WO2022149440A1 - 熱硬化性樹脂組成物、プリプレグ、積層板、金属張り積層板、プリント配線板及び高速通信対応モジュール - Google Patents

熱硬化性樹脂組成物、プリプレグ、積層板、金属張り積層板、プリント配線板及び高速通信対応モジュール Download PDF

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諒 下川
信次 土川
圭一 春日
千尋 林
富生 岩崎
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    • C08J2379/08Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors

Definitions

  • the present disclosure relates to a thermosetting resin composition, a prepreg, a laminated board, a metal-clad laminated board, a printed wiring board, and a module compatible with high-speed communication.
  • thermoplastic polymer having excellent high frequency characteristics has been used for a printed wiring board that requires low transmission loss.
  • a method of using polyphenylene ether as a thermoplastic polymer and a thermosetting resin in combination is known.
  • a resin composition containing a polyphenylene ether and an epoxy resin see, for example, Patent Document 1
  • a resin composition containing a cyanate resin having a low specific dielectric constant among the polyphenylene ether and a thermosetting resin for example, for example.
  • thermoplastic polymer has a problem that the heat resistance of the resin composition is lowered because the compatibility with other resins is low, and the separation between the thermoplastic polymer and other components occurs when the resin composition is prepared. Therefore, there is a problem that the handleability is also inferior. Therefore, if the dielectric property in the high frequency band can be improved by a method other than the method of blending the thermoplastic polymer, its industrial value is very large. However, the present disclosure does not deny the fact that the thermoplastic polymer is blended.
  • an object of the present disclosure is to provide a thermosetting resin composition having excellent dielectric properties in a high frequency band, and to use the thermosetting resin composition for a prepreg, a laminated board, and a metal covering. It is an object of the present invention to provide a laminated board, a printed wiring board, and a module compatible with high-speed communication.
  • the present inventors can achieve the above-mentioned object by blending a compound having a specific structure into a thermosetting resin composition containing a specific maleimide compound. I found.
  • the present disclosure includes the following [1] to [22].
  • Compounds that do not show A thermosetting resin composition comprising.
  • X b1 represents a single-bonded, substituted or unsubstituted aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms.
  • R b1 and R b2 are independently substituted or unsubstituted, respectively.
  • M and n are independently integers of 0 to 5).
  • thermosetting resin composition consisting of (a1) a maleimide compound having at least two N-substituted maleimide groups, (a2) a monoamine compound, and (a3) an amine compound having at least two amino groups.
  • the component (a1) has an aliphatic hydrocarbon group between the nitrogen atoms of any two N-substituted maleimide groups among the plurality of N-substituted maleimide groups (however, an aromatic hydrocarbon group).
  • the component (a) contains a reaction product of (a1) a maleimide compound having at least two N-substituted maleimide groups and (a3') a silicone compound having at least two amino groups.
  • the thermosetting resin composition according to [1] or [2].
  • the component (a) excludes the component (a1), the component (a3'), and (a3) an amine compound having at least two amino groups (however, the component (a3').
  • [8] The thermosetting resin composition according to any one of the above [1] to [7], which has a boiling point of 260 ° C.
  • thermosetting resin composition according to any one of [1] to [8] above, wherein the component (b) is at least one selected from the group consisting of diethylbiphenyl and benzylbiphenyl.
  • thermosetting resin composition according to any one of the above [1] to [15] which further contains (g) an amine compound having at least two amino groups.
  • thermosetting resin composition according to any one of the above [1] to [16], further comprising (g') a silicone compound having at least two amino groups.
  • a printed wiring board obtained by forming a circuit on the laminated board according to the above [19] or the metal-clad laminated board according to the above [20].
  • a high-speed communication compatible module including the printed wiring board according to the above [21].
  • thermosetting resin composition having excellent dielectric properties in a high frequency band, a prepreg, a laminated board, a metal-clad laminated board, a printed wiring board, and a high-speed communication compatible module using the same.
  • the upper limit value or the lower limit value of the numerical range may be replaced with the value shown in the examples. Further, the lower limit value and the upper limit value of the numerical range are arbitrarily combined with the lower limit value or the upper limit value of another numerical range.
  • the description "10 or more” means numerical values exceeding 10 and 10, and the same applies when the numerical values are different.
  • the description "10 or less” means values of 10 and less than 10, and the same applies when the values are different.
  • one kind may be used alone or two or more kinds may be used in combination unless otherwise specified.
  • the content of each component in the composition is the total amount of the plurality of substances present in the composition when a plurality of substances corresponding to each component are present in the composition, unless otherwise specified.
  • a "resin component” means a component (a) and a component (b) described later, and a component (d), a component (f), a component (g) and other components used as necessary. It is a resin that can be used arbitrarily, and does not include (c) an inorganic filler, (e) a curing accelerator, an additive, or the like.
  • the “solid content” means a residue obtained by excluding volatile components from the components constituting the thermosetting resin composition.
  • the high frequency band refers to a band of 10 GHz or higher. An embodiment in which the items described in the present specification are arbitrarily combined is also included in the present embodiment.
  • thermosetting resin composition The thermosetting resin composition of one aspect of this embodiment (hereinafter, may be referred to as "aspect 1") is (A) Maleimide compound having at least one N-substituted maleimide group [It may be referred to as a component (a). ], And (b) a compound represented by the following general formula (1) and which does not show reactivity with the maleimide group of the component (a) [may be referred to as a component (b). ], It is a thermosetting resin composition containing. (The definition of each group in the general formula (1) is as described below.)
  • the expressions "thermosetting resin composition containing ! and “thermosetting resin composition containing " are described in both cases. It contains both a thermosetting resin composition containing the above-mentioned components as they are and a thermosetting resin composition obtained by reacting at least a part of the components described in the above, and both are synonymous.
  • the high frequency characteristics of the thermosetting resin composition could be improved.
  • the exact reason for obtaining such a result is unknown, but the present inventors presume as follows.
  • the component (a) is easily oriented in the thermosetting resin composition, and the dipole moments of the respective molecules overlap due to the orientation to form a large dipole moment for the oriented molecule. Therefore, it is considered that the followability to the change of the external electric field is deteriorated and the dielectric property is deteriorated.
  • the number of molecules in which the component (a) is oriented can be reduced, so that the overlapping dipole moments can be reduced.
  • thermosetting resin composition of the present embodiment also has a feature of being excellent in high frequency characteristics even after a moisture absorption test.
  • high frequency characteristics also includes “high frequency characteristics after the moisture absorption test”.
  • thermosetting resin composition of another aspect of this embodiment (hereinafter, may be referred to as “aspect 2”) is a thermosetting resin composition.
  • Compound, A thermosetting resin composition comprising the above, wherein the component (a) is (a1) a maleimide compound having at least two N-substituted maleimide groups [hereinafter, may be referred to as a component (a1). .. ] And (a3') a silicone compound having at least two amino groups [hereinafter, may be referred to as a component (a3').
  • thermosetting resin composition containing.
  • the thermosetting resin composition of Aspect 2 is excellent in dielectric properties in a high frequency band and also excellent in low warpage because of its low elastic modulus.
  • the component (a) is an amine compound having the component (a1), the component (a3'), and (a3) at least two amino groups [hereinafter referred to as the component (a3).
  • the component (a3) does not include the component (a3'), and the component (a3) and the component (a3') are different.
  • thermosetting resin composition of still another aspect of this embodiment is (A) Maleimide compound having at least one N-substituted maleimide group [(a) component], (B) A compound [(b) component] represented by the following general formula (1) and not reactive with the maleimide group of the component (a), and (g') at least two amino acids. Silicone compound having a group [hereinafter, may be referred to as a (g') component. ], It is a thermosetting resin composition containing.
  • the thermosetting resin composition of Aspect 3 is excellent in dielectric properties in a high frequency band and also excellent in low warpage because of its low elastic modulus.
  • thermosetting resin composition of the present embodiment (The definition of each group in the general formula (1) is as described below.)
  • each component contained in the thermosetting resin composition of the present embodiment will be described in detail. Unless otherwise specified, the following description is common to all of the above aspects 1 to 3.
  • the thermosetting resin composition of the present embodiment can be made excellent in heat resistance and low thermal expansion.
  • the effect of the component (b) is remarkably exhibited by the presence of the component (a).
  • the component (a) may be referred to as a maleimide compound having at least two N-substituted maleimide groups (hereinafter, referred to as a component (a1)) from the viewpoint of heat resistance and low thermal expansion. ] More preferably 50% by mass or more of the component (a1), further preferably 80% by mass or more of the component (a1), and 90% by mass or more of the component (a1).
  • the component (a) may be the component (a1) itself.
  • the component (a) is the component (a1) and the monoamine compound (a2) [hereinafter, the component (a2)) from the viewpoints of heat resistance, low thermal expansion, and adhesiveness to the metal foil. May be called.
  • a3 a reaction product with at least one selected from the group consisting of an amine compound having at least two amino groups [hereinafter, may be referred to as a modified maleimide resin (A).
  • A modified maleimide resin
  • the component (a) preferably contains the modified maleimide resin (A) in an amount of 50% by mass or more, more preferably 80% by mass or more, and particularly preferably 90% by mass or more, (a).
  • the component may be the modified maleimide resin (A) itself.
  • the component (a) contains the component (a1) and the modified maleimide resin (A).
  • the total content of the component (a1) and the modified maleimide resin (A) in the component (a) is preferably 50% by mass or more, more preferably 80% by mass or more, still more preferably 90% by mass or more. Particularly preferably, it is substantially 100% by mass.
  • the component (a) preferably contains the silicone-modified maleimide resin (X) in an amount of 50% by mass or more, more preferably 80% by mass or more, and more preferably 90% by mass or more. It is particularly preferable to contain the component (a), and the component (a) may be the silicone-modified maleimide resin (X) itself. Further, in the embodiments 2 and 3, it is also preferable that the component (a) contains the component (a1) and the silicone-modified maleimide resin (X).
  • the total content of the component (a1) and the silicone-modified maleimide resin (X) in the component (a) is preferably 50% by mass or more, more preferably 80% by mass or more, still more preferably 90% by mass or more. Particularly preferably, it is substantially 100% by mass.
  • the component (a1) has an aliphatic hydrocarbon group between the nitrogen atoms of any two N-substituted maleimide groups among the plurality of N-substituted maleimide groups (however, an aromatic hydrocarbon group is present).
  • Maleimide compound [hereinafter referred to as an aliphatic hydrocarbon group-containing maleimide compound] or aromatic between the nitrogen atoms of any two N-substituted maleimide groups among a plurality of N-substituted maleimide groups. Examples thereof include maleimide compounds containing a group hydrocarbon group [hereinafter, referred to as aromatic hydrocarbon group-containing maleimide compounds].
  • an aromatic hydrocarbon group-containing maleimide compound is preferable from the viewpoints of high heat resistance, high frequency characteristics, high metal leaf adhesion, high glass transition temperature, low thermal expansion and moldability.
  • the aromatic hydrocarbon group-containing maleimide compound may contain an aromatic hydrocarbon group between any of two arbitrarily selected combinations of maleimide groups, and may contain an aliphatic hydrocarbon together with the aromatic hydrocarbon group. It may have a hydrocarbon group.
  • the component (a1) includes 2 to 5 N-substituted maleimides in one molecule from the viewpoints of high heat resistance, high frequency characteristics, high metal foil adhesion, high glass transition temperature, low thermal expansion and moldability.
  • maleimide compounds having a group are preferable, and maleimide compounds having two N-substituted maleimide groups in one molecule are more preferable. Further, from the viewpoints of high heat resistance, high frequency characteristics, high metal leaf adhesiveness, high glass transition temperature, low thermal expansion and moldability, the component (a1) is represented by the following general formula (a1-1). Maleimide compounds are more preferred.
  • Xa1 is a group represented by the following general formulas (a1-2), (a1-3), (a1-4) or (a1-5).)
  • Ra1 is an aliphatic hydrocarbon group or a halogen atom having 1 to 5 carbon atoms independently.
  • P1 is an integer of 0 to 4.
  • R a2 is an aliphatic hydrocarbon group or a halogen atom having 1 to 5 carbon atoms, respectively.
  • X a2 is an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms and an alkylidene group having 2 to 5 carbon atoms.
  • Q1 is independently an integer of 0 to 4 be.
  • R a3 is an aliphatic hydrocarbon group or a halogen atom having 1 to 5 carbon atoms, respectively.
  • X a3 is an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms and an alkylidene group having 2 to 5 carbon atoms. , Ether group, sulfide group, sulfonyl group, carbonyloxy group, keto group, or single bond.
  • R1 is an independently integer of 0 to 4).
  • n1 is an integer from 1 to 10.
  • Ra4 is independently a hydrogen atom or an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms.
  • U1 is an integer of 1 to 8).
  • the aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms represented by Ra1 includes a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group and an isobutyl group. Examples thereof include a t-butyl group and an n-pentyl group.
  • the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom and the like.
  • R a1 an aliphatic hydrocarbon group is preferable.
  • p1 is an integer of 0 to 4, preferably an integer of 0 to 2, and more preferably 0 from the viewpoint of availability. When p1 is an integer of 2 or more, the plurality of Ra1s may be the same or different.
  • examples of the aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms represented by Ra2 and the halogen atom are the same as those represented by Ra1 .
  • the aliphatic hydrocarbon group is preferably an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 3 carbon atoms, more preferably a methyl group or an ethyl group, and further preferably an ethyl group.
  • Ra2 an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms is preferable.
  • Examples of the alkylene group having 1 to 5 carbon atoms represented by Xa2 include a methylene group, a 1,2-dimethylene group, a 1,3-trimethylethylene group, a 1,4-tetramethylene group, a 1,5-pentamethylene group and the like. Be done.
  • the alkylene group is preferably an alkylene group having 1 to 3 carbon atoms, and more preferably a methylene group.
  • Examples of the alkylidene group having 2 to 5 carbon atoms represented by Xa2 include an ethylidene group, a propyridene group, an isopropylidene group, a butylidene group, an isobutylidene group, a pentylidene group and an isopentylidene group. Among these, an isopropylidene group is preferable.
  • X a2 among the above options, an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms, an alkylidene group having 2 to 5 carbon atoms, and a group represented by the general formula (a1-3') are preferable, and the group represented by the general formula (a1-3') is preferable.
  • q1 is an integer of 0 to 4 independently, and is preferably an integer of 0 to 2, more preferably 0 or 2, from the viewpoint of availability.
  • q1 is an integer of 2 or more, the plurality of Ra2s may be the same or different from each other.
  • examples of the aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms represented by Ra3 and the halogen atom are the same as those represented by Ra2 .
  • Examples of the alkylene group having 1 to 5 carbon atoms and the alkylidene group having 2 to 5 carbon atoms represented by X a3 include the same as the alkylene group having 1 to 5 carbon atoms and the alkylidene group having 2 to 5 carbon atoms represented by X a2 . Be done.
  • X a3 is preferably an alkylidene group having 2 to 5 carbon atoms, and more preferably an isopropylidene group.
  • r1 is an integer of 0 to 4, preferably an integer of 0 to 2, and more preferably 0 from the viewpoint of availability. When r1 is an integer of 2 or more, the plurality of Ra3s may be the same or different from each other.
  • n1 represents the number of repeating units of the structural unit enclosed in parentheses, and is specifically an integer of 1 to 10, preferably 1 from the viewpoint of availability. It is an integer of ⁇ 5, more preferably an integer of 1 ⁇ 3.
  • the aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms represented by R a4 and the same halogen atom as those represented by R a1 in the general formula (a1-2) are the same.
  • the preferred aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms and the halogen atom of Ra 4 are the same as those of Ra 1 .
  • Ra4s bonded to the same carbon atom may be the same or different.
  • u1 represents the number of repeating units of the structural unit enclosed in parentheses, and is specifically an integer of 1 to 8, preferably an integer of 1 to 3, and more preferably 1.
  • u1 is an integer of 2 or more, the plurality of Ra4s may be the same or different from each other.
  • X a1 has the following formula from the viewpoints of high heat resistance, high frequency characteristics, high metal leaf adhesiveness, high glass transition temperature, low thermal expansion and moldability. It is preferable that the group is represented by any of the above.
  • a maleimide compound in which X a1 in the general formula (a1-1) is a group represented by the general formula (a1-3) is more preferable, and in the general formula (a1-1).
  • X a1 is a group represented by the general formula (a1-3)
  • X a2 in the general formula (a1-3) is a group represented by the general formula (a1-3'). Certain compounds are even more preferred.
  • component (a1) bis (4-maleimidephenyl) methane, bis (4-maleimidephenyl) sulfone, 3,3'-dimethyl, from the viewpoint of high reaction rate and higher heat resistance.
  • -5,5'-diethyl-4,4'-diphenylmethanebismaleimide 2,2-bis [4- (4-maleimidephenoxy) phenyl] propane is preferred, and 2,2-bis [4- (4-maleimidephenoxy) phenyl. ) Phenyl] Propane is more preferred.
  • the component (a2) is not particularly limited as long as it is a compound having one amino group, but from the viewpoints of high heat resistance, high frequency characteristics, high metal foil adhesiveness, high glass transition temperature, low thermal expansion and moldability. Therefore, a monoamine compound having an acidic substituent is preferable, and a compound represented by the following general formula (a2-1) is more preferable.
  • R a5 is independently an acidic substituent, a hydroxyl group, a carboxy group or a sulfonic acid group
  • R a6 is independently an aliphatic hydrocarbon group or a halogen having 1 to 5 carbon atoms. It is an atom.
  • X2 is an integer of 1 to 5
  • y2 is an integer of 0 to 4
  • 1 ⁇ x2 + y2 ⁇ 5 is satisfied.
  • the acidic substituent represented by Ra5 is preferably a hydroxyl group or a carboxy group from the viewpoint of solubility and reactivity, and more preferably a hydroxyl group from the viewpoint of heat resistance.
  • x2 is an integer of 1 to 5, preferably an integer of 1 to 3, more preferably 1 or 2, and further, from the viewpoints of high heat resistance, low relative permittivity, high glass transition temperature, low thermal expandability, and moldability. It is preferably 1.
  • Examples of the alkyl group having 1 to 5 carbon atoms indicated by R a6 include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an isobutyl group, a t-butyl group, an n-pentyl group and the like. ..
  • the alkyl group is preferably an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms.
  • Examples of the halogen atom indicated by R a6 include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom and the like.
  • y2 is an integer of 0 to 4, preferably an integer of 0 to 3, more preferably an integer of 0 to 2, from the viewpoints of high heat resistance, low relative permittivity, high glass transition temperature, low thermal expansion and moldability. , More preferably 0 or 1, particularly preferably 0.
  • x2 is an integer of 2 or more
  • the plurality of Ra 5s may be the same or different.
  • y2 is an integer of 2 or more, the plurality of Ra6s may be the same or different.
  • component (a2) m-aminophenol, p-aminophenol, o-aminophenol, p-aminobenzoic acid, m-aminobenzoic acid, o-aminobenzoic acid, o-aminobenzenesulfonic acid, m-amino Benzene sulfonic acid, p-aminobenzene sulfonic acid, 3,5-dihydroxyaniline, 3,5-dicarboxyaniline and the like can be mentioned.
  • m-aminophenol, p-aminophenol, o-aminophenol, p-aminobenzoic acid, m-aminobenzoic acid, and 3,5-dihydroxyaniline are preferable from the viewpoint of solubility and synthetic yield. From the viewpoint of heat resistance, m-aminophenol and p-aminophenol are more preferable, and from the viewpoint of low thermal expansion, p-aminophenol is further preferable.
  • One type of monoamine compound (a2) may be used alone, or two or more types may be used in combination.
  • an amine compound having an amino group at at least one of the molecular ends is preferable, and an amine compound having an amino group at both ends of the molecule is more preferable. Further, it may be an amine compound having an amino group in the side chain, or it may be an amine compound having an amino group in the side chain and at least one of the molecular ends.
  • the component (a3) may contain a siloxane skeleton or may not contain a siloxane skeleton. Examples of the compound containing a siloxane skeleton include (a3') a silicone compound having at least two amino groups.
  • the silicone compound having at least two amino groups is the compound used in the above aspect 2, which will be described later. All of the amino groups are preferably primary amino groups. Among these, amine compounds having amino groups at both ends of the molecule are preferable, and such amine compounds have high heat resistance, high frequency characteristics, high metal foil adhesiveness, high glass transition temperature, low thermal expansion and moldability. From the viewpoint, a diamine compound represented by the following general formula (a3-1) is preferably mentioned.
  • Xa4 is a group represented by the following general formula (a3-2), (a3-3) or (a3-4)).
  • R a7 is an aliphatic hydrocarbon group or a halogen atom having 1 to 5 carbon atoms independently.
  • P3 is an integer of 0 to 4).
  • R a8 and R a9 are independently aliphatic hydrocarbon groups or halogen atoms having 1 to 5 carbon atoms.
  • X a5 is an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms. , Alkylidene group having 2 to 5 carbon atoms, ether group, sulfide group, sulfonyl group, carbonyloxy group, keto group, single bond, group represented by the following general formula (a3-3-1) or the following general formula (a3). It is a group represented by -3-2).
  • Q3 and r3 are independently integers of 0 to 4).
  • Ra 10 and Ra 11 are independently aliphatic hydrocarbon groups or halogen atoms having 1 to 5 carbon atoms.
  • X a6 has 1 to 5 carbon atoms. It is an alkylene group, an alkylidene group having 2 to 5 carbon atoms, an ether group, a sulfide group, a sulfonyl group, a carbonyloxy group, a keto group or a single bond.
  • S3 and t3 are independently integers of 0 to 4, respectively.
  • R a12 is an aliphatic hydrocarbon group or a halogen atom having 1 to 5 carbon atoms.
  • X a7 and X a8 are independently having 1 to 5 carbon atoms, respectively. It is an alkylene group, an alkylidene group having 2 to 5 carbon atoms, an ether group or a single bond. U3 is an integer of 0 to 4).
  • Ra13 to Ra16 each independently represent an alkyl group, a phenyl group or a substituted phenyl group having 1 to 5 carbon atoms.
  • X a9 and X a10 independently represent 2 respectively.
  • V3 is an integer from 1 to 100.
  • the aliphatic hydrocarbon group represented by Ra7 includes a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an isobutyl group, a t-butyl group and n. -Centyl group and the like can be mentioned.
  • the aliphatic hydrocarbon group is preferably an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 3 carbon atoms, and more preferably a methyl group.
  • examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom and the like.
  • Ra7 an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms is preferable as Ra7 .
  • p3 is an integer of 0 to 4, preferably an integer of 0 to 2, and more preferably 2 from the viewpoint of availability.
  • the plurality of Ra7s may be the same or different.
  • examples of the aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms represented by Ra8 and Ra9 and the halogen atom are the same as in the case of Ra7 .
  • the aliphatic hydrocarbon group is preferably an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 3 carbon atoms, more preferably a methyl group and an ethyl group, and further preferably an ethyl group.
  • Examples of the alkylene group having 1 to 5 carbon atoms represented by Xa5 include a methylene group, a 1,2-dimethylene group, a 1,3-trimethylethylene group, a 1,4-tetramethylene group, a 1,5-pentamethylene group and the like. Be done.
  • the alkylene group is preferably an alkylene group having 1 to 3 carbon atoms, and more preferably a methylene group, from the viewpoint of heat resistance and low thermal expansion.
  • Examples of the alkylidene group having 2 to 5 carbon atoms represented by Xa5 include an ethylidene group, a propyridene group, an isopropylidene group, a butylidene group, an isobutylidene group, a pentylidene group and an isopentylidene group.
  • an isopropylidene group is preferable from the viewpoint of heat resistance and low thermal expansion.
  • X a5 is preferably an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms and an alkylidene group having 2 to 5 carbon atoms. More preferable ones are as described above.
  • q3 and r3 are each independently an integer of 0 to 4, and from the viewpoint of availability, both are preferably an integer of 0 to 2, more preferably 0 or 2.
  • q3 or r3 is an integer of 2 or more, the plurality of R a8s or R a9s may be the same or different from each other.
  • examples of the aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms represented by Ra 10 and Ra 11 and the halogen atom are the same as those in the cases of Ra 8 and Ra 9 .
  • the preferred embodiment is the same.
  • the alkylene group having 1 to 5 carbon atoms and the alkylidene group having 2 to 5 carbon atoms represented by X a6 are the same as the alkylene group having 1 to 5 carbon atoms and the alkylidene group having 2 to 5 carbon atoms represented by X a5 . Can be mentioned.
  • X a6 is preferably an alkylidene group having 2 to 5 carbon atoms, and more preferably an isopropylidene group.
  • s3 and t3 are integers of 0 to 4, and from the viewpoint of availability, both are preferably integers of 0 to 2, more preferably 0 or 1, and even more preferably 0.
  • s3 or t3 is an integer of 2 or more, the plurality of Ra 10s or Ra 11s may be the same or different from each other.
  • the aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms and the halogen atom represented by Ra12 are the same as those in the cases of Ra10 and Ra11 , and preferred embodiments are also included. It is the same.
  • Examples of the alkylene group having 1 to 5 carbon atoms and the alkylidene group having 2 to 5 carbon atoms represented by X a7 and X a8 are the same as in the case of X a6 , and the preferred embodiments are also the same.
  • u3 is an integer of 0 to 4, and from the viewpoint of availability, all of them are preferably an integer of 0 to 2, more preferably 0 or 1, and even more preferably 0.
  • the plurality of Ra12s may be the same or different from each other.
  • Examples of the alkyl group having 1 to 5 carbon atoms represented by Ra 13 to Ra 16 in the general formula ( a3-4 ) include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group and an isobutyl group. Examples thereof include a t-butyl group and an n-pentyl group.
  • As the alkyl group an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms is preferable, and a methyl group is more preferable.
  • examples of the substituent having the phenyl group include an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 5 carbon atoms, and an alkynyl group having 2 to 5 carbon atoms. Be done.
  • examples of the alkyl group having 1 to 5 carbon atoms include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an isobutyl group, a t-butyl group and an n-pentyl group.
  • Examples of the alkenyl group having 2 to 5 carbon atoms include a vinyl group and an allyl group.
  • Examples of the alkynyl group having 2 to 5 carbon atoms include an ethynyl group and a propargyl group.
  • All of R a13 to R a16 are preferably an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and more preferably a methyl group.
  • Examples of the divalent organic group represented by X a9 and X a10 include an alkylene group, an alkenylene group, an alkynylene group, an arylene group, —O— or a divalent linking group in which these are combined.
  • Examples of the alkylene group include an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms such as a methylene group, an ethylene group and a propylene group.
  • Examples of the alkenylene group include an alkenylene group having 2 to 10 carbon atoms.
  • Examples of the alkynylene group include an alkynylene group having 2 to 10 carbon atoms.
  • Examples of the arylene group include an arylene group having 6 to 20 carbon atoms such as a phenylene group and a naphthylene group.
  • v3 represents the number of repeating units of the structural unit enclosed in brackets, and is specifically an integer of 1 to 100, may be an integer of 2 to 100, or may be an integer of 5 to 100. It may be an integer of 10 to 100, an integer of 15 to 70, or an integer of 20 to 50.
  • a diamine compound in which X a4 in the general formula (a3-1) is a group represented by the general formula (a3-3) is preferable, and the diamine compound in the general formula (a3-1) is preferable.
  • X a4 is a group represented by the general formula (a3-3)
  • X a5 in the general formula (a3-3) is a group represented by the general formula (a3-3-2).
  • Certain diamine compounds are more preferred.
  • component (a3) examples include 4,4'-(1,3-phenylenediisopropyridene) bisaniline, diaminobenzidine, diaminodiphenylmethane, diaminodiphenyl ether, diaminodiphenylsulfone, and 4,4'-methylene-bis (2).
  • the component (a3') is not particularly limited as long as it is a silicone compound having at least two amino groups, but is preferably a silicone compound having two amino groups in one molecule, and 2 in one molecule. It is preferably a silicone compound having a primary amino group.
  • the component (a3') may have an amino group (preferably a primary amino group) on either or both of the side chains or the ends of the siloxane skeleton, from the viewpoint of availability and low warpage.
  • a silicone compound having an amino group (preferably a primary amino group) at both ends is also referred to as "both-ended amino-modified silicone compound").
  • the component (a3') is preferably represented by the following general formula (a3'-1).
  • Ra13 to Ra16 , Xa9 , Xa10 and v3 are the same as those in the general formula (a3-4), and the preferred embodiments are also the same.
  • a commercially available product can be used as the component (a3').
  • a commercially available product can be used as the component (a3') having a methyl group in the side chain.
  • “KF-8010” functional group equivalent of amino group 430 g / mol
  • ""X-22-161A” functional group equivalent of amino group 800 g / mol
  • "X-22-161B” functional group equivalent of amino group 1,500 g / mol
  • KF-8012 functional group of amino group
  • KF-8008 functional group equivalent of amino group 5,700 g / mol
  • X-22-9409 functional group equivalent of amino group 700 g / mol
  • the functional group equivalent of the amino group contained in the (a3') component is preferably 300 to 3,000 g / mol, more preferably 400 to 2,500 g / mol, and even more preferably 600 to 2,300 g / mol.
  • modified maleimide resin (A) and silicone-modified maleimide resin (X) In the first aspect, by containing the modified maleimide resin (A) as the component (a), it becomes easy to control the molecular weight of the resin in the thermosetting resin composition, and it becomes easy to improve the low thermal expansion property and the elastic modulus. There is a tendency.
  • the inclusion of the silicone-modified maleimide resin (X) as the component (a) facilitates control of the molecular weight of the resin in the thermosetting resin composition, and has low thermal expansion and low warpage. Tends to be easier to improve.
  • the method for producing the modified maleimide resin (A) is not particularly limited, but the amino group of the component (a2) and the component (a3) are added to the carbon-carbon double bond of the maleimide group of the component (a1).
  • the modified maleimide resin (A) can be produced by subjecting at least one of the amino groups having an addition reaction to the addition reaction.
  • the method for producing the silicone-modified maleimide resin (X) is not particularly limited, but the carbon-carbon double bond of the maleimide group contained in the component (a1) is subject to the amino group (and necessary) contained in the component (a3').
  • the silicone-modified maleimide resin (X) can be produced by subjecting the addition reaction to the amino group of the component (a3) [however, the component (a3') is excluded].
  • the modified maleimide resin (A) and the silicone-modified maleimide resin (X) are produced while being heated and kept warm in an organic solvent.
  • the reaction temperature is not particularly limited, but is preferably 70 to 200 ° C, more preferably 70 to 150 ° C, still more preferably 100 to 130 ° C.
  • the reaction time is not particularly limited, but is preferably 0.1 to 10 hours, more preferably 1 to 6 hours.
  • a reaction catalyst can be used for the production of the modified maleimide resin (A) and the silicone-modified maleimide resin (X), if necessary.
  • the reaction catalyst is not particularly limited, and examples thereof include amine compounds such as triethylamine, pyridine and tributylamine; imidazole-based compounds such as methylimidazole and phenylimidazole; and phosphorus-based catalysts such as triphenylphosphine. These may be used alone or in combination of two or more.
  • the number of maleimide groups of the component (a1) [the amount of the component (a1) used (g) / the functional group equivalent of the maleimide group of the component (a1) [g / eq)] is particularly limited.
  • the number of amino groups of the component (a2) [the amount of the component (a2) used (g) / the functional group equivalent of the amino group of the component (a2) (g / eq)] and the amino of the component (a3)
  • the total number of groups [the amount of the component (a3) used (g) / the functional group equivalent of the amino group of the component (a3) (g / eq)] is preferably 0.1 to 10 times, preferably 1 to 9 times.
  • the silicone-modified maleimide resin (X) the number of maleimide groups of the component (a1) [the amount of the component (a1) used (g) / the functional group equivalent of the maleimide group of the component (a1) (g / eq)].
  • the total number of amino groups [amount used (g) of the component (a3) / functional group equivalent of the amino group of the component (a3) [g / eq)] is preferably 0.1 to 10 times, preferably 1 to 1 to 1. 9 times is more preferable, 1.1 to 9 times is more preferable, and 2 to 8 times is particularly preferable.
  • the production of the modified maleimide resin (A) and the production of the silicone-modified maleimide resin (X) are preferably carried out in the presence of an organic solvent.
  • the organic solvent is not particularly limited, but is an alcohol solvent such as ethanol, propanol, butanol, methyl cellosolve, butyl cellosolve, and propylene glycol monomethyl ether; a ketone solvent such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, and cyclohexanone; and an ether solvent such as tetrahydrofuran.
  • Solvents aromatic solvents such as toluene, xylene, mesitylen, etc .; nitrogen atom-containing solvents such as dimethylformamide, dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone; sulfur atom-containing solvents such as dimethylsulfoxide.
  • organic solvent one kind may be used alone, or two or more kinds may be used in combination.
  • cyclohexanone, propylene glycol monomethyl ether and methyl cellosolve are preferable from the viewpoint of solubility
  • cyclohexanone and propylene glycol monomethyl ether are more preferable from the viewpoint of low toxicity, and they are highly volatile and remain as a residual solvent during the production of prepreg.
  • Propylene glycol monomethyl ether is more preferred because it is difficult.
  • the content of the component (a) in the thermosetting resin composition of Embodiment 1 is not particularly limited, but is 30 to 99 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the resin component in the thermosetting resin composition. Is preferable, 35 to 90 parts by mass is more preferable, 40 to 85 parts by mass is further preferable, 45 to 80 parts by mass is particularly preferable, and 55 to 80 parts by mass is most preferable.
  • the content of the component (a) in the thermosetting resin compositions of aspects 2 and 3 is not particularly limited, but is 2 to 99 with respect to 100 parts by mass of the resin component in the thermosetting resin composition. By mass is preferable, 30 to 99 parts by mass is preferable, 35 to 90 parts by mass is more preferable, 40 to 85 parts by mass is further preferable, 45 to 80 parts by mass is particularly preferable, and 55 to 80 parts by mass is most preferable.
  • ⁇ (B) A compound represented by the general formula (1) and which does not show reactivity with the maleimide group of the component (a)>
  • the component (b) is represented by the following general formula (1), but it is premised that the component (a) does not show reactivity with the maleimide group. That is, the substituents that each group in the general formula (1) may have are limited to the substituents that do not show reactivity with the maleimide group of the component (a).
  • does not show reactivity means that it does not react at 200 ° C. or lower.
  • Examples of the substituent exhibiting reactivity with the maleimide group contained in the component (a) include an amino group, an epoxy group (including a glycidyl group), and a maleimide group.
  • the component (b) one kind may be used alone, or two or more kinds may be used in combination.
  • X b1 represents a single-bonded, substituted or unsubstituted aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms.
  • R b1 and R b2 are independently substituted or unsubstituted aliphatic hydrocarbon groups having 1 to 10 carbon atoms, substituted or unsubstituted ring-forming aromatic hydrocarbon groups having 6 to 18 carbon atoms, substituted or unsubstituted.
  • Ring-forming of substitution represents a group consisting of a heterocyclic aromatic hydrocarbon group having 5 to 20 atoms, an oxygen atom-containing group, or a combination thereof.
  • m and n are each independently an integer of 0 to 5.
  • Examples of the aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms represented by X b1 include an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms such as a methylene group, a dimethylene group, a trimethylene group and a pentamethylene group; and an isopropylidene group having 2 to 5 carbon atoms.
  • the alkylidene group of 5 is mentioned.
  • an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 3 carbon atoms is preferable, and a methylene group and an isopropylidene group are more preferable.
  • the aliphatic hydrocarbon group may have a substituent or may be unsubstituted.
  • the substituent is not particularly limited as long as it is a substituent that does not show reactivity with the maleimide group of the component (a), but a halogen atom, a hydroxyl group, a nitro group, a cyano group and the like (hereinafter, these are referred to as "these".
  • Substituent A a single bond is preferable among the above options from the viewpoint of high frequency characteristics.
  • the aliphatic hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms represented by R b1 and R b2 includes a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an isobutyl group, a t-butyl group and an n-. Examples thereof include a pentyl group and an n-octyl group. Among these, an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms is preferable, an aliphatic hydrocarbon group having 2 or 3 carbon atoms is more preferable, and an ethyl group is further preferable.
  • the aliphatic hydrocarbon group may have a substituent or may be unsubstituted. Examples of the substituent include the substituent A.
  • Examples of the aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms forming a ring represented by R b1 and R b2 include a phenyl group, a naphthyl group, an anthryl group, a biphenylyl group and the like.
  • an aromatic hydrocarbon group having 6 to 12 ring-forming carbon atoms is preferable, and a phenyl group and a biphenylyl group are more preferable.
  • the aromatic hydrocarbon group may have a substituent or may be unsubstituted. Examples of the substituent include the aliphatic hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms (preferably 1 to 5) in addition to the substituent A.
  • heterocyclic aromatic hydrocarbon group having 5 to 20 ring-forming atoms represented by R b1 and R b2 examples include a triazinyl group, an oxazolyl group, a pyridinyl group, and a thiophenyl group.
  • a heterocyclic aromatic hydrocarbon group having 5 to 12 ring-forming atoms is preferable.
  • the heterocyclic aromatic hydrocarbon group may have a substituent or may be unsubstituted. Examples of the substituent include the aliphatic hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms (preferably 1 to 5) in addition to the substituent A.
  • the aliphatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms represented by R b3 , R b4 and R b5 include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an isobutyl group and t-butyl. Examples include a group, an n-pentyl group, an n-octyl group and the like.
  • an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms is preferable, and an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms is more preferable.
  • the aliphatic hydrocarbon group may have a substituent or may be unsubstituted. Examples of the substituent include the substituent A.
  • Examples of the aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 ring-forming carbon atoms represented by R b3 , R b4 and R b5 include a phenyl group, a naphthyl group, an anthryl group, and a biphenylyl group.
  • the aromatic hydrocarbon group an aromatic hydrocarbon group having 6 to 12 ring-forming carbon atoms is preferable, and a phenyl group is more preferable.
  • the aromatic hydrocarbon group may have a substituent or may be unsubstituted.
  • substituents include, in addition to the above-mentioned substituent A, an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms (preferably 1 to 5 carbon atoms, more preferably 1 to 3 carbon atoms, still more preferably 1 carbon atom) and the like. Can be mentioned.
  • R b1 and R b2 are an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, an aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 ring-forming carbon atoms, and a heterocyclic aromatic hydrocarbon group having 5 to 20 ring-forming atoms. And may be a group consisting of a combination of at least two groups selected from the group consisting of oxygen atom-containing groups.
  • the combination includes "aliphatic hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms-aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms" and "aliphatic hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms-number of ring-forming atoms".
  • n and n are each independently an integer of 0 to 5, preferably an integer of 0 to 3, more preferably 0 or 1, and may be 0 or 1. It is preferable that m is 0 and n is 1, and it is preferable that m is 1 and n is also 1.
  • m is an integer of 2 to 5
  • n is an integer of 2 to 5
  • a plurality of R b2 existing may be the same or different.
  • the preferred embodiment of the general formula (1) is the following general formula (1-1) and the following general formula (1-2).
  • the component (b) is preferably a compound represented by the following general formula (1'). Needless to say, it is premised that this compound also does not show reactivity with the maleimide group contained in the component (a). (In the general formula (1'), R b1 , R b2 , m and n are the same as those in the general formula (1), and the preferred embodiment is also the same.)
  • Preferred embodiments of the general formula (1') are the following general formula (1'-1) and the following general formula (1'-2).
  • R b1 and R b2 are the same as those in the general formula (1'), and the preferred embodiments are also the same.
  • R b2 is the same as that in the general formula (1'), and the preferred embodiment is also the same.
  • the boiling point at 1 atm (101.325 kPa) is preferably 260 ° C. or higher, preferably 280 ° C. or higher, from the viewpoint of avoiding the generation of voids in the reflow process of the printed wiring board. More preferably, it may be 300 ° C. or higher.
  • the upper limit of the boiling point is not particularly limited, and the boiling point of the component (b) under one atmosphere (101.325 kPa) may be, for example, 500 ° C. or lower, 450 ° C. or lower, or 400 ° C. It may be the following, or it may be 350 ° C. or lower.
  • the component (b) is preferably at least one selected from the group consisting of diethylbiphenyl and benzylbiphenyl, and is preferably selected from the group consisting of 4,4'-diethylbiphenyl and 4-benzylbiphenyl. It is more preferable that the amount is at least one.
  • the content of the component (b) is not particularly limited, but is preferably 0.001 to 1.0 mol, more preferably 0.01 to 0.95, with respect to 1 mol of the component (a). It is mol, more preferably 0.01 to 0.90 mol, particularly preferably 0.05 to 0.90 mol, and in Embodiment 1, it may be 0.15 to 0.90 mol, or 0.15. It may be up to 0.70 mol.
  • the content of the component (b) may be 0.001 to 0.5 mol or 0.01 to 0.5 mol with respect to 1 mol of the component (a). It may be mol, 0.04 to 0.3 mol, or 0.04 to 0.2 mol.
  • the content of the component is at least the above lower limit value, the effect of improving the high frequency characteristics tends to be easily exhibited.
  • the content of the component (b) may exceed the upper limit value, the effect of improving the high frequency characteristics tends to reach a plateau, so from the viewpoint of reducing the manufacturing cost, the content should be equal to or less than the upper limit value. Is preferable.
  • thermosetting resin composition of the present embodiment may be further referred to as (c) an inorganic filler [hereinafter, referred to as a component (c)) from the viewpoint of low thermal expansion. ] May be contained.
  • the component (c) is not particularly limited, but is silica, alumina, titanium oxide, mica, beryllia, barium titanate, potassium titanate, strontium titanate, calcium titanate, aluminum carbonate, magnesium hydroxide, and the like.
  • the glass E glass, T glass, D glass and the like are preferably mentioned.
  • the component (c) one kind may be used alone, or two or more kinds may be used in combination. Among these, silica is preferable from the viewpoint of dielectric properties, heat resistance and low thermal expansion.
  • silica examples include precipitated silica having a high water content produced by a wet method and dry method silica produced by a dry method and containing almost no bound water or the like.
  • the dry silica is further classified into crushed silica, fumed silica, molten spherical silica and the like depending on the manufacturing method.
  • fused spherical silica is preferable from the viewpoint of low thermal expansion and fluidity when filled in the resin.
  • the component (c) may be surface-treated with a coupling agent.
  • the method of surface treatment with a coupling agent may be a method of surface-treating the inorganic filler before compounding by a dry method or a wet method, and the composition of the inorganic filler having not been surface-treated is blended with other components.
  • a so-called integral blend treatment method may be used in which a coupling agent is added to the composition after the product is prepared.
  • the coupling agent include a silane-based coupling agent, a titanate-based coupling agent, a silicone oligomer and the like. Among these, silane-based coupling agents are preferable.
  • silane-based coupling agent examples include an epoxysilane-based coupling agent, an aminosilane-based coupling agent, a vinylsilane-based coupling agent, a phenylsilane-based coupling agent, an alkylsilane-based coupling agent, an alkenylsilane-based coupling agent, and alkynyl.
  • Silane-based coupling agent haloalkylsilane-based coupling agent, siloxane-based coupling agent, hydrosilane-based coupling agent, silazane-based coupling agent, alkoxysilane-based coupling agent, chlorosilane-based coupling agent, (meth) acrylic silane-based Examples thereof include coupling agents, isocyanurate silane-based coupling agents, ureidosilane-based coupling agents, mercaptosilane-based coupling agents, sulfide silane-based coupling agents, isocyanate silane-based coupling agents, and the like. Among these, aminosilane-based coupling agents are more preferable.
  • the average particle size of the inorganic filler is not particularly limited, but is preferably 0.01 to 30 ⁇ m, more preferably 0.05 to 20 ⁇ m, still more preferably 0.1 to 10 ⁇ m, and particularly preferably 0.1 to 10 ⁇ m. It is 0.2 to 5 ⁇ m, may be 0.2 to 2 ⁇ m, or may be 0.1 to 1 ⁇ m.
  • the average particle diameter of the (c) inorganic filler By setting the average particle size of the (c) inorganic filler to the upper limit or less, it tends to be possible to suppress the increase in the surface roughness of the insulating layer.
  • the term "average particle diameter” as used herein means the particle diameter (volume average particle diameter) of a point corresponding to a volume of 50% when the cumulative frequency distribution curve based on the particle diameter is obtained with the total volume of particles as 100%. ), And it is measured with a particle size distribution measuring device using a laser diffraction scattering method.
  • thermosetting resin composition of the present embodiment contains the component (c), the content thereof is not particularly limited, but the solid content in the thermosetting resin composition is not particularly limited. On the other hand, it is preferably 5 to 65% by volume, more preferably 10 to 60% by volume, further preferably 15 to 60% by volume, particularly preferably 20 to 55% by volume, and may be 20 to 50% by volume. However, it may be 20 to 40% by volume or 25 to 40% by volume.
  • C When the content of the component is not less than the lower limit value, the low thermal expansion property tends to be good, and when the content is not more than the upper limit value, it tends to be easy to suppress the occurrence of cassoulet in the prepreg.
  • thermosetting resin composition of the present embodiment is further referred to as (d) a thermosetting resin [hereinafter, referred to as a component (d). ] May be contained.
  • a thermosetting resin hereinafter, referred to as a component (d).
  • the thermosetting resin composition of the present embodiment contains the component (d)
  • the thermosetting resin composition of the present embodiment does not have to contain (d) the thermosetting resin. It is assumed that the component (d) does not include the component (a).
  • an epoxy resin As the component (d), an epoxy resin, a phenol resin, an unsaturated imide resin (however, the component (a) is excluded), a cyanate resin, an isocyanate resin, a benzoxazine resin, an oxetane resin, an amino resin, and an unsaturated polyester resin.
  • epoxy resin is preferable from the viewpoint of moldability and electrical insulation, and from the viewpoint of improving the adhesiveness with the metal foil.
  • the (d) thermosetting resin the ICI viscosity at 150 ° C.
  • the ICI viscosity measures a high shear rate known as an ICI viscometer, and is a viscosity measured by a cone plate type viscometer.
  • thermosetting resin composition of the present embodiment contains (d) a thermosetting resin, the content thereof is determined from the viewpoints of heat resistance, low thermal expansion, and adhesiveness to a metal foil.
  • the content thereof is determined from the viewpoints of heat resistance, low thermal expansion, and adhesiveness to a metal foil.
  • 100 parts by mass of the resin component of the thermosetting resin composition 5 to 50 parts by mass is preferable, 10 to 40 parts by mass is more preferable, and 15 to 40 parts by mass is further preferable.
  • thermosetting resin composition of the present embodiment is further referred to as (e) a curing accelerator [hereinafter, referred to as (e) component. ] May be contained.
  • a curing accelerator hereinafter, referred to as (e) component.
  • Ingredients include imidazole compounds and their derivatives; organophosphorus compounds such as phosphine compounds, phosphonium salts, and adducts of tertiary phosphine and quinone compounds; secondary amines, tertiary amines, and secondary amines. Examples include quaternary ammonium salts.
  • the component (e) one kind may be used alone, or two or more kinds may be used in combination.
  • thermosetting resin composition contains the component (e)
  • the content thereof is preferably 0.1 to 10 parts by mass and 0.1 to 5 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the resin component.
  • mass is more preferable, and 0.1 to 2 parts by mass is even more preferable.
  • it is 0.1 parts by mass or more, excellent heat resistance, flame retardancy and adhesiveness to a metal foil tend to be obtained, and when it is 10 parts by mass or less, heat resistance and aging stability are obtained. Properties and press formability tend to be difficult to deteriorate.
  • thermosetting resin composition of the present embodiment may be further referred to as (f) monoamine compound [hereinafter, (f) component. ] May be contained or may not be contained.
  • component (f) the same compound as the monoamine compound (a2) can be used, and the preferred embodiment is also the same.
  • thermosetting resin composition of the present embodiment contains the component (f), the content thereof is a thermosetting resin from the viewpoint of reducing the coefficient of thermal expansion while maintaining heat resistance. 0.1 to 10 parts by mass is preferable, and 0.2 to 5 parts by mass is more preferable with respect to 100 parts by mass of the resin component of the composition.
  • thermosetting resin composition of the present embodiment is further (g) an amine compound having at least two amino groups [hereinafter, may be referred to as a component (g). ] May be contained or may not be contained.
  • a component (g). By containing the component (g) in the thermosetting resin composition of the present embodiment, heat resistance and low thermal expansion property can be further improved.
  • the amino group is preferably a primary amino group.
  • the same amine compound as the above-mentioned (a3) amine compound having at least two amino groups can be used, and the preferred embodiment is also the same.
  • thermosetting resin composition of the present embodiment contains the component (g), the content thereof is a thermosetting resin from the viewpoint of reducing the coefficient of thermal expansion while maintaining heat resistance. 0.1 to 20 parts by mass is preferable, and 1 to 10 parts by mass is more preferable with respect to 100 parts by mass of the resin component of the composition.
  • thermosetting resin composition of Embodiment 3 is a thermosetting resin composition further containing (g') a silicone compound having at least two amino groups.
  • the thermosetting resin composition of this embodiment contains a (g') component, the said (g) component is defined as not containing the (g') component.
  • the component (g') the same compound as the silicone compound having at least two amino groups (a3') can be used, and the preferred embodiment is also the same.
  • thermosetting resin composition of the present embodiment contains a (g') component
  • the content thereof is thermosetting from the viewpoint of reducing the coefficient of thermal expansion while maintaining heat resistance. 0.1 to 20 parts by mass is preferable, and 1 to 10 parts by mass is more preferable with respect to 100 parts by mass of the resin component of the resin composition.
  • thermosetting resin composition of the present embodiment is optionally known as a thermoplastic resin, an organic filler, a flame retardant, a flame retardant aid, an ultraviolet absorber, or a peroxide to the extent that the thermosetting property is not impaired.
  • Antioxidant, photopolymerization initiator, fluorescent whitening agent, adhesiveness improving agent and the like may be contained.
  • thermoplastic resin examples include polyethylene, polypropylene, polystyrene, polyphenylene ether resin, phenoxy resin, polycarbonate resin, polyester resin, polyamide resin, polyamideimide resin, polyimide resin, xylene resin, polyphenylene sulfide resin, polyetherimide resin, and polyether ether.
  • thermoplastic resin examples include polyethylene, polypropylene, polystyrene, polyphenylene ether resin, phenoxy resin, polycarbonate resin, polyester resin, polyamide resin, polyamideimide resin, polyimide resin, xylene resin, polyphenylene sulfide resin, polyetherimide resin, and polyether ether.
  • examples thereof include a ketone resin, a silicone resin, and a tetrafluoroethylene resin.
  • organic filler examples include resin fillers made of polyethylene, polypropylene, polystyrene, polyphenylene ether resin, silicone resin, tetrafluoroethylene resin and the like, resin fillers having a core-shell structure, and the like.
  • Flame-retardant agents include aromatic phosphoric acid ester compounds, phosphazene compounds, phosphinic acid esters, metal salts of phosphinic acid compounds, red phosphorus, 9,10-dihydro-9-oxa-10-phosphaphenanthrene-10-oxide and itss.
  • Phosphorus-based flame retardants such as derivatives; nitrogen-based flame retardants such as guanidine sulfamate, melamine sulfate, melamine polyphosphate, melamine cyanurate; halogen-containing flame retardants containing bromine, chlorine and the like can be mentioned.
  • the flame retardant aid include inorganic flame retardants such as antimony trioxide, sodium antimonate, zinc sulfide, zinc borate, zinc tintate, and zinc molybdate. These may be supported on a carrier such as talc, if necessary.
  • the substance that functions as a flame retardant and the substance that functions as a flame retardant are not classified as the above-mentioned (c) inorganic filler even if they are inorganic compounds, but are classified as flame retardants or flame retardants.
  • Examples of the ultraviolet absorber include benzotriazole-based ultraviolet absorbers.
  • Examples of the peroxide include organic peroxides such as ⁇ , ⁇ '-di (t-butylperoxy) diisopropylbenzene and the like.
  • Examples of the antioxidant include a hindered phenol-based antioxidant, a hindered amine-based antioxidant, and the like.
  • Examples of the photopolymerization initiator include benzophenone-based photopolymerization initiators, benzylketal-based photopolymerization initiators, thioxanthone-based photopolymerization initiators, and the like.
  • Examples of the fluorescent whitening agent include a fluorescent whitening agent of a stilbene derivative.
  • Examples of the adhesiveness improving agent include urea compounds such as ureasilane and the coupling agent.
  • thermosetting resin composition of the present embodiment may be in the state of a varnish in which each component is dissolved or dispersed in an organic solvent for use in the production of a prepreg or the like. That is, the varnish is also included in the thermosetting resin composition of the present embodiment.
  • organic solvent used for the varnish include alcohol solvents such as methanol, ethanol, propanol, butanol, methyl cellosolve, butyl cellosolve and propylene glycol monomethyl ether; ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone and cyclohexanone; butyl acetate and propylene.
  • Ester-based solvents such as glycol monomethyl ether acetate; Ether-based solvents such as tetrahydrofuran; Fragrant solvents such as toluene, xylene, and mesitylen; Nitrogen atom-containing solvents such as dimethylformamide, dimethylacetamide, and N-methylpyrrolidone; Examples include a sulfur atom-containing solvent.
  • the organic solvent one kind may be used alone, or two or more kinds may be used in combination.
  • methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, methyl cellosolve, and propylene glycol monomethyl ether are preferable from the viewpoint of solubility, and methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, and propylene glycol monomethyl ether are more preferable from the viewpoint of low toxicity.
  • the solid content concentration of the varnish is preferably 40 to 90% by mass, more preferably 50 to 80% by mass. When the solid content concentration of the varnish is within the above range, the coatability can be kept good and a prepreg having an appropriate amount of the resin composition adhered can be obtained.
  • the prepreg of the present embodiment contains a semi-cured product of the thermosetting resin composition of the present embodiment.
  • the prepreg of the present embodiment can be produced, for example, by impregnating a fiber base material with the thermosetting resin composition of the present embodiment and forming it into a B-stage by heating or the like.
  • B-stage formation means to bring the B-stage state as defined in JIS K6900 (1994), and is also referred to as semi-curing. That is, the semi-cured product of the thermosetting resin composition is a B-staged product of the thermosetting resin composition.
  • the fiber base material well-known materials used for various laminated plates for electrical insulating materials can be used.
  • the material examples include inorganic fibers such as E glass, S glass, low dielectric glass, and Q glass; organic fibers such as low dielectric glass polyimide, polyester, and tetrafluoroethylene; and mixtures thereof.
  • inorganic fibers such as E glass, S glass, low dielectric glass, and Q glass
  • organic fibers such as low dielectric glass polyimide, polyester, and tetrafluoroethylene
  • low-dielectric glass and Q glass are preferable from the viewpoint of obtaining a base material having excellent dielectric properties.
  • These fiber base materials have shapes such as woven fabrics, non-woven fabrics, robinks, chopped strand mats, and surfaced mats.
  • the material and shape of the fiber base material may be appropriately selected depending on the intended use and performance of the molded product, and a single material and a single shape may be used, or 2 as necessary. It is also possible to combine more than one kind of material or two or more kinds of shapes.
  • As the thickness of the fiber base material for example, one having a thickness of about 0.01 to 0.5 mm can be used.
  • these fiber base materials those surface-treated with a silane-based coupling agent or the like or those that have been mechanically opened are suitable in terms of heat resistance, moisture resistance, processability, and the like.
  • the target of the prepreg of the present embodiment is, for example, that the amount of the thermosetting resin composition adhered to the fiber substrate (the amount of the solid content of the thermosetting resin composition in the prepreg) is preferably 20 to 90% by mass.
  • the fiber substrate is impregnated with the thermosetting resin composition.
  • the prepreg can be obtained by heating and drying at a temperature of 100 to 200 ° C. for 1 to 30 minutes to B-stage.
  • the thickness of the prepreg of the present embodiment is not particularly limited, and may be 10 to 300 ⁇ m, 10 to 200 ⁇ m, or 10 to 70 ⁇ m. The thickness is the thickness of the prepreg after heating and drying.
  • the laminated board of this embodiment is a laminated board containing the cured product of the prepreg of this embodiment.
  • the laminated board of this embodiment is obtained by laminating and molding the prepreg of this embodiment. Specifically, one prepreg of the present embodiment is prepared, or two to 20 prepregs are prepared, and metal foils such as copper and aluminum are arranged on one side or both sides of the prepreg. It can be manufactured by.
  • the metal foil is not particularly limited as long as it is used for electrical insulating material.
  • the laminated board in which the metal foil is arranged on one side or both sides of the laminated board of the present embodiment is particularly referred to as a metal-clad laminated board.
  • C-stage is to be in the state of C-stage as defined in JIS K6900 (1994).
  • the method of the laminated board for electric insulating material and the multi-layer board can be applied, and a multi-stage press, a multi-stage vacuum press, continuous forming, an autoclave forming machine, etc. are used.
  • the prepreg of the present embodiment and the wiring board for the inner layer can be combined and laminated to produce a laminated board.
  • the printed wiring board of the present embodiment is a printed wiring board obtained by forming a circuit on the laminated board or the metal-clad laminated board of the present embodiment.
  • the circuit forming method include known methods such as a subtractive method, a full additive method, a semi-additive method (SAP: Semi Adaptive Process), and a modified semi-additive method (m-SAP: modified Semi Adaptive Process).
  • SAP Semi Adaptive Process
  • m-SAP modified Semi Adaptive Process
  • a plurality of laminated plates having a circuit formed may be laminated with the prepreg of the present embodiment sandwiched between them, and then heat-pressed to form multiple layers. After that, a multi-layer printed wiring board can be manufactured through the formation of through holes or blind via holes by drilling or laser processing and the formation of interlayer wiring by plating or conductive paste.
  • the present disclosure also provides a high-speed communication compatible module including the printed wiring board of the present embodiment.
  • the high-speed communication compatible module of the present embodiment is particularly suitable for applications such as wireless communication devices and network infrastructure devices that utilize signals in the high frequency range and have a large amount of information communication and high speed.
  • a vector type network analyzer E8364B manufactured by Agilent Technologies Co., Ltd., CP531 (10 GHz resonator) and CPMA-V2 (program) manufactured by Kanto Denshi Applied Development Co., Ltd. are used, respectively, at an ambient temperature of 25 ° C. gone.
  • evaluation method of high frequency characteristics after moisture absorption test A moisture absorption test was carried out by allowing the evaluation resin sample prepared in the above "(1) Evaluation method of high frequency characteristics" to stand in a constant temperature and humidity chamber at 85 ° C. and a relative humidity of 85% for 48 hours. Then, using the evaluation resin sample after the moisture absorption test, Dk and Df were measured according to the description of "(1) Evaluation method of high frequency characteristics".
  • a wide-area dynamic viscoelasticity measuring device (rheology) is obtained by cutting out a test piece having a width of 5 mm and a length of 30 mm from a sample from which the copper foil has been removed in the above-mentioned "(1) Evaluation method of high frequency characteristics".
  • the storage elastic modulus (E') was measured using a product name: DVE-V4) manufactured by Co., Ltd.
  • the measurement temperature range was 40 to 300 ° C.
  • the temperature rise rate was 5 ° C./min
  • the vibration frequency was 10 Hz.
  • the storage elastic modulus (E') at 40 ° C. was obtained and used as an index of low warpage. ..
  • a resin powder was prepared by mixing each component and each blending amount shown in Table 1 and then pulverizing and stirring in a mortar for 10 minutes. Next, a partially hollowed out Teflon (registered trademark) plate (thickness: 1 mm) is placed on a copper foil, the resin powder is put into the hollowed out portion of the Teflon plate, and then the pressure is raised to 3.0 MPa. After raising the temperature to 240 ° C. at a rate of 4.0 ° C./min and holding it for 85 minutes, the resin powder was C-staged, and after releasing the pressure, it was cooled for 30 minutes to prepare a resin plate with copper. .. The high frequency characteristics were evaluated using the obtained resin plate with copper. The results are shown in Table 1.
  • Example A1 a resin plate with copper was prepared by the same method except that 4,4'-diethylbiphenyl was not blended, and the high frequency characteristics were evaluated. The results are shown in Table 1.
  • Comparative Example A2 In Comparative Example A1, the epoxy resin "NC3000-H” (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) and the phenol resin "TD-2093" (manufactured by DIC Corporation) were used in place of the component (a), and ⁇ , ⁇ -bis (manufactured by DIC Corporation) were used. Table 1 shows that 2-ethyl-4-methylimidazole was used in place of t-butylperoxy-m-isopropyl) benzene and no 4,4'-(1,3-phenylenediisopropyridene) bisaniline was used. A resin plate with copper was prepared by the same method except that the blending amount of each component was changed, and the high frequency characteristics were evaluated. The results are shown in Table 1.
  • Comparative Example A3 In Comparative Example A2, a resin plate with copper was prepared by the same method except that 4,4'-diethylbiphenyl was blended in the blending amounts shown in Table 1, and the high frequency characteristics were evaluated. The results are shown in Table 1.
  • Example A1 a resin plate with copper was produced by performing the same operation except that the type and blending amount of the component (b) were changed as shown in Table 2. The high frequency characteristics were evaluated using the obtained resin plate with copper. The results are shown in Table 2.
  • the component (b) shown in Table 2 is as follows, and the other components are the same as those in Table 1.
  • [(B) component] 4-Phenylbenzophenone [see structural formula below]; boiling point 420 ° C (1 atm) -J-p-tolyl ether [see structural formula below]; boiling point 285 ° C (1 atm)
  • Example A1 a resin plate with copper was produced by performing the same operation except that the type and blending amount of each component were changed as shown in Table 3. Using the obtained resin plate with copper, the high frequency characteristics, the high frequency characteristics after the moisture absorption test, and the moisture absorption rate were evaluated. The results are shown in Table 3.
  • the biphenyl aralkyl-type maleimide and the biphenyl skeleton-containing compound 1 are as follows, and the other components are the same as those shown in Tables 1 and 2.
  • (B) component] Biphenyl skeleton-containing compound 1 [see structural formula below]; melting point 185 ° C. (In the above general formula (1), it corresponds to the case where X b1 is a single bond, R b1 and R b2 are oxygen atom-containing groups, and m and n are 1.)
  • Examples B1 to B7 and Comparative Examples B1 to B3 The same applies to each of Examples A1 to A7 and Comparative Examples A1 to A3, except that (c) spherical molten silica (average particle size 0.5 ⁇ m) is further added to the thermosetting resin composition as an inorganic filler. By performing the operation, a resin plate with copper was produced. The high frequency characteristics and the coefficient of thermal expansion were evaluated using the obtained resin plate with copper. The results are shown in Table 4.
  • the inorganic filler is spherical molten silica having an average particle diameter of 0.5 ⁇ m.
  • thermosetting resin composition containing 2,2-bis [4- (4-maleimidephenoxy) phenyl] propane and (c) an inorganic filler. It can be seen that when 4,4'-diethylbiphenyl is blended with the product, the high frequency characteristics are improved while having low thermal expansion. On the other hand, from the comparison between Comparative Example B2 and Comparative Example B3, when 4,4'-diethylbiphenyl was blended with the thermosetting resin composition containing an epoxy resin (and a phenol resin), the high frequency characteristics were obtained. It can be seen that there is almost no improvement effect.
  • Example B1 a resin plate with copper was produced by performing the same operation except that the types and blending amounts of the components were changed as shown in Table 4. Using the obtained resin plate with copper, the high frequency characteristics, the high frequency characteristics after the moisture absorption test, and the coefficient of thermal expansion were evaluated. The results are shown in Table 5.
  • a silicone-modified maleimide resin which is a reaction product of the components (a1) to (a3) was produced according to the following method.
  • Example A1 a resin plate with copper was produced by performing the same operation except that the types and blending amounts of the components were changed as shown in Table 6. Using the obtained resin plate with copper, the high frequency characteristics and storage elastic modulus were evaluated. The results are shown in Table 6.
  • the silicone-modified maleimide resin (X-1) was obtained in Production Example 1, and the other components are the same as those shown in Table 1.

Abstract

(a)少なくとも1個のN-置換マレイミド基を有するマレイミド化合物、及び(b)下記一般式(1)で表され、且つ、前記(a)成分が有するマレイミド基に対して反応性を示さない化合物、を含有してなる熱硬化性樹脂組成物。(Xb1は、単結合又は置換もしくは無置換の炭素数1~5の脂肪族炭化水素基を表す。Rb1及びRb2は、各々独立に、置換もしくは無置換の炭素数1~10の脂肪族炭化水素基、置換もしくは無置換の環形成炭素数6~18の芳香族炭化水素基、置換もしくは無置換の環形成原子数5~20の複素環式芳香族炭化水素基、酸素原子含有基、又はそれらの組み合わせからなる基を表す。m及びnは、各々独立に、0~5の整数である。)

Description

熱硬化性樹脂組成物、プリプレグ、積層板、金属張り積層板、プリント配線板及び高速通信対応モジュール
 本開示は、熱硬化性樹脂組成物、プリプレグ、積層板、金属張り積層板、プリント配線板及び高速通信対応モジュールに関する。
 携帯電話に代表される移動体通信機器、その基地局装置、サーバー及びルーター等のネットワークインフラ機器、大型コンピュータなどの種々の電子機器において、使用する信号の高速化及び大容量化が年々進んでいる。これに伴い、これらの電子機器に搭載されるプリント配線板には高周波化対応が必要となり、伝送損失の低減を可能とする高周波数帯における誘電特性(高周波数帯における低比誘電率及び低誘電正接のこと。以下、高周波特性と称することがある。)に優れる基板材料が求められている。近年、このような高周波信号を扱うアプリケーションとして、前記電子機器のほかに、自動車、交通システム関連等のITS分野及び室内の近距離通信分野でも高周波無線信号を扱う新規システムの実用化又は実用計画が進んでおり、今後、これらの機器に搭載するプリント配線板に対しても、低伝送損失の基板材料が要求されると予想される。
 従来、低伝送損失が要求されるプリント配線板には、高周波特性に優れる熱可塑性ポリマーが使用されてきた。例えば、熱可塑性ポリマーとしてのポリフェニレンエーテルと、熱硬化性樹脂と、を併用する方法が知られている。具体的には、ポリフェニレンエーテルとエポキシ樹脂を含有する樹脂組成物(例えば、特許文献1参照)、ポリフェニレンエーテルと熱硬化性樹脂の中でも比誘電率が低いシアネート樹脂を含有する樹脂組成物(例えば、特許文献2参照)等が知られている。
特開昭58-069046号公報 特公昭61-018937号公報
 しかしながら、熱可塑性ポリマーは他の樹脂との相容性が低いために樹脂組成物の耐熱性が低下するという問題、及び樹脂組成物にしたときに熱可塑性ポリマーと他の成分との分離が生じるために取り扱い性にも劣る等の問題がある。
 そこで、熱可塑性ポリマーを配合する方法以外の方法によって、高周波数帯における誘電特性を改善することができれば、その工業的価値は非常に大きい。但し、本開示は、熱可塑性ポリマーを配合すること自体を否定するものではない。
 こうした現状に鑑み、本開示の目的は、高周波数帯における誘電特性に優れる熱硬化性樹脂組成物を提供すること、並びに、当該熱硬化性樹脂組成物を用いた、プリプレグ、積層板、金属張り積層板、プリント配線板及び高速通信対応モジュールを提供することにある。
 本発明者らは、前記目的を達成するために鋭意研究を重ねた結果、特定のマレイミド化合物を含有する熱硬化性樹脂組成物へ特定構造の化合物を配合することによって前記目的を達成し得ることを見出した。
 本開示は、下記[1]~[22]を含む。
[1](a)少なくとも1個のN-置換マレイミド基を有するマレイミド化合物、及び
 (b)下記一般式(1)で表され、且つ、前記(a)成分が有するマレイミド基に対して反応性を示さない化合物、
を含有してなる熱硬化性樹脂組成物。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003

(一般式(1)中、Xb1は、単結合又は置換もしくは無置換の炭素数1~5の脂肪族炭化水素基を表す。Rb1及びRb2は、各々独立に、置換もしくは無置換の炭素数1~10の脂肪族炭化水素基、置換もしくは無置換の環形成炭素数6~18の芳香族炭化水素基、置換もしくは無置換の環形成原子数5~20の複素環式芳香族炭化水素基、酸素原子含有基、又はそれらの組み合わせからなる基を表す。m及びnは、各々独立に、0~5の整数である。)
[2]前記(a)成分が、(a1)少なくとも2個のN-置換マレイミド基を有するマレイミド化合物を含有する、上記[1]に記載の熱硬化性樹脂組成物。
[3]前記(a)成分が、(a1)少なくとも2個のN-置換マレイミド基を有するマレイミド化合物と、(a2)モノアミン化合物及び(a3)少なくとも2個のアミノ基を有するアミン化合物からなる群から選択される少なくとも1種との反応物を含有する、上記[1]又は[2]に記載の熱硬化性樹脂組成物。
[4]前記(a1)成分が、複数のN-置換マレイミド基のうちの任意の2個のN-置換マレイミド基の窒素原子間に脂肪族炭化水素基を有する(但し、芳香族炭化水素基は存在しない)マレイミド化合物であるか、又は、複数のN-置換マレイミド基のうちの任意の2個のN-置換マレイミド基の窒素原子間に芳香族炭化水素基を含有するマレイミド化合物である、上記[2]又は[3]に記載の熱硬化性樹脂組成物。
[5]前記(a)成分が、(a1)少なくとも2個のN-置換マレイミド基を有するマレイミド化合物と(a3’)少なくとも2個のアミノ基を有するシリコーン化合物との反応物を含有する、上記[1]又は[2]に記載の熱硬化性樹脂組成物。
[6]前記(a)成分が、前記(a1)成分と、前記(a3’)成分と、(a3)少なくとも2個のアミノ基を有するアミン化合物(但し、前記(a3’)成分を除く。)との反応物である、上記[5]に記載の熱硬化性樹脂組成物。
[7]前記(b)成分が、下記一般式(1’)で表される、上記[1]~[6]のいずれかに記載の熱硬化性樹脂組成物。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004

(一般式(1’)中、Rb1、Rb2、m及びnは、前記一般式(1)中のものと同じである。)
[8]前記(b)成分の一気圧(101.325kPa)下における沸点が260℃以上である、上記[1]~[7]のいずれかに記載の熱硬化性樹脂組成物。
[9]前記(b)成分が、ジエチルビフェニル及びベンジルビフェニルからなる群から選択される少なくとも1種である、上記[1]~[8]のいずれかに記載の熱硬化性樹脂組成物。
[10]前記一般式(1)において、Rb1及びRb2が酸素原子含有基である、上記[1]~[6]及び[8]のいずれかに記載の熱硬化性樹脂組成物。
[11]前記(b)成分の含有量が、前記(a)成分1モルに対して0.001~1.0モルである、上記[1]~[10]のいずれかに記載の熱硬化性樹脂組成物。
[12]さらに(c)無機充填材を含有してなる、上記[1]~[11]のいずれかに記載の熱硬化性樹脂組成物。
[13]さらに(d)熱硬化性樹脂を含有してなる、上記[1]~[12]のいずれかに記載の熱硬化性樹脂組成物。
[14]さらに(e)硬化促進剤を含有してなる、上記[1]~[13]のいずれかに記載の熱硬化性樹脂組成物。
[15]さらに(f)モノアミン化合物を含有してなる、上記[1]~[14]のいずれかに記載の熱硬化性樹脂組成物。
[16]さらに(g)少なくとも2個のアミノ基を有するアミン化合物を含有してなる、上記[1]~[15]のいずれかに記載の熱硬化性樹脂組成物。
[17]さらに(g’)少なくとも2個のアミノ基を有するシリコーン化合物を含有してなる、上記[1]~[16]のいずれかに記載の熱硬化性樹脂組成物。
[18]上記[1]~[17]のいずれかに記載の熱硬化性樹脂組成物の半硬化物を含有してなるプリプレグ。
[19]上記[18]に記載のプリプレグの硬化物を含有してなる積層板。
[20]上記[19]に記載の積層板の片面又は両面に金属箔が配置された金属張り積層板。
[21]上記[19]に記載の積層板又は上記[20]に記載の金属張り積層板に回路形成して得られる、プリント配線板。
[22]上記[21]に記載のプリント配線板を含有してなる高速通信対応モジュール。
 本開示によれば、高周波数帯における誘電特性に優れる熱硬化性樹脂組成物、これを用いたプリプレグ、積層板、金属張り積層板、プリント配線板及び高速通信対応モジュールを提供することができる。
 本明細書中に記載されている数値範囲において、その数値範囲の上限値又は下限値は、実施例に示されている値に置き換えてもよい。また、数値範囲の下限値及び上限値は、それぞれ他の数値範囲の下限値又は上限値と任意に組み合わせられる。
 本明細書において、例えば、「10以上」という記載は、10及び10を超える数値を意味し、数値が異なる場合もこれに準ずる。また、例えば、「10以下」という記載は、10及び10未満の数値を意味し、数値が異なる場合もこれに準ずる。
 また、本明細書に例示する各成分及び材料は、特に断らない限り、1種を単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。本明細書において、組成物中の各成分の含有量は、組成物中に各成分に該当する物質が複数存在する場合、特に断らない限り、組成物中に存在する当該複数の物質の合計量を意味する。
 なお、本明細書において、「樹脂成分」とは、後述の(a)成分及び(b)成分、並びに必要に応じて使用する(d)成分、(f)成分、(g)成分及びその他の任意で使用する樹脂のことであり、(c)無機充填材、(e)硬化促進剤及び添加剤等は含まれない。また、「固形分」とは、熱硬化性樹脂組成物を構成する成分から揮発性の成分を除外した残分を意味する。
 本明細書において、高周波帯域とは、10GHz以上の帯域を指す。
 本明細書における記載事項を任意に組み合わせた態様も本実施形態に含まれる。
[熱硬化性樹脂組成物]
 本実施形態の一態様(以下、「態様1」と称することがある。)の熱硬化性樹脂組成物は、
 (a)少なくとも1個のN-置換マレイミド基を有するマレイミド化合物[(a)成分と称することがある。]、及び
 (b)下記一般式(1)で表され、且つ、前記(a)成分が有するマレイミド基に対して反応性を示さない化合物[(b)成分と称することがある。]、
を含有してなる熱硬化性樹脂組成物である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005

(一般式(1)中の各基の定義は後述の通りである。)
 ここで、本明細書において、「~~を含有する熱硬化性樹脂組成物」及び「~~を含有してなる熱硬化性樹脂組成物」という表現は、いずれの場合も、~~に記載された成分をそのまま含有する熱硬化性樹脂組成物と、~~に記載された成分の少なくとも一部が反応して得られた熱硬化性樹脂組成物の両方を含み、両者は同義である。
 前記(a)成分に対して、前記特定構造を有する(b)成分を配合することによって、熱硬化性樹脂組成物の高周波特性を向上させることができた。このような結果が得られた正確な理由は不明であるが、本発明者等は次のとおりに推察する。前記(a)成分は熱硬化性樹脂組成物中で配向し易く、配向によりそれぞれの分子の双極子モーメントが重なることで配向した分子としては大きな双極子モーメントを形成する。このため、外部電場の変化に対する追従性が悪くなり、誘電特性が悪くなっていると考えた。これに対し、当該(a)成分の配向を前記(b)成分によって阻害することで(a)成分の配向する分子数を少なくできるため、重なり合った双極子モーメントを小さくすることが可能となる。その結果、外部電場の変化に対する追従性が良好となり、誘電特性が向上したものと推察する。
 なお、本実施形態の熱硬化性樹脂組成物は、吸湿試験後であっても高周波特性に優れているという特長も有する。以下、「高周波特性」という場合には、「吸湿試験後の高周波特性」も含まれる。
 本実施形態の別の一態様(以下、「態様2」と称することがある。)の熱硬化性樹脂組成物は、
 (a)少なくとも1個のN-置換マレイミド基を有するマレイミド化合物、及び
 (b)下記一般式(1)で表され、且つ、前記(a)成分が有するマレイミド基に対して反応性を示さない化合物、
を含有してなる熱硬化性樹脂組成物であって、前記(a)成分が、(a1)少なくとも2個のN-置換マレイミド基を有するマレイミド化合物[以下、(a1)成分と称することがある。]と(a3’)少なくとも2個のアミノ基を有するシリコーン化合物[以下、(a3’)成分と称することがある。]との反応物[以下、シリコーン変性マレイミド樹脂(X)と称することがある。]を含有する、熱硬化性樹脂組成物である。
 態様2の熱硬化性樹脂組成物は、高周波数帯における誘電特性に優れると共に、低弾性率であるために低そり性にも優れる。
 また、態様2では、前記(a)成分は、前記(a1)成分と、前記(a3’)成分と、(a3)少なくとも2個のアミノ基を有するアミン化合物[以下、(a3)成分と称することがある。]との反応物であってもよい。但し、前記(a3)成分に前記(a3’)成分は含まれず、前記(a3)成分と前記(a3’)成分は異なるものである。
 本実施形態のさらに別の一態様(以下、「態様3」と称することがある。)の熱硬化性樹脂組成物は、
 (a)少なくとも1個のN-置換マレイミド基を有するマレイミド化合物[(a)成分]、
 (b)下記一般式(1)で表され、且つ、前記(a)成分が有するマレイミド基に対して反応性を示さない化合物[(b)成分]、及び
 (g’)少なくとも2個のアミノ基を有するシリコーン化合物[以下、(g’)成分と称することがある。]、
を含有してなる熱硬化性樹脂組成物である。
 態様3の熱硬化性樹脂組成物は、高周波数帯における誘電特性に優れると共に、低弾性率であるために低そり性にも優れる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006

(一般式(1)中の各基の定義は後述の通りである。)
 以下、本実施形態の熱硬化性樹脂組成物が含有する各成分について詳述する。以下の説明は、特記しない限り、前記態様1~3の全てに共通する記載である。
<(a)少なくとも1個のN-置換マレイミド基を有するマレイミド化合物>
 本実施形態の熱硬化性樹脂組成物は、(a)成分を含有することにより、耐熱性及び低熱膨張性に優れたものとすることができる。なお、(b)成分による前記効果は、当該(a)成分が存在することによって顕著に発現するものである。
 前記態様1において、(a)成分は、耐熱性及び低熱膨張性の観点から、(a1)少なくとも2個のN-置換マレイミド基を有するマレイミド化合物[以下、(a1)成分と称することがある。]を含有することが好ましく、(a1)成分を50質量%以上含有することがより好ましく、(a1)成分を80質量%以上含有することがさらに好ましく、(a1)成分を90質量%以上含有することが特に好ましく、(a)成分が(a1)成分そのものであってもよい。
 また、前記態様1において、(a)成分は、耐熱性、低熱膨張性、及び金属箔との接着性の観点から、前記(a1)成分と、(a2)モノアミン化合物[以下、(a2)成分と称することがある。]及び(a3)少なくとも2個のアミノ基を有するアミン化合物からなる群から選択される少なくとも1種との反応物[以下、変性マレイミド樹脂(A)と称することがある。]を含有することも好ましい。(a)成分は、該変性マレイミド樹脂(A)を50質量%以上含有することがより好ましく、80質量%以上含有することがさらに好ましく、90質量%以上含有することが特に好ましく、(a)成分が変性マレイミド樹脂(A)そのものであってもよい。
 さらに、前記態様1において、(a)成分が、前記(a1)成分と前記変性マレイミド樹脂(A)とを含有する態様も好ましい。この場合、(a)成分中における前記(a1)成分と前記変性マレイミド樹脂(A)の合計含有量は、好ましくは50質量%以上、より好ましくは80質量%以上、さらに好ましくは90質量%以上、特に好ましくは実質的に100質量%である。
 また、前記態様2及び3において、(a)成分は、前記シリコーン変性マレイミド樹脂(X)を50質量%以上含有することがより好ましく、80質量%以上含有することがさらに好ましく、90質量%以上含有することが特に好ましく、(a)成分がシリコーン変性マレイミド樹脂(X)そのものであってもよい。
 さらに、前記態様2及び3では、前記(a)成分が、前記(a1)成分と前記シリコーン変性マレイミド樹脂(X)とを含有する態様も好ましい。この場合、(a)成分中における前記(a1)成分とシリコーン変性マレイミド樹脂(X)の合計含有量は、好ましくは50質量%以上、より好ましくは80質量%以上、さらに好ましくは90質量%以上、特に好ましくは実質的に100質量%である。
((a1)少なくとも2個のN-置換マレイミド基を有するマレイミド化合物)
 前記(a1)成分としては、複数のN-置換マレイミド基のうちの任意の2個のN-置換マレイミド基の窒素原子間に脂肪族炭化水素基を有する(但し、芳香族炭化水素基は存在しない)マレイミド化合物[以下、脂肪族炭化水素基含有マレイミド化合物と称する]であるか、又は、複数のN-置換マレイミド基のうちの任意の2個のN-置換マレイミド基の窒素原子間に芳香族炭化水素基を含有するマレイミド化合物[以下、芳香族炭化水素基含有マレイミド化合物と称する]が挙げられる。これらの中でも、高耐熱性、高周波特性、高金属箔接着性、高ガラス転移温度、低熱膨張性及び成形性の観点から、芳香族炭化水素基含有マレイミド化合物が好ましい。芳香族炭化水素基含有マレイミド化合物は、任意に選択した2つのマレイミド基の組み合わせのいずれかの間に芳香族炭化水素基を含有していればよく、また、芳香族炭化水素基と共に脂肪族炭化水素基を有していてもよい。
 前記(a1)成分としては、高耐熱性、高周波特性、高金属箔接着性、高ガラス転移温度、低熱膨張性及び成形性の観点から、1分子中に2個~5個のN-置換マレイミド基を有するマレイミド化合物が好ましく、1分子中に2個のN-置換マレイミド基を有するマレイミド化合物がより好ましい。
 また、高耐熱性、高周波特性、高金属箔接着性、高ガラス転移温度、低熱膨張性及び成形性の観点から、前記(a1)成分としては、下記一般式(a1-1)で表されるマレイミド化合物がさらに好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007

(式中、Xa1は、下記一般式(a1-2)、(a1-3)、(a1-4)又は(a1-5)で表される基である。)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008

(式中、Ra1は、各々独立に、炭素数1~5の脂肪族炭化水素基又はハロゲン原子である。p1は、0~4の整数である。)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009

(式中、Ra2は、各々独立に、炭素数1~5の脂肪族炭化水素基又はハロゲン原子である。Xa2は、炭素数1~5のアルキレン基、炭素数2~5のアルキリデン基、エーテル基、スルフィド基、スルホニル基、カルボニルオキシ基、ケト基、単結合又は下記一般式(a1-3’)で表される基である。q1は、各々独立に、0~4の整数である。)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010

(式中、Ra3は、各々独立に、炭素数1~5の脂肪族炭化水素基又はハロゲン原子である。Xa3は、炭素数1~5のアルキレン基、炭素数2~5のアルキリデン基、エーテル基、スルフィド基、スルホニル基、カルボニルオキシ基、ケト基、又は単結合である。r1は、各々独立に、0~4の整数である。)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000011

(式中、n1は、1~10の整数である。)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000012

(式中、Ra4は、各々独立に、水素原子又は炭素数1~5の脂肪族炭化水素基である。u1は、1~8の整数である。)
 以下、前記各一般式中の各基について説明する。
 前記一般式(a1-2)中、Ra1が表す炭素数1~5の脂肪族炭化水素基としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、t-ブチル基、n-ペンチル基等が挙げられる。また、ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。
 Ra1としては、脂肪族炭化水素基が好ましい。
 p1は、0~4の整数であり、入手容易性の観点から、好ましくは0~2の整数、より好ましくは0である。p1が2以上の整数である場合、複数のRa1同士は同一であってもよいし、異なっていてもよい。
 前記一般式(a1-3)中、Ra2が表す炭素数1~5の脂肪族炭化水素基、ハロゲン原子としては、Ra1が表すそれらと同じものが挙げられる。該脂肪族炭化水素基としては、好ましくは炭素数1~3の脂肪族炭化水素基、より好ましくはメチル基、エチル基、さらに好ましくはエチル基である。
 Ra2としては、炭素数1~5の脂肪族炭化水素基が好ましい。
 Xa2が表す炭素数1~5のアルキレン基としては、メチレン基、1,2-ジメチレン基、1,3-トリメチレン基、1,4-テトラメチレン基、1,5-ペンタメチレン基等が挙げられる。該アルキレン基としては、好ましくは炭素数1~3のアルキレン基、より好ましくはメチレン基である。
 Xa2が表す炭素数2~5のアルキリデン基としては、エチリデン基、プロピリデン基、イソプロピリデン基、ブチリデン基、イソブチリデン基、ペンチリデン基、イソペンチリデン基等が挙げられる。これらの中でも、イソプロピリデン基が好ましい。
 Xa2としては、前記選択肢の中でも、炭素数1~5のアルキレン基、炭素数2~5のアルキリデン基、一般式(a1-3’)で表される基が好ましく、一般式(a1-3’)で表される基がより好ましい。
 q1は、各々独立に、0~4の整数であり、入手容易性の観点から、好ましくは0~2の整数、より好ましくは0又は2である。q1が2以上の整数である場合、複数のRa2同士は、それぞれ同一であってもよいし、異なっていてもよい。
 前記一般式(a1-3’)中、Ra3が表す炭素数1~5の脂肪族炭化水素基、ハロゲン原子としては、Ra2が表すそれらと同じものが挙げられる。
 Xa3が表す炭素数1~5のアルキレン基、炭素数2~5のアルキリデン基としては、Xa2が表す炭素数1~5のアルキレン基、炭素数2~5のアルキリデン基と同じものが挙げられる。
 Xa3としては、上記選択肢の中でも、好ましくは炭素数2~5のアルキリデン基、より好ましくはイソプロピリデン基である。
 r1は、0~4の整数であり、入手容易性の観点から、好ましくは0~2の整数、より好ましくは0である。r1が2以上の整数である場合、複数のRa3同士は、それぞれ同一であってもよいし、異なっていてもよい。
 前記一般式(a1-4)中、n1は、丸括弧が囲っている構造単位の繰り返し単位数を表し、具体的には1~10の整数であり、入手容易性の観点から、好ましくは1~5の整数、より好ましくは1~3の整数である。
 前記一般式(a1-5)中、Ra4が表す炭素数1~5の脂肪族炭化水素基、ハロゲン原子としては、前記一般式(a1-2)中のRa1が表すそれらと同じものが挙げられ、Ra4の好ましい炭素数1~5の脂肪族炭化水素基及びハロゲン原子もRa1の場合と同じである。同一の炭素原子に結合しているRa4同士は、同一であってもよいし、異なっていてもよい。
 u1は、丸括弧が囲っている構造単位の繰り返し単位数を表し、具体的には1~8の整数であり、好ましくは1~3の整数、より好ましくは1である。u1が2以上の整数である場合、複数のRa4同士は、それぞれ同一であってもよいし、異なっていてもよい。
 一般式(a1-1)で表される基の中のXa1としては、高耐熱性、高周波特性、高金属箔接着性、高ガラス転移温度、低熱膨張性及び成形性の観点から、下記式のいずれかで表される基であることが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000013
 (a1)成分としては、前記一般式(a1-1)中のXa1が前記一般式(a1-3)で表される基であるマレイミド化合物がより好ましく、前記一般式(a1-1)中のXa1が前記一般式(a1-3)で表される基であり、且つ、前記一般式(a1-3)中のXa2が前記一般式(a1-3’)で表される基である化合物がさらに好ましい。
 (a1)成分としては、N,N’-エチレンビスマレイミド、N,N’-ヘキサメチレンビスマレイミド、N,N’-(1,3-フェニレン)ビスマレイミド、N,N’-[1,3-(2-メチルフェニレン)]ビスマレイミド、N,N’-[1,3-(4-メチルフェニレン)]ビスマレイミド、N,N’-(1,4-フェニレン)ビスマレイミド、ビス(4-マレイミドフェニル)メタン、ビス(3-メチル-4-マレイミドフェニル)メタン、3,3’-ジメチル-5,5’-ジエチル-4,4’-ジフェニルメタンビスマレイミド、ビス(4-マレイミドフェニル)エーテル、ビス(4-マレイミドフェニル)スルホン、ビス(4-マレイミドフェニル)スルフィド、ビス(4-マレイミドフェニル)ケトン、ビス(4-マレイミドシクロヘキシル)メタン、1,4-ビス(4-マレイミドフェニル)シクロヘキサン、1,4-ビス(マレイミドメチル)シクロヘキサン、1,4-ビス(マレイミドメチル)ベンゼン、1,3-ビス(4-マレイミドフェノキシ)ベンゼン、1,3-ビス(3-マレイミドフェノキシ)ベンゼン、ビス[4-(3-マレイミドフェノキシ)フェニル]メタン、ビス[4-(4-マレイミドフェノキシ)フェニル]メタン、1,1-ビス[4-(3-マレイミドフェノキシ)フェニル]エタン、1,1-ビス[4-(4-マレイミドフェノキシ)フェニル]エタン、1,2-ビス[4-(3-マレイミドフェノキシ)フェニル]エタン、1,2-ビス[4-(4-マレイミドフェノキシ)フェニル]エタン、2,2-ビス[4-(3-マレイミドフェノキシ)フェニル]プロパン、2,2-ビス[4-(4-マレイミドフェノキシ)フェニル]プロパン、2,2-ビス[4-(3-マレイミドフェノキシ)フェニル]ブタン、2,2-ビス[4-(4-マレイミドフェノキシ)フェニル]ブタン、2,2-ビス[4-(3-マレイミドフェノキシ)フェニル]-1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロプロパン、2,2-ビス[4-(4-マレイミドフェノキシ)フェニル]-1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロプロパン、4,4’-ビス(3-マレイミドフェノキシ)ビフェニル、4,4’-ビス(4-マレイミドフェノキシ)ビフェニル、ビフェニルアラルキル型マレイミド、ビス[4-(3-マレイミドフェノキシ)フェニル]ケトン、ビス[4-(4-マレイミドフェノキシ)フェニル]ケトン、2,2’-ビス(4-マレイミドフェニル)ジスルフィド、ビス[4-(3-マレイミドフェノキシ)フェニル]スルフィド、ビス[4-(4-マレイミドフェノキシ)フェニル]スルフィド、ビス[4-(3-マレイミドフェノキシ)フェニル]スルホキシド、ビス[4-(4-マレイミドフェノキシ)フェニル]スルホキシド、ビス[4-(3-マレイミドフェノキシ)フェニル]スルホン、ビス[4-(4-マレイミドフェノキシ)フェニル]スルホン、ビス[4-(3-マレイミドフェノキシ)フェニル]エーテル、ビス[4-(4-マレイミドフェノキシ)フェニル]エーテル、1,4-ビス[4-(4-マレイミドフェノキシ)-α,α-ジメチルベンジル]ベンゼン、1,3-ビス[4-(4-マレイミドフェノキシ)-α,α-ジメチルベンジル]ベンゼン、1,4-ビス[4-(3-マレイミドフェノキシ)-α,α-ジメチルベンジル]ベンゼン、1,3-ビス[4-(3-マレイミドフェノキシ)-α,α-ジメチルベンジル]ベンゼン、1,4-ビス[4-(4-マレイミドフェノキシ)-3,5-ジメチル-α,α-ジメチルベンジル]ベンゼン、1,3-ビス[4-(4-マレイミドフェノキシ)-3,5-ジメチル-α,α-ジメチルベンジル]ベンゼン、1,4-ビス[4-(3-マレイミドフェノキシ)-3,5-ジメチル-α,α-ジメチルベンジル]ベンゼン、1,3-ビス[4-(3-マレイミドフェノキシ)-3,5-ジメチル-α,α-ジメチルベンジル]ベンゼン、ポリフェニルメタンマレイミド(例えば、大和化成(株)製、商品名:BMI-2300等)などが挙げられる。(a1)成分は、1種を単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
 これらの中でも、(a1)成分としては、反応率が高く、より高耐熱性化できるという観点から、ビス(4-マレイミドフェニル)メタン、ビス(4-マレイミドフェニル)スルホン、3,3’-ジメチル-5,5’-ジエチル-4,4’-ジフェニルメタンビスマレイミド、2,2-ビス[4-(4-マレイミドフェノキシ)フェニル]プロパンが好ましく、2,2-ビス[4-(4-マレイミドフェノキシ)フェニル]プロパンがより好ましい。また、有機溶剤への溶解性の観点からは、3,3’-ジメチル-5,5’-ジエチル-4,4’-ジフェニルメタンビスマレイミド、ビス(4-マレイミドフェニル)メタン、ポリフェニルメタンマレイミドが好ましく、安価であるという観点からは、ビス(4-マレイミドフェニル)メタンが好ましい。
((a2)モノアミン化合物)
 (a1)成分に(a2)成分を反応させることにより、耐熱性及び低熱膨張性等をより向上させることができる。
 当該(a2)成分としては、アミノ基を1つ有する化合物であれば特に制限はないが、高耐熱性、高周波特性、高金属箔接着性、高ガラス転移温度、低熱膨張性及び成形性の観点から、酸性置換基を有するモノアミン化合物が好ましく、下記一般式(a2-1)で表される化合物がより好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000014

(式中、Ra5は、各々独立に、酸性置換基である、水酸基、カルボキシ基又はスルホン酸基であり、Ra6は、各々独立に、炭素数1~5の脂肪族炭化水素基又はハロゲン原子である。x2は1~5の整数、y2は0~4の整数であり、且つ、1≦x2+y2≦5を満たす。)
 前記式(a2-1)中、Ra5が示す酸性置換基としては、溶解性及び反応性の観点から、好ましくは水酸基、カルボキシ基であり、耐熱性も考慮すると、より好ましくは水酸基である。
 x2は1~5の整数であり、高耐熱性、低比誘電率、高ガラス転移温度、低熱膨張性及び成形性の観点から、好ましくは1~3の整数、より好ましくは1又は2、さらに好ましくは1である。
 Ra6が示す炭素数1~5のアルキル基としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、t-ブチル基、n-ペンチル基等が挙げられる。該アルキル基としては、好ましくは炭素数1~3のアルキル基である。
 Ra6が示すハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。
 y2は0~4の整数であり、高耐熱性、低比誘電率、高ガラス転移温度、低熱膨張性及び成形性の観点から、好ましくは0~3の整数、より好ましくは0~2の整数、さらに好ましくは0又は1、特に好ましくは0である。
 なお、x2が2以上の整数の場合、複数のRa5は同一であってもよいし、異なっていてもよい。また、y2が2以上の整数の場合、複数のRa6は同一であってもよいし、異なっていてもよい。
 (a2)成分としては、m-アミノフェノール、p-アミノフェノール、o-アミノフェノール、p-アミノ安息香酸、m-アミノ安息香酸、o-アミノ安息香酸、o-アミノベンゼンスルホン酸、m-アミノベンゼンスルホン酸、p-アミノベンゼンスルホン酸、3,5-ジヒドロキシアニリン、3,5-ジカルボキシアニリン等が挙げられる。これらの中でも、溶解性及び合成収率の観点から、m-アミノフェノール、p-アミノフェノール、o-アミノフェノール、p-アミノ安息香酸、m-アミノ安息香酸、3,5-ジヒドロキシアニリンが好ましく、耐熱性の観点から、m-アミノフェノール、p-アミノフェノールがより好ましく、低熱膨張性の観点から、p-アミノフェノールがさらに好ましい。
 モノアミン化合物(a2)は1種を単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
((a3)少なくとも2個のアミノ基を有するアミン化合物)
 (a3)成分としては、分子末端の少なくとも一方にアミノ基を有するアミン化合物が好ましく、分子両末端にアミノ基を有するアミン化合物がより好ましい。さらに、側鎖にアミノ基を有するアミン化合物であってもよく、側鎖及び少なくとも一方の分子末端にアミノ基を有するアミン化合物であってもよい。なお、(a3)成分としては、シロキサン骨格を含有するものであってもよいし、シロキサン骨格を含有しないものであってもよい。シロキサン骨格を含有するものとしては、(a3’)少なくとも2個のアミノ基を有するシリコーン化合物が挙げられる。(a3’)少なくとも2個のアミノ基を有するシリコーン化合物は前記態様2で使用する化合物であり、これについては後述する。
 前記アミノ基はいずれも、1級アミノ基であることが好ましい。
 これらの中でも、分子両末端にアミノ基を有するアミン化合物が好ましく、このようなアミン化合物としては、高耐熱性、高周波特性、高金属箔接着性、高ガラス転移温度、低熱膨張性及び成形性の観点から、下記一般式(a3-1)で表されるジアミン化合物が好ましく挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000015

(一般式(a3-1)中、Xa4は、下記一般式(a3-2)、(a3-3)又は(a3-4)で表される基である。)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000016

(一般式(a3-2)中、Ra7は、各々独立に、炭素数1~5の脂肪族炭化水素基又はハロゲン原子である。p3は、0~4の整数である。)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000017

(一般式(a3-3)中、Ra8及びRa9は、各々独立に、炭素数1~5の脂肪族炭化水素基又はハロゲン原子である。Xa5は、炭素数1~5のアルキレン基、炭素数2~5のアルキリデン基、エーテル基、スルフィド基、スルホニル基、カルボニルオキシ基、ケト基、単結合、下記一般式(a3-3-1)で表される基又は下記一般式(a3-3-2)で表される基である。q3及びr3は、各々独立に、0~4の整数である。)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000018

(一般式(a3-3-1)中、Ra10及びRa11は、各々独立に、炭素数1~5の脂肪族炭化水素基又はハロゲン原子である。Xa6は、炭素数1~5のアルキレン基、炭素数2~5のアルキリデン基、エーテル基、スルフィド基、スルホニル基、カルボニルオキシ基、ケト基又は単結合である。s3及びt3は、各々独立に、0~4の整数である。)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000019

(一般式(a3-3-2)中、Ra12は、炭素数1~5の脂肪族炭化水素基又はハロゲン原子である。Xa7及びXa8は、各々独立に、炭素数1~5のアルキレン基、炭素数2~5のアルキリデン基、エーテル基又は単結合である。u3は、0~4の整数である。)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000020

(一般式(a3-4)中、Ra13~Ra16は、各々独立に、炭素数1~5のアルキル基、フェニル基又は置換フェニル基を表す。Xa9及びXa10は各々独立に、2価の有機基を表す。v3は、1~100の整数である。)
 前記一般式(a3-2)中、Ra7が表す脂肪族炭化水素基としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、t-ブチル基、n-ペンチル基等が挙げられる。該脂肪族炭化水素基としては、好ましくは炭素数1~3の脂肪族炭化水素基であり、より好ましくはメチル基である。また、ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。
 以上の中でも、Ra7としては炭素数1~5の脂肪族炭化水素基が好ましい。
 p3は0~4の整数であり、入手容易性の観点から、好ましくは0~2の整数、より好ましくは2である。p3が2以上の整数である場合、複数のRa7同士は同一であってもよいし、異なっていてもよい。
 前記一般式(a3-3)中、Ra8及びRa9が表す炭素数1~5の脂肪族炭化水素基、ハロゲン原子としては、前記Ra7の場合と同じものが挙げられる。該脂肪族炭化水素基としては、好ましくは炭素数1~3の脂肪族炭化水素基、より好ましくはメチル基及びエチル基、さらに好ましくはエチル基である。
 Xa5が表す炭素数1~5のアルキレン基としては、メチレン基、1,2-ジメチレン基、1,3-トリメチレン基、1,4-テトラメチレン基、1,5-ペンタメチレン基等が挙げられる。該アルキレン基としては、耐熱性及び低熱膨張性の観点から、好ましくは炭素数1~3のアルキレン基であり、より好ましくはメチレン基である。
 Xa5が表す炭素数2~5のアルキリデン基としては、エチリデン基、プロピリデン基、イソプロピリデン基、ブチリデン基、イソブチリデン基、ペンチリデン基、イソペンチリデン基等が挙げられる。これらの中でも、耐熱性及び低熱膨張性の観点から、イソプロピリデン基が好ましい。
 Xa5としては、上記選択肢の中でも、炭素数1~5のアルキレン基、炭素数2~5のアルキリデン基が好ましい。より好ましいものは前述のとおりである。
 q3及びr3は、各々独立に0~4の整数であり、入手容易性の観点から、いずれも、好ましくは0~2の整数、より好ましくは0又は2である。q3又はr3が2以上の整数である場合、複数のRa8同士又はRa9同士は、それぞれ同一であってもよいし、異なっていてもよい。
 前記一般式(a3-3-1)中、Ra10及びRa11が表す炭素数1~5の脂肪族炭化水素基、ハロゲン原子としては、前記Ra8及びRa9の場合と同じものが挙げられ、好ましい態様も同じである。
 Xa6が表す炭素数1~5のアルキレン基、炭素数2~5のアルキリデン基としては、前記Xa5が表す炭素数1~5のアルキレン基、炭素数2~5のアルキリデン基と同じものが挙げられる。
 Xa6としては、上記選択肢の中でも、好ましくは炭素数2~5のアルキリデン基であり、より好ましくはイソプロピリデン基である。
 s3及びt3は0~4の整数であり、入手容易性の観点から、いずれも、好ましくは0~2の整数、より好ましくは0又は1、さらに好ましくは0である。s3又はt3が2以上の整数である場合、複数のRa10同士又はRa11同士は、それぞれ同一であってもよいし、異なっていてもよい。
 前記一般式(a3-3-2)中、Ra12が表す炭素数1~5の脂肪族炭化水素基、ハロゲン原子は、前記Ra10及びRa11の場合と同じものが挙げられ、好ましい態様も同じである。
 Xa7及びXa8が表す炭素数1~5のアルキレン基、炭素数2~5のアルキリデン基としては、前記Xa6の場合と同じものが挙げられ、好ましい態様も同じである。u3は、0~4の整数であり、入手容易性の観点から、いずれも、好ましくは0~2の整数、より好ましくは0又は1、さらに好ましくは0である。u3が2以上の整数である場合、複数のRa12同士は、それぞれ同一であってもよいし、異なっていてもよい。
 前記一般式(a3-4)中のRa13~Ra16が表す炭素数1~5のアルキル基としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、t-ブチル基、n-ペンチル基等が挙げられる。該アルキル基としては、炭素数1~3のアルキル基が好ましく、メチル基がより好ましい。
 Ra13~Ra16が表す置換フェニル基において、フェニル基が有する置換基としては、炭素数1~5のアルキル基、炭素数2~5のアルケニル基、炭素数2~5のアルキニル基等が挙げられる。該炭素数1~5のアルキル基としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、t-ブチル基、n-ペンチル基等が挙げられる。該炭素数2~5のアルケニル基としては、ビニル基、アリル基等が挙げられる。炭素数2~5のアルキニル基としては、エチニル基、プロパルギル基等が挙げられる。
 Ra13~Ra16は、いずれも炭素数1~5のアルキル基であることが好ましく、メチル基であることがより好ましい。
 Xa9及びXa10が表す2価の有機基としては、アルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、アリーレン基、-O-又はこれらが組み合わされた2価の連結基等が挙げられる。該アルキレン基としては、メチレン基、エチレン基、プロピレン基等の炭素数1~10のアルキレン基が挙げられる。該アルケニレン基としては、炭素数2~10のアルケニレン基が挙げられる。該アルキニレン基としては、炭素数2~10のアルキニレン基が挙げられる。該アリーレン基としては、フェニレン基、ナフチレン基等の炭素数6~20のアリーレン基が挙げられる。
 v3は、鍵括弧が囲った構造単位の繰り返し単位数を表し、具体的には1~100の整数であり、2~100の整数であってもよいし、5~100の整数であってもよいし、10~100の整数であってもよいし、15~70の整数であってもよいし、20~50の整数であってもよい。
 (a3)成分としては、前記一般式(a3-1)中のXa4が前記一般式(a3-3)で表される基であるジアミン化合物が好ましく、前記一般式(a3-1)中のXa4が前記一般式(a3-3)で表される基であり、且つ、前記一般式(a3-3)中のXa5が前記一般式(a3-3-2)で表される基であるジアミン化合物がより好ましい。
 (a3)成分の具体例としては、4,4’-(1,3-フェニレンジイソプロピリデン)ビスアニリン、ジアミノベンジジン、ジアミノジフェニルメタン、ジアミノジフェニルエーテル、ジアミノジフェニルスルホン、4,4’-メチレン-ビス(2-クロロアニリン)、1,3’-ビス(4-アミノフェノキシ)ベンゼン、2,2’-ビス[4-(4-アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、ビス[4-(4-アミノフェノキシ)フェニル]スルホン、ビス[4-(3-アミノフェノキシ)フェニル]スルホン、2,2’-ビス[4-(4-アミノフェノキシ)フェニル]ヘキサフルオロプロパン、1,4’-ビス(4-アミノフェノキシ)ベンゼン、4,4’-ジアミノジフェニルスルフィド、4,4’-ジアミノ-3,3’-ビフェニルジオール、9,9’-ビス(4-アミノフェニル)フルオレン、o-トリジンスルホン等が挙げられる。
 特に制限されるものではないが、これらの中でも、4,4’-(1,3-フェニレンジイソプロピリデン)ビスアニリンが好ましい。
((a3’)少なくとも2個のアミノ基を有するシリコーン化合物)
 (a3’)成分は、少なくとも2個のアミノ基を有するシリコーン化合物であれば特に制限はないが、1分子中に2個のアミノ基を有するシリコーン化合物であることが好ましく、1分子中に2個の第1級アミノ基を有するシリコーン化合物であることが好ましい。
 (a3’)成分は、アミノ基(好ましくは第1級アミノ基)を、シロキサン骨格の側鎖又は末端のいずれか又は両方に有していればよく、入手容易性及び低そり性の観点から、末端に有することが好ましく、両末端に有することがより好ましい(以下、両末端にアミノ基(好ましくは第1級アミノ基)を有するシリコーン化合物を「両末端アミノ変性シリコーン化合物」ともいう)。同様の観点から、(a3’)成分は、下記一般式(a3’-1)で表されることが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000021

(一般式(a3’-1)中、Ra13~Ra16、Xa9、Xa10及びv3は、前記一般式(a3-4)中のものと同じであり、好ましい態様も同じである。)
 (a3’)成分は、市販品を用いることができ、例えば、側鎖にメチル基を有する(a3’)成分としては、「KF-8010」(アミノ基の官能基当量430g/mol)、「X-22-161A」(アミノ基の官能基当量800g/mol)、「X-22-161B」(アミノ基の官能基当量1,500g/mol)、「KF-8012」(アミノ基の官能基当量2,200g/mol)、「KF-8008」(アミノ基の官能基当量5,700g/mol)、「X-22-9409」(アミノ基の官能基当量700g/mol)(以上、信越化学工業株式会社製)等が挙げられる。また、側鎖にフェニル基を有する(a3’)成分としては、「X-22-1660B-3」(アミノ基の官能基当量2,200g/mol)(信越化学工業株式会社製)、「BY-16-853U」(アミノ基の官能基当量460g/mol)、「BY-16-853」(アミノ基の官能基当量650g/mol)、「BY-16-853B」(アミノ基の官能基当量2,200g/mol)(以上、東レダウコーニング株式会社製)等が挙げられる。これらは1種を単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
 これらの中でも、(a3’)成分の市販品としては、低吸水性の観点から、「X-22-161A」、「X-22-161B」、「KF-8012」、「KF-8008」、「X-22-1660B-3」、「BY-16-853B」が好ましく、低熱膨張性の観点から、「X-22-161A」、「X-22-161B」、「KF-8012」、「X-22-1660B-3」がより好ましい。
 (a3’)成分が有するアミノ基の官能基当量は、300~3,000g/molが好ましく、400~2,500g/molがより好ましく、600~2,300g/molがさらに好ましい。
(変性マレイミド樹脂(A)及びシリコーン変性マレイミド樹脂(X)の製造方法)
 態様1では、(a)成分として前記変性マレイミド樹脂(A)を含有することで、熱硬化性樹脂組成物中の樹脂の分子量を制御し易くなり、低熱膨張性及び弾性率を向上させ易くなる傾向にある。
 態様2及び3では、(a)成分としてシリコーン変性マレイミド樹脂(X)を含有することで、熱硬化性樹脂組成物中の樹脂の分子量を制御し易くなり、且つ、低熱膨張性及び低そり性を向上させ易くなる傾向にある。
 変性マレイミド樹脂(A)の製造方法に特に制限はないが、前記(a1)成分が持つマレイミド基の炭素-炭素二重結合へ、前記(a2)成分が持つアミノ基及び前記(a3)成分が持つアミノ基のうちの少なくとも一方を付加反応させることで変性マレイミド樹脂(A)を製造することができる。
 また、シリコーン変性マレイミド樹脂(X)の製造方法に特に制限はないが、前記(a1)成分が持つマレイミド基の炭素-炭素二重結合へ、前記(a3’)成分が持つアミノ基(及び必要に応じて前記(a3)成分[但し、(a3’)成分を除く。]が持つアミノ基)を付加反応させることでシリコーン変性マレイミド樹脂(X)を製造することができる。
 変性マレイミド樹脂(A)の製造及びシリコーン変性マレイミド樹脂(X)の製造は、有機溶媒中で加熱保温しながら行なうことが好ましい。反応温度は、特に制限されるものではないが、70~200℃が好ましく、70~150℃がより好ましく、100~130℃がさらに好ましい。反応時間は、特に制限されるものではないが、0.1~10時間が好ましく、1~6時間がより好ましい。
 また、変性マレイミド樹脂(A)の製造及びシリコーン変性マレイミド樹脂(X)の製造には、必要により反応触媒を使用することができる。反応触媒に特に制限はないが、トリエチルアミン、ピリジン、トリブチルアミン等のアミン化合物;メチルイミダゾール、フェニルイミダゾール等のイミダゾール系化合物;トリフェニルホスフィン等のリン系触媒等が挙げられる。これらは、1種を単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
 変性マレイミド樹脂(A)の製造における、(a1)成分のマレイミド基数〔(a1)成分の使用量(g)/(a1)成分のマレイミド基の官能基当量(g/eq)〕は、特に制限されるものではないが、(a2)成分のアミノ基数〔(a2)成分の使用量(g)/(a2)成分のアミノ基の官能基当量(g/eq)〕と(a3)成分のアミノ基数〔(a3)成分の使用量(g)/(a3)成分のアミノ基の官能基当量(g/eq)〕の合計に対して、0.1~10倍が好ましく、1~9倍がより好ましく、1.1~9倍がさらに好ましく、2~8倍が特に好ましい。前記下限値以上、特に2倍以上であると、ゲル化が抑制されると共に耐熱性が良好となる傾向にあり、前記上限値以下であると、有機溶媒への溶解性及び耐熱性が良好となる傾向にある。
 同様に、シリコーン変性マレイミド樹脂(X)の製造における、(a1)成分のマレイミド基数〔(a1)成分の使用量(g)/(a1)成分のマレイミド基の官能基当量(g/eq)〕は、特に制限されるものではないが、(a3’)成分のアミノ基数〔(a3’)成分の使用量(g)/(a3’)成分のアミノ基の官能基当量(g/eq)〕と(a3)成分[但し、(a3’)成分を除く。]のアミノ基数〔(a3)成分の使用量(g)/(a3)成分のアミノ基の官能基当量(g/eq)〕の合計に対して、0.1~10倍が好ましく、1~9倍がより好ましく、1.1~9倍がさらに好ましく、2~8倍が特に好ましい。前記下限値以上、特に2倍以上であると、ゲル化が抑制されると共に耐熱性が良好となる傾向にあり、前記上限値以下であると、有機溶媒への溶解性及び耐熱性が良好となる傾向にある。
 変性マレイミド樹脂(A)の製造及びシリコーン変性マレイミド樹脂(X)の製造は、有機溶媒の存在下で実施することが好ましい。有機溶媒に特に制限はないが、エタノール、プロパノール、ブタノール、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のアルコール系溶剤;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤;テトラヒドロフラン等のエーテル系溶剤;トルエン、キシレン、メシチレン等の芳香族系溶剤;ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、N-メチルピロリドン等の窒素原子含有溶剤;ジメチルスルホキシド等の硫黄原子含有溶剤等が挙げられる。有機溶媒は、1種を単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。これらの中でも、溶解性の観点から、シクロヘキサノン、プロピレングリコールモノメチルエーテル、メチルセロソルブが好ましく、低毒性という観点から、シクロヘキサノン、プロピレングリコールモノメチルエーテルがより好ましく、揮発性が高くプリプレグの製造時に残存溶剤として残り難いことから、プロピレングリコールモノメチルエーテルがさらに好ましい。
((a)成分の含有量)
 態様1の熱硬化性樹脂組成物における(a)成分の含有量は、特に制限されるものではないが、熱硬化性樹脂組成物中の樹脂成分100質量部に対して、30~99質量部が好ましく、35~90質量部がより好ましく、40~85質量部がさらに好ましく、45~80質量部が特に好ましく、55~80質量部が最も好ましい。
 態様2及び3の熱硬化性樹脂組成物における(a)成分の含有量は、特に制限されるものではないが、熱硬化性樹脂組成物中の樹脂成分100質量部に対して、2~99質量部が好ましく、30~99質量部が好ましく、35~90質量部がより好ましく、40~85質量部がさらに好ましく、45~80質量部が特に好ましく、55~80質量部が最も好ましい。
<(b)一般式(1)で表され、且つ、前記(a)成分が有するマレイミド基に対して反応性を示さない化合物>
 前述の通り、前記(a)成分に対して(b)成分を配合することによって、熱硬化性樹脂組成物の高周波特性を向上させることができる。
 (b)成分は下記一般式(1)で表されるが、(a)成分が有するマレイミド基に対して反応性を示さないことが前提となる。つまり、一般式(1)中の各基が有していてもよい置換基は、(a)成分が有するマレイミド基に対して反応性を示さない置換基に限定される。ここで、「反応性を示さない」とは、200℃以下において反応しないことを言う。
 なお、(a)成分が有するマレイミド基に対して反応性を示す置換基としては、アミノ基、エポキシ基(グリシジル基を含む。)、マレイミド基が挙げられる。
 (b)成分は、1種を単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000022
 前記一般式(1)中、Xb1は、単結合又は置換もしくは無置換の炭素数1~5の脂肪族炭化水素基を表す。Rb1及びRb2は、各々独立に、置換もしくは無置換の炭素数1~10の脂肪族炭化水素基、置換もしくは無置換の環形成炭素数6~18の芳香族炭化水素基、置換もしくは無置換の環形成原子数5~20の複素環式芳香族炭化水素基、酸素原子含有基、又はそれらの組み合わせからなる基を表す。m及びnは、各々独立に、0~5の整数である。
 Xb1が表す炭素数1~5の脂肪族炭化水素基としては、メチレン基、ジメチレン基、トリメチレン基、ペンタメチレン基等の炭素数1~5のアルキレン基;イソプロピリデン基等の炭素数2~5のアルキリデン基が挙げられる。該脂肪族炭化水素基としては、炭素数1~3の脂肪族炭化水素基が好ましく、メチレン基、イソプロピリデン基がより好ましい。
 該脂肪族炭化水素基は置換基を有していてもよいし、無置換であってもよい。該置換基は、(a)成分が有するマレイミド基に対して反応性を示さない置換基であれば特に制限はないが、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、ニトロ基、シアノ基等(以下、これらを「置換基A」と称する)が挙げられる。
 Xb1としては、高周波特性の観点から、前記選択肢の中でも、単結合が好ましい。
 Rb1及びRb2が表す炭素数1~10の脂肪族炭化水素基としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、t-ブチル基、n-ペンチル基、n-オクチル基等が挙げられる。これらの中でも、炭素数1~5の脂肪族炭化水素基が好ましく、炭素数2又は3の脂肪族炭化水素基がより好ましく、エチル基がさらに好ましい。
 該脂肪族炭化水素基は置換基を有していてもよいし、無置換であってもよい。該置換基としては、前記置換基Aが挙げられる。
 Rb1及びRb2が表す環形成炭素数6~18の芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、ビフェニリル基等が挙げられる。該芳香族炭化水素基としては、環形成炭素数6~12の芳香族炭化水素基が好ましく、フェニル基、ビフェニリル基がより好ましい。
 該芳香族炭化水素基は置換基を有していてもよいし、無置換であってもよい。該置換基としては、前記置換基Aの他、炭素数1~10(好ましくは1~5)の脂肪族炭化水素基等が挙げられる。
 Rb1及びRb2が表す環形成原子数5~20の複素環式芳香族炭化水素基としては、トリアジニル基、オキサゾリル基、ピリジニル基、チオフェニル基等が挙げられる。該複素環式芳香族炭化水素基としては、環形成原子数5~12の複素環式芳香族炭化水素基が好ましい。
 該複素環式芳香族炭化水素基は置換基を有していてもよいし、無置換であってもよい。該置換基としては、前記置換基Aの他、炭素数1~10(好ましくは1~5)の脂肪族炭化水素基等が挙げられる。
 Rb1及びRb2が表す酸素原子含有基としては、-ORb3(Rb3は、置換もしくは無置換の炭素数1~10の脂肪族炭化水素基、置換もしくは無置換の環形成炭素数6~18の芳香族炭化水素基を表す。)、ケト基、-O-P(=O)(-ORb4)(-ORb5)[Rb4及びRb5は、それぞれ独立に、置換もしくは無置換の炭素数1~10の脂肪族炭化水素基、置換もしくは無置換の環形成炭素数6~18の芳香族炭化水素基を表す。]等が挙げられる。酸素原子含有基としては、ケト基、-O-P(=O)(-ORb4)(-ORb5)が好ましい。
 前記Rb3、Rb4及びRb5が表す炭素数1~20の脂肪族炭化水素基としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、t-ブチル基、n-ペンチル基、n-オクチル基等が挙げられる。これらの中でも、炭素数1~10の脂肪族炭化水素基が好ましく、炭素数1~5の脂肪族炭化水素基がより好ましい。該脂肪族炭化水素基は置換基を有していてもよいし、無置換であってもよい。該置換基としては、前記置換基Aが挙げられる。
 前記Rb3、Rb4及びRb5が表す環形成炭素数6~18の芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、ビフェニリル基等が挙げられる。該芳香族炭化水素基としては、環形成炭素数6~12の芳香族炭化水素基が好ましく、フェニル基がより好ましい。該芳香族炭化水素基は置換基を有していてもよいし、無置換であってもよい。該置換基としては、前記置換基Aの他、炭素数1~10(好ましくは炭素数1~5、より好ましくは炭素数1~3、さらに好ましくは炭素数1)の脂肪族炭化水素基等が挙げられる。
 Rb1及びRb2は、炭素数1~10の脂肪族炭化水素基、環形成炭素数6~18の芳香族炭化水素基、環形成原子数5~20の複素環式芳香族炭化水素基、及び酸素原子含有基からなる群から選択される少なくとも2種の基の組み合わせからなる基であってもよい。該組み合わせとしては、「炭素数1~10の脂肪族炭化水素基-環形成炭素数6~18の芳香族炭化水素基」、「炭素数1~10の脂肪族炭化水素基-環形成原子数5~20の複素環式芳香族炭化水素基」、「環形成炭素数6~18の芳香族炭化水素基-炭素数1~10の脂肪族炭化水素基-環形成炭素数6~18の芳香族炭化水素基」、「環形成原子数5~20の複素環式芳香族炭化水素基-炭素数1~10の脂肪族炭化水素基-環形成炭素数6~18の芳香族炭化水素基」、「炭素数1~10の脂肪族炭化水素基-酸素原子含有基」、「環形成炭素数6~18の芳香族炭化水素基-酸素原子含有基」、「酸素原子含有基-環形成炭素数6~18の芳香族炭化水素基」等が挙げられる。なお、これらの組み合わせは、鍵括弧内の最初に記載した基が前記一般式(1)に示されているベンゼン環へ結合していることとする。
 これらの中でも、組み合わせとしては、「炭素数1~10の脂肪族炭化水素基-環形成炭素数6~18の芳香族炭化水素基」、「酸素原子含有基-環形成炭素数6~18の芳香族炭化水素基」が好ましく、ベンジル基等のアラルキル基、「ケト基-環形成炭素数6~18の芳香族炭化水素基」が好ましく、ベンジル基、「ケト基-フェニル基」がより好ましい。なお、「ケト基-フェニル基」は下記構造式で表される基である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000023

(*は他の構造(具体的にはベンゼン環)への結合部位を示す。)
 m及びnは、各々独立に、0~5の整数であり、好ましくは0~3の整数、より好ましくは0又は1であり、0であってもよいし、1であってもよい。mが0であり、nが1であることも好ましく、mが1であり、nも1であることが好ましい。
 なお、mが2~5の整数の場合、複数存在するRb1は、それぞれ同一であってもよいし、異なっていてもよい。nが2~5の整数の場合、複数存在するRb2は、それぞれ同一であってもよいし、異なっていてもよい。
 前記一般式(1)の好ましい態様は、下記一般式(1-1)及び下記一般式(1-2)である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000024

(一般式(1-1)中、Xb1、Rb1及びRb2は、前記一般式(1)中のものと同じであり、好ましい態様も同じである。)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000025

(一般式(1-2)中、Xb1及びRb2は、前記一般式(1)中のものと同じであり、好ましい態様も同じである。)
 (b)成分としては、下記一般式(1’)で表される化合物であることが好ましい。言うまでもなく、この化合物も、(a)成分が有するマレイミド基に対して反応性を示さないことが前提となる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000026

(一般式(1’)中、Rb1、Rb2、m及びnは、前記一般式(1)中のものと同じであり、好ましい態様も同じである。)
 前記一般式(1’)の好ましい態様は、下記一般式(1’-1)及び下記一般式(1’-2)である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000027

(一般式(1’-1)中、Rb1及びRb2は、前記一般式(1’)中のものと同じであり、好ましい態様も同じである。)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000028

(一般式(1’-2)中、Rb2は、前記一般式(1’)中のものと同じであり、好ましい態様も同じである。)
 (b)成分としては、プリント配線板のリフロー工程にてボイドが発生するのを避ける観点から、一気圧(101.325kPa)下における沸点が260℃以上であることが好ましく、280℃以上であることがより好ましく、300℃以上であってもよい。沸点の上限に特に制限は無く、(b)成分の一気圧(101.325kPa)下における沸点は、例えば、500℃以下であってもよいし、450℃以下であってもよいし、400℃以下であってもよいし、350℃以下であってもよい。
 以上の観点から、(b)成分としては、ジエチルビフェニル及びベンジルビフェニルからなる群から選択される少なくとも1種であることが好ましく、4,4’-ジエチルビフェニル及び4-ベンジルビフェニルからなる群から選択される少なくとも1種であることがより好ましい。
((b)成分の含有量)
 (b)成分の含有量は、特に制限されるものではないが、前記(a)成分1モルに対して、好ましくは0.001~1.0モル、より好ましくは0.01~0.95モル、さらに好ましくは0.01~0.90モル、特に好ましくは0.05~0.90モルであり、態様1においては0.15~0.90モルであってもよいし、0.15~0.70モルであってもよい。なお、態様2及び3においては、(b)成分の含有量は、前記(a)成分1モルに対して0.001~0.5モルであってもよいし、0.01~0.5モルであってもよいし、0.04~0.3モルであってもよいし、0.04~0.2モルであってもよい。(b)成分の含有量が前記下限値以上であれば、高周波特性の向上効果が発現し易い傾向にある。なお、(b)成分の含有量は前記上限値を超えてもよいが、高周波特性の向上効果が頭打ちとなる傾向にあるため、製造コストを低減する観点からは、前記上限値以下とすることが好ましい。
<(c)無機充填材>
 本実施形態の熱硬化性樹脂組成物は、低熱膨張性の観点から、さらに(c)無機充填材[以下、(c)成分と称することがある。]を含有してなるものであってもよい。
 (c)成分としては、特に制限されるものではないが、シリカ、アルミナ、酸化チタン、マイカ、ベリリア、チタン酸バリウム、チタン酸カリウム、チタン酸ストロンチウム、チタン酸カルシウム、炭酸アルミニウム、水酸化マグネシウム、水酸化アルミニウム、ケイ酸アルミニウム、炭酸カルシウム、ケイ酸カルシウム、ケイ酸マグネシウム、窒化ケイ素、窒化ホウ素、クレー、タルク、ホウ酸アルミニウム、炭化ケイ素、石英粉末、ガラス短繊維、ガラス微粉末及び中空ガラス等が挙げられ、これらからなる群から選択される少なくとも1種であることが好ましい。ガラスとしては、Eガラス、Tガラス、Dガラス等が好ましく挙げられる。(c)成分は、1種を単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
 これらの中でも、誘電特性、耐熱性及び低熱膨張性の観点から、シリカが好ましい。シリカとしては、例えば、湿式法で製造された含水率の高い沈降シリカと、乾式法で製造された結合水等をほとんど含まない乾式法シリカが挙げられる。乾式法シリカとしては、さらに、製造法の違いにより、破砕シリカ、フュームドシリカ、溶融球状シリカ等に分類される。これらの中でも、低熱膨張性及び樹脂に充填した際の流動性の観点から、溶融球状シリカが好ましい。
 (c)成分は、カップリング剤で表面処理されたものであってもよい。カップリング剤による表面処理の方式は、配合前の無機充填材に対して乾式又は湿式で表面処理する方式であってもよく、表面未処理の無機充填材を、他の成分に配合して組成物とした後、該組成物にカップリング剤を添加する、いわゆるインテグラルブレンド処理方式であってもよい。
 カップリング剤としては、シラン系カップリング剤、チタネート系カップリング剤、シリコーンオリゴマー等が挙げられる。これらの中でも、シラン系カップリング剤が好ましい。該シラン系カップリング剤としては、エポキシシラン系カップリング剤、アミノシラン系カップリング剤、ビニルシラン系カップリング剤、フェニルシラン系カップリング剤、アルキルシラン系カップリング剤、アルケニルシラン系カップリング剤、アルキニルシラン系カップリング剤、ハロアルキルシラン系カップリング剤、シロキサン系カップリング剤、ヒドロシラン系カップリング剤、シラザン系カップリング剤、アルコキシシラン系カップリング剤、クロロシラン系カップリング剤、(メタ)アクリルシラン系カップリング剤、イソシアヌレートシラン系カップリング剤、ウレイドシラン系カップリング剤、メルカプトシラン系カップリング剤、スルフィドシラン系カップリング剤、イソシアネートシラン系カップリング剤等が挙げられる。これらの中でも、アミノシラン系カップリング剤がより好ましい。
 (c)無機充填材の平均粒子径は、特に制限されるものではないが、好ましくは0.01~30μm、より好ましくは0.05~20μm、さらに好ましくは0.1~10μm、特に好ましくは0.2~5μmであり、0.2~2μmであってもよいし、0.1~1μmであってもよい。
 前記(c)無機充填材の平均粒子径を前記下限値以上にすることで、熱硬化性樹脂組成物に(c)無機充填材を高充填した際の流動性を良好に保ち易い傾向があり、前記(c)無機充填材の平均粒子径を前記上限値以下にすることで、絶縁層の表面粗さが大きくなることを抑制できる傾向にあり、
 ここで、本明細書において「平均粒子径」とは、粒子の全体積を100%として粒子径による累積度数分布曲線を求めたとき、体積50%に相当する点の粒子径(体積平均粒子径)のことであり、レーザ回折散乱法を用いた粒度分布測定装置で測定する。
((c)成分の含有量)
 本実施形態の熱硬化性樹脂組成物が(c)成分を含有してなるものである場合、その含有量は、特に制限されるものではないが、熱硬化性樹脂組成物中の固形分に対して、好ましくは5~65体積%、より好ましくは10~60体積%、さらに好ましくは15~60体積%、特に好ましくは20~55体積%であり、20~50体積%であってもよいし、20~40体積%であってもよいし、25~40体積%であってもよい。
 (c)成分の含有量が前記下限値以上であれば、低熱膨張性が良好となる傾向にあり、前記上限値以下であれば、プリプレグにカスレが生じるのを抑制し易い傾向にある。
<(d)熱硬化性樹脂>
 本実施形態の熱硬化性樹脂組成物は、さらに(d)熱硬化性樹脂[以下、(d)成分と称することがある。]を含有してなるものであってもよい。本実施形態の熱硬化性樹脂組成物が(d)成分を含有することにより、特に、銅箔等の金属箔との接着性を向上させることができる。但し、本実施形態の熱硬化性樹脂組成物は、(d)熱硬化性樹脂を含有していなくてもよい。
 なお、該(d)成分には前記(a)成分は含まれないものとする。
 (d)成分としては、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、不飽和イミド樹脂(但し、前記(a)成分を除く。)、シアネート樹脂、イソシアネート樹脂、ベンゾオキサジン樹脂、オキセタン樹脂、アミノ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、アリル樹脂、ジシクロペンタジエン樹脂、シリコーン樹脂、トリアジン樹脂、メラミン樹脂等が挙げられ、これらからなる群から選択される少なくとも1種であることが好ましい。これらの中でも、成形性及び電気絶縁性の観点、並びに金属箔との接着性を向上させる観点から、エポキシ樹脂が好ましい。
 また、(d)熱硬化性樹脂としては、成形性の観点から、150℃におけるICI粘度が、好ましくは1.0Pa・s以下、より好ましくは0.5Pa・s以下、さらに好ましくは0.3Pa・s以下、特に好ましくは0.2Pa・s以下の熱硬化性樹脂を選択するのがよい。ここで、ICI粘度は、ICI粘度計として知られる高せん断速度を測定するもので、コーンプレート型粘度計で測定される粘度である。
((d)成分の含有量)
 本実施形態の熱硬化性樹脂組成物が(d)熱硬化性樹脂を含有してなるものである場合、その含有量は、耐熱性、低熱膨張性、金属箔との接着性の観点から、熱硬化性樹脂組成物の樹脂成分100質量部に対して、5~50質量部が好ましく、10~40質量部がより好ましく、15~40質量部がさらに好ましい。
<(e)硬化促進剤>
 本実施形態の熱硬化性樹脂組成物は、さらに(e)硬化促進剤[以下、(e)成分と称することがある。]を含有してなるものであってもよい。熱硬化性樹脂組成物が(e)成分を含有することによって、耐熱性、難燃性及び金属箔との接着性等がより向上する。
 (e)成分としては、イミダゾール系化合物及びその誘導体;ホスフィン化合物、ホスホニウム塩、第三級ホスフィンとキノン化合物との付加物等の有機リン系化合物;第二級アミン、第三級アミン、及び第四級アンモニウム塩などが挙げられる。(e)成分は、1種を単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
((e)成分の含有量)
 熱硬化性樹脂組成物が(e)成分を含有してなるものである場合、その含有量は、樹脂成分100質量部に対して、0.1~10質量部が好ましく、0.1~5質量部がより好ましく、0.1~2質量部がさらに好ましい。0.1質量部以上とすることにより、優れた耐熱性、難燃性及び金属箔との接着性が得られる傾向があり、また、10質量部以下とすることにより、耐熱性、経日安定性及びプレス成形性が低下し難い傾向がある。
<(f)モノアミン化合物>
 本実施形態の熱硬化性樹脂組成物は、さらに、(f)モノアミン化合物[以下、(f)成分と称することがある。]を含有してなるものであってもよいし、含有していなくてもよい。本実施形態の熱硬化性樹脂組成物に(f)成分を含有させることにより、耐熱性及び低熱膨張性をより向上させることができる。
 (f)成分としては、前記(a2)モノアミン化合物と同じものを使用でき、好ましい態様も同じである。
((f)成分の含有量)
 本実施形態の熱硬化性樹脂組成物が(f)成分を含有してなるものである場合、その含有量は、耐熱性を維持しつつ、熱膨張率を低減する観点から、熱硬化性樹脂組成物の樹脂成分100質量部に対して、0.1~10質量部が好ましく、0.2~5質量部がより好ましい。
<(g)少なくとも2個のアミノ基を有するアミン化合物>
 本実施形態の熱硬化性樹脂組成物は、さらに(g)少なくとも2個のアミノ基を有するアミン化合物[以下、(g)成分と称することがある。]を含有してなるものであってもよいし、含有していなくてもよい。本実施形態の熱硬化性樹脂組成物に(g)成分を含有させることにより、耐熱性及び低熱膨張性をより向上させることができる。
 前記アミノ基は1級アミノ基であることが好ましい。
 (g)成分としては、前記(a3)少なくとも2個のアミノ基を有するアミン化合物と同じものを使用でき、好ましい態様も同じである。
((g)成分の含有量)
 本実施形態の熱硬化性樹脂組成物が(g)成分を含有してなるものである場合、その含有量は、耐熱性を維持しつつ、熱膨張率を低減する観点から、熱硬化性樹脂組成物の樹脂成分100質量部に対して、0.1~20質量部が好ましく、1~10質量部がより好ましい。
<(g’)少なくとも2個のアミノ基を有するシリコーン化合物>
 特に、態様3の熱硬化性樹脂組成物は、さらに(g’)少なくとも2個のアミノ基を有するシリコーン化合物を含有してなる熱硬化性樹脂組成物である。なお、本実施形態の熱硬化性樹脂組成物が(g’)成分を含む場合に限り、前記(g)成分は当該(g’)成分を含まないものと定義する。
 (g’)成分としては、前記(a3’)少なくとも2個のアミノ基を有するシリコーン化合物と同じものを使用でき、好ましい態様も同じである。
((g’)成分の含有量)
 本実施形態の熱硬化性樹脂組成物が(g’)成分を含有してなるものである場合、その含有量は、耐熱性を維持しつつ、熱膨張率を低減する観点から、熱硬化性樹脂組成物の樹脂成分100質量部に対して、0.1~20質量部が好ましく、1~10質量部がより好ましい。
<その他の成分>
 本実施形態の熱硬化性樹脂組成物は、熱硬化性の性質を損なわない程度に、任意に公知の熱可塑性樹脂、有機充填材、難燃剤、難燃助剤、紫外線吸収剤、過酸化物、酸化防止剤、光重合開始剤、蛍光増白剤、接着性向上剤等を含有していてもよい。
 熱可塑性樹脂としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリフェニレンエーテル樹脂、フェノキシ樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリイミド樹脂、キシレン樹脂、ポリフェニレンスルフィド樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂、シリコーン樹脂、テトラフルオロエチレン樹脂等が挙げられる。
 有機充填材としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリフェニレンエーテル樹脂、シリコーン樹脂、テトラフルオロエチレン樹脂等からなる樹脂フィラー、コアシェル構造の樹脂フィラーなどが挙げられる。
 難燃剤としては、芳香族リン酸エステル化合物、ホスファゼン化合物、ホスフィン酸エステル、ホスフィン酸化合物の金属塩、赤リン、9,10-ジヒドロ-9-オキサ-10-ホスファフェナントレン-10-オキシド及びその誘導体等のリン系難燃剤;スルファミン酸グアニジン、硫酸メラミン、ポリリン酸メラミン、メラミンシアヌレート等の窒素系難燃剤;臭素、塩素等を含有する含ハロゲン系難燃剤などが挙げられる。
 難燃助剤としては、三酸化アンチモン、アンチモン酸ナトリウム、硫化亜鉛、ホウ酸亜鉛、スズ酸亜鉛、モリブデン酸亜鉛等の無機系難燃剤などが挙げられる。これらは、必要に応じてタルク等の担体に担持されていてもよい。
 なお、難燃剤として機能する物質及び難燃助剤として機能する物質は、たとえ無機化合物であっても前記(c)無機充填材には分類せず、難燃剤又は難燃助剤として分類する。
 紫外線吸収剤としては、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤が挙げられる。
 過酸化物としては、α,α’-ジ(t-ブチルパーオキシ)ジイソプロピルベンゼン等の有機過酸化物などが挙げられる。
 酸化防止剤としては、ヒンダードフェノール系酸化防止剤、ヒンダードアミン系酸化防止剤等が挙げられる。
 光重合開始剤としては、ベンゾフェノン系光重合開始剤、ベンジルケタール系光重合開始剤、チオキサントン系光重合開始剤等が挙げられる。
 蛍光増白剤としては、スチルベン誘導体の蛍光増白剤等が挙げられる。
 接着性向上剤としては、尿素シラン等の尿素化合物、前記カップリング剤などが挙げられる。
(ワニス)
 本実施形態の熱硬化性樹脂組成物は、プリプレグ等の製造に用いるために、各成分が有機溶媒中に溶解又は分散されたワニスの状態としてもよい。つまり、ワニスも本実施形態の熱硬化性樹脂組成物に含まれる。
 ワニスに用いる有機溶媒としては、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のアルコール系溶媒;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶媒;酢酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のエステル系溶媒;テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒;トルエン、キシレン、メシチレン等の芳香族系溶媒;ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、N-メチルピロリドン等の窒素原子含有溶媒;ジメチルスルホキシド等の硫黄原子含有溶媒などが挙げられる。有機溶媒は、1種を単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
 これらの中でも、溶解性の観点から、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、メチルセロソルブ、プロピレングリコールモノメチルエーテルが好ましく、低毒性である点から、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、プロピレングリコールモノメチルエーテルがより好ましい。
 ワニスの固形分濃度は、40~90質量%が好ましく、50~80質量%がより好ましい。ワニスの固形分濃度が前記範囲内であると、塗工性を良好に保ち、適切な樹脂組成物付着量のプリプレグを得ることができる。
[プリプレグ]
 本実施形態のプリプレグは、本実施形態の熱硬化性樹脂組成物の半硬化物を含有してなるものである。
 本実施形態のプリプレグは、例えば、本実施形態の熱硬化性樹脂組成物を、繊維基材に含浸し、加熱等によってB-ステージ化することで製造することができる。ここで、本明細書においてB-ステージ化とは、JIS K6900(1994年)にて定義されるB-ステージの状態にすることであり、半硬化とも称される。つまり、熱硬化性樹脂組成物の半硬化物とは、熱硬化性樹脂組成物をB-ステージ化した物のことである。
 前記繊維基材としては、各種の電気絶縁材料用積層板に用いられている周知のものが使用できる。その材質の例としては、Eガラス、Sガラス、低誘電ガラス、Qガラス等の無機物繊維;低誘電ガラスポリイミド、ポリエステル、テトラフルオロエチレン等の有機繊維;並びにそれらの混合物などが挙げられる。特に、誘電特性が優れる基材を得る観点から、低誘電ガラス、Qガラスが好ましい。
 これらの繊維基材は、織布、不織布、ロービンク、チョップドストランドマット、サーフェシングマット等の形状を有する。該繊維基材の材質及び形状は、目的とする成形物の用途及び性能等により適宜選択され、単一の材質及び単一の形状のものを用いてもよいし、又は、必要に応じて2種類以上の材質又は2種類以上の形状を組み合わせることもできる。繊維基材の厚さは、例えば、約0.01~0.5mmのものを使用することができる。これらの繊維基材は、シラン系カップリング剤等で表面処理したもの又は機械的に開繊処理を施したものが、耐熱性、耐湿性、加工性等の面から好適である。
 本実施形態のプリプレグは、例えば、繊維基材に対する熱硬化性樹脂組成物の付着量(プリプレグ中の熱硬化性樹脂組成物の固形分量)が、好ましくは20~90質量%となることを目標として、熱硬化性樹脂組成物を繊維基材に含浸させる。その後、例えば、100~200℃の温度で1~30分間加熱乾燥し、B-ステージ化させることによってプリプレグを得ることができる。
 本実施形態のプリプレグの厚みは、特に制限されるものではなく、10~300μmであってもよいし、10~200μmであってもよいし、10~70μmであってもよい。該厚みは、加熱乾燥後のプリプレグの厚みである。
[積層板、金属張り積層板]
 本実施形態の積層板は、本実施形態のプリプレグの硬化物を含有してなる積層板である。
 本実施形態の積層板は、本実施形態のプリプレグを積層成形することで得られる。具体的には、本実施形態のプリプレグ1枚を準備するか又はプリプレグを2~20枚重ねたものを準備し、その片面又は両面に銅、アルミニウム等の金属箔を配置した構成で積層成形することにより製造することができる。該製造方法により、本実施形態のプリプレグを用いて形成された絶縁層(該絶縁層はC-ステージ化されている。)と、その片面又は両面に配置された金属箔と、を有する積層板が得られる。金属箔は、電気絶縁材料用途で用いるものであれば特に制限されない。なお、本実施形態の積層板の片面又は両面に金属箔が配置された積層板を、特に、金属張り積層板と称する。また、本明細書においてC-ステージ化とは、JIS K6900(1994年)にて定義されるC-ステージの状態にすることである。
 積層板及び金属張り積層板を製造する際の成形条件は、例えば、電気絶縁材料用積層板及び多層板の手法が適用でき、多段プレス、多段真空プレス、連続成形、オートクレーブ成形機等を使用し、温度100~300℃、圧力0.2~10MPa、加熱時間0.1~5時間で成形することができる。また、本実施形態のプリプレグと内層用配線板とを組合せ、積層成形して、積層板を製造することもできる。
[プリント配線板]
 本実施形態のプリント配線板は、本実施形態の積層板又は金属張り積層板に回路形成して得られるプリント配線板である。
 回路形成方法としては、サブトラクティブ法、フルアディティブ法、セミアディティブ法(SAP:Semi Additive Process)、モディファイドセミアディティブ法(m-SAP:modified Semi Additive Process)等の公知の方法が挙げられる。
 また、例えば、回路形成した積層板を、本実施形態のプリプレグを間に挟んだ状態で複数積層した後、加熱プレス加工することによって多層化することもできる。その後、ドリル加工又はレーザ加工によるスルーホール又はブラインドビアホールの形成と、めっき又は導電性ペーストによる層間配線の形成を経て多層プリント配線板を製造することができる。
[高速通信対応モジュール]
 さらに、本開示では、本実施形態のプリント配線板を含有してなる高速通信対応モジュールも提供する。本実施形態の高速通信対応モジュールは、特に、ワイヤレス通信機器、ネットワークインフラ機器等の、高周波域の信号を利用し、情報通信量及び速度が大きい用途に好適である。
 次に、下記の実施例により本実施形態をさらに詳しく説明するが、これらの実施例は本開示を制限するものではない。
 なお、各例で得られた銅付き樹脂板について、以下の方法で各特性を評価した。
(1)高周波特性の評価方法
 各例で得た銅付き樹脂板を銅エッチング液である過硫酸アンモニウム(三菱ガス化学株式会社製)10質量%溶液に浸漬することによって銅箔を取り除いたサンプルから、2mm×50mmの評価樹脂サンプルを作製した。
 該評価樹脂サンプルを用いて、10GHz帯における比誘電率(Dk)及び誘電正接(Df)を空洞共振器法により得られる共振周波数と無負荷Q値から算出した。測定器には、アジレント・テクノロジー株式会社製のベクトル型ネットワークアナライザE8364B、株式会社関東電子応用開発製のCP531(10GHz共振器)及びCPMA-V2(プログラム)をそれぞれ使用して、雰囲気温度25℃で行った。
 Dk及びDfが小さい方が、高周波特性に優れている。
(吸湿試験後の高周波特性の評価方法)
 前記「(1)高周波特性の評価方法」で作成した評価樹脂サンプルを、恒温恒湿槽中、85℃、相対湿度85%で48時間放置することによって、吸湿試験を実施した。
 その後、吸湿試験後の評価樹脂サンプルを用いて、前記「(1)高周波特性の評価方法」の記載に従ってDk及びDfを測定した。
(2)熱膨張率の測定方法
 前記「(1)高周波特性の評価方法」において銅箔を取り除いたサンプルを裁断することによって、縦5mm×横5mmの評価基板を切り出し、TMA試験装置(TAインスツルメンツ社製、商品名:TMA2940)を用いて圧縮法で熱機械分析を行った。
 前記評価基板を前記装置に立てて装着後、荷重5g、昇温速度10℃/分の測定条件にて連続して2回測定した。2回目の測定における30℃から100℃までの平均熱膨張率(長手方向の線熱膨張率の平均)を算出し、これを熱膨張率の値とした。
(3)吸湿率の測定方法
 前記「(1)高周波特性の評価方法」の説明中の吸湿試験前後の評価樹脂サンプルの重量から、下記計算式に基づいて吸湿率を算出した。
 吸湿率={(吸湿試験後の評価樹脂サンプルの重量-吸湿試験前の評価樹脂サンプルの重量)/吸湿試験前の評価樹脂サンプルの重量}×100
(4)貯蔵弾性率の測定方法
 前記「(1)高周波特性の評価方法」において銅箔を取り除いたサンプルから、幅5mm、長さ30mmの試験片を切り出し、広域動的粘弾性測定装置(レオロジー株式会社製、商品名:DVE-V4)を用いて貯蔵弾性率(E’)を測定した。なお、測定温度領域は40~300℃、昇温速度は5℃/分、加振周波数は10Hzで測定を行い、40℃における貯蔵弾性率(E’)を求め、低そり性の指標とした。
 貯蔵弾性率が小さい方が、低そり性に優れている。
[実施例A1~A14]
 表1に記載された各成分及び各配合量で混合してから乳鉢で10分間粉砕及び攪拌することによって、樹脂粉を作製した。
 次に、一部をくり抜いたテフロン(登録商標)板(厚み:1mm)を銅箔の上に載せ、該テフロン板のくり抜いた部分に前記樹脂粉を入れた後、圧力3.0MPa、昇温速度4.0℃/分で240℃まで昇温した後、85分間保持することによって、前記樹脂粉をC-ステージ化し、放圧後、30分間冷却することによって、銅付き樹脂板を作製した。得られた銅付き樹脂板を用いて、高周波特性の評価を行った。結果を表1に示す。
[比較例A1]
 実施例A1において、4,4’-ジエチルビフェニルを配合しなかったこと以外は同様の方法で銅付き樹脂板を作製し、高周波特性の評価を行った。結果を表1に示す。
[比較例A2]
 比較例A1において、(a)成分の代わりにエポキシ樹脂「NC3000-H」(日本化薬株式会社製)及びフェノール樹脂「TD-2093」(DIC株式会社製)を用い、α,α-ビス(t-ブチルペルオキシ-m-イソプロピル)ベンゼンの代わりに2-エチル-4-メチルイミダゾールを用い、4,4’-(1,3-フェニレンジイソプロピリデン)ビスアニリンを使用せず、表1に記載された各成分の配合量に変更したこと以外は同様の方法で銅付き樹脂板を作製し、高周波特性の評価を行った。結果を表1に示す。
[比較例A3]
 比較例A2において、4,4’-ジエチルビフェニルを表1に記載された配合量で配合したこと以外は同様の方法で銅付き樹脂板を作製し、高周波特性の評価を行った。結果を表1に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000029
 表1に記載の各成分について以下に示す。
[(a)成分]
・2,2-ビス[4-(4-マレイミドフェノキシ)フェニル]プロパン[下記構造式参照]
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000030
[(a)成分の代替物質]
・エポキシ樹脂;NC3000-H(日本化薬株式会社製)
・フェノール樹脂(エポキシ硬化剤);TD-2093(DIC株式会社製)
[(b)成分]
・4,4’-ジエチルビフェニル[下記構造式参照];沸点315℃(1気圧)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000031

・4-ベンジルビフェニル[下記構造式参照];沸点286℃(14kPa)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000032
[(g)成分]
・4,4’-(1,3-フェニレンジイソプロピリデン)ビスアニリン[下記構造式参照]
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000033
[その他の成分:過酸化物]
・α,α-ビス(t-ブチルペルオキシ-m-イソプロピル)ベンゼン[下記構造式参照]
・2-エチル-4-メチルイミダゾール
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000034
 表1中の実施例A1~A14と比較例A1との対比から、2,2-ビス[4-(4-マレイミドフェノキシ)フェニル]プロパンに対して4,4’-ジエチルビフェニル又は4-ベンジルビフェニルを配合した場合には、高周波特性が向上することが分かる。
 一方、比較例A2と比較例A3との対比から、4,4’-ジエチルビフェニルをエポキシ樹脂(及びフェノール樹脂)に配合した場合は高周波特性の向上効果に乏しいことが分かる。
[実施例A15~A17、比較例A4~A7]
 実施例A1において、(b)成分の種類及び配合量を表2に記載の通りに変更したこと以外は同様の操作を行うことによって、銅付き樹脂板を作製した。得られた銅付き樹脂板を用いて、高周波特性の評価を行った。結果を表2に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000035
 表2に記載の(b)成分については以下の通りであり、それ以外の成分については表1中のものと同じである。
[(b)成分]
・4-フェニルベンゾフェノン[下記構造式参照];沸点420℃(1気圧)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000036

・ジ-p-トリルエーテル[下記構造式参照];沸点285℃(1気圧)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000037
 表2中の実施例A15~A17と比較例A4との対比から、2,2-ビス[4-(4-マレイミドフェノキシ)フェニル]プロパンに対して4-フェニルベンゾフェノンを配合した場合には、高周波特性が向上することが分かる。
 一方、実施例A15~A17と比較例A5~A7の対比から、4-フェニルベンゾフェノンをジ-p-トリルエーテルに変更すると、高周波特性の向上効果はほとんど得られず、誘電正接に関してはむしろ悪化した。
[実施例A18~A25、比較例A8~A9]
 実施例A1において、各成分の種類及び配合量を表3に記載の通りに変更したこと以外は同様の操作を行うことによって、銅付き樹脂板を作製した。得られた銅付き樹脂板を用いて、高周波特性、吸湿試験後の高周波特性及び吸湿率の評価を行った。結果を表3に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000038
 表3に記載の成分のうち、ビフェニルアラルキル型マレイミド、ビフェニル骨格含有化合物1については以下のとおりであり、それ以外の成分は表1~2に記載のものと同じである。
[(a)成分]
・ビフェニルアラルキル型マレイミド;「MIR-3000」(日本化薬株式会社製、マレイミド基当量;339g/eq、商品名)
[(b)成分]
・ビフェニル骨格含有化合物1[下記構造式参照];融点185℃
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000039

(前記一般式(1)において、Xb1が単結合であり、Rb1及びRb2が、酸素原子含有基であり、m及びnが1である場合に相当する。)
 表3中の実施例A18~A25と比較例A8との対比から、2,2-ビス[4-(4-マレイミドフェノキシ)フェニル]プロパン又は前記ビフェニルアラルキル型マレイミドに対して4,4’-ジエチルビフェニル又は前記ビフェニル骨格含有化合物1を配合した場合には、高周波特性が向上し、且つ、吸湿率が低く、吸湿試験後の高周波特性にも優れることがわかる。
 一方、比較例A9の結果から、(a)少なくとも1個のN-置換マレイミド基を有するマレイミド化合物の構造中にビフェニル骨格を有していたとしても、高周波特性の向上効果が乏しく、且つ、吸湿試験後の高周波特性の悪化が大きいことが分かる。
[実施例B1~B7及び比較例B1~B3]
 前記実施例A1~A7及び前記比較例A1~A3それぞれにおいて、熱硬化性樹脂組成物にさらに(c)無機充填材として球状溶融シリカ(平均粒子径0.5μm)を配合したこと以外は同様の操作を行うことによって、銅付き樹脂板を作製した。得られた銅付き樹脂板を用いて、高周波特性及び熱膨張率の評価を行った。結果を表4に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000040
 表4に記載の各成分は、表1に記載された成分と同じである。また、(c)無機充填材は、平均粒子径0.5μmの球状溶融シリカである。
 表4中の実施例B1~B7と比較例B1との対比から、2,2-ビス[4-(4-マレイミドフェノキシ)フェニル]プロパン及び(c)無機充填材を含有する熱硬化性樹脂組成物に対して4,4’-ジエチルビフェニルを配合した場合には、低熱膨張性を有しながら、高周波特性も向上することが分かる。
 一方、比較例B2と比較例B3との対比から、エポキシ樹脂(及びフェノール樹脂)を含有する熱硬化性樹脂組成物に対して4,4’-ジエチルビフェニルを配合した場合には、高周波特性の向上効果がほとんど無いことが分かる。
[実施例B8~B12、比較例B4~5]
 前記実施例B1において、成分の種類及び配合量を表4に記載の通りに変更したこと以外は同様の操作を行うことによって、銅付き樹脂板を作製した。得られた銅付き樹脂板を用いて、高周波特性、吸湿試験後の高周波特性及び熱膨張率の評価を行った。結果を表5に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000041
 表5に記載の成分は、表3及び表4に記載された成分と同じである。
 表5中の実施例B8~B12と比較例B4との対比から、2,2-ビス[4-(4-マレイミドフェノキシ)フェニル]プロパンと必要に応じて(c)無機充填材を含有する熱硬化性樹脂組成物に対して4,4’-ジエチルビフェニル又は前記ビフェニル骨格含有化合物1を配合した場合には、高周波特性が向上することがわかる。特に、(c)無機充填材を含有する熱硬化性樹脂組成物の場合には、さらに低熱膨張性も有することが分かる。
 一方、比較例B5の結果から、(a)少なくとも1個のN-置換マレイミド基を有するマレイミド化合物の構造中にビフェニル骨格を有していたとしても、高周波特性の向上効果に乏しいことが分かる。
[製造例1]シリコーン変性マレイミド樹脂(X-1)の製造
 下記方法に従って、(a1)~(a3)成分の反応物であるシリコーン変性マレイミド樹脂を製造した。
 温度計、攪拌装置、還流冷却管付き水分定量器の付いた加熱及び冷却可能な容積2リットルの反応容器に、両末端アミノ変性シリコーン化合物(信越化学工業株式会社製、商品名:X-22-161B、アミノ基の官能基当量:800g/mol、(a3’)成分)58gと、4,4’-(1,3-フェニレンジイソプロピリデン)ビスアニリン(東京化成工業株式会社製、(a3)成分)77gと、ビス(4-マレイミドフェニル)メタン(ケイ・アイ化成株式会社製、商品名:BMI、(a1)成分)650gと、プロピレングリコールモノメチルエーテル1160gと、を入れ、110℃で5時間反応させて、シリコーン変性マレイミド樹脂(X-1)含有溶液を得た。
[実施例C1~C3、比較例C1~C3]
 前記実施例A1において、成分の種類及び配合量を表6に記載の通りに変更したこと以外は同様の操作を行うことによって、銅付き樹脂板を作製した。得られた銅付き樹脂板を用いて、高周波特性及び貯蔵弾性率の評価を行った。結果を表6に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000042
 表6に記載の成分のうち、シリコーン変性マレイミド樹脂(X-1)は前記製造例1で得たものであり、それ以外の成分は表1に記載のものと同じである。
 表6中の実施例C1~C3と比較例C1との対比から、シリコーン変性マレイミド樹脂(X-1)に対して4,4’-ジエチルビフェニルを配合した場合、低弾性率であるために低そり性に優れ、且つ、高周波特性も向上することが分かる。
 一方、比較例C2と比較例C3との対比から、エポキシ樹脂(及びフェノール樹脂)に対して4,4’-ジエチルビフェニルを配合しても、高周波特性の向上効果に乏しいことが分かる。

Claims (22)

  1.  (a)少なくとも1個のN-置換マレイミド基を有するマレイミド化合物、及び
     (b)下記一般式(1)で表され、且つ、前記(a)成分が有するマレイミド基に対して反応性を示さない化合物、
    を含有してなる熱硬化性樹脂組成物。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001

    (一般式(1)中、Xb1は、単結合又は置換もしくは無置換の炭素数1~5の脂肪族炭化水素基を表す。Rb1及びRb2は、各々独立に、置換もしくは無置換の炭素数1~10の脂肪族炭化水素基、置換もしくは無置換の環形成炭素数6~18の芳香族炭化水素基、置換もしくは無置換の環形成原子数5~20の複素環式芳香族炭化水素基、酸素原子含有基、又はそれらの組み合わせからなる基を表す。m及びnは、各々独立に、0~5の整数である。)
  2.  前記(a)成分が、(a1)少なくとも2個のN-置換マレイミド基を有するマレイミド化合物を含有する、請求項1に記載の熱硬化性樹脂組成物。
  3.  前記(a)成分が、(a1)少なくとも2個のN-置換マレイミド基を有するマレイミド化合物と、(a2)モノアミン化合物及び(a3)少なくとも2個のアミノ基を有するアミン化合物からなる群から選択される少なくとも1種との反応物を含有する、請求項1又は2に記載の熱硬化性樹脂組成物。
  4.  前記(a1)成分が、複数のN-置換マレイミド基のうちの任意の2個のN-置換マレイミド基の窒素原子間に脂肪族炭化水素基を有する(但し、芳香族炭化水素基は存在しない)マレイミド化合物であるか、又は、複数のN-置換マレイミド基のうちの任意の2個のN-置換マレイミド基の窒素原子間に芳香族炭化水素基を含有するマレイミド化合物である、請求項2又は3に記載の熱硬化性樹脂組成物。
  5.  前記(a)成分が、(a1)少なくとも2個のN-置換マレイミド基を有するマレイミド化合物と(a3’)少なくとも2個のアミノ基を有するシリコーン化合物との反応物を含有する、請求項1又は2に記載の熱硬化性樹脂組成物。
  6.  前記(a)成分が、前記(a1)成分と、前記(a3’)成分と、(a3)少なくとも2個のアミノ基を有するアミン化合物(但し、前記(a3’)成分を除く。)との反応物である、請求項5に記載の熱硬化性樹脂組成物。
  7.  前記(b)成分が、下記一般式(1’)で表される、請求項1~6のいずれか1項に記載の熱硬化性樹脂組成物。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002

    (一般式(1’)中、Rb1、Rb2、m及びnは、前記一般式(1)中のものと同じである。)
  8.  前記(b)成分の一気圧(101.325kPa)下における沸点が260℃以上である、請求項1~7のいずれか1項に記載の熱硬化性樹脂組成物。
  9.  前記(b)成分が、ジエチルビフェニル及びベンジルビフェニルからなる群から選択される少なくとも1種である、請求項1~8のいずれか1項に記載の熱硬化性樹脂組成物。
  10.  前記一般式(1)において、Rb1及びRb2が酸素原子含有基である、請求項1~6及び8のいずれか1項に記載の熱硬化性樹脂組成物。
  11.  前記(b)成分の含有量が、前記(a)成分1モルに対して0.001~1.0モルである、請求項1~10のいずれか1項に記載の熱硬化性樹脂組成物。
  12.  さらに(c)無機充填材を含有してなる、請求項1~11のいずれか1項に記載の熱硬化性樹脂組成物。
  13.  さらに(d)熱硬化性樹脂を含有してなる、請求項1~12のいずれか1項に記載の熱硬化性樹脂組成物。
  14.  さらに(e)硬化促進剤を含有してなる、請求項1~13のいずれか1項に記載の熱硬化性樹脂組成物。
  15.  さらに(f)モノアミン化合物を含有してなる、請求項1~14のいずれか1項に記載の熱硬化性樹脂組成物。
  16.  さらに(g)少なくとも2個のアミノ基を有するアミン化合物を含有してなる、請求項1~15のいずれか1項に記載の熱硬化性樹脂組成物。
  17.  さらに(g’)少なくとも2個のアミノ基を有するシリコーン化合物を含有してなる、請求項1~16のいずれか1項に記載の熱硬化性樹脂組成物。
  18.  請求項1~17のいずれか1項に記載の熱硬化性樹脂組成物の半硬化物を含有してなるプリプレグ。
  19.  請求項18に記載のプリプレグの硬化物を含有してなる積層板。
  20.  請求項19に記載の積層板の片面又は両面に金属箔が配置された金属張り積層板。
  21.  請求項19に記載の積層板又は請求項20に記載の金属張り積層板に回路形成して得られる、プリント配線板。
  22.  請求項21に記載のプリント配線板を含有してなる高速通信対応モジュール。
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