CN116096436A - 抗菌方法及抗菌装置 - Google Patents

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Abstract

抗菌装置(50)具备抗菌部(60)、离子部(70)以及控制部(80)。抗菌部(60)将具有抗菌作用的光、具有抗菌作用的气体以及具有抗菌作用的液体粒子中的至少一种向对象空间(14)送出。离子部(70)向对象空间(14)送出离子。控制部(80)控制抗菌部(60)和离子部(70)。光、气体以及液体粒子的抗菌作用比离子的抗菌作用强。

Description

抗菌方法及抗菌装置
技术领域
本发明涉及抗菌方法及抗菌装置。
背景技术
在进行细胞培养的情况下，为了防止污染，在清洁空间(无菌空间)内进行作业。在专利文献1中公开了形成清洁空间的安全柜的一个示例。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：特开2016-165249号公报
发明内容
本发明所要解决的技术问题
为了维持清洁空间，需要在细胞培养的区分良好的定时进行除菌处理。作为除菌处理，一般进行使用福尔马林、过醋酸制剂、过氧化氢或紫外线等的处理。但是，这样的除菌处理对人体有害，因此必须确保在除菌处理后作业人员进入清洁空间内之前没有除菌处理中使用的物质的残渣。在用于确保没有物质的残渣的时间、或者作业人员进入清洁空间时等，有可能在清洁空间引起污染。
本发明是鉴于上述课题而完成的，目的在于提供能够良好地维持对象空间的卫生环境的抗菌方法和抗菌装置。
用于解决技术问题的技术方案
根据本发明第一观点，抗菌方法至少包括两次抗菌处理工序和离子处理工序。在所述抗菌处理工序中，将具有抗菌作用的光、具有抗菌作用的气体、以及具有抗菌作用的液体粒子中的至少一种向对象空间送出。在所述离子处理工序中，将离子向所述对象空间送出。所述离子处理工序的开始时间包含在从先前的所述抗菌处理工序的开始时间到下一次所述抗菌处理工序的开始时间之前的期间，所述离子处理工序的结束时间是在所述先前的抗菌处理工序的结束时间之后的时间。
根据本发明第二观点，抗菌装置具备抗菌部、离子部以及控制部。所述抗菌部将具有抗菌作用的光、具有抗菌作用的气体以及具有抗菌作用的液体粒子中的至少一种向对象空间送出。所述离子部向着所述对象空间送出离子。所述控制部控制所述抗菌部和所述离子部。
有益效果
根据本发明的抗菌方法及抗菌装置，能够良好地维持对象空间的卫生环境。
附图说明
图1是表示本发明的第一实施方式的抗菌系统的构成的图。
图2是表示第一实施方式的抗菌方法的流程图。
图3是表示第一实施方式的抗菌系统的构成的图。
图4是表示第一实施方式的抗菌方法的时间表。
图5是表示第一实施方式的抗菌方法的流程图。
图6是表示本发明的第二实施方式的抗菌系统的构成的图。
图7是表示本发明的第三实施方式的抗菌系统的构成的图。
图8是表示本发明的第四实施方式的抗菌系统的构成的图。
具体实施方式
下面，参照附图说明本发明的实施方式。另外，在图中对相同或相当的部分标注相同的参照符号，不重复说明。
[第一实施方式]
参照图1说明抗菌系统100。图1是表示本发明的第一实施方式的抗菌系统100的构成的图。如图1所示，抗菌系统100例如是用于作业人员培养与再生医疗有关的多细胞生物的细胞并进行与细胞培养有关的作业的细胞培养设施。细胞例如是来自动植物的细胞，在第一实施方式中为人工多能性干细胞(iPS细胞)。另外，作为用于培养用于再生医疗的细胞以外的细胞的系统，也可以使用抗菌系统100。
具体而言，抗菌系统100具备作业室10和抗菌装置50。此外，抗菌系统100也可以具备多个作业室10。另外，抗菌系统100也可以具有多个抗菌装置50。
作业室10具有多个壁面11、地板12和天花板13。由多个壁面11、地板12和天花板13划定作业空间14。作业空间14是对象空间的一个示例。作业空间14是用于进行细胞培养和与细胞培养有关的作业的空间。在多个壁面11内的至少1个壁面11上设有门15。通过开闭门15，进行作业人员向作业空间14的进出。
在作业空间14配置有例如安全柜21、洁净室22和培养室23。另外，安全柜21、洁净室22和培养室23的配置没有特别限定，也可以仅配置安全柜21、洁净室22和培养室23内的一部分。
抗菌装置50具备抗菌部60、离子部70和控制部80。
抗菌装置50配置在多个壁面11、地板12、天花板13内的至少一处。具体而言，抗菌装置50配置在天花板13上。
抗菌部60将具有抗菌作用的光、具有抗菌作用的气体以及具有抗菌作用的液体粒子中的至少一种向作业空间14送出。换言之，抗菌部60执行抗菌处理工序。在本说明书中，抗菌这一概念不仅包括例如杀灭细菌、霉菌类、病毒等微生物，还包括抑制微生物的生长及增殖。
具体而言，抗菌部60具备臭氧产生装置和送出部。臭氧产生装置例如是通过放电而从氧分子(O2)生成臭氧(O3)的放电装置。臭氧(O3)是具有抗菌作用的气体的一个示例。具体而言，臭氧发生装置包括一对放电电极(未图示)。作为放电方式，例如可列举等离子体放电或电晕放电。
送出部将臭氧(O3)向作业空间14送出。送出部是风扇。风扇旋转。风扇通过旋转产生风。送出部产生的风包括臭氧(O3)，送出部将臭氧(O3)向作业空间14送出。详细而言，设定抗菌部60的设置位置和送风方向，以使送出部产生的风遍布作业空间14的各个角落。其结果，臭氧(O3)扩散到整个作业空间14。
臭氧(O3)被放出到空气中时包围微生物的表面。臭氧(O3)能够使微生物灭活而减少微生物的生命活动。另外，由于臭氧(O3)是氧化力非常高的活性种，因此，不仅是微生物，当释放到人及细胞时，有可能对人及细胞产生不良影响。
离子部70向作业空间14送出离子。换言之，离子部70执行离子处理工序。
离子的抗菌作用比臭氧(O3)的抗菌作用弱。但是，离子能够使微生物灭活，使微生物的生命活动减退。另外，离子对人及细胞几乎没有任何不良影响。
具体而言，离子发生部是通过放电产生离子的放电装置。更具体而言，离子发生部是通过放电产生正离子和负离子的放电装置。另外，离子发生部也可以是通过放电仅产生正离子或负离子中的任一方的放电装置。
控制部80控制抗菌部60和离子部70。控制部80例如是计算机。控制部80例如包括CPU(Central Processing Unit)等处理器。具体而言，控制部80切换抗菌部60和离子部70的接通/断开。接通是指例如接通电源。断开是指例如断开电源。
详细而言，控制部80在第一期间使抗菌部60接通，在第一期间外使抗菌部60断开。换言之，控制部80在第一期间执行将臭氧(O3)从抗菌部60向作业空间14送出的抗菌处理工序。此外，控制部80至少执行两次抗菌处理工序。例如，控制部80空开规定期间(例如1天、1周)执行抗菌处理工序。
此外，控制部80在第二期间使离子部70接通，在第二期间外使离子部70断开。换言之，控制部80在第二期间执行从离子部70向作业空间14送出离子的离子处理工序。
第二期间的一部分包含在从执行抗菌处理工序后到执行下一次抗菌处理工序前的期间。换言之，第二期间的一部分包含在从执行抗菌处理工序后到执行抗菌处理工序之后紧接着的下一次抗菌处理工序前的期间。具体而言，离子处理工序的开始时间包含在从先前的抗菌处理工序的开始时间到下一次抗菌处理工序的开始时间之前的期间。详细而言，离子处理工序的开始时间可以是先前的抗菌处理工序的结束时间之前的时间，也可以是与先前的抗菌处理工序的结束时间相同的时间，还可以是先前的抗菌处理工序的结束时间之后的时间。此外，离子处理工序的结束时间是比先前的抗菌处理工序的结束时间靠后的时间。详细而言，离子处理工序的结束时间既可以是比下一次抗菌处理工序的开始时间靠前的时间，也可以是与下一次抗菌处理工序的开始时间相同的时间，也可以是比下一次抗菌处理工序的开始时间靠后的时间。优选在从执行抗菌处理工序后到执行下一次抗菌处理工序前的整个期间，执行离子处理工序。更优选，离子处理工序的开始时间为先前的抗菌处理工序的结束时间之前的时间。
以上，如参照图1所说明的那样，根据第一实施方式，离子处理工序的开始时间包含于从先前的抗菌处理工序的开始时间到下一抗菌处理工序的开始时间之前的期间内。此外，离子处理工序的结束时间是比先前的抗菌处理工序的结束时间靠后的时间。换言之，在从执行先前的抗菌处理工序后到执行下一次的抗菌处理工序前的期间，向作业空间14送出离子。其结果是，在从执行先前的抗菌处理工序后到执行下一次的抗菌处理工序前的期间，由于在作业空间14中存在离子，因此能够良好地维持作业空间14的卫生环境。
接着，参照图2，说明第一实施方式的抗菌方法。图2是表示第一实施方式的抗菌方法的流程图。如图2所示，抗菌方法包括处理S1～处理S6。抗菌方法由抗菌系统100执行。
首先，在处理S1中，通过控制部80的控制，抗菌部60开始将臭氧(O3)向作业空间14送出的抗菌处理工序。其结果，在作业空间14中存在臭氧(O3)。
接着，在处理S2中，通过控制部80的控制，抗菌部60结束将臭氧(O3)向作业空间14送出的抗菌处理工序。
接着，在处理S3中，通过控制部80的控制，离子部70开始将离子向作业空间14送出的离子处理工序。其结果，在作业空间14中存在离子。
接着，在处理S4中，通过控制部80的控制，离子部70结束将离子向作业空间14送出的离子处理工序。
接着，在处理S5中，通过控制部80的控制，抗菌部60开始将臭氧(O3)向作业空间14送出的抗菌处理工序。其结果，在作业空间14中存在臭氧(O3)。
接着，在处理S6中，通过控制部80的控制，抗菌部60结束将臭氧(O3)向作业空间14送出的抗菌处理工序。然后，抗菌方法结束。
以上，如参照图2所说明的那样，根据第一实施方式，空开规定期间而执行两次抗菌处理工序。此外，在从执行抗菌处理工序后到执行下一次抗菌处理工序前的期间，向作业空间14送出离子。其结果是，在从执行抗菌处理工序后到执行下一次抗菌处理工序前的期间，由于在作业空间14中存在离子，因此能够良好地维持作业空间14的卫生环境。
在此，说明离子部70。具体而言，离子部70具备离子产生部和送出部。
具体而言，离子发生部包括一对放电电极(未图示)。详细而言，对一对放电电极的一方施加正电压。当对放电电极施加正电压时，空气中的水分子(H2O)通过放电而电分解，主要生成氢离子H+。然后，空气中的水分子(H2O)在生成的氢离子H+的周围凝集，形成电荷正的稳定的簇离子H+(H2O)m。m是自然数。电荷正的稳定的簇离子H+(H2O)m是正离子的一个示例。另外，簇离子H+(H2O)m的生成能够通过飞行时间分解型质量分析法来确认。
另一方面，对一对放电电极的另一方施加负电压。如果对放电电极施加负电压，则通过放电使空气中的氧分子(O2)离子化，主要生成氧分子离子(超氧化物离子)O2 -。然后，空气中的水分子(H2O)凝集于生成的氧分子离子(超氧化物离子)(O2 -)的周围，形成电荷为负的稳定的簇离子O2 -(H2O)n。n是自然数。电荷为负的稳定的簇离子O2 -(H2O)n是负离子的一个示例。另外，簇离子H+(H2O)m的生成能够通过飞行时间分解型质量分析法来确认。
送出部将簇离子H+(H2O)m和簇离子O2 -(H2O)n向作业空间14送出。送出部是风扇。风扇进行旋转。风扇通过旋转产生风。送出部产生的风包含簇离子H+(H2O)m和簇离子O2 -(H2O)n，送出部能够将簇离子H+(H2O)m和簇离子O2 -(H2O)n向作业空间14送出。详细而言，以使送出部产生的风遍布作业空间14的各个角落的方式设定离子部70的设置位置以及送风方向。其结果是，簇离子H+(H2O)m和簇离子O2 -(H2O)n扩散到整个作业空间14。
例如，簇离子H+(H2O)m和簇离子O2 -(H2O)n同时排放到空气中时，包围微生物的表面。然后，瞬时结合簇离子H+(H2O)m和簇离子O2 -(H2O)n，在微生物的表面上生成[·OH](羟基自由基)。由于[·OH]为氧化力高的活性种，因此能够灭活微生物，使微生物的生命活动减退。
详细而言，优选离子部70以作业空间14内的簇离子H+(H2O)m和簇离子O2 -(H2O)n的浓度分别为7000个/cm3以上的方式供给簇离子H+(H2O)m和簇离子O2 -(H2O)n。如果簇离子H+(H2O)m和簇离子O2 -(H2O)n的浓度分别为7000个/cm3以上，则能够减少细菌和病毒等的生长和增殖。
此外，簇离子H+(H2O)m和簇离子O2 -(H2O)n的浓度的上限值根据作为培养对象的细胞而不同。因此，也可以根据在开始细胞培养之前作为培养对象的细胞的种类，设定作业空间14中的簇离子H+(H2O)m和簇离子O2 -(H2O)n的浓度。详细而言，优选离子部70以使作业空间14内的簇离子H+(H2O)m和簇离子O2 -(H2O)n的浓度分别为100万个/cm3以下的方式供给簇离子H+(H2O)m和簇离子O2 -(H2O)n，。簇离子H+(H2O)m和簇离子O2 -(H2O)n的浓度分别为100万个/cm3以下的话，能够不对细胞产生不良影响地进行抗菌。
接着，参照图3，对第一实施方式的抗菌方法进行详细说明。图3是表示第一实施方式的抗菌系统100的构成的图。如图3所示，抗菌装置50还具备臭氧排出部90。
臭氧排出部90将臭氧(O3)从作业空间14排出。具体而言，臭氧排出部90是风扇。风扇旋转。风扇通过旋转产生风。
控制部80切换臭氧排出部90的接通/断开。详细而言，控制部80在第一期间后的规定期间使臭氧排出部90接通。换言之，控制部80在第一期间后的规定期间执行排出臭氧(O3)的排出处理工序。其结果，在作业空间14中不存在臭氧(O3)。因此，在作业空间14中可能存在人。详细而言，使用臭氧检测器等测量作业空间14内的臭氧(O3)的浓度，臭氧(O3)的浓度成为安全的基准值以下后，作业人员进入作业空间14。
接着，参照图4及图5，对第一实施方式的抗菌方法进行详细说明。图4是表示第一实施方式的抗菌方法的时间表。如图4所示，抗菌方法包括：抗菌处理工序P1、排出处理工序P2、离子处理工序P3、作业P4、保存处理工序P5。抗菌方法由抗菌系统100执行。
在作业P4中，作业人员在作业空间14进行与细胞培养有关的作业。作业P4在第一期间外执行。换言之，在第一期间，作业人员不存在于作业空间14中。其结果，作业人员不会受到臭氧(O3)的不良影响。
在保存处理工序P5中，将与再生医疗相关的多细胞生物的细胞在作业空间14中保存、培养。保存处理工序P5在第一期间外执行。换言之，在第一期间中，细胞不存在于作业空间14。结果，细胞不会受到臭氧(O3)的不良影响。
图5是表示第一实施方式的抗菌方法的流程图。抗菌方法包括处理S101～处理S112。
如图4及图5所示，在时间t1开始抗菌处理工序P1。具体而言，在处理S101中，通过控制部80的控制，抗菌部60开始将臭氧(O3)向作业空间14送出。其结果，在作业空间14中存在臭氧(O3)。
接着，在时间t2开始离子处理工序P3。具体而言，在处理S102中，通过控制部80的控制，离子部70开始将簇离子H+(H2O)m和簇离子O2 -(H2O)n向作业空间14送出。其结果是，在作业空间14中存在簇离子H+(H2O)m和簇离子O2 -(H2O)n。
接着，在时间t3结束抗菌处理工序P1。具体而言，在处理S103中，通过控制部80的控制，抗菌部60结束将臭氧(O3)向作业空间14送出。
接着，在时间t3开始排出处理工序P2。具体而言，在处理S104中，通过控制部80的控制，臭氧排出部90开始将臭氧(O3)从作业空间14排出。
接着，在时间t4结束排出处理工序P2。具体而言，在处理S105中，通过控制部80的控制，臭氧排出部90结束将臭氧(O3)从作业空间14排出。其结果，在作业空间14中不存在臭氧(O3)。
接着，在时间t4开始操作P4。具体而言，在处理S106中，作业人员在作业空间14进行与细胞培养有关的操作P4开始。详细而言，通过开闭门15，工作人员进入工作空间14。簇离子H+(H2O)m和簇离子O2 -(H2O)n与工作人员一同存在于工作空间14。
接着，在时间t5结束作业P4。具体而言，在处理S107中，作业人员在作业空间14进行与细胞培养有关的作业P4结束。详细而言，簇离子H+(H2O)m和簇离子O2 -(H2O)n与作业人员一同存在于作业空间14。通过开闭门15，作业人员从作业空间14出来。
接着，在时间t5开始保存处理工序P5。具体而言，在处理S108中，在作业空间14进行细胞培养开始。详细而言，簇离子H+(H2O)m和簇离子O2 -(H2O)n与细胞一同存在于作业空间14。
接着，在时间t6结束保存处理工序P5。具体而言，在处理S109中，结束在作业空间14进行细胞培养。详细而言，簇离子H+(H2O)m和簇离子O2 -(H2O)n与细胞一同存在于作业空间14。
接着，在时间t6结束离子处理工序P3。具体而言，在处理S110中，通过控制部80的控制，离子部70结束向作业空间14送出簇离子H+(H2O)m和簇离子O2 -(H2O)n。详细而言，通过门15开闭，作业人员出入作业空间14，以便从作业空间14取出培养的细胞。
接着，在时间t6开始抗菌处理工序P1。具体而言，在处理S111中，通过控制部80的控制，抗菌部60开始将臭氧(O3)向作业空间14送出。其结果，在作业空间14中存在臭氧(O3)。
接着，在时间t7结束抗菌处理工序P1。具体而言，在处理S112中，通过控制部80的控制，抗菌部60结束将臭氧(O3)向作业空间14送出。然后，抗菌方法结束。
以上，如参照图5所说明的那样，根据第一实施方式，在从执行抗菌处理工序P1后到执行下一次抗菌处理工序P1之前为止的期间内执行了离子处理工序P3时，作业人员进行与细胞培养有关的作业P4，进行保存处理工序P5。其结果，在卫生环境被良好地维持的作业空间14中，作业人员进行作业P4，能够进行保存处理工序P5。详细而言，抗菌处理工序P1后，在作业人员入室进行作业的作业阶段，继续进行离子处理工序P3。其结果，即使在作业人员入室时微生物污染作业空间14的情况下，也能够使微生物灭绝，或者抑制微生物的生长及增殖，良好地保持作业空间14的卫生环境。
[第二实施方式]
接着，参照图6说明本发明的第二实施方式的抗菌系统200。此外，第二实施方式的抗菌系统200在手术室这一点上与第一实施方式不同。此外，第二实施方式的抗菌系统200在具备多个紫外光源部260这一点上与第一实施方式不同。以下，关于第二实施方式，对与第一实施方式不同的事项进行说明，对于与第一实施方式重复的部分的说明省略。
图6是表示本发明的第二实施方式的抗菌系统200的构成的图。如图6所示，抗菌系统200例如是医生用于手术患者的手术室。
在作业空间14中例如配置有手术设备221。
抗菌装置50具备多个紫外光源部260。多个紫外光源部260分别具备紫外光源。紫外光源出射紫外光。紫外光是具有抗菌作用的光的一个示例。详细而言，以使得紫外光遍布作业空间14的各个角落的方式设定紫外光源部260的设置位置以及个数。其结果，紫外光照射到整个作业空间14。
紫外光被照射到微生物后，能够使微生物灭活，使微生物的生命活动减退。另外，紫外光的能量非常高，因此不仅向微生物照射，若向人及细胞照射，则有可能对人及细胞产生不良影响。
详细而言，控制部80在第一期间使紫外光源部260导通，在第一期间外使紫外光源部260断开。换言之，控制部80在第一期间执行从紫外光源部260向作业空间14照射紫外光的抗菌处理工序。
以上，如参照图6说明的那样，根据第二实施方式，隔开规定期间(例如1天、1周)，执行向作业空间14照射紫外光的抗菌处理工序。此外，在从执行抗菌处理工序后到执行下一次抗菌处理工序前的期间，向作业空间14送出簇离子H+(H2O)m和簇离子O2 -(H2O)n。其结果是，由于在作业空间14中存在簇离子H+(H2O)m和簇离子O2 -(H2O)n，因此能够抑制作业空间14中存在微生物。此外，在紫外光的照射中，由于没有臭氧(O3)那样的物质的残渣，因此能够从使紫外光源部260断开的瞬间进入。
[第三实施方式]
接着，参照图7说明本发明的第三实施方式的抗菌系统300。此外，第三实施方式的抗菌系统300在食品工厂这一点上与第一实施方式不同。此外，第三实施方式的抗菌装置50在具备液体喷射部360和液体箱390这点上与第一实施方式不同。以下，关于第三实施方式，对与第一实施方式不同的事项进行说明，省略针对与第一实施方式重复的部分的说明。
图7为表示本发明第三实施方式的抗菌系统300的构成的图。如图7所示，抗菌系统300例如是作业人员用于使用酵母进行加工的食品工厂。
在工作空间14中例如配置有工厂设备321。
抗菌装置50具备液体喷射部360和液体箱390。液体喷射部360例如是从液体箱390喷射乙醇作为液体粒子的装置。乙醇是具有抗菌作用的液体粒子的一个示例。
详细而言，以使液体粒子遍布至作业空间14的各个角落的方式设定液体喷射部360的设置位置和喷射方向。其结果，乙醇扩散到整个作业空间14。
乙醇被放出到空气中后，包围微生物的表面。乙醇能够使微生物灭活，使微生物的生命活动减退。另外，乙醇不仅是微生物，若释放到人和酵母，则有可能对人和酵母产生不良影响。
详细而言，控制部80在第一期间使液体喷射部360导通，在第一期间外使液体喷射部360断开。换言之，控制部80在第一期间执行从液体喷射部360向作业空间14喷射乙醇的抗菌处理工序。
以上，如参照图7所说明地，根据第三实施方式，隔开规定期间(例如1天、1周)，执行向作业空间14喷射乙醇的抗菌处理工序。此外，在从执行抗菌处理工序后到执行下一次抗菌处理工序前的期间，向作业空间14送出簇离子H+(H2O)m和簇离子O2 -(H2O)n。其结果是，由于在作业空间14中存在簇离子H+(H2O)m和簇离子O2 -(H2O)n，因此能够良好地维持作业空间14的卫生环境。
[第四实施方式]
接着，参照图8说明本发明的第四实施方式的抗菌系统400。此外，第四实施方式的抗菌系统400在处于收容容器这一点上与第一实施方式不同。以下，关于第四实施方式，对与第一实施方式不同的事项进行说明，省略针对与第一实施方式重复的部分的说明。
图8是表示本发明的第四实施方式的抗菌系统400的构成的图。如图8所示，抗菌系统400例如是用于收容食物SA的收容容器。
具体而言，抗菌系统400具备收容容器410及抗菌装置50。
收容容器410具有多个壁面411、底壁412及上壁413。通过多个壁面411、底壁412及上壁413划定收容空间414。收容空间414是对象空间的一个示例。收容空间414是用于收容食物的空间。在多个壁面411内的至少一个壁面411上设置有门415。通过开闭门415，进行食物SA向收容空间414的出入。
抗菌装置50配置在多个壁面411、底壁412和上壁413中的至少一个部位。具体而言，抗菌装置50配置在上壁413。
以上，如参照图8所说明的那样，根据第四实施方式，执行隔开规定期间(例如1天、1周)将臭氧(O3)朝向收容空间414送出的抗菌处理工序。此外，在从执行抗菌处理工序后到执行下一次抗菌处理工序前的期间，向收容空间414送出簇离子H+(H2O)m和簇离子O2 -(H2O)n。其结果是，由于在收容空间414中存在簇离子H+(H2O)m和簇离子O2 -(H2O)n，因此能够良好地维持收容空间414的卫生环境。
以上，参照附图说明了本发明的实施方式。但是，本发明并不限定于上述实施方式，在不脱离其宗旨的范围内，可以在各种方式下实施。此外，通过适当组合上述各实施方式所公开的多个构成要素，能够形成各种发明。例如，也可以从实施方式所示的全部构成要素中删除几个构成要素。进而，也可以适当组合跨不同实施方式的构成部分。为了易于理解，附图以各构成部分为主而示意性地表示，图示的各构成要素的厚度、长度、个数、间隔等从附图制作的方便起与实际不同。此外，上述的实施方式所示的各构成要素的速度、材质、形状、尺寸等为一个示例，并无特别限定，能够在实质上不脱离本发明的构成的范围内进行各种变更。
如参照图1～图5所说明的那样，在第一实施方式中，在从执行抗菌处理工序后到执行下一次抗菌处理工序前的期间，执行了一次离子处理工序，但本发明并不限定于此。在从执行抗菌处理工序后到执行下一次抗菌处理工序前为止的期间，也可以多次执行离子处理。换言之，在从执行抗菌处理工序后到执行下一次抗菌处理工序前的期间，控制部80可以重复离子部70的接通和断开。
(2)在第一实施方式中，抗菌部60将臭氧(O3)向作业空间14送出，但本发明并不限定于此。抗菌部60可以将过氧化氢气体向作业空间14送出。
(3)在第三实施方式中，液体喷射部360是将乙醇作为液体粒子喷射的装置，但本发明并不限定于此。液体喷射部360也可以是将福尔马林作为液体粒子进行喷射的装置。
产业上的可利用性
本发明可用于抗菌方法及抗菌装置领域。
附图标记说明
14：对象空间
50：抗菌装置
60：抗菌部
70：离子部
80：控制部

Claims (6)

1.一种抗菌方法，其特征在于，所述抗菌方法包括：
至少2次抗菌处理工序，将具有抗菌作用的光、具有抗菌作用的气体以及具有抗菌作用的液体粒子中的至少一种向对象空间送出；以及
离子处理工序，向所述对象空间送出离子，
所述离子处理工序的开始时间包含于从先前的所述抗菌处理工序的开始时间到比下一次所述抗菌处理工序的开始时间靠前的期间，
所述离子处理工序的结束时间是比所述先前的抗菌处理工序的结束时间靠后的时间。
2.根据权利要求1所述的抗菌方法，其特征在于，
所述光、所述气体及所述液体粒子的所述抗菌作用比所述离子的抗菌作用强，
在所述抗菌处理工序的执行中，在所述对象空间中不存在作业人员。
3.根据权利要求2所述的抗菌方法，其特征在于，
在所述离子处理工序的执行中，所述作业人员在所述对象空间中进行作业。
4.根据权利要求1至3中任一项的抗菌方法，其特征在于，
所述离子处理工序的开始时间为比所述抗菌处理工序的结束时间靠前的时间。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的抗菌方法，其特征在于，
所述抗菌方法还包括排出处理工序，在所述抗菌处理工序中送出所述气体或所述液体粒子之后，将所述气体或所述液体粒子从所述对象空间排出。
6.一种抗菌部，其特征在于，其具备：
抗菌部，其将具有抗菌作用的光、具有抗菌作用的气体以及具有抗菌作用的液体粒子中的至少一种向对象空间送出；
离子部，其向所述对象空间送出离子；以及
控制部，其控制所述抗菌部和所述离子部。
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