WO2021238428A1 - 显示面板、显示装置及其制造方法 - Google Patents

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王云浩
韩永占
任怀森
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Abstract

提供一种显示面板，显示装置及其制造方法。显示面板包括显示基板（300）和位于显示基板（300）出光侧的彩膜功能层（200）。显示基板（300）包括衬底基板（310）、设置在衬底基板（310）上的像素电路、发光元件层、平坦化层（320）。发光元件层包括像素界定层（340），该像素界定层（340）上形成有限定像素单元的像素开口。彩膜功能层（200）包括平坦化透光基体层（210），平坦化透光基体层（210）设置在背离显示基板（300）的表面上，平坦化透光基体层（210）上形成有多个深度不同的容纳槽。容纳槽中设置有彩色滤光块（220R，220G，220B），彩色滤光块（220R，220G，220B）在显示基板（300）上的正投影覆盖显示基板（300）的像素开口。

Description

显示面板、显示装置及其制造方法
本申请要求享有2020年5月25日提交的、申请号为202010449067.9、发明名称为“显示面板、显示装置及其制造方法”的中国发明专利申请的优先权。
技术领域
本公开涉及显示技术领域，具体地，涉及一种显示面板、一种显示装置及所述显示装置的制造方法。
背景技术
随着显示技术的发展，目前已经产生了具有触控功能的显示装置(即，触控显示装置)。目前市面上的触控显示装置中，存在一种触控功能层位于所述触控显示装置的最外侧的显示装置。然而，这种触控显示装置普遍存在显示视角窄、显示效果不佳的缺陷。
发明内容
本公开的目的在于提供一种显示面板、一种显示装置及所述显示装置的制造方法。
作为本公开的第一个方面，提供一种显示面板，包括显示基板和位于所述显示基板出光侧的彩膜功能层，其中，所述彩膜功能层包括平坦化透光基体层和彩膜层，所述平坦化透光基体层设置在所述显示基板上，且所述平坦化透光基体层背离所述显示基板的表面上形成有多个容纳槽；所述彩膜层包括多个具有不同颜色的彩色滤光块，所述容纳槽中设置有所述彩色滤光块，所述容纳槽和所述彩色滤光块在所述显示基板上的正投影相交叠，且所述彩色滤光块在所述显示基板上的正投影覆盖所述显示基板的像素开口。
可选地，容纳多种不同颜色的彩色滤光块的多个容纳槽至少具有两种不同的深度。
可选地，多个所述彩色滤光块包括红色滤光块、绿色滤光块和蓝色滤光 块，在容纳所述绿色滤光块的容纳槽、容纳红色滤光块的容纳槽和容纳蓝色滤光块的容纳槽中，容纳所述绿色滤光块的容纳槽的深度最大。
可选地，所述彩膜功能层背离所述显示基板的表面为平面。
可选地，所述平坦化透光基体层由正性光刻胶制成，多个所述彩色滤光块均由负性光刻胶制成。
可选地，所述显示基板包括衬底基板、设置在所述衬底基板上的像素电路、发光元件层和平坦化层，所述发光元件层包括多个发光元件，所述发光元件对应有一个所述像素开口；
所述发光元件层位于所述彩膜功能层和所述衬底基板之间，所述平坦化层位于所述像素电路和所述发光元件层之间，且所述平坦化层在所述衬底基板上的正投影覆盖所述像素电路；
所述像素电路通过贯穿所述平坦化层的过孔与所述发光元件的阳极电连接，所述像素电路的薄膜晶体管为氧化物薄膜晶体管；
所述平坦化层能对波长在300至460nm之间的光透过率不超过预定百分比，且所述预定百分比在5％至10％之间；
所述平坦化层的材料为负性光刻胶制成的绿色滤光材料，或者，由负性光刻胶制成的红色滤光材料。
作为本公开的第二个方面，提供一种显示装置，所述显示装置包括显示面板，其中，所述显示面板为本公开所提供的上述显示面板，所述显示装置还包括触控功能层，所述触控功能层设置在所述彩膜功能层背离所述显示面板的一侧。
可选地，所述触控功能层包括桥接电极层、触控电极层和设置在所述桥接电极层和所述触控电极层之间的绝缘间隔层，所述桥接电极层包括多个第一桥接电极，所述触控电极层包括多个触控电极和多个第二桥接电极，多个所述触控电极排列为多行多列，所述第一桥接电极用于连接行方向的触控电极，所述第二桥接电极用于连接列方向的触控电极，所述桥接电极层设置在所述彩膜功能层背离所述显示面板的表面上。
可选地，所述触控功能层的第一桥接电极、第二桥接电极和触控电极由 金属材料制成，所述触控电极形成为具有多个网格开口的网格状，所述彩色滤光块与所述网格开口相对应。
可选地，所述触控功能层还包括黑矩阵，所述黑矩阵至少覆盖所述触控电极层，所述黑矩阵上形成有出光口，所述黑矩阵的出光口与所述网格开口相对应。
可选地，所述黑矩阵背离所述彩膜功能层的表面的面积小于所述黑矩阵与所述彩膜功能层贴合的表面的面积，以使得所述出光口侧面为斜面。
可选地，所述触控功能层还包括透光保护层，所述透光保护层在所述衬底基板上的正投影覆盖所述黑矩阵所在的层。
可选地，所述透光保护层包括透明基体和多个散射粒子，多个所述散射粒子分散在所述透明基体中。
可选地，所述透光保护层包括散射块和透明保护层，所述散射块位于所述出光口中，所述透明保护层设置在所述散射块背离所述显示面板的一侧，所述散射块包括透明基体和分散在所述透明基体中的多个散射粒子。
可选地，多个所述散射粒子的颜色种类与多个所述彩色滤光块的颜色种类相同。
可选地，所述透光保护层的厚度为所述黑矩阵厚度的1至3倍。
作为本公开的第三个方面，提供一种显示装置的制造方法，包括：
提供显示基板；
提供彩膜功能层，包括：
形成平坦化透光基体层，所述平坦化透光基体层背离所述显示面板的表面上形成有多个容纳槽；
形成彩膜层，所述彩膜层包括多个具有不同颜色的彩色滤光块，所述彩色滤光块位于所述容纳槽中，所述容纳槽和所述彩色滤光块在所述显示基板上的正投影相交叠，且所述彩色滤光块在所述显示基板上的正投影覆盖所述显示基板的像素开口；
提供触控功能层。
可选地，提供触控功能层的步骤包括：
形成桥接电极层，所述桥接电极层包括多个第一桥接电极；
形成绝缘间隔层；
形成触控电极层，所述触控电极层包括所述触控电极层包括多个触控电极和多个第二桥接电极，多个所述触控电极排列为多行多列，所述第一桥接电极用于连接行方向的触控电极，所述第二桥接电极用于连接列方向的触控电极，所述触控电极由金属材料制成，所述触控电极形成为具有多个网格开口的网格状，所述彩色滤光块与所述网格开口相对应；
形成黑矩阵层，所述黑矩阵上形成有出光口，所述黑矩阵覆盖所述触控电极，所述黑矩阵的出光口与所述网格开口相对应；
形成透光保护层。
可选地，形成透光保护层的步骤包括：在所述黑矩阵的出光口中形成散射块，所述散射块的包括透明基体和分散在所述透明基体中的散射粒子，所述散射粒子的颜色种类与所述彩色滤光块的颜色种类相同；形成外侧透明保护层；或者
所述透光保护层包括透明基体和分散在所述透明基体中的散射粒子，所述散射粒子的颜色种类与所述彩色滤光块的颜色种类相同。
附图说明
附图是用来提供对本公开的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与下面的具体实施方式一起用于解释本公开，但并不构成对本公开的限制。在附图中：
图1是本公开所提供的显示面板的一种实施方式的示意图；
图2是本公开提供的显示装置的一种实施方式的示意图；
图3是本公开提供的显示装置的另一种实施方式的示意图；
图4是本公开所提供的显示装置的还一种实施方式的示意图；
图5是正性光刻胶曝光获得过孔的示意图；
图6是负性光刻胶曝光获得过孔的示意图；
图7是负性光刻胶获得过孔的扫描图片；
图8是出光口侧壁为斜面的示意图；
图9是出光口侧壁为竖直面的示意图；
图10是本公开所提供的制造方法的流程示意图；
图11是步骤S221的一种实施方式的示意图；
图12是步骤S230的一种实施方式的示意图；
图13是步骤S235的一种实施方式的示意图；
图14为触控电极层和桥接电极层的俯视示意图；
图15所示的是在彩色滤光块的外侧设置平坦层后，透过彩色滤光块的光线的出光示意图；
图16所示的是本公开所提供的显示面板中，透过彩色滤光块的光线的出光示意图。
具体实施方式
以下结合附图对本公开的具体实施方式进行详细说明。应当理解的是，此处所描述的具体实施方式仅用于说明和解释本公开，并不用于限制本公开。
作为本公开的一个方面，提供一种显示面板，如图1所示，所述显示面板包括显示基板300和位于该显示基板300出光侧的彩膜功能层200。其中，彩膜功能层200包括平坦化透光基体层210和彩膜层，平坦化透光基体层210设置在显示基板300上，平坦化透光基体层210背离显示基板300的表面上上形成有多个容纳槽。所述彩膜层包括多个具有不同颜色的彩色滤光块，所述容纳槽中设置有所述彩色滤光块，所述容纳槽和所述彩色滤光块在显示基板300上的正投影相交叠，且所述彩色滤光块在显示基板300上的正投影覆盖显示基板300的像素开口。
需要指出的是，所述容纳槽的深度方向与所述显示基板的厚度方向一致，此处的“厚度方向”是指垂直于显示基板300的出光表面的方向。
在本公开中，将彩色滤光块的至少一部分设置在所述容纳槽中，因此，所述彩色滤光块从平坦化透光基体层210上凸起的部分变少或者彩色滤光块上没有凸出于平坦化透光基体层210的部分。显示面板在进行显示时，从显 示基板100的各个像素开口出射的光经过相应的彩色滤光块后，从彩色滤光块的表面出射。
在本公开所提供的显示面板上制备触控功能层100可以获得显示装置，如图2所示，触控功能层100设置在彩膜功能层200背离显示基板300的一侧。由于各个彩色滤光块的至少一部分都位于相应的容纳槽内，因此，彩色滤光块的出光表面与平坦化透光基体层210之间的高度差也相对较小甚至为0。
在相关技术中，直接将彩色滤光块设置在平坦化透光基体层上，因此，彩色滤光块与平坦化透光基体层之间高度落差相对较大，需要在彩色滤光块的外侧额外做一层厚度相对较大的平坦层，然后再在所述平坦层上制备所述触控功能层。触控功能层中的信号线等不透光的部件会对光造成遮挡。由于光是呈发散状出射的，在相邻两个遮挡物之间的距离相同的情况下，遮挡物距离光源越远、出射光中被遮挡的越多。
如图15中所示，在彩色滤光块的表面增设了平坦层P。在图16中，彩色滤光块的表面未增设平坦化层，明显可以看到图16中所示的实施方式中，出光量更大、视角更宽。
作为本公开的一种实施方式，彩膜功能层200背离显示基板100的表面可以为平面，因此，可以直接将触控功能层100形成在彩膜功能层200上，无需在彩膜功能层200上额外形成平坦化层，从而降低了触控显示装置的整体厚度，有利于实现触控显示装置的轻薄化。并且，显示基板300的像素单元发出的光只需要经过彩膜功能层200、触控功能层100即可从所述触控显示装置出射，进一步提高了所述触控显示装置的出光效率，提高了显示装置的亮度，降低触控显示装置的能耗。
不同颜色的滤光块对光的透过率不同，可选地，透过率低的彩色滤光块的厚度比透过率高的彩色滤光块的厚度小，从而能实现更好的彩色显示效果。例如，对于具有红色滤光块220R、绿色滤光块220G、蓝色滤光块220B的彩膜功能层而言，蓝色滤光块220B的透光率最低、绿色滤光块220G的透光率最高、红色滤光块220R的透光率介于蓝色滤光块220B和绿色滤光块220G 之间。因此，绿色滤光块220G的厚度最大、蓝色滤光块220B的厚度最小。红色滤光块220R的厚度可以介于绿色滤光块220G的厚度与蓝色滤光块220B的厚度之间。
具体地，在制造所述显示面板的彩膜功能层200时，先制成平坦化初始材料层，随后在所述平坦化初始材料层上形成具有不同深度的容纳槽，然后在容纳内形成各个彩色滤光块，并最终获得具有不同厚度的彩色滤光块。
需要指出的是，颜色相同的彩色滤光块的厚度相同，容纳颜色相同的彩色滤光块的容纳槽的深度相同。
例如，在图1中所示的实施方式中，彩膜功能层200的彩色滤光块包括多个红色滤光块220R、多个绿色滤光块220G、多个蓝色滤光块220B，其中，绿色滤光块220G的厚度最大。相应地，在容纳绿色滤光块200G的容纳槽、容纳红色滤光块200R的容纳槽和容纳蓝色滤光块200B的容纳槽中，容纳所述绿色滤光块200G的容纳槽的深度最大。
为了提高彩膜功能层200背离显示基板300的表面的平坦性，可选地，平坦化透光基体层210由正性光刻胶制成，多个所述彩色滤光块均由负性光刻胶制成。
利用正性光刻胶材料制成具有多个容纳槽的平坦化基体层210后，可以利用负性光刻胶形成表面平整的多个彩色滤光块，从而可以提高彩膜功能层200的总体平整度。
在本公开中，对显示基板300的具体结构不做特殊的限定，例如，显示面板可以为液晶显示面板，也可以为有机发光二极管显示面板。
在图1至图4中所示的具体实施方式中，显示基板300为有机发光二极管显示面板。具体地，显示基板300包括衬底基板310、设置在衬底基板310上的像素电路、发光元件层、平坦化层320。发光元件层位于彩膜功能层200和衬底基板310之间，平坦化层320位于像素电路与发光元件层之间，并且，平坦化层320位在衬底基板310上的正投影覆盖所述像素电路。所述发光元件层包括多个发光元件330，所述像素电路通过贯穿平坦化层320的过孔与发光元件330的阳极电连接。进一步地，发光元件层可以包括发出不同颜色光 的发光元件330。例如，发光元件层可以包括发出红光的发光元件、发出蓝光的发光元件和发出绿光的发光元件。
可选地，发光元件层还可以包括像素界定层340，该像素界定层340上形成有限定像素单元的像素开口。
为了提高响应速度，可选地，所述像素电路的薄膜晶体管311为氧化物薄膜晶体管，平坦化层320能够吸收紫外线对波长在300至460nm的光透过率不超过预定百分比。
在制造显示面板的光刻工艺过程中，根据感光材料的不同，会引入g-LINE光线(波长为460nm)或者i-LINE光线(波长为365nm，为紫外光)。氧化物薄膜晶体管的有源层为氧化物，且该氧化物是光敏材料。设置平坦化层320可以能够吸收在制备薄膜晶体管311后引入的紫外线，并降低后续光制程对氧化物薄膜晶体管的有源层造成不良影响，进而可以避免薄膜晶体管的阈值电压发生漂移(通常为负偏移)。
在本公开中，对所述预定百分比不做特殊的限定。为了尽可能吸收紫外光，可选地，所述预定百分比在5％至10％之间。
在本公开中，对平坦化层320的具体材料不做特殊的限定，只要能够吸收紫外线即可。作为一种可选实施方式，可以利用有色材料制成平坦化层320。
为了便于取材，可选地，可以利用制成彩色滤光块的负性光刻胶制成平坦化层320。负性光刻胶在经过曝光后仍然可以维持表面平整度，因此，利用制成彩色滤光块的负性光刻胶制成既可以吸收紫外线，又可以获得表面平整度良好的平坦化层320，从而可以提高产品的良率。电连接像素电路和发光元件阳极的过孔贯穿平坦化层320。图5中所示的是在正性光刻胶层上形成的过孔的示意图，图6和图7中所示的是在负性光刻胶层上形成的过孔的示意图。通过对比可知，负性光刻胶上形成的过孔侧壁平直度良好。
由于平坦化层320的材料与彩色滤光块的材料相同，因此，平坦化层320对于特定颜色的光具有透光性，可以利用与平坦化层颜色相同的照射平坦化层及平坦化层下方的显示驱动基板，能够观察和监控TFT的结构，并有利于实现失效(FA，Failure Analysi)分析。在本公开中，对平坦化层320的具体 材料不做特殊的限定，优选地，所述平坦化层的材料为负性光刻胶制成的绿色滤光材料，或者，由负性光刻胶制成的红色滤光材料。红色滤光材料和绿色滤光材料不具有蓝光透过性，能够更好地吸收波长在300至460nm的光。
作为本公开的第二个方面，提供一种显示装置，如图2至图4中所示，所述显示装置包括本公开第一个方面所提供的显示面板和触控功能层100，该触控功能层100位于彩膜功能层200背离显示基板100的一侧。
在本公开中，对触控功能层的具体结构不做特殊的限定。例如，触控功能层可以是电容式触控面板，也可以是电阻式触控面板，还可以是光电式触控面板。
在图2中所示的实施方式中，触控功能层100为电容式触控面板。具体地，如图2和图14中所示，触控功能层100包括桥接电极层、触控电极层和设置在所述桥接电极层和所述触控电极层之间的绝缘间隔层120，所述桥接电极层包括多个第一桥接电极111，所述触控电极层包括多个触控电极112和多个第二桥接电极113，多个所述触控电极排列为多行多列，第一桥接电极用于连接行方向的触控电极，所述第二桥接电极113用于连接列方向的触控电极，所述桥接电极层设置在所述彩膜功能层背离所述显示面板的表面上。
多个触控电极包括触控驱动电极和触控感应电极。相邻的触控驱动电极和触控感应电极之间形成电容。操作者的手指触摸显示装置的出光面时，会引起触控点处电容发生变化，根据电容变化可以确定触控点的位置坐标。
作为一种可选实施方式，多个触控电极可以包括沿行方向排列的触控驱动电极和沿列方向的触控感应电极。
当然，本公开并不限于此，例如，触控电极中的触控驱动电极和触控感应电极可以分别位于绝缘间隔层120的两侧。
在本公开中，对绝缘间隔层120的具体材料并不做特殊的限定。作为一种可选实施方式，绝缘间隔层120可以由无机绝缘材料制成。例如，绝缘间隔层120可以由硅的氧化物、和/或硅的氮化物制成。
当显示基板300为有机发光二极管显示面板时，彩膜功能层200和由无机物制成的绝缘间隔层120可以用作有机发光二极管显示面板的封装层。换 言之，无需为有机发光二极管显示面板额外制作封装层，从而可以进一步降低触控显示装置的厚度。
作为一种可选实施方式，在本公开中，对触控电极112的具体材料不做特殊的限定。作为一种可选实施方式，触控电极112可以为利用透明电极材料(例如，ITO)制成块状电极。
为了降低触控电极的电阻，可选地，可以利用金属材料制成触控电极。具体地，触控电极112形成为具有多个网格开口的网格状，所述彩色滤光块与所述网格开口相对应。为了增强显示的对比度、提高显示效果，可选地，所述触控功能层还可以包括黑矩阵113。黑矩阵113上形成以后出光口，且黑矩阵113本身覆盖触控电极的金属走线部分，黑矩阵113的出光口与触控电极的网格开口对应，也与彩色滤光块相对应。
作为一种可选实施方式，可以利用与触控电极相同的金属材料制成桥接电极层中的第一桥接电极和第二桥接电极。
需要指出的是，显示基板300也存在大量金属走线(例如，栅线、数据线等)，通过设置黑矩阵113不仅可以遮挡触控功能层100的触控电极112的网格走线，还可以遮挡显示基板300的金属走线。换言之，触控功能层100和显示基板300共用黑矩阵113，从而简化了触控显示面板的结构。
作为一种可选实施方式，出光口的底边缘与和该出光口相对应的彩色滤光块的顶边缘是对齐的。为了增加彩色滤光块对应的像素单元的出光角，可选地，黑矩阵113背离彩膜功能层200的表面的面积小于黑矩阵113与彩膜功能层200贴合的表面的面积，以使得所述出光口侧面为斜面。
此处需要解释的是，“出光口的底边缘”是指，黑矩阵与彩膜功能层贴合的表面上形成的开口的轮廓线(即，图2中的下边缘)，“彩色滤光块的顶边缘”是指彩色滤光块背离显示基板300的表面的轮廓线(即，图2中的上边缘)。
下面结合图8和图9对出光口侧面为斜面可以提高像素单元的出光角的原理进行解释。
图8中所示的是出光口的侧面为斜面的实施方式，图9中所示的是出光 口的侧面为竖直面的实施方式。黑矩阵的顶面边缘对光线的最大出光角起到决定性的作用。显然，图8中所示的出光角最大的光线与绿色滤光块220G的顶表面之间的夹角α小于图9中所示的出光角最大的光线与绿色滤光块220G的顶表面之间的夹角β。
在本公开中，对出光口的侧面的倾斜度不做特殊的限定，只要能够在增大出光角的基础上确保相邻两个出光口对应的像素单元不会发生串扰即可。
可选地，对于同一个出光口处，如图8所示，黑矩阵顶面边缘与黑矩阵底面边缘之间的距离d不超过该出光口对应的彩色滤光块的宽度的二分之一。在本公开中，多个彩色滤光块排列为多行多列，此处的“宽度”是指彩色滤光块沿行方向的长度。
为了对整个触控功能层100进行保护，可选地，如图2至图4中所示，触控功能层100还包括透光保护层130，透光保护层130覆盖黑矩阵113所在的层。
在本公开中，对透光保护层130的具体材料和具体结构均不做特殊的限定，只要能起到保护作用、且不影响出光即可。
图3中所示的实施方式中，透光保护层130由未掺杂散射粒子的透明光学胶制成。
为了增大光的出射角、提高触控显示装置的视角，可选地，在制成透光保护层130时，可以在透明光学胶中掺杂散射粒子。为了保证透光度，可选地，在掺杂了散射粒子的透明光学胶混合物中，掺杂的散射粒子的质量百分比不超过0.5％。
对于利用所述透明光学胶混合物固化获得的透光保护层而言，如图2所示，透光保护层130包括透明基体和多个散射粒子，多个所述散射粒子分散在所述透明基体中。
在图2中所示的实施方式中，散射粒子均匀地分布在透明基体中。带箭头的直线可以表示光线方向，如图所示，散射粒子可以将入射至散射粒子中的光线打散，从而可以提高光的出射角，并提高显示装置的视角。
在图4中所示的实施方式中，透光保护层130包括散射块和透明保护层， 所述散射块位于所述出光口中，所述透明保护层设置在所述散射块背离所述显示面板的一侧，所述散射块包括透明基体和分散在所述透明基体中的多个散射粒子。
为了降低透光保护层130的雾度、提高触控显示装置的显示对比度，可选地，多个所述散射粒子的颜色种类与多个所述彩色滤光块的颜色种类相同。
例如，对于具有红色滤光块、绿色滤光块、蓝色滤光块三种的滤光块的触控显示装置而言，散射粒子可以包括红色散射粒子、绿色散射粒子和蓝色散射粒子。
散射粒子对和该散射粒子颜色相同的光具有较高的光谱选择性，通过“多个所述散射粒子的颜色种类与多个所述彩色滤光块的颜色种类相同”，可以降低透光保护层130的雾度，提高显示对比度。
在本公开中，对透光保护层130的厚度不做特殊的限定，可选地，透光保护层130的厚度可以为黑矩阵厚度的1至3倍。
作为本公开的第二个方面，提供一种显示装置的制造方法，如图10中所示，所述制造方法包括：
在步骤S210中，提供显示基板；
在步骤S220中，提供彩膜功能层；
在步骤S230中，提供触控功能层，其中，步骤S220包括：
在步骤S221中，形成平坦化透光基体层，所述平坦化透光基体层背离所述显示面板的表面上形成有多个容纳槽；
在步骤S222中，形成彩膜层，所述彩膜层包括多个具有不同颜色的彩色滤光块，所述彩色滤光块位于所述容纳槽中，所述容纳槽和所述彩色滤光块在所述显示基板上的正投影相交叠，且所述彩色滤光块在所述显示基板上的正投影覆盖所述显示基板的像素开口。
本公开所提供的制造方法可以制得本公开第一个方面所提供的触控显示装置，上文中已经对所述触控显示装置的有益效果和工作原理进行了详细的描述，这里不再赘述。
值得一提的是，在本公开中，先形成容纳槽、后形成彩色滤光块，从而 更容易获得具有平整表面的彩膜功能层。
为了减少掩膜板的使用数量，可选地，如图11中所示，步骤S221可以包括：
在步骤S221a中，形成平坦化材料层；
在步骤S221b中，利用灰色调掩膜板对所述平坦化材料层进行曝光；
在步骤S221c中，对曝光后的平坦化材料层进行显影，获得所述平坦化透光基体层。
通过灰色调掩膜板可以在依次光刻工艺中形成不同深度的容纳槽，从而可以减少制造方法的步骤。
在本公开中，可以利用正性光刻胶材料制成平坦化层。
如上文中所述，黑矩阵层设置触控功能层中，使得显示面板和触控功能层共用该黑矩阵，既可以简化制造工艺，又可以降低触控显示装置的整体厚度。具体地，如图12所示，步骤S230可以包括：
在步骤S231中，形成桥接电极层，所述桥接电极层包括多个第一桥接电极；
在步骤S232中，形成绝缘间隔层；
在步骤S233中，形成触控电极层，所述触控电极层包括所述触控电极层包括多个触控电极和多个第二桥接电极，多个所述触控电极排列为多行多列，所述第一桥接电极用于连接行方向的触控电极，所述第二桥接电极用于连接列方向的触控电极，所述触控电极由金属材料制成，所述触控电极形成为具有多个网格开口的网格状，所述彩色滤光块与所述网格开口相对应；
在步骤S234中，形成黑矩阵层，所述黑矩阵上形成有出光口，所述黑矩阵覆盖所述触控电极，所述黑矩阵的出光口与所述网格开口相对应；
在步骤S235中，形成透光保护层。
为了增大触控显示装置的视角，可以在透光保护层中设置散射粒子。
为了形成图3中所示的透光保护层，如图13中所示，步骤S235可以包括：
在步骤S235a中，在所述黑矩阵的出光口中形成散射块，所述散射块的 包括透明基体和分散在所述透明基体中的散射粒子，所述散射粒子的颜色种类与所述彩色滤光块的颜色种类相同；
在步骤S235b中，形成外侧透明保护层。
为了形成图2中所示的透光保护层，可以利用均匀分散由散射粒子的光学胶制成所述透光保护层，相应地，所述透光保护层包括透明基体和分散在所述透明基体中的散射粒子，所述散射粒子的颜色种类与所述彩色滤光块的颜色种类相同。
可以理解的是，以上实施方式仅仅是为了说明本公开的原理而采用的示例性实施方式，然而本公开并不局限于此。对于本领域内的普通技术人员而言，在不脱离本公开的精神和实质的情况下，可以做出各种变型和改进，这些变型和改进也视为本公开的保护范围。

Claims (19)

  1. 一种显示面板，包括显示基板和位于所述显示基板出光侧的彩膜功能层，其中，所述彩膜功能层包括平坦化透光基体层和彩膜层，所述平坦化透光基体层设置在所述显示基板上，且所述平坦化透光基体层背离所述显示基板的表面上形成有多个容纳槽；所述彩膜层包括多个具有不同颜色的彩色滤光块，所述容纳槽中设置有所述彩色滤光块，所述容纳槽和所述彩色滤光块在所述显示基板上的正投影相交叠，且所述彩色滤光块在所述显示基板上的正投影覆盖所述显示基板的像素开口。
  2. 根据权利要求1所述的显示面板，其中，容纳多种不同颜色的彩色滤光块的多个容纳槽至少具有两种不同的深度。
  3. 根据权利要求2所述的显示面板，其中，多个所述彩色滤光块包括红色滤光块、绿色滤光块和蓝色滤光块，在容纳所述绿色滤光块的容纳槽、容纳红色滤光块的容纳槽和容纳蓝色滤光块的容纳槽中，容纳所述绿色滤光块的容纳槽的深度最大。
  4. 根据权利要求1所述的显示面板，其中，所述彩膜功能层背离所述显示基板的表面为平面。
  5. 根据权利要求1所述的显示面板，其中，所述平坦化透光基体层由正性光刻胶制成，多个所述彩色滤光块均由负性光刻胶制成。
  6. 根据权利要求1至5中任意一项所述的显示面板，其中，所述显示基板包括衬底基板、设置在所述衬底基板上的像素电路、发光元件层和平坦化层，所述发光元件层包括多个发光元件，所述发光元件对应有一个所述像素开口；
    所述发光元件层位于所述彩膜功能层和所述衬底基板之间，所述平坦化层位于所述像素电路和所述发光元件层之间，且所述平坦化层在所述衬底基板上的正投影覆盖所述像素电路；
    所述像素电路通过贯穿所述平坦化层的过孔与所述发光元件的阳极电连接，所述像素电路的薄膜晶体管为氧化物薄膜晶体管；
    所述平坦化层能对波长在300至460nm之间的光透过率不超过预定百分比，且所述预定百分比在5％至10％之间；
    所述平坦化层的材料为负性光刻胶制成的绿色滤光材料，或者，由负性光刻胶制成的红色滤光材料。
  7. 一种显示装置，所述显示装置包括显示面板，其中，所述显示面板为权利要求1至6中任意一项所述的显示面板，所述显示装置还包括触控功能层，所述触控功能层设置在所述彩膜功能层背离所述显示面板的一侧。
  8. 根据权利要求7所述的显示装置，其中，所述触控功能层包括桥接电极层、触控电极层和设置在所述桥接电极层和所述触控电极层之间的绝缘间隔层，所述桥接电极层包括多个第一桥接电极，所述触控电极层包括多个触控电极和多个第二桥接电极，多个所述触控电极排列为多行多列，所述第一桥接电极用于连接行方向的触控电极，所述第二桥接电极用于连接列方向的触控电极，所述桥接电极层设置在所述彩膜功能层背离所述显示面板的表面上。
  9. 根据权利要求8所述的显示装置，其中，所述触控功能层的第一桥接电极、第二桥接电极和触控电极由金属材料制成，所述触控电极形成为具有多个网格开口的网格状，所述彩色滤光块与所述网格开口相对应。
  10. 根据权利要求9所述的显示装置，其中，所述触控功能层还包括黑矩阵，所述黑矩阵至少覆盖所述触控电极层，所述黑矩阵上形成有出光口， 所述黑矩阵的出光口与所述网格开口相对应。
  11. 根据权利要求10所述的显示装置，其中，所述黑矩阵背离所述彩膜功能层的表面的面积小于所述黑矩阵与所述彩膜功能层贴合的表面的面积，以使得所述出光口侧面为斜面。
  12. 根据权利要求9所述的显示装置，其中，所述触控功能层还包括透光保护层，所述透光保护层在所述衬底基板上的正投影覆盖所述黑矩阵所在的层。
  13. 根据权利要求12所述的显示装置，其中，所述透光保护层包括透明基体和多个散射粒子，多个所述散射粒子分散在所述透明基体中。
  14. 根据权利要求12所述的显示装置，其中，所述透光保护层包括散射块和透明保护层，所述散射块位于所述出光口中，所述透明保护层设置在所述散射块背离所述显示面板的一侧，所述散射块包括透明基体和分散在所述透明基体中的多个散射粒子。
  15. 根据权利要求13或14所述的显示装置，其中，多个所述散射粒子的颜色种类与多个所述彩色滤光块的颜色种类相同。
  16. 根据权利要求13或14所述的显示装置，其中，所述透光保护层的厚度为所述黑矩阵厚度的1至3倍。
  17. 一种显示装置的制造方法，包括：
    提供显示基板；
    提供彩膜功能层，包括：
    形成平坦化透光基体层，所述平坦化透光基体层背离所述显示面板 的表面上形成有多个容纳槽；
    形成彩膜层，所述彩膜层包括多个具有不同颜色的彩色滤光块，所述彩色滤光块位于所述容纳槽中，所述容纳槽和所述彩色滤光块在所述显示基板上的正投影相交叠，且所述彩色滤光块在所述显示基板上的正投影覆盖所述显示基板的像素开口；
    提供触控功能层。
  18. 根据权利要求17所述的制造方法，其中，提供触控功能层的步骤包括：
    形成桥接电极层，所述桥接电极层包括多个第一桥接电极；
    形成绝缘间隔层；
    形成触控电极层，所述触控电极层包括所述触控电极层包括多个触控电极和多个第二桥接电极，多个所述触控电极排列为多行多列，所述第一桥接电极用于连接行方向的触控电极，所述第二桥接电极用于连接列方向的触控电极，所述触控电极由金属材料制成，所述触控电极形成为具有多个网格开口的网格状，所述彩色滤光块与所述网格开口相对应；
    形成黑矩阵层，所述黑矩阵上形成有出光口，所述黑矩阵覆盖所述触控电极，所述黑矩阵的出光口与所述网格开口相对应；
    形成透光保护层。
  19. 根据权利要求18所述的制造方法，其中，形成透光保护层的步骤包括：在所述黑矩阵的出光口中形成散射块，所述散射块的包括透明基体和分散在所述透明基体中的散射粒子，所述散射粒子的颜色种类与所述彩色滤光块的颜色种类相同；形成外侧透明保护层；或者
    所述透光保护层包括透明基体和分散在所述透明基体中的散射粒子，所述散射粒子的颜色种类与所述彩色滤光块的颜色种类相同。
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