WO2022039103A1 - 抗菌方法及び抗菌装置 - Google Patents

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WO2022039103A1
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聡彦 山本
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シャープ株式会社
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    • A61L2209/212—Use of ozone, e.g. generated by UV radiation or electrical discharge

Definitions

  • the present invention relates to an antibacterial method and an antibacterial device.
  • Patent Document 1 discloses an example of a safety cabinet that forms a clean space.
  • sterilization treatment In order to maintain a clean space, it is necessary to perform sterilization treatment at a good timing for cell culture.
  • a sterilization treatment a treatment using formalin, a peracetic acid preparation, hydrogen peroxide, ultraviolet rays, or the like is generally performed.
  • a sterilization treatment is harmful to the human body, it is necessary to ensure that there is no residue of the substance used in the sterilization treatment before the operator enters the clean space after the sterilization treatment. Contamination may occur in the clean space during the time required to ensure that there is no substance residue, or when an operator enters the clean space.
  • the present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to provide an antibacterial method and an antibacterial device capable of maintaining a good hygienic environment in a target space.
  • the antibacterial method includes at least two antibacterial treatment steps and an ion treatment step.
  • the antibacterial treatment step at least one of light having an antibacterial action, a gas having an antibacterial action, and liquid particles having an antibacterial action is sent out toward a target space.
  • the ion treatment step ions are sent toward the target space.
  • the start time of the ion treatment step is included from the start time of the antibacterial treatment step to before the start time of the next antibacterial treatment step, and the end time of the ion treatment step is the above. The time after the end time of the antibacterial treatment process.
  • the antibacterial device includes an antibacterial unit, an ion unit, and a control unit.
  • the antibacterial unit sends at least one of light having an antibacterial action, a gas having an antibacterial action, and liquid particles having an antibacterial action toward the target space.
  • the ion unit sends ions toward the target space.
  • the control unit controls the antibacterial unit and the ion unit.
  • the hygienic environment of the target space can be maintained well.
  • FIG. 1 It is a figure which shows the structure of the antibacterial system which concerns on Embodiment 1 of this invention. It is a flowchart which shows the antibacterial method which concerns on Embodiment 1. It is a figure which shows the structure of the antibacterial system which concerns on Embodiment 1. FIG. It is a time table which shows the antibacterial method which concerns on Embodiment 1. It is a flowchart which shows the antibacterial method which concerns on Embodiment 1. It is a figure which shows the structure of the antibacterial system which concerns on Embodiment 2 of this invention. It is a figure which shows the structure of the antibacterial system which concerns on Embodiment 3 of this invention. It is a figure which shows the structure of the antibacterial system which concerns on Embodiment 4 of this invention.
  • FIG. 1 is a diagram showing a configuration of an antibacterial system 100 according to the first embodiment of the present invention.
  • the antibacterial system 100 is, for example, a cell culture facility for culturing cells of multicellular organisms involved in regenerative medicine and allowing an operator to perform work related to cell culture.
  • the cells are, for example, cells derived from animals and plants, and in the first embodiment, they are induced pluripotent stem cells (iPS cells).
  • iPS cells induced pluripotent stem cells
  • the antibacterial system 100 may be used as a system for culturing cells other than cells for regenerative medicine.
  • the antibacterial system 100 includes a work room 10 and an antibacterial device 50.
  • the antibacterial system 100 may include a plurality of working rooms 10. Further, the antibacterial system 100 may include a plurality of antibacterial devices 50.
  • the work room 10 has a plurality of wall surfaces 11, a floor 12, and a ceiling 13.
  • the work space 14 is defined by the plurality of wall surfaces 11, the floor 12, and the ceiling 13.
  • the work space 14 is an example of the target space.
  • the work space 14 is a space for performing cell culture and work related to cell culture.
  • a door 15 is provided on at least one wall surface 11 among the plurality of wall surface 11. By opening and closing the door 15, workers can enter and exit the work space 14.
  • a safety cabinet 21, a clean chamber 22, and an incubator 23 are arranged in the work space 14.
  • the arrangement of the safety cabinet 21, the clean chamber 22, and the incubator 23 is not particularly limited, and only a part of the safety cabinet 21, the clean chamber 22, and the incubator 23 may be arranged.
  • the antibacterial device 50 includes an antibacterial unit 60, an ion unit 70, and a control unit 80.
  • the antibacterial device 50 is arranged at at least one of the plurality of wall surfaces 11, the floor 12, and the ceiling 13. Specifically, the antibacterial device 50 is arranged on the ceiling 13.
  • the antibacterial unit 60 sends at least one of light having an antibacterial action, a gas having an antibacterial action, and liquid particles having an antibacterial action toward the work space 14. In other words, the antibacterial unit 60 executes the antibacterial treatment step.
  • the concept of antibacterial includes not only killing microorganisms such as bacteria, molds and viruses, but also suppressing the growth and proliferation of microorganisms.
  • the antibacterial unit 60 includes an ozone generator and a transmission unit.
  • the ozone generator is, for example, a discharge device that generates ozone (O 3 ) from oxygen molecules (O 2 ) by electric discharge.
  • Ozone (O 3 ) is an example of a gas having an antibacterial effect.
  • the ozone generator includes a pair of discharge electrodes (not shown). Examples of the discharge method include plasma discharge and corona discharge.
  • the sending unit sends ozone (O 3 ) toward the work space 14.
  • the sending unit is a fan.
  • the fan rotates.
  • the fan rotates to generate wind.
  • the wind generated by the sending unit contains ozone (O 3 ), and the transmitting unit sends ozone (O 3 ) toward the work space 14.
  • the installation position and the blowing direction of the antibacterial section 60 are set so that the wind generated by the sending section reaches every corner of the work space 14. As a result, ozone (O 3 ) diffuses throughout the work space 14.
  • Ozone (O 3 ) when released into the air, surrounds the surface of microorganisms. Ozone (O 3 ) can inactivate microorganisms and reduce the vital activity of microorganisms. Since ozone (O 3 ) is an active species with extremely high oxidizing power, when it is released to humans and cells as well as microorganisms, it may have an adverse effect on humans and cells.
  • the ion unit 70 sends ions toward the work space 14. In other words, the ion unit 70 executes the ion treatment step.
  • ions The antibacterial action of ions is weaker than the antibacterial action of ozone (O 3 ). However, ions can inactivate microorganisms and reduce their vital activity. In addition, ions have little or no adverse effects on humans and cells.
  • the ion generating unit is a discharge device that generates ions by discharging. More specifically, the ion generation unit is a discharge device that generates positive ions and negative ions by electric discharge. The ion generation unit may be a discharge device that generates only one of positive ions and negative ions by electric discharge.
  • the control unit 80 controls the antibacterial unit 60 and the ion unit 70.
  • the control unit 80 is, for example, a computer.
  • the control unit 80 includes, for example, a processor such as a CPU (Central Processing Unit).
  • the control unit 80 switches on / off between the antibacterial unit 60 and the ion unit 70. On means, for example, turning on the power. Off means, for example, turning off the power.
  • control unit 80 turns on the antibacterial unit 60 during the first period and turns off the antibacterial unit 60 outside the first period.
  • the control unit 80 executes an antibacterial treatment step of sending ozone (O 3 ) from the antibacterial unit 60 toward the work space 14 in the first period.
  • the control unit 80 executes the antibacterial treatment step at least twice. For example, the control unit 80 executes the antibacterial treatment step after a predetermined period (for example, one day and one week).
  • control unit 80 turns on the ion unit 70 in the second period and turns off the ion unit 70 outside the second period. In other words, the control unit 80 executes an ion processing step of transmitting ions from the ion unit 70 toward the work space 14 in the second period.
  • a part of the second period is included in the period from the execution of the antibacterial treatment step to the execution of the next antibacterial treatment step.
  • a part of the second period is included in the period after the antibacterial treatment step is executed and before the antibacterial treatment step immediately following the antibacterial treatment step is executed.
  • the start time of the ion treatment step is included from the start time of the previous antibacterial treatment step to before the start time of the next antibacterial treatment step.
  • the start time of the ion treatment step may be a time before the end time of the previous antibacterial treatment step, may be the same time as the end time of the previous antibacterial treatment step, and may be the same time as the end time of the previous antibacterial treatment step. It may be a time after the end time of the processing step.
  • the end time of the ion treatment step is a time after the end time of the previous antibacterial treatment step.
  • the end time of the ion treatment step may be earlier than the start time of the next antibacterial treatment step, may be the same time as the start time of the next antibacterial treatment step, and may be the same time as the start time of the next antibacterial treatment step. It may be a time after the start time of the processing step.
  • the ion treatment step is carried out for the entire period from the execution of the antibacterial treatment step to the execution of the next antibacterial treatment step. More preferably, the start time of the ion treatment step is a time before the end time of the previous antibacterial treatment step.
  • the start time of the ion treatment step is from the start time of the previous antibacterial treatment step to before the start time of the next antibacterial treatment step. Included in between. Further, the end time of the ion treatment step is a time after the end time of the previous antibacterial treatment step.
  • ions are sent to the work space 14 between the time when the previous antibacterial treatment step is executed and the time before the next antibacterial treatment step is executed.
  • the hygienic environment of the work space 14 can be well maintained.
  • FIG. 2 is a flowchart showing the antibacterial method according to the first embodiment.
  • the antibacterial method includes treatments S1 to S6.
  • the antibacterial method is performed by the antibacterial system 100.
  • the antibacterial unit 60 starts an antibacterial process of sending ozone (O 3 ) toward the work space 14.
  • ozone (O 3 ) is present in the work space 14.
  • the antibacterial unit 60 ends the antibacterial process of sending ozone (O 3 ) toward the work space 14.
  • the ion unit 70 starts an ion processing step of sending ions toward the work space 14. As a result, ions are present in the work space 14.
  • the ion unit 70 ends the ion processing step of sending the ions toward the work space 14.
  • the antibacterial unit 60 starts an antibacterial process of sending ozone (O 3 ) toward the work space 14.
  • ozone (O 3 ) is present in the work space 14.
  • the antibacterial unit 60 ends the antibacterial process of sending ozone (O 3 ) toward the work space 14. Then, the antibacterial method is completed.
  • the antibacterial treatment step is executed twice with a predetermined period. Further, ions are sent to the work space 14 between the time when the antibacterial treatment step is executed and the time before the next antibacterial treatment step is executed. As a result, since ions are present in the work space 14 between the time when the antibacterial treatment step is executed and the time before the next antibacterial treatment step is executed, the hygienic environment of the work space 14 can be well maintained.
  • the ion unit 70 includes an ion generation unit and a delivery unit.
  • the ion generating unit includes a pair of discharge electrodes (not shown). Specifically, a positive voltage is applied to one of the pair of discharge electrodes. When a positive voltage is applied to the discharge electrode, water molecules (H 2 O) in the air are electrically decomposed by the discharge, and hydrogen ions H + are mainly generated. Then, water molecules (H 2 O) in the air aggregate around the generated hydrogen ion H + , and stable cluster ions H + (H 2 O) m having a positive charge are formed. m is a natural number. A stable positively charged cluster ion H + (H 2 O) m is an example of a positive ion. The formation of cluster ions H + (H 2 O) m can be confirmed by flight time decomposition type mass spectrometry.
  • a negative voltage is applied to the other of the pair of discharge electrodes.
  • oxygen molecules (O 2 ) in the air are ionized by the discharge, and mainly oxygen molecule ions (superoxide ions) O 2 ⁇ are generated.
  • water molecules (H 2 O) in the air aggregate around the generated oxygen molecule ion (superoxide ion) O 2- , and stable cluster ion O 2- ( H 2 O) n with a negative charge. Is formed.
  • n is a natural number.
  • a stable cluster ion O 2- ( H 2 O) n with a negative charge is an example of a negative ion.
  • the formation of cluster ions H + (H 2 O) m can be confirmed by flight time decomposition type mass spectrometry.
  • the sending unit sends the cluster ion H + (H 2 O) m and the cluster ion O 2- ( H 2 O) n toward the work space 14.
  • the sending unit is a fan. The fan rotates. The fan rotates to generate wind.
  • the wind generated by the sending part contains cluster ion H + (H 2 O) m and cluster ion O 2- ( H 2 O) n
  • the sending part contains cluster ion H + (H 2 O) m and cluster ion O.
  • 2- ( H 2 O) n can be sent toward the work space 14.
  • the installation position and the blowing direction of the ion unit 70 are set so that the wind generated by the sending unit reaches every corner of the work space 14.
  • cluster ions H + (H 2 O) m and cluster ions O 2- ( H 2 O) n diffuse throughout the work space 14.
  • cluster ion H + (H 2 O) m and cluster ion O 2- ( H 2 O) n surround the surface of a microorganism when released into the air at the same time. Then, instantaneously, the cluster ion H + (H 2 O) m and the cluster ion O 2- ( H 2 O) n are bonded to generate [ ⁇ OH] (hydroxyl radical) on the surface of the microorganism.
  • [ ⁇ OH] is an active species with high oxidizing power, it can inactivate microorganisms and reduce the vital activity of microorganisms.
  • the concentrations of the cluster ions H + (H 2 O) m and the cluster ions O 2- ( H 2 O) n in the work space 14 are 7,000 / cm 3 or more, respectively.
  • the concentrations of cluster ion H + (H 2 O) m and cluster ion O 2- ( H 2 O) n differs depending on the cells to be cultured. Therefore, before starting cell culture, the concentrations of cluster ion H + (H 2 O) m and cluster ion O 2- ( H 2 O) n in the work space 14 are adjusted according to the type of cells to be cultured. It may be set. Specifically, in the ion section 70, the concentrations of the cluster ions H + (H 2 O) m and the cluster ions O 2- ( H 2 O) n in the work space 14 are 1 million / cm 3 or less, respectively.
  • cluster ion H + (H 2 O) m and cluster ion O 2- ( H 2 O) n so as to be. If the concentrations of cluster ion H + (H 2 O) m and cluster ion O 2- ( H 2 O) n are 1 million / cm 3 or less, respectively, antibacterial is performed without adversely affecting cells. be able to.
  • FIG. 3 is a diagram showing the configuration of the antibacterial system 100 according to the first embodiment.
  • the antibacterial device 50 further includes an ozone emission unit 90.
  • the ozone discharge unit 90 discharges ozone (O 3 ) from the work space 14.
  • the ozone emission unit 90 is a fan. The fan rotates. The fan rotates to generate wind.
  • the control unit 80 switches on / off the ozone emission unit 90. Specifically, the control unit 80 turns on the ozone emission unit 90 in a predetermined period after the first period. In other words, the control unit 80 executes an emission treatment step of discharging ozone (O 3 ) in a predetermined period after the first period. As a result, ozone (O 3 ) does not exist in the work space 14. Therefore, a person can exist in the work space 14. Specifically, the concentration of ozone (O 3 ) in the work space 14 is measured using an ozone detector or the like, and after the concentration of ozone (O 3 ) falls below a safe standard value, work is performed in the work space 14. Person enters the room.
  • FIG. 4 is a timetable showing the antibacterial method according to the first embodiment.
  • the antibacterial method includes an antibacterial treatment step P1, an discharge treatment step P2, an ion treatment step P3, a work P4, and a storage treatment step P5.
  • the antibacterial method is performed by the antibacterial system 100.
  • work P4 the worker performs the work related to cell culture in the work space 14.
  • Work P4 is executed outside the first period. In other words, there are no workers in the work space 14 during the first period. As a result, workers are not adversely affected by ozone (O 3 ).
  • the preservation treatment step P5 cells of multicellular organisms involved in regenerative medicine are preserved and cultured in the work space 14.
  • the storage process step P5 is executed outside the first period. In other words, no cells are present in workspace 14 during the first period. As a result, the cells are not adversely affected by ozone (O 3 ).
  • FIG. 5 is a flowchart showing the antibacterial method according to the first embodiment.
  • the antibacterial method includes treatment S101 to treatment S112.
  • the antibacterial treatment step P1 is started at time t1. Specifically, in the process S101, under the control of the control unit 80, the antibacterial unit 60 starts to send ozone (O 3 ) toward the work space 14. As a result, ozone (O 3 ) is present in the work space 14.
  • the ion treatment step P3 is started. Specifically, in the process S102, under the control of the control unit 80, the ion unit 70 directs the cluster ion H + (H 2 O) m and the cluster ion O 2- ( H 2 O) n toward the work space 14. Start sending. As a result, cluster ion H + (H 2 O) m and cluster ion O 2- ( H 2 O) n exist in the work space 14.
  • the antibacterial treatment step P1 is completed. Specifically, in the process S103, under the control of the control unit 80, the antibacterial unit 60 ends sending ozone (O 3 ) toward the work space 14.
  • the discharge processing step P2 is started. Specifically, in the process S104, under the control of the control unit 80, the ozone discharge unit 90 starts to discharge ozone (O 3 ) from the work space 14.
  • the discharge processing step P2 is completed. Specifically, in the process S105, under the control of the control unit 80, the ozone discharge unit 90 ends discharging ozone (O 3 ) from the work space 14. As a result, ozone (O 3 ) does not exist in the work space 14.
  • work P4 is started. Specifically, in the process S106, the operator starts to perform the work P4 related to cell culture in the work space 14. Specifically, by opening and closing the door 15, a worker enters the work space 14. In the work space 14, cluster ions H + (H 2 O) m and cluster ions O 2- ( H 2 O) n exist together with the worker.
  • work P4 is completed. Specifically, in the process S107, the worker finishes the work P4 related to cell culture in the work space 14. Specifically, in the work space 14, the cluster ion H + (H 2 O) m and the cluster ion O 2- ( H 2 O) n exist together with the worker. By opening and closing the door 15, a worker comes out of the work space 14.
  • the storage process step P5 is started. Specifically, in the treatment S108, cell culture is started in the work space 14. Specifically, in the working space 14, cluster ions H + (H 2 O) m and cluster ions O 2- ( H 2 O) n are present together with the cells.
  • the storage process step P5 is completed. Specifically, in the process S109, the cell culture is completed in the work space 14. Specifically, in the working space 14, cluster ions H + (H 2 O) m and cluster ions O 2- ( H 2 O) n are present together with the cells.
  • the ion treatment step P3 is completed. Specifically, in the process S110, under the control of the control unit 80, the ion unit 70 directs the cluster ion H + (H 2 O) m and the cluster ion O 2- ( H 2 O) n toward the work space 14. End sending. Specifically, by opening and closing the door 15, a worker enters and exits the work space 14 in order to take out the cultured cells from the work space 14.
  • the antibacterial treatment step P1 is started. Specifically, in the process S111, under the control of the control unit 80, the antibacterial unit 60 starts to send ozone (O 3 ) toward the work space 14. As a result, ozone (O 3 ) is present in the work space 14.
  • the antibacterial treatment step P1 is completed. Specifically, in the process S112, under the control of the control unit 80, the antibacterial unit 60 ends sending ozone (O 3 ) toward the work space 14. Then, the antibacterial method is completed.
  • the ion treatment step P3 is executed between the time when the antibacterial treatment step P1 is executed and the time before the next antibacterial treatment step P1 is executed.
  • the worker performs the work P4 related to cell culture, and performs the preservation treatment step P5.
  • the worker can perform the work P4 and perform the preservation process step P5.
  • the ion treatment step P3 is continuously performed at the work stage where the worker enters the room and performs the work.
  • the microorganisms can be killed or the growth and proliferation of the microorganisms can be suppressed, and the hygienic environment of the work space 14 can be kept good.
  • the antibacterial system 200 according to the second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. Further, the antibacterial system 200 of the second embodiment is different from the first embodiment in that it is an operating room. Further, the antibacterial system 200 of the second embodiment is different from the first embodiment in that it includes a plurality of ultraviolet light source units 260.
  • the items different from the first embodiment will be described with respect to the second embodiment, and the description of the parts overlapping with the first embodiment will be omitted.
  • FIG. 6 is a diagram showing the configuration of the antibacterial system 200 according to the second embodiment of the present invention.
  • the antibacterial system 200 is, for example, an operating room for a doctor to operate on a patient.
  • surgical equipment 221 is arranged in the work space 14.
  • the antibacterial device 50 includes a plurality of ultraviolet light source units 260.
  • Each of the plurality of ultraviolet light source units 260 includes an ultraviolet light source.
  • the ultraviolet light source emits ultraviolet light.
  • Ultraviolet light is an example of light having an antibacterial effect. Specifically, the installation position and the number of the ultraviolet light source units 260 are set so that the ultraviolet light reaches every corner of the work space 14. As a result, ultraviolet light is applied to the entire work space 14.
  • ultraviolet light When ultraviolet light is irradiated on a microorganism, it can inactivate the microorganism and reduce the life activity of the microorganism. Since ultraviolet light has a very high energy, when it is irradiated not only to microorganisms but also to humans and cells, it may have an adverse effect on humans and cells.
  • control unit 80 turns on the ultraviolet light source unit 260 in the first period and turns off the ultraviolet light source unit 260 outside the first period. In other words, the control unit 80 executes an antibacterial treatment step of irradiating the work space 14 with ultraviolet light from the ultraviolet light source unit 260 in the first period.
  • the antibacterial treatment step of irradiating the work space 14 with ultraviolet light after a predetermined period (for example, one day and one week) is performed. Execute. Further, between the time after the antibacterial treatment step is executed and the time before the next antibacterial treatment step is executed, the cluster ion H + (H 2 O) m and the cluster ion O 2- ( H 2 O) n are provided in the work space 14. Is sent. As a result, since the cluster ion H + (H 2 O) m and the cluster ion O 2- ( H 2 O) n are present in the work space 14, it is possible to suppress the presence of microorganisms in the work space 14. Further, since there is no residue of a substance such as ozone (O 3 ) in the irradiation with ultraviolet light, it is possible to enter the room from the moment when the ultraviolet light source unit 260 is turned off.
  • a predetermined period for example, one day and one week
  • the antibacterial system 300 according to the third embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. 7. Further, the antibacterial system 300 of the third embodiment is different from the first embodiment in that it is a food factory. Further, the antibacterial device 50 of the third embodiment is different from the first embodiment in that it includes a liquid injection unit 360 and a liquid tank 390.
  • the matters different from the first embodiment will be described with respect to the third embodiment, and the description of the parts overlapping with the first embodiment will be omitted.
  • FIG. 7 is a diagram showing the configuration of the antibacterial system 300 according to the third embodiment of the present invention.
  • the antibacterial system 300 is, for example, a food factory for workers to process with yeast.
  • factory equipment 321 is arranged in the work space 14.
  • the antibacterial device 50 includes a liquid injection unit 360 and a liquid tank 390.
  • the liquid injection unit 360 is, for example, a device that injects ethanol as liquid particles from the liquid tank 390.
  • Ethanol is an example of liquid particles having an antibacterial effect.
  • the installation position and injection direction of the liquid injection unit 360 are set so that the liquid particles reach every corner of the work space 14. As a result, ethanol diffuses throughout the work space 14.
  • Ethanol surrounds the surface of microorganisms when released into the air. Ethanol can inactivate microorganisms and reduce their vital activity. When ethanol is released not only to microorganisms but also to humans and yeast, it may have an adverse effect on humans and yeast.
  • control unit 80 turns on the liquid injection unit 360 in the first period and turns off the liquid injection unit 360 outside the first period.
  • the control unit 80 executes an antibacterial treatment step of injecting ethanol from the liquid injection unit 360 toward the work space 14 in the first period.
  • the antibacterial treatment step of injecting ethanol toward the work space 14 is executed after a predetermined period (for example, one day and one week). .. Further, between the time after the antibacterial treatment step is executed and the time before the next antibacterial treatment step is executed, the cluster ion H + (H 2 O) m and the cluster ion O 2- ( H 2 O) n are provided in the work space 14. Is sent. As a result, since the cluster ions H + (H 2 O) m and the cluster ions O 2- ( H 2 O) n are present in the work space 14, the sanitary environment of the work space 14 can be well maintained.
  • the antibacterial system 400 according to the fourth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. Further, the antibacterial system 400 of the fourth embodiment is different from the first embodiment in that it is a storage container.
  • the items different from the first embodiment will be described with respect to the fourth embodiment, and the description of the parts overlapping with the first embodiment will be omitted.
  • FIG. 8 is a diagram showing the configuration of the antibacterial system 400 according to the fourth embodiment of the present invention.
  • the antibacterial system 400 is, for example, a storage container for containing food SA.
  • the antibacterial system 400 includes a storage container 410 and an antibacterial device 50.
  • the storage container 410 has a plurality of wall surfaces 411, a bottom wall 412, and an upper wall 413.
  • the accommodation space 414 is defined by a plurality of wall surfaces 411, a bottom wall 412, and an upper wall 413.
  • the accommodation space 414 is an example of the target space.
  • Containment space 414 is a space for accommodating food.
  • a door 415 is provided on at least one wall surface 411 among the plurality of wall surface 411s. By opening and closing the door 415, food SA enters and exits the accommodation space 414.
  • the antibacterial device 50 is arranged at at least one of a plurality of wall surfaces 411, a bottom wall 412, and an upper wall 413. Specifically, the antibacterial device 50 is arranged on the upper wall 413.
  • the ion treatment step is performed once during the period from the execution of the antibacterial treatment step to the execution of the next antibacterial treatment step.
  • the ion treatment may be performed a plurality of times during the period from the execution of the antibacterial treatment step to the execution of the next antibacterial treatment step.
  • the control unit 80 may repeatedly turn on and off the ion unit 70 during the period from the execution of the antibacterial treatment step to the execution of the next antibacterial treatment step.
  • the antibacterial unit 60 sends ozone (O 3 ) toward the work space 14, but the present invention is not limited to this.
  • the antibacterial unit 60 may send hydrogen peroxide gas toward the work space 14.
  • the liquid injection unit 360 is a device for injecting ethanol as liquid particles, but the present invention is not limited to this.
  • the liquid injection unit 360 may be a device that injects formalin as liquid particles.
  • the present invention can be used in the fields of antibacterial methods and antibacterial devices.
  • Target space 50 Antibacterial device 60 Antibacterial unit 70 Ion unit 80 Control unit

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Abstract

抗菌装置（５０）は、抗菌部（６０）と、イオン部（７０）と、制御部（８０）とを備える。抗菌部（６０）は、抗菌作用を有する光、抗菌作用を有する気体、及び、抗菌作用を有する液体粒子の内の少なくとも１種を対象空間（１４）に向けて送出する。イオン部（７０）は、イオンを対象空間（１４）に向けて送出する。制御部（８０）は、抗菌部（６０）及びイオン部（７０）を制御する。光、気体及び液体粒子の抗菌作用は、イオンの抗菌作用よりも強い。

Description

抗菌方法及び抗菌装置
　本発明は、抗菌方法及び抗菌装置に関する。
　細胞培養を行う場合、コンタミネーションを防止するために、清浄空間（無菌空間）内で作業が行われる。特許文献１には、清浄空間を形成する安全キャビネットの一例が開示されている。
特開２０１６－１６５２４９号公報
　清浄空間を維持するためには、細胞培養の区切りの良いタイミングで除菌処理を行う必要がある。除菌処理として、一般的にホルマリン、過酢酸製剤、過酸化水素又は紫外線等を用いた処理が行われる。しかしながら、このような除菌処理は人体に有害であるため、除菌処理後に作業者が清浄空間内に入る前に除菌処理に使用された物質の残渣が無いことを確保しなければならない。物質の残渣が無いことを確保するための時間、又は、清浄空間に作業者が入る際等に、清浄空間にコンタミネーションが起こる可能性があった。
　本発明は上記課題に鑑みてなされたものであり、対象空間の衛生環境を良好に維持できる抗菌方法及び抗菌装置を提供することを目的とする。
　本発明の第１の観点によれば、抗菌方法は、少なくとも２回の抗菌処理工程と、イオン処理工程とを含む。前記抗菌処理工程では、抗菌作用を有する光、抗菌作用を有する気体、及び、抗菌作用を有する液体粒子の内の少なくとも１種を対象空間に向けて送出する。前記イオン処理工程では、イオンを前記対象空間に向けて送出する。前記イオン処理工程の開始時間は、先の前記抗菌処理工程の開始時間から、次の前記抗菌処理工程の開始時間より前までの間に含まれ、前記イオン処理工程の終了時間は、前記先の抗菌処理工程の終了時間より後の時間である。
　本発明の第２の観点によれば、抗菌装置は、抗菌部と、イオン部と、制御部とを備える。前記抗菌部は、抗菌作用を有する光、抗菌作用を有する気体、及び、抗菌作用を有する液体粒子の内の少なくとも１種を対象空間に向けて送出する。前記イオン部は、イオンを前記対象空間に向けて送出する。前記制御部は、前記抗菌部及び前記イオン部を制御する。
　本発明の抗菌方法及び抗菌装置によれば、対象空間の衛生環境を良好に維持できる。
本発明の実施形態１に係る抗菌システムの構成を示す図である。 実施形態１に係る抗菌方法を示すフローチャートである。 実施形態１に係る抗菌システムの構成を示す図である。 実施形態１に係る抗菌方法を示すタイムテーブルである。 実施形態１に係る抗菌方法を示すフローチャートである。 本発明の実施形態２に係る抗菌システムの構成を示す図である。 本発明の実施形態３に係る抗菌システムの構成を示す図である。 本発明の実施形態４に係る抗菌システムの構成を示す図である。
　以下、本発明の実施形態について、図面を参照しながら説明する。なお、図中、同一又は相当部分については同一の参照符号を付して説明を繰り返さない。
［実施形態１］
　図１を参照して、抗菌システム１００について説明する。図１は、本発明の実施形態１に係る抗菌システム１００の構成を示す図である。図１に示すように、抗菌システム１００は、例えば、再生医療に関わる多細胞生物の細胞を培養し、細胞培養に関する作業を作業者が行うための細胞培養施設である。細胞は、例えば、動植物由来の細胞であり、実施形態１では、人工多能性幹細胞（ｉＰＳ細胞）である。なお、再生医療のための細胞以外の細胞を培養するためのシステムとして、抗菌システム１００を使用してもよい。
　具体的には、抗菌システム１００は、作業室１０と、抗菌装置５０とを備える。なお、抗菌システム１００は、複数の作業室１０を備えてもよい。また、抗菌システム１００は、複数の抗菌装置５０を備えてもよい。
　作業室１０は、複数の壁面１１と、床１２と、天井１３とを有する。複数の壁面１１と、床１２と、天井１３とによって、作業空間１４が画定されている。作業空間１４は、対象空間の一例である。作業空間１４は、細胞培養と、細胞培養に関する作業とを行うための空間である。複数の壁面１１の内の少なくとも１つの壁面１１には、ドア１５が設けられている。ドア１５が開閉されることで、作業空間１４への作業者の出入りが行われる。
　作業空間１４には、例えば、安全キャビネット２１と、クリーンチャンバー２２と、インキュベータ２３とが配置されている。なお、安全キャビネット２１とクリーンチャンバー２２とインキュベータ２３との配置は、特に限定されず、安全キャビネット２１とクリーンチャンバー２２とインキュベータ２３との内の一部のみを配置してもよい。
　抗菌装置５０は、抗菌部６０と、イオン部７０と、制御部８０とを備える。
　抗菌装置５０は、複数の壁面１１と床１２と天井１３との内の少なくとも１箇所に配置される。具体的には、抗菌装置５０は、天井１３に配置される。
　抗菌部６０は、抗菌作用を有する光、抗菌作用を有する気体、及び、抗菌作用を有する液体粒子の内の少なくとも１種を作業空間１４に向けて送出する。換言すれば、抗菌部６０は、抗菌処理工程を実行する。本明細書において、抗菌という概念には、例えば、細菌、カビ類、ウイルス等の微生物を死滅させることのみならず、微生物の生育及び増殖を抑制することが含まれる。
　具体的には、抗菌部６０は、オゾン発生装置と、送出部とを備える。オゾン発生装置は、例えば放電によって酸素分子（Ｏ2）からオゾン（Ｏ3）を生成する放電装置である。オゾン（Ｏ3）は、抗菌作用を有する気体の一例である。具体的には、オゾン発生装置は、一対の放電電極（図示せず）を含む。放電方式としては、例えば、プラズマ放電又はコロナ放電が挙げられる。
　送出部は、オゾン（Ｏ3）を作業空間１４に向けて送出する。送出部は、ファンである。ファンは、回転する。ファンは回転することで風を発生させる。送出部が発生させた風はオゾン（Ｏ3）を含み、送出部はオゾン（Ｏ3）を作業空間１４に向けて送出する。詳細には、送出部が発生させる風が作業空間１４の隅々まで行きわたるように、抗菌部６０の設置位置及び送風方向が設定される。その結果、オゾン（Ｏ3）が、作業空間１４の全体に拡散する。
　オゾン（Ｏ3）は、空気中に放出されると、微生物の表面を取り囲む。オゾン（Ｏ3）は、微生物を不活化して、微生物の生命活動を減退させることができる。なお、オゾン（Ｏ3）は、酸化力の非常に高い活性種であるので、微生物だけでなく、人及び細胞に放出すると、人及び細胞に対して悪影響を及ぼす可能性がある。
　イオン部７０は、イオンを作業空間１４に向けて送出する。換言すれば、イオン部７０は、イオン処理工程を実行する。
　イオンの抗菌作用は、オゾン（Ｏ3）の抗菌作用よりも弱い。しかし、イオンは、微生物を不活化して、微生物の生命活動を減退させることができる。また、イオンは、人及び細胞に対して、悪影響は殆ど又は全くみられない。
　具体的には、イオン発生部は、放電によってイオンを発生させる放電装置である。更に具体的には、イオン発生部は、放電によって正イオン及び負イオンを発生させる放電装置である。なお、イオン発生部は、放電によって正イオン又は負イオンのいずれか一方のみを発生させる放電装置であってもよい。
　制御部８０は、抗菌部６０及びイオン部７０を制御する。制御部８０は、例えば、コンピューターである。制御部８０は、例えば、ＣＰＵ（Ｃｅｎｔｒａｌ　Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ　Ｕｎｉｔ）等のプロセッサーを含む。具体的には、制御部８０は、抗菌部６０とイオン部７０とのオン／オフを切り替える。オンとは、例えば、電源を入れることを示す。オフとは、例えば、電源を切ることを示す。
　詳細には、制御部８０は、第１期間に抗菌部６０をオンにし、第１期間外に抗菌部６０をオフにする。換言すれば、制御部８０は、第１期間に、抗菌部６０からオゾン（Ｏ3）を作業空間１４に向けて送出する抗菌処理工程を実行する。また、制御部８０は、少なくとも２回の抗菌処理工程を実行する。例えば、制御部８０は、所定期間（例えば１日、１週間）を空けて、抗菌処理工程を実行する。
　また、制御部８０は、第２期間にイオン部７０をオンにし、第２期間外にイオン部７０をオフにする。換言すれば、制御部８０は、第２期間に、イオン部７０からイオンを作業空間１４に向けて送出するイオン処理工程を実行する。
　第２期間の一部は、抗菌処理工程を実行した後から次の抗菌処理工程を実行する前までの期間に含まれる。換言すれば、第２期間の一部は、抗菌処理工程を実行した後から、抗菌処理工程のすぐ次の抗菌処理工程を実行する前までの期間に含まれる。具体的には、イオン処理工程の開始時間は、先の抗菌処理工程の開始時間から、次の抗菌処理工程の開始時間より前までの間に含まれる。詳細には、イオン処理工程の開始時間は、先の抗菌処理工程の終了時間より前の時間であってもよく、先の抗菌処理工程の終了時間と同じ時間であってもよく、先の抗菌処理工程の終了時間より後の時間であってもよい。また、イオン処理工程の終了時間は、先の抗菌処理工程の終了時間より後の時間である。詳細には、イオン処理工程の終了時間は、次の抗菌処理工程の開始時間より前の時間であってもよく、次の抗菌処理工程の開始時間と同じ時間であってもよく、次の抗菌処理工程の開始時間より後の時間であってもよい。好ましくは、抗菌処理工程を実行した後から次の抗菌処理工程を実行する前までの期間の全てで、イオン処理工程は実行される。より好ましくは、イオン処理工程の開始時間は、先の抗菌処理工程の終了時間より前の時間である。
　以上、図１を参照して説明したように、実施形態１によれば、イオン処理工程の開始時間は、先の抗菌処理工程の開始時間から、次の抗菌処理工程の開始時間より前までの間に含まれる。また、イオン処理工程の終了時間は、先の抗菌処理工程の終了時間より後の時間である。換言すれば、先の抗菌処理工程を実行した後から次の抗菌処理工程を実行する前までの間に、作業空間１４にイオンを送出する。その結果、先の抗菌処理工程を実行した後から次の抗菌処理工程を実行する前までの間において、作業空間１４にはイオンが存在するため、作業空間１４の衛生環境を良好に維持できる。
　続けて図２を参照して、実施形態１に係る抗菌方法を説明する。図２は、実施形態１に係る抗菌方法を示すフローチャートである。図２に示すように、抗菌方法は、処理Ｓ１～処理Ｓ６を含む。抗菌方法は、抗菌システム１００によって実行される。
　まず、処理Ｓ１において、制御部８０の制御によって、抗菌部６０は、オゾン（Ｏ3）を作業空間１４に向けて送出する抗菌処理工程を開始する。その結果、作業空間１４にオゾン（Ｏ3）が存在する。
　次に、処理Ｓ２において、制御部８０の制御によって、抗菌部６０は、オゾン（Ｏ3）を作業空間１４に向けて送出する抗菌処理工程を終了する。
　次に、処理Ｓ３において、制御部８０の制御によって、イオン部７０は、イオンを作業空間１４に向けて送出するイオン処理工程を開始する。その結果、作業空間１４にイオンが存在する。
　次に、処理Ｓ４において、制御部８０の制御によって、イオン部７０は、イオンを作業空間１４に向けて送出するイオン処理工程を終了する。
　次に、処理Ｓ５において、制御部８０の制御によって、抗菌部６０は、オゾン（Ｏ3）を作業空間１４に向けて送出する抗菌処理工程を開始する。その結果、作業空間１４にオゾン（Ｏ3）が存在する。
　次に、処理Ｓ６において、制御部８０の制御によって、抗菌部６０は、オゾン（Ｏ3）を作業空間１４に向けて送出する抗菌処理工程を終了する。そして、抗菌方法が終了する。
　以上、図２を参照して説明したように、実施形態１によれば、所定期間を空けて２回の抗菌処理工程を実行する。また、抗菌処理工程を実行した後から次の抗菌処理工程を実行する前までの間に、作業空間１４にイオンを送出する。その結果、抗菌処理工程を実行した後から次の抗菌処理工程を実行する前までの間に、作業空間１４にはイオンが存在するため、作業空間１４の衛生環境を良好に維持できる。
　ここで、イオン部７０について説明する。具体的には、イオン部７０は、イオン発生部と、送出部とを備える。
　具体的には、イオン発生部は、一対の放電電極（図示せず）を含む。詳細には、一対の放電電極の一方には、正電圧が印加される。放電電極に正電圧が印加されると、放電により空気中の水分子（Ｈ2Ｏ）が電気的に分解され、主として水素イオンＨ+が生成される。そして、生成した水素イオンＨ+の周りに空気中の水分子（Ｈ2Ｏ）が凝集し、電荷が正の安定したクラスターイオンＨ+（Ｈ2Ｏ）mが形成される。ｍは自然数である。電荷が正の安定したクラスターイオンＨ+（Ｈ2Ｏ）mは、正イオンの一例である。なお、クラスターイオンＨ+（Ｈ2Ｏ）mの生成は、飛行時間分解型質量分析法により確認することができる。
　一方、一対の放電電極の他方には負電圧が印加される。放電電極に負電圧が印加されると、放電により空気中の酸素分子（Ｏ2）がイオン化され、主として酸素分子イオン（超酸化物イオン）Ｏ2 -が生成される。そして、生成した酸素分子イオン（超酸化物イオン）Ｏ2 -の周りに空気中の水分子（Ｈ2Ｏ）が凝集し、電荷が負の安定したクラスターイオンＯ2 -（Ｈ2Ｏ）nが形成される。ｎは自然数である。電荷が負の安定したクラスターイオンＯ2 -（Ｈ2Ｏ）nは、負イオンの一例である。なお、クラスターイオンＨ+（Ｈ2Ｏ）mの生成は、飛行時間分解型質量分析法により確認することができる。
　送出部は、クラスターイオンＨ+（Ｈ2Ｏ）m及びクラスターイオンＯ2 -（Ｈ2Ｏ）nを作業空間１４に向けて送出する。送出部は、ファンである。ファンは、回転する。ファンは回転することで風を発生させる。送出部が発生させた風はクラスターイオンＨ+（Ｈ2Ｏ）m及びクラスターイオンＯ2 -（Ｈ2Ｏ）nを含み、送出部はクラスターイオンＨ+（Ｈ2Ｏ）m及びクラスターイオンＯ2 -（Ｈ2Ｏ）nを作業空間１４に向けて送出できる。詳細には、送出部が発生させる風が作業空間１４の隅々まで行きわたるように、イオン部７０の設置位置及び送風方向が設定される。その結果、クラスターイオンＨ+（Ｈ2Ｏ）m及びクラスターイオンＯ2 -（Ｈ2Ｏ）nが、作業空間１４の全体に拡散する。
　例えば、クラスターイオンＨ+（Ｈ2Ｏ）m及びクラスターイオンＯ2 -（Ｈ2Ｏ）nは、同時に空気中に放出されると、微生物の表面を取り囲む。そして、瞬間的に、クラスターイオンＨ+（Ｈ2Ｏ）m及びクラスターイオンＯ2 -（Ｈ2Ｏ）nが結合して、［・ＯＨ］（水酸基ラジカル）が微生物の表面上にて生成される。［・ＯＨ］は、酸化力の高い活性種であるので、微生物を不活化して、微生物の生命活動を減退させることができる。
　詳細には、イオン部７０は、作業空間１４内におけるクラスターイオンＨ+（Ｈ2Ｏ）m及びクラスターイオンＯ2 -（Ｈ2Ｏ）nの濃度が、それぞれ、７０００個／ｃｍ3以上となるように、クラスターイオンＨ+（Ｈ2Ｏ）m及びクラスターイオンＯ2 -（Ｈ2Ｏ）nを供給することが好ましい。クラスターイオンＨ+（Ｈ2Ｏ）m及びクラスターイオンＯ2 -（Ｈ2Ｏ）nの濃度が、それぞれ、７０００個／ｃｍ3以上であれば、細菌及びウイルス等の生育及び増殖を減らすことができる。
　また、クラスターイオンＨ+（Ｈ2Ｏ）m及びクラスターイオンＯ2 -（Ｈ2Ｏ）nの濃度の上限値は、培養の対象となる細胞によって異なる。そのため、細胞培養を開始する前に培養の対象となる細胞の種類に応じて、作業空間１４におけるクラスターイオンＨ+（Ｈ2Ｏ）m及びクラスターイオンＯ2 -（Ｈ2Ｏ）nの濃度を設定してもよい。詳細には、イオン部７０は、作業空間１４内におけるクラスターイオンＨ+（Ｈ2Ｏ）m及びクラスターイオンＯ2 -（Ｈ2Ｏ）nの濃度が、それぞれ、１００万個／ｃｍ3以下となるように、クラスターイオンＨ+（Ｈ2Ｏ）m及びクラスターイオンＯ2 -（Ｈ2Ｏ）nを供給することが好ましい。クラスターイオンＨ+（Ｈ2Ｏ）m及びクラスターイオンＯ2 -（Ｈ2Ｏ）nの濃度が、それぞれ、１００万個／ｃｍ3以下であれば、細胞に対して悪影響を及ぼすことなく抗菌することができる。
　続けて図３を参照して、実施形態１に係る抗菌方法を詳細に説明する。図３は、実施形態１に係る抗菌システム１００の構成を示す図である。図３に示すように、抗菌装置５０は、オゾン排出部９０を更に備える。
　オゾン排出部９０は、オゾン（Ｏ3）を作業空間１４から排出する。具体的には、オゾン排出部９０は、ファンである。ファンは、回転する。ファンは回転することで風を発生させる。
　制御部８０は、オゾン排出部９０のオン／オフを切り替える。詳細には、制御部８０は、第１期間後の所定期間にオゾン排出部９０をオンにする。換言すれば、制御部８０は、第１期間後の所定期間に、オゾン（Ｏ3）を排出する排出処理工程を実行する。その結果、作業空間１４にオゾン（Ｏ3）が存在しない。よって、作業空間１４に人が存在できる。詳細には、オゾン検出器等を用いて作業空間１４内のオゾン（Ｏ3）の濃度を計測し、オゾン（Ｏ3）の濃度が安全な基準値以下になってから、作業空間１４に作業者が入室する。
　続けて図４及び図５を参照して、実施形態１に係る抗菌方法を詳細に説明する。図４は、実施形態１に係る抗菌方法を示すタイムテーブルである。図４に示すように、抗菌方法は、抗菌処理工程Ｐ１と、排出処理工程Ｐ２と、イオン処理工程Ｐ３と、作業Ｐ４と、保存処理工程Ｐ５とを含む。抗菌方法は、抗菌システム１００によって実行される。
　作業Ｐ４では、細胞培養に関する作業を作業者が作業空間１４で行う。作業Ｐ４は、第１期間外に実行される。換言すれば、第１期間中に作業者が作業空間１４に存在しない。その結果、作業者は、オゾン（Ｏ3）によって悪影響を受けない。
　保存処理工程Ｐ５では、再生医療に関わる多細胞生物の細胞を作業空間１４で保存、培養する。保存処理工程Ｐ５は、第１期間外に実行される。換言すれば、第１期間中に細胞が作業空間１４に存在しない。その結果、細胞は、オゾン（Ｏ3）によって悪影響を受けない。
　図５は、実施形態１に係る抗菌方法を示すフローチャートである。抗菌方法は、処理Ｓ１０１～処理Ｓ１１２を含む。
　図４及び図５に示すように、時間ｔ１に、抗菌処理工程Ｐ１を開始する。具体的には、処理Ｓ１０１において、制御部８０の制御によって、抗菌部６０は、オゾン（Ｏ3）を作業空間１４に向けて送出することを開始する。その結果、作業空間１４にオゾン（Ｏ3）が存在する。
　次に、時間ｔ２に、イオン処理工程Ｐ３を開始する。具体的には、処理Ｓ１０２において、制御部８０の制御によって、イオン部７０は、クラスターイオンＨ+（Ｈ2Ｏ）m及びクラスターイオンＯ2 -（Ｈ2Ｏ）nを作業空間１４に向けて送出することを開始する。その結果、作業空間１４にクラスターイオンＨ+（Ｈ2Ｏ）m及びクラスターイオンＯ2 -（Ｈ2Ｏ）nが存在する。
　次に、時間ｔ３に、抗菌処理工程Ｐ１を終了する。具体的には、処理Ｓ１０３において、制御部８０の制御によって、抗菌部６０は、オゾン（Ｏ3）を作業空間１４に向けて送出することを終了する。
　次に、時間ｔ３に、排出処理工程Ｐ２を開始する。具体的には、処理Ｓ１０４において、制御部８０の制御によって、オゾン排出部９０は、オゾン（Ｏ3）を作業空間１４から排出することを開始する。
　次に、時間ｔ４に、排出処理工程Ｐ２を終了する。具体的には、処理Ｓ１０５において、制御部８０の制御によって、オゾン排出部９０は、オゾン（Ｏ3）を作業空間１４から排出することを終了する。その結果、作業空間１４にオゾン（Ｏ3）が存在しない。
　次に、時間ｔ４に、作業Ｐ４を開始する。具体的には、処理Ｓ１０６において、細胞培養に関する作業Ｐ４を作業者が作業空間１４で行うことを開始する。詳細には、ドア１５が開閉されることで、作業空間１４に作業者が入る。作業空間１４に、作業者とともに、クラスターイオンＨ+（Ｈ2Ｏ）m及びクラスターイオンＯ2 -（Ｈ2Ｏ）nが存在する。
　次に、時間ｔ５に、作業Ｐ４を終了する。具体的には、処理Ｓ１０７において、細胞培養に関する作業Ｐ４を作業者が作業空間１４で行うことを終了する。詳細には、作業空間１４に、作業者とともに、クラスターイオンＨ+（Ｈ2Ｏ）m及びクラスターイオンＯ2 -（Ｈ2Ｏ）nが存在する。ドア１５が開閉されることで、作業空間１４から作業者が出る。
　次に、時間ｔ５に、保存処理工程Ｐ５を開始する。具体的には、処理Ｓ１０８において、細胞培養を作業空間１４で行うことを開始する。詳細には、作業空間１４に、細胞とともに、クラスターイオンＨ+（Ｈ2Ｏ）m及びクラスターイオンＯ2 -（Ｈ2Ｏ）nが存在する。
　次に、時間ｔ６に、保存処理工程Ｐ５を終了する。具体的には、処理Ｓ１０９において、細胞培養を作業空間１４で行うことを終了する。詳細には、作業空間１４に、細胞とともに、クラスターイオンＨ+（Ｈ2Ｏ）m及びクラスターイオンＯ2 -（Ｈ2Ｏ）nが存在する。
　次に、時間ｔ６に、イオン処理工程Ｐ３を終了する。具体的には、処理Ｓ１１０において、制御部８０の制御によって、イオン部７０は、クラスターイオンＨ+（Ｈ2Ｏ）m及びクラスターイオンＯ2 -（Ｈ2Ｏ）nを作業空間１４に向けて送出することを終了する。詳細には、ドア１５が開閉されることで、培養された細胞を作業空間１４から取出すために、作業空間１４に作業者が出入りする。
　次に、時間ｔ６に、抗菌処理工程Ｐ１を開始する。具体的には、処理Ｓ１１１において、制御部８０の制御によって、抗菌部６０は、オゾン（Ｏ3）を作業空間１４に向けて送出することを開始する。その結果、作業空間１４にオゾン（Ｏ3）が存在する。
　次に、時間ｔ７に、抗菌処理工程Ｐ１を終了する。具体的には、処理Ｓ１１２において、制御部８０の制御によって、抗菌部６０は、オゾン（Ｏ3）を作業空間１４に向けて送出することを終了する。そして、抗菌方法が終了する。
　以上、図５を参照して説明したように、実施形態１によれば、抗菌処理工程Ｐ１を実行した後から次の抗菌処理工程Ｐ１を実行する前までの間で、イオン処理工程Ｐ３を実行しているときに、細胞培養に関する作業Ｐ４を作業者が行い、保存処理工程Ｐ５を行う。その結果、衛生環境が良好に維持された作業空間１４で、作業Ｐ４を作業者が行い、保存処理工程Ｐ５を行うことができる。詳細には、抗菌処理工程Ｐ１後、作業者が入室して作業を行う作業段階で、イオン処理工程Ｐ３を継続して行う。その結果、作業者が入室する時に微生物が作業空間１４にコンタミした場合でも、微生物を死滅させ、又は、微生物の生育及び増殖を抑制し、作業空間１４の衛生環境を良好に保つことができる。
［実施形態２］
　次に、図６を参照して、本発明の実施形態２に係る抗菌システム２００を説明する。また、実施形態２の抗菌システム２００は、手術室である点で、実施形態１と異なる。また、実施形態２の抗菌システム２００は、複数の紫外光源部２６０を備える点で、実施形態１と異なる。以下、実施形態２について、実施形態１と異なる事項について説明し、実施形態１と重複する部分についての説明は割愛する。
　図６は、本発明の実施形態２に係る抗菌システム２００の構成を示す図である。図６に示すように、抗菌システム２００は、例えば、医師が患者を手術するための手術室である。
　作業空間１４には、例えば、手術設備２２１が配置されている。
　抗菌装置５０は、複数の紫外光源部２６０を備える。複数の紫外光源部２６０の各々は、紫外光源を備える。紫外光源は、紫外光を出射する。紫外光は、抗菌作用を有する光の一例である。詳細には、紫外光が作業空間１４の隅々まで行きわたるように、紫外光源部２６０の設置位置及び個数が設定される。その結果、紫外光が、作業空間１４の全体に照射される。
　紫外光は、微生物に照射されると、微生物を不活化して、微生物の生命活動を減退させることができる。なお、紫外光は、エネルギーが非常に高いので、微生物だけでなく、人及び細胞に照射すると、人及び細胞に対して悪影響を及ぼす可能性がある。
　詳細には、制御部８０は、第１期間に紫外光源部２６０をオンにし、第１期間外に紫外光源部２６０をオフする。換言すれば、制御部８０は、第１期間に、紫外光源部２６０から紫外光を作業空間１４に向けて照射する抗菌処理工程を実行する。
　以上、図６を参照して説明したように、実施形態２によれば、所定期間（例えば１日、１週間）を空けて、紫外光を作業空間１４に向けて照射する抗菌処理工程を、実行する。また、抗菌処理工程を実行した後から次の抗菌処理工程を実行する前までの間に、作業空間１４にクラスターイオンＨ+（Ｈ2Ｏ）m及びクラスターイオンＯ2 -（Ｈ2Ｏ）nを送出する。その結果、作業空間１４にクラスターイオンＨ+（Ｈ2Ｏ）m及びクラスターイオンＯ2 -（Ｈ2Ｏ）nが存在するため、作業空間１４に微生物が存在することを抑制できる。また、紫外光の照射では、オゾン（Ｏ3）のような物質の残渣が無いため、紫外光源部２６０をオフにした瞬間から入室可能である。
［実施形態３］
　次に、図７を参照して、本発明の実施形態３に係る抗菌システム３００を説明する。また、実施形態３の抗菌システム３００は、食品工場である点で、実施形態１と異なる。また、実施形態３の抗菌装置５０は、液体噴射部３６０と液体タンク３９０とを備える点で、実施形態１と異なる。以下、実施形態３について、実施形態１と異なる事項について説明し、実施形態１と重複する部分についての説明は割愛する。
　図７は、本発明の実施形態３に係る抗菌システム３００の構成を示す図である。図７に示すように、抗菌システム３００は、例えば、作業者が酵母を用いて加工するための食品工場である。
　作業空間１４には、例えば、工場設備３２１が配置されている。
　抗菌装置５０は、液体噴射部３６０と、液体タンク３９０とを備える。液体噴射部３６０は、例えば、液体タンク３９０からエタノールを液体粒子として噴射する装置である。エタノールは、抗菌作用を有する液体粒子の一例である。
　詳細には、液体粒子が作業空間１４の隅々まで行きわたるように、液体噴射部３６０の設置位置及び噴射方向が設定される。その結果、エタノールが、作業空間１４の全体に拡散する。
　エタノールは、空気中に放出されると、微生物の表面を取り囲む。エタノールは、微生物を不活化して、微生物の生命活動を減退させることができる。なお、エタノールは、微生物だけでなく、人及び酵母に放出すると、人及び酵母に対して悪影響を及ぼす可能性がある。
　詳細には、制御部８０は、第１期間に液体噴射部３６０をオンにし、第１期間外に液体噴射部３６０をオフにする。換言すれば、制御部８０は、第１期間に、液体噴射部３６０からエタノールを作業空間１４に向けて噴射する抗菌処理工程を実行する。
　以上、図７を参照して説明したように、実施形態３によれば、所定期間（例えば１日、１週間）を空けて、エタノールを作業空間１４に向けて噴射する抗菌処理工程を実行する。また、抗菌処理工程を実行した後から次の抗菌処理工程を実行する前までの間に、作業空間１４にクラスターイオンＨ+（Ｈ2Ｏ）m及びクラスターイオンＯ2 -（Ｈ2Ｏ）nを送出する。その結果、作業空間１４にクラスターイオンＨ+（Ｈ2Ｏ）m及びクラスターイオンＯ2 -（Ｈ2Ｏ）nが存在するため、作業空間１４の衛生環境を良好に維持できる。
［実施形態４］
　次に、図８を参照して、本発明の実施形態４に係る抗菌システム４００を説明する。また、実施形態４の抗菌システム４００は、収容容器である点で、実施形態１と異なる。以下、実施形態４について、実施形態１と異なる事項について説明し、実施形態１と重複する部分についての説明は割愛する。
　図８は、本発明の実施形態４に係る抗菌システム４００の構成を示す図である。図８に示すように、抗菌システム４００は、例えば、食物ＳＡを収容するための収容容器である。
　具体的には、抗菌システム４００は、収容容器４１０と、抗菌装置５０とを備える。
　収容容器４１０は、複数の壁面４１１と、底壁４１２と、上壁４１３とを有する。複数の壁面４１１と、底壁４１２と、上壁４１３とによって、収容空間４１４が画定されている。収容空間４１４は、対象空間の一例である。収容空間４１４は、食物を収容するための空間である。複数の壁面４１１の内の少なくとも１つの壁面４１１には、扉４１５が設けられている。扉４１５が開閉されることで、収容空間４１４への食物ＳＡの出入りが行われる。
　抗菌装置５０は、複数の壁面４１１と底壁４１２と上壁４１３との内の少なくとも１箇所に配置される。具体的には、抗菌装置５０は、上壁４１３に配置される。
　以上、図８を参照して説明したように、実施形態４によれば、所定期間（例えば１日、１週間）を空けて、オゾン（Ｏ3）を収容空間４１４に向けて送出する抗菌処理工程を実行する。また、抗菌処理工程を実行した後から次の抗菌処理工程を実行する前までの間に、収容空間４１４にクラスターイオンＨ+（Ｈ2Ｏ）m及びクラスターイオンＯ2 -（Ｈ2Ｏ）nを送出する。その結果、収容空間４１４にクラスターイオンＨ+（Ｈ2Ｏ）m及びクラスターイオンＯ2 -（Ｈ2Ｏ）nが存在するめ、収容空間４１４の衛生環境を良好に維持できる。
　以上、図面を参照しながら本発明の実施形態を説明した。但し、本発明は、上記の実施形態に限られるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々の態様において実施することが可能である。また、上記の各実施形態に開示されている複数の構成要素を適宜組み合わせることによって、種々の発明の形成が可能である。例えば、実施形態に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよい。更に、異なる実施形態にわたる構成要素を適宜組み合わせてもよい。図面は、理解しやすくするために、それぞれの構成要素を主体に模式的に示しており、図示された各構成要素の厚み、長さ、個数、間隔等は、図面作成の都合上から実際とは異なる。また、上記の実施形態で示す各構成要素の速度、材質、形状、寸法等は一例であって、特に限定されるものではなく、本発明の構成から実質的に逸脱しない範囲で種々の変更が可能である。
　（１）図１～図５を参照して説明したように、実施形態１では、抗菌処理工程を実行した後から次の抗菌処理工程を実行する前までの期間に、１回、イオン処理工程を実行したが、本発明はこれに限定されない。抗菌処理工程を実行した後から次の抗菌処理工程を実行する前までの期間に、複数回、イオン処理を実行してもよい。換言すれば、抗菌処理工程を実行した後から次の抗菌処理工程を実行する前までの期間に、制御部８０は、イオン部７０のオンとオフとを繰り返してもよい。
　（２）実施形態１では、抗菌部６０は、オゾン（Ｏ3）を作業空間１４に向けて送出したが、本発明はこれに限定されない。抗菌部６０は、過酸化水素ガスを作業空間１４に向けて送出してもよい。
　（３）実施形態３では、液体噴射部３６０は、エタノールを液体粒子として噴射する装置であったが、本発明はこれに限定されない。液体噴射部３６０は、ホルマリンを液体粒子として噴射する装置であってもよい。
　本発明は、抗菌方法及び抗菌装置の分野に利用可能である。
１４　　　対象空間
５０　　　抗菌装置
６０　　　抗菌部
７０　　　イオン部
８０　　　制御部

Claims (6)

  1. 　抗菌作用を有する光、抗菌作用を有する気体、及び、抗菌作用を有する液体粒子の内の少なくとも１種を対象空間に向けて送出する少なくとも２回の抗菌処理工程と、
    　イオンを前記対象空間に向けて送出するイオン処理工程と
    を含み、
    　前記イオン処理工程の開始時間は、先の前記抗菌処理工程の開始時間から、次の前記抗菌処理工程の開始時間より前までの間に含まれ、
    　前記イオン処理工程の終了時間は、前記先の抗菌処理工程の終了時間より後の時間である、抗菌方法。
  2. 　前記光、前記気体及び前記液体粒子の前記抗菌作用は、前記イオンの抗菌作用よりも強く、
    　前記抗菌処理工程の実行中に前記対象空間には作業者が存在しない、請求項１に記載の抗菌方法。
  3. 　前記イオン処理工程の実行中に前記対象空間において前記作業者による作業が行われる、請求項２に記載の抗菌方法。
  4. 　前記イオン処理工程の開始時間は、前記抗菌処理工程の終了時間より前の時間である、請求項１から請求項３のいずれか１項に記載の抗菌方法。
  5. 　前記抗菌処理工程において前記気体又は前記液体粒子を送出した後、前記気体又は前記液体粒子を前記対象空間から排出する排出処理工程を更に含む、請求項１から請求項４のいずれか１項に記載の抗菌方法。
  6. 　抗菌作用を有する光、抗菌作用を有する気体、及び、抗菌作用を有する液体粒子の内の少なくとも１種を対象空間に向けて送出する抗菌部と、
    　イオンを前記対象空間に向けて送出するイオン部と、
    　前記抗菌部及び前記イオン部を制御する制御部と
    を備える、抗菌装置。
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