more types may be used in combination. Of these, a silicone-based stress relaxant is preferable.
  • the silicone-based stress relieving agent include those having an epoxy group, those having an amino group, and those obtained by modifying these with a polyether.
  • the content thereof is preferably 0.1 part by mass to 30 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the thermosetting resin, and 1 part by mass to 5 parts by mass. It is more preferably by mass.
  • the stress relaxation agent may be added to the first or third mixture.
  • the stress relaxation agent may be added to the first or third mixture in the form of a slurry as in the inorganic filler.
  • the solid content ratio of the stress relaxation agent in the slurry is preferably 0.1% by mass to 50% by mass, preferably 0.2% by mass to 30% by mass from the viewpoint of moldability. It is more preferably 0.5% by mass to 20% by mass.
  • the solvent for dispersing the stress relaxation agent include the same solvent as the solvent used for the slurry of the inorganic filler.
  • thermosetting resin composition produced by the production method of the present disclosure may contain a solvent.
  • the thermosetting resin composition contains a solvent
  • the content of the solvent in the entire thermosetting resin composition is preferably 0.1% by mass to 2% by mass, preferably 0.1% by mass to 0% by mass. It is more preferably 5% by mass.
  • the content of the solvent in the entire thermosetting resin composition is 2% by mass or less, blocking of the thermosetting resin composition is unlikely to occur, and the thermosetting resin composition is supplied to a molding machine such as a press machine. However, it tends to be easier.
  • the solvent contained in the thermosetting resin composition may be a solvent in which the solvent contained in the slurry remains.
  • the solvent contained in the thermosetting resin composition may be referred to as "residual solvent amount”. The solvent content is calculated based on the mass change before and after heating the thermosetting resin composition at 175 ° C. for 1 hour.
  • the viscosity of the thermosetting resin composition is not particularly limited. It is preferable to adjust the viscosity to a desired value according to the molding method, the composition of the thermosetting resin composition, and the like.
  • the thermosetting resin composition is used as a sealing material, it is preferable to adjust the viscosity of the thermosetting resin composition according to the susceptibility of wire flow during molding.
  • the viscosity of the thermosetting resin composition is preferably 200 Pa ⁇ s or less at 175 ° C., preferably 150 Pa / s, from the viewpoint of reducing wire flow.
  • thermosetting resin composition is more preferable, 100 Pa ⁇ s or less is further preferable, 70 Pa ⁇ s or less is particularly preferable, and 50 Pa ⁇ s or less is extremely preferable.
  • the lower limit of the viscosity of the thermosetting resin composition is not particularly limited, and may be, for example, 2 Pa ⁇ s or more at 175 ° C.
  • the viscosity of the thermosetting resin composition can be measured by a high-grade flow tester (for example, manufactured by Shimadzu Corporation).
  • thermosetting resin composition (Use of thermosetting resin composition)
  • the use of the thermosetting resin composition produced by the production method of the present disclosure is not particularly limited, and it can be used in various mounting techniques as a sealing material for, for example, an electronic component device.
  • the thermosetting resin composition produced by the manufacturing method of the present disclosure has a resin composition such as a resin molded body for various modules, a resin molded body for a motor, a resin molded body for an automobile, a sealing material for an electronic circuit protective material, and the like. It can be used in various applications in which it is desirable that the product has good fluidity and curability.
  • the manufacturing method of the electronic component apparatus of the present disclosure includes a step of sealing the element with the thermosetting resin composition obtained by the manufacturing method of the present disclosure described above.
  • Electronic component devices include lead frames, pre-wired tape carriers, wiring boards, glass, silicon wafers, organic substrates, and other support members, as well as elements (semiconductor chips, transistors, diodes, active elements such as thyristors, capacitors, and resistors. , A passive element such as a coil, etc.), and the element portion obtained by mounting the element portion is sealed with a thermosetting resin composition. More specifically, after fixing the element on the lead frame and connecting the terminal part and the lead part of the element such as a bonding pad by wire bonding, bumps, etc., transfer molding or the like using a thermosetting resin composition or the like.
  • DIP Device Inline Package
  • PLCC Physical Readed Chip Carrier
  • QFP Quad Flat Package
  • SOP Small Outline Package
  • SOJ SmallOdlinePack
  • TCP Teape Carrier Package having a structure in which an element connected to a tape carrier with a bump is sealed with a thermosetting resin composition.
  • a COB Chip On Board
  • a hybrid IC or a multi having a structure in which an element connected by wire bonding, flip chip bonding, solder, or the like to a wiring formed on a support member is sealed with a thermosetting resin composition.
  • thermosetting resin composition examples thereof include BGA (Ball Grid Array), CSP, MCP (Multi Chip Package), and SiP having a structure in which an element is sealed with an object. Further, the thermosetting resin composition can also be preferably used in the printed wiring board.
  • thermosetting resin composition examples include a low-pressure transfer molding method, an injection molding method, a compression molding method, and the like.
  • thermosetting resin composition of the present disclosure is obtained by the above-mentioned production method of the present disclosure.
  • the thermosetting resin composition may be solid or liquid under normal temperature and pressure (for example, 25 ° C. and atmospheric pressure), and is preferably solid.
  • the shape is not particularly limited, and examples thereof include powder, granules, tablets, pellets, and granules.
  • the thermosetting resin composition is in the form of tablets or pellets, it is preferable that the dimensions and mass are suitable for the molding conditions of the package from the viewpoint of handleability.
  • thermosetting resin composition First, each component shown below was prepared.
  • Epoxy resin 1 Epoxy equivalent 265 g / eq to 285 g / eq, softening point 53 ° C to 63 ° C aralkyl type epoxy resin ⁇
  • Epoxy resin 2 Epoxy equivalent 180 g / eq to 192 g / eq, melting point 105 ° C biphenyl type epoxy resin
  • Epoxy resin 3 A triphenylmethane type epoxy resin having an epoxy equivalent of 163 g / eq to 175 g / eq and a softening point of 57 ° C to 63 ° C.
  • (Hardener) -Curing agent 1 Aralkyl-type phenol resin having a hydroxyl group equivalent of 205 g / eq and softening point of 60 ° C to 70 ° C.
  • -Curing agent 2 Aralkyl-type phenol resin having a hydroxyl equivalent of 170 g / eq and softening point of 60 ° C to 70 ° C.
  • thermosetting resin compositions of Examples 1 to 9 were prepared by the following method (referred to as "manufacturing method A").
  • the main feed components shown in Table 1 were mixed in a container and stirred with a stirrer for 1 hour. The obtained mixture corresponds to the first mixture.
  • the mixture was melt-kneaded at the solvent removal temperature shown in Table 1 for about 5 minutes under a reduced pressure of 0.02 MPa.
  • the mixture after melt-kneading corresponds to the second mixture.
  • the sub-supplied component was added (side feed) from the opening and melt-kneaded at the kneading temperature shown in Table 1 for about 2 minutes.
  • the melt was cooled with a press roll circulated with cold water at 10 ° C., and the sheet was pulverized to prepare a powdery thermosetting resin composition.
  • the solvent removal step and the kneading step are continuously performed.
  • thermosetting resin composition of Example 10 was prepared by the following method (referred to as "manufacturing method B").
  • the main feed components shown in Table 1 were mixed in a container and stirred with a stirrer for 1 hour.
  • the obtained mixture corresponds to the first mixture.
  • the solvent was distilled off at 140 ° C. for 2 hours under a reduced pressure of 0.02 MPa using a vacuum dryer.
  • the obtained mixture corresponds to the second mixture.
  • a thermosetting resin composition in powder form to which no curing accelerator was added was prepared.
  • the thermosetting resin composition to which the curing accelerator was not added was kneaded using a twin-screw kneader (extruder).
  • the auxiliary supply component was added (side feed) from the opening and melt-kneaded at the kneading temperature shown in Table 1 for about 2 minutes.
  • the melt was cooled with a press roll circulated with cold water at 10 ° C., and the sheet was pulverized to prepare a powdery thermosetting resin composition.
  • the solvent removal step is performed in a batch manner.
  • thermosetting resin compositions of Comparative Examples 1 to 3 were prepared by the following method (referred to as "manufacturing method C"). All the components shown in Table 2 were mixed in a container and stirred with a stirrer for 1 hour. Then, using a twin-screw kneader (extruder), the mixture was melt-kneaded at the first kneading temperature shown in Table 2 for about 5 minutes under a reduced pressure of 0.02 MPa. Subsequently, the mixture was melt-kneaded at the second kneading temperature for about 2 minutes. The melt was cooled with a press roll circulated with cold water at 10 ° C., and the sheet was pulverized to prepare a powdery thermosetting resin composition.
  • thermosetting resin composition of Comparative Example 4 was prepared by the following method (referred to as "manufacturing method D"). All the components shown in Table 2 were mixed in a container and stirred with a stirrer for 1 hour. Then, the solvent was distilled off at 140 ° C. for 2 hours under a reduced pressure of 0.02 MPa using a vacuum dryer. The obtained melt was cooled and pulverized to prepare a powdery thermosetting resin composition.
  • thermosetting resin composition was evaluated by various tests shown below. The evaluation results are shown in Tables 1 and 2. Unless otherwise specified, the thermosetting resin composition was molded by a transfer molding machine under the conditions of a mold temperature of 180 ° C., a molding pressure of 6.9 MPa, and a curing time of 90 seconds. If necessary, post-curing was performed at 175 ° C. for 6 hours.
  • thermosetting resin composition was molded under the above conditions using a spiral flow measuring die according to EMMI-1-66, and the flow distance (cm) was determined.
  • filler aggregation The appearance of the molded product of the thermosetting resin composition using the transfer molding machine was visually observed, and the presence or absence of aggregation of the inorganic filler (hereinafter, may be referred to as filler aggregation) was evaluated. The case where filler aggregation was observed was designated as "A”, and the case where no filler aggregation was observed was designated as "B".
  • nonvolatile component refers to the mass-based content of the non-volatile component when the main supply component is added to the container, and corresponds to the solid content ratio of the mixture.
  • filler content refers to the volume-based content of the inorganic filler contained in the thermosetting resin composition.
  • the characteristics of the thermosetting resin composition obtained by the production method of the example are the production of the comparative example. It was superior in comparison with the characteristics of the thermosetting resin composition obtained by the method. From this, it can be seen that according to the production method of the example, the inorganic filler can be highly filled without deteriorating the characteristics of the thermosetting resin composition as compared with the production method of the comparative example.

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Abstract

熱硬化性樹脂組成物の製造方法は、熱硬化性樹脂と、硬化剤と、無機充填材と溶剤とを含むスラリーと、を含む第一の混合物から第一の脱溶剤温度で前記溶剤を除去して第二の混合物を得る、脱溶剤工程と、前記第二の混合物に硬化促進剤を加えて、前記第一の脱溶剤温度よりも低温の第一の混練温度で前記硬化促進剤を加えた前記第二の混合物を混練する混練工程と、を有するものである。

Description

熱硬化性樹脂組成物の製造方法及び電子部品装置の製造方法
 本開示は、熱硬化性樹脂組成物の製造方法及び電子部品装置の製造方法に関する。
 近年、電子部品装置の低コスト化、小型化、薄型化、軽量化、高性能化及び高機能化を図るために、素子の配線の微細化、多層化、多ピン化及びパッケージの小型薄型化による高密度実装化が進んでいる。これに伴い、IC(Integrated Circuit)等の素子とほぼ同じサイズの電子部品装置、すなわち、CSP(Chip Size Package)が広く用いられている。さらには、1つのパッケージに複数の素子を組み入れるSiP(System in Package)が開発されている。
 電子部品装置の素子を封止する封止材料としては、生産性、コスト等の面から、熱硬化性樹脂、硬化剤及び無機充填材を含む熱硬化性樹脂組成物が広く使用されている。電子部品装置に搭載される素子のさらなる高密度化及び高機能化に伴い、CSPにおけるバンプ-チップ間距離又はSiPにおける素子間の距離が狭ギャップ化している。そのため、無機充填材のカットポイントの小径化が進行している。しかしながら、カットポイントの小径化に伴い、無機充填材の比表面積が増加して均一な分散が困難となり、その結果として無機充填材の高充填化が課題となっている。
 熱硬化性樹脂組成物の製造方法の一例として、エポキシ樹脂、硬化剤及び無機充填材を含む原材料全てを溶剤に混合し、溶解して混合溶解物とし、次いで、溶剤を除去することを特徴とする半導体封止用エポキシ樹脂成形材料の製造方法が開示されている(例えば、特許文献1及び2参照)。
特開2011-252041号公報 特開2011-252042号公報
 特許文献1又は2に記載の製造方法は、半導体封止用エポキシ樹脂成形材料中の金属異物を除去するために原料を混合溶解物状態とするものである。しかしながら、特許文献1又は2に記載の製造方法では、混合溶解物に強いせん断力を付与することが困難であり、低カットポイントの無機充填材を均一に分散させることが困難な場合がある。
 本開示の一態様は上記従来の事情に鑑みてなされたものであり、無機充填材の高充填化が可能な熱硬化性樹脂組成物の製造方法、及び、この製造方法により得られた熱硬化性樹脂組成物を用いた電子部品装置の製造方法を提供することを目的とする。
 前記課題を達成するための具体的手段は以下の通りである。
  <1> 熱硬化性樹脂と、硬化剤と、無機充填材と溶剤とを含むスラリーと、を含む第一の混合物から第一の脱溶剤温度で前記溶剤を除去して第二の混合物を得る、脱溶剤工程と、
 前記第二の混合物に硬化促進剤を加えて、前記第一の脱溶剤温度よりも低温の第一の混練温度で前記硬化促進剤を加えた前記第二の混合物を混練する混練工程と、
を有する熱硬化性樹脂組成物の製造方法。
  <2> 熱硬化性樹脂及び硬化剤の一方と、無機充填材と溶剤とを含むスラリーと、を含む第三の混合物から、第二の脱溶剤温度で前記溶剤を除去し次いで前記熱硬化性樹脂及び前記硬化剤の他の一方を加えるか、又は、熱硬化性樹脂及び硬化剤の一方と、無機充填材と溶剤とを含むスラリーと、を含む第三の混合物から、第二の脱溶剤温度で前記溶剤を除去しながら前記熱硬化性樹脂及び前記硬化剤の他の一方を加えて、第四の混合物を得る脱溶剤工程と、
 前記第四の混合物に硬化促進剤を加えて、前記第二の脱溶剤温度よりも低温の第二の混練温度で前記硬化促進剤を加えた前記第四の混合物を混練する混練工程と、
を有する熱硬化性樹脂組成物の製造方法。
  <3> 前記第一の混練温度が、前記硬化促進剤を加えた前記第二の混合物についての示差走査熱量測定により測定される反応率が40%になる温度以下である<1>に記載の熱硬化性樹脂組成物の製造方法。
  <4> 前記第二の混練温度が、前記硬化促進剤を加えた前記第四の混合物についての示差走査熱量測定により測定される反応率が40%になる温度以下である<2>に記載の熱硬化性樹脂組成物の製造方法。
  <5> 前記脱溶剤工程と前記混練工程とが、連続的に行われる<1>~<4>のいずれか1項に記載の熱硬化性樹脂組成物の製造方法。
  <6> 前記脱溶剤工程が、バッチ式で行われる<1>~<4>のいずれか1項に記載の熱硬化性樹脂組成物の製造方法。
  <7> 前記第一の脱溶剤温度又は前記第二の脱溶剤温度が、前記熱硬化性樹脂の融点又は軟化点よりも高い<1>~<6>のいずれか1項に記載の熱硬化性樹脂組成物の製造方法。
  <8> 前記スラリーが、カップリング剤をさらに含む<1>~<7>のいずれか1項に記載の熱硬化性樹脂組成物の製造方法。
  <9> 前記無機充填材のトップカット径が、10μm以下である<1>~<8>のいずれか1項に記載の熱硬化性樹脂組成物の製造方法。
  <10> 前記溶剤の沸点が、50℃~200℃である<1>~<9>のいずれか1項に記載の熱硬化性樹脂組成物の製造方法。
  <11> 前記無機充填材の前記スラリー中における固形分比率が、40質量%~90質量%である<1>~<10>のいずれか1項に記載の熱硬化性樹脂組成物の製造方法。
  <12> 前記第一の混合物又は前記第三の混合物の固形分比率が、30質量%~90質量%である<1>~<11>のいずれか1項に記載の熱硬化性樹脂組成物の製造方法。
  <13> <1>~<12>のいずれか1項に記載の熱硬化性樹脂組成物の製造方法により得られた熱硬化性樹脂組成物により素子を封止する工程を有する電子部品装置の製造方法。
 本開示の一態様によれば、無機充填材の高充填化が可能な熱硬化性樹脂組成物の製造方法、及び、この製造方法により得られた熱硬化性樹脂組成物を用いた電子部品装置の製造方法を提供することができる。
 以下、本開示を実施するための形態について詳細に説明する。但し、本開示は以下の実施形態に限定されるものではない。以下の実施形態において、その構成要素(要素ステップ等も含む)は、特に明示した場合を除き、必須ではない。数値及びその範囲についても同様であり、本開示を制限するものではない。
 本開示において「工程」との語には、他の工程から独立した工程に加え、他の工程と明確に区別できない場合であってもその工程の目的が達成されれば、当該工程も含まれる。
 本開示において「~」を用いて示された数値範囲には、「~」の前後に記載される数値がそれぞれ最小値及び最大値として含まれる。
 本開示中に段階的に記載されている数値範囲において、一つの数値範囲で記載された上限値又は下限値は、他の段階的な記載の数値範囲の上限値又は下限値に置き換えてもよい。また、本開示中に記載されている数値範囲において、その数値範囲の上限値又は下限値は、実施例に示されている値に置き換えてもよい。
 本開示において、各成分には、該当する物質が複数種含まれていてもよい。組成物中に各成分に該当する物質が複数種存在する場合、各成分の含有率又は含有量は、特に断らない限り、組成物中に存在する当該複数種の物質の合計の含有率又は含有量を意味する。
 本開示において、各成分に該当する粒子には、複数種の粒子が含まれていてもよい。組成物中に各成分に該当する粒子が複数種存在する場合、各成分の粒子径は、特に断らない限り、組成物中に存在する当該複数種の粒子の混合物についての値を意味する。
 本開示において「固形分」とは、混合物、スラリー又は熱硬化性樹脂組成物から、溶剤等の揮発性成分を除いた残りの成分を意味する。
<熱硬化性樹脂組成物の製造方法>
 本開示の第一実施形態に係る熱硬化性樹脂組成物の製造方法は、熱硬化性樹脂と、硬化剤と、無機充填材と溶剤とを含むスラリーと、を含む第一の混合物から第一の脱溶剤温度で前記溶剤を除去して第二の混合物を得る、脱溶剤工程と、前記第二の混合物に硬化促進剤を加えて、前記第一の脱溶剤温度よりも低温の第一の混練温度で前記硬化促進剤を加えた前記第二の混合物を混練する混練工程と、を有する。
 また、本開示の第二実施形態に係る熱硬化性樹脂組成物の製造方法は、熱硬化性樹脂及び硬化剤の一方と、無機充填材と溶剤とを含むスラリーと、を含む第三の混合物から、第二の脱溶剤温度で前記溶剤を除去し次いで前記熱硬化性樹脂及び前記硬化剤の他の一方を加えるか、又は、熱硬化性樹脂及び硬化剤の一方と、無機充填材と溶剤とを含むスラリーと、を含む第三の混合物から、第二の脱溶剤温度で前記溶剤を除去しながら前記熱硬化性樹脂及び前記硬化剤の他の一方を加えて、第四の混合物を得る脱溶剤工程と、前記第四の混合物に硬化促進剤を加えて、前記第二の脱溶剤温度よりも低温の第二の混練温度で前記硬化促進剤を加えた前記第四の混合物を混練する混練工程と、を有する。
 以下、第一実施形態に係る熱硬化性樹脂組成物の製造方法及び第二実施形態に係る熱硬化性樹脂組成物の製造方法を合わせて、本開示の製造方法と称することがある。
 また、第一実施形態に係る熱硬化性樹脂組成物の製造方法を第一の製造方法と、第二実施形態に係る熱硬化性樹脂組成物の製造方法を第二の製造方法と、称することがある。
 また、第一の脱溶剤温度及び第二の脱溶剤温度を合わせて特定脱溶剤温度と、第一の混練温度及び第二の混練温度を合わせて特定混練温度と、称することがある。
 本開示の製造方法によれば、無機充填材の高充填化が可能となる。その理由は明確ではないが、以下のように推察される。
 第一又は第三の混合物に含まれる溶剤が分散媒体として作用することで第一又は第三の混合物の粘度が低下するため、第一若しくは第三の混合物を調製する際又は第一若しくは第三の混合物から特定脱溶剤温度で撹拌等しながら溶剤を除去する際のせん断熱の発生が抑制される。分散媒体として溶剤を使用しない従来の熱硬化性樹脂組成物の製造方法では、無機充填材の凝集力を低くすることが困難であり、特に低カットポイントの無機充填材を使用した場合に、大きなせん断熱が発生し、熱硬化性樹脂組成物のゲル化が生ずる場合があった。
 本開示の製造方法では第一又は第三の混合物を得る際に溶剤を用いるため、溶剤を使用しない従来の製造方法に比較して、第一又は第三の混合物の温度上昇が抑制され、脱溶剤工程において熱硬化性樹脂組成物のゲル化を懸念することなく第一又は第三の混合物に対して十分なせん断力を付与することができるようになる。第一又は第三の混合物に対して十分なせん断力を付与することで、熱硬化性樹脂組成物中の無機充填材が均一に分散されやすくなる。
 また、特定脱溶剤温度を特定混練温度よりも高温にすることで、脱溶剤工程において第一又は第三の混合物の粘度をさらに低下させることができるため、第一又は第三の混合物の撹拌が容易になり、熱硬化性樹脂組成物中の無機充填材がより均一に分散されやすくなる。
 さらに、特定混練温度を特定脱溶剤温度よりも低温とすることで、混練工程における硬化促進剤による熱硬化性樹脂と硬化剤との硬化反応の進行を抑制可能となり、熱硬化性樹脂組成物のゲル化の懸念が低下する。
 以上のことから、無機充填材の分散性がより向上し、その結果として、熱硬化性樹脂組成物への無機充填材の高充填化が可能になると推察される。
 本開示において、「混練温度」とは、混合物を混練装置により混練するときにおける混練装置の加熱部温度をいう。
 本開示において、「脱溶剤温度」とは、混合物から溶剤を除去するときに用いられる、混合物を加熱するための装置の加熱部温度をいう。例えば、脱溶剤工程が真空乾燥機を用いてバッチ式で行われる場合、混合物を収容する容器の加熱部温度を、脱溶剤温度とする。一方、脱溶剤工程が混練装置を用いて行われる場合、混練装置の加熱部温度を、脱溶剤温度とする。
 本開示において「混合する」及び「混練する」は共に、混合物を混ぜ合わせることをいう。粉体同士又は粉体と溶剤のように比較的粘度の低い材料にせん断をかけずに混ぜ合わせることを「混合する」と称し、溶融した樹脂又は相対的に溶剤の含有量が少なく粘度が高い状態でせん断をかけて分散と混合を同時に行うことを「混練する」と称する。
 「混合する」と「混練する」とを区別するための混合物中の溶剤の含有量の値は、特定の数値として定められる厳密なものではない。
 以下、本開示の製造方法を構成する各工程及び必要に応じて用いられる工程について説明する。
(混合物の準備)
 第一の製造方法では、脱溶剤工程において、熱硬化性樹脂と、硬化剤と、無機充填材と溶剤とを含むスラリーと、を含む第一の混合物が用いられる。第一の混合物には、必要に応じて応力緩和剤、イオン交換体等のその他の成分が含有されてもよい。
 第一の混合物は、熱硬化性樹脂と、硬化剤と、無機充填材と溶剤とを含むスラリーと、必要に応じて用いられる応力緩和剤、イオン交換体等のその他の成分とを、撹拌機、プラネタリミキサー等の混合機、超音波分散機、ジェットミル等の湿式の分散機などを用いて混合することで得られる。第一の混合物を準備する際の混合条件は、第一の混合物に含まれる成分の種類、成分の比率等によって適宜設定される。
 第一の製造方法では、脱溶剤工程において、熱硬化性樹脂と、無機充填材と溶剤とを含むスラリーと、を含む混合物と、硬化剤と、無機充填材と溶剤とを含むスラリーと、を含む混合物と、を混合した複合混合物を、第一の混合物として用いてもよい。
 熱硬化性樹脂と、無機充填材と溶剤とを含むスラリーと、を含む混合物、硬化剤と、無機充填材と溶剤とを含むスラリーと、を含む混合物、及び、複合混合物は、第一の混合物と同様にして得られる。
 第二の製造方法では、熱硬化性樹脂及び硬化剤の一方と、無機充填材と溶剤とを含むスラリーと、を含む第三の混合物が用いられる。第三の混合物には、必要に応じて応力緩和剤、イオン交換体等のその他の成分が含有されていてもよい。また、第三の混合物には、熱硬化性樹脂及び硬化剤の他の一方が含有されていてもよい。第三の混合物に熱硬化性樹脂及び硬化剤の他の一方が含有される場合、第二の製造方法により製造される熱硬化性樹脂組成物中に含まれる熱硬化性樹脂又は硬化剤の一部が、第三の混合物に添加される。
 第三の混合物は、第一の混合物と同様にして得られる。
 第一又は第三の混合物の固形分比率は、脱溶剤工程における液搬送性の観点から、30質量%~90質量%であることが好ましく、40質量%~85質量%であることがより好ましく、50質量%~80質量%であることがさらに好ましい。
(脱溶剤工程)
 第一の製造方法では、脱溶剤工程において、第一の混合物から第一の脱溶剤温度で溶剤を除去して第二の混合物を得る。第一の混合物から溶剤を除去する際、第一の混合物を混合しながら溶剤を除去してもよい。
 第一の混合物から溶剤を除去する方法は特に限定されるものではなく、第一の混合物を加熱する方法、第一の混合物を減圧環境下に置く方法、第一の混合物を減圧環境下に置きながら加熱する方法等が挙げられる。
 第一の混合物を減圧環境下に置く場合、公知の真空乾燥機を用いてもよい。その際に、第一の混合物を撹拌してもよい。
 第一の混合物を混合しながら溶剤を除去する場合、公知の混練装置を用いてもよい。混練装置としては、一軸混練機、二軸混練機、三軸以上の多軸混練機等のスクリュー式混練機、二本ロールミル、三本ロールミル等のロールミルなどが挙げられる。
 スクリュー式混練機が有する撹拌羽根は、根本及び先端で支持されていても、根本のみで支持されていてもよい。混合性及び生産性を向上する観点から、撹拌羽根は根本のみで支持されていることが好ましい。
 これらの中でも、減圧による溶剤の除去が可能となる密閉系の混練装置の一例である、スクリュー式混練機が好ましく、せん断力を容易に制御可能な観点から二軸混練機がより好ましい。
 また、第二の混合物に硬化促進剤を加え、引き続き第一の混練温度で硬化促進剤を加えた第二の混合物をさらに混練するためにも、混練装置としてスクリュー式混練機を用いることが好ましい。
 第二の製造方法では、脱溶剤工程において、熱硬化性樹脂及び硬化剤の一方と、無機充填材と溶剤とを含むスラリーと、を含む第三の混合物から、第二の脱溶剤温度で溶剤を除去し次いで熱硬化性樹脂及び硬化剤の他の一方を加えるか、又は、熱硬化性樹脂及び硬化剤の一方と、無機充填材と溶剤とを含むスラリーと、を含む第三の混合物から、第二の脱溶剤温度で溶剤を除去しながら熱硬化性樹脂及び硬化剤の他の一方を加えて、第四の混合物を得る。
 第二の製造方法において、第四の混合物を得る方法は特に限定されず、第一の製造方法の場合と同様の方法で第四の混合物を得てもよい。例えば、第三の混合物から第二の脱溶剤温度で溶剤を除去するに際し、真空乾燥機を用いてもよい。また、第三の混合物から第二の脱溶剤温度で溶剤を除去しながら熱硬化性樹脂及び硬化剤の他の一方を加えるに際し、スクリュー式混練機を用いてもよい。
 なお、第三の混合物に対して熱硬化性樹脂及び硬化剤の他の一方を加える操作を容易に行うことができる観点から、スクリュー式混練機を用いることが好ましい。スクリュー式混練機を用いて第二の製造方法における脱溶剤工程を実施する場合、サイドフィードによって第三の混合物に対して熱硬化性樹脂及び硬化剤の他の一方を加えてもよい。
 特定脱溶剤温度は特に限定されるものではなく、熱硬化性樹脂の偏在化抑制の観点から熱硬化性樹脂の融点又は軟化点よりも高い温度であることが好ましい。熱硬化性樹脂を2種類以上併用する場合、特定脱溶剤温度は、融点又は軟化点が最も高い熱硬化性樹脂についての融点又は軟化点よりも高い温度であることが好ましい。
 特定脱溶剤温度は、熱硬化性樹脂(複数種の熱硬化性樹脂を併用する場合には、融点又は軟化点が最も高い熱硬化性樹脂)の融点又は軟化点よりも1℃~90℃高い温度であることが好ましく、1℃~70℃高い温度であることがより好ましく、1℃~60℃高い温度であることがさらに好ましい。かかる温度で例えばスクリュー式混練機を用いた脱溶剤処理を行うことにより、熱硬化性樹脂を溶融させて流動性を維持することができるため、撹拌混合を良好に行うことができる。
 ある態様では、特定脱溶剤温度は、30℃~200℃が好ましく、50℃~180℃がより好ましく、80℃~160℃がさらに好ましい。
 混練装置としてスクリュー式混練機を用いる場合、スクリュー式混練機内を減圧して溶剤を除去することが好ましい。
 混練装置としてスクリュー式混練機を用いる場合、溶剤の留去の観点から、スクリュー式混練機内の圧力は、0.001MPa~0.08MPaが好ましく、0.003MPa~0.06MPaがより好ましく、0.005MPa~0.05MPaがさらに好ましい。
(混練工程)
 本開示の製造方法では、脱溶剤工程において得られた第二又は第四の混合物に硬化促進剤を加えて、特定脱溶剤温度よりも低温の特定混練温度で硬化促進剤を加えた第二又は第四の混合物を混練して混練物を得る。
 硬化促進剤を第二又は第四の混合物に加えるときの第二又は第四の混合物の温度は、熱硬化性樹脂と硬化剤との硬化反応の進行を抑制する観点から、特定脱溶剤温度よりも低いことが好ましい。
 特定混練温度は特定脱溶剤温度よりも低温であれば特に限定されるものではない。特定混練温度は、混練工程での混練物のゲル化を抑制する観点から、硬化促進剤を加えた第二又は第四の混合物についての示差走査熱量測定に基づいて算出される特定混練温度での反応率が小さくなるように設定されることが好ましく、反応率が、40%になる温度以下であることが好ましく、30%になる温度以下であることがより好ましく、20%になる温度以下であることがさらに好ましい。
 本開示において、所定温度における反応率は、以下の方法で測定することができる。
 第二又は第四の混合物に硬化促進剤を加えたサンプルについて、50℃から昇温速度10℃/分の条件でDSCチャートを測定する。次いで、得られたDSCチャートに観察される発熱ピークの立ち上がり温度から所定温度として設定された温度までの面積及び発熱ピークの総発熱面積を算出する。発熱ピークの立ち上がり温度から所定温度までの面積を総発熱面積で割り100を乗じた値を所定温度における反応率とする。
 ある態様では、特定混練温度は、特定脱溶剤温度よりも1℃~100℃低いことが好ましく、10℃~90℃低いことがより好ましく、20℃~85℃低いことがさらに好ましい。
 また、ある態様では、特定混練温度は、50℃~150℃が好ましく、60℃~140℃がより好ましく、70℃~120℃がさらに好ましい。
 第二又は第四の混合物に硬化促進剤を加える方法は特に限定されるものではない。混練装置としてスクリュー式混練機を用いる場合、特定脱溶剤温度で第一又は第三の混合物を混練して第二又は第四の混合物を得た後、サイドフィードによって第二又は第四の混合物に硬化促進剤を添加する方法が好ましい。
 サイドフィードによって第二又は第四の混合物に硬化促進剤を添加する場合、第二又は第四の混合物に硬化促進剤を直接添加してもよいし、硬化促進剤を硬化剤、無機充填材等と混合してマスターバッチを調製し、マスターバッチを第二又は第四の混合物に添加してもよい。硬化促進剤の添加量の精度を向上するため、マスターバッチを第二又は第四の混合物に添加することが好ましい。
 マスターバッチを第二又は第四の混合物に添加する場合、混練工程において混練物として得られた熱硬化性樹脂組成物に占めるマスターバッチの比率は50質量%以下であることが望ましい。
 ある態様では、混練物として得られた熱硬化性樹脂組成物に占めるマスターバッチの比率は50質量%未満が好ましく、30質量%未満がより好ましく、25質量%未満がさらに好ましい。50質量%以下だとマスターバッチを第二又は第四の混合物に添加した後の混合性が向上する傾向にある。マスターバッチの比率は、5質量%以上であってもよい。
(後処理)
 本開示の製造方法では、混練物として得られた熱硬化性樹脂組成物を冷却及び粉砕し、粉体状の熱硬化性樹脂組成物を得てもよい。また、混練を経て得られた熱硬化性樹脂組成物を粒状、タブレット状、ペレット状又はグラニュール状(円柱状の顆粒等)に成形してもよい。熱硬化性樹脂組成物の粉砕方法又は成形方法は特に限定されるものではなく、従来から公知の方法を用いることができる。
 本開示の製造方法では、脱溶剤工程と混練工程とが連続的に行われてもよい。また、本開示の製造方法では、脱溶剤工程がバッチ式で行われてもよい。
 脱溶剤工程と混練工程とが連続的に行われる場合、脱溶剤工程及び混練工程の実施に、スクリュー式混練機を用いることが好ましい。スクリュー式混練機を用いる場合、脱溶剤工程の後引き続き混練工程を実施することで、脱溶剤工程と混練工程とを連続的に行うことができる。
 脱溶剤工程がバッチ式で行われる場合、脱溶剤工程で得られた第二又は第四の混合物を冷却及び粉砕して粉体状とし、この粉体状の第二又は第四の混合物に硬化促進剤を加えてスクリュー式混練機で混練することで熱硬化性樹脂組成物を得てもよい。この場合、硬化促進剤の第二又は第四の混合物への添加方法は特に限定されるものではなく、第二又は第四の混合物と硬化促進剤とを混合したものをスクリュー式混練機で混練してもよいし、サイドフィードによって第二又は第四の混合物に硬化促進剤を添加してもよい。
 次に、本開示の製造方法で用いられる各種成分の詳細について説明する。
(熱硬化性樹脂)
 本開示の製造方法により製造される熱硬化性樹脂組成物は、熱硬化性樹脂を含有する。
 熱硬化性樹脂の種類は特に制限されず、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ユリア樹脂、チオール樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、シリコーン樹脂、マレイミド樹脂、不飽和ポリエステル樹脂等が挙げられる。本開示では、エポキシ基を含有するアクリル樹脂等の、熱可塑性と熱硬化性の両方の性質を示すものは「熱硬化性樹脂」に含めるものとする。熱硬化性樹脂は、常温常圧下(例えば、25℃、大気圧下)で固体であっても液体であってもよく、固体であることが好ましい。熱硬化性樹脂は1種類を単独で用いても2種類以上を組み合わせて用いてもよい。
 熱硬化性樹脂は、エポキシ樹脂を含むことが好ましい。
 エポキシ樹脂は、1分子中に2個以上のエポキシ基を有するものであればその種類は特に制限されない。
 具体的には、フェノール、クレゾール、キシレノール、レゾルシン、カテコール、ビスフェノールA、ビスフェノールF等のフェノール化合物及びα-ナフトール、β-ナフトール、ジヒドロキシナフタレン等のナフトール化合物からなる群より選ばれる少なくとも1種のフェノール性化合物と、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド等の脂肪族アルデヒド化合物とを酸性触媒下で縮合又は共縮合させて得られるノボラック樹脂をエポキシ化したものであるノボラック型エポキシ樹脂(フェノールノボラック型エポキシ樹脂、オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂等);上記フェノール性化合物と、ベンズアルデヒド、サリチルアルデヒド等の芳香族アルデヒド化合物とを酸性触媒下で縮合又は共縮合させて得られるトリフェニルメタン型フェノール樹脂をエポキシ化したものであるトリフェニルメタン型エポキシ樹脂;上記フェノール化合物及びナフトール化合物と、アルデヒド化合物とを酸性触媒下で共縮合させて得られるノボラック樹脂をエポキシ化したものである共重合型エポキシ樹脂;ビスフェノールA、ビスフェノールF等のジグリシジルエーテルであるジフェニルメタン型エポキシ樹脂;アルキル置換又は非置換のビフェノールのジグリシジルエーテルであるビフェニル型エポキシ樹脂;スチルベン系フェノール化合物のジグリシジルエーテルであるスチルベン型エポキシ樹脂;ビスフェノールS等のジグリシジルエーテルである硫黄原子含有型エポキシ樹脂;ブタンジオール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール等のアルコール類のグリシジルエーテルであるエポキシ樹脂;フタル酸、イソフタル酸、テトラヒドロフタル酸等の多価カルボン酸化合物のグリシジルエステルであるグリシジルエステル型エポキシ樹脂;アニリン、ジアミノジフェニルメタン、イソシアヌル酸等の窒素原子に結合した活性水素をグリシジル基で置換したものであるグリシジルアミン型エポキシ樹脂;ジシクロペンタジエンとフェノール化合物の共縮合樹脂をエポキシ化したものであるジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂;分子内のオレフィン結合をエポキシ化したものであるビニルシクロヘキセンジエポキシド、3,4-エポキシシクロヘキシルメチル-3,4-エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、2-(3,4-エポキシ)シクロヘキシル-5,5-スピロ(3,4-エポキシ)シクロヘキサン-m-ジオキサン等の脂環型エポキシ樹脂;パラキシリレン変性フェノール樹脂のグリシジルエーテルであるパラキシリレン変性エポキシ樹脂;メタキシリレン変性フェノール樹脂のグリシジルエーテルであるメタキシリレン変性エポキシ樹脂;テルペン変性フェノール樹脂のグリシジルエーテルであるテルペン変性エポキシ樹脂;ジシクロペンタジエン変性フェノール樹脂のグリシジルエーテルであるジシクロペンタジエン変性エポキシ樹脂;シクロペンタジエン変性フェノール樹脂のグリシジルエーテルであるシクロペンタジエン変性エポキシ樹脂;多環芳香環変性フェノール樹脂のグリシジルエーテルである多環芳香環変性エポキシ樹脂;ナフタレン環含有フェノール樹脂のグリシジルエーテルであるナフタレン型エポキシ樹脂;ハロゲン化フェノールノボラック型エポキシ樹脂;ハイドロキノン型エポキシ樹脂;トリメチロールプロパン型エポキシ樹脂;オレフィン結合を過酢酸等の過酸で酸化して得られる線状脂肪族エポキシ樹脂;フェノールアラルキル樹脂、ナフトールアラルキル樹脂等のアラルキル型フェノール樹脂をエポキシ化したものであるアラルキル型エポキシ樹脂;などが挙げられる。さらにはシリコーン樹脂のエポキシ化物、アミノフェノールのグリシジルエーテルであるアミノフェノール型エポキシ樹脂等もエポキシ樹脂として挙げられる。これらのエポキシ樹脂は、1種類を単独で用いても2種類以上を組み合わせて用いてもよい。
 上記エポキシ樹脂の中でも、耐熱性と流動性のバランスの観点から、ビフェニル型エポキシ樹脂、スチルベン型エポキシ樹脂、ジフェニルメタン型エポキシ樹脂、硫黄原子含有型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、トリフェニルメタン型エポキシ樹脂、共重合型エポキシ樹脂及びアラルキル型エポキシ樹脂からなる群より選ばれるエポキシ樹脂(これらを「特定エポキシ樹脂」と称する)が好ましい。特定エポキシ樹脂は、1種類を単独で用いても2種類以上を組み合わせて用いてもよい。
 エポキシ樹脂が特定エポキシ樹脂を含む場合、特定エポキシ樹脂の性能を発揮する観点からは、その含有率がエポキシ樹脂全体の30質量%以上であることが好ましく、50質量%以上であることがより好ましい。
 特定エポキシ樹脂の中でも、流動性の観点からは、ビフェニル型エポキシ樹脂、スチルベン型エポキシ樹脂、ジフェニルメタン型エポキシ樹脂又は硫黄原子含有型エポキシ樹脂がより好ましく、耐熱性の観点からは、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、トリフェニルメタン型エポキシ樹脂又はアラルキル型エポキシ樹脂が好ましい。以下、好ましいエポキシ樹脂の具体例を示す。
 ビフェニル型エポキシ樹脂は、ビフェニル骨格を有するエポキシ樹脂であれば特に限定されない。例えば、下記一般式(II)で表されるエポキシ樹脂が好ましい。下記一般式(II)で表されるエポキシ樹脂の中でもRのうち酸素原子が置換している位置を4及び4’位としたときの3,3’,5,5’位がメチル基であり、それ以外のRが水素原子であるYX-4000H(三菱ケミカル株式会社、商品名)、全てのRが水素原子である4,4’-ビス(2,3-エポキシプロポキシ)ビフェニル、全てのRが水素原子の場合及びRのうち酸素原子が置換している位置を4及び4’位としたときの3,3’,5,5’位がメチル基でそれ以外のRが水素原子である場合の混合品であるYL-6121H(三菱ケミカル株式会社、商品名)等が市販品として入手可能である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
 式(II)中、Rは水素原子、炭素数1~12のアルキル基又は炭素数4~18の芳香族基を示し、それぞれ全てが同一でも異なっていてもよい。nは平均値であり、0~10の数を示す。
 スチルベン型エポキシ樹脂は、スチルベン骨格を有するエポキシ樹脂であれば特に限定されない。例えば、下記一般式(III)で表されるエポキシ樹脂が好ましい。下記一般式(III)で表されるエポキシ樹脂の中でも、Rのうち酸素原子が置換している位置を4及び4’位としたときの3,3’,5,5’位がメチル基であり、それ以外のRが水素原子であり、R10の全てが水素原子である場合と、Rのうち3,3’,5,5’位のうちの3つがメチル基であり、1つがt-ブチル基であり、それ以外のRが水素原子であり、R10の全てが水素原子である場合との混合品等が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
 式(III)中、R及びR10は水素原子又は炭素数1~18の1価の有機基を示し、それぞれ全てが同一でも異なっていてもよい。nは平均値であり、0~10の数を示す。
 ジフェニルメタン型エポキシ樹脂は、ジフェニルメタン骨格を有するエポキシ樹脂であれば特に限定されない。例えば、下記一般式(IV)で表されるエポキシ樹脂が好ましい。下記一般式(IV)で表されるエポキシ樹脂の中でも、R11の全てが水素原子であり、R12のうち酸素原子が置換している位置を4及び4’位としたときの3,3’,5,5’位がメチル基であり、それ以外のR12が水素原子であるYSLV-80XY(日鉄ケミカル&マテリアル株式会社、商品名)等が市販品として入手可能である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
 式(IV)中、R11及びR12は水素原子又は炭素数1~18の1価の有機基を示し、それぞれ全てが同一でも異なっていてもよい。nは平均値であり、0~10の数を示す。
 硫黄原子含有型エポキシ樹脂は、硫黄原子を含有するエポキシ樹脂であれば特に限定されない。例えば、下記一般式(V)で表されるエポキシ樹脂が挙げられる。下記一般式(V)で表されるエポキシ樹脂の中でも、R13のうち酸素原子が置換している位置を4及び4’位としたときの3,3’位がt-ブチル基であり、6,6’位がメチル基であり、それ以外のR13が水素原子であるYSLV-120TE(日鉄ケミカル&マテリアル株式会社、商品名)等が市販品として入手可能である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
 式(V)中、R13は水素原子又は炭素数1~18の1価の有機基を示し、それぞれ全てが同一でも異なっていてもよい。nは平均値であり、0~10の数を示す。
 ノボラック型エポキシ樹脂は、ノボラック型フェノール樹脂をエポキシ化して得られるエポキシ樹脂であれば、特に限定されない。例えば、フェノールノボラック樹脂、クレゾールノボラック樹脂、ナフトールノボラック樹脂等のノボラック型フェノール樹脂をグリシジルエーテル化等の手法を用いてエポキシ化して得られるエポキシ樹脂が好ましく、下記一般式(VI)で表されるエポキシ樹脂がより好ましい。下記一般式(VI)で表されるエポキシ樹脂の中でも、R14の全てが水素原子であり、R15がメチル基であり、i=1であるESCN-190及びESCN-195(住友化学株式会社、商品名)、R14の全てが水素原子であり、i=0であるN-770及びN-775(DIC株式会社、商品名)、R14の全てが水素原子であり、i=0である部分と、i=1でありR15が-CH(CH)-Phである部分と、を有するスチレン変性フェノールノボラック型エポキシ樹脂であるYDAN-1000-10C(日鉄ケミカル&マテリアル株式会社、商品名)、R14の全てが水素原子であり、i=1でありR15がメチル基である部分と、i=2でありR15のうち一つがメチル基で一つがベンジル基である部分と、を有するベンジル基変性クレゾールノボラック型エポキシ樹脂等が市販品として入手可能である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
 式(VI)中、R14は水素原子又は炭素数1~18の1価の有機基を示し、それぞれ全てが同一でも異なっていてもよい。R15は炭素数1~18の1価の有機基を示し、それぞれ全てが同一でも異なっていてもよい。iは各々独立に0~3の整数を示す。nは平均値であり、0~10の数を示す。
 ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂は、ジシクロペンタジエン骨格を有する化合物を原料としてエポキシ化して得られるエポキシ樹脂であれば特に限定されない。例えば、下記一般式(VII)で表されるエポキシ樹脂が好ましい。下記一般式(VII)で表されるエポキシ樹脂の中でも、i=0であるHP-7200(DIC株式会社、商品名)等が市販品として入手可能である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
 式(VII)中、R16は炭素数1~18の1価の有機基を示し、それぞれ全てが同一でも異なっていてもよい。iは各々独立に0~3の整数を示す。nは平均値であり、0~10の数を示す。
 トリフェニルメタン型エポキシ樹脂は、トリフェニルメタン骨格を持つ化合物を原料とするエポキシ樹脂であれば特に制限されない。例えば、芳香族アルデヒド化合物とフェノール性化合物とから得られたトリフェニルメタン型フェノール樹脂をグリシジルエーテル化して得られるエポキシ樹脂が好ましく、下記一般式(VIII)で表されるエポキシ樹脂がより好ましい。下記一般式(VIII)で表されるエポキシ樹脂の中でも、iが0であり、kが0である1032H60(三菱ケミカル株式会社、商品名)、EPPN-502H(日本化薬株式会社、商品名)等が市販品として入手可能である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007

 
 式(VIII)中、R17及びR18は炭素数1~18の1価の有機基を示し、それぞれ全てが同一でも異なっていてもよい。iは各々独立に0~3の整数、kは各々独立に0~4の整数を示す。nは平均値であり、0~10の数を示す。
 ナフトール化合物及びフェノール化合物と、アルデヒド化合物とから得られるノボラック樹脂をエポキシ化した共重合型エポキシ樹脂は、ナフトール骨格を有する化合物及びフェノール骨格を有する化合物を原料とするエポキシ樹脂であれば、特に限定されない。例えば、ナフトール骨格を有する化合物及びフェノール骨格を有する化合物を用いたノボラック型フェノール樹脂をグリシジルエーテル化して得られるエポキシ樹脂が好ましく、下記一般式(IX)で表されるエポキシ樹脂がより好ましい。下記一般式(IX)で表されるエポキシ樹脂の中でも、R21がメチル基でiが1であり、jが0であり、kが0であるNC-7300(日本化薬株式会社、商品名)等が市販品として入手可能である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
 式(IX)中、R19~R21は炭素数1~18の1価の有機基を示し、それぞれ全てが同一でも異なっていてもよい。iは各々独立に0~3の整数、jは各々独立に0~2の整数、kは各々独立に0~4の整数を示す。l及びmはそれぞれ平均値であり、0~10の数であり、(l+m)は0~10の数を示す。式(IX)で表されるエポキシ樹脂の末端は、下記式(IX-1)又は(IX-2)のいずれか一方である。式(IX-1)及び(IX-2)において、R19~R21、i、j及びkの定義は式(IX)におけるR19~R21、i、j及びkの定義と同じである。nは1(メチレン基を介して結合する場合)又は0(メチレン基を介して結合しない場合)である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
 上記一般式(IX)で表されるエポキシ樹脂としては、l個の構造単位及びm個の構造単位をランダムに含むランダム共重合体、交互に含む交互共重合体、規則的に含む共重合体、ブロック状に含むブロック共重合体等が挙げられる。これらのいずれか1種類を単独で用いても2種類以上を組み合わせて用いてもよい。
 共重合型エポキシ樹脂としては、下記2種の構造単位をランダム、交互又はブロックの順序で含むメトキシナフタレン・クレゾールホルムアルデヒド共縮合型エポキシ樹脂であるエピクロンHP-5000(DIC株式会社、商品名)もまた好ましい。下記一般式では、n及びmはそれぞれ平均値であり、0~10の数であり、(n+m)は0~10の数を示し、好ましくはn及びmはそれぞれ平均値であり、1~9の数であり、(n+m)は2~10の数を示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
 アラルキル型エポキシ樹脂は、フェノール、クレゾール等のフェノール化合物及びナフトール、ジメチルナフトール等のナフトール化合物からなる群より選ばれる少なくとも1種と、ジメトキシパラキシレン、ビス(メトキシメチル)ビフェニル又はこれらの誘導体と、から合成されるフェノール樹脂を原料とするエポキシ樹脂であれば、特に限定されない。例えば、フェノール、クレゾール等のフェノール化合物及びナフトール、ジメチルナフトール等のナフトール化合物からなる群より選ばれる少なくとも1種と、ジメトキシパラキシレン、ビス(メトキシメチル)ビフェニル又はこれらの誘導体とから合成されるフェノール樹脂をグリシジルエーテル化して得られるエポキシ樹脂が好ましく、下記一般式(X)及び(XI)で表されるエポキシ樹脂がより好ましい。
 下記一般式(X)で表されるエポキシ樹脂の中でも、iが0であり、R38が水素原子であるNC-3000S(日本化薬株式会社、商品名)、iが0であり、R38が水素原子であるエポキシ樹脂と一般式(II)の全てのRが水素原子であるエポキシ樹脂を質量比80:20で混合したCER-3000(日本化薬株式会社、商品名)等が市販品として入手可能である。また、下記一般式(XI)で表されるエポキシ樹脂の中でも、lが0であり、jが0であり、kが0であるESN-175(日鉄ケミカル&マテリアル株式会社、商品名)等が市販品として入手可能である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000011
 式(X)及び(XI)において、R38は水素原子又は炭素数1~18の1価の有機基を示し、それぞれ全てが同一でも異なっていてもよい。R37、R39~R41は炭素数1~18の1価の有機基を示し、それぞれ全てが同一でも異なっていてもよい。iはそれぞれ独立に0~3の整数であり、jはそれぞれ独立に0~2の整数であり、kはそれぞれ独立に0~4の整数であり、lはそれぞれ独立に0~4の整数を示す。nは平均値であり、それぞれ独立に0~10の数である。
 上記一般式(II)~(XI)中のR~R21及びR37~R41について、「それぞれ全てが同一でも異なっていてもよい」とは、例えば、式(II)中の8~88個のRの全てが同一でも異なっていてもよいことを意味している。他のR~R21及びR37~R41についても、式中に含まれるそれぞれの個数について全てが同一でも異なっていてもよいことを意味している。また、R~R21及びR37~R41はそれぞれが同一でも異なっていてもよい。例えば、RとR10の全てについて同一でも異なっていてもよい。
 また、一般式(III)~(XI)における炭素数1~18の1価の有機基はアルキル基又はアリール基であることが好ましい。
 上記一般式(II)~(XI)中のnは、平均値であり、それぞれ独立に0~10の範囲であることが好ましい。nが10以下であると樹脂成分の溶融粘度が高くなりすぎず、熱硬化性樹脂組成物の溶融成形時の粘度が低下し、充填不良、ボンディングワイヤ(素子とリードを接続する金線)の変形等の発生が抑制される傾向にある。nは0~4の範囲に設定されることがより好ましい。
 以上、熱硬化性樹脂組成物に使用可能な好ましいエポキシ樹脂の具体例を上記一般式(II)~(XI)に沿って説明したが、より具体的な好ましいエポキシ樹脂として、耐熱性の観点からは、4,4’-ビス(2,3-エポキシプロポキシ)-3,3’,5,5’-テトラメチルビフェニルが挙げられ、成形性及び耐熱性の観点からは、4,4’-ビス(2,3-エポキシプロポキシ)-ビフェニルが挙げられる。
 エポキシ樹脂のエポキシ当量は特に制限されない。成形性、耐熱性及び電気的信頼性等の各種特性バランスの観点からは、エポキシ樹脂のエポキシ当量は、60g/eq~1000g/eqであることが好ましく、80g/eq~500g/eqであることがより好ましい。
 エポキシ樹脂は、液状であっても固形であってもよい。エポキシ樹脂が固形である場合、エポキシ樹脂の軟化点又は融点は特に制限されない。成形性と耐熱性の観点からは40℃~180℃であることが好ましく、熱硬化性樹脂組成物の調製の際の取扱い性の観点からは50℃~130℃であることがより好ましい。
 本開示において、軟化点は、JIS K 7234:1986の環球法により測定された値をいう。
 本開示において、融点は、JIS K 0064:1992の目視による方法に則って測定された値をいう。
 熱硬化性樹脂組成物中のエポキシ樹脂の含有率は、強度、流動性、耐熱性、成形性等の観点から0.5質量%~60質量%であることが好ましく、2質量%~50質量%であることがより好ましい。
(硬化剤)
 本開示の製造方法により製造される熱硬化性樹脂組成物は、硬化剤を含有する。
 硬化剤の種類は特に制限されず、併用する熱硬化性樹脂と硬化反応を生じる化合物であれば特に制限されない。例えば、エポキシ樹脂と併用する硬化剤としては、フェノール系硬化剤、アミン系硬化剤、酸無水物系硬化剤、ポリメルカプタン系硬化剤、ポリアミノアミド系硬化剤、イソシアネート系硬化剤、ブロックイソシアネート系硬化剤等が挙げられる。硬化剤は、1種類を単独で用いても2種類以上を組み合わせて用いてもよい。硬化剤は、常温常圧下(例えば、25℃、大気圧下)で固体であっても液体であってもよく、固体であることが好ましい。
 熱硬化性樹脂がエポキシ樹脂である場合、硬化剤は、耐熱性の観点から、フェノール系硬化剤又はアミン系硬化剤が好ましい。
 フェノール系硬化剤としては、例えば、1分子中に2個以上のフェノール性水酸基を有するフェノール樹脂及び多価フェノール化合物が挙げられる。具体的には、レゾルシン、カテコール、ビスフェノールA、ビスフェノールF、置換又は非置換のビフェノール等の多価フェノール化合物;フェノール、クレゾール、キシレノール、レゾルシン、カテコール、ビスフェノールA、ビスフェノールF、フェニルフェノール、アミノフェノール等のフェノール化合物及びα-ナフトール、β-ナフトール、ジヒドロキシナフタレン等のナフトール化合物からなる群より選ばれる少なくとも一種のフェノール性化合物と、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド等のアルデヒド化合物とを酸性触媒下で縮合又は共縮合させて得られるノボラック型フェノール樹脂;上記フェノール性化合物と、ジメトキシパラキシレン、ビス(メトキシメチル)ビフェニル等とから合成されるフェノールアラルキル樹脂、ナフトールアラルキル樹脂等のアラルキル型フェノール樹脂;パラキシリレン変性フェノール樹脂、メタキシリレン変性フェノール樹脂;メラミン変性フェノール樹脂;テルペン変性フェノール樹脂;上記フェノール性化合物と、ジシクロペンタジエンとから共重合により合成されるジシクロペンタジエン型フェノール樹脂及びジシクロペンタジエン型ナフトール樹脂;シクロペンタジエン変性フェノール樹脂;多環芳香環変性フェノール樹脂;ビフェニル型フェノール樹脂;上記フェノール性化合物と、ベンズアルデヒド、サリチルアルデヒド等の芳香族アルデヒド化合物とを酸性触媒下で縮合又は共縮合させて得られるトリフェニルメタン型フェノール樹脂;これら2種以上を共重合して得たフェノール樹脂などが挙げられる。これらのフェノール系硬化剤は、1種類を単独で用いても2種類以上を組み合わせて用いてもよい。
 フェノール系硬化剤の中でも、耐熱性の観点からはアラルキル型フェノール樹脂、ジシクロペンタジエン型フェノール樹脂、トリフェニルメタン型フェノール樹脂、トリフェニルメタン型フェノール樹脂とアラルキル型フェノール樹脂との共重合型フェノール樹脂、及びノボラック型フェノール樹脂からなる群より選択される少なくとも1種(これらを「特定フェノール系硬化剤」と称する)が好ましい。特定フェノール系硬化剤は、1種類を単独で用いても2種類以上を組み合わせて用いてもよい。
 フェノール系硬化剤が特定フェノール系硬化剤を含む場合、それらの性能を充分に発揮する観点から、特定フェノール系硬化剤の含有率はフェノール系硬化剤全体の30質量%以上であることが好ましく、50質量%以上であることがより好ましい。
 アラルキル型フェノール樹脂としては、フェノール性化合物と、ジメトキシパラキシレン、ビス(メトキシメチル)ビフェニル等とから合成されるフェノールアラルキル樹脂、ナフトールアラルキル樹脂等が挙げられる。アラルキル型フェノール樹脂は、さらに他のフェノール樹脂と共重合していてもよい。共重合したアラルキル型フェノール樹脂としては、トリフェニルメタン型フェノール樹脂とアラルキル型フェノール樹脂との共重合型フェノール樹脂、サリチルアルデヒド型フェノール樹脂とアラルキル型フェノール樹脂との共重合型フェノール樹脂、ノボラック型フェノール樹脂とアラルキル型フェノール樹脂との共重合型フェノール樹脂等が挙げられる。
 アラルキル型フェノール樹脂は、フェノール化合物及びナフトール化合物からなる群より選ばれる少なくとも1種と、ジメトキシパラキシレン、ビス(メトキシメチル)ビフェニル又はこれらの誘導体と、から合成されるフェノール樹脂であれば特に限定されない。例えば、下記一般式(XII)~(XIV)で表されるフェノール樹脂が好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000012
 式(XII)~(XIV)において、R23は水素原子又は炭素数1~18の1価の有機基を示し、それぞれ全てが同一でも異なっていてもよい。R22、R24、R25及びR28は炭素数1~18の1価の有機基を示し、それぞれ全てが同一でも異なっていてもよい。R26及びR27は水酸基又は炭素数1~18の1価の有機基を示し、それぞれ全てが同一でも異なっていてもよい。iはそれぞれ独立に0~3の整数であり、jはそれぞれ独立に0~2の整数であり、kはそれぞれ独立に0~4の整数であり、pはそれぞれ独立に0~4の整数である。nは平均値であり、それぞれ独立に0~10の数である。
 上記一般式(XII)で表されるフェノール樹脂の中でも、iが0であり、R23が全て水素原子であるMEH-7851(明和化成株式会社、商品名)等が市販品として入手可能である。
 上記一般式(XIII)で表されるフェノール樹脂の中でも、iが0であり、kが0であるXL-225、XLC(三井化学株式会社、商品名)、MEH-7800(明和化成株式会社、商品名)等が市販品として入手可能である。
 上記一般式(XIV)で表されるフェノール樹脂の中でも、jが0であり、kが0であり、pが0であるSN-170(日鉄ケミカル&マテリアル株式会社、商品名)、jが0であり、kが1であり、R27が水酸基であり、pが0であるSN-395(日鉄ケミカル&マテリアル株式会社、商品名)等が市販品として入手可能である。
 ジシクロペンタジエン型フェノール樹脂は、ジシクロペンタジエン骨格を有する化合物を原料として得られるフェノール樹脂であれば特に限定されない。例えば、下記一般式(XV)で表されるフェノール樹脂が好ましい。下記一般式(XV)で表されるフェノール樹脂の中でも、iが0であるフェノール樹脂が市販品として入手可能である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000013
 式(XV)中、R29は炭素数1~18の1価の有機基を示し、それぞれ全てが同一でも異なっていてもよい。iは各々独立に0~3の整数を示す。nは平均値であり、0~10の数を示す。
 トリフェニルメタン型フェノール樹脂は、芳香族アルデヒド化合物を原料として得られるフェノール樹脂であれば特に限定されない。例えば、下記一般式(XVI)で表されるフェノール樹脂が好ましい。
 下記一般式(XVI)で表されるフェノール樹脂の中でも、iが0であり、kが0であるMEH-7500(明和化成株式会社、商品名)等が市販品として入手可能である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000014
 式(XVI)中、R30及びR31は炭素数1~18の1価の有機基を示し、それぞれ全てが同一でも異なっていてもよい。iはそれぞれ独立に0~3の整数であり、kはそれぞれ独立に0~4の整数である。nは平均値であり、0~10の数である。
 トリフェニルメタン型フェノール樹脂とアラルキル型フェノール樹脂との共重合型フェノール樹脂は、ベンズアルデヒド骨格を有する化合物を原料として得られるフェノール樹脂とアラルキル型フェノール樹脂との共重合型フェノール樹脂であれば特に限定されない。例えば、下記一般式(XVII)で表されるフェノール樹脂が好ましい。
 下記一般式(XVII)で表されるフェノール樹脂の中でも、iが0であり、kが0であり、qが0であるHE-510(エア・ウォーター・ケミカル株式会社、商品名)等が市販品として入手可能である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000015
 式(XVII)中、R32~R34は炭素数1~18の1価の有機基を示し、それぞれ全てが同一でも異なっていてもよい。iはそれぞれ独立に0~3の整数であり、kはそれぞれ独立に0~4の整数であり、qはそれぞれ独立に0~5の整数である。l及びmはそれぞれ平均値であり、それぞれ独立に0~11の数である。ただし、lとmの合計は1~11の数である。
 ノボラック型フェノール樹脂は、フェノール化合物及びナフトール化合物からなる群より選ばれる少なくとも1種のフェノール性化合物と、アルデヒド化合物とを酸性触媒下で縮合又は共縮合させて得られるフェノール樹脂であれば特に限定されない。例えば、下記一般式(XVIII)で表されるフェノール樹脂が好ましい。
 下記一般式(XVIII)で表されるフェノール樹脂の中でも、iが0であり、R35が全て水素原子であるタマノル758、759(荒川化学工業株式会社、商品名)、H-4(明和化成株式会社、商品名)等が市販品として入手可能である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000016
 式(XVIII)中、R35は水素原子又は炭素数1~18の1価の有機基を示し、それぞれ全てが同一でも異なっていてもよい。R36は炭素数1~18の1価の有機基を示し、それぞれ全てが同一でも異なっていてもよい。iは各々独立に0~3の整数を示す。nは平均値であり、0~10の数を示す。
 上記一般式(XII)~(XVIII)におけるR22~R36について記載した「それぞれ全てが同一でも異なっていてもよい」は、例えば、式(XII)中のi個のR22の全てが同一でも相互に異なっていてもよいことを意味している。他のR23~R36についても、式中に含まれるそれぞれの個数について全てが同一でも相互に異なっていてもよいことを意味している。また、R22~R36は、それぞれが同一でも異なっていてもよい。例えば、R22及びR23の全てについて同一でも異なっていてもよく、R30及びR31の全てについて同一でも異なっていてもよい。
 上記一般式(XII)~(XVIII)におけるnは、0~10の範囲であることが好ましい。10以下であると樹脂成分の溶融粘度が高くなりすぎず、熱硬化性樹脂組成物の溶融成形時の粘度も低くなり、充填不良、ボンディングワイヤ(素子とリードを接続する金線)の変形等が発生し難くなる。1分子中の平均nは0~4の範囲に設定されることが好ましい。
 アミン系硬化剤としては、具体的には、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、n-プロピルアミン、2-ヒドロキシエチルアミノプロピルアミン、シクロヘキシルアミン、4,4’-ジアミノ-ジシクロヘキシルメタン等の脂肪族アミン化合物、ジエチルトルエンジアミン、3,3’-ジエチル-4,4’-ジアミノジフェニルメタン、ジメチルチオトルエンジアミン、2-メチルアニリン等の芳香族アミン化合物、イミダゾール、2-メチルイミダゾール、2-エチルイミダゾール、2-イソプロピルイミダゾール等のイミダゾール化合物、イミダゾリン、2-メチルイミダゾリン、2-エチルイミダゾリン等のイミダゾリン化合物などが挙げられる。これらの中でも保存安定性の観点からは、芳香族アミン化合物が好ましく、ジエチルトルエンジアミン、3,3’-ジエチル-4,4’-ジアミノジフェニルメタン及びジメチルチオトルエンジアミンがより好ましい。
 硬化剤の官能基当量(フェノール硬化剤の場合は水酸基当量、アミン系硬化剤の場合は活性水素当量)は、特に制限されない。成形性、耐熱性、電気的信頼性等の各種特性バランスの観点からは、10g/eq~1000g/eqであることが好ましく、30g/eq~500g/eqであることがより好ましい。
 フェノール硬化剤の場合における水酸基当量は、JIS K0070:1992に準拠して測定された水酸基価に基づいて算出された値をいう。また、アミン系硬化剤の場合における活性水素当量は、JIS K7237:1995に準拠して測定されたアミン価に基づいて算出された値をいう。
 硬化剤が固体である場合の軟化点又は融点は、特に制限されない。成形性と耐熱性の観点からは、40℃~180℃であることが好ましく、熱硬化性樹脂組成物の製造時における取扱い性の観点からは、50℃~130℃であることがより好ましい。
 熱硬化性樹脂がエポキシ樹脂である場合、エポキシ樹脂と硬化剤との当量比(樹脂中のエポキシ基のモル数/硬化剤の活性水素のモル数)は、特に制限はないが、それぞれの未反応分を少なく抑える観点から、例えば、0.7~1.6であることが好ましく、0.8~1.4であることがより好ましく、0.9~1.2であることがさらに好ましい。
(スラリー)
 本開示の製造方法では、無機充填材と溶剤とを含むスラリーが用いられる。
 スラリーは、無機充填材と溶剤と必要に応じて用いられるカップリング剤、分散剤等とを、撹拌機、プラネタリミキサー等の混合機、超音波分散機、ジェットミル等の湿式の分散機などを用いて混合することで得られる。スラリーを準備する際の混合条件は、スラリーに含まれる成分の種類、成分の比率等によって適宜設定される。
 また、スラリーに含まれる無機充填材に対して、湿式のふるい分け処理を施してもよい。乾式のふるい分けに比較して湿式のふるい分け処理の方が、後述のトップカット径を容易に小さくすることができる傾向にある。
 無機充填材のスラリー中における固形分比率は、沈降抑制の観点から40質量%~90質量%であることが好ましく、50質量%~85質量%であることがより好ましく、60質量%~80質量%であることがさらに好ましい。
-無機充填材-
 スラリーは、無機充填材を含有する。
 無機充填材の種類は、特に制限されない。具体的には、球状シリカ、結晶シリカ等のシリカ、ガラス、アルミナ、炭酸カルシウム、ケイ酸ジルコニウム、ケイ酸カルシウム、窒化珪素、窒化アルミニウム、窒化ホウ素、窒化アルミニウム、ベーマイト、ベリリア、酸化マグネシウム、ジルコニア、ジルコン、フォステライト、ステアタイト、スピネル、ムライト、チタニア、タルク、クレー、マイカ、チタン酸塩などの無機材料が挙げられる。難燃効果を有する無機充填材を用いてもよい。難燃効果を有する無機充填材としては、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、マグネシウムと亜鉛の複合水酸化物等の複合金属水酸化物、硼酸亜鉛などが挙げられる。中でも、線膨張係数低減の観点からは球状シリカが好ましく、高熱伝導性の観点からはアルミナが好ましい。無機充填材は1種類を単独で用いても2種類以上を組み合わせて用いてもよい。無機充填材の状態としては粉体状、粉体を球形化したビーズ、繊維等が挙げられる。
 無機充填材のトップカット径は特に制限されない。30μm以下の狭い隙間への充填性の観点からは、無機充填材のトップカット径は10μm以下であることが好ましく、7μm以下であることがより好ましく、6μm以下であることがさらに好ましく、5μm以下であることが特に好ましい。無機充填材のトップカット径は、熱硬化性樹脂組成物の粘度の上昇抑制の観点から、1μm以上であってもよい。
 本開示において、無機充填材のトップカット径とは、レーザー回折散乱法粒度分布測定装置により、小径側から体積累積分布曲線を描いた場合に、体積積算値が90体積%となるときの粒径値をいう。
 無機充填材の平均粒子径は、特に制限されない。例えば、体積平均粒子径が10μm以下であることが好ましく、0.1μm~10μmであることがより好ましく、0.1μm~8μmであることがさらに好ましく、0.2μm~6μmであることが特に好ましい。体積平均粒子径が10μm以下であると、狭い隙間への充填性が向上する傾向にある。また、体積平均粒子径が0.1μm以上であると、熱硬化性樹脂組成物の粘度の上昇がより抑制される傾向がある。
 無機充填材の体積平均粒子径は、レーザー回折散乱法粒度分布測定装置により、体積平均粒子径(D50)として測定することができる。
 熱硬化性樹脂組成物の流動性の観点からは、無機充填材の粒子形状は角形よりも球形が好ましく、また無機充填材の粒度分布は広範囲に分布したものが好ましい。
 熱硬化性樹脂組成物中の無機充填材の含有率は特に制限されない。流動性及び強度の観点からは、熱硬化性樹脂組成物全体の30体積%~95体積%であることが好ましく、35体積%~90体積%であることがより好ましく、40体積%~80体積%であることがさらに好ましい。無機充填材の含有率が熱硬化性樹脂組成物全体の30体積%以上であると、硬化物の熱膨張係数、熱伝導率、弾性率等の特性がより向上する傾向にある。無機充填材の含有率が熱硬化性樹脂組成物全体の95体積%以下であると、熱硬化性樹脂組成物の粘度の上昇が抑制され、流動性がより向上して成形性がより良好になる傾向にある。
-溶剤-
 スラリーは、溶剤を含有する。
 溶剤の種類は特に限定されるものではなく、脱溶剤工程において第一又は第三の混合物から容易に除去可能なものから適宜選択される。
 第一又は第三の混合物中に含有される溶剤は、熱硬化性樹脂及び硬化剤の一方を溶解するものであってもよいし溶解しないものであってもよい。
 溶剤の常圧での沸点は、第一又は第三の混合物から容易に除去可能になることから、50℃~200℃であることが好ましく、60℃~180℃であることがより好ましく、70℃~160℃であることがさらに好ましく、70℃~140℃であることが特に好ましく、70℃~130℃であることが極めて好ましい。
 溶剤の具体例としては、メチルエチルケトン(MEK)、メチルイソブチルケトン(MIBK)、トルエン、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、シクロヘキサノン(CHN)等が挙げられる。これらの中でも、MIBK、CHN又はMEKが好ましい。
 溶剤は、1種類を単独で用いても2種類以上を組み合わせて用いてもよい。
-カップリング剤-
 スラリーは、カップリング剤をさらに含有してもよい。カップリング剤の種類は特に制限されず、公知のカップリング剤を使用することができる。カップリング剤としては、シランカップリング剤、チタンカップリング剤等が挙げられる。カップリング剤は、1種類を単独で使用しても、2種類以上を併用してもよい。
 シランカップリング剤としては、具体的には、例えば、3-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3-グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、3-グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、3-グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、2-(3,4-エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、3-アミノプロピルトリエトキシシラン、3-(2-アミノエチル)アミノプロピルトリメトキシシラン、3-(2-アミノエチル)アミノプロピルトリエトキシシラン、3-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-フェニル-3-アミノプロピルトリメトキシシラン、3-メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3-メルカプトプロピルトリエトキシシラン、3-ウレイドプロピルトリエトキシシラン、オクテニルトリメトキシシラン、グリシドキシオクチルトリメトキシシラン、及びメタクリロキシオクチルトリメトキシシランを挙げることができる。
 チタンカップリング剤としては、イソプロピルトリイソステアロイルチタネート、イソプロピルトリス(ジオクチルパイロホスフェート)チタネート、イソプロピルトリ(N-アミノエチル-アミノエチル)チタネート、テトラオクチルビス(ジトリデシルホスファイト)チタネート、テトラ(2,2-ジアリルオキシメチル-1-ブチル)ビス(ジトリデシルホスファイト)チタネート、ビス(ジオクチルパイロホスフェート)オキシアセテートチタネート、ビス(ジオクチルパイロホスフェート)エチレンチタネート、イソプロピルトリオクタノイルチタネート、イソプロピルジメタクリルイソステアロイルチタネート、イソプロピルトリドデシルベンゼンスルホニルチタネート、イソプロピルイソステアロイルジアクリルチタネート、イソプロピルトリ(ジオクチルホスフェート)チタネート、イソプロピルトリクミルフェニルチタネート、テトライソプロピルビス(ジオクチルホスファイト)チタネート等が挙げられる。
 スラリーがカップリング剤を含有する場合、カップリング剤の含有量は、熱硬化性樹脂と無機充填材との界面の密着性の観点から、無機充填材100質量部に対して、0.001質量部~10質量部であることが好ましく、0.01質量部~8質量部であることがより好ましく、0.05質量部~5質量部であることがさらに好ましい。
 スラリーがカップリング剤を含有することで、乾式処理法に比較して、無機充填材のカップリング剤による均一な表面処理を行うことができる。そのため、本開示の製造方法により製造される熱硬化性樹脂組成物の流動性が、さらに向上する。
(硬化促進剤)
 本開示の製造方法により製造される熱硬化性樹脂組成物は、硬化促進剤を含有する。硬化促進剤の種類は特に制限されず、熱硬化性樹脂の種類、熱硬化性樹脂組成物の所望の特性等に応じて選択できる。
 具体的には、1,5-ジアザビシクロ[4.3.0]ノネン-5(DBN)、1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデセン-7(DBU)等のジアザビシクロアルケン、2-メチルイミダゾール、2-フェニルイミダゾール、2-フェニル-4-メチルイミダゾール、2-ヘプタデシルイミダゾール等の環状アミジン化合物;前記環状アミジン化合物の誘導体;前記環状アミジン化合物又はその誘導体のフェノールノボラック塩;これらの化合物に無水マレイン酸、1,4-ベンゾキノン、2,5-トルキノン、1,4-ナフトキノン、2,3-ジメチルベンゾキノン、2,6-ジメチルベンゾキノン、2,3-ジメトキシ-5-メチル-1,4-ベンゾキノン、2,3-ジメトキシ-1,4-ベンゾキノン、フェニル-1,4-ベンゾキノン等のキノン化合物、ジアゾフェニルメタンなどの、π結合をもつ化合物を付加してなる分子内分極を有する化合物;DBUのテトラフェニルボレート塩、DBNのテトラフェニルボレート塩、2-エチル-4-メチルイミダゾールのテトラフェニルボレート塩、N-メチルモルホリンのテトラフェニルボレート塩等の環状アミジニウム化合物;ピリジン、トリエチルアミン、トリエチレンジアミン、ベンジルジメチルアミン、トリエタノールアミン、ジメチルアミノエタノール、トリス(ジメチルアミノメチル)フェノール等の三級アミン化合物;前記三級アミン化合物の誘導体;酢酸テトラ-n-ブチルアンモニウム、リン酸テトラ-n-ブチルアンモニウム、酢酸テトラエチルアンモニウム、安息香酸テトラ-n-ヘキシルアンモニウム、水酸化テトラプロピルアンモニウム等のアンモニウム塩化合物;エチルホスフィン、フェニルホスフィン等の1級ホスフィン、ジメチルホスフィン、ジフェニルホスフィン等の2級ホスフィン、トリフェニルホスフィン、ジフェニル(p-トリル)ホスフィン、トリス(アルキルフェニル)ホスフィン、トリス(アルコキシフェニル)ホスフィン、トリス(アルキルアルコキシフェニル)ホスフィン、トリス(ジアルキルフェニル)ホスフィン、トリス(トリアルキルフェニル)ホスフィン、トリス(テトラアルキルフェニル)ホスフィン、トリス(ジアルコキシフェニル)ホスフィン、トリス(トリアルコキシフェニル)ホスフィン、トリス(テトラアルコキシフェニル)ホスフィン、トリアルキルホスフィン、ジアルキルアリールホスフィン、アルキルジアリールホスフィン、トリナフチルホスフィン、トリス(ベンジル)ホスフィン等の3級ホスフィンなどの、有機ホスフィン;前記有機ホスフィンと有機ボロン類との錯体等のホスフィン化合物;前記有機ホスフィン又は前記ホスフィン化合物と無水マレイン酸、1,4-ベンゾキノン、2,5-トルキノン、1,4-ナフトキノン、2,3-ジメチルベンゾキノン、2,6-ジメチルベンゾキノン、2,3-ジメトキシ-5-メチル-1,4-ベンゾキノン、2,3-ジメトキシ-1,4-ベンゾキノン、フェニル-1,4-ベンゾキノン、アントラキノン等のキノン化合物、ジアゾフェニルメタンなどの、π結合をもつ化合物を付加してなる分子内分極を有する化合物;前記有機ホスフィン又は前記ホスフィン化合物と4-ブロモフェノール、3-ブロモフェノール、2-ブロモフェノール、4-クロロフェノール、3-クロロフェノール、2-クロロフェノール、4-ヨウ化フェノール、3-ヨウ化フェノール、2-ヨウ化フェノール、4-ブロモ-2-メチルフェノール、4-ブロモ-3-メチルフェノール、4-ブロモ-2,6-ジメチルフェノール、4-ブロモ-3,5-ジメチルフェノール、4-ブロモ-2,6-ジ-t-ブチルフェノール、4-クロロ-1-ナフトール、1-ブロモ-2-ナフトール、6-ブロモ-2-ナフトール、4-ブロモ-4’-ヒドロキシビフェニル等のハロゲン化フェノール化合物を反応させた後に、脱ハロゲン化水素の工程を経て得られる、分子内分極を有する化合物;テトラフェニルホスホニウム等のテトラ置換ホスホニウム、テトラフェニルホスホニウムテトラ-p-トリルボレート等のテトラ置換ホスホニウムのテトラフェニルボレート塩、テトラ置換ホスホニウムとフェノール化合物との塩などの、テトラ置換ホスホニウム化合物;ホスホベタイン化合物;ホスホニウム化合物とシラン化合物との付加物などが挙げられる。
 例えば熱硬化性樹脂としてエポキシ樹脂を用いる場合に特に好適な硬化促進剤としては、トリフェニルホスフィン、トリフェニルホスフィンとキノン化合物との付加物等が挙げられる。
 また、例えば熱硬化性樹脂としてエポキシ樹脂を用いる場合において、低温硬化が可能な硬化促進剤としては、トリブチルホスフィンと1,4-ベンゾキノンの付加物、ジメチルアミノピリジン、2-エチル-4-メチルイミダゾール、2-メチルイミダゾール、1-ベンジル-2-メチルイミダゾール等が挙げられる。
 硬化促進剤は1種類を単独で用いても2種類以上を組み合わせて用いてもよい。
 熱硬化性樹脂組成物中の硬化促進剤の含有率は、熱硬化性樹脂と硬化剤との合計量に対して、0.1質量%~8質量%であることが好ましく、0.3質量%~6質量%であることがより好ましく、0.5質量%~5質量%であることがさらに好ましい。
(着色剤)
 本開示の製造方法により製造される熱硬化性樹脂組成物は、着色剤を含有してもよい。
 着色剤としてはカーボンブラック、黒色酸化チタン、有機染料、有機顔料、鉛丹、ベンガラ等の公知の着色剤を挙げることができる。着色剤の含有率は目的等に応じて適宜選択できる。着色剤は、1種類を単独で用いても2種類以上を組み合わせて用いてもよい。
 熱硬化性樹脂組成物が着色剤を含有する場合、その含有率は、0.01質量%~5質量%であることが好ましく、0.05質量%~3質量%であることがより好ましい。
 熱硬化性樹脂組成物が着色剤を含有する場合、着色剤は、第一又は第三の混合物中に添加すればよい。
(イオン交換体)
 本開示の製造方法により製造される熱硬化性樹脂組成物は、イオン交換体を含有してもよい。
 特に、半導体装置の耐湿性及び高温放置特性を向上させる観点から、イオン交換体を含有することが好ましい。イオン交換体は特に制限されず、従来公知のものを用いることができる。具体的には、例えば、ハイドロタルサイト化合物、並びに、マグネシウム、アルミニウム、チタン、ジルコニウム及びビスマスからなる群より選ばれる少なくとも1種の元素の含水酸化物が挙げられる。イオン交換体は、1種類を単独で用いても2種類以上を組み合わせて用いてもよい。中でも、下記一般式(A)で表されるハイドロタルサイトが好ましい。
  Mg(1-X)Al(OH)(COX/2・mHO ……(A)
  (0<X≦0.5、mは正の数)
 熱硬化性樹脂組成物がイオン交換体を含有する場合、その含有量は、ハロゲンイオン等のイオンを捕捉するのに充分な量であれば特に制限はない。例えば、熱硬化性樹脂100質量部に対して0.1質量部~30質量部であることが好ましく、1質量部~5質量部であることがより好ましい。
 熱硬化性樹脂組成物がイオン交換体を含有する場合、イオン交換体は、第一又は第三の混合物中に添加すればよい。
(離型剤)
 本開示の製造方法により製造される熱硬化性樹脂組成物は、成形時における金型との良好な離型性を得る観点から、離型剤を含有してもよい。離型剤は特に制限されず、従来公知のものを用いることができる。具体的には、カルナバワックス、モンタン酸、ステアリン酸等の高級脂肪酸、高級脂肪酸金属塩、モンタン酸エステル等のエステル系ワックス、酸化ポリエチレン、非酸化ポリエチレン等のポリオレフィン系ワックスなどが挙げられる。離型剤は、1種類を単独で用いても2種類以上を組み合わせて用いてもよい。
 熱硬化性樹脂組成物が離型剤を含有する場合、その含有量は熱硬化性樹脂100質量部に対して0.01質量部~15質量部が好ましく、0.1質量部~10質量部がより好ましい。離型剤の量が熱硬化性樹脂100質量部に対して0.01質量部以上であると、離型性が充分に得られる傾向にある。離型剤の量が熱硬化性樹脂100質量部に対して15質量部以下であると、より良好な接着性が得られる傾向にある。
 熱硬化性樹脂組成物が離型剤を含有する場合、離型剤は、第一又は第三の混合物中に添加すればよい。
(難燃剤)
 本開示の製造方法により製造される熱硬化性樹脂組成物は、難燃剤を含有してもよい。難燃剤は特に制限されず、従来公知のものを用いることができる。具体的には、ハロゲン原子、アンチモン原子、窒素原子又はリン原子を含む有機又は無機の化合物、金属水酸化物等が挙げられる。難燃剤は、1種類を単独で用いても2種類以上を組み合わせて用いてもよい。
 熱硬化性樹脂組成物が難燃剤を含有する場合、その含有量は、所望の難燃効果を得るのに充分な量であれば特に制限されない。例えば、熱硬化性樹脂100質量部に対して1質量部~30質量部であることが好ましく、2質量部~20質量部であることがより好ましい。
 熱硬化性樹脂組成物が難燃剤を含有する場合、難燃剤は、第一又は第三の混合物中に添加すればよい。
(応力緩和剤)
 本開示の製造方法により製造される熱硬化性樹脂組成物は、シリコーンオイル、シリコーンゴム粒子等の応力緩和剤を含有してもよい。熱硬化性樹脂組成物が応力緩和剤を含有することにより、パッケージの反り変形及びパッケージクラックの発生をより低減させることができる。応力緩和剤としては、一般に使用されている公知の応力緩和剤(可とう剤)が挙げられる。具体的には、シリコーン系、スチレン系、オレフィン系、ウレタン系、ポリエステル系、ポリエーテル系、ポリアミド系、ポリブタジエン系等の熱可塑性エラストマー、NR(天然ゴム)、NBR(アクリロニトリル-ブタジエンゴム)、アクリルゴム、ウレタンゴム、シリコーンパウダー等のゴム粒子、メタクリル酸メチル-スチレン-ブタジエン共重合体(MBS)、メタクリル酸メチル-シリコーン共重合体、メタクリル酸メチル-アクリル酸ブチル共重合体等のコア-シェル構造を有するゴム粒子などが挙げられる。応力緩和剤は、1種類を単独で用いても2種類以上を組み合わせて用いてもよい。中でも、シリコーン系応力緩和剤が好ましい。シリコーン系応力緩和剤としては、エポキシ基を有するもの、アミノ基を有するもの、これらをポリエーテル変性したもの等が挙げられる。
 熱硬化性樹脂組成物が応力緩和剤を含有する場合、その含有量は、熱硬化性樹脂100質量部に対して0.1質量部~30質量部であることが好ましく、1質量部~5質量部であることがより好ましい。
 熱硬化性樹脂組成物が応力緩和剤を含有する場合、応力緩和剤は、第一又は第三の混合物中に添加すればよい。
 応力緩和剤が用いられる場合、応力緩和剤は無機充填材と同様にスラリーの状態で第一又は第三の混合物中に添加されてもよい。
 応力緩和剤が用いられる場合、応力緩和剤のスラリー中における固形分比率は、成形性の観点から0.1質量%~50質量%であることが好ましく、0.2質量%~30質量%であることがより好ましく、0.5質量%~20質量%であることがさらに好ましい。
 応力緩和剤を分散する溶剤としては、無機充填材のスラリーに用いられる溶剤と同様の溶剤が挙げられる。
(溶剤)
 本開示の製造方法により製造される熱硬化性樹脂組成物は、溶剤を含んでいてもよい。熱硬化性樹脂組成物が溶剤を含むことで、成形時の流動性が向上する傾向にある。
 熱硬化性樹脂組成物が溶剤を含む場合、熱硬化性樹脂組成物全体に占める溶剤の含有率は、0.1質量%~2質量%であることが好ましく、0.1質量%~0.5質量%であることがより好ましい。熱硬化性樹脂組成物全体に占める溶剤の含有率が2質量%以下であると、熱硬化性樹脂組成物のブロッキングが生じにくく、プレス機等の成形機への熱硬化性樹脂組成物の供給が、容易になる傾向にある。熱硬化性樹脂組成物全体に占める溶剤の含有率が0.1質量%以上であると、成形時の流動性がより向上する傾向にある。
 熱硬化性樹脂組成物に含有される溶剤は、スラリーに含まれる溶剤が残留したものであってもよい。熱硬化性樹脂組成物に含有される溶剤を、「残溶剤量」と称することがある。
 溶剤の含有率は、熱硬化性樹脂組成物を175℃にて1時間の条件で加熱し、加熱前後の質量変化に基づいて算出される。
(熱硬化性樹脂組成物の物性)
 熱硬化性樹脂組成物の粘度は、特に制限されない。成形方法、熱硬化性樹脂組成物の組成等に応じて所望の粘度となるよう調整することが好ましい。熱硬化性樹脂組成物を封止材用途で使用する場合には、成形時のワイヤ流れの起こりやすさに応じて熱硬化性樹脂組成物の粘度を調整することが好ましい。
 例えば、熱硬化性樹脂組成物を封止材用途で使用する場合、ワイヤ流れの低減等の観点から、熱硬化性樹脂組成物の粘度は175℃で200Pa・s以下であることが好ましく、150Pa・s以下であることがより好ましく、100Pa・s以下であることがさらに好ましく、70Pa・s以下であることが特に好ましく、50Pa・s以下であることが極めて好ましい。熱硬化性樹脂組成物の粘度の下限値は特に限定されず、例えば、175℃で2Pa・s以上であってもよい。
 熱硬化性樹脂組成物の粘度は、高化式フローテスター(例えば、株式会社島津製作所製)によって測定することができる。
(熱硬化性樹脂組成物の用途)
 本開示の製造方法により製造される熱硬化性樹脂組成物の用途は特に制限されず、例えば電子部品装置の封止材として種々の実装技術に用いることができる。また、本開示の製造方法により製造される熱硬化性樹脂組成物は、各種モジュール用樹脂成形体、モーター用樹脂成形体、車載用樹脂成形体、電子回路保護材用封止材等、樹脂組成物が良好な流動性及び硬化性を有することが望ましい種々の用途に用いることができる。
<電子部品装置の製造方法>
 本開示の電子部品装置の製造方法は、上述の本開示の製造方法により得られた熱硬化性樹脂組成物により素子を封止する工程を有する。
 電子部品装置としては、リードフレーム、配線済みのテープキャリア、配線板、ガラス、シリコンウエハ、有機基板等の支持部材に、素子(半導体チップ、トランジスタ、ダイオード、サイリスタ等の能動素子、コンデンサ、抵抗体、コイル等の受動素子など)を搭載して得られた素子部を熱硬化性樹脂組成物で封止したものが挙げられる。
 より具体的には、リードフレーム上に素子を固定し、ボンディングパッド等の素子の端子部とリード部とをワイヤボンディング、バンプ等で接続した後、熱硬化性樹脂組成物を用いてトランスファー成形等によって封止した構造を有するDIP(Dual Inline Package)、PLCC(Plastic Leaded Chip Carrier)、QFP(Quad Flat Package)、SOP(Small Outline Package)、SOJ(Small Outline J-lead package)、TSOP(Thin Small Outline Package)、TQFP(Thin Quad Flat Package)等の一般的な樹脂封止型IC;テープキャリアにバンプで接続した素子を熱硬化性樹脂組成物で封止した構造を有するTCP(Tape Carrier Package);支持部材上に形成した配線に、ワイヤボンディング、フリップチップボンディング、はんだ等で接続した素子を、熱硬化性樹脂組成物で封止した構造を有するCOB(Chip On Board)モジュール、ハイブリッドIC、マルチチップモジュール等;裏面に配線板接続用の端子を形成した支持部材の表面に素子を搭載し、バンプ又はワイヤボンディングにより素子と支持部材に形成された配線とを接続した後、熱硬化性樹脂組成物で素子を封止した構造を有するBGA(Ball Grid Array)、CSP、MCP(Multi Chip Package)、SiPなどが挙げられる。また、プリント配線板においても熱硬化性樹脂組成物を好適に使用することができる。
 熱硬化性樹脂組成物を用いて電子部品装置を封止する方法としては、低圧トランスファー成形法、インジェクション成形法、圧縮成形法等が挙げられる。
<熱硬化性樹脂組成物>
 本開示の熱硬化性樹脂組成物は、上述の本開示の製造方法により得られる。
 熱硬化性樹脂組成物は、常温常圧下(例えば、25℃、大気圧下)において固体であっても液状であってもよく、固体であることが好ましい。熱硬化性樹脂組成物が固体である場合の形状は特に制限されず、粉体状、粒状、タブレット状、ペレット状、グラニュール状等が挙げられる。熱硬化性樹脂組成物がタブレット状又はペレット状である場合の寸法及び質量は、パッケージの成形条件に合うような寸法及び質量となるようにすることが取り扱い性の観点から好ましい。
 以下に、本開示を実施例により具体的に説明するが、本開示はこれらの実施例に限定されるものではない。
<熱硬化性樹脂組成物の作製>
 まず、下記に示す各成分を準備した。
(熱硬化性樹脂)
・エポキシ樹脂1:エポキシ当量265g/eq~285g/eq、軟化点53℃~63℃のアラルキル型エポキシ樹脂
・エポキシ樹脂2:エポキシ当量180g/eq~192g/eq、融点105℃のビフェニル型エポキシ樹脂
・エポキシ樹脂3:エポキシ当量163g/eq~175g/eq、軟化点57℃~63℃のトリフェニルメタン型エポキシ樹脂
(硬化剤)
・硬化剤1:水酸基当量205g/eq、軟化点60℃~70℃のアラルキル型フェノール樹脂
・硬化剤2:水酸基当量170g/eq、軟化点60℃~70℃のアラルキル型フェノール樹脂
(カップリング剤)
・カップリング剤:N-フェニル-3-アミノプロピルトリメトキシシラン
(無機充填材)
・スラリー1:体積平均粒子径1.5μm(トップカット径5μm)の球状シリカのメチルイソブチルケトン溶液 固形分70質量%(N-フェニル-3-アミノプロピルトリメトキシシラン処理)
・スラリー2:体積平均粒子径0.3μm(トップカット径5μm)の球状シリカのメチルイソブチルケトン溶液 固形分60質量%(N-フェニル-3-アミノプロピルトリメトキシシラン処理)
・無機充填材::体積平均粒子径0.8μm(トップカット径20μm)の球状シリカ(表面処理なし)
(硬化促進剤)
・硬化促進剤:リン系硬化促進剤
(他の添加剤)
・離型剤:ヘキストワックス(ヘキスト社)
・着色剤:カーボンブラック
・MIBK:メチルイソブチルケトン
・CHN:シクロヘキサノン
・MEK:メチルエチルケトン
 実施例1~9の熱硬化性樹脂組成物は以下の方法(「製造方法A」とする)で作製した。表1に示される主供給成分を容器中で混合し、撹拌機で1時間撹拌した。得られた混合物が、第一の混合物に該当する。その後、二軸混練機(エクストルーダ)を用いて、0.02MPaの減圧下、表1の脱溶剤温度で約5分間溶融混練した。溶融混練後の混合物が、第二の混合物に該当する。引き続き、副供給成分を開口部から添加(サイドフィード)し表1の混練温度で約2分間溶融混練した。溶融物を10℃の冷水を循環したプレスロールで冷却し、シート状になったものを粉砕することにより、粉体状の熱硬化性樹脂組成物を調製した。製造方法Aは、脱溶剤工程と混練工程とが連続的に行われるものである。
 実施例10の熱硬化性樹脂組成物は以下の方法(「製造方法B」とする)で作製した。表1に示される主供給成分を容器中で混合し、撹拌機で1時間撹拌した。得られた混合物が、第一の混合物に該当する。真空乾燥機を用いて0.02MPaの減圧下、140℃で2時間溶剤を留去した。得られた混合物が、第二の混合物に該当する。溶融物を冷却し得られた樹脂組成物を粉砕することにより、粉体状で硬化促進剤を未添加の熱硬化性樹脂組成物を調製した。続いて、硬化促進剤を未添加の熱硬化性樹脂組成物を、二軸混練機(エクストルーダ)を用いて混練した。このとき、副供給成分を開口部から添加(サイドフィード)し表1の混練温度で約2分間溶融混練した。溶融物を10℃の冷水を循環したプレスロールで冷却し、シート状になったものを粉砕することにより、粉体状の熱硬化性樹脂組成物を調製した。製造方法Bは、脱溶剤工程がバッチ式で行われるものである。
 比較例1~3の熱硬化性樹脂組成物は以下の方法(「製造方法C」とする)で作製した。表2に示される各成分すべてを容器中で混合し、撹拌機で1時間撹拌した。その後、二軸混練機(エクストルーダ)を用いて、0.02MPaの減圧下、表2の第一混練温度で約5分間溶融混練した。引き続き、第二混練温度で約2分間溶融混練した。溶融物を10℃の冷水を循環したプレスロールで冷却し、シート状になったものを粉砕することにより、粉体状の熱硬化性樹脂組成物を調製した。
 比較例4の熱硬化性樹脂組成物は以下の方法(「製造方法D」とする)で作製した。表2に示される各成分すべてを容器中で混合し、撹拌機で1時間撹拌した。その後、真空乾燥機を用いて0.02MPaの減圧下、140℃で2時間溶剤を留去した。得られた溶融物を冷却し、粉砕することにより、粉体状の熱硬化性樹脂組成物を調製した。
<熱硬化性樹脂組成物の評価>
 作製された熱硬化性樹脂組成物を、以下に示す各種試験によって評価した。評価結果を表1及び表2に示す。なお、熱硬化性樹脂組成物の成形は、明記しない限りトランスファー成形機により、金型温度180℃、成形圧力6.9MPa、硬化時間90秒の条件で成形した。また、必要に応じて後硬化を175℃、6時間の条件で行った。
〔スパイラルフロー〕
 EMMI-1-66に準じたスパイラルフロー測定用金型を用いて、熱硬化性樹脂組成物を上記条件で成形し、流動距離(cm)を求めた。
〔無機充填材の凝集〕
 トランスファー成形機を用いた熱硬化性樹脂組成物の成形物の外観を目視により観察し、無機充填材の凝集(以下、フィラー凝集と称することがある。)の有無を評価した。フィラー凝集が観察された場合を「A」とし、フィラー凝集が観察されなかった場合を「B」とした。
〔ゲルタイム〕
 熱硬化性樹脂組成物3gに対し、JSRトレーディング株式会社のキュラストメータを用いた測定を温度175℃で実施し、トルク曲線の立ち上がりまでの時間をゲルタイム(GT、秒)とした。
〔残溶剤量〕
 熱硬化性樹脂組成物5gに対して、防爆乾燥機を用いて175℃/1時間で処理し、式1から残溶剤量を算出し、成形後のボイド発生の観点から残溶剤量が0.5質量%以下を「A」とし、残溶剤量が0.5質量%を超え2質量%以下を「B」とし、2質量%を超える場合を「C」とした。
残溶剤量(質量%)=((熱処理前の質量-熱処理後の質量)/熱処理前の質量)×100
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000017
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000018
 表1及び表2において、「不揮発成分」とは、主供給成分を容器中に加えたときの不揮発成分の質量基準の含有率をいい、混合物の固形分比率に該当する。表1及び表2において、「フィラー含有率」とは、熱硬化性樹脂組成物に含まれる無機充填材の体積基準の含有率をいう。
 表1及び表2の評価結果から明らかなように、フィラー含有率を70体積%以上とした場合に、実施例の製造方法で得られた熱硬化性樹脂組成物の特性は、比較例の製造方法で得られた熱硬化性樹脂組成物の特性に比較して優れるものであった。このことから、実施例の製造方法によれば、比較例の製造方法に比較して熱硬化性樹脂組成物の特性を低下させることなく無機充填材の高充填化が可能になることがわかる。
 2021年1月8日に出願された日本国特許出願2021-002321号の開示は、その全体が参照により本明細書に取り込まれる。
 本明細書に記載された全ての文献、特許出願、及び技術規格は、個々の文献、特許出願、及び技術規格が参照により取り込まれることが具体的かつ個々に記された場合と同程度に、本明細書中に援用されて取り込まれる。

Claims (13)

  1.  熱硬化性樹脂と、硬化剤と、無機充填材と溶剤とを含むスラリーと、を含む第一の混合物から第一の脱溶剤温度で前記溶剤を除去して第二の混合物を得る、脱溶剤工程と、
     前記第二の混合物に硬化促進剤を加えて、前記第一の脱溶剤温度よりも低温の第一の混練温度で前記硬化促進剤を加えた前記第二の混合物を混練する混練工程と、
    を有する熱硬化性樹脂組成物の製造方法。
  2.  熱硬化性樹脂及び硬化剤の一方と、無機充填材と溶剤とを含むスラリーと、を含む第三の混合物から、第二の脱溶剤温度で前記溶剤を除去し次いで前記熱硬化性樹脂及び前記硬化剤の他の一方を加えるか、又は、熱硬化性樹脂及び硬化剤の一方と、無機充填材と溶剤とを含むスラリーと、を含む第三の混合物から、第二の脱溶剤温度で前記溶剤を除去しながら前記熱硬化性樹脂及び前記硬化剤の他の一方を加えて、第四の混合物を得る脱溶剤工程と、
     前記第四の混合物に硬化促進剤を加えて、前記第二の脱溶剤温度よりも低温の第二の混練温度で前記硬化促進剤を加えた前記第四の混合物を混練する混練工程と、
    を有する熱硬化性樹脂組成物の製造方法。
  3.  前記第一の混練温度が、前記硬化促進剤を加えた前記第二の混合物についての示差走査熱量測定により測定される反応率が40%になる温度以下である請求項1に記載の熱硬化性樹脂組成物の製造方法。
  4.  前記第二の混練温度が、前記硬化促進剤を加えた前記第四の混合物についての示差走査熱量測定により測定される反応率が40%になる温度以下である請求項2に記載の熱硬化性樹脂組成物の製造方法。
  5.  前記脱溶剤工程と前記混練工程とが、連続的に行われる請求項1~請求項4のいずれか1項に記載の熱硬化性樹脂組成物の製造方法。
  6.  前記脱溶剤工程が、バッチ式で行われる請求項1~請求項4のいずれか1項に記載の熱硬化性樹脂組成物の製造方法。
  7.  前記第一の脱溶剤温度又は前記第二の脱溶剤温度が、前記熱硬化性樹脂の融点又は軟化点よりも高い請求項1~請求項6のいずれか1項に記載の熱硬化性樹脂組成物の製造方法。
  8.  前記スラリーが、カップリング剤をさらに含む請求項1~請求項7のいずれか1項に記載の熱硬化性樹脂組成物の製造方法。
  9.  前記無機充填材のトップカット径が、10μm以下である請求項1~請求項8のいずれか1項に記載の熱硬化性樹脂組成物の製造方法。
  10.  前記溶剤の沸点が、50℃~200℃である請求項1~請求項9のいずれか1項に記載の熱硬化性樹脂組成物の製造方法。
  11.  前記無機充填材の前記スラリー中における固形分比率が、40質量%~90質量%である請求項1~請求項10のいずれか1項に記載の熱硬化性樹脂組成物の製造方法。
  12.  前記第一の混合物又は前記第三の混合物の固形分比率が、30質量%~90質量%である請求項1~請求項11のいずれか1項に記載の熱硬化性樹脂組成物の製造方法。
  13.  請求項1~請求項12のいずれか1項に記載の熱硬化性樹脂組成物の製造方法により得られた熱硬化性樹脂組成物により素子を封止する工程を有する電子部品装置の製造方法。
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