WO2021241372A1 - モノフルオロメタンの製造方法 - Google Patents

モノフルオロメタンの製造方法 Download PDF

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    • C07B—GENERAL METHODS OF ORGANIC CHEMISTRY; APPARATUS THEREFOR
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    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
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    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
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    • C07C17/35—Preparation of halogenated hydrocarbons by reactions not affecting the number of carbon or of halogen atoms in the reaction
    • C07C17/354—Preparation of halogenated hydrocarbons by reactions not affecting the number of carbon or of halogen atoms in the reaction by hydrogenation
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
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    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C19/00—Acyclic saturated compounds containing halogen atoms
    • C07C19/08—Acyclic saturated compounds containing halogen atoms containing fluorine

Definitions

  • Monofluoromethane is widely used in applications such as etching gas for microfabrication of semiconductors.
  • an object of the present invention is to provide a production method capable of producing monofluoromethane by a vapor phase distribution method without using a catalyst.
  • the present inventor has made diligent studies in order to achieve the above object, and the raw material gas is discharged in a continuously flowing state, and then continuously discharged to the outside of the discharge region, whereby monofluoromethane can be obtained. We found that and completed the present invention.
  • An object of the present invention is to solve the above problems in an advantageous manner.
  • the present invention relates to a method for producing monofluoromethane, which comprises discharging with a gas, and then continuously discharging the gas to the outside of the discharge region.
  • one or more fluorine-containing compounds selected from the group consisting of difluoromethane and trifluoromethane are also referred to as “starting substances", and monofluoromethane is also referred to as “target substances”.
  • starting substances and monofluoromethane is also referred to as “target substances”.
  • target substances one or more selected from the group consisting of hydrogen gas and inert gas is also referred to as "inert gas or the like.
  • the raw material gas is discharged in a state of continuous flow to convert the raw material gas into a reaction gas containing a radical which is a precursor of monofluoromethane, and then a discharge region.
  • Monofluoromethane is produced by continuous discharge to the outside.
  • monofluoromethane can be produced by the gas phase distribution method without using a catalyst.
  • the method for producing monofluoromethane of the present invention includes one or more selected from the group consisting of difluoromethane and trifluoromethane in the raw material gas.
  • CH 2 F radical is a precursor of monofluoromethane during discharging, in particular are easily formed CHF radicals.
  • These radicals are easily generated from a fluorine compound that has hydrogen in the molecule in advance, while they are generated by a recombination reaction when a mixture of a fluorine compound that does not have hydrogen (for example, CF 4) and hydrogen gas is discharged. Hateful.
  • the content ratio of the starting substance in the raw material gas is preferably 0.5% by volume or more and 20% by volume or less.
  • the target substance can be efficiently produced.
  • monofluoromethane can be produced by a vapor phase distribution method without using a catalyst.
  • the production method of the present invention can avoid a situation such as a decrease in yield due to a decrease in catalyst activity, and can continuously produce monofluoromethane.
  • the starting material is one or more fluorine-containing compounds selected from the group consisting of difluoromethane and trifluoromethane. These may be used alone or in combination at any ratio.
  • the inert gas or the like is one or more selected from the group consisting of hydrogen gas and the inert gas.
  • the inert gas By including the inert gas in the raw material gas, the dissociation and discharge of the raw material gas become easy, and various active species can be generated from the starting material.
  • active species such as hydrogen radicals can be generated from the hydrogen gas.
  • Examples of the inert gas include N 2 , He, Ne, Ar, Xe, Kr, CO, and CO 2 , with N 2 , Ar, He, CO, and CO 2 being preferred, and N 2 , Ar being more preferred.
  • the inert gas or the like may be used alone or in combination of two or more at any ratio. Hydrogen gas and inert gas may be used in combination at any ratio.
  • the raw material gas includes a starting material, an inert gas and the like.
  • the balance of the raw material gas other than the starting material and the inert gas is preferably impurities that are inevitably mixed from the surrounding environment.
  • the content ratio of the starting material in the raw material gas is not particularly limited and can be adjusted at any ratio.
  • the content ratio of the starting substance in the raw material gas is preferably 0.1% by volume or more, more preferably 0.3% by volume or more, further preferably 0.5% by volume or more, and preferably 95% by volume or less, 50. By volume or less is more preferable, and 20% by volume or less is further preferable. In this case, it is preferable that the balance of the raw material gas is an inert gas or the like and impurities unavoidably mixed from the surrounding environment.
  • the raw material gas may contain a starting substance, an inert gas, etc. when it is discharged.
  • a starting material, an inert gas, and the like are separately supplied as gases to a gas phase flow reactor having a discharge mechanism (hereinafter, also simply referred to as “gas phase flow reactor”).
  • the raw material gas may be supplied, the whole may be supplied as a raw material gas, and the raw material gas may be used, or a part of the raw material gas may be supplied separately from the remaining gas to be used as the raw material gas. ..
  • Space velocity at the time of the raw material gas is continuously circulated to the gas phase flow reactor is not particularly limited, but is preferably 0.01H -1 or more, 0.1 h -1 or more preferably, 0.3h -1 or Is more preferable, and 100,000 h -1 or less is preferable, 50,000 h -1 or less is more preferable, and 10,000 h -1 or less is further preferable.
  • Space velocity is within the above range, it is possible to avoid difficulty in discharging, and the target substance can be efficiently produced without lowering the productivity.
  • the raw material gas is discharged in the gas phase flow reactor to generate radicals that are precursors of monofluoromethane.
  • the inert gas or the like contains hydrogen gas, hydrogen radicals are also generated.
  • a method for discharging the raw material gas a method having an electrode for applying a voltage for causing discharge can be used, for example, high frequency discharge, microwave discharge, dielectric barrier discharge, glow discharge, arc discharge, corona discharge and the like.
  • the method can be used.
  • High frequency discharge, glow discharge, and arc discharge are preferable from the viewpoint of discharge stability and gas processing amount.
  • the pressure (absolute pressure) at the time of discharge is not particularly limited as long as it is a pressure at which the raw material gas can be discharged in the discharge method used, and is preferably 1 PaA or more, more preferably 5 PaA or more, and preferably 1 MPaA or less. 0.5 MPaA or less is more preferable. If the pressure (absolute pressure) is within the above range, the target substance can be efficiently produced.
  • the discharged gas may be discharged to the outside of the discharge region, discharged from the gas phase flow reactor, and then further introduced into a heat exchanger to be cooled.
  • the method of the heat exchanger is not particularly limited, and examples thereof include an air-cooled type and a water-cooled type. Since the released substance may contain hydrocarbons and the like in addition to the target substance, the target substance may be separated and purified by an arbitrary separation and purification step. Examples of the separation / purification method include distillation, absorption with a solution, membrane separation and the like.
  • Example 1 A metal gas phase flow reaction tube (CH 2 F 2 as a starting material, H 2 as an inert gas, etc., and a parallel plate type electrode capable of high frequency discharge at flow rates of 10 sccm and 290 sccm, respectively, mounted inside. It was introduced at a frequency of 60 MHz and a capacity of 35 L).
  • the mixed gas was discharged at a supply power of 500 W while maintaining the mixed gas at 10 PaA (absolute pressure). Gas was continuously released from the reaction tube and collected in an aluminum bag. A neutralization tube filled with KOH pellets is installed in front of the aluminum bag, and the collected gas is the gas that has passed through the neutralization tube.
  • GC-MS mass spectrometric gas chromatography
  • GC-FID hydrogen flame ionization gas chromatography
  • Table 1 The results are shown in Table 1.
  • Example 2 This is the same as in Example 1 except that the flow rates of CH 2 F 2 and H 2 are changed to 50 sccm and 250 sccm, respectively. The results are shown in Table 1.
  • Example 3 It is the same as the first embodiment except that H 2 is changed to Ar. The results are shown in Table 1.
  • Example 4 The same as in Example 1 except that CH 2 F 2 was used as the starting material and H 2 and Ar were used as the inert gas and introduced into the gas phase flow reaction tube at flow rates of 10 sccm, 50 sccm and 240 sccm, respectively. The results are shown in Table 1.
  • Example 5 This is the same as in Example 4 except that Ar is changed to N 2. The results are shown in Table 1.
  • Example 6 This is the same as in Example 1 except that CH 2 F 2 is changed to CH F 3. The results are shown in Table 1.
  • Example 7 This is the same as in Example 4 except that CH 2 F 2 is changed to CH F 3. The results are shown in Table 1.
  • a hydrogenation catalyst As a hydrogenation catalyst, a hydrogenation catalyst in which palladium (Pd) as an active ingredient was supported on activated carbon as a porous carrier at a ratio of 1 mol% was prepared. Then, a metal reaction tube having an outer diameter of 1/2 inch was filled with a hydrogenation catalyst so that the catalyst filling length was 10 cm. Next, 70 sccm of nitrogen gas and 30 sccm of hydrogen gas are simultaneously supplied to the reaction tube, and the temperature of the reaction tube is 350 under the condition of pressure (gauge pressure) of 101.3 kPa and the nitrogen gas and hydrogen gas are continuously circulated.
  • pressure gauge pressure
  • Example 4 This is the same as in Example 1 except that CH 2 F 2 is changed to CF 4. The results are shown in Table 1.
  • monofluoromethane can be produced by a vapor phase distribution method without using a catalyst.
  • the production method of the present invention can avoid a situation such as a decrease in yield due to a decrease in catalyst activity, and can continuously produce monofluoromethane, and has high industrial applicability.

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
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  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Abstract

モノフルオロメタンを、気相流通方式で、触媒を使用せずに製造可能な製造方法を提供する。本発明は、ジフルオロメタン及びトリフルオロメタンからなる群より選択される１種以上のフッ素含化合物と、水素ガス及び不活性ガスからなる群より選択される１種以上とを含む原料ガスを連続的に流通させた状態で放電させ、次いで放電領域外に連続的に放出する、モノフルオロメタンの製造方法である。

Description

モノフルオロメタンの製造方法
　本発明は、モノフルオロメタンの製造方法に関するものである。
　モノフルオロメタンは、半導体の微細加工用のエッチングガス等の用途に広く用いられている。
　そして、モノフルオロメタンの製造方法としては、フッ素化触媒の存在下、塩化メチル（ＣＨ3Ｃｌ）とフッ化水素とを気相で反応させてモノフルオロメタンを含む混合ガスを得た後、混合ガスからモノフルオロメタンを分離精製する方法が知られている。
特開２００６－１１１６１１号公報
　しかしながら、上記のモノフルオロメタンの製造方法は、フッ素化触媒の調製の負担が大きいことに加え、触媒の活性低下に伴い収率が低下するなど、連続的な製造が困難であった。
　そこで、本発明は、モノフルオロメタンを、気相流通方式で、触媒を使用せずに製造可能な製造方法を提供することを目的とする。
　本発明者は、上記目的を達成するために鋭意検討を行い、原料ガスを連続的に流通させた状態で放電させ、次いで放電領域外に連続的に放出することにより、モノフルオロメタンが得られることを見出し、本発明を完成させた。
　本発明は、上記課題を有利に解決することを目的とするものであり、
　ジフルオロメタン及びトリフルオロメタンからなる群より選択される１種以上のフッ素含有化合物と、水素ガス及び不活性ガスからなる群より選択される１種以上とを含む原料ガスを連続的に流通させた状態で放電させ、次いで放電領域外に連続的に放出することを含む、モノフルオロメタンの製造方法に関する。
　以下、ジフルオロメタン及びトリフルオロメタンからなる群より選択される１種以上のフッ素含有化合物を、「出発物質」ともいい、モノフルオロメタンを、「目的物質」ともいう。
　また、以下、水素ガス及び不活性ガスからなる群より選択される１種以上を、「不活性ガス等」ともいう。
　本発明のモノフルオロメタンの製造方法では、原料ガスを連続的に流通させた状態で放電させることで、原料ガスをモノフルオロメタンの前駆体となるラジカルを含む反応ガスに変換し、次いで放電領域外に連続的に放出することでモノフルオロメタンが生成する。このように、本発明によれば、気相流通方式で、触媒を使用せずに、モノフルオロメタンを製造することができる。
　本発明のモノフルオロメタンの製造方法は、上記原料ガスにジフルオロメタン及びトリフルオロメタンからなる群より選択される１種以上を含む。これらの化合物は、放電時にモノフルオロメタンの前駆体となるＣＨ2Ｆラジカル、ＣＨＦラジカルを特に生成しやすい。これらのラジカルは、分子内に水素を予め有するフッ素化合物から生成しやすく、一方、水素を有さないフッ素化合物（例えばＣＦ4）と水素ガスの混合物を放電させた際の再結合反応では生成しにくい。
　本発明のモノフルオロメタンの製造方法は、前記原料ガスに占める出発物質の含有割合が、０．５体積％以上２０体積％以下であることが好ましい。出発物質の含有割合が上記範囲内であれば、目的物質を効率的に製造することができる。
　本発明によれば、モノフルオロメタンを、気相流通方式で、触媒を使用せずに製造することができる。本発明の製造方法は、触媒の活性低下による収率の低下といった事態を回避することができ、また、モノフルオロメタンを連続的に製造することができる。
　以下に、本発明の実施形態について詳しく説明する。
［出発物質］
　出発物質は、ジフルオロメタン及びトリフルオロメタンからなる群より選択される１種以上のフッ素含有化合物である。これらは単独使用でも、任意の比率での併用でもよい。
［不活性ガス等］
　不活性ガス等は、水素ガス及び不活性ガスからなる群より選択される１種以上である。原料ガスに不活性ガス等を含有させることにより、原料ガスの解離と放電が容易となり、出発物質から種々の活性種を生成させることができる。また、不活性ガス等が水素ガスを含む場合、水素ガスから水素ラジカル等の活性種を生成させることができる。
　不活性ガスとしては、Ｎ2、Ｈｅ、Ｎｅ、Ａｒ、Ｘｅ、Ｋｒ、ＣＯ、ＣＯ2等が挙げられ、Ｎ2、Ａｒ、Ｈｅ、ＣＯ、ＣＯ2が好ましく、Ｎ2、Ａｒがより好ましい。
　不活性ガス等は、１種のみでも、２種以上を任意の比率で併用してもよい。水素ガスと不活性ガスを任意の比率で併用してもよい。
［原料ガス］
　原料ガスは、出発物質及び不活性ガス等を含む。出発物質及び不活性ガス以外の原料ガスの残部は、周囲環境から不可避的に混入する不純物であることが好ましい。
　原料ガス中の出発物質の含有割合は、特に限定されず、任意の割合で調整できる。原料ガスに占める出発物質の含有割合は、０．１体積％以上が好ましく、０．３体積％以上がより好ましく、０．５体積％以上がさらに好ましく、また、９５体積％以下が好ましく、５０体積％以下がより好ましく、２０体積％以下がさらに好ましい。この場合、原料ガスの残部は、不活性ガス等及び周囲環境から不可避的に混入する不純物であることが好ましい。
　原料ガスは、放電させる際に、出発物質及び不活性ガス等を含んでいればよい。例えば、放電のため、放電機構を有する気相流通反応器（以下、単に「気相流通反応器」ともいう。）に、出発物質及び不活性ガス等を、それぞれ気体として、別々に供給して、原料ガスとしてもよく、全部を予め混合した気体として供給して、原料ガスとしてもよく、あるいは一部を予め混合した気体として、残部の気体とは別々に供給して、原料ガスとしてもよい。
　出発物質は、いずれも標準状態で気体であり、供給流量の制御をマスフローコントローラー等を用いて行うことができる。出発物質を気相流通反応器に導入する際、不活性ガス等で希釈してもよい。
　原料ガスを気相流通反応器に連続的に流通させる際の空間速度は、特に限定されず、０．０１ｈ-1以上が好ましく、０．１ｈ-1以上がより好ましく、０．３ｈ-1以上がさらに好ましく、また、１０００００ｈ-1以下が好ましく、５００００ｈ-1以下がより好ましく、１００００ｈ-1以下がさらに好ましい。空間速度が上記範囲内であれば、放電が困難になることが避けられ、生産性を低下させずに目的物質を効率的に製造することができる。
［放電］
　気相流通反応器中で原料ガスを放電させて、モノフルオロメタンの前駆体となるラジカルを発生させる。不活性ガス等が水素ガスを含む場合、水素ラジカルも発生する。
　原料ガスの放電方法として、放電を起こすための電圧を印加する電極を有する方式を用いることができ、例えば、高周波放電、マイクロ波放電、誘電体バリア放電、グロー放電、アーク放電、コロナ放電等の方式を用いることができる。放電の安定性、ガスの処理量の点から、高周波放電、グロー放電、アーク放電が好ましい。
　放電の際の圧力（絶対圧）は、用いる放電方法において、原料ガスが放電し得る圧力であれば、特に限定されず、１ＰａＡ以上が好ましく、５ＰａＡ以上がより好ましく、また、１ＭＰａＡ以下が好ましく、０．５ＭＰａＡ以下がより好ましい。圧力（絶対圧）が上記範囲内であれば、目的物質を効率的に製造することができる。
［目的物質］
　放電させた原料ガスを、放電領域から連続的に放出することで、モノフルオロメタンの前駆体となるラジカルが再結合し、目的物質であるモノフルオロメタンが生成する。連続的な放出は、原料ガスの連続的な流通に対応する空間速度で行うことができる。
　ここで、放電領域とは、原料ガスの放電を起こさせる空間をいう。例えば、放電機構として平行平板型電極を備えた気相流通反応器の場合、電極間の放電が発生する空間である。放電領域外に放出とは、上記空間の中から外に出ることをいう。
　放電させたガスを放電領域外に放出し、気相流通反応器から出した後、さらに熱交換器に導入して冷却してもよい。熱交換器の方式は、特に限定されず、空冷、水冷式等が挙げられる。放出物には、目的物質以外に、炭化水素等が含まれ得るので、任意に実施し得る分離精製工程により、目的物質を分離精製してもよい。分離精製方法としては、蒸留、溶液等による吸収、膜分離等が挙げられる。
　以下、実施例により本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例によって限定されるものではない。
（実施例１）
　出発物質としてＣＨ2Ｆ2、不活性ガス等としてＨ2を用い、それぞれ１０ｓｃｃｍと２９０ｓｃｃｍの流量で、高周波放電が可能な平行平板型電極を内部に取り付けた、金属製の気相流通反応管（周波数６０ＭＨｚ、容量３５Ｌ）に導入した。
　反応管内で、混合ガスを１０ＰａＡ（絶対圧）に保った状態で、供給電力５００Ｗで放電させた。反応管からガスを連続的に放出し、アルミニウムバッグで捕集した。アルミニウムバッグの手前には、ＫＯＨペレットを充填した中和管が設置されており、捕集したガスは、中和管を通過したガスである。
　捕集したガスを、質量分析ガスクロマトグラフィー（ＧＣ－ＭＳ）（アジレント社製Ａｇｉｌｅｎｔ７８９０Ａ）及び水素炎イオン化型ガスクロマトグラフィー（ＧＣ－ＦＩＤ）（アジレント社製Ａｇｉｌｅｎｔ６８９０Ｎ）により分析した。分析して得られたＧＣ－ＦＩＤ及びＧＣ－ＭＳの各成分の面積値から、出発物質のモル転化率を求め、原料転化率とした。また、上記面積値から、生成物中のＣＨ3Ｆ（モノフルオロメタン）のモル選択率を求めた。結果を表１に示す。
（実施例２）
　ＣＨ2Ｆ2、Ｈ2の流量をそれぞれ５０ｓｃｃｍ、２５０ｓｃｃｍに変更したこと以外は、実施例１と同様である。結果を表１に示す。
（実施例３）
　Ｈ2をＡｒに変更したこと以外は、実施例１と同様である。結果を表１に示す。
（実施例４）
　出発物質としてＣＨ2Ｆ2、不活性ガス等としてＨ2、Ａｒを用い、それぞれ１０ｓｃｃｍ、５０ｓｃｃｍ、２４０ｓｃｃｍの流量で気相流通反応管に導入したこと以外は、実施例１と同様である。結果を表１に示す。
（実施例５）
　ＡｒをＮ2に変更したこと以外は、実施例４と同様である。結果を表１に示す。
（実施例６）
　ＣＨ2Ｆ2をＣＨＦ3に変更したこと以外は、実施例１と同様である。結果を表１に示す。
（実施例７）
　ＣＨ2Ｆ2をＣＨＦ3に変更したこと以外は、実施例４と同様である。結果を表１に示す。
（比較例１）
　比較のため、一般的な水素化還元触媒であるＰｄ触媒を用いて反応を行った。
＜触媒活性化処理＞
　水素化触媒として、多孔質担体としての活性炭に活性成分としてのパラジウム（Ｐｄ）を１モル％の比率で担持した水素化触媒を準備した。そして、外径が１／２インチの金属製の反応管に、触媒充填長が１０ｃｍとなるように水素化触媒を充填した。
　次に、窒素ガス７０ｓｃｃｍと水素ガス３０ｓｃｃｍとを同時に反応管に供給し、圧力（ゲージ圧）１０１．３ｋＰａの条件下、窒素ガス及び水素ガスを連続的に流通させた状態で反応管を温度３５０℃で３時間保持し、水素化触媒の活性化処理を行った。
　そして、活性化処理の終了後、反応管の温度を反応温度である４０℃に変更し、窒素ガス及び水素ガスを６時間流通させて反応管内の温度を安定化させた。
＜水素化還元反応＞
　次に、ＣＨ2Ｆ2、水素、窒素をそれぞれ１０ｓｃｃｍ、９０ｓｃｃｍ、２５０ｓｃｃｍの流量で、上記の活性化処理を行った水素化触媒を有する温度４００℃の反応管に圧力（ゲージ圧）１０１．３ｋＰａで連続的に供給した。供給したガスは、反応器を通過させた後、反応管の出口に備えた中和管を通してから放出した。反応開始から２時間後に中和管を通ったガス（反応生成物）をアルミニウムバッグに捕集し、実施例と同様に分析した。結果を表１に示す。
（比較例２）
　ＣＨ2Ｆ2をＣＨＦ3に変更したこと以外は、比較例１と同様である。結果を表１に示す。
（比較例３）
　ＣＨ2Ｆ2、水素、窒素をそれぞれ０．１ｓｃｃｍ、０．９ｓｃｃｍ、２．５ｓｃｃｍに変更し、外径が１インチの金属製の反応管に、触媒充填長が１００ｃｍとなるように水素化触媒を充填したこと以外は、比較例１と同様である。結果を表１に示す。
（比較例４）
　ＣＨ2Ｆ2をＣＦ4に変更したこと以外は、実施例１と同様である。結果を表１に示す。
（比較例５）
　ＣＨ2Ｆ2をＣＦ4に変更したこと以外は、実施例４と同様である。結果を表１に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
　表１より、実施例では、触媒を使用せずに、ＣＨ3Ｆ（モノフルオロメタン）を製造できることがわかる。実施例と比較例１～３との対比より、本発明は触媒を使用せずに、原料転化率において優れ、目的物質であるモノフルオロメタンを効率的に得ることができる方法であることがわかる。実施例１及び６と比較例４との対比、実施例４及び７と比較例５との対比により、出発物質としてＣＦ4（テトラフルオロメタン）を使用した場合、モノフルオロメタンのモル選択率が極めて低く、原料転化率も低く、目的物質であるモノフルオロメタンがほとんど得られないことがわかる。
　本発明によれば、モノフルオロメタンを、気相流通方式で、触媒を使用せずに製造することができる。本発明の製造方法は、触媒の活性低下による収率の低下といった事態を回避することができ、また、モノフルオロメタンを連続的に製造することができ、産業上の利用可能性が高い。

Claims (2)

  1. 　ジフルオロメタン及びトリフルオロメタンからなる群より選択される１種以上のフッ素含有化合物と、水素ガス及び不活性ガスからなる群より選択される１種以上とを含む原料ガスを連続的に流通させた状態で放電させ、次いで放電領域外に連続的に放出する、モノフルオロメタンの製造方法。
  2. 　前記原料ガスに占める前記フッ素含有化合物の含有割合が、０．５体積％以上２０体積％以下である、請求項１に記載のモノフルオロメタンの製造方法。
PCT/JP2021/019065 2020-05-29 2021-05-19 モノフルオロメタンの製造方法 WO2021241372A1 (ja)

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Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2785119A (en) * 1955-07-18 1957-03-12 Gen Electric Transient arc method of preparing fluorocarbons
JPH02131116A (ja) * 1988-11-10 1990-05-18 Agency Of Ind Science & Technol 有機ハロゲン化合物の分解方法
JP2001054721A (ja) * 1999-06-04 2001-02-27 Kashiyama Kogyo Kk フロン類の分解方法および分解装置
JP2013006786A (ja) * 2011-06-23 2013-01-10 Nippon Zeon Co Ltd フッ素化アルカンの製造方法
JP2017155005A (ja) * 2016-03-02 2017-09-07 日本ゼオン株式会社 フッ素化炭化水素の製造方法

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2785119A (en) * 1955-07-18 1957-03-12 Gen Electric Transient arc method of preparing fluorocarbons
JPH02131116A (ja) * 1988-11-10 1990-05-18 Agency Of Ind Science & Technol 有機ハロゲン化合物の分解方法
JP2001054721A (ja) * 1999-06-04 2001-02-27 Kashiyama Kogyo Kk フロン類の分解方法および分解装置
JP2013006786A (ja) * 2011-06-23 2013-01-10 Nippon Zeon Co Ltd フッ素化アルカンの製造方法
JP2017155005A (ja) * 2016-03-02 2017-09-07 日本ゼオン株式会社 フッ素化炭化水素の製造方法

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
TRUESDALE, E. A. ET AL.: "The effect of added hydrogen on the rf discharge chemistry of tetrafluoromethane, trifluoromethane and hexafluoroethane", JOURNAL OF APPLIED PHYSICS, pages 6594 - 6599, XP055879588 *

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