WO2022138493A1

WO2022138493A1 - 積層体の製造方法、回路配線の製造方法、転写フィルム

Info

Publication number: WO2022138493A1
Application number: PCT/JP2021/046746
Authority: WO
Inventors: 壮二石坂; 知樹松田
Original assignee: 富士フイルム株式会社
Priority date: 2020-12-25
Filing date: 2021-12-17
Publication date: 2022-06-30
Also published as: TW202236008A; CN116762040A; JPWO2022138493A1

Abstract

本発明は、パターン形状に優れ、かつ、パターン密着性にも優れる、パターンを含む積層体の製造方法、回路配線の製造方法及び転写フィルムを提供する。本発明の積層体の製造方法は、仮支持体と、中間層と、感光性組成物層とをこの順で有する転写フィルムの感光性組成物層の中間層側とは反対側の表面を基板に接触させ、転写フィルムと基板とを貼合する貼合工程と、仮支持体と中間層との間で、仮支持体を剥離する剥離工程と、感光性組成物層をパターン露光する露光工程と、露光された感光性組成物層を、現像液を用いて現像してパターンを形成する現像工程とを有し、測定Ｘで求められる弾性率Ｘが、１．０～１０．０ＧＰａである。

Description

積層体の製造方法、回路配線の製造方法、転写フィルム

　本発明は、積層体の製造方法、回路配線の製造方法及び転写フィルムに関する。

　所定のパターンを得るための工程数が少ないことから、転写フィルムを用いて任意の基板上に感光性組成物層を配置して、この感光性組成物層に対してマスクを介して露光した後に現像する方法が広く使用されている。

　例えば、特許文献１では、支持フィルム上に、中間層と、感光性樹脂層とを順次積層してなる感光性樹脂積層体が開示されている。

特開２００８－１７５９５７号公報

　本発明者らは、特許文献１に記載のような従来の転写フィルム等を用いる積層体の製造方法について検討したところ、得られるパターンの形状が不良になりやすいことを知見した。特に、より高精細なパターンを得るために、仮支持体を剥離して露光する場合に上記問題が生じやすいことを知見した。具体的には、転写フィルムを被転写体に貼り合わせ、仮支持体を剥離した後、パターン露光して、更に、現像して所望のパターンを得る。得られるパターンの断面形状を観察した際に、パターン形状が、基板側の反対側から基板側に近づくにつれて、パターンの幅が広がるような裾広がり形状になりやすいことを知見した。つまり、裾広がり形状とは、得られるパターン形状において、下底（基板側）の長さが上底（基板とは反対側）の長さよりも長いパターン形状をいう。より具体的には、図１に示すように、基板１上に配置されたパターン２において、破線部分に示すような裾広がり部分３が生じる問題があった。
　以下、得られるパターンが裾広がり形状になりにくいことを、パターン形状に優れるともいう。

　一方で、転写フィルム中の感光性組成物層を被転写体に転写し、感光性組成物層に対して露光及び現像を施して得られるパターンが被転写体から剥離しにくく、パターン密着性に優れることも求められていた。特に、より高精細なパターンの密着性が優れることが求められていた。

　そこで、本発明は、パターン形状に優れ、かつ、パターン密着性にも優れる、パターンを含む積層体の製造方法を提供することを課題とする。
　また、本発明は、回路配線の製造方法及び転写フィルムを提供することも課題とする。

　本発明者らは、上記課題について鋭意検討した結果、以下の構成により上記課題を解決できることを見出した。

　〔１〕　仮支持体と、中間層と、感光性組成物層とをこの順で有する転写フィルムの上記感光性組成物層の上記中間層側とは反対側の表面を基板に接触させ、上記転写フィルムと上記基板とを貼合する貼合工程と、
　上記仮支持体と上記中間層との間で、上記仮支持体を剥離する剥離工程と、
　上記感光性組成物層をパターン露光する露光工程と、
　露光された上記感光性組成物層を、現像液を用いて現像してパターンを形成する現像工程とを有し、
　後述する測定Ｘで求められる弾性率Ｘが、１．０～１０．０ＧＰａである、積層体の製造方法。
　〔２〕　後述する測定Ｙで求められる弾性率Ｙが、３．５ＭＰａ以下である、〔１〕に記載の積層体の製造方法。
　〔３〕　上記弾性率Ｙに対する上記弾性率Ｘの比が、１５００～１００００である、〔２〕に記載の積層体の製造方法。
　〔４〕　上記感光性組成物層中の二重結合の含有量が、１．０～３．０ｍｍｏｌ／ｇである、〔１〕～〔３〕のいずれか１つに記載の積層体の製造方法。
　〔５〕　上記感光性組成物層が、樹脂を含み、
　上記樹脂のガラス転移温度Ｔｇが、９０～１５０℃である、〔１〕～〔４〕のいずれか１つに記載の積層体の製造方法。
　〔６〕　上記感光性組成物層の酸価が、５０～１００ｍｇＫＯＨ／ｇである、〔１〕～〔５〕のいずれか１つに記載の積層体の製造方法。
　〔７〕　上記感光性組成物層が、２官能以上の重合性化合物及び樹脂を含み、
　上記樹脂の含有量に対する上記２官能以上の重合性化合物の含有量の質量比が、０．６０～１．００である、〔１〕～〔６〕のいずれか１つに記載の積層体の製造方法。
　〔８〕　上記中間層が、多価アルコール類、多価アルコール類のオキサイド付加物、フェノール誘導体、アミド化合物、水溶性セルロース誘導体、ポリエーテル系樹脂及びポリアミド系樹脂からなる群から選択される少なくとも１種を含む、〔１〕～〔７〕のいずれか１つに記載の積層体の製造方法。
　〔９〕　上記感光性組成物層の厚みが、１～２０μｍである、〔１〕～〔８〕のいずれか１つに記載の積層体の製造方法。
　〔１０〕　上記中間層の厚みが、３．０μｍ以下である、〔１〕～〔９〕のいずれか１つに記載の積層体の製造方法。
　〔１１〕　上記露光工程が、上記露出した中間層とマスクとを接触させてパターン露光する露光工程である、〔１〕～〔１０〕のいずれか１つに記載の積層体の製造方法。
　〔１２〕　仮支持体と、中間層と、感光性組成物層とをこの順で有する転写フィルムの上記感光性組成物層の上記中間層側とは反対側の表面を導電層を有する基板に接触させ、上記転写フィルムと上記基板とを貼合する貼合工程と、
　上記仮支持体と上記中間層との間で、上記仮支持体を剥離する剥離工程と、
　上記感光性組成物層をパターン露光する露光工程と、
　露光された上記感光性組成物層を、現像液を用いて現像してパターンを形成する現像工程と、
　上記パターンが配置されていない領域における上記導電層をエッチング処理するエッチング工程とを有し、
　後述する測定Ｘで求められる弾性率Ｘが、１．０～１０．０ＧＰａである、回路配線の製造方法。
　〔１３〕　仮支持体と、中間層と、感光性組成物層とをこの順で有し、
　上記感光性組成物層をパターン露光する露光工程が施される、転写フィルムであって、
　後述する測定Ｘで求められる弾性率Ｘが、１．０～１０．０ＧＰａである、転写フィルム。
　〔１４〕　後述する測定Ｙで求められる弾性率Ｙが、３．５ＭＰａ以下である、〔１３〕に記載の転写フィルム。
　〔１５〕　上記弾性率Ｙに対する上記弾性率Ｘの比が、１５００～１００００である、〔１４〕に記載の転写フィルム。
　〔１６〕　上記感光性組成物層中の二重結合の含有量が、１．０～３．０ｍｍｏｌ／ｇである、〔１３〕～〔１５〕のいずれか１つに記載の転写フィルム。
　〔１７〕　上記感光性組成物層が、樹脂を含み、
　上記樹脂のガラス転移温度Ｔｇが、９０～１５０℃である、〔１３〕～〔１６〕のいずれか１つに記載の転写フィルム。
　〔１８〕　上記感光性組成物層の酸価が、５０～１００ｍｇＫＯＨ／ｇである、〔１３〕～〔１７〕のいずれか１つに記載の転写フィルム。
　〔１９〕　上記感光性組成物層が、２官能以上の重合性化合物及び樹脂を含み、
　上記樹脂の含有量に対する上記２官能以上の重合性化合物の含有量の質量比が、０．６０～１．００である、〔１３〕～〔１８〕のいずれか１つに記載の転写フィルム。
　〔２０〕　上記中間層が、多価アルコール類、多価アルコール類のオキサイド付加物、フェノール誘導体、アミド化合物、水溶性セルロース誘導体、ポリエーテル系樹脂及びポリアミド系樹脂からなる群から選択される少なくとも１種を含む、〔１３〕～〔１９〕のいずれか１つに記載の転写フィルム。
　〔２１〕　上記感光性組成物層の厚みが、１～２０μｍである、〔１３〕～〔２０〕のいずれか１つに記載の転写フィルム。
　〔２２〕　上記中間層の厚みが、３．０μｍ以下である、〔１３〕～〔２１〕のいずれか１つに記載の転写フィルム。

　本発明によれば、パターン形状に優れ、かつ、パターン密着性にも優れる、パターンを含む積層体の製造方法を提供できる。
　また、本発明によれば、回路配線の製造方法及び転写フィルムも提供できる。

裾広がり形状の一例を示す概略図である。転写フィルムの構成の一例を示す概略図である。

　以下、本発明について詳細に説明する。
　本明細書において、「～」を用いて表される数値範囲は、「～」の前後に記載される数値を下限及び上限として含む範囲を意味する。
　本明細書において、段階的に記載されている数値範囲において、ある数値範囲で記載された上限又は下限は、他の段階的な記載の数値範囲の上限又は下限に置き換えてもよい。また、本明細書に記載されている数値範囲において、ある数値範囲で記載された上限又は下限は、実施例に示されている値に置き換えてもよい。

　本明細書において、「工程」の用語は、独立した工程だけではなく、他の工程と明確に区別できない場合であっても、その工程の所期の目的が達成されれば本用語に含まれる。

　本明細書において、「透明」とは、波長４００～７００ｎｍの可視光の平均透過率が、８０％以上であることを意味し、９０％以上であることが好ましい。
　本明細書において、可視光の平均透過率は、分光光度計を用いて測定される値であり、例えば、日立製作所社製の分光光度計Ｕ－３３１０を用いて測定できる。

　本明細書において、特段の断りのない限り、重量平均分子量（Ｍｗ）及び数平均分子量（Ｍｎ）は、カラムとして、ＴＳＫｇｅｌ　ＧＭＨｘＬ、ＴＳＫｇｅｌ　Ｇ４０００ＨｘＬ、ＴＳＫｇｅｌ　Ｇ２０００ＨｘＬ（いずれも東ソー社製の商品名）、溶離液としてＴＨＦ（テトラヒドロフラン）、検出器として示差屈折計、及び、標準物質としてポリスチレンを使用し、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）分析装置により測定した標準物質のポリスチレンを用いて換算した値である。
　本明細書において、特段の断りがない限り、分子量分布がある化合物の分子量は、重量平均分子量（Ｍｗ）である。
　本明細書において、特段の断りがない限り、金属元素の含有量は、誘導結合プラズマ（ＩＣＰ：Ｉｎｄｕｃｔｉｖｅｌｙ　Ｃｏｕｐｌｅｄ　Ｐｌａｓｍａ）分光分析装置を用いて測定した値である。
　本明細書において、特段の断りがない限り、屈折率は、波長５５０ｎｍでエリプソメーターを用いて測定した値である。
　本明細書において、特段の断りがない限り、色相は、色差計（ＣＲ－２２１、ミノルタ社製）を用いて測定した値である。

　本明細書において、「（メタ）アクリル」は、アクリル及びメタクリルの両方を包含する概念であり、「（メタ）アクリロキシ基」は、アクリロキシ基及びメタアクリロキシ基の両方を包含する概念である。

　本明細書において、「アルカリ可溶性」とは、２２℃において炭酸ナトリウムの１質量％水溶液１００ｇへの溶解度が０．１ｇ以上であることを意味する。

　本明細書において「水溶性」とは、液温が２２℃であるｐＨ７．０の水１００ｇへの溶解度が０．１ｇ以上であることを意味する。例えば、水溶性樹脂とは、上述した溶解度条件を満たす樹脂を意図する。

　本明細書において、組成物の「固形分」とは、組成物を用いて形成される組成物層（感光性組成物層、中間層及び熱可塑性樹脂層）を形成する成分を意味し、組成物が溶剤（有機溶剤、水等）を含む場合、溶剤を除いた全ての成分を意味する。また、組成物層を形成する成分であれば、液体状の成分も固形分とみなす。

［積層体の製造方法］
　本発明の積層体の製造方法は、仮支持体と、中間層と、感光性組成物層とをこの順で有する転写フィルムの感光性組成物層の中間層側とは反対側の表面を基板に接触させ、転写フィルムと基板とを貼合する貼合工程と、
　仮支持体と中間層との間で、仮支持体を剥離する剥離工程と、
　感光性組成物層をパターン露光する露光工程と、
　露光された感光性組成物層を現像液を用いて現像してパターンを形成する現像工程とを有し、
　測定Ｘで求められる弾性率Ｘが、１．０～１０．０ＧＰａである。
　積層体の製造方法の１つの好適態様としては、上述した、貼合工程と、剥離工程と、露光工程と、現像工程とをこの順に有する態様が挙げられる。

　本発明の積層体の製造方法の特徴点としては、後述する測定Ｘで求められる弾性率Ｘが１．０～１０．０ＧＰａである点が挙げられる。
　本発明の積層体の製造方法が所望の効果を奏する作用機序の詳細は明らかではないが、本発明者らは以下のように推測している。
　本発明らは、弾性率Ｘが１．０ＧＰａ未満である場合、感光性組成物層を露光して得られるパターン（硬化層）の強度が低すぎるために、現像液を用いて現像した際に、パターンの膨潤及び溶解により裾広がり形状になること、並びに、弾性率Ｘが１０．０ＧＰａ超である場合、感光性組成物層を露光して得られるパターン（硬化層）の強度が高すぎるために、硬化層と被転写体との密着性が劣ることを知見した。
　上記を鑑み、本発明の積層体の製造方法では弾性率Ｘを所定の範囲に調整することで、パターン形状に優れ、かつ、パターン密着性にも優れることができると推測している。
　以下、パターン形状により優れること、及び、パターン密着性により優れることの少なくとも一方の効果が得られることを、本発明の効果がより優れるともいう。

　以下において、本発明の積層体の製造方法について、各工程について詳細に説明する。なお、以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。

〔弾性率〕
＜弾性率Ｘ＞
　本発明の積層体の製造方法において、測定Ｘで求められる弾性率Ｘは、１．０～１０．０ＧＰａであり、本発明の効果がより優れる点から、１．０～８．０ＧＰａが好ましく、２．０～８．０ＧＰａがより好ましく、３．０～６．０ＧＰａが更に好ましく、４．０～６．０ＧＰａが特に好ましい。

　弾性率Ｘは、以下の測定Ｘで求められる値である。
　測定Ｘは、転写フィルムの感光性組成物層の中間層側とは反対側の表面を基板に接触させ、転写フィルムと基板とを貼り合わせて、得られた積層体から仮支持体と中間層との間で仮支持体を剥離して、露出した中間層側から感光性組成物層を全面露光して、露出した中間層を剥離して、その後、露出した硬化層の弾性率を測定し、弾性率Ｘとする測定である。
　なお、上記全面露光する際の露光条件（光源の種類、露光量等）は、後述する露光工程にて実施する露光条件と同様の露光条件にて実施する。つまり、測定Ｘにて実施する全面露光は、後述する露光工程にて実施されるパターン露光の露光範囲を感光性組成物層全面に変更した露光に該当する。
　弾性率の測定方法としては、例えば、ティー・エイ・インスツルメント社製レオメーターＤＦＲ－２を使用し、設定温度２０～１２５℃、昇温速度５℃／ｍｉｎ、周波数１Ｈｚ、歪み０．５％の条件で測定できる。
　露出した中間層を剥離する方法としては、例えば、公知の剥離方法が挙げられ、テープ剥離が好ましい。
　なお、転写フィルムが保護フィルムを有する場合、転写フィルムから保護フィルムを剥離した後に、測定Ｘを実施する。
　なお、測定Ｘで使用される基板は、積層体の製造方法で使用される基板であり、後段で詳述する。

＜弾性率Ｙ＞
　測定Ｙで求められる弾性率Ｙは、現像残渣の抑制性が優れる点から、１０．０ＭＰａ以下が好ましく、５．０ＭＰａ以下がより好ましく、３．５ＭＰａ以下が更に好ましく、１．０ＭＰａ以下が特に好ましく、０．８ＭＰａ以下が最も好ましい。下限は、０．１ＭＰａ以上が好ましい。

　弾性率Ｙは、転写フィルムの感光性組成物層の弾性率を測定し、弾性率Ｙとする測定である。つまり、弾性率Ｙは、露光処理が施されていない感光性組成物層の非露光部の弾性率に該当する。
　弾性率の測定方法としては、例えば、上述した弾性率Ｘで用いる弾性率の測定方法が挙げられる。
　なお、測定Ｙは、転写フィルムから中間層を剥離した後に実施してもよい。中間層を剥離する方法としては、例えば、公知の剥離方法が挙げられ、テープ剥離が好ましい。
　また、転写フィルムが保護フィルムを有する場合、転写フィルムから保護フィルムを剥離した後に、測定Ｙを実施する。

　弾性率Ｙに対する弾性率Ｘの比（弾性率Ｘ／弾性率Ｙ）は、現像残渣の抑制性が優れる点から、１００以上が好ましく、２００～１００００がより好ましく、１０００～１００００が更に好ましく、１５００～１００００が特に好ましく、３０００～８０００が最も好ましい。

　弾性率Ｘ及び弾性率Ｙを調整する方法としては、例えば、感光性組成物層に含まれる樹脂の種類及び含有量を変更することが挙げられる。
　具体的には、樹脂において、重量平均分子量、酸価及びＴｇ（ガラス転移温度）を、後述するそれぞれの好適態様に調整した樹脂を用いる方法、３官能以上の単量体及び／又は芳香族炭化水素基を有する単量体をそれぞれの好適態様で用いて合成される樹脂を用いる方法、並びに、これらを組合せた方法が挙げられる。

〔貼合工程〕
　貼合工程は、仮支持体と、中間層と、感光性組成物層とをこの順で有する転写フィルムの感光性組成物層の中間層側とは反対側の表面を基板に接触させ、転写フィルムと基板とを貼合する工程である。
　なお、転写フィルムが保護フィルムを有する場合、保護フィルムを剥離した後に貼合工程を実施してもよい。

　貼合工程において、転写フィルムの感光性組成物層の中間層側とは反対側の表面を、基板に接触させて圧着させる。
　圧着方法としては、例えば、公知の転写方法及びラミネート方法が挙げられる。
　なかでも、圧着方法としては、転写フィルムの感光性組成物層の中間層側とは反対側の表面を基板に重ね、ロール等による加圧及び加熱を実施することが好ましい。
　貼合方法としては、真空ラミネーター及びオートカットラミネーター等の公知のラミネーターを用いる貼合方法が挙げられる。
　ラミネート温度としては、７０～１３０℃が好ましい。

　基板としては、導電層を有する基板が好ましい。
　導電層を有する基板は、基板上に、必要に応じて上記導電層以外の任意の層が形成されていてもよい。つまり、基板は、基板上に配置される導電層を少なくとも有する導電性基板が好ましい。
　基板としては、例えば、樹脂基板、ガラス基板及び半導体基板が挙げられる。
　基板としては、国際公開第２０１８／１５５１９３号の段落［０１４０］が好ましく、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
　樹脂基板の材料としては、シクロオレフィンポリマー又はポリイミドが好ましい。
　樹脂基板の厚みとしては、５～２００μｍが好ましく、１０～１００μｍがより好ましい。

　導電層としては、導電性及び細線形成性の点から、金属層、導電性金属酸化物層、グラフェン層、カーボンナノチューブ層及び導電ポリマー層からなる群から選択される少なくとも１種の導電層が好ましい。
　基板上には、導電層を１層のみ配置してもよいし、２層以上配置してもよい。導電層を２層以上配置する場合、２層以上配置される導電層同士は、異なる材質の導電層であることが好ましい。
　導電層としては、国際公開第２０１８／１５５１９３号の段落［０１４１］が好ましく、これらの内容は本明細書に組み込まれる。

〔剥離工程〕
　剥離工程は、仮支持体と中間層との間で、仮支持体を剥離する工程である。
　仮支持体を剥離する方法としては、例えば、公知の剥離方法が挙げられる。具体的には、特開２０１０－０７２５８９号公報の段落［０１６１］～［０１６２］に記載されたカバーフィルム剥離機構が挙げられる。

〔露光工程〕
　露光工程は、感光性組成物層をパターン露光する工程である。
　「パターン露光」とは、パターン状に露光する形態であり、つまり、露光部と非露光部とが存在する形態の露光を意味する。
　パターン露光における露光領域と未露光領域との位置関係は、特に制限されず、適宜調整できる。

　露光する方向は、特に制限されないが、感光性組成物層の中間層側から露光してもよく、感光性組成物層の中間層側とは反対側（基板側）から露光してもよい。

　露光工程としては、上述した剥離工程によって露出した中間層とマスクとを接触させてパターン露光することが好ましい。上記マスクと接触させてパターン露光することで、高精細なパターンが得られる。
　具体的には、仮支持体の剥離によって露出した中間層上に、所定の開口部を有するマスクを密着するように配置してパターン露光することが好ましい。
　上記中間層とマスクとを接触させる露光工程を実施することで、感光性組成物層の露光領域（マスクの開口部に相当する位置）において感光性組成物層に含まれる成分の硬化反応が生じ得る。露光後にアルカリ現像処理を実施することで感光性組成物層の非露光領域が除去されて、パターンが形成される。
　積層体の製造方法は、露光工程と現像処理との間で、露光工程で用いたマスクを剥離する剥離工程を有することが好ましい。

　パターン露光の光源としては、少なくとも感光性組成物層を硬化し得る波長域の光（例えば、３６５ｎｍ及び４０５ｎｍ）を照射できるものであれば、適宜選択して使用できる。
　なかでも、パターン露光の露光光の主波長は、３６５ｎｍが好ましい。なお、主波長とは、最も強度が高い波長を意味する。

　光源としては、例えば、各種レーザー、発光ダイオード（ＬＥＤ）、超高圧水銀灯、高圧水銀灯及びメタルハライドランプが挙げられる。
　露光量は、５～２００ｍＪ／ｃｍ^２が好ましく、１０～２００ｍＪ／ｃｍ^２がより好ましい。
　光源、露光量及び露光方法としては、例えば、国際公開第２０１８／１５５１９３号の段落［０１４６］～［０１４７］が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。

〔現像工程〕
　現像工程は、露光された感光性組成物層を現像液を用いて現像してパターンを形成する工程である。
　アルカリ現像液（アルカリ性水溶液）を用いて現像することで、感光性組成物層の非露光領域が除去され、マスクの開口部を凸部とするパターンが形成される。

　現像液としては、アルカリ性水溶液が好ましい。
　アルカリ性水溶液に含まれるアルカリ性化合物（水に溶解してアルカリ性を示す化合物）としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラプロピルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド及びコリン（２－ヒドロキシエチルトリメチルアンモニウムヒドロキシド）が挙げられる。

　現像方法としては、例えば、公知の現像方法が挙げられる。具体的には、パドル現像、シャワー現像、スピン現像及びディップ現像が挙げられる。
　現像方法としては、国際公開第２０１５／０９３２７１号の段落［０１９５］に記載の現像方法が好ましい。

〔ポスト露光工程及びポストベーク工程〕
　本発明の積層体の製造方法は、現像工程によって得られたパターンを、更に、露光する工程（以下、「ポスト露光工程」ともいう。）及び／又は加熱する工程（以下、「ポストベーク工程」ともいう。）を有していてもよい。
　積層体の製造方法がポスト露光工程及びポストベーク工程の両方を有する場合、ポスト露光工程を実施した後に、ポストベーク工程を実施することが好ましい。
　ポスト露光工程における露光量は、１００～５０００ｍＪ／ｃｍ^２が好ましく、２００～３０００ｍＪ／ｃｍ^２がより好ましい。
　ポストベーク工程において、ポストベークの温度は、８０～２５０℃が好ましく、９０～１６０℃がより好ましい。
　ポストベーク工程において、ポストベークの時間は、１～１８０分が好ましく、１０～６０分がより好ましい。

　積層体の製造方法によって得られる基板上に形成されるパターンの位置及び大きさは特に制限されない。
　なかでも、パターンとしては、細線状が好ましい。具体的には、パターンの幅は、２０μｍ以下が好ましく、１５μｍ以下がより好ましく、１０μｍ以下が更に好ましく、５μｍ以下が特に好ましい。下限は、１μｍ以上が好ましく、３μｍ以上がより好ましい。

［積層体の用途］
　本発明の積層体の製造方法によって製造される積層体は、種々の装置に適用することができる。上記積層体を備えた装置としては、例えば、入力装置が挙げられ、タッチパネルが好ましく、静電容量型タッチパネルがより好ましい。上記入力装置は、有機ＥＬ（有機エレクトロルミネッセンス）表示装置及び液晶表示装置等の表示装置に適用できる。

［回路配線の製造方法］
　本発明の回路配線の製造方法は、基板として導電性基板を用いた際に、上述した積層体の製造方法により製造されるパターンを有する積層体中のパターンが配置されていない領域における導電層をエッチング処理するエッチング工程を含む。

　以下において、本発明の回路配線の製造方法について、各工程について詳細に説明する。なお、以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。

〔エッチング工程〕
　エッチング工程は、パターンが配置されていない領域における導電層をエッチング処理する工程である。
　具体的には、エッチング工程において、上記積層体の製造方法における現像工程により感光性組成物層から得られるパターンをエッチングレジストとして使用し、導電層をエッチング処理する工程である。
　基板としては、上述した積層体の製造方法における基板と同義であり、好適態様も同じである。

　エッチング処理の方法としては、例えば、公知のエッチング方法が挙げられる。
　具体的には、特開２０１７－１２０４３５号公報の段落［０２０９］～［０２１０］に記載の方法、特開２０１０－１５２１５５号公報の段落［００４８］～［００５４］等に記載の方法、エッチング液に浸漬するウェットエッチング及びプラズマエッチング等のドライエッチングが挙げられる。

　ウェットエッチングに用いられるエッチング液は、エッチングの対象に合わせて酸性又はアルカリ性のエッチング液を適宜選択できる。
　酸性のエッチング液としては、例えば、１種又は２種以上の酸性化合物を含む酸性水溶液、並びに、酸性化合物と、塩化第２鉄、フッ化アンモニウム及び過マンガン酸カリウムからなる群から選択される少なくとも１種の塩との酸性の混合水溶液が挙げられる。
　酸性水溶液に含まれる酸性化合物（水に溶解して酸性を示す化合物）としては、塩酸、硫酸、硝酸、酢酸、フッ酸、シュウ酸及びリン酸からなる群から選択される少なくとも１種の酸性化合物が好ましい。
　アルカリ性のエッチング液としては、例えば、１種又は２種以上のアルカリ性化合物を含むアルカリ性水溶液、及び、アルカリ性化合物と塩（例えば、過マンガン酸カリウム等）とのアルカリ性の混合水溶液が挙げられる。
　アルカリ性水溶液に含まれるアルカリ性化合物（水に溶解してアルカリ性を示す化合物）としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アンモニア、有機アミン及び有機アミンの塩（例えば、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド等）からなる群から選択される少なくとも１種が好ましい。

〔除去工程〕
　本発明の回路配線の製造方法は、残存するパターンを除去する除去工程を有していてもよい。
　除去工程は、上述したエッチング工程の後に実施することが好ましい。
　残存するパターンを除去する方法としては、例えば、薬品処理により除去する方法が挙げられ、除去液を用いて除去する方法が好ましい。
　除去液の液温としては、３０～８０℃が好ましく、５０～８０℃がより好ましい。
　除去方法の１つの好適態様としては、例えば、液温が５０～８０℃である撹拌中の除去液に、除去すべきパターンを有する基板を１～３０分間浸漬する方法が挙げられる。
　残存するパターンを除去する方法としては、例えば、除去液を用いて、スプレー法、シャワー法及びパドル法等の公知の方法により除去する方法も挙げられる。

　除去液としては、例えば、アルカリ性無機化合物又はアルカリ性有機化合物を、水、ジメチルスルホキシド、Ｎ－メチルピロリドン及びこれらの混合溶液からなる群から選択される少なくとも１種の溶液に溶解させた除去液が挙げられる。
　アルカリ性無機化合物としては、例えば、水酸化ナトリウム及び水酸化カリウムが挙げられる。
　アルカリ性有機化合物としては、例えば、第１級アミン化合物、第２級アミン化合物、第３級アミン化合物及び第４級アンモニウム塩化合物が挙げられる。

〔その他工程〕
　回路配線の製造方法は、上述した各工程以外に、その他工程を有していてもよい。
　その他工程としては、例えば、国際公開第２０１９／０２２０８９号の段落［０１７２］に記載の可視光線反射率を低下させる工程及び国際公開第２０１９／０２２０８９号の段落［０１７２］に記載の絶縁膜の表面に新たな導電層を形成する工程が挙げられる。

＜可視光線反射率を低下させる工程＞
　回路配線の製造方法は、基板が有する複数の導電層の一部又は全ての可視光線反射率を低下させる処理を行う工程を有していてもよい。
　可視光線反射率を低下させる処理としては、例えば、酸化処理が挙げられる。基板が銅を含む導電層を有する場合、銅を酸化処理して酸化銅とし、導電層を黒化することにより、導電層の可視光線反射率を低下できる。
　可視光線反射率を低下させる処理としては、特開２０１４－１５０１１８号公報の段落［００１７］～［００２５］、並びに、特開２０１３－２０６３１５号公報の段落［００４１］、［００４２］、［００４８］及び［００５８］が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。

＜絶縁膜を形成する工程、絶縁膜の表面に新たな導電層を形成する工程＞
　回路配線の製造方法は、回路配線の表面に絶縁膜を形成する工程と、絶縁膜の表面に新たな導電層を形成する工程とを有していてもよい。
　上記工程により、第１の電極パターンと、絶縁した第２の電極パターンとを形成できる。
　絶縁膜を形成する工程としては、例えば、公知の永久膜を形成する方法が挙げられる。また、絶縁性を有する感光性組成物を用いて、フォトリソグラフィにより所望のパターンの絶縁膜を形成してもよい。
　絶縁膜の表面に新たな導電層を形成する工程としては、例えば、導電性を有する感光性組成物を用いて、フォトリソグラフィにより所望のパターンの新たな導電層を形成してもよい。

　回路配線の製造方法は、基板の両方の表面にそれぞれ複数の導電層を有する基板を用いて、基材の両方の表面に形成された導電層に対して逐次又は同時に回路配線を形成することも好ましい。
　上記構成により、一方の基板表面に第１の導電パターンを形成し、他方の基板表面に第２の導電パターンを形成したタッチパネル用回路配線を形成できる。また、上記構成のタッチパネル用回路配線を、ロールツーロールで基板の両面から形成することも好ましい。

［回路配線の用途］
　回路配線の製造方法によって製造される回路配線は、種々の装置に適用することができる。上記回路配線を備えた装置としては、例えば、入力装置が挙げられ、タッチパネルが好ましく、静電容量型タッチパネルがより好ましい。上記入力装置は、有機ＥＬ表示装置及び液晶表示装置等の表示装置に適用できる。

［転写フィルム］
　本発明の転写フィルムは、仮支持体と、中間層と、感光性組成物層とをこの順で有し、感光性組成物層をパターン露光する露光工程が施される、転写フィルムであって、測定Ｘで求められる弾性率Ｘが、１．０～１０．０ＧＰａである。
　転写フィルムにおける弾性率Ｘ、弾性率Ｙ及び弾性率Ｙに対する弾性率Ｘの比は、それぞれ、上述した積層体の製造方法における各記載と同義であり、好適範囲も同じである。

　転写フィルムは、感光性組成物層及び中間層以外に、その他層を有していてもよい。
　その他層としては、例えば、後述する熱可塑性樹脂層が挙げられる。また、転写フィルムは、感光性組成物層上に後述する保護フィルムを有する構成であってもよい。

　転写フィルムの実施態様としては特に制限されないが、例えば、以下の構成が挙げられる。
（１）「仮支持体／中間層／感光性組成物層／保護フィルム」
（２）「仮支持体／熱可塑性樹脂層／中間層／感光性組成物層／保護フィルム」
　上記各構成における感光性組成物層としては、ネガ型感光性組成物層が好ましい。また、感光性組成物層としては、着色樹脂層も好ましい。

　上述した貼合工程における気泡発生抑止の点から、転写フィルムのうねりの最大幅は、３００μｍ以下が好ましく、２００μｍ以下がより好ましく、６０μｍ以下が更に好ましい。下限は、０μｍ以上が好ましく、０．１μｍ以上がより好ましく、１μｍ以上が更に好ましい。
　転写フィルムのうねりの最大幅は、以下の手順により測定される値である。
　まず、転写フィルムを縦２０ｃｍ×横２０ｃｍのサイズとなるように主面に垂直な方向に裁断し、試験サンプルを作製する。なお、転写フィルムが保護フィルムを有する場合、転写フィルムから保護フィルムを剥離する。次いで、表面が平滑かつ水平なステージ上に、上記試験サンプルを仮支持体の表面がステージに対向するように静置する。静置後、試験サンプルの中心１０ｃｍ角の範囲について、試料サンプルの表面をレーザー顕微鏡（例えば、キーエンス社製　ＶＫ－９７００ＳＰ）で走査して３次元表面画像を取得し、得られた３次元表面画像で観察される最大凸高さから最低凹高さを引き算する。上記操作を１０個の試験サンプルについて行い、その算術平均値を転写フィルムのうねり最大幅とする。

　密着性により優れる点から、感光性組成物層の波長３６５ｎｍの光の透過率は、１０％以上が好ましく、３０％以上がより好ましく、５０％以上が更に好ましい。上限は特に制限されないが、９９．９％以下が好ましい。

　転写フィルムの実施形態の例について説明する。
　図１に示す転写フィルム１０は、仮支持体１１と、中間層１３及び感光性組成物層１５を含む組成物層１７と、保護フィルム１９とを、この順に有する。
　なお、図１で示す転写フィルム１０は保護フィルム１９を配置した形態であるが、保護フィルム１９は、配置されなくてもよい。
　また、図１においては、仮支持体１１上に配置され得る保護フィルム１９を除く各層を組成物層１７ともいう。
　更に、転写フィルムは、上記層以外に、熱可塑性樹脂層を有していてもよく、熱可塑性樹脂層が仮支持体１１と中間層１３と間に配置されることが好ましい。

　以下において、本発明の転写フィルムについて、各部材及び各成分について詳細に説明する。なお、以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。

〔仮支持体〕
　転写フィルムは、仮支持体を有する。
　仮支持体は、感光性組成物層を支持する部材であり、最終的には剥離処理により除去される。

　仮支持体は、単層構造又は多層構造であってもよい。
　仮支持体としては、フィルムが好ましく、樹脂フィルムがより好ましい。また、仮支持体としては、可撓性を有し、かつ、加圧下又は加圧下及び加熱下において、著しい変形、収縮又は伸びを生じないフィルムも好ましく、シワ等の変形及び傷がないフィルムも好ましい。
　フィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレートフィルム（例えば、２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム）、ポリメチルメタクリレートフィルム、トリ酢酸セルロースフィルム、ポリスチレンフィルム、ポリイミドフィルム及びポリカーボネートフィルムが挙げられ、ポリエチレンテレフタレートフィルムが好ましい。

　仮支持体は、仮支持体を介してパターン露光できる点から、透明性が高いことが好ましい。具体的には、波長３６５ｎｍにおける仮支持体の透過率は、６０％以上が好ましく、７０％以上がより好ましい。上限は、１００％未満が好ましい。
　仮支持体を介するパターン露光時のパターン形成性及び仮支持体の透明性の点から、仮支持体のヘイズは小さい方が好ましい。具体的には、仮支持体のヘイズは、２％以下が好ましく、０．５％以下がより好ましく、０．１％以下が更に好ましい。下限は、０％以上が好ましい。

　仮支持体を介するパターン露光時のパターン形成性及び仮支持体の透明性の点から、仮支持体中の微粒子、異物及び欠陥の数は、少ない方が好ましい。具体的には、仮支持体中の微粒子（例えば、直径１μｍの微粒子）、異物及び欠陥の数は、５０個／１０ｍｍ^２以下が好ましく、１０個／１０ｍｍ^２以下がより好ましく、３個／１０ｍｍ^２以下が更に好ましく、０個／１０ｍｍ^２が特に好ましい。

　仮支持体の厚みは、５～２００μｍが好ましく、取り扱いやすさ及び汎用性の点から、５～１５０μｍがより好ましく、５～５０μｍが更に好ましく、５～２５μｍが特に好ましい。
　仮支持体の厚みは、ＳＥＭ（走査型電子顕微鏡：Ｓｃａｎｎｉｎｇ　Ｅｌｅｃｔｒｏｎ　Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ）による断面観察により測定した任意の５点の平均値として算出される。

　仮支持体は、ハンドリング性の点から、仮支持体の片面又は両面に、微粒子を含む層（滑剤層）を有していてもよい。
　滑剤層に含まれる微粒子の直径は、０．０５～０．８μｍが好ましい。
　滑剤層の厚みは、０．０５～１．０μｍが好ましい。

　仮支持体と感光性組成物層との密着性を向上させる点から、仮支持体の感光性組成物層と接する面は、表面改質処理されていてもよい。
　表面改質処理としては、例えば、ＵＶ照射、コロナ放電及びプラズマ等を用いる処理が挙げられる。
　ＵＶ照射における露光量は、１０～２０００ｍＪ／ｃｍ^２が好ましく、５０～１０００ｍＪ／ｃｍ^２がより好ましい。
　露光量が上記範囲であれば、ランプ出力及び照度は特に制限されない。
　ＵＶ照射における光源としては、例えば、１５０～４５０ｎｍ波長帯域の光を発する低圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ、ケミカルランプ、無電極放電ランプ及び発光ダイオード（ＬＥＤ）が挙げられる。

　仮支持体としては、例えば、厚み１６μｍの２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム、厚み１２μｍの２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム及び厚み９μｍの２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムが挙げられる。
　また、仮支持体としては、例えば、特開２０１４－０８５６４３号公報の段落［００１７］～［００１８］、特開２０１６－０２７３６３号公報の段落［００１９］～［００２６］、国際公開第２０１２／０８１６８０号の段落［００４１］～［００５７］及び国際公開第２０１８／１７９３７０号の段落［００２９］～［００４０］も挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
　仮支持体の市販品としては、例えば、ルミラー１６ＫＳ４０、ルミラー１６ＦＢ４０(以上、東レ社製)、コスモシャインＡ４１００、コスモシャインＡ４３００及びコスモシャインＡ８３００（以上、東洋紡社製）が挙げられる。

〔感光性組成物層〕
　本発明の転写フィルムは、感光性組成物層を有する。
　静電容量型入力装置等のタッチパネルを備えた表示装置（例えば、有機ＥＬ表示装置及び液晶表示装置等）では、視認部のセンサーに相当する電極パターン、周辺配線部分及び取り出し配線部分の配線等の導電層パターンがタッチパネル内部に設けられている。一般的にパターン化した層の形成には、転写フィルム等を用いて基板上にネガ型感光性組成物層を設け、その感光層に対して所望のパターンを有するマスクを介して露光した後、現像する方法が広く採用されている。したがって、感光性組成物層としては、ネガ型感光性組成物層が好ましい。感光性組成物層がネガ型感光性組成物層である場合、形成されるパターンは硬化層に該当する。

　感光性組成物層は、後述する、樹脂、重合性化合物及び重合開始剤を含むことが好ましい。また、感光性組成物層は、後述のとおり、樹脂がアルカリ可溶性樹脂（アルカリ可溶性樹脂である樹脂等）を含むことも好ましい。つまり、感光性組成物層は、アルカリ可溶性樹脂を含む樹脂、重合性化合物及び重合開始剤を含むことが好ましい。
　感光性組成物層は、感光性組成物層の全質量に対して、樹脂を１０～９０質量％、重合性化合物を５～７０質量％、及び、重合開始剤を０．０１～２０質量％含むことが好ましい。

＜樹脂＞
　感光性組成物層は、樹脂を含んでいてもよい。
　樹脂としては、アルカリ可溶性樹脂が好ましい。
　樹脂としては、後述する熱可塑性樹脂層におけるアルカリ可溶性樹脂を用いてもよい。

　露光時の焦点位置がずれたときの線幅太り及び解像度の悪化を抑制する点から、樹脂は、芳香族炭化水素基を有する単量体に由来する構成単位を含むことが好ましい。
　上記芳香族炭化水素基としては、例えば、置換又は非置換のフェニル基及び置換又は非置換のアラルキル基が挙げられる。
　樹脂における芳香族炭化水素基を有する単量体に由来する構成単位の含有量は、樹脂の全質量に対して、１０質量％以上が好ましく、２０質量％以上がより好ましく、３０質量％以上が更に好ましい。上限は、樹脂の全質量に対して、８０質量％以下が好ましく、６０質量％以下がより好ましく、５５質量％以下が更に好ましく、４５質量％以下が特に好ましい。なお、感光性組成物層が複数の樹脂を含む場合、芳香族炭化水素基を有する単量体に由来する構成単位の含有量の平均値が、上記範囲内になることが好ましい。上記平均値は、質量平均値を用いる。

　芳香族炭化水素基を有する単量体としては、例えば、アラルキル基を有する単量体、スチレン及び重合可能なスチレン誘導体（例えば、メチルスチレン、ビニルトルエン、ｔｅｒｔ－ブトキシスチレン、アセトキシスチレン、４－ビニル安息香酸、スチレンダイマー及びスチレントリマー等）が挙げられ、アラルキル基を有する単量体又はスチレンが好ましく、スチレンがより好ましい。
　樹脂における芳香族炭化水素基を有する単量体がスチレンである場合、スチレンに由来する構成単位の含有量は、樹脂の全質量に対して、１０～８０質量％が好ましく、１０～６０質量％がより好ましく、２０～６０質量％が更に好ましく、２０～５５質量％が特に好ましく、３０～４５質量％が最も好ましい。
　なお、感光性組成物層が複数の樹脂を含む場合、芳香族炭化水素基を有する構成単位の含有量の平均値が、上記範囲内になることが好ましい。上記平均値は、質量平均値を用いる。

　アラルキル基としては、例えば、置換又は非置換のフェニルアルキル基（ただし、ベンジル基を除く）及び置換又は非置換のベンジル基が挙げられ、置換又は非置換のベンジル基が好ましい。

　フェニルアルキル基を有する単量体としては、例えば、フェニルエチル（メタ）アクリレートが挙げられる。

　ベンジル基を有する単量体としては、例えば、ベンジル（メタ）アクリレート及びクロロベンジル（メタ）アクリレート等のベンジル基を有する（メタ）アクリレート；ビニルベンジルクロライド及びビニルベンジルアルコール等のベンジル基を有するビニルモノマーが挙げられる。なかでも、ベンジル（メタ）アクリレートが好ましい。
　樹脂における芳香族炭化水素基を有する単量体成分がベンジル（メタ）アクリレートである場合、ベンジル（メタ）アクリレートに由来する構成単位の含有量は、樹脂の全質量に対して、５０～９５質量％が好ましく、６０～９０質量％がより好ましく、７０～９０質量％が更に好ましく、７５～９０質量％が特に好ましい。

　芳香族炭化水素基を有する単量体に由来する構成単位を含む樹脂は、芳香族炭化水素基を有する単量体と、後述する第１の単量体の少なくとも１種及び／又は後述する第２の単量体の少なくとも１種と、を重合することにより得られることが好ましい。

　芳香族炭化水素基を有する単量体に由来する構成単位を含まない樹脂は、後述する第１の単量体の少なくとも１種を重合することにより得られることが好ましく、第１の単量体の少なくとも１種と後述する第２の単量体の少なくとも１種とを共重合することにより得られることがより好ましい。

　第１の単量体は、分子中にカルボキシ基を有する単量体である。
　第１の単量体としては、例えば、（メタ）アクリル酸、フマル酸、ケイ皮酸、クロトン酸、イタコン酸、４－ビニル安息香酸、マレイン酸無水物及びマレイン酸半エステルが挙げられ、（メタ）アクリル酸が好ましい。
　樹脂における第１の単量体に由来する構成単位の含有量は、樹脂の全質量に対して、５～５０質量％が好ましく、１０～４０質量％がより好ましく、１５～３０質量％が更に好ましい。
　上記含有量が５質量％以上である場合、優れる現像性及びエッジフューズ性の制御等を実現できる。上記含有量が５０質量％以下である場合、レジストパターンの高解像性及びスソ形状の制御及びレジストパターンの高耐薬品性を実現できる。

　第２の単量体は、非酸性であり、かつ、分子中に重合性不飽和基を少なくとも１個有する単量体である。
　第２の単量体としては、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ－プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ｎ－ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔｅｒｔ－ブチル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート及び２－エチルヘキシル（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレート類；酢酸ビニル等のビニルアルコールのエステル類；（メタ）アクリロニトリルが挙げられる。
　なかでも、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、２－エチルヘキシル（メタ）アクリレート又はｎ－ブチル（メタ）アクリレートが好ましく、メチル（メタ）アクリレート又はエチル（メタ）アクリレートがより好ましい。
　樹脂における第２の単量体に由来する構成単位の含有量は、樹脂の全質量に対して、５～８０質量％が好ましく、１５～６０質量％がより好ましく、２０～６０質量％が更に好ましく、２０～４８質量％が特に好ましく、３０～４８質量％が最も好ましい。

　樹脂がアラルキル基を有する単量体に由来する構成単位及び／又はスチレンに由来する構成単位を含む場合、露光時の焦点位置がずれたときの線幅太り及び解像度の悪化を抑制できる。
　樹脂としては、メタクリル酸に由来する構成単位とメチルメタクリレートに由来する構成単位とスチレンに由来する構成単位とを含む共重合体、メタクリル酸に由来する構成単位とメチルメタクリレートに由来する構成単位とエチルメタクリレートに由来する構成単位とスチレンに由来する構成単位とを含む共重合体、又は、メタクリル酸に由来する構成単位とベンジルメタクリレートに由来する構成単位とを含む共重合体が好ましい。
　樹脂の１つの好適態様としては、芳香族炭化水素基を有する単量体に由来する構成単位を３０～６０質量％、第１の単量体に由来する構成単位を１０～４０質量％、及び、第２の単量体に由来する構成単位を２０～４８質量％含むことが挙げられる。
　樹脂の別の好適態様としては、芳香族炭化水素基を有する単量体に由来する構成単位を７０～９０質量％、及び、第１の単量体に由来する構成単位を１０～２５質量％含むことが挙げられる。

　樹脂は、側鎖に、直鎖構造、分岐構造及び脂環構造のいずれかを有してもよい。
　側鎖に分岐構造を有する基を含むモノマー又は側鎖に脂環構造を有する基を含むモノマーを使用することによって、樹脂の側鎖に分岐構造及び脂環構造を導入することができる。脂環構造を有する基は、単環及び多環のいずれであってもよい。
　側鎖に分岐構造を有する基を含むモノマーとしては、例えば、（メタ）アクリル酸イソプロピル、（メタ）アクリル酸イソブチル、（メタ）アクリル酸ｓｅｃ－ブチル、（メタ）アクリル酸ｔｅｒｔ－ブチル、（メタ）アクリル酸イソアミル、（メタ）アクリル酸ｔｅｒｔ－アミル、（メタ）アクリル酸ｓｅｃ－アミル、（メタ）アクリル酸２－オクチル、（メタ）アクリル酸３－オクチル及び（メタ）アクリル酸ｔｅｒｔ－オクチルが挙げられる。
　なかでも、（メタ）アクリル酸イソプロピル、（メタ）アクリル酸イソブチル又はメタクリル酸ｔｅｒｔ－ブチルが好ましく、メタクリル酸イソプロピル又はメタクリル酸ｔｅｒｔ－ブチルがより好ましい。
　側鎖に脂環構造を有する基を含むモノマーとしては、例えば、単環の脂肪族炭化水素基を有するモノマー及び多環の脂肪族炭化水素基を有するモノマーが挙げられる。また、炭素原子数５～２０個の脂環式炭化水素基を有する（メタ）アクリレートが挙げられる。
　具体的には、（メタ）アクリル酸（ビシクロ〔２．２．１］ヘプチル－２）、（メタ）アクリル酸－１－アダマンチル、（メタ）アクリル酸－２－アダマンチル、（メタ）アクリル酸－３－メチル－１－アダマンチル、（メタ）アクリル酸－３，５－ジメチル－１－アダマンチル、（メタ）アクリル酸－３－エチルアダマンチル、（メタ）アクリル酸－３－メチル－５－エチル－１－アダマンチル、（メタ）アクリル酸－３，５，８－トリエチル－１－アダマンチル、（メタ）アクリル酸－３，５－ジメチル－８－エチル－１－アダマンチル、（メタ）アクリル酸２－メチル－２－アダマンチル、（メタ）アクリル酸２－エチル－２－アダマンチル、（メタ）アクリル酸３－ヒドロキシ－１－アダマンチル、（メタ）アクリル酸オクタヒドロ－４，７－メンタノインデン－５－イル、（メタ）アクリル酸オクタヒドロ－４，７－メンタノインデン－１－イルメチル、（メタ）アクリル酸－１－メンチル、（メタ）アクリル酸トリシクロデカン、（メタ）アクリル酸－３－ヒドロキシ－２，６，６－トリメチル－ビシクロ〔３．１．１〕ヘプチル、（メタ）アクリル酸－３，７，７－トリメチル－４－ヒドロキシ－ビシクロ〔４．１．０〕ヘプチル、（メタ）アクリル酸（ノル）ボルニル、（メタ）アクリル酸イソボルニル、（メタ）アクリル酸フェンチル、（メタ）アクリル酸－２，２，５－トリメチルシクロヘキシル及び（メタ）アクリル酸シクロヘキシルが挙げられる。
　なかでも、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸（ノル）ボルニル、（メタ）アクリル酸イソボルニル、（メタ）アクリル酸－１－アダマンチル、（メタ）アクリル酸－２－アダマンチル、（メタ）アクリル酸フェンチル、（メタ）アクリル酸１－メンチル又は（メタ）アクリル酸トリシクロデカンが好ましく、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸（ノル）ボルニル、（メタ）アクリル酸イソボルニル、（メタ）アクリル酸－２－アダマンチル又は（メタ）アクリル酸トリシクロデカンがより好ましい。

　樹脂のＴｇは、３０～１５０℃が好ましく、６０～１５０℃がより好ましく、９０～１５０℃が更に好ましく、１００～１５０℃が特に好ましく、１００～１２０℃が最も好ましい。

　樹脂の酸価は、本発明の効果がより優れる点から、２２０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下が好ましく、２００ｍｇＫＯＨ／ｇ未満がより好ましく、１９０ｍｇＫＯＨ／ｇ未満が更に好ましく、１７０ｍｇＫＯＨ／ｇ未満が特に好ましい。下限は、本発明の効果がより優れる点から、１０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上が好ましく、５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上がより好ましく、７０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上が更に好ましく、９０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上が特に好ましい。
　なお、酸価（ｍｇＫＯＨ／ｇ）とは、試料１ｇを中和するのに必要な水酸化カリウムの質量（ｍｇ）である。酸価は、例えば、ＪＩＳ　Ｋ００７０：１９９２に記載の方法に従って求めることができる。
　樹脂の酸価は、樹脂が有する構成単位の種類及び／又は酸基を含む構成単位の含有量によって調整できる。

　樹脂の重量平均分子量は、５，０００～５００，０００が好ましく、１０，０００～１００，０００がより好ましく、２０，０００～５０，０００が更に好ましく、２０，０００～４０，０００が特に好ましい。
　重量平均分子量が５００，０００以下である場合、解像性及び現像性を向上できる。また。重量平均分子量が５，０００以上である場合、現像凝集物の性状並びに転写フィルムのエッジフューズ性及びカットチップ性等の未露光膜の性状を制御できる。エッジフューズ性とは、転写フィルムをロール状に巻き取った場合に、ロールの端面からの、感光性組成物層のはみ出し易さの程度をいう。カットチップ性とは、未露光膜をカッターで切断した場合に、チップの飛び易さの程度をいう。このチップが転写フィルムの上面等に付着すると、後の露光工程等でマスクに転写して不良品の原因となる。
　樹脂の分散度は、１．０～６．０が好ましく、１．０～５．０がより好ましく、１．０～４．０が更に好ましく、１．０～３．０が特に好ましい。

　感光性組成物層は、上述した樹脂以外に、その他樹脂を含んでいてもよい。
　その他樹脂としては、例えば、アクリル樹脂、スチレン－アクリル系共重合体、ポリウレタン樹脂、ポリビニルアルコール、ポリビニルホルマール、ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、エポキシ樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリヒドロキシスチレン樹脂、ポリイミド樹脂、ポリベンゾオキサゾール樹脂、ポリシロキサン樹脂、ポリエチレンイミン、ポリアリルアミン及びポリアルキレングリコールが挙げられる。

　樹脂は、１種単独で用いてもよく、２種以上で用いてもよい。
　２種以上の樹脂を使用する場合、芳香族炭化水素基を有する単量体に由来する構成単位を含む樹脂を２種類混合使用すること、又は、芳香族炭化水素基を有する単量体に由来する構成単位を含む樹脂と芳香族炭化水素基を有する単量体に由来する構成単位を含まない樹脂とを混合使用することが好ましい。後者である場合、芳香族炭化水素基を有する単量体に由来する構成単位を含む樹脂の含有量は、樹脂の全質量に対して、５０質量％以上が好ましく、７０質量％以上がより好ましく、８０質量％以上が更に好ましく、９０質量％以上が特に好ましい。上限は、１００質量％以下が好ましい。

　樹脂の含有量は、感光性組成物層の全質量に対して、１０～９０質量％が好ましく、２０～８０質量％がより好ましく、３０～７０質量％が更に好ましく、４０～６０質量％が特に好ましい。樹脂の含有量が、感光性組成物層の全質量に対して、９０質量％以下である場合、現像時間を制御できる。また、樹脂の含有量が、感光性組成物層の全質量に対して、１０質量％以上である場合、耐エッジフューズ性を向上できる。

　樹脂の合成方法としては、例えば、上述された単独又は複数の単量体を、アセトン、メチルエチルケトン及びイソプロパノール等の溶剤で希釈した溶液に、過酸化ベンゾイル及びアゾイソブチロニトリル等のラジカル重合開始剤を適量添加し、加熱撹拌する方法が挙げられる。混合物の一部を反応液に滴下しながら合成してもよい。また、反応終了後、更に溶剤を加えて、所望の濃度に調整してもよい。
　また、樹脂の合成方法としては、上記以外に、塊状重合、懸濁重合及び乳化重合が挙げられる。

＜重合性化合物＞
　感光性組成物層は、重合性基を有する重合性化合物を含むことが好ましい。なお、本明細書において「重合性化合物」とは、後述する重合開始剤の作用を受けて重合する化合物であって、上述した樹脂とは異なる化合物を意味する。

　重合性化合物が有する重合性基としては、重合反応に関与する基であれば特に制限されないが、例えば、ビニル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、スチリル基及びマレイミド基等のエチレン性不飽和基を有する基；エポキシ基及びオキセタン基等のカチオン性重合性基を有する基が挙げられる。
　なかでも、重合性基としては、エチレン性不飽和基を有する基が好ましく、アクリロイル基又はメタアクリロイル基がより好ましい。

　重合性化合物としては、感光性組成物層の感光性がより優れる点で、１つ以上のエチレン性不飽和基を有する化合物（エチレン性不飽和化合物）が好ましく、１分子中に２つ以上のエチレン性不飽和基を有する化合物（多官能エチレン性不飽和化合物）がより好ましい。
　また、解像性及び剥離性がより優れる点で、エチレン性不飽和化合物が１分子中に有するエチレン性不飽和基の数は、１～６が好ましく、１～３がより好ましく、２～３が更に好ましく、３が特に好ましい。

　感光性組成物層の感光性と解像性及び剥離性とのバランスがより優れる点で、重合性化合物は、１分子中に２つ又は３つのエチレン性不飽和基を有する２官能又は３官能エチレン性不飽和化合物を含むことが好ましく、１分子中に３つのエチレン性不飽和基を有する３官能エチレン性不飽和化合物を含むことがより好ましい。
　上記３官能エチレン性不飽和化合物を含むことで、弾性率Ｘを調整することができる。

　２官能エチレン性不飽和化合物の含有量は、重合性化合物の全質量に対して、剥離性に優れる点から、２０質量％以上が好ましく、４０質量％超がより好ましく、５５質量％以上が更に好ましく、９０質量％以上が特に好ましい。上限は特に制限されないが、１００質量％以下が好ましい。つまり、感光性組成物層に含まれる全ての重合性化合物が２官能エチレン性不飽和化合物であってもよい。
　３官能エチレン性不飽和化合物の含有量は、重合性化合物の全質量に対して、弾性率Ｘを調整できる点から、１０質量％以上が好ましく、２０質量％以上がより好ましい。上限は特に制限されないが、１００質量％以下が好ましく、８０質量％以下がより好ましく、５０質量％以下が更に好ましい。つまり、感光性組成物層に含まれる全ての重合性化合物が３官能エチレン性不飽和化合物であってもよい。
　また、エチレン性不飽和化合物としては、重合性基として（メタ）アクリロイル基を有する（メタ）アクリレート化合物が好ましい。

（重合性化合物Ｂ１）
　感光性組成物層は、芳香環及び２つのエチレン性不飽和基を有する重合性化合物Ｂ１を含むことも好ましい。重合性化合物Ｂ１は、上述した重合性化合物Ｂのうち、１分子中に１つ以上の芳香環を有する２官能エチレン性不飽和化合物である。

　重合性化合物Ｂ１が有する芳香環としては、例えば、ベンゼン環、ナフタレン環及びアントラセン環等の芳香族炭化水素環；チオフェン環、フラン環、ピロール環、イミダゾール環、トリアゾール環及びピリジン環等の芳香族複素環；これらの縮合環が挙げられ、芳香族炭化水素環が好ましく、ベンゼン環がより好ましい。
　なお、上記芳香環は、置換基を有してもよい。
　重合性化合物Ｂ１は、芳香環を１つのみ有してもよく、２つ以上の芳香環を有してもよい。

　重合性化合物Ｂ１は、現像液による感光性組成物層の膨潤を抑制することにより、解像性が向上する点から、ビスフェノール構造を有することが好ましい。
　ビスフェノール構造としては、例えば、ビスフェノールＡ（２，２－ビス（４－ヒドロキシフェニル）プロパン）に由来するビスフェノールＡ構造、ビスフェノールＦ（２，２－ビス（４－ヒドロキシフェニル）メタン）に由来するビスフェノールＦ構造及びビスフェノールＢ（２，２－ビス（４－ヒドロキシフェニル）ブタン）に由来するビスフェノールＢ構造が挙げられ、ビスフェノールＡ構造が好ましい。

　ビスフェノール構造を有する重合性化合物Ｂ１としては、例えば、ビスフェノール構造と、そのビスフェノール構造の両端に結合した２つの重合性基（好ましくは（メタ）アクリロイル基）とを有する化合物が挙げられる。
　ビスフェノール構造の両端と２つの重合性基とは、直接結合してもよく、１つ以上のアルキレンオキシ基を介して結合してもよい。ビスフェノール構造の両端に付加するアルキレンオキシ基としては、エチレンオキシ基又はプロピレンオキシ基が好ましく、エチレンオキシ基がより好ましい。ビスフェノール構造に付加するアルキレンオキシ基の付加数は特に制限されないが、１分子あたり４～１６個が好ましく、６～１４個がより好ましい。
　ビスフェノール構造を有する重合性化合物Ｂ１については、特開２０１６－２２４１６２号公報の段落［００７２］～［００８０］が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。

　重合性化合物Ｂ１としては、ビスフェノールＡ構造を有する２官能エチレン性不飽和化合物が好ましく、２，２－ビス（４－（（メタ）アクリロキシポリアルコキシ）フェニル）プロパンがより好ましい。
　２，２－ビス（４－（（メタ）アクリロキシポリアルコキシ）フェニル）プロパンとしては、例えば、２，２－ビス（４－（メタクリロキシジエトキシ）フェニル）プロパン（ＦＡ－３２４Ｍ、日立化成社製）、２，２－ビス（４－（メタクリロキシエトキシプロポキシ）フェニル）プロパン、２，２－ビス（４－（メタクリロキシペンタエトキシ）フェニル）プロパン（ＢＰＥ－５００、新中村化学工業社製）、２，２－ビス（４－（メタクリロキシドデカエトキシテトラプロポキシ）フェニル）プロパン（ＦＡ－３２００ＭＹ、日立化成社製）、２，２－ビス（４－（メタクリロキシペンタデカエトキシ）フェニル）プロパン（ＢＰＥ－１３００、新中村化学工業社製）、２，２－ビス（４－（メタクリロキシジエトキシ）フェニル）プロパン（ＢＰＥ－２００、新中村化学工業社製）及びエトキシ化（１０）ビスフェノールＡジアクリレート（ＮＫエステルＡ－ＢＰＥ－１０、新中村化学工業社製）が挙げられる。

　重合性化合物Ｂ１としては、式（Ｂ１）で表される化合物も好ましい。

　式（Ｂ１）中、Ｒ_１及びＲ_２は、それぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表す。ＡはＣ_２Ｈ_４を表す。ＢはＣ_３Ｈ_６を表す。ｎ１及びｎ３は、それぞれ独立に、１～３９の整数を表す。ｎ１＋ｎ３は、２～４０の整数である。ｎ２及びｎ４は、それぞれ独立に、０～２９の整数を表す。ｎ２＋ｎ４は、０～３０の整数である。
　－（Ａ－Ｏ）－及び－（Ｂ－Ｏ）－の構成単位の配列は、ランダムであってもブロックであってもよい。ブロックである場合、－（Ａ－Ｏ）－及び－（Ｂ－Ｏ）－のいずれがビスフェニル基側であってもよい。
　ｎ１＋ｎ２＋ｎ３＋ｎ４としては、２～２０が好ましく、２～１６がより好ましく、４～１２が更に好ましい。また、ｎ２＋ｎ４は、０～１０が好ましく、０～４がより好ましく、０～２が更に好ましく、０が特に好ましい。

　重合性化合物Ｂ１は、１種単独で用いてもよく、２種以上で用いてもよい。
　重合性化合物Ｂ１の含有量は、解像性がより優れる点から、感光性組成物層の全質量に対して、１０質量％以上が好ましく、２０質量％以上がより好ましく、２５質量％以上が更に好ましい。上限は特に制限されないが、転写性及びエッジフュージョン（転写部材の端部から感光性組成物が滲み出す現象）の点から、７０質量％以下が好ましく、６０質量％以下がより好ましい。

　重合性化合物Ｂ１の含有量は、重合性化合物の全質量に対して、解像性がより優れる点から、４０質量％以上が好ましく、５０質量％以上がより好ましく、５５質量％以上が更に好ましく、６０質量％以上が特に好ましい。上限は特に制限されないが、剥離性の点から、１００質量％以下が好ましく、９９質量％以下がより好ましく、９５質量％以下が更に好ましく、９０質量％以下が特に好ましく、８５質量％以下が最も好ましい。

（その他重合性化合物）
　感光性組成物層は、上述した重合性化合物Ｂ１以外に、その他重合性化合物を含んでいてもよい。
　その他重合性化合物としては、特に制限されないが、公知の重合性化合物から適宜選択できる。例えば、１分子中に１つのエチレン性不飽和基を有する化合物（単官能エチレン性不飽和化合物）、芳香環を有さない２官能エチレン性不飽和化合物及び３官能以上のエチレン性不飽和化合物が挙げられる。

　単官能エチレン性不飽和化合物としては、例えば、エチル（メタ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、２－（メタ）アクリロイルオキシエチルサクシネート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート及びフェノキシエチル（メタ）アクリレートが挙げられる。

　芳香環を有さない２官能エチレン性不飽和化合物としては、例えば、アルキレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリアルキレングリコールジ（メタ）アクリレート、ウレタンジ（メタ）アクリレート及びトリメチロールプロパンジアクリレートが挙げられる。
　アルキレングリコールジ（メタ）アクリレートとしては、例えば、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート（Ａ－ＤＣＰ、新中村化学工業社製）、トリシクロデカンジメタノールジメタクリレート（ＤＣＰ、新中村化学工業社製）、１，９－ノナンジオールジアクリレート（Ａ－ＮＯＤ－Ｎ、新中村化学工業社製）、１，６－ヘキサンジオールジアクリレート（Ａ－ＨＤ－Ｎ、新中村化学工業社製）、エチレングリコールジメタクリレート、１，１０－デカンジオールジアクリレート及びネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレートが挙げられる。
　ポリアルキレングリコールジ（メタ）アクリレートとしては、例えば、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート及びポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレートが挙げられる。
　ウレタンジ（メタ）アクリレートとしては、例えば、プロピレンオキサイド変性ウレタンジ（メタ）アクリレート並びにエチレンオキサイド及びプロピレンオキサイド変性ウレタンジ（メタ）アクリレートが挙げられる。また、市販品としては、例えば、８ＵＸ－０１５Ａ（大成ファインケミカル社製）、ＵＡ－３２Ｐ（新中村化学工業社製）及びＵＡ－１１００Ｈ（新中村化学工業社製）が挙げられる。

　３官能以上のエチレン性不飽和化合物としては、例えば、ジペンタエリスリトール（トリ／テトラ／ペンタ／ヘキサ）（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトール（トリ／テトラ）（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸トリ（メタ）アクリレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート及びこれらのアルキレンオキサイド変性物が挙げられる。
　ここで、「（トリ／テトラ／ペンタ／ヘキサ）（メタ）アクリレート」は、トリ（メタ）アクリレート、テトラ（メタ）アクリレート、ペンタ（メタ）アクリレート及びヘキサ（メタ）アクリレートを包含する概念であり、「（トリ／テトラ）（メタ）アクリレート」は、トリ（メタ）アクリレート及びテトラ（メタ）アクリレートを包含する概念である。

　３官能以上のエチレン性不飽和化合物のアルキレンオキサイド変性物としては、例えば、カプロラクトン変性（メタ）アクリレート化合物（日本化薬社製ＫＡＹＡＲＡＤ（登録商標）ＤＰＣＡ－２０、新中村化学工業社製Ａ－９３００－１ＣＬ等）、アルキレンオキサイド変性（メタ）アクリレート化合物（日本化薬社製ＫＡＹＡＲＡＤ　ＲＰ－１０４０、新中村化学工業社製ＡＴＭ－３５Ｅ及びＡ－９３００、ダイセル・オルネクス社製ＥＢＥＣＲＹＬ（登録商標）　１３５等）、エトキシル化グリセリントリアクリレート（新中村化学工業社製Ａ－ＧＬＹ－９Ｅ等）、アロニックス（登録商標）ＴＯ－２３４９（東亞合成社製）、アロニックスＭ－５２０（東亞合成社製）及びアロニックスＭ－５１０（東亞合成社製）が挙げられる。

　また、重合性化合物は、酸基（カルボキシ基等）を有する重合性化合物であってもよい。上記酸基は酸無水物基を形成していてもよい。酸基を有する重合性化合物としては、例えば、アロニックス（登録商標）ＴＯ－２３４９（東亞合成社製）、アロニックス（登録商標）Ｍ－５２０（東亞合成社製）及びアロニックス（登録商標）Ｍ－５１０（東亞合成社製）が挙げられる。
　酸基を有する重合性化合物として、例えば、特開２００４－２３９９４２号公報の段落［００２５］～［００３０］に記載の酸基を有する重合性化合物が挙げられる。

　重合性化合物（重合性化合物Ｂ１を含む）の分子量（分子量分布を有する場合は重量平均分子量）としては、２００～３，０００が好ましく、２８０～２，２００がより好ましく、３００～２，２００が更に好ましい。

　重合性化合物は、１種単独で用いてもよく、２種以上で用いてもよい。
　重合性化合物の含有量は、感光性組成物層の全質量に対して、１０～７０質量％が好ましく、１５～７０質量％がより好ましく、２０～７０質量％が更に好ましい。

　樹脂の含有量に対する２官能以上の重合性化合物の含有量の質量比（２官能以上の重合性化合物の含有量／樹脂の含有量）が、本発明の効果がより優れる点から、０．１０～１．００が好ましく、０．５０～１．００がより好ましく、０．６０～１．００が更に好ましく、０．６０～０．８０が特に好ましい。

　感光性組成物層は、上述した重合性化合物Ｂ１及び３官能以上のエチレン性不飽和化合物を含むことも好ましく、上述した重合性化合物Ｂ１及び２種以上の３官能以上のエチレン性不飽和化合物を含むことがより好ましい。
　３官能以上のエチレン性不飽和化合物の質量に対する重合性化合物Ｂ１の質量の質量比は、１．０～５．０が好ましく、１．２～４．０がより好ましく、１．５～３．０が更に好ましい。
　また、感光性組成物層は、上述した重合性化合物Ｂ１及び３官能のエチレン性不飽和化合物を含むことが好ましい。

＜重合開始剤＞
　感光性組成物層は、重合開始剤を含むことも好ましい。
　重合開始剤は重合反応の形式に応じて選択され、例えば、熱重合開始剤及び光重合開始剤が挙げられる。
　重合開始剤は、ラジカル重合開始剤でもカチオン重合開始剤であってもよい。

　感光性組成物層は、光重合開始剤を含むことが好ましい。
　光重合開始剤は、紫外線、可視光線及びＸ線等の活性光線を受けて、重合性化合物の重合を開始する化合物である。光重合開始剤としては、特に制限されないが、公知の光重合開始剤を使用できる。
　光重合開始剤としては、例えば、光ラジカル重合開始剤及び光カチオン重合開始剤が挙げられ、光ラジカル重合開始剤が好ましい。

　光ラジカル重合開始剤としては、例えば、オキシムエステル構造を有する光重合開始剤、α－アミノアルキルフェノン構造を有する光重合開始剤、α－ヒドロキシアルキルフェノン構造を有する光重合開始剤、アシルフォスフィンオキサイド構造を有する光重合開始剤及びＮ－フェニルグリシン構造を有する光重合開始剤が挙げられる。

　また、感光性組成物層は、感光性、露光部及び非露光部の視認性及び解像性の点から、光ラジカル重合開始剤として、２，４，５－トリアリールイミダゾール二量体及びその誘導体からなる群から選択される少なくとも１種を含むことが好ましい。なお、２，４，５－トリアリールイミダゾール二量体及びその誘導体における２つの２，４，５－トリアリールイミダゾール構造は、同一であっても異なっていてもよい。
　２，４，５－トリアリールイミダゾール二量体の誘導体としては、例えば、２－（ｏ－クロロフェニル）－４，５－ジフェニルイミダゾール二量体、２－（ｏ－クロロフェニル）－４，５－ジ（メトキシフェニル）イミダゾール二量体、２－（ｏ－フルオロフェニル）－４，５－ジフェニルイミダゾール二量体、２－（ｏ－メトキシフェニル）－４，５－ジフェニルイミダゾール二量体及び２－（ｐ－メトキシフェニル）－４，５－ジフェニルイミダゾール二量体が挙げられる。

　光ラジカル重合開始剤としては、例えば、特開２０１１－０９５７１６号公報の段落［００３１］～［００４２］及び特開２０１５－０１４７８３号公報の段落［００６４］～［００８１］に記載された重合開始剤が挙げられる。

　光ラジカル重合開始剤としては、例えば、ジメチルアミノ安息香酸エチル（ＤＢＥ、ＣＡＳ　Ｎｏ．１０２８７－５３－３）、ベンゾインメチルエーテル、アニシル（ｐ，ｐ’－ジメトキシベンジル）、ＴＡＺ－１１０（商品名：みどり化学社製）、ベンゾフェノン、４，４’－ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、ＴＡＺ－１１１（商品名：みどり化学社製）１－［４－（フェニルチオ）］－１，２－オクタンジオン－２－（Ｏ－ベンゾイルオキシム）（商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）　ＯＸＥ－０１、ＢＡＳＦ社製）、１－［９－エチル－６－（２－メチルベンゾイル）－９Ｈ－カルバゾール－３－イル］エタノン－１－（Ｏ－アセチルオキシム）（商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ　ＯＸＥ－０２、ＢＡＳＦ社製）、ＩＲＧＡＣＵＲＥ　ＯＸＥ－０３（ＢＡＳＦ社製）、ＩＲＧＡＣＵＲＥ　ＯＸＥ－０４（ＢＡＳＦ社製）、２－（ジメチルアミノ）－２－［（４－メチルフェニル）メチル］－１－［４－（４－モルフォリニル）フェニル］－１－ブタノン（商品名：Ｏｍｎｉｒａｄ　３７９ＥＧ、ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ　Ｂ．Ｖ．製）、２－メチル－１－（４－メチルチオフェニル）－２－モルフォリノプロパン－１－オン（商品名：Ｏｍｎｉｒａｄ　９０７、ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ　Ｂ．Ｖ．製）、２－ヒドロキシ－１－｛４－［４－（２－ヒドロキシ－２－メチルプロピオニル）ベンジル］フェニル｝－２－メチルプロパン－１－オン（商品名：Ｏｍｎｉｒａｄ　１２７、ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ　Ｂ．Ｖ．製）、２－ベンジル－２－ジメチルアミノ－１－（４－モルフォリノフェニル）ブタノン－１（商品名：Ｏｍｎｉｒａｄ　３６９、ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ　Ｂ．Ｖ．製）、２－ヒドロキシ－２－メチル－１－フェニルプロパン－１－オン（商品名：Ｏｍｎｉｒａｄ　１１７３、ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ　Ｂ．Ｖ．製）、１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（商品名：Ｏｍｎｉｒａｄ　１８４、ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ　Ｂ．Ｖ．製）、２，２－ジメトキシ－１，２－ジフェニルエタン－１－オン（商品名：Ｏｍｎｉｒａｄ　６５１、ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ　Ｂ．Ｖ．製）、２，４，６－トリメチルベンゾリル－ジフェニルフォスフィンオキサイド（商品名：Ｏｍｎｉｒａｄ　ＴＰＯ　Ｈ、ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ　Ｂ．Ｖ．製）、ビス（２，４，６－トリメチルベンゾリル）フェニルフォスフィンオキサイド（商品名：Ｏｍｎｉｒａｄ　８１９、ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ　Ｂ．Ｖ．製）、オキシムエステル系の光重合開始剤（商品名：Ｌｕｎａｒ　６、ＤＫＳＨジャパン社製）、２，２’－ビス（２－クロロフェニル）－４，４’，５，５’－テトラフェニルビスイミダゾール（２－（２－クロロフェニル）－４，５－ジフェニルイミダゾール二量体）（商品名：Ｂ－ＣＩＭ、Ｈａｍｐｆｏｒｄ社製）、２－（ｏ－クロロフェニル）－４，５－ジフェニルイミダゾール二量体（商品名：ＢＣＴＢ、東京化成工業社製）、１－［４－（フェニルチオ）フェニル］－３－シクロペンチルプロパン－１，２－ジオン－２－（Ｏ－ベンゾイルオキシム）（商品名：ＴＲ－ＰＢＧ－３０５、常州強力電子新材料社製）、１，２－プロパンジオン，３－シクロヘキシル－１－［９－エチル－６－（２－フラニルカルボニル）－９Ｈ－カルバゾール－３－イル］－，２－（Ｏ－アセチルオキシム）（商品名：ＴＲ－ＰＢＧ－３２６、常州強力電子新材料社製）及び３－シクロヘキシル－１－（６－（２－（ベンゾイルオキシイミノ）ヘキサノイル）－９－エチル－９Ｈ－カルバゾール－３－イル）－プロパン－１，２－ジオン－２－（Ｏ－ベンゾイルオキシム）（商品名：ＴＲ－ＰＢＧ－３９１、常州強力電子新材料社製）が挙げられる。

　光カチオン重合開始剤（光酸発生剤）は、活性光線を受けて酸を発生する化合物である。光カチオン重合開始剤としては、波長３００ｎｍ以上（好ましくは波長３００～４５０ｎｍ）の活性光線に感応し、酸を発生する化合物が好ましい。また、波長３００ｎｍ以上の活性光線に直接感応しない光カチオン重合開始剤についても、増感剤と併用することによって波長３００ｎｍ以上の活性光線に感応し、酸を発生する化合物であれば、増感剤と組み合わせて好ましく使用できる。
　光カチオン重合開始剤としては、ｐＫａが４以下の酸を発生する光カチオン重合開始剤が好ましく、ｐＫａが３以下の酸を発生する光カチオン重合開始剤がより好ましく、ｐＫａが２以下の酸を発生する光カチオン重合開始剤が特に好ましい。ｐＫａの下限は特に定めないが、－１０．０以上が好ましい。

　光カチオン重合開始剤としては、イオン性光カチオン重合開始剤及び非イオン性光カチオン重合開始剤が挙げられる。
　イオン性光カチオン重合開始剤として、例えば、ジアリールヨードニウム塩類及びトリアリールスルホニウム塩類等のオニウム塩化合物並びに第４級アンモニウム塩類が挙げられる。
　イオン性光カチオン重合開始剤としては、例えば、特開２０１４－０８５６４３号公報の段落［０１１４］～［０１３３］に記載のイオン性光カチオン重合開始剤が挙げられる。

　非イオン性光カチオン重合開始剤としては、例えば、トリクロロメチル－ｓ－トリアジン類、ジアゾメタン化合物、イミドスルホネート化合物及びオキシムスルホネート化合物が挙げられる。トリクロロメチル－ｓ－トリアジン類、ジアゾメタン化合物及びイミドスルホネート化合物としては、特開２０１１－２２１４９４号公報の段落［００８３］～［００８８］に記載の化合物が挙げられる。また、オキシムスルホネート化合物としては、例えば、国際公開第２０１８／１７９６４０号の段落［００８４］～［００８８］に記載された化合物が挙げられる。

　重合開始剤は、１種単独で用いてもよく、２種以上で用いてもよい。
　重合開始剤（好ましくは光重合開始剤）の含有量は、感光性組成物層の全質量に対して、０．１質量％以上が好ましく、０．５質量％以上がより好ましい。上限は、感光性組成物層の全質量に対して、２０質量％以下が好ましく、１５質量％以下がより好ましく、１０質量％以下が更に好ましい。

＜色素＞
　感光性組成物層は、露光部及び非露光部の視認性、並びに、現像後のパターン視認性及び解像性の点から、発色時の波長範囲４００～７８０ｎｍにおける最大吸収波長が４５０ｎｍ以上であり、かつ、酸、塩基又はラジカルにより最大吸収波長が変化する色素（「色素Ｎ」ともいう。）を含むことも好ましい。色素Ｎを含むと、詳細なメカニズムは不明であるが、隣接する層（例えば、水溶性樹脂層）との密着性が向上して解像性により優れる。

　本明細書において、色素が「酸、塩基又はラジカルにより極大吸収波長が変化する」とは、発色状態にある色素が酸、塩基又はラジカルにより消色する態様、消色状態にある色素が酸、塩基又はラジカルにより発色する態様及び発色状態にある色素が他の色相の発色状態に変化する態様のいずれの態様を意味してもよい。
　具体的には、色素Ｎは、露光により消色状態から変化して発色する化合物であってもよいし、露光により発色状態から変化して消色する化合物であってもよい。上記である場合、露光により酸、塩基又はラジカルが感光性組成物層内において発生し作用することにより、発色又は消色の状態が変化する色素でもよく、酸、塩基又はラジカルにより感光性組成物層内の状態（例えばｐＨ）が変化することで発色又は消色の状態が変化する色素であってもよい。また、露光を介さずに、酸、塩基又はラジカルを刺激として直接受けて発色又は消色の状態が変化する色素であってもよい。

　なかでも、露光部及び非露光部の視認性及び解像性の点から、色素Ｎは、酸又はラジカルにより最大吸収波長が変化する色素が好ましく、ラジカルにより最大吸収波長が変化する色素がより好ましい。
　感光性組成物層は、露光部及び非露光部の視認性及び解像性の点から、色素Ｎとしてラジカルにより最大吸収波長が変化する色素及び光ラジカル重合開始剤の両者を含むことが好ましい。
　また、露光部及び非露光部の視認性の点から、色素Ｎは、酸、塩基又はラジカルにより発色する色素であることが好ましい。

　色素Ｎの発色機構としては、例えば、感光性組成物層に光ラジカル重合開始剤、光カチオン重合開始剤（光酸発生剤）又は光塩基発生剤を添加して、露光後に光ラジカル重合開始剤、光カチオン重合開始剤又は光塩基発生剤から発生するラジカル、酸又は塩基によって、ラジカル反応性色素、酸反応性色素又は塩基反応性色素（例えばロイコ色素）が発色する態様が挙げられる。

　露光部及び非露光部の視認性の点から、色素Ｎの発色時の波長範囲４００～７８０ｎｍにおける極大吸収波長としては、５５０ｎｍ以上が好ましく、５５０～７００ｎｍがより好ましく、５５０～６５０ｎｍが更に好ましい。
　また、色素Ｎは、発色時の波長範囲４００～７８０ｎｍにおける極大吸収波長を１つのみ有していてもよく、２つ以上有していてもよい。色素Ｎが発色時の波長範囲４００～７８０ｎｍにおける極大吸収波長を２つ以上有する場合、２つ以上の極大吸収波長のうち吸光度が最も高い極大吸収波長が４５０ｎｍ以上であればよい。

　色素Ｎの極大吸収波長は、大気雰囲気下で、分光光度計：ＵＶ３１００（島津製作所社製）を用いて、４００～７８０ｎｍの範囲で色素Ｎを含む溶液（液温２５℃）の透過スペクトルを測定し、光の強度が極小となる波長（極大吸収波長）を検出することによって測定できる。

　露光により発色又は消色する色素としては、例えば、ロイコ化合物が挙げられる。
　露光により消色する色素としては、例えば、ロイコ化合物、ジアリールメタン系色素、オキザジン系色素、キサンテン系色素、イミノナフトキノン系色素、アゾメチン系色素及びアントラキノン系色素が挙げられる。
　色素Ｎとしては、露光部及び非露光部の視認性の点から、ロイコ化合物が好ましい。

　ロイコ化合物としては、例えば、トリアリールメタン骨格を有するロイコ化合物（トリアリールメタン系色素）、スピロピラン骨格を有するロイコ化合物（スピロピラン系色素）、フルオラン骨格を有するロイコ化合物（フルオラン系色素）、ジアリールメタン骨格を有するロイコ化合物（ジアリールメタン系色素）、ローダミンラクタム骨格を有するロイコ化合物（ローダミンラクタム系色素）、インドリルフタリド骨格を有するロイコ化合（インドリルフタリド系色素）及びロイコオーラミン骨格を有するロイコ化合物（ロイコオーラミン系色素）が挙げられる。
　なかでも、トリアリールメタン系色素又はフルオラン系色素が好ましく、トリフェニルメタン骨格を有するロイコ化合物（トリフェニルメタン系色素）又はフルオラン系色素がより好ましい。

　ロイコ化合物は、露光部及び非露光部の視認性の点から、ラクトン環、スルチン環又はスルトン環を有することが好ましい。これにより、ロイコ化合物が有するラクトン環、スルチン環又はスルトン環を、光ラジカル重合開始剤から発生するラジカル又は光カチオン重合開始剤から発生する酸と反応させて、ロイコ化合物を閉環状態に変化させて消色させるか又はロイコ化合物を開環状態に変化させて発色させることができる。ロイコ化合物としては、ラクトン環、スルチン環又はスルトン環を有し、ラジカル又は酸により、ラクトン環、スルチン環又はスルトン環が開環して発色する化合物が好ましく、ラクトン環を有し、ラジカル又は酸によりラクトン環が開環して発色する化合物がより好ましい。

　色素Ｎとしては、例えば、染料及びロイコ化合物が挙げられる。
　染料としては、例えば、ブリリアントグリーン、エチルバイオレット、メチルグリーン、クリスタルバイオレット、ベイシックフクシン、メチルバイオレット２Ｂ、キナルジンレッド、ローズベンガル、メタニルイエロー、チモールスルホフタレイン、キシレノールブルー、メチルオレンジ、パラメチルレッド、コンゴーフレッド、ベンゾプルプリン４Ｂ、α－ナフチルレッド、ナイルブルー２Ｂ、ナイルブルーＡ、メチルバイオレット、マラカイトグリーン、パラフクシン、ビクトリアピュアブルー－ナフタレンスルホン酸塩、ビクトリアピュアブルーＢＯＨ（保土谷化学工業社製）、オイルブルー＃６０３（オリヱント化学工業社製）、オイルピンク＃３１２（オリヱント化学工業社製）、オイルレッド５Ｂ（オリヱント化学工業社製）、オイルスカーレット＃３０８（オリヱント化学工業社製）、オイルレッドＯＧ（オリヱント化学工業社製）、オイルレッドＲＲ（オリヱント化学工業社製）、オイルグリーン＃５０２（オリヱント化学工業社製）、スピロンレッドＢＥＨスペシャル（保土谷化学工業社製）、ｍ－クレゾールパープル、クレゾールレッド、ローダミンＢ、ローダミン６Ｇ、スルホローダミンＢ、オーラミン、４－ｐ－ジエチルアミノフェニルイミノナフトキノン、２－カルボキシアニリノ－４－ｐ－ジエチアミノフェニルイミノナフトキノン、２－カルボキシステアリルアミノ－４－ｐ－Ｎ，Ｎ－ビス（ヒドロキシエチル）アミノ－フェニルイミノナフトキノン、１－フェニル－３－メチル－４－ｐ－ジエチルアミノフェニルイミノ－５－ピラゾロン及び１－β－ナフチル－４－ｐ－ジエチルアミノフェニルイミノ－５－ピラゾロンが挙げられる。

　ロイコ化合物としては、例えば、ｐ，ｐ’，ｐ’’－ヘキサメチルトリアミノトリフェニルメタン（ロイコクリスタルバイオレット）、Ｐｅｒｇａｓｃｒｉｐｔ　Ｂｌｕｅ　ＳＲＢ（チバガイギー社製）、クリスタルバイオレットラクトン、マラカイトグリーンラクトン、ベンゾイルロイコメチレンブルー、２－（Ｎ－フェニル－Ｎ－メチルアミノ）－６－（Ｎ－ｐ－トリル－Ｎ－エチル）アミノフルオラン、２－アニリノ－３－メチル－６－（Ｎ－エチル－ｐ－トルイジノ）フルオラン、３，６－ジメトキシフルオラン、３－（Ｎ，Ｎ－ジエチルアミノ）－５－メチル－７－（Ｎ，Ｎ－ジベンジルアミノ）フルオラン、３－（Ｎ－シクロヘキシル－Ｎ－メチルアミノ）－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－（Ｎ，Ｎ－ジエチルアミノ）－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－（Ｎ，Ｎ－ジエチルアミノ）－６－メチル－７－キシリジノフルオラン、３－（Ｎ，Ｎ－ジエチルアミノ）－６－メチル－７－クロロフルオラン、３－（Ｎ，Ｎ－ジエチルアミノ）－６－メトキシ－７－アミノフルオラン、３－（Ｎ，Ｎ－ジエチルアミノ）－７－（４－クロロアニリノ）フルオラン、３－（Ｎ，Ｎ－ジエチルアミノ）－７－クロロフルオラン、３－（Ｎ，Ｎ－ジエチルアミノ）－７－ベンジルアミノフルオラン、３－（Ｎ，Ｎ－ジエチルアミノ）－７，８－ベンゾフロオラン、３－（Ｎ，Ｎ－ジブチルアミノ）－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－（Ｎ，Ｎ－ジブチルアミノ）－６－メチル－７－キシリジノフルオラン、３－ピペリジノ－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－ピロリジノ－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３，３－ビス（１－エチル－２－メチルインドール－３－イル）フタリド、３，３－ビス（１－ｎ－ブチル－２－メチルインドール－３－イル）フタリド、３，３－ビス（ｐ－ジメチルアミノフェニル）－６－ジメチルアミノフタリド、３－（４－ジエチルアミノ－２－エトキシフェニル）－３－（１－エチル－２－メチルインドール－３－イル）－４－ザフタリド、３－（４－ジエチルアミノフェニル）－３－（１－エチル－２－メチルインドール－３－イル）フタリド及び３’，６’－ビス（ジフェニルアミノ）スピロイソベンゾフラン－１（３Ｈ），９’－［９Ｈ］キサンテン－３－オンが挙げられる。

　色素Ｎは、露光部及び非露光部の視認性、現像後のパターン視認性及び解像性が優れる点から、ラジカルにより最大吸収波長が変化する色素であることが好ましく、ラジカルにより発色する色素であることがより好ましい。
　色素Ｎとしては、ロイコクリスタルバイオレット、クリスタルバイオレットラクトン、ブリリアントグリーン又はビクトリアピュアブルー－ナフタレンスルホン酸塩が好ましい。

　色素Ｎは、１種単独で用いてもよく、２種以上で用いてもよい。
　色素Ｎの含有量は、露光部及び非露光部の視認性、現像後のパターン視認性及び解像性が優れる点から、感光性組成物層の全質量に対して、０．１質量％以上が好ましく、０．１～１０質量％がより好ましく、０．１～５質量％が更に好ましく、０．１～１質量％が特に好ましい。

　色素Ｎの含有量は、感光性組成物層の全質量中に含まれる色素Ｎの全てを発色状態にした場合の色素の含有量を意味する。以下に、ラジカルにより発色する色素を例に、色素Ｎの含有量の定量方法を説明する。
　メチルエチルケトン１００ｍＬに、色素Ｎ０．００１ｇ及び０．０１ｇを溶かした溶液を調製する。得られた各溶液に、光ラジカル重合開始剤（Ｉｒｇａｃｕｒｅ　ＯＸＥ０１、ＢＡＳＦジャパン社製）を加え、波長３６５ｎｍの光を照射することによりラジカルを発生させ、全ての色素Ｎを発色状態にする。その後、大気雰囲気下で、分光光度計（ＵＶ３１００、島津製作所社製）を用いて、液温が２５℃である各溶液の吸光度を測定し、検量線を作成する。
　次に、色素Ｎに代えて感光性組成物層３ｇをメチルエチルケトンに溶かすこと以外は上記と同様の方法で、色素を全て発色させた溶液の吸光度を測定する。得られた感光性組成物層を含む溶液の吸光度から、検量線に基づいて感光性組成物層に含まれる色素Ｎの含有量を算出する。
　なお、感光性組成物層３ｇとは、感光性樹脂組成物中の全固形分の３ｇと同様である。

＜熱架橋性化合物＞
　感光性組成物層は、得られる硬化膜の強度及び得られる未硬化膜の粘着性の点から、熱架橋性化合物を含んでいてもよい。
　なお、本明細書においては、後述するエチレン性不飽和基を有する熱架橋性化合物は、重合性化合物としては扱わず、熱架橋性化合物として扱うものとする。
　熱架橋性化合物としては、例えば、メチロール化合物及びブロックイソシアネート化合物が挙げられる。なかでも、得られる硬化膜の強度及び得られる未硬化膜の粘着性の点から、ブロックイソシアネート化合物が好ましい。
　ブロックイソシアネート化合物は、ヒドロキシ基及びカルボキシ基と反応するため、例えば、樹脂及び／又は重合性化合物等が、ヒドロキシ基及びカルボキシ基の少なくとも一
方を有する場合、形成される膜の親水性が下がり、感光性組成物層を硬化した膜を保護膜として使用する場合の機能が強化される傾向がある。
　なお、ブロックイソシアネート化合物とは、「イソシアネートのイソシアネート基をブロック剤で保護（いわゆる、マスク）した構造を有する化合物」を意味する。

　ブロックイソシアネート化合物の解離温度としては、１００～１６０℃が好ましく、１３０～１５０℃がより好ましい。
　ブロックイソシアネートの解離温度とは、「示差走査熱量計を用いて、ＤＳＣ（Ｄｉｆｆｅｒｅｎｔｉａｌ　ｓｃａｎｎｉｎｇ　ｃａｌｏｒｉｍｅｔｒｙ）分析にて測定した場合における、ブロックイソシアネートの脱保護反応に伴う吸熱ピークの温度」を意味する。
　示差走査熱量計としては、例えば、セイコーインスツルメンツ社製の示差走査熱量計（型式：ＤＳＣ６２００）を好適に使用できる。ただし、示差走査熱量計は、これに限定されない。

　解離温度が１００～１６０℃であるブロック剤としては、例えば、活性メチレン化合物（マロン酸ジエステル（例えば、マロン酸ジメチル、マロン酸ジエチル、マロン酸ジｎ－ブチル及びマロン酸ジ２－エチルヘキシル等））、オキシム化合物（ホルムアルドオキシム、アセトアルドオキシム、アセトオキシム、メチルエチルケトオキシム及びシクロヘキサノンオキシム等の分子内に－Ｃ（＝Ｎ－ＯＨ）－で表される構造を有する化合物）が挙げられる。
　なかでも、解離温度が１００～１６０℃であるブロック剤としては、例えば、保存安定性の点から、オキシム化合物から選択される少なくとも１種が好ましい。

　ブロックイソシアネート化合物は、例えば、膜の脆性改良、被転写体との密着力向上の点から、イソシアヌレート構造を有することが好ましい。
　イソシアヌレート構造を有するブロックイソシアネート化合物は、例えば、ヘキサメチレンジイソシアネートをイソシアヌレート化して保護することにより得られる。
　なかでも、オキシム構造を有さない化合物よりも解離温度を好ましい範囲にしやすく、かつ、現像残渣を少なくしやすいという点からイソシアヌレート構造を有するブロックイソシアネート化合物としては、オキシム化合物をブロック剤として用いたオキシム構造を有する化合物が好ましい。

　ブロックイソシアネート化合物は、重合性基を有していてもよい。
　重合性基としては、特に制限はなく、公知の重合性基を用いることができ、ラジカル重合性基が好ましい。
　重合性基としては、（メタ）アクリロキシ基、（メタ）アクリルアミド基及びスチリル基等のエチレン性不飽和基並びにグリシジル基等のエポキシ基を有する基が挙げられる。
　なかでも、重合性基としては、エチレン性不飽和基が好ましく、（メタ）アクリロキシ基がより好ましく、アクリロキシ基が更に好ましい。

　ブロックイソシアネート化合物としては、例えば、カレンズ（登録商標）　ＡＯＩ－ＢＭ、カレンズ（登録商標）　ＭＯＩ－ＢＭ、カレンズ（登録商標）　ＭＯＩ－ＢＰ等（以上、昭和電工社製）、ブロック型のデュラネートシリーズ（例えば、デュラネート（登録商標）　ＴＰＡ－Ｂ８０Ｅ、デュラネート（登録商標）　ＷＴ３２－Ｂ７５Ｐ等及び旭化成ケミカルズ社製）が挙げられる。
　ブロックイソシアネート化合物として、例えば、下記の構造の化合物も挙げられる。

　熱架橋性化合物は、１種単独で用いてもよく、２種以上で用いてもよい。
　感光性組成物層が熱架橋性化合物を含む場合、熱架橋性化合物の含有量は、感光性組成物層の全質量に対して、１～５０質量％が好ましく、５～３０質量％がより好ましい。

＜顔料＞
　感光性組成物層は、顔料を含む着色樹脂層であってもよい。
　近年の電子機器が有する液晶表示窓には、液晶表示窓を保護するために、透明なガラス基板等の裏面周縁部に黒色の枠状遮光層が形成されたカバーガラスが取り付けられている場合がある。このような遮光層を形成するために着色樹脂層が使用され得る。
　顔料としては、所望とする色相に合わせて適宜選択すればよく、黒色顔料、白色顔料並びに黒色及び白色以外の有彩色の顔料の中から選択できる。なかでも、黒色系のパターンを形成する場合、顔料として黒色顔料が好適に選択される。

（黒色顔料）
　黒色顔料としては、本発明の効果を損なわない範囲であれば、公知の黒色顔料（有機顔料又は無機顔料等）を適宜選択することができる。
　なかでも、光学濃度の点から、黒色顔料としては、カーボンブラック、酸化チタン、チタンカーバイド、酸化鉄、酸化チタン又は黒鉛が好ましく、カーボンブラックがより好ましい。カーボンブラックとしては、表面抵抗の点から、表面の少なくとも一部が樹脂で被覆されたカーボンブラックが好ましい。

　黒色顔料の粒径（数平均粒径）は、分散安定性の点から、０．００１～０．１μｍが好ましく、０．０１～０．０８μｍがより好ましい。
　なお、粒径とは、電子顕微鏡で撮影した顔料粒子の写真像から顔料粒子の面積を求め、顔料粒子の面積と同面積の円を考えた場合の円の直径を指し、数平均粒径は、任意の１００個の粒子について上記粒径を求め、求められた１００個の粒径を平均して得られる平均値である。

　白色顔料としては、例えば、無機顔料、特開２００５－００７７６５号公報の段落［００１５］及び［０１１４］に記載の白色顔料が挙げられる。
　無機顔料としては、酸化チタン、酸化亜鉛、リトポン、軽質炭酸カルシウム、ホワイトカーボン、酸化アルミニウム、水酸化アルミニウム又は硫酸バリウムが好ましく、酸化チタン又は酸化亜鉛がより好ましく、酸化チタンが更に好ましく、ルチル型又はアナターゼ型の酸化チタンが特に好ましく、ルチル型の酸化チタンが最も好ましい。
　また、酸化チタンの表面は、シリカ処理、アルミナ処理、チタニア処理、ジルコニア処理又は有機物処理が施されていてもよく、２つ以上の処理が施されてもよい。これにより、酸化チタンの触媒活性が抑制され、耐熱性及び褪光性が改善される。
　加熱後の感光性組成物層の厚みを薄くする点から、酸化チタンの表面への表面処理としては、アルミナ処理及びジルコニア処理の少なくとも一方を施すことが好ましく、アルミナ処理及びジルコニア処理の両方を施すことがより好ましい。

　また、感光性組成物層が着色樹脂層である場合、転写性の点から、感光性組成物層は、黒色顔料及び白色顔料以外の有彩色の顔料を含むことも好ましい。有彩色の顔料を含む場合、有彩色の顔料の粒径としては、分散性がより優れる点で、０．１μｍ以下が好ましく、０．０８μｍ以下がより好ましい。下限は、１０ｎｍ以上が好ましい。
　有彩色の顔料としては、例えば、ビクトリア・ピュアーブルーＢＯ（Ｃｏｌｏｒ　Ｉｎｄｅｘ（以下Ｃ．Ｉ．）４２５９５）、オーラミン（Ｃ．Ｉ．４１０００）、ファット・ブラックＨＢ（Ｃ．Ｉ．２６１５０）、モノライト・エローＧＴ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・エロー１２）、パーマネント・エローＧＲ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・エロー１７）、パーマネント・エローＨＲ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・エロー８３）、パーマネント・カーミンＦＢＢ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１４６）、ホスターバームレッドＥＳＢ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・バイオレット１９）、パーマネント・ルビーＦＢＨ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１１）、ファステル・ピンクＢスプラ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド８１）、モナストラル・ファースト・ブルー（Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５）、モノライト・ファースト・ブラックＢ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブラック１）及びカーボン、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド９７、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１２２、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１４９、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１６８、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１７７、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１８０、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１９２、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド２１５、Ｃ．Ｉ．ピグメント・グリーン７、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５：１、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５：４、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー２２、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー６０、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー６４及びＣ．Ｉ．ピグメント・バイオレット２３が挙げられ、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１７７が好ましい。

　顔料は、１種単独で用いてもよく、２種以上で用いてもよい。
　感光性組成物層が顔料を含む場合、顔料の含有量としては、感光性組成物層の全質量に対して、３質量％超４０質量％以下が好ましく、３質量％超３５質量％以下がより好ましく、５質量％超３５質量％以下が更に好ましく、１０～３５質量％以下が特に好ましい。

　感光性組成物層が黒色顔料以外の顔料（白色顔料及び有彩色の顔料）を含む場合、黒色顔料以外の顔料の含有量は、黒色顔料の全質量に対して、３０質量％以下が好ましく、１～２０質量％がより好ましく、３～１５質量％が更に好ましい。

　感光性組成物層が黒色顔料を含む場合、黒色顔料（好ましくはカーボンブラック）は、顔料分散液の形態で感光性組成物に導入されることが好ましい。
　分散液は、黒色顔料と顔料分散剤とを事前に混合して得られる混合物を、有機溶剤（又はビヒクル）に加えて分散機で分散させることによって調製されるものであってもよい。顔料分散剤は、顔料及び溶剤に応じて選択すればよく、例えば、市販の分散剤を使用することができる。なお、ビヒクルとは、顔料分散液とした場合に顔料を分散させている媒質の部分を指し、液状であり、黒色顔料を分散状態で保持するバインダー成分と、バインダー成分を溶解及び希釈する溶剤成分（有機溶剤）とを含む。

　分散機としては、例えば、ニーダー、ロールミル、アトライター、スーパーミル、ディゾルバ、ホモミキサー及びサンドミル等の公知の分散機が挙げられる。
　また、機械的摩砕により摩擦力を利用して微粉砕してもよい。分散機及び微粉砕としては、例えば、「顔料の事典」（朝倉邦造著、第一版、朝倉書店、２０００年、４３８頁、３１０頁）の記載が挙げられる。

＜その他添加剤＞
　感光性組成物層は、上記成分以外に、必要に応じて公知の添加剤（その他添加剤）を含んでいてもよい。
　その他添加剤としては、例えば、ラジカル重合禁止剤、ベンゾトリアゾール類、カルボキシベンゾトリアゾール類、増感剤、界面活性剤、可塑剤、ヘテロ環状化合物（トリアゾール等）、ピリジン類（イソニコチンアミド等）及びプリン塩基（アデニン等）が挙げられる。
　また、その他添加剤としては、金属酸化物粒子、酸化防止剤、分散剤、酸増殖剤、現像促進剤、導電性繊維、紫外線吸収剤、増粘剤、架橋剤及び有機又は無機の沈殿防止剤、特開２０１４－０８５６４３号公報の段落［０１６５］～［０１８４］が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
　その他添加剤は、１種単独で用いてもよく、２種以上で用いてもよい。

（ラジカル重合禁止剤）
　ラジカル重合禁止剤としては、例えば、特許第４５０２７８４号公報の段落［００１８］に記載された熱重合防止剤が挙げられ、フェノチアジン、フェノキサジン又は４－メトキシフェノールが好ましい。
　ラジカル重合禁止剤としては、例えば、ナフチルアミン、塩化第一銅、ニトロソフェニルヒドロキシアミンアルミニウム塩及びジフェニルニトロソアミンが挙げられる。なかでも、感光性組成物層の感度を損なわない点から、ニトロソフェニルヒドロキシアミンアルミニウム塩が好ましい。
　ラジカル重合禁止剤は、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用することもできる。
　感光性組成物層がラジカル重合禁止剤を含む場合、ラジカル重合禁止剤の含有量は、感光性組成物層の全質量に対して、０．００１～５．０質量％が好ましく、０．０１～３．０質量％がより好ましく、０．０２～２．０質量％が更に好ましい。
　ラジカル重合禁止剤の含有量は、重合性化合物の全質量に対して、０．００５～５．０質量％が好ましく、０．０１～３．０質量％がより好ましく、０．０１～１．０質量％が更に好ましい。

（ベンゾトリアゾール類）
　ベンゾトリアゾール類としては、例えば、１，２，３－ベンゾトリアゾール、１－クロロ－１，２，３－ベンゾトリアゾール、ビス（Ｎ－２－エチルヘキシル）アミノメチレン－１，２，３－ベンゾトリアゾール、ビス（Ｎ－２－エチルヘキシル）アミノメチレン－１，２，３－トリルトリアゾール及びビス（Ｎ－２－ヒドロキシエチル）アミノメチレン－１，２，３－ベンゾトリアゾールが挙げられる。

（カルボキシベンゾトリアゾール類）
　カルボキシベンゾトリアゾール類としては、例えば、４－カルボキシ－１，２，３－ベンゾトリアゾール、５－カルボキシ－１，２，３－ベンゾトリアゾール、Ｎ－（Ｎ，Ｎ－ジ－２－エチルヘキシル）アミノメチレンカルボキシベンゾトリアゾール、Ｎ－（Ｎ，Ｎ－ジ－２－ヒドロキシエチル）アミノメチレンカルボキシベンゾトリアゾール及びＮ－（Ｎ，Ｎ－ジ－２－エチルヘキシル）アミノエチレンカルボキシベンゾトリアゾールが挙げられる。
　カルボキシベンゾトリアゾール類としては、具体的には、ＣＢＴ－１（城北化学工業株式会社、商品名）が挙げられる。

　ラジカル重合禁止剤、ベンゾトリアゾ－ル類及びカルボキシベンゾトリアゾ－ル類の合計含有量は、感光性組成物層の全質量に対して、０．０１～３質量％が好ましく、０．０５～１質量％がより好ましい。上記含有量が０．０１質量％以上である場合、感光性組成物層の保存安定性がより優れる。一方、上記含有量が３質量％以下である場合、感度の維持及び染料の脱色を抑制がより優れる。

（増感剤）
　増感剤としては、例えば、公知の増感剤、染料及び顔料が挙げられる。
　増感剤としては、例えば、ジアルキルアミノベンゾフェノン化合物、ピラゾリン化合物、アントラセン化合物、クマリン化合物、キサントン化合物、チオキサントン化合物、アクリドン化合物、オキサゾール化合物、ベンゾオキサゾール化合物、チアゾール化合物、ベンゾチアゾール化合物、トリアゾール化合物（例えば、１，２，４－トリアゾール）、スチルベン化合物、トリアジン化合物、チオフェン化合物、ナフタルイミド化合物、トリアリールアミン化合物及びアミノアクリジン化合物が挙げられる。

　感光性組成物層が増感剤を含む場合、増感剤の含有量は、光源に対する感度の向上及び重合速度と連鎖移動のバランスによる硬化速度の向上の点から、感光性組成物層の全質量に対して、０．０１～５質量％が好ましく、０．０５～１質量％がより好ましい。

（界面活性剤）
　界面活性剤としては、例えば、特許第４５０２７８４号公報の段落［００１７］及び特開２００９－２３７３６２号公報の段落［００６０］～［００７１］に記載の界面活性剤が挙げられる。

　界面活性剤としては、ノニオン系界面活性剤、フッ素系界面活性剤又はシリコーン系界面活性剤が好ましい。
　フッ素系界面活性剤としては、例えば、メガファック　Ｆ－１７１、Ｆ－１７２、Ｆ－１７３、Ｆ－１７６、Ｆ－１７７、Ｆ－１４１、Ｆ－１４２、Ｆ－１４３、Ｆ－１４４、Ｆ－４３７、Ｆ－４７５、Ｆ－４７７、Ｆ－４７９、Ｆ－４８２、Ｆ－５５１－Ａ、Ｆ－５５２、Ｆ－５５４、Ｆ－５５５－Ａ、Ｆ－５５６、Ｆ－５５７、Ｆ－５５８、Ｆ－５５９、Ｆ－５６０、Ｆ－５６１、Ｆ－５６５、Ｆ－５６３、Ｆ－５６８、Ｆ－５７５、Ｆ－７８０、ＥＸＰ．ＭＦＳ－３３０、ＥＸＰ．ＭＦＳ－５７８、ＥＸＰ．ＭＦＳ－５７８－２、ＥＸＰ．ＭＦＳ－５７９、ＥＸＰ．ＭＦＳ－５８６、ＥＸＰ．ＭＦＳ－５８７、ＥＸＰ．ＭＦＳ－６２８、ＥＸＰ．ＭＦＳ－６３１、ＥＸＰ．ＭＦＳ－６０３、Ｒ－４１、Ｒ－４１－ＬＭ、Ｒ－０１、Ｒ－４０、Ｒ－４０－ＬＭ、ＲＳ－４３、ＴＦ－１９５６、ＲＳ－９０、Ｒ－９４及びＤＳ－２１（以上、ＤＩＣ社製）；フロラード　ＦＣ４３０、ＦＣ４３１及びＦＣ１７１（以上、住友スリーエム社製）；サーフロンＳ－３８２、ＳＣ－１０１、ＳＣ－１０３、ＳＣ－１０４、ＳＣ－１０５、ＳＣ－１０６８、ＳＣ－３８１、ＳＣ－３８３、Ｓ－３９３及びＫＨ－４０（以上、ＡＧＣ社製）、ＰｏｌｙＦｏｘ　ＰＦ６３６、ＰＦ６５６、ＰＦ６３２０、ＰＦ６５２０及びＰＦ７００２（以上、ＯＭＮＯＶＡ社製）；フタージェント　７１０ＦＬ、７１０ＦＭ、６１０ＦＭ、６０１ＡＤ、６０１ＡＤＨ２、６０２Ａ、２１５Ｍ、２４５Ｆ、２５１、２１２Ｍ、２５０、２０９Ｆ、２２２Ｆ、２０８Ｇ、７１０ＬＡ、７１０ＦＳ、７３０ＬＭ、６５０ＡＣ、６８１及び６８３（以上、ＮＥＯＳ社製）；Ｕ－１２０Ｅ（ユニケム株式会社）が挙げられる。

　また、フッ素系界面活性剤としては、フッ素原子を含有する官能基を持つ分子構造を有し、熱を加えるとフッ素原子を含有する官能基の部分が切断されてフッ素原子が揮発するアクリル系化合物も好ましい。
　このようなフッ素系界面活性剤としては、例えば、ＤＩＣ社製のメガファック　ＤＳシリーズ（化学工業日報（２０１６年２月２２日）及び日経産業新聞（２０１６年２月２３日））が挙げられる。
　また、フッ素系界面活性剤としては、フッ素化アルキル基又はフッ素化アルキレンエーテル基を有するフッ素原子含有ビニルエーテル化合物と、親水性のビニルエーテル化合物との重合体を用いることも好ましい。
　また、フッ素系界面活性剤としては、ブロックポリマーも使用できる。
　また、フッ素系界面活性剤としては、フッ素原子を有する（メタ）アクリレート化合物に由来する構成単位と、アルキレンオキシ基（好ましくはエチレンオキシ基、プロピレンオキシ基）を２以上（好ましくは５以上）有する（メタ）アクリレート化合物に由来する構成単位と、を含む含フッ素高分子化合物も好ましい。
　また、フッ素系界面活性剤としては、例えば、エチレン性不飽和結合含有基を側鎖に有する含フッ素重合体も使用でき、メガファック　ＲＳ－１０１、ＲＳ－１０２、ＲＳ－７１８Ｋ及びＲＳ－７２－Ｋ（以上、ＤＩＣ社製）が挙げられる。

　フッ素系界面活性剤としては、環境適性向上の点から、パーフルオロオクタン酸（ＰＦＯＡ）及びパーフルオロオクタンスルホン酸（ＰＦＯＳ）等の炭素数が７以上の直鎖状パーフルオロアルキル基を有する化合物の代替材料に由来する界面活性剤が好ましい。

　ノニオン系界面活性剤としては、例えば、グリセロール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン並びにそれらのエトキシレート及びプロポキシレート（例えば、グリセロールプロポキシレート、グリセロールエトキシレート等）、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリエチレングリコールジラウレート、ポリエチレングリコールジステアレート、ソルビタン脂肪酸エステル；プルロニック（登録商標）　Ｌ１０、Ｌ３１、Ｌ６１、Ｌ６２、１０Ｒ５、１７Ｒ２及び２５Ｒ２（以上、ＢＡＳＦ社製）；テトロニック　３０４、７０１、７０４、９０１、９０４及び１５０Ｒ１、ＨＹＤＲＯＰＡＬＡＴ　ＷＥ　３３２３（以上、ＢＡＳＦ社製）；ソルスパース　２００００（以上、日本ルーブリゾール社製）；ＮＣＷ－１０１、ＮＣＷ－１００１及びＮＣＷ－１００２（以上、富士フイルム和光純薬社製）；パイオニン　Ｄ－１１０５、Ｄ－６１１２、Ｄ－６１１２－Ｗ及びＤ－６３１５（以上、竹本油脂社製）；オルフィンＥ１０１０、サーフィノール１０４、４００及び４４０（以上、日信化学工業社製）が挙げられる。

　シリコーン系界面活性剤としては、例えば、シロキサン結合からなる直鎖状ポリマー、並びに、側鎖及び／又は末端に有機基を導入した変性シロキサンポリマーが挙げられる。

　シリコーン系界面活性剤としては、具体的には、ＥＸＰ．Ｓ－３０９－２、ＥＸＰ．Ｓ－３１５、ＥＸＰ．Ｓ－５０３－２、ＥＸＰ．Ｓ－５０５－２（以上、ＤＩＣ株式会社製）、ＤＯＷＳＩＬ　８０３２　ＡＤＤＩＴＩＶＥ、トーレシリコーンＤＣ３ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ７ＰＡ、トーレシリコーンＤＣ１１ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ２１ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ２８ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ２９ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ３０ＰＡ及びトーレシリコーンＳＨ８４００（以上、東レ・ダウコーニング社製）；Ｘ－２２－４９５２、Ｘ－２２－４２７２、Ｘ－２２－６２６６、ＫＦ－３５１Ａ、Ｋ３５４Ｌ、ＫＦ－３５５Ａ、ＫＦ－９４５、ＫＦ－６４０、ＫＦ－６４２、ＫＦ－６４３、Ｘ－２２－６１９１、Ｘ－２２－４５１５、ＫＦ－６００４、ＫＰ－３４１、ＫＦ－６００１及びＫＦ－６００２ＫＰ－１０１ＫＰ－１０３、ＫＰ－１０４、ＫＰ－１０５、ＫＰ－１０６、ＫＰ－１０９、ＫＰ－１０９、ＫＰ－１１２、ＫＰ－１２０、ＫＰ－１２１、ＫＰ－１２４、ＫＰ－１２５、ＫＰ－３０１、ＫＰ－３０６、ＫＰ－３１０、ＫＰ－３２２、ＫＰ－３２３、ＫＰ－３２７、ＫＰ－３４１、ＫＰ－３６８、ＫＰ－３６９、ＫＰ－６１１、ＫＰ－６２０、ＫＰ－６２１、ＫＰ－６２６及びＫＰ－６５２（以上、信越シリコーン社製）；Ｆ－４４４０、ＴＳＦ－４３００、ＴＳＦ－４４４５、ＴＳＦ－４４６０及びＴＳＦ－４４５２（以上、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製）；ＢＹＫ３００、ＢＹＫ３０６、ＢＹＫ３０７、ＢＹＫ３１０、ＢＹＫ３２０、ＢＹＫ３２３、ＢＹＫ３２５、ＢＹＫ３３０、ＢＹＫ３１３、ＢＹＫ３１５Ｎ、ＢＹＫ３３１、ＢＹＫ３３３、ＢＹＫ３４５、ＢＹＫ３４７、ＢＹＫ３４８、ＢＹＫ３４９、ＢＹＫ３７０、ＢＹＫ３７７、ＢＹＫ３７８及びＢＹＫ３２３（以上、ビックケミー社製）が挙げられる。

　感光性組成物層が界面活性剤を含む場合、界面活性剤の含有量は、感光性組成物層の全質量に対して、０．０１～３．０質量％が好ましく、０．０１～１．０質量％がより好ましく、０．０５～０．８質量％が更に好ましい。

　可塑剤及びヘテロ環状化合物としては、例えば、国際公開第２０１８／１７９６４０号の段落［００９７］～［０１０３］及び段落［０１１１］～［０１１８］に記載された化合物が挙げられる。

＜不純物＞
　感光性組成物層は、不純物を含んでいてもよい。
　不純物としては、例えば、金属不純物又はそのイオン、ハロゲン化物イオン、残存有機溶剤、残存モノマー及び水が挙げられる。

（金属不純物及びハロゲン化物イオン）
　金属不純物としては、例えば、ナトリウム、カリウム、マグネシウム、カルシウム、鉄、マンガン、銅、アルミニウム、チタン、クロム、コバルト、ニッケル、亜鉛、スズ及びこれらのイオン、並びに、ハロゲン化物イオンが挙げられる。なかでも、ナトリウムイオン、カリウムイオン、及び、ハロゲン化物イオンは、混入し易いため、下記の含有量にすることが好ましい。
　金属不純物は、上記粒子（例えば、金属酸化物）とは異なる化合物である。

　金属不純物の含有量は、感光性組成物層の全質量に対して、８０質量ｐｐｍ以下が好ましく、１０質量ｐｐｍ以下がより好ましく、２質量ｐｐｍ以下が更に好ましい。下限は特に制限されないが、感光性組成物層の全質量に対して、１質量ｐｐｂ以上が好ましく、０．１質量ｐｐｍ以上がより好ましい。

　不純物の含有量を調整する方法としては、例えば、感光性組成物層の原料として不純物の含有量が少ないものを選択する方法、感光性組成物層の形成時に不純物の混入を防ぐ方法及び洗浄して除去する方法が挙げられる。
　不純物の含有量は、例えば、ＩＣＰ発光分光分析法、原子吸光分光法及びイオンクロマトグラフィー法等の公知の方法により定量できる。

（残存有機溶剤）
　残存有機溶剤としては、例えば、ベンゼン、ホルムアルデヒド、トリクロロエチレン、１，３－ブタジエン、四塩化炭素、クロロホルム、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド及びヘキサンが挙げられる。
　残存有機溶剤の含有量は、感光性組成物層の全質量に対して、１００質量ｐｐｍ以下が好ましく、２０質量ｐｐｍ以下がより好ましく、４質量ｐｐｍ以下が更に好ましい。下限は特に制限されないが、１０質量ｐｐｂ以上が好ましく、１００質量ｐｐｂ以上がより好ましい。
　残存有機溶剤の含有量は、上記金属の不純物と同様の方法より調製できる。また、残存有機溶剤の含有量は、例えば、ガスクロマトグラフィー分析等の公知の方法により定量できる。

（残存モノマー）
　感光性組成物層は、上述した樹脂の各構成単位の残存モノマーを含む場合がある。
　残存モノマーの含有量は、パターニング性及び信頼性の点から、樹脂の全質量に対して、５０００質量ｐｐｍ以下が好ましく、２０００質量ｐｐｍ以下がより好ましく、５００質量ｐｐｍ以下が更に好ましい。下限は特に制限されないが、樹脂の全質量に対して、１質量ｐｐｍ以上が好ましく、１０質量ｐｐｍ以上がより好ましい。
　アルカリ可溶性樹脂の各構成単位の残存モノマーは、パターニング性及び信頼性の点から、感光性組成物層の全質量に対して、３０００質量ｐｐｍ以下が好ましく、６００質量ｐｐｍ以下がより好ましく、１００質量ｐｐｍ以下が更に好ましい。下限は特に制限されないが、感光性組成物層の全質量に対して、０．１質量ｐｐｍ以上が好ましく、１質量ｐｐｍ以上がより好ましい。

　高分子反応でアルカリ可溶性樹脂を合成する際のモノマーの残存モノマー量も、上記範囲とすることが好ましい。例えば、カルボン酸側鎖にアクリル酸グリシジルを反応させてアルカリ可溶性樹脂を合成する場合、アクリル酸グリシジルの含有量を上記範囲にすることが好ましい。
　残存モノマーの量は、液体クロマトグラフィー及びガスクロマトグラフィー等の公知の方法で測定できる。

　感光性組成物層における水の含有量は、信頼性及びラミネート性を向上させる点から、０．０１～１．０質量％が好ましく、０．０５～０．５質量％がより好ましい。

〔感光性組成物層の特性〕
　感光性組成物層の厚み（膜厚）としては、０．１～３００μｍの場合が多く、０．２～１００μｍが好ましく、０．５～５０μｍがより好ましく、０．５～３０μｍが更に好ましく、１～２０μｍが特に好ましい。これにより、感光性組成物層の現像性が向上し、解像性を向上できる。

　感光性組成物層中の二重結合の含有量は、０．８～３．０ｍｍｏｌ／ｇが好ましく、１．０～３．０ｍｍｏｌ／ｇがより好ましく、１．２～２．０ｍｍｏｌ／ｇが更に好ましい。

　感光性組成物層の酸価は、１０～１５０ｍｇＫＯＨ／ｇが好ましく、４０～１００ｍｇＫＯＨ／ｇがより好ましく、５０～１００ｍｇＫＯＨ／ｇが更に好ましく、本発明の効果がより優れる点から、５０～９０ｍｇＫＯＨ／ｇが特に好ましく、７０～９０ｍｇＫＯＨ／ｇが最も好ましい。
　上記酸価の測定方法としては、例えば、上述した樹脂における酸価の測定方法、及び、酸価が既知の樹脂の含有量から算出する方法が挙げられる。

〔中間層〕
　本発明の転写フィルムは、中間層を有する。
　中間層としては、例えば、水溶性樹脂層及び特開平５－０７２７２４号公報に「分離層」として記載される酸素遮断機能のある酸素遮断層が挙げられる。
　中間層としては、露光時の感度が向上して露光機の時間負荷が低減し、生産性が向上する点から、酸素遮断層が好ましい。
　転写フィルムが酸素遮断層を有する場合、転写フィルムの感光性組成物層に対して露光した際に、重合反応が円滑に進行しやすくなり、硬化層の弾性率Ｘが好適範囲に成り得る。その結果、得られるパターン形状が良好になる。
　上記酸素遮断層としては、上記公報等に記載された公知の層から適宜選択できる。
　なかでも、低い酸素透過性を示し、水又はアルカリ水溶液（２２℃の炭酸ナトリウムの１質量％水溶液）に分散又は溶解する酸素遮断層が好ましい。
　以下、水溶性樹脂層（中間層）が含み得る各成分について説明する。

＜水溶性樹脂＞
　中間層は、水溶性樹脂を含むことが好ましい。
　水溶性樹脂としては、例えば、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリビニルピロリドン系樹脂、セルロース系樹脂、ポリエーテル系樹脂、ゼラチン及びポリアミド樹脂が挙げられる。

　セルロース系樹脂としては、例えば、水溶性セルロース誘導体が挙げられる。
　水溶性セルロース誘導体としては、例えば、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、カルボキシメチルセルロース、メチルセルロース及びエチルセルロースが挙げられる。

　ポリエーテル系樹脂としては、例えば、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール及びこれらのアルキレンオキシサイド付加物、並びに、ビニルエーテル系樹脂が挙げられる。
　ポリアミド系樹脂としては、例えば、アクリルアミド系樹脂、ビニルアミド系樹脂及びアリルアミド系樹脂が挙げられる。
　なかでも、水溶性樹脂としては、水溶性セルロース誘導体又はポリアミド系樹脂が好ましい。

　また、水溶性樹脂としては、例えば、（メタ）アクリル酸／ビニル化合物の共重合体も挙げられる。（メタ）アクリル酸／ビニル化合物の共重合体としては、（メタ）アクリル酸／（メタ）アクリル酸アリルの共重合体が好ましく、メタクリル酸／メタクリル酸アリルの共重合体がより好ましい。水溶性樹脂が（メタ）アクリル酸／ビニル化合物の共重合体である場合、各組成比（モル％）としては、９０／１０～２０／８０が好ましく、８０／２０～３０／７０がより好ましい。

　水溶性樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）としては、５，０００以上が好ましく、７，０００以上がより好ましく、１０，０００以上が更に好ましい。上限は、２００，０００以下が好ましく、１００，０００以下がより好ましく、５０，０００以下が更に好ましい。
　水溶性樹脂の分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）は、１～１０が好ましく、１～５がより好ましい。

　水溶性樹脂は、１種単独で用いてもよく、２種以上で用いてもよい。
　水溶性樹脂の含有量は、本発明の効果がより優れる点及び／又は酸素遮断能がより優れる点から、中間層の全質量に対して、５０質量％以上が好ましく、７０質量％以上がより好ましい。上限は、１００質量％以下が好ましく、９９．９質量％以下がより好ましく、９９．８質量％以下が更に好ましく、９９質量％以下が特に好ましい。

＜その他成分＞
　中間層は、上記樹脂以外に、その他成分を含んでいてもよい。
　その他成分の分子量は、５，０００未満が好ましく、４，０００以下がより好ましく、３，０００以下が更に好ましく、２，０００以下が特に好ましく、１，５００以下が最も好ましい。下限は、６０以上が好ましい。

　その他成分としては、多価アルコール類、多価アルコール類のアルキレンオキサイド付加物、フェノール誘導体又はアミド化合物が好ましく、多価アルコール類、フェノール誘導体又はアミド化合物がより好ましい。

　多価アルコール類としては、例えば、グリセリン、ジグリセリン及びジエチレングリコールが挙げられる。
　多価アルコール類が含む水酸基の個数は、２～１０個が好ましい。
　多価アルコール類のアルキレンオキサイド付加物としては、例えば、上述した多価アルコール類にエチレンオキサイド及びプロピレンオキサイド等を付加した化合物が挙げられる。なお、平均付加数は、１～１００が好ましく、２～５０が好ましく、２～２０がより好ましい。
　フェノール誘導体としては、例えば、ビスフェノールＡ及びビスフェノールＳが挙げられる。
　アミド化合物としては、Ｎ－メチルピロリドンが挙げられる。

　中間層は、多価アルコール類、多価アルコール類のオキサイド付加物、フェノール誘導体、アミド化合物、水溶性セルロース誘導体、ポリエーテル系樹脂及びポリアミド系樹脂からなる群から選択される少なくとも１種を含むことが好ましい。

　中間層の厚みは、３．０μｍ以下が好ましく、２．０μｍ以下がより好ましい。下限は、１．０μｍ以上が好ましい。

　その他成分は、１種単独で用いてもよく、２種以上で用いてもよい。
　その他成分の含有量は、中間層の全質量に対して、０．１質量％以上が好ましく、０．５質量％以上がより好ましく、１質量％以上が更に好ましい。上限は、３０質量％未満が好ましく、１０質量％以下がより好ましく、５質量％以下が更に好ましい。

〔熱可塑性樹脂層〕
　本発明の転写フィルムは、熱可塑性樹脂層を有していてもよい。
　熱可塑性樹脂層は、通常、仮支持体と感光性組成物層との間に配置される。転写フィルムが熱可塑性樹脂層を備えることで、転写フィルムと基板との貼合工程における基板への追従性が向上して、基板と転写フィルムとの間の気泡の混入を抑制できる。この結果として、熱可塑性樹脂層に隣接する層（例えば、仮支持体）との密着性を担保できる。
　また、熱可塑性樹脂層としては、例えば、特開２０１４－０８５６４３号公報の段落［０１８９］～［０１９３］が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。

　熱可塑性樹脂層の厚み（層厚）は、隣接する層との密着性の点から、１μｍ以上が好ましく、２μｍ以上がより好ましい。上限は、現像性及び解像性の点から、２０μｍ以下が好ましく、１０μｍ以下がより好ましく、８μｍ以下が更に好ましい。

＜熱可塑性樹脂＞
　熱可塑性樹脂層は、熱可塑性樹脂を含むことが好ましい。
　熱可塑性樹脂としては、アルカリ可溶性樹脂が好ましい。
　アルカリ可溶性樹脂としては、例えば、アクリル樹脂、ポリスチレン樹脂、スチレン－アクリル系共重合体、ポリウレタン樹脂、ポリビニルアルコール、ポリビニルホルマール、ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、エポキシ樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリヒドロキシスチレン樹脂、ポリイミド樹脂、ポリベンゾオキサゾール樹脂、ポリシロキサン樹脂、ポリエチレンイミン、ポリアリルアミン及びポリアルキレングリコールが挙げられる。

　アルカリ可溶性樹脂としては、現像性及び隣接する層との密着性の点から、アクリル樹脂が好ましい。
　ここで、アクリル樹脂は、（メタ）アクリル酸に由来する構成単位、（メタ）アクリル酸エステルに由来する構成単位及び（メタ）アクリル酸アミドに由来する構成単位からなる群から選択される少なくとも１種の構成単位を有する樹脂を意味する。
　アクリル樹脂において、（メタ）アクリル酸に由来する構成単位、（メタ）アクリル酸エステルに由来する構成単位及び（メタ）アクリル酸アミドに由来する構成単位の合計含有量は、アクリル樹脂の全質量に対して、５０質量％以上が好ましい。上限は、アクリル樹脂の全質量に対して、１００質量％以下が好ましい。
　なかでも、（メタ）アクリル酸に由来する構成単位及び（メタ）アクリル酸エステルに由来する構成単位の合計含有量が、アクリル樹脂の全質量に対して、３０～１００質量％が好ましく、５０～１００質量％がより好ましい。

　アルカリ可溶性樹脂としては、酸基を有する重合体が好ましい。
　酸基としては、例えば、カルボキシ基、スルホ基、リン酸基及びホスホン酸基が挙げられ、カルボキシ基が好ましい。
　アルカリ可溶性樹脂の酸価は、現像性の点から、６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上が好ましい。上限は、３００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下が好ましく、２５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下がより好ましく、２００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下が更に好ましく、１５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下が特に好ましい。
　なかでも、アルカリ可溶性樹脂としては、６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上アルカリ可溶性樹脂が好ましく、酸価６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上のカルボキシ基含有アクリル樹脂がより好ましい。

　酸価６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上のカルボキシ基含有アクリル樹脂としては、特に制限されないが、公知の樹脂から適宜選択して使用できる。
　例えば、特開２０１１－０９５７１６号公報の段落［００２５］に記載のポリマーのうち酸価６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上のカルボキシ基含有アクリル樹脂であるアルカリ可溶性樹脂、特開２０１０－２３７５８９号公報の段落［００３３］～［００５２］に記載のポリマーのうちの酸価６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上のカルボキシ基含有アクリル樹脂及び特開２０１６－２２４１６２号公報の段落［００５３］～［００６８］に記載の樹脂のうちの酸価６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上のカルボキシ基含有アクリル樹脂が挙げられる。
　上記カルボキシ基含有アクリル樹脂におけるカルボキシ基を有する構成単位の共重合比は、アクリル樹脂の全質量に対して、５～５０質量％が好ましく、１０～４０質量％がより好ましく、１２～３０質量％が更に好ましい。
　アルカリ可溶性樹脂としては、現像性及び隣接する層との密着性の点から、（メタ）アクリル酸に由来する構成単位を有するアクリル樹脂が特に好ましい。

　アルカリ可溶性樹脂は、反応性基を有していてもよい。
　反応性基としては、付加重合可能な基であればよく、エチレン性不飽和基；ヒドロキシ基及びカルボキシ基等の重縮合性基；エポキシ基、（ブロック）イソシアネート基等の重付加反応性基が挙げられる。

　アルカリ可溶性樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は、１，０００以上が好ましく、１０，０００～１００，０００より好ましく、２０，０００～５０，０００が更に好ましい。

　アルカリ可溶性樹脂は、１種単独で用いてもよく、２種以上で用いてもよい。
　アルカリ可溶性樹脂の含有量は、現像性及び隣接する層との密着性の点から、熱可塑性樹脂層の全質量に対して、１０～９９質量％が好ましく、２０～９０質量％がより好ましく、４０～８０質量％が更に好ましく、５０～７５質量％が特に好ましい。

＜色素＞
　熱可塑性樹脂層は、発色時の波長範囲４００～７８０ｎｍにおける最大吸収波長が４５０ｎｍ以上であり、酸、塩基又はラジカルにより最大吸収波長が変化する色素（以下、単に「色素Ｂ」ともいう。）を含むことが好ましい。
　色素Ｂの好適態様は、後述する点以外は、上述した色素Ｎの好適態様と同じである。

　色素Ｂとしては、露光部及び非露光部の視認性並びに解像性の点から、酸又はラジカルにより最大吸収波長が変化する色素が好ましく、酸により最大吸収波長が変化する色素がより好ましい。
　熱可塑性樹脂層は、露光部及び非露光部の視認性並びに解像性の点から、色素Ｂとしての酸により最大吸収波長が変化する色素及び後述する光により酸を発生する化合物の両者を含むことが好ましい。

　色素Ｂは、１種単独で用いてもよく、２種以上で用いてもよい。
　色素Ｂの含有量は、露光部及び非露光部の視認性の点から、熱可塑性樹脂層の全質量に対して、０．２質量％以上が好ましく、０．２～６．０質量％がより好ましく、０．２～５．０質量％が更に好ましく、０．２５～３．０質量％が特に好ましい。

　ここで、色素Ｂの含有量は、熱可塑性樹脂層に含まれる色素Ｂの全てを発色状態にした場合の色素の含有量を意味する。以下に、ラジカルにより発色する色素を例に、色素Ｂの含有量の定量方法を説明する。
　メチルエチルケトン１００ｍＬに、色素Ｂ０．００１ｇ及び０．０１ｇを溶かした溶液を調製する。得られた各溶液に、光ラジカル重合開始剤（Ｉｒｇａｃｕｒｅ　ＯＸＥ０１、ＢＡＳＦジャパン社製）を加え、波長３６５ｎｍの光を照射することによりラジカルを発生させ、全ての色素Ｂを発色状態にする。その後、大気雰囲気下で、分光光度計（ＵＶ３１００、島津製作所社製）を用いて、液温が２５℃である各溶液の吸光度を測定し、検量線を作成する。
　次に、色素Ｂに代えて熱可塑性樹脂層０．１ｇをメチルエチルケトンに溶かすこと以外は上記と同様の方法で、色素を全て発色させた溶液の吸光度を測定する。得られた熱可塑性樹脂層を含む溶液の吸光度から、検量線に基づいて熱可塑性樹脂層に含まれる色素Ｂの量を算出する。
　なお、熱可塑性樹脂層３ｇとは、組成物の固形分の３ｇと同様である。

＜光により酸、塩基又はラジカルを発生する化合物＞
　熱可塑性樹脂層は、光により酸、塩基又はラジカルを発生する化合物（以下、単に「化合物Ｃ」ともいう。）を含んでいてもよい。
　化合物Ｃとしては、紫外線及び可視光線等の活性光線を受けて、酸、塩基又はラジカルを発生する化合物が好ましい。
　化合物Ｃとしては、例えば、公知の、光酸発生剤、光塩基発生剤及び光ラジカル重合開始剤（光ラジカル発生剤）が挙げられる。

（光酸発生剤）
　熱可塑性樹脂層は、解像性の点から、光酸発生剤を含んでいてもよい。
　光酸発生剤としては、例えば、上述した感光性組成物層に含まれ得る光カチオン重合開始剤が挙げられ、後述する点以外は、好適態様も同じである。

　光酸発生剤としては、感度及び解像性の点から、オニウム塩化合物及びオキシムスルホネート化合物からなる群から選択される少なくとも１種の化合物を含むことが好ましく、感度、解像性及び密着性の点から、オキシムスルホネート化合物を含むことがより好ましい。
　また、光酸発生剤としては、以下の構造を有する光酸発生剤も好ましい。

（光ラジカル重合開始剤）
　熱可塑性樹脂層は、光ラジカル重合開始剤を含んでいてもよい。
　光ラジカル重合開始剤としては、例えば、上述した感光性組成物層に含まれ得る光ラジカル重合開始剤が挙げられ、好適態様も同じである。

（光塩基発生剤）
　熱可塑性樹脂組成物は、光塩基発生剤を含んでいてもよい。
　光塩基発生剤としては、例えば、公知の光塩基発生剤が挙げられる。
　具体的には、２－ニトロベンジルシクロヘキシルカルバメート、トリフェニルメタノール、Ｏ－カルバモイルヒドロキシルアミド、Ｏ－カルバモイルオキシム、［［（２，６－ジニトロベンジル）オキシ］カルボニル］シクロヘキシルアミン、ビス［［（２－ニトロベンジル）オキシ］カルボニル］ヘキサン１，６－ジアミン、４－（メチルチオベンゾイル）－１－メチル－１－モルホリノエタン、（４－モルホリノベンゾイル）－１－ベンジル－１－ジメチルアミノプロパン、Ｎ－（２－ニトロベンジルオキシカルボニル）ピロリジン、ヘキサアンミンコバルト（ＩＩＩ）トリス（トリフェニルメチルボレート）、２－ベンジル－２－ジメチルアミノ－１－（４－モルホリノフェニル）－ブタノン、２，６－ジメチル－３，５－ジアセチル－４－（２－ニトロフェニル）－１，４－ジヒドロピリジン及び２，６－ジメチル－３，５－ジアセチル－４－（２，４－ジニトロフェニル）－１，４－ジヒドロピリジンが挙げられる。

　化合物Ｃは、１種単独で用いてもよく、２種以上で用いてもよい。
　化合物Ｃの含有量は、露光部及び非露光部の視認性並びに解像性の点から、熱可塑性樹脂層の全質量に対して、０．１～１０質量％が好ましく、０．５～５質量％がより好ましい。

＜可塑剤＞
　熱可塑性樹脂層は、解像性、隣接する層との密着性及び現像性の点から、可塑剤を含むことが好ましい。
　可塑剤は、アルカリ可溶性樹脂よりも分子量（オリゴマー又はポリマーであり分子量分布を有する場合は重量平均分子量）が小さいことが好ましい。可塑剤の分子量（重量平均分子量）は、２００～２，０００が好ましい。
　可塑剤は、アルカリ可溶性樹脂と相溶して可塑性を発現する化合物であれば特に制限されないが、可塑性付与の点から、可塑剤は、分子中にアルキレンオキシ基を有することが好ましく、ポリアルキレングリコール化合物がより好ましい。可塑剤に含まれるアルキレンオキシ基は、ポリエチレンオキシ構造又はポリプロピレンオキシ構造を有することがより好ましい。

　また、可塑剤は、解像性及び保存安定性の点から、（メタ）アクリレート化合物を含むことが好ましい。相溶性、解像性及び隣接する層との密着性の点から、アルカリ可溶性樹脂がアクリル樹脂であり、かつ、可塑剤が（メタ）アクリレート化合物を含むことがより好ましい。
　可塑剤として用いられる（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、上述した感光性組成物層に含まれ得る重合性化合物として記載した（メタ）アクリレート化合物が挙げられる。
　転写フィルムにおいて、熱可塑性樹脂層と感光性組成物層とが直接接触して積層される場合、熱可塑性樹脂層及び感光性組成物層がいずれも同じ（メタ）アクリレート化合物を含むことが好ましい。同じ（メタ）アクリレート化合物を熱可塑性樹脂層及び感光性組成物層がそれぞれ含むことで、層間の成分拡散が抑制され、保存安定性が向上するためである。

　熱可塑性樹脂層が可塑剤として（メタ）アクリレート化合物を含む場合、熱可塑性樹脂層と隣接する層との密着性の点から、露光後の露光部においても（メタ）アクリレート化合物が重合しないことが好ましい。
　また、可塑剤として用いられる（メタ）アクリレート化合物としては、熱可塑性樹脂層の解像性、隣接する層との密着性及び現像性の点から、１分子中に２つ以上の（メタ）アクリロイル基を有する多官能（メタ）アクリレート化合物が好ましい。
　更に、可塑剤として用いられる（メタ）アクリレート化合物としては、酸基を有する（メタ）アクリレート化合物又はウレタン（メタ）アクリレート化合物も好ましい。

　可塑剤は、１種単独で用いてもよく、２種以上で用いてもよい。
　可塑剤の含有量は、熱可塑性樹脂層の解像性、隣接する層との密着性及び現像性の点から、熱可塑性樹脂層の全質量に対して、１～７０質量％が好ましく、１０～６０質量％がより好ましく、２０～５０質量％が更に好ましい。

＜増感剤＞
　熱可塑性樹脂層は、増感剤を含んでいてもよい。
　増感剤としては、特に制限されないが、上述した感光性組成物層に含まれ得る増感剤が挙げられる。

　増感剤は、１種単独で用いてもよく、２種以上で用いてもよい。
　増感剤の含有量は、光源に対する感度の向上並びに露光部及び非露光部の視認性の点から、熱可塑性樹脂層の全質量に対して、０．０１～５質量％が好ましく、０．０５～１質量％がより好ましい。

＜その他添加剤＞
　熱可塑性樹脂層は、上記成分以外に、必要に応じてその他添加剤を含んでいてもよい。
　その他添加剤としては、例えば、上述した感光性組成物層に含まれ得るその他添加剤が挙げられる。

＜不純物＞
　熱可塑性樹脂層は、不純物を含んでいてもよい。
　不純物としては、例えば、上述した感光性組成物層に含まれ得る不純物が挙げられる。

〔その他部材〕
　本発明の転写フィルムは、上述した部材以外に、その他部材を有していてもよい。
　その他部材としては、例えば、保護フィルムが挙げられる。

（保護フィルム）
　保護フィルムとしては、耐熱性及び耐溶剤性を有する樹脂フィルムを用いることができ、例えば、ポリプロピレンフィルム及びポリエチレンフィルム等のポリオレフィンフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム等のポリエステルフィルム、ポリカーボネートフィルム、並びに、ポリスチレンフィルムが挙げられる。
　また、保護フィルムとしては、上述した仮支持体と同じ材料で構成された樹脂フィルムを用いてもよい。
　なかでも、保護フィルムとしては、ポリオレフィンフィルムが好ましく、ポリプロピレンフィルム又はポリエチレンフィルムがより好ましく、ポリエチレンフィルムが更に好ましい。

　保護フィルムの厚みは、１～１００μｍが好ましく、５～５０μｍがより好ましく、５～４０μｍが更に好ましく、１５～３０μｍが特に好ましい。
　保護フィルムの厚みは、機械的強度に優れる点で、１μｍ以上が好ましく、比較的安価である点で、１００μｍ以下が好ましい。

　保護フィルムは、保護フィルム中に含まれる直径８０μｍ以上のフィッシュアイ数が、５個／ｍ^２以下であることが好ましい。
　「フィッシュアイ」とは、材料を熱溶融し、混練、押し出し、２軸延伸及びキャスティング法等の方法によりフィルムを製造する際に、材料の異物、未溶解物及び酸化劣化物等がフィルム中に取り込まれたものを意味する。

　保護フィルムに含まれる直径３μｍ以上の粒子の数は、３０個／ｍｍ^２以下が好ましく、１０個／ｍｍ^２以下がより好ましく、５個／ｍｍ^２以下が更に好ましい。下限は、０個／ｍｍ^２以上が好ましい。これらの範囲内である場合、保護フィルムに含まれる粒子に起因する凹凸が感光性組成物層又は導電層に転写されることにより生じる欠陥を抑制することができる。

　巻き取り性を付与する点から、保護フィルムの感光性組成物層と接する面とは反対側の表面の算術平均粗さＲａは、０．０１μｍ以上が好ましく、０．０２μｍ以上がより好ましく、０．０３μｍ以上が更に好ましい。上限は、０．５０μｍ未満が好ましく、０．４０μｍ以下がより好ましく、０．３０μｍ以下が更に好ましい。
　保護フィルムの感光性組成物層と接する面の表面粗さＲａは、転写時の欠陥抑制の点から、０．０１μｍ以上が好ましく、０．０２μｍ以上がより好ましく、０．０３μｍ以上が更に好ましい。上限は、０．５０μｍ未満が好ましく、０．４０μｍ以下がより好ましく、０．３０μｍ以下が更に好ましい。

［転写フィルムの製造方法］
　転写フィルムの製造方法は、特に制限されないが、公知の方法を使用できる。
　上記転写フィルム１０の製造方法としては、例えば、仮支持体１１の表面に水溶性樹脂組成物を塗布して塗膜を形成し、更にこの塗膜を乾燥して中間層１３を形成する工程と、中間層１３の表面に感光性組成物を塗布して塗膜を形成し、更にこの塗膜を乾燥して感光性組成物層１５を形成する工程と、を含む方法が挙げられる。
　また、上記中間層１３を形成する工程の前に、仮支持体１１の表面に熱可塑性樹脂組成物を塗布して塗膜を形成し、更にこの塗膜を乾燥して熱可塑性樹脂層を形成する工程を含んでいてもよい。

　上述した製造方法により製造された積層体の感光性組成物層１５上に、保護フィルム１９を圧着させることにより、転写フィルム１０が製造される。
　転写フィルムの製造方法としては、感光性組成物層１５の仮支持体１１を有する側とは反対側の面に接するように保護フィルム１９を設ける工程を含むことにより、仮支持体１１、中間層１３、感光性組成物層１５及び保護フィルム１９を備える転写フィルム１０を製造することが好ましい。また、転写フィルムの製造方法としては、感光性組成物層１５の仮支持体１１を有する側とは反対側の面に接するように保護フィルム１９を設ける工程を含むことにより、仮支持体１１、熱可塑性樹脂層、中間層１３、感光性組成物層１５及び保護フィルム１９を備える転写フィルムであってもよい。
　上記製造方法により転写フィルム１０を製造した後、転写フィルム１０を巻き取ることにより、ロール形態の転写フィルムを作製及び保管してもよい。ロール形態の転写フィルムは、後述するロールツーロール方式での基板との貼合工程にそのままの形態で提供できる。

　また、上記転写フィルム１０の製造方法としては、保護フィルム１９上に、感光性組成物層１５及び中間層１３を形成した後、中間層１３の表面に熱可塑性樹脂層を形成してもよい。

〔感光性組成物及び感光性組成物層の形成方法〕
　上述した感光性組成物層を構成する成分（例えば、樹脂、重合性化合物及び重合開始剤等）及び溶剤を含む感光性組成物を用いて塗布法によって形成されることが好ましい。
　転写フィルムの製造方法としては、具体的には、中間層上に感光性組成物を塗布して塗膜を形成し、この塗膜に所定温度にて乾燥処理を施して感光性組成物層を形成する方法が好ましい。なお、塗膜の乾燥処理によって残存溶剤量が調整される。

　感光性組成物としては、上述した感光性組成物層を形成する各種成分と溶剤とを含むことが好ましい。なお、感光性組成物において、感光性組成物の全固形分に対する各成分の含有量の好適範囲は、上述した感光性組成物層の全質量に対する各成分の含有量の好適範囲と同じである。
　溶剤としては、溶剤以外の各成分を溶解又は分散可能であれば特に制限されないが、公知の溶剤を使用できる。具体的には、例えば、アルキレングリコールエーテル溶剤、アルキレングリコールエーテルアセテート溶剤、アルコール溶剤（メタノール及びエタノール等）、ケトン溶剤（アセトン及びメチルエチルケトン等）、芳香族炭化水素溶剤（トルエン等）、非プロトン性極性溶剤（Ｎ，Ｎ-ジメチルホルムアミド等）、環状エーテル溶剤（テトラヒドロフラン等）、エステル溶剤（酢酸ｎプロピル等）、アミド溶剤、ラクトン溶剤、並びに、これらの２種以上を含む混合溶剤が挙げられる。

　溶剤は、アルキレングリコールエーテル溶剤及びアルキレングリコールエーテルアセテート溶剤からなる群から選択される少なくとも１種を含むことが好ましい。
　なかでも、アルキレングリコールエーテル溶剤及びアルキレングリコールエーテルアセテート溶剤からなる群より選択される少なくとも１種と、ケトン溶剤及び環状エーテル溶剤からなる群から選択される少なくとも１種とを含む混合溶剤がより好ましく、アルキレングリコールエーテル溶剤及びアルキレングリコールエーテルアセテート溶剤からなる群から選択される少なくとも１種、ケトン溶剤並びに環状エーテル溶剤の３種を少なくとも含む混合溶剤が更に好ましい。

　アルキレングリコールエーテル溶剤としては、例えば、エチレングリコールモノアルキルエーテル、エチレングリコールジアルキルエーテル、プロピレングリコールモノアルキルエーテル（例えば、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等）、プロピレングリコールジアルキルエーテル、ジエチレングリコールジアルキルエーテル、ジプロピレングリコールモノアルキルエーテル及びジプロピレングリコールジアルキルエーテルが挙げられる。
　アルキレングリコールエーテルアセテート溶剤としては、例えば、エチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート及びジプロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテートが挙げられる。
　溶剤としては、例えば、国際公開第２０１８／１７９６４０号の段落［００９２］～［００９４］に記載された溶剤及び特開２０１８－１７７８８９号公報の段落［００１４］に記載された溶剤が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
　溶剤を、１種単独で用いてもよく、２種以上で用いてもよい。
　溶剤の含有量は、組成物の全固形分１００質量部に対して、５０～１９００質量部が好ましく、１００～１２００質量部がより好ましく、１００～９００質量部が更に好ましい。

　感光性組成物の塗布方法としては、例えば、印刷法、スプレー法、ロールコート法、バーコート法、カーテンコート法、スピンコート法及びダイコート法（スリットコート法）が挙げられる。

　感光性組成物の塗膜の乾燥方法としては、加熱乾燥及び減圧乾燥が好ましい。
　乾燥温度としては、９０℃以上が好ましく、１００℃以上がより好ましく、１１０℃以上が更に好ましい。上限は、１３０℃以下が好ましく、１２０℃以下がより好ましい。また、温度を連続的に変化させて乾燥させることもできる。
　乾燥時間としては、２０秒以上が好ましく、４０秒以上がより好ましく、６０秒以上が更に好ましい。上限は、６００秒以下が好ましく、４５０秒以下がより好ましく、３００秒以下が更に好ましい。

　更に、保護フィルムを感光性組成物層に貼り合わせることにより、転写フィルムを製造してもよい。
　保護フィルムを感光性組成物層に貼り合わせる方法としては、例えば、公知の方法が挙げられる。
　保護フィルムを感光性組成物層に貼り合わせる装置としては、真空ラミネーター及びオートカットラミネーター等の公知のラミネーターが挙げられる。
　ラミネーターは、ゴムローラー等の任意の加熱可能なローラーを備え、加圧及び加熱ができるものであることが好ましい。

〔水溶性樹脂組成物及び中間層（水溶性樹脂層）の形成方法〕
　水溶性樹脂組成物としては、上述した中間層（水溶性樹脂層）を形成する各種成分と溶剤とを含むことが好ましい。なお、水溶性樹脂組成物において、組成物の全固形分に対する各成分の含有量の好適範囲は、上述した水溶性樹脂層の全質量に対する各成分の含有量の好適範囲と同じである。
　溶剤としては、水溶性樹脂を溶解又は分散可能であれば特に制限されないが、水及び水混和性の有機溶剤からなる群より選択される少なくとも１種が好ましく、水又は水と水混和性の有機溶剤との混合溶剤がより好ましい。
　水混和性の有機溶剤としては、例えば、炭素数１～３のアルコール、アセトン、エチレングリコール及びグリセリンが挙げられ、炭素数１～３のアルコールが好ましく、メタノール又はエタノールがより好ましい。
　溶剤を、１種単独で用いてもよく、２種以上で用いてもよい。
　溶剤の含有量は、組成物の全固形分１００質量部に対して、５０～２５００質量部が好ましく、５０～１９００質量部がより好ましく、１００～９００質量部が更に好ましい。

　水溶性樹脂層の形成方法は、上記成分を含む層を形成可能な方法であれば特に制限されないが、例えば、公知の塗布方法（スリット塗布、スピン塗布、カーテン塗布及びインクジェット塗布）が挙げられる。

〔熱可塑性樹脂層形成用組成物及び熱可塑性樹脂層の形成方法〕
　仮支持体上に熱可塑性樹脂層を形成する方法としては特に制限されないが、公知の方法が使用できる。例えば、仮支持体上に熱可塑性樹脂層形成用組成物を塗布し、そして、必要に応じて乾燥させることにより形成できる。
　熱可塑性樹脂層形成用組成物としては、上述した熱可塑性樹脂層を形成する各種成分と溶剤とを含むことが好ましい。なお、熱可塑性樹脂層形成用組成物において、組成物の全固形分に対する各成分の含有量の好適範囲は、上述した熱可塑性樹脂層の全質量に対する各成分の含有量の好適範囲と同じである。
　溶剤としては、溶剤以外の各成分を溶解又は分散可能であれば特に制限されないが、公知の溶剤を使用できる。溶剤としては、後述する感光性組成物が含む溶剤と同様のものが挙げられ、好適態様も同じである。
　溶剤の含有量は、組成物の全固形分１００質量部に対して、５０～１９００質量部が好ましく、１００～９００質量部がより好ましい。

　熱可塑性樹脂層の形成方法は、上記成分を含む層を形成可能な方法であれば特に制限されないが、例えば、公知の塗布方法（スリット塗布、スピン塗布、カーテン塗布及びインクジェット塗布等）が挙げられる。

　以下に実施例に基づいて本発明を更に詳細に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容及び処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す実施例により限定的に解釈されるべきものではない。なお、「部」及び「％」は、特に断りのない限り、質量基準である。
　また、以下の実施例において、樹脂の重量平均分子量は、上述したゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）によるポリスチレン換算で求めた重量平均分子量（Ｍｗ）である。また、酸価は、理論酸価を用いた。

〔樹脂〕
＜樹脂Ａ１の合成＞
　３つ口フラスコにプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ、６７．０質量部）を入れ、窒素雰囲気下において９０℃に昇温した。ＭＡＡ（２０．０質量部）、Ｓｔ（５２．０質量部）、ＭＭＡ（２８．０質量部）、Ｖ－６０１（４．０質量部）及びＰＧＭＥＡ（３３．０質量部）を加えた溶液を、９０℃±２℃に維持した上記フラスコ溶液中に２時間かけて滴下した。滴下終了後、上記フラスコ内の溶液を９０℃±２℃にて１時間撹拌した。Ｖ－６０１（１．０質量部）及びＰＧＭＥＡ（３３．０質量部）を加えた溶液を、９０℃±２℃に維持した上記フラスコ溶液中に３０分かけて滴下した。滴下終了後、上記フラスコ内の溶液を９０℃±２℃にて１時間攪拌し、ＰＧＭＥＡ（１００．０質量部）を加え希釈することで、樹脂Ａ１（固形分濃度３０．０質量％）を得た。また、上記樹脂Ａ１の合成方法を参考に、樹脂Ａ２～Ａ６（いずれの樹脂の固形分濃度３０．０質量％）を得た。

　以下、表１において、樹脂Ａ１～Ａ６を示す。
　表１中、各構成単位（質量％）を形成するためのモノマーの略称で示す。
　樹脂Ａ１～Ａ６は、アルカリ可溶性樹脂に該当する。

　表１中、各記載は以下を示す。
　ＭＡＡ：メタクリル酸（富士フイルム和光純薬社製）
　ＭＭＡ：メチルメタクリレート（富士フイルム和光純薬社製）
　ＥＭＡ：エチルメタクリレート（富士フイルム和光純薬社製）
　Ｓｔ：スチレン（富士フイルム和光純薬社製）
　ＢｚＭＡ：ベンジルメタクリレート（富士フイルム和光純薬社製）

〔感光性組成物〕
　下記表２に示す成分及び配合の各感光性組成物を調製した。
　表２中、各成分欄に記載の数値は、各成分の含有量（質量部）を表す。ただし、「樹脂」の欄における各樹脂の量は、樹脂溶液（固形分濃度３０質量％）の量を意味する。

＜重合性化合物＞
　エトキシ化ビスフェノールＡジメタクリレート
　エトキシ化（３）トリメチロールプロパントリアクリレート
　４－ノルマルオクチルフェノキシペンタエチレングリコールモノプロピレングリコールアクリレート
　エチレンオキシドプロピレンオキシド変性ウレタンジメタクリレート

＜光重合開始剤＞
　２－（ｏ－クロロフェニル）－４，５－ジフェニルイミダゾール

＜増感剤＞
　４，４－ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン

＜発色剤＞
　ロイコクリスタルバイオレット

＜溶剤＞
　アセトン
　トルエン
　メタノール

〔中間層形成用組成物〕
　下記の各成分を用いて中間層形成用組成物１を調製した。
・４－８８　ＬＡ（６７．８６質量％）：クラレ社製、ポリビニルアルコール
・ＰＶＰ　Ｋ３０（３１．０６質量％）：富士フイルム社製、ポリビニルピロリドン
・メトローズ　６０ＳＨ０３（１．００質量％）：信越化学工業社製、水溶性セルロース誘導体
・Ｆ４４４（０．０８質量％）：ＤＩＣ社製、界面活性剤

〔転写フィルム〕
　表３に示す構成となるように、仮支持体、中間層及び感光性組成物層から構成される各転写フィルムを作製した。具体的には以下のとおりである。
　まず、仮支持体（厚み１６μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（ルミラー１６ＫＳ４０、東レ社製））の上に、上述した中間層を形成するための中間層形成用組成物１を、バーコーターを用いて、乾燥後の厚みが１．０μｍになるように塗布し、オーブンを用いて９０℃で乾燥させ、中間層を形成した。
　更に、中間層の上に、表３に示す感光性組成物層を形成するための感光性組成物を、バーコーターを用いて表３に示す乾燥後の厚みになるように塗布し、オーブンを用いて８０℃で乾燥させ、ネガ型感光性組成物層を形成した。
　得られたネガ型感光性組成物層上に、厚み１６μｍのポリエチレンテレフタレート（１６ＫＳ４０、東レ社製）を圧着し、実施例及び比較例の転写フィルムを作製した。

〔測定及び評価〕
＜弾性率＞
　弾性率Ｘ及び弾性率Ｙの測定は、上述した方法にて測定した。

＜パターン形状（裾広がり形状）＞
　上記で作製した転写フィルムの保護フィルムを剥離し、露出した感光性組成物層の表面を、ガラス上にＮｉメッキ（厚み１００ｎｍ）を施した導電層を有する基板上に、ラミネート（ラミネート条件：基材温度８０℃、ゴムローラー温度１１０℃、線圧３Ｎ／ｃｍ、搬送速度２ｍ／ｍｉｎ）して、積層体を得た。
　次に、得られた積層体から仮支持体を剥離し、ライン（μｍ）／スペース（μｍ）が１／１のパターンを有するフォトマスクを、得られた積層体の中間層側の表面に密着させた。高圧水銀灯露光機（ＭＡＰ－１２００Ｌ、大日本科研社製、主波長：３６５ｎｍ）を用いて光を照射して、感光性組成物層を１００ｍＪ／ｃｍ^２で露光した。その後、液温が２５℃の炭酸ナトリウム水溶液を用いて３０秒間のシャワー現像をすることによってパターンを形成した。得られたパターンの断面形状を走査型電子顕微鏡により観察して、各パターンの側面において、パターンの上面部（基板側とは反対の面）からはみ出した部分（図１の裾広がり部分）の長さを裾長さとし、最も長い裾長さを用いて、以下の評価基準に従ってパターン形状を評価した。
　Ａ：裾長さが、０．３μｍ以下
　Ｂ：裾長さが、０．３μｍ超０．５μｍ以下
　Ｃ：裾長さが、０．５μｍ超

＜パターン密着性＞
　上記で作製した転写フィルムの保護フィルムを剥離し、露出した感光性組成物層の表面を、ガラス上にＮｉメッキ（厚み１００ｎｍ）を施した導電性基板上に、ラミネート（ラミネート条件：基材温度８０℃、ゴムローラー温度１１０℃、線圧３Ｎ／ｃｍ、搬送速度２ｍ／ｍｉｎ）して、積層体を得た。
　次に、得られた積層体から仮支持体を剥離し、ライン（μｍ）／スペース（μｍ）が１／１のパターンを有するフォトマスクを、得られた積層体の中間層側の表面に密着させた。高圧水銀灯露光機（ＭＡＰ－１２００Ｌ、大日本科研社製、主波長：３６５ｎｍ）を用いて光を照射して、感光性組成物層を１００ｍＪ／ｃｍ^２で露光した。その後、液温が２５℃の炭酸ナトリウム水溶液を用いて３０秒間のシャワー現像をすることによってパターンを形成した。得られたパターンを走査型電子顕微鏡で観察を行い、パターンの剥がれがなく、端部の浮きがない最小の線幅をパターン密着性（μｍ）として評価した。

＜解像性＞
　上記で作製した転写フィルムの保護フィルムを剥離し、露出した感光性組成物層の表面を、ガラス上にＮｉメッキ（厚み１００ｎｍ）を施した導電性基板上に、ラミネート（ラミネート条件：基材温度８０℃、ゴムローラー温度１１０℃、線圧３Ｎ／ｃｍ、搬送速度２ｍ／ｍｉｎ）して、積層体を得た。
　次に、得られた積層体から仮支持体を剥離し、ライン（μｍ）／スペース（μｍ）が１／１のパターンを有するフォトマスクを、得られた積層体の中間層側の表面に密着させた。高圧水銀灯露光機（ＭＡＰ－１２００Ｌ、大日本科研社製、主波長：３６５ｎｍ）を用いて光を照射して、感光性組成物層を１００ｍＪ／ｃｍ^２で露光した。その後、液温が２５℃の炭酸ナトリウム水溶液を用いて３０秒間のシャワー現像をすることによってパターンを形成した。得られたパターンが分解し得る最小線幅を解像度（μｍ）とし、解像性を評価した。

＜現像残渣抑制性＞
　上記＜解像性＞と同様にパターンを形成し、得られたライン／スペースのパターンを走査型電子顕微鏡観察によるスペース部の残渣の厚みの測定と、目視での観察とを行い、以下の基準で現像残渣抑制性の評価した。
　Ａ：スペース部の残渣厚みが５０ｎｍ以下、かつ、目視で残渣が見られない
　Ｂ：スペース部の残渣厚みが５０ｎｍ以下、かつ、目視で残渣が見られる
　Ｃ：スペース部の残渣厚みが５０ｎｍ超

　表３に評価結果を示す。
　表３中、各記載は以下を示す。
　「Ｍ／Ｂ」の欄は、樹脂の含有量に対する２官能以上の重合性化合物の含有量の質量比（２官能以上の重合性化合物の含有量／樹脂の含有量）を示す。
　「Ｘ／Ｙ」の欄は、弾性率Ｙに対する弾性率Ｘの比（弾性率Ｘ／弾性率Ｙ）を示す。
　「Ｔｇ」は、感光性組成物層に含まれる樹脂のＴｇを示す。
　「Ｍ／Ｂ」、「二重結合の含有量」及び「酸価」は、感光性組成物層の各値を示す。

　表３の結果から、本発明の積層体の製造方法によれば、パターン形状に優れ、かつ、パターン密着性にも優れることが確認された。
　上述した測定Ｙで求められる弾性率Ｙが３．５ＭＰａ以下である場合、現像残渣抑制性がより優れることが確認された（実施例２と実施例１との比較）。
　弾性率Ｙに対する弾性率Ｘの比が１５００～１００００である場合、現像残渣抑制がより優れることが確認された（実施例２と実施例１との比較）。
　感光性組成物層中の二重結合の含有量が、１．０～３．０ｍｍｏｌ／ｇである場合、パターン形状がより優れることが確認された（実施例１～２と実施例５との比較）
　樹脂のガラス転移温度Ｔｇが、９０～１５０℃である場合、パターン形状がより優れることが確認された（実施例１～２と実施例６との比較）。
　感光性組成物層の酸価が、５０～９０ｍｇＫＯＨ／ｇである場合、パターン形状がより優れることが確認された（実施例１～２と実施例４との比較）
　樹脂の含有量に対する２官能以上の重合性化合物の含有量の質量比が０．６０～１．００である場合、パターン形状がより優れることが確認された（実施例１～２と実施例３との比較）

１　　基板
２　　パターン（硬化層）
３　　裾広がり部分
１０　転写フィルム
１１　　仮支持体
１３　　中間層
１５　　感光性組成物層
１７　　組成物層
１９　　保護フィルム

Claims

　仮支持体と、中間層と、感光性組成物層とをこの順で有する転写フィルムの前記感光性組成物層の前記中間層側とは反対側の表面を基板に接触させ、前記転写フィルムと前記基板とを貼合する貼合工程と、
　前記仮支持体と前記中間層との間で、前記仮支持体を剥離する剥離工程と、
　前記感光性組成物層をパターン露光する露光工程と、
　露光された前記感光性組成物層を、現像液を用いて現像してパターンを形成する現像工程とを有し、
　測定Ｘで求められる弾性率Ｘが、１．０～１０．０ＧＰａである、積層体の製造方法。
　測定Ｘ：前記転写フィルムの前記感光性組成物層の前記中間層側とは反対側の表面を前記基板に接触させ、前記転写フィルムと前記基板とを貼り合わせて、得られた積層体から前記仮支持体と前記中間層との間で前記仮支持体を剥離して、露出した中間層側から前記感光性組成物層を全面露光して、前記露出した中間層を剥離して、その後、露出した硬化層の弾性率を測定し、弾性率Ｘとする。
　測定Ｙで求められる弾性率Ｙが、３．５ＭＰａ以下である、請求項１に記載の積層体の製造方法。
　測定Ｙ：前記転写フィルムの前記感光性組成物層の弾性率を測定し、弾性率Ｙとする。
　前記弾性率Ｙに対する前記弾性率Ｘの比が、１５００～１００００である、請求項２に記載の積層体の製造方法。
　前記感光性組成物層中の二重結合の含有量が、１．０～３．０ｍｍｏｌ／ｇである、請求項１～３のいずれか１項に記載の積層体の製造方法。
　前記感光性組成物層が、樹脂を含み、
　前記樹脂のガラス転移温度Ｔｇが、９０～１５０℃である、請求項１～４のいずれか１項に記載の積層体の製造方法。
　前記感光性組成物層の酸価が、５０～１００ｍｇＫＯＨ／ｇである、請求項１～５のいずれか１項に記載の積層体の製造方法。
　前記感光性組成物層が、２官能以上の重合性化合物及び樹脂を含み、
　前記樹脂の含有量に対する前記２官能以上の重合性化合物の含有量の質量比が、０．６０～１．００である、請求項１～６のいずれか１項に記載の積層体の製造方法。
　前記中間層が、多価アルコール類、多価アルコール類のオキサイド付加物、フェノール誘導体、アミド化合物、水溶性セルロース誘導体、ポリエーテル系樹脂及びポリアミド系樹脂からなる群から選択される少なくとも１種を含む、請求項１～７のいずれか１項に記載の積層体の製造方法。
　前記感光性組成物層の厚みが、１～２０μｍである、請求項１～８のいずれか１項に記載の積層体の製造方法。
　前記中間層の厚みが、３．０μｍ以下である、請求項１～９のいずれか１項に記載の積層体の製造方法。
　前記露光工程が、前記露出した中間層とマスクとを接触させてパターン露光する露光工程である、請求項１～１０のいずれか１項に記載の積層体の製造方法。
　仮支持体と、中間層と、感光性組成物層とをこの順で有する転写フィルムの前記感光性組成物層の前記中間層側とは反対側の表面を導電層を有する基板に接触させ、前記転写フィルムと前記基板とを貼合する貼合工程と、
　前記仮支持体と前記中間層との間で、前記仮支持体を剥離する剥離工程と、
　前記感光性組成物層をパターン露光する露光工程と、
　露光された前記感光性組成物層を、現像液を用いて現像してパターンを形成する現像工程と、
　前記パターンが配置されていない領域における前記導電層をエッチング処理するエッチング工程とを有し、
　測定Ｘで求められる弾性率Ｘが、１．０～１０．０ＧＰａである、回路配線の製造方法。
　測定Ｘ：前記転写フィルムの前記感光性組成物層の前記中間層側とは反対側の表面を前記基板に接触させ、前記転写フィルムと前記基板とを貼り合わせて、得られた積層体から前記仮支持体と前記中間層との間で前記仮支持体を剥離して、露出した中間層側から前記感光性組成物層を全面露光して、前記露出した中間層を剥離して、その後、露出した硬化層の弾性率を測定し、弾性率Ｘとする。
　仮支持体と、中間層と、感光性組成物層とをこの順で有し、
　前記感光性組成物層をパターン露光する露光工程が施される、転写フィルムであって、
　測定Ｘで求められる弾性率Ｘが、１．０～１０．０ＧＰａである、転写フィルム。
　測定Ｘ：前記転写フィルムの前記感光性組成物層の前記中間層側とは反対側の表面を基板に接触させ、前記転写フィルムと前記基板とを貼り合わせて、得られた積層体から前記仮支持体と前記中間層との間で前記仮支持体を剥離して、露出した中間層側から前記感光性組成物層を全面露光して、前記露出した中間層を剥離して、その後、露出した硬化層の弾性率を測定し、弾性率Ｘとする。
　測定Ｙで求められる弾性率Ｙが、３．５ＭＰａ以下である、請求項１３に記載の転写フィルム。
　測定Ｙ：前記転写フィルムの前記感光性組成物層の弾性率を測定し、弾性率Ｙとする。
　前記弾性率Ｙに対する前記弾性率Ｘの比が、１５００～１００００である、請求項１４に記載の転写フィルム。
　前記感光性組成物層中の二重結合の含有量が、１．０～３．０ｍｍｏｌ／ｇである、請求項１３～１５のいずれか１項に記載の転写フィルム。
　前記感光性組成物層が、樹脂を含み、
　前記樹脂のガラス転移温度Ｔｇが、９０～１５０℃である、請求項１３～１６のいずれか１項に記載の転写フィルム。
　前記感光性組成物層の酸価が、５０～１００ｍｇＫＯＨ／ｇである、請求項１３～１７のいずれか１項に記載の転写フィルム。
　前記感光性組成物層が、２官能以上の重合性化合物及び樹脂を含み、
　前記樹脂の含有量に対する前記２官能以上の重合性化合物の含有量の質量比が、０．６０～１．００である、請求項１３～１８のいずれか１項に記載の転写フィルム。
　前記中間層が、多価アルコール類、多価アルコール類のオキサイド付加物、フェノール誘導体、アミド化合物、水溶性セルロース誘導体、ポリエーテル系樹脂及びポリアミド系樹脂からなる群から選択される少なくとも１種を含む、請求項１３～１９のいずれか１項に記載の転写フィルム。
　前記感光性組成物層の厚みが、１～２０μｍである、請求項１３～２０のいずれか１項に記載の転写フィルム。
　前記中間層の厚みが、３．０μｍ以下である、請求項１３～２１のいずれか１項に記載の転写フィルム。